JP2009212276A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原版又は原版基準プレートに形成される複数のマークの位置と、原版における露光領域と、転写誤差に関する調整項目が入力される入力部と、複数のマークの位置情報、露光領域の位置情報、調整項目に基づいて計測に使用するマークを複数のマークから選択する選択部と、計測に使用するマークと基板基準マークを計測する計測部と、計測部による計測結果に基づいて、計測に使用するマークと基板基準マークの位置ずれが減少するように、原版ステージの駆動、基板ステージの駆動、投影光学系のレンズの駆動、光源の波長切替のうち少なくとも1つを行う調整部とを有する。
【選択図】図6
Description
[第1の実施形態]
まず、本発明の第1の実施形態について説明する。
BL=V1+V2−V3
の値に基づく。
ScaleX=(M2x−M1x)/(M2X−M1X)
に基づいて算出される。3個以上のマークを計測するときは、X方向に並ぶ任意の2個以上のマークの計測値から、マークの設計座標に対する計測値に関して近似線を求め、この近似線を表す関数の1次係数(傾き)の値に基づく。
Rot.X=(M2y−M1y)/(M2X−M1X)
に基づいて算出される。3個以上のマークを計測するときは、X方向に並ぶ任意の2個以上のマークの計測値から、マークの設計座標に対する計測値に関して近似線を求め、この近似線を表す関数の1次係数(傾き)の値に基づく。
(M2z−M1z)/(M2X−M1X)
に基づいて算出される。3個以上のマークを計測するときは、X方向に並ぶ任意の2個以上のマークの計測値から、マークの設計座標に対する計測値に関して近似線を求め、この近似線を表す関数の1次係数(傾き)の値に基づく。
まず、ステップS22において、ベースライン,倍率X,倍率Y,回転X,回転Y,フォーカス,チルトX,チルトY,3次倍率X,像面湾曲のそれぞれに関する調整有無を選択する(調整項目選択ステップ)。
・ ウエハステージ調整駆動
・ レチクルステージ調整駆動
・ 投影レンズ調整駆動
・ 露光光源波長切替
のいずれかの方法を選択する。
・ ウエハステージ調整駆動
・ レチクルステージ調整駆動
・ 投影レンズ調整駆動
・ 露光光源波長切替
のいずれかの方法を選択する。
・ ウエハステージ調整駆動
・ レチクルステージ調整駆動
のいずれかの方法を選択する。
[第2の実施形態]
以下、第2の実施形態について説明する。
[第3の実施形態]
以下、第3の実施形態について説明する。
[第4の実施形態]
以下、第4の実施形態について説明する。
BL=V4−V3
の値に基づく。
倍率Xは、露光領域内の曲線の近似直線の傾きP3から求める。
2:レチクル
3:レチクル基準プレート
4:レチクルステージ
5: 投影光学系
7: ウエハチャック
8:ウエハ
9:ウエハ基準プレート
10: ウエハステージ
11:ウエハ基準プレート上のマーク
12:オフアクシススコープ
14:光量センサ
20:TTR観察光学系
21:ファイバ
22:ハーフミラー
23:リレーレンズ
24:ミラー
25:対物レンズ
26:撮像素子
30:照明光学系制御系
40:レチクルステージ制御系
42:レチクル吸着パッド
43:第1のレチクルマーク
44:第2のレチクルマーク
45:レチクルのラインマーク
46:レチクル基準プレートのマーク
50:投影光学系制御系
60:ウエハステージ制御系
70:露光装置制御系
72:制御部
73:演算処理部
74:記憶部
76:表示部
Claims (5)
- 光源からの光を利用して原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、原版基準マークを有する原版基準プレートおよび前記原版を保持する原版ステージと、基板基準マークを有する基板基準プレートおよび前記基板を保持する基板ステージと、を有する露光装置であって、
前記原版又は前記原版基準プレートに形成される複数のマークの位置と、前記原版における露光領域と、転写誤差に関する調整項目が入力される入力部と、
前記複数のマークの位置情報、前記露光領域の位置情報、前記調整項目に基づいて計測に使用するマークを前記複数のマークから選択する選択部と、
前記計測に使用するマークと前記基板基準マークを計測する計測部と、
前記計測部による計測結果に基づいて、前記計測に使用するマークと前記基板基準マークの位置ずれが減少するように、前記原版ステージの駆動、前記基板ステージの駆動、前記投影光学系のレンズの駆動、前記光源の波長切替のうち少なくとも1つを行う調整部とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記選択部は、前記原版のパターン分布情報または転写誤差に関する予測情報のうち少なくとも1つに基づいて前記複数のマークの中から前記計測に使用するマークを選択することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記調整項目は、ベースライン、1次倍率、3次倍率、回転、フォーカス、チルト、像面湾曲のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記調整項目による調整は、前記計測に使用するマークの幅又は前記露光領域の幅が閾値より小さいときはその調整項目に関して調整を行わないことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至4のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
当該露光された基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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