JP2009222463A - Total reflection fluorescent x-ray analyzer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、試料への1次X線の入射角度の設定を自動的に行う全反射蛍光X線分析装置に関する。 The present invention relates to a total reflection fluorescent X-ray analyzer that automatically sets an incident angle of a primary X-ray to a sample.
従来、全反射蛍光X線分析においては、図5に示すように、1次X線3を、試料台2に載置された試料1の表面1aに、例えば0.05度程度の微小な入射角度θ(図示と理解の容易のため、図2〜5においては微小な角度を誇張して表す)で入射させ、全反射したX線4を検出器6に入射させないように図面右方向へ逃がしつつ、試料1から発生した蛍光X線5の強度を検出器6で測定している。ここで、入射角度θは、0度よりも大きく全反射の臨界角よりも小さい範囲内で、分析においてS/N比が良好となるような適切な角度(以下、「適切な角度」という)である必要がある。この適切な角度の値は、あらかじめ求めておくことができ、試料1ごとに入射角度θを適切な角度に設定するため、例えば特許文献1に従来の技術として記載されている光学変位センサ法が用いられる。
しかし、光学変位センサ法では、検出器と平行にレーザー変位計を設ける必要があり、装置の複雑化、大型化、コストアップを招いている。 However, in the optical displacement sensor method, it is necessary to provide a laser displacement meter in parallel with the detector, resulting in an increase in complexity, size, and cost of the apparatus.
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、簡単な構成で試料への1次X線の入射角度の設定を自動的に行うことができる全反射蛍光X線分析装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and provides a total reflection X-ray fluorescence spectrometer capable of automatically setting the incident angle of a primary X-ray to a sample with a simple configuration. With the goal.
前記目的を達成するために、本発明は、載置された試料の回転および傾き調整が可能なステージを備え、試料表面の測定点に微小な入射角度で1次X線を入射させて、発生する蛍光X線の強度を測定する全反射蛍光X線分析装置であって、以下のような制御を行う制御手段を備えている。 In order to achieve the above object, the present invention comprises a stage capable of adjusting the rotation and tilt of a placed sample, and is generated by causing primary X-rays to enter a measurement point on the sample surface at a minute incident angle. This is a total reflection X-ray fluorescence analyzer that measures the intensity of fluorescent X-rays, and includes control means for performing the following control.
制御手段は、まず、前記ステージによる回転の軸心上にある測定点に微小な入射角度で1次X線が入射するように、前記ステージの初期状態からの傾きを表すステージ角度を所定の第1ステージ角度に調整するとともに、試料の主成分元素からの蛍光X線である基準X線の強度を測定して第1測定強度として記憶する。次に、前記ステージにより試料を180度回転させ、前記基準X線の測定強度が前記第1測定強度と合致するようにステージ角度を調整して第2ステージ角度として記憶する。次に、前記第2ステージ角度から前記第1ステージ角度を減じて2で除した値を入射角度補正値として記憶する。次に、前記ステージによる試料の回転を元に戻し、所望の微小な入射角度に対応するステージ角度から前記入射角度補正値を減じた角度にステージ角度を調整することにより、入射角度を設定する。 The control means first sets a stage angle representing a tilt from the initial state of the stage so that the primary X-ray is incident at a minute incident angle on a measurement point on the axis of rotation by the stage. While adjusting to one stage angle, the intensity | strength of the reference | standard X-ray which is the fluorescent X-ray from the main component elements of a sample is measured, and it memorize | stores as 1st measurement intensity | strength. Next, the sample is rotated 180 degrees by the stage, and the stage angle is adjusted and stored as the second stage angle so that the measurement intensity of the reference X-ray matches the first measurement intensity. Next, a value obtained by subtracting the first stage angle from the second stage angle and dividing by 2 is stored as an incident angle correction value. Next, the rotation of the sample by the stage is restored, and the incident angle is set by adjusting the stage angle to an angle obtained by subtracting the incident angle correction value from the stage angle corresponding to a desired minute incident angle.
本発明の全反射蛍光X線分析装置では、試料を180度回転させても、回転前と同じ強度の基準X線が測定されれば、試料表面への1次X線の入射角度も回転前と同じになっているという原理に基づいて、ステージによる回転の軸心とステージ表面の法線とのなす角度およびステージ表面と試料表面とのなす角度からなる、理想状態からのずれ角度を入射角度補正値として求め、入射角度の設定にあたり入射角度補正値を減じて補正するので、レーザー変位計が不要であり、簡単な構成で試料への1次X線の入射角度の設定を自動的に行うことができる。 In the total reflection X-ray fluorescence spectrometer of the present invention, even if the sample is rotated 180 degrees, if the reference X-ray having the same intensity as before the rotation is measured, the incident angle of the primary X-ray on the sample surface is also not rotated. Based on the same principle, the angle of deviation from the ideal state, which consists of the angle between the axis of rotation by the stage and the normal of the stage surface, and the angle between the stage surface and the sample surface, is the incident angle. Since it is obtained as a correction value and is corrected by subtracting the incident angle correction value when setting the incident angle, a laser displacement meter is not required, and the setting of the incident angle of the primary X-ray to the sample is automatically performed with a simple configuration. be able to.
以下、本発明の一実施形態の全反射蛍光X線分析装置について、図にしたがって説明する。この装置は、図1に示すように、載置された試料1の回転および傾き調整が可能なステージ18を備え、X線管などのX線源17から試料表面1aの測定点(測定部位)に例えば0.05度程度の微小な入射角度θ(図5)で1次X線3を入射させて、試料1から発生する蛍光X線5bの強度をSSDなどの検出器6で測定し、測定強度に基づく付着量などの分析値を求める全反射蛍光X線分析装置である。試料1は、例えば、シリコンウェーハ、ガラス基板などで、汚染物質の付着量、成膜物質の付着量などが求められる。
Hereinafter, a total reflection X-ray fluorescence spectrometer according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, this apparatus includes a
図1に示すように、ステージ18は、以下の試料台2、回転ステージ11、XYステージ12、高さ調整手段13およびスイベルステージ14で構成される。まず、試料台2が、その下の回転ステージ(回転移動手段)11に設置され、回転ステージ11の軸心Q(図2〜4)まわりに、載置された試料1とともに回転自在である。回転ステージ11は、XYステージ(平行移動手段)12の上部12aに固定されている。
As shown in FIG. 1, the
ここで、例えば図2に示すように、ステージ18の回転の軸心Qとステージ18の表面2aの法線Pとのなす角度α、つまり回転ステージ11の軸心Qと試料台2の表面2aの法線Pとのなす角度αは0であるのが理想的だが、装置の機械的な精度に由来して実際にはわずかな値をもつ。なお、図2〜4においては、簡単のために、試料1、試料台2、1次X線3、基準X線5aおよび回転ステージの軸心Q以外の記載を省略している。
Here, for example, as shown in FIG. 2, an angle α formed between the rotation axis Q of the
図1のXYステージ上部12aは、中部12bに対して紙面垂直方向Yに移動自在に設置され、XYステージ中部12bは、その下のXYステージ下部12cに対し、この図1の状態では紙面左右方向Xに移動自在に設置されている。XYステージ下部12cは、その下の高さ調整手段13の上部13aに固定されている。すなわち、回転ステージ11およびXYステージ12の調整により、試料表面1aの任意の位置に水平面内の任意の方向から1次X線3を照射させるよう試料台2を移動させることができる。ただし、本発明には平行移動手段は必須でないので、XYステージ12は備えなくてもよい。また、回転ステージ11およびXYステージ12に代えて、例えば特開平8−161049号公報に記載されている位置決め装置を用いてもよい。
The XY stage
高さ調整手段13の上部13aは、下部13bに対してこの図1の状態では軸Z方向に移動自在に設置され、下部13bは、その下のスイベルステージなどの入射角度調整手段14の上部14aに固定されている。すなわち、高さ調整手段13により、試料表面1aの1次X線3に対する高さの調整ができる。
The
スイベルステージの上部14aは、下部14bに対して試料表面1aの測定点を中心とする円弧に沿って移動自在に設置され、下部14bは、その下の床などに固定されている。すなわち、スイベルステージ14により、ステージ18の初期状態からの傾きを表す角度すなわちステージ角度を調整して、試料表面1aへの1次X線3の入射角度θ(図5)を変化させることができる。なお、入射角度調整手段は、スイベルステージ14に限らず、試料台2の1次X線3に対する傾斜角度を変化させる機構であればよく、試料台2を載せた長い板の端をジャッキで押し上げるような構造であってもよい。
The upper part 14a of the swivel stage is installed so as to be movable along an arc centering on the measurement point of the
さて、通常円板状である試料1は、その中心が試料台2の表面2aの中心(回転ステージ11による回転の軸心Q上にある)に重なるように載置され、まず、試料表面1aの中心にある測定点、つまり回転ステージ11による回転の軸心Q上にある測定点について入射角度の設定が行なわれ、その測定点でのステージ角度を基準として他の位置にある測定点での入射角度の設定が行われることが多い。
Now, the
入射角度を設定する際には、従来の技術により高さ調整手段13を用いて試料表面1aのX線源17に対する高さ調整を行った状態で、1次X線3が試料表面1aにぴったり沿うようなステージ角度、つまり、実際の試料表面1aへの1次X線3の入射角度θが0になるようなステージ角度が正確に既知であることが理想的である。しかし、そのようになるはずのステージ角度に調整しても、実際には試料表面1aへの1次X線3の入射角度θは0にならず、したがって、そこから所望の微小な入射角度分だけ傾くようステージ角度を調整しても、実際の試料表面1aへの1次X線3の入射角度θは、所望の微小な入射角度、つまり前述の適切な角度にはならない。
When the incident angle is set, the
この原因は2つ考えられ、例えば図2に示したように、1つは、前述した回転ステージ11の軸心Qと試料台2の表面2aの法線Pとのなす角度αが0にならないことであり、もう1つは、試料1が完全には平坦でないために、ステージ表面2aと試料表面1aとのなす角度β、つまり試料台2の表面2aと試料表面1aとのなす角度βが0にならないことである。
There are two possible causes for this. For example, as shown in FIG. 2, one is that the angle α formed between the axis Q of the
これらの角度α、βからなる理想状態からのずれ角度を入射角度補正値として求め、入射角度の設定にあたり入射角度補正値を減じて補正すべく、本実施形態の装置は、プログラムによって以下の制御手段24(図1)として機能するコンピュータを備えている。制御手段24は、まず、図2に示すように、回転ステージ11による回転の軸心Q上にある測定点に微小な入射角度で例えばW−Lβ1線である1次X線3が入射するように、ステージ角度φm を所定の第1ステージ角度φm1に調整するとともに、試料1の主成分元素からの蛍光X線(例えば試料1がシリコンウェーハである場合にはSi−Kα線)である基準X線5aの強度を測定して第1測定強度I1 として記憶する。
In order to obtain a deviation angle from the ideal state consisting of these angles α and β as an incident angle correction value, and to correct the incident angle correction value by subtracting the incident angle correction value when setting the incident angle, the apparatus of the present embodiment performs the following control according to the program. A computer functioning as means 24 (FIG. 1) is provided. First, as shown in FIG. 2, the
ここで、ステージ角度φm は、スイベルステージ14が機械的な初期状態にある場合の値を0とし、前記角度α、βがいずれも0の理想状態において試料表面1aへの1次X線3の入射角度θが0になる場合の値をφ0 とする。また、所定の第1ステージ角度φm1は、φ0 に微小な角度を加えた値で、例えばφ0 +0.1 である。
Here, the stage angle φm is set to 0 when the swivel stage 14 is in a mechanical initial state, and the
実際には、前記角度α、βはいずれも0ではないので、ステージ角度φm を所定の第1ステージ角度φm1に調整しても、試料表面1aへの1次X線3の入射角度θは、0.1 度にはならず、図2に示したように、θ1 =0.1 +α+βとなる。回転ステージ11の軸心Qと直角をなして、実際の入射角度θ1 を0.1 とα+βとに分割している細線は、角度α、βがいずれも0の理想状態における試料表面1aの傾きを示している。なお、図2において、試料台2の表面2aの法線Pが回転ステージ11の軸心Qに対して左(X線源のある側)に傾く場合にαを正の値とし、試料表面1aが試料台2の表面2aに対して左下がりに傾く場合にβを正の値としている。
Actually, since the angles α and β are not 0, even if the stage angle φm is adjusted to the predetermined first stage angle φm1, the incident angle θ of the
次に、図2の状態から、回転ステージ11により軸心Qまわりに試料台2とともに試料1を180度回転させて、図3の状態にする。このとき、試料表面1aへの1次X線3の実際の入射角度θ2 は、θ2 =0.1 −(α+β)となる(α、βは前述したように正の値としている)。回転ステージ11の軸心Qと直角をなして、0.1 度の下端となっている細線は、角度α、βがいずれも0の理想状態における試料表面1aの傾きを示している。
Next, from the state of FIG. 2, the
そして、図3の状態から、基準X線5aの測定強度が前記第1測定強度I1 と合致するようにステージ角度を調整して図4の状態にし、そのステージ角度を第2ステージ角度φm2として記憶する。試料1を180度回転させた図4の状態においても、図2の場合と同じ強度I1 の基準X線5aが測定されれば、試料1への1次X線3の侵入深さも図2の場合と同じになっており、つまり試料表面1aへの1次X線3の入射角度θも図2の場合と同じになっているから、図4の状態における試料表面1aへの1次X線3の実際の入射角度θは、図2の場合と同じθ1 になっている。
Then, from the state of FIG. 3, the stage angle is adjusted so that the measured intensity of the
図3の入射角度θ2 の状態から図4の入射角度θ1 の状態にするには、試料1を左下がりになる向きにさらにθ1 −θ2 =2(α+β)だけ傾けなければならないから、φm2−φm1=2(α+β)となる。ここで、α+βは、回転ステージ11の軸心Qと試料台2の表面2aの法線Pとのなす角度αおよび試料台2の表面2aと試料表面1aとのなす角度βからなる、理想状態からのずれ角度である。そこで、第2ステージ角度φm2から第1ステージ角度φm1を減じて2で除した値α+βを入射角度補正値Δφとして記憶する。
To change from the incident angle θ2 in FIG. 3 to the incident angle θ1 in FIG. 4, the
次に、回転ステージ11による試料1の回転を元に戻し、つまり、回転ステージ11により試料台2とともに試料1をいずれかの方向に180度もう一度回転させ、所望の微小な入射角度(前記適切な角度)に対応するステージ角度、例えばφ0 +0.05、から前記入射角度補正値Δφを減じた角度φ0 +0.05−Δφにステージ角度φm を調整することにより、入射角度θを正確に0.05度に設定できる。
Next, the rotation of the
なお、回転ステージ11による試料1の回転を元に戻さずに、図4の状態から入射角度θを0.05度に設定するために、ステージ角度φm をφm2からφm2−Δφ−0.1 +0.05に調整することもできる。
Note that the stage angle φm is adjusted from φm2 to φm2−Δφ−0.1 + 0.05 in order to set the incident angle θ to 0.05 degrees from the state of FIG. 4 without returning the rotation of the
以上のように、本実施形態の全反射蛍光X線分析装置では、試料1を180度回転させても、回転前と同じ強度I1 の基準X線5aが測定されれば、試料表面1aへの1次X線3の入射角度θも回転前と同じになっているという原理に基づいて、ステージ18による回転の軸心Qとステージ表面2aの法線Pとのなす角度αおよびステージ表面2aと試料表面1aとのなす角度βからなる、理想状態からのずれ角度α+βを入射角度補正値Δφとして求め、入射角度θの設定にあたり入射角度補正値Δφを減じて補正するので、レーザー変位計が不要であり、簡単な構成で試料1への1次X線3の入射角度θの設定を自動的に行うことができる。
As described above, in the total reflection X-ray fluorescence analyzer of the present embodiment, if the
1 試料
1a 試料表面
3 1次X線
5a 基準X線
5b 蛍光X線
18 ステージ
24 制御手段
Q ステージによる回転の軸心
θ 試料への1次X線の入射角度
1
Claims (1)
前記ステージによる回転の軸心上にある測定点に微小な入射角度で1次X線が入射するように、前記ステージの初期状態からの傾きを表すステージ角度を所定の第1ステージ角度に調整するとともに、試料の主成分元素からの蛍光X線である基準X線の強度を測定して第1測定強度として記憶し、
前記ステージにより試料を180度回転させ、前記基準X線の測定強度が前記第1測定強度と合致するようにステージ角度を調整して第2ステージ角度として記憶し、
前記第2ステージ角度から前記第1ステージ角度を減じて2で除した値を入射角度補正値として記憶し、
前記ステージによる試料の回転を元に戻し、所望の微小な入射角度に対応するステージ角度から前記入射角度補正値を減じた角度にステージ角度を調整することにより、入射角度を設定する制御手段を備えた全反射蛍光X線分析装置。 A total reflection fluorescent lamp equipped with a stage capable of adjusting the rotation and tilt of the mounted sample and measuring the intensity of the generated fluorescent X-ray by causing the primary X-ray to enter the measurement point on the sample surface at a minute incident angle. An X-ray analyzer,
The stage angle representing the tilt from the initial state of the stage is adjusted to a predetermined first stage angle so that the primary X-rays are incident at a minute incident angle on a measurement point on the axis of rotation by the stage. In addition, the intensity of the reference X-ray that is the fluorescent X-ray from the main component of the sample is measured and stored as the first measured intensity,
The sample is rotated 180 degrees by the stage, the stage angle is adjusted so that the measurement intensity of the reference X-ray matches the first measurement intensity, and stored as a second stage angle,
A value obtained by subtracting the first stage angle from the second stage angle and dividing by 2 is stored as an incident angle correction value;
Control means for setting the incident angle by returning the rotation of the sample by the stage and adjusting the stage angle to an angle obtained by subtracting the incident angle correction value from the stage angle corresponding to a desired minute incident angle. Total reflection X-ray fluorescence analyzer.
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---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104807845A (en) * | 2015-04-21 | 2015-07-29 | 南京航空航天大学 | Grazing incidence X-ray fluorescence measuring device for quickly detecting heavy metal content in cosmetics |
CN110715945A (en) * | 2019-08-28 | 2020-01-21 | 广州中国科学院工业技术研究院 | Object carrying clamp for micro-focus X-ray industrial CT |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03235046A (en) * | 1990-02-09 | 1991-10-21 | Toshiba Corp | Total reflection x-ray fluorescence analyzer |
JPH03246452A (en) * | 1990-02-23 | 1991-11-01 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Total reflecting fluorescent x-ray analyzing instrument |
JPH04131761U (en) * | 1991-05-24 | 1992-12-04 | 理学電機工業株式会社 | Total internal reflection fluorescent X-ray analyzer |
JPH0552777A (en) * | 1991-08-22 | 1993-03-02 | Mitsubishi Materials Corp | Correcting method of incident angle of total reflection fluorescent x-ray analyzing apparatus |
JPH05126768A (en) * | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Fluorescent x-ray analyzing method |
JPH05249055A (en) * | 1992-03-03 | 1993-09-28 | Toshiba Corp | Total-reflection fluorescent x-ray analyzer |
JPH07229862A (en) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Nec Corp | Total reflection fluorescence x-ray analyzer |
JP2003254918A (en) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | Rigaku Corp | Orientation measuring device of single crystal, detection method of angle error of guide member in the device and orientation measuring method of single crystal |
JP2006214868A (en) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Siltronic Japan Corp | Total reflection x-ray fluorescence analyzer |
JP2006242970A (en) * | 2006-06-19 | 2006-09-14 | Toshiba It & Control Systems Corp | Crystal orientation determination device |
JP2007107952A (en) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Fluorescent x-ray analyzing method |
-
2008
- 2008-03-14 JP JP2008065241A patent/JP4681018B2/en active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03235046A (en) * | 1990-02-09 | 1991-10-21 | Toshiba Corp | Total reflection x-ray fluorescence analyzer |
JPH03246452A (en) * | 1990-02-23 | 1991-11-01 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Total reflecting fluorescent x-ray analyzing instrument |
JPH04131761U (en) * | 1991-05-24 | 1992-12-04 | 理学電機工業株式会社 | Total internal reflection fluorescent X-ray analyzer |
JPH0552777A (en) * | 1991-08-22 | 1993-03-02 | Mitsubishi Materials Corp | Correcting method of incident angle of total reflection fluorescent x-ray analyzing apparatus |
JPH05126768A (en) * | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Rigaku Denki Kogyo Kk | Fluorescent x-ray analyzing method |
JPH05249055A (en) * | 1992-03-03 | 1993-09-28 | Toshiba Corp | Total-reflection fluorescent x-ray analyzer |
JPH07229862A (en) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Nec Corp | Total reflection fluorescence x-ray analyzer |
JP2003254918A (en) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | Rigaku Corp | Orientation measuring device of single crystal, detection method of angle error of guide member in the device and orientation measuring method of single crystal |
JP2006214868A (en) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Siltronic Japan Corp | Total reflection x-ray fluorescence analyzer |
JP2007107952A (en) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Fluorescent x-ray analyzing method |
JP2006242970A (en) * | 2006-06-19 | 2006-09-14 | Toshiba It & Control Systems Corp | Crystal orientation determination device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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