JP2009208155A - Surface-coated cutting tool - Google Patents
Surface-coated cutting tool Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009208155A JP2009208155A JP2008050489A JP2008050489A JP2009208155A JP 2009208155 A JP2009208155 A JP 2009208155A JP 2008050489 A JP2008050489 A JP 2008050489A JP 2008050489 A JP2008050489 A JP 2008050489A JP 2009208155 A JP2009208155 A JP 2009208155A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- group
- cutting tool
- compound
- coated cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drilling Tools (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基材と該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具に関する。 The present invention relates to a surface-coated cutting tool comprising a substrate and a coating formed on the substrate.
種々の被削材を切削加工するのに用いられる表面被覆切削工具は、ＷＣ基超硬合金、サーメット、高速度鋼等の硬質の基材に対してその表面の耐摩耗性を改善したり表面保護機能を改善したりすることを目的として、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＮ等の硬質被膜でその表面を被覆することが行なわれてきた。 Surface-coated cutting tools used to cut various work materials can improve the surface wear resistance of hard substrates such as WC-base cemented carbide, cermet, high-speed steel, etc. For the purpose of improving the protective function, the surface has been coated with a hard coating such as TiN, TiCN, TiAlN or the like.
しかしながら、被削材が多様化していることおよび加工効率を向上させるために高速の切削加工が求められることなどの理由から、以前に比し切削工具の寿命は非常に短くなっている。さらに、最近の切削工具の動向として、地球環境保全の観点から切削油剤を用いない乾式の加工（ドライ加工）が求められる傾向にある。したがって、表面被覆切削工具には従来にも増して諸特性の向上が求められており、特に耐摩耗性を向上させることが強く求められている。 However, the life of cutting tools is much shorter than before due to the diversification of work materials and the need for high-speed cutting to improve processing efficiency. Furthermore, as a recent trend of cutting tools, there is a tendency that dry processing (dry processing) without using a cutting fluid is required from the viewpoint of global environmental conservation. Therefore, the surface-coated cutting tool is required to improve various characteristics as compared with the prior art, and particularly to improve the wear resistance.
このような状況下、基材に対してＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ等の改質物質を添加する試みが提案されているが（特許文献１）、この提案により基材自体の耐摩耗性が向上したとしてもそれを被覆する被膜の耐摩耗性が十分でないと全体としての耐摩耗性の向上が図れないものと考えられる。 Under such circumstances, an attempt to add modifying substances such as Ti, Zr, Hf, Ta, Nb, V, Cr, and Mo to the base material has been proposed (Patent Document 1). Even if the wear resistance of the base material itself is improved, it is considered that the wear resistance as a whole cannot be improved unless the wear resistance of the coating film covering the base material is sufficient.
これに対して、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｓｉ等の金属の窒化物または炭窒化物からなる層を含む被膜により基材を被覆する試みが提案されているが（特許文献２）、当該被膜は表面に非晶質炭素膜を形成することを前提としており、この非晶質炭素膜が剥離することによる耐摩耗性の低下が危惧される。また、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属からなる中間層を含む被膜により基材を被覆する試みも提案されているが（特許文献３）、このような中間層はその上に形成される酸化アルミニウム被膜のエピタキシャル成長を促進させるために形成されるものであって、そのような中間層自体が耐摩耗性の向上した被膜となるものではなかった。 On the other hand, an attempt to cover a substrate with a film including a layer made of a metal nitride or carbonitride such as Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si, etc. has been proposed. However, (Patent Document 2) is premised on the formation of an amorphous carbon film on the surface, and there is a concern that the wear resistance may be reduced due to peeling of the amorphous carbon film. There has also been proposed an attempt to cover a substrate with a film including an intermediate layer made of a metal such as V, Nb, Ta, Cr, Mo (Patent Document 3), but such an intermediate layer is formed on the intermediate layer. However, the intermediate layer itself is not a film with improved wear resistance.
一方、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等の金属でダイヤモンド粒子の表面を被覆し、この被覆粒子を切削工具に用いることが提案されているが（特許文献４）、このような被覆粒子を用いたとしても基材上に形成される被膜自体の耐摩耗性を向上させることにはならない。
本発明は、上記のような現状に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、高度な耐摩耗性を付与することができる被膜を備えた表面被覆切削工具を提供することにある。 This invention is made | formed in view of the above present conditions, The place made into the objective is to provide the surface-coated cutting tool provided with the film | membrane which can provide high abrasion resistance. .
すなわち、本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、１以上の層を含み、該層のうち少なくとも１の層は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．１５≦Ｘ≦０．３であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）で示される第１化合物を含むバナジウム含有ニオブ層であることを特徴とする。 That is, the surface-coated cutting tool of the present invention includes a substrate and a coating formed on the substrate, and the coating includes one or more layers, and at least one of the layers. Is a chemical formula Nb 1-X V X Z Y where the crystal structure is a tetragonal type (where X and Y each represent an atomic ratio, X is 0.15 ≦ X ≦ 0.3, and Y is 0.00. 1 ≦ Y ≦ 2, and Z is at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen.) It is characterized by.
ここで、上記バナジウム含有ニオブ層は、０．１μｍ以上２０μｍ以下の厚みを有することが好ましい。また、上記バナジウム含有ニオブ層は、上記第１化合物を含む第１層と、第２化合物を含む第２層とが各々１層以上積層されて形成されており、該第２化合物は、Ｓｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、およびＶからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素と、硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とを含む化合物であることが好ましい。この場合、該第１層は、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、該第２層は、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。 Here, the vanadium-containing niobium layer preferably has a thickness of 0.1 μm to 20 μm. The vanadium-containing niobium layer is formed by laminating one or more layers each including a first layer containing the first compound and a second layer containing a second compound, and the second compound contains Si, A compound containing at least one element selected from the group consisting of Cr, Al, Ti, Hf, Ta, Nb, and V and at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen It is preferable that In this case, the first layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm, and the second layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm.
また、上記被膜は、上記バナジウム含有ニオブ層以外に、さらに周期律表のＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩａ族元素、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される１層以上の硬質被膜層を含むことが好ましい。 In addition to the vanadium-containing niobium layer, the coating film may be at least one element selected from the group consisting of IVa group element, Va group element, VIa group element, Al, and Si in the periodic table, or the element It is preferable to include one or more hard coating layers composed of a compound composed of at least one of the above and at least one element selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and boron.
この硬質被膜層は、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される層であることが好ましい。また、この硬質被膜層は、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される２種以上の層が、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして周期的に積層される超多層であることが好ましい。 The hard coating layer is at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and boron. A layer composed of a compound composed of one element is preferable. The hard coating layer is selected from the group consisting of at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one of the elements, and carbon, nitrogen, oxygen, and boron. It is preferable that the two or more types of layers composed of the compound composed of at least one kind of element are super multi-layers that are periodically stacked with each layer having a thickness of 1 nm to 100 nm.
また、上記基材は、超硬合金、サーメット、高速度鋼、セラミックス、立方晶型窒化硼素焼結体、またはダイヤモンド焼結体のいずれかにより構成されることが好ましい。 The base material is preferably composed of any one of cemented carbide, cermet, high speed steel, ceramics, cubic boron nitride sintered body, and diamond sintered body.
本発明の表面被覆切削工具は、上記のような構成を有することにより、高度な耐摩耗性を付与することができる被膜を備えたことを特徴とする。 The surface-coated cutting tool of the present invention is characterized by having a coating capable of imparting high wear resistance by having the above-described configuration.
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
＜表面被覆切削工具＞
本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものである。このような構成を有する本発明の表面被覆切削工具は、たとえばドリル、エンドミル、フライス加工用または旋削加工用刃先交換型切削チップ、メタルソー、歯切工具、リーマ、タップ、またはクランクシャフトのピンミーリング加工用チップ等として極めて有用に用いることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
<Surface coated cutting tool>
The surface-coated cutting tool of the present invention comprises a substrate and a film formed on the substrate. The surface-coated cutting tool of the present invention having such a structure is, for example, a drill, an end mill, a milling or turning edge cutting type cutting tip, a metal saw, a gear cutting tool, a reamer, a tap, or a pin milling of a crankshaft. It can be used extremely useful as a chip for an automobile.
＜基材＞
本発明の表面被覆切削工具の基材としては、このような切削工具の基材として知られる従来公知のものを特に限定なく使用することができる。たとえば、超硬合金（たとえばＷＣ基超硬合金、ＷＣの他、Ｃｏを含み、あるいはさらにＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ等の炭窒化物等を添加したものも含む）、サーメット（ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等を主成分とするもの）、高速度鋼、セラミックス（炭化チタン、炭化硅素、窒化硅素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、およびこれらの混合体など）、立方晶型窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体等をこのような基材の例として挙げることができる。このような基材として超硬合金を使用する場合、そのような超硬合金は、組織中に遊離炭素やη相と呼ばれる異常相を含んでいても本発明の効果は示される。
<Base material>
As the base material of the surface-coated cutting tool of the present invention, a conventionally known material known as such a cutting tool base material can be used without particular limitation. For example, cemented carbide (for example, WC base cemented carbide, including WC, including Co, or further including carbonitride such as Ti, Ta, Nb, etc.), cermet (TiC, TiN, TiCN, etc.) High-speed steel, ceramics (titanium carbide, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, and mixtures thereof), cubic boron nitride sintered body, diamond sintered body Etc. can be mentioned as examples of such a substrate. When a cemented carbide is used as such a base material, the effect of the present invention is exhibited even if such a cemented carbide contains an abnormal phase called free carbon or η phase in the structure.
なお、これらの基材は、その表面が改質されたものであっても差し支えない。たとえば、超硬合金の場合はその表面に脱β層が形成されていたり、サーメットの場合には表面硬化層が形成されていても良く、このように表面が改質されていても本発明の効果は示される。 In addition, these base materials may have a modified surface. For example, in the case of cemented carbide, a de-β layer may be formed on the surface, or in the case of cermet, a surface hardened layer may be formed, and even if the surface is modified in this way, The effect is shown.
＜被膜＞
本発明の表面被覆切削工具の上記基材上に形成される被膜は、１以上の層を含むものである。そして、それらの層のうち少なくとも１の層は、以下で詳述する第１化合物を含むバナジウム含有ニオブ層である。本発明の被膜は、このバナジウム含有ニオブ層を含む限り、さらに他の層を含んでいても差し支えない。なお、本発明の被膜は、基材上の全面を被覆するもののみに限られるものではなく、部分的に被膜が形成されていない態様をも含む。
<Coating>
The coating film formed on the base material of the surface-coated cutting tool of the present invention includes one or more layers. And at least 1 layer is a vanadium containing niobium layer containing the 1st compound explained in full detail below among those layers. As long as the vanadium-containing niobium layer is included, the coating of the present invention may further include another layer. In addition, the film of this invention is not restricted only to what coat | covers the whole surface on a base material, The aspect in which the film is not partially formed is also included.
このような被膜の合計厚み（２以上の層が形成される場合はその総膜厚）は、０．１μｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくはその上限が２５μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下、その下限が０．５μｍ以上、さらに好ましくは１μｍ以上である。その厚みが０．１μｍ未満の場合、耐摩耗性等の諸特性の向上作用が十分に示されない場合があり、３０μｍを超えると残留応力が大きくなり基材との密着性が低下する場合がある。なお、膜厚の測定方法としては、切削工具を切断し、その断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて観察することにより求めることができる。以下、該被膜についてさらに詳細に説明する。 The total thickness of such a coating (when two or more layers are formed, the total thickness) is preferably 0.1 μm or more and 30 μm or less, more preferably the upper limit is 25 μm or less, and further preferably 20 μm. Hereinafter, the lower limit is 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more. If the thickness is less than 0.1 μm, the effect of improving various properties such as wear resistance may not be sufficiently exhibited. If the thickness exceeds 30 μm, the residual stress may increase and the adhesion to the substrate may be reduced. . In addition, as a measuring method of a film thickness, it can obtain | require by cut | disconnecting a cutting tool and observing the cross section using SEM (scanning electron microscope). Hereinafter, the coating will be described in more detail.
＜バナジウム含有ニオブ層＞
本発明のバナジウム含有ニオブ層は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．１５≦Ｘ≦０．３であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）で示される第１化合物を含むものである。このような第１化合物は、極めて高い硬度を有しており、このためバナジウム含有ニオブ層は極めて耐摩耗性に優れたものとなり、被膜全体の耐摩耗性が飛躍的に向上したものとなる。
<Vanadium-containing niobium layer>
The vanadium-containing niobium layer of the present invention has a chemical formula Nb 1-X V X Z Y where the crystal structure is a tetragonal type (where X and Y each represent an atomic ratio, and X is 0.15 ≦ X ≦ 0.3) And Y is 0.1 ≦ Y ≦ 2, and Z represents at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. It is a waste. Such a first compound has an extremely high hardness, so that the vanadium-containing niobium layer has an extremely excellent wear resistance, and the wear resistance of the entire coating film is greatly improved.
本発明のバナジウム含有ニオブ層は、不可避不純物を除き第１化合物のみによって構成することができる。しかし、後述のような他の成分（元素）を含むことができるとともに、同じく後述のような第１化合物を含む層と他の化合物を含む層とが積層されて形成されたものであっても良い。 The vanadium-containing niobium layer of the present invention can be composed of only the first compound except for inevitable impurities. However, it may contain other components (elements) as described later, and may be formed by laminating a layer containing a first compound and a layer containing another compound as described later. good.
なお、このようなバナジウム含有ニオブ層は、第１化合物とともに、その第１化合物に起因する（第１化合物の形成時に同時に形成されたり、その形成後に経時的に形成される）副次的化合物を含んでいても差し支えない。そのような副次的化合物は第１化合物に対し少量含まれるものであり、たとえばＮｂと上記化学式中のＺとからなる化合物や、Ｖと上記化学式中のＺとからなる化合物が挙げられる他、Ｎｂ単体やＶ単体も挙げることができる。 Such a vanadium-containing niobium layer includes, together with the first compound, a secondary compound (formed simultaneously with the formation of the first compound or formed over time after the formation of the first compound). It can be included. Such a secondary compound is contained in a small amount relative to the first compound, and examples thereof include a compound composed of Nb and Z in the chemical formula, and a compound composed of V and Z in the chemical formula, Nb simple substance and V simple substance can also be mentioned.
このような本発明のバナジウム含有ニオブ層は、０．１μｍ以上２０μｍ以下の厚みを有することが好ましい。より好ましくは、その上限が１５μｍ、さらに好ましくは１０μｍであり、その下限が０．３μｍ、さらに好ましくは０．５μｍである。 Such a vanadium-containing niobium layer of the present invention preferably has a thickness of 0.1 μm or more and 20 μm or less. More preferably, the upper limit is 15 μm, more preferably 10 μm, and the lower limit is 0.3 μm, more preferably 0.5 μm.
上記厚みが０．１μｍ未満の場合、高度な耐摩耗性を付与するという本発明の効果が示されない場合があるとともに、２０μｍを超えると、該効果が低減される場合がある。 When the thickness is less than 0.1 μm, the effect of the present invention that imparts high wear resistance may not be shown, and when it exceeds 20 μm, the effect may be reduced.
なお、このようなバナジウム含有ニオブ層の組成は、ＲＢＳ（ラザフォード後方散乱分析）法により同定することができる。 The composition of such a vanadium-containing niobium layer can be identified by the RBS (Rutherford backscattering analysis) method.
＜第１化合物＞
上記バナジウム含有ニオブ層に含まれる第１化合物は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．１５≦Ｘ≦０．３であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）で示される化合物である。上記化学式中、原子比Ｘが０．１５≦Ｘ≦０．３の範囲となる限り、結晶構造が正方晶型を示し極めて高い硬度を示す。
<First compound>
The first compound contained in the vanadium-containing niobium layer has a chemical formula Nb 1-X V X Z Y where the crystal structure is a tetragonal type (where X and Y each represent an atomic ratio, and X is 0.15 ≦ X ≦ 0.3, Y is 0.1 ≦ Y ≦ 2, and Z represents at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. It is. In the above chemical formula, as long as the atomic ratio X is in the range of 0.15 ≦ X ≦ 0.3, the crystal structure exhibits a tetragonal type and exhibits extremely high hardness.
ここで、上記化学式中、原子比Ｘは、より好ましくは０．１７≦Ｘ≦０．２８であり、その上限がさらに好ましくは０．２５、その下限がさらに好ましくは０．２０である。この原子比Ｘが０．１５未満の場合、結晶構造が六方晶型（六方晶窒化ニオブ型）を主体とするものとなり硬度が低下するため耐摩耗性を向上することができない。また、この原始比Ｘが０．３を超えると結晶構造は正方晶型を維持するものの硬度が低下し、これまた耐摩耗性を向上させることができなくなる。 Here, in the above chemical formula, the atomic ratio X is more preferably 0.17 ≦ X ≦ 0.28, the upper limit thereof is further preferably 0.25, and the lower limit thereof is further preferably 0.20. When the atomic ratio X is less than 0.15, the crystal structure is mainly hexagonal type (hexagonal niobium nitride type) and the hardness is lowered, so that the wear resistance cannot be improved. On the other hand, when the primitive ratio X exceeds 0.3, the crystal structure maintains a tetragonal crystal shape, but the hardness decreases, and the wear resistance cannot be improved.
なお、上記の化学式中、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。すなわち、Ｚは、これらの元素が各単独で構成されていても良いし、２以上の元素が組み合わされて構成されていても良い。２以上の元素が組み合わされて構成される場合、各元素の原子比は特に限定されるものではないが、窒素が含まれる場合はこれらの構成元素に占める（すなわち上記化学式中のＹに対する）窒素の原子比を５０％以上とすることが好適である。 In the above chemical formula, Z represents at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. That is, Z may be composed of these elements alone or in combination of two or more elements. When two or more elements are combined, the atomic ratio of each element is not particularly limited. However, when nitrogen is included, nitrogen occupies these constituent elements (that is, with respect to Y in the above chemical formula). The atomic ratio is preferably 50% or more.
また、原子比Ｙは、０．１≦Ｙ≦２である限り特に限定されないが、より好ましくは０．４≦Ｙ≦１．８である。Ｙが０．１未満の場合、耐摩耗性が低下するため好ましくない。またＹが２を超えると、やはり耐摩耗性が低下するため好ましくない。なお、上記のようにＺが２種以上の元素で構成される場合は、原子比Ｙはそれらの元素の合計量を示すものとする。 Further, the atomic ratio Y is not particularly limited as long as 0.1 ≦ Y ≦ 2, but more preferably 0.4 ≦ Y ≦ 1.8. When Y is less than 0.1, the wear resistance is lowered, which is not preferable. On the other hand, if Y exceeds 2, the wear resistance is also lowered, which is not preferable. In addition, when Z is comprised with 2 or more types of elements as mentioned above, the atomic ratio Y shall show the total amount of those elements.
なお、原子比Ｙは、その測定方法により数値が大きく変動することがあるため、±１０％前後の誤差を含み得ることを考慮する必要がある。 Note that it is necessary to consider that the atomic ratio Y may include an error of around ± 10% because the numerical value may vary greatly depending on the measurement method.
＜バナジウム含有ニオブ層の積層構造＞
本発明のバナジウム含有ニオブ層は、上記の第１化合物を含む単一の層で構成することができるが、次のような積層構造とすることもできる。
<Laminated structure of vanadium-containing niobium layer>
The vanadium-containing niobium layer of the present invention can be composed of a single layer containing the above-mentioned first compound, but can also have the following laminated structure.
すなわち、本発明のバナジウム含有ニオブ層は、上記第１化合物を含む第１層と、第２化合物を含む第２層とが各々１層以上積層されて形成されているものとすることができ、この第２化合物は、Ｓｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、およびＶからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素と、硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とを含むものとすることができる。このような第１層は、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、また同じく第２層も、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。 That is, the vanadium-containing niobium layer of the present invention can be formed by laminating one or more layers each including a first layer containing the first compound and a second layer containing the second compound, The second compound is at least one element selected from the group consisting of Si, Cr, Al, Ti, Hf, Ta, Nb, and V, and at least selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. One kind of element can be included. Such a first layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm, and similarly, the second layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm.
ここで、この第２化合物は、Ｓｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、およびＶからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素に対して、硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を原子比で０．１以上２以下含むことが好ましい。原子比をこの範囲のものとすることにより、以下のような優れた効果が示される。なお、Ｓｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、およびＶのうち異なった元素が２種以上含まれる場合、その合計量が上記範囲の原子比を満たす限り、各元素間の原子比は特に制限されない。同様にして、硼素、酸素、炭素、および窒素のうち異なった元素が２種以上含まれる場合も、各元素間の原子比は特に制限されない。 Here, the second compound is composed of boron, oxygen, carbon, and nitrogen with respect to at least one element selected from the group consisting of Si, Cr, Al, Ti, Hf, Ta, Nb, and V. It is preferable to contain at least one element selected from the group in an atomic ratio of 0.1 or more and 2 or less. By setting the atomic ratio within this range, the following excellent effects are exhibited. In addition, when two or more different elements among Si, Cr, Al, Ti, Hf, Ta, Nb, and V are included, the atomic ratio between the elements is sufficient as long as the total amount satisfies the atomic ratio in the above range. Is not particularly limited. Similarly, when two or more different elements of boron, oxygen, carbon, and nitrogen are included, the atomic ratio between the elements is not particularly limited.
上記のような積層構造を採用することにより、次のような優れた効果が示される。すなわち、上記第２化合物は耐酸化性に優れているため、クレーター摩耗の低減作用および耐摩耗性の向上作用に加え、バナジウム含有ニオブ層全体として優れた耐酸化性が示される。また、このように組成の異なる２層を積層させたことにより、被膜の厚み方向に亀裂が進展することを極めて有効に抑制することができ、この亀裂の進展による被膜破壊に起因した摩耗現象を効果的に低減することができることから結果的に耐摩耗性をさらに向上させることができる。 By adopting the laminated structure as described above, the following excellent effects are exhibited. That is, since the second compound is excellent in oxidation resistance, it exhibits excellent oxidation resistance as a whole of the vanadium-containing niobium layer in addition to the action of reducing crater wear and the action of improving wear resistance. In addition, by laminating two layers having different compositions in this way, it is possible to extremely effectively prevent cracks from progressing in the thickness direction of the film, and wear phenomenon caused by film destruction due to the progress of the cracks can be suppressed. As a result, the wear resistance can be further improved.
ここで、前述のように第１層は、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、また同じく第２層も、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。この範囲の厚みを有することにより切削時において特に優れた耐摩耗性が示されるからである。そして、上記第１層および第２層の各厚みは、より好ましくはその上限が１００ｎｍ、さらに好ましくは５０ｎｍであり、その下限はより好ましくは１ｎｍである。０．５ｎｍ未満の厚みで各層を形成することは困難であり、その厚みが２００ｎｍを超えると上記のような優れた効果が示されない場合がある。そして、特に好ましくは上記第１層のみの加算合計厚みが０．３μｍ以上１０μｍ以下となる場合であり、より好ましくは０．７μｍ以上５μｍ以下となる場合である。第１層のみの合計厚みをこれらの範囲とすることにより、上記の効果が最も効果的に発現する。なお、第１層のみの合計厚みがこのような範囲となる限り、第２層のみの合計厚みは特に限定されないが、１μｍ以上１０μｍ以下の厚みとすれば通常は十分である。このように積層される第１層と第２層との各厚みは、概ね等しいものであっても良いし、異なるものであっても良い。 Here, as described above, the first layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm, and similarly, the second layer preferably has a thickness of 0.5 nm to 200 nm. This is because having a thickness in this range exhibits particularly excellent wear resistance during cutting. And as for each thickness of the said 1st layer and the 2nd layer, More preferably, the upper limit is 100 nm, More preferably, it is 50 nm, The lower limit is more preferably 1 nm. It is difficult to form each layer with a thickness of less than 0.5 nm, and when the thickness exceeds 200 nm, the above-described excellent effects may not be shown. Particularly preferably, the total thickness of only the first layer is 0.3 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.7 μm or more and 5 μm or less. By making the total thickness of only the first layer within these ranges, the above effect is most effectively exhibited. As long as the total thickness of only the first layer falls within such a range, the total thickness of only the second layer is not particularly limited, but a thickness of 1 μm or more and 10 μm or less is usually sufficient. The thicknesses of the first layer and the second layer laminated in this way may be approximately equal or different.
なお、積層構造とは、上記第１層と第２層とが各々１層以上積層されて形成されていることを示すものであるが、より好ましくは上記第１層と第２層とが各々上下交互に複数積層されることが好適である。なお、このような積層構造において最下層および最上層は第１層または第２層のいずれの層によって形成されていても差し支えない。また、積層数は特に限定されるものではないが、各層それぞれ１層以上８０００層以下、より好ましくは２０層以上５０００層以下とすることができる。 Note that the laminated structure indicates that the first layer and the second layer are formed by laminating one or more layers, and more preferably, the first layer and the second layer are respectively formed. It is preferable that a plurality of layers are stacked alternately one above the other. In such a laminated structure, the lowermost layer and the uppermost layer may be formed of either the first layer or the second layer. In addition, the number of stacked layers is not particularly limited, but each layer may be 1 layer or more and 8000 layers or less, more preferably 20 layers or more and 5000 layers or less.
＜硬質被膜層＞
本発明の被膜は、上記バナジウム含有ニオブ層以外に、さらに周期律表のＩＶａ族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ等）、Ｖａ族元素（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等）、ＶＩａ族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等）、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される１層以上の硬質被膜層を含むことができる。
<Hard coating layer>
In addition to the vanadium-containing niobium layer, the coating of the present invention further includes IVa group elements (Ti, Zr, Hf, etc.), Va group elements (V, Nb, Ta, etc.), VIa group elements (Cr, Mo, etc.) in the periodic table. , W, etc.), Al, and Si, or at least one element selected from the group consisting of Al, and Si, and at least one element selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and boron, and One or more hard coating layers composed of a compound consisting of
そして、このような硬質被膜層としては、特にＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される層であることが好ましく、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される２種以上の層が、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして周期的に積層される超多層であることが好ましい。 Such a hard coating layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one of the elements, and carbon, nitrogen, oxygen, and boron. Preferably, the layer is composed of a compound composed of at least one element selected from the group consisting of at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one of the elements Two or more layers composed of a compound composed of one type and at least one element selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and boron have a period of 1 to 100 nm as the thickness of each layer. It is preferable that the super multi-layer is laminated.
このような硬質被膜層は、高硬度で耐摩耗性に優れるとともに、極めて優れた靭性を示すものが好ましい。特に、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される１層以上の層は、耐酸化性および耐熱性に優れていることから特に優れた耐摩耗性が示されるため極めて有効である。なお、該硬質被膜層は、物理蒸着法により形成されることが好ましく、圧縮応力を有していることが好ましい。 Such a hard coating layer preferably has high hardness and excellent wear resistance, and exhibits extremely excellent toughness. In particular, at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one element selected from the group consisting of at least one of the elements and carbon, nitrogen, oxygen, and boron One or more layers composed of the compound consisting of are excellent in oxidation resistance and heat resistance, and are particularly effective because they exhibit particularly excellent wear resistance. The hard coating layer is preferably formed by physical vapor deposition, and preferably has a compressive stress.
このような硬質被膜層を物理蒸着法により形成することが好適である理由は、第一に硬質被膜層に圧縮応力を付与するためであり、第二にバナジウム含有ニオブ層が物理蒸着法により形成される場合においてこれらの被膜と同じ成膜方法を採用することにより製造効率を向上させるためである。このような物理蒸着法の詳細は後述する。 The reason why it is preferable to form such a hard coating layer by physical vapor deposition is to firstly apply compressive stress to the hard coating layer, and secondly, to form a vanadium-containing niobium layer by physical vapor deposition. In this case, the same film formation method as that of these coatings is employed to improve the manufacturing efficiency. Details of such physical vapor deposition will be described later.
そして、このような硬質被膜層を構成する元素または化合物としては、たとえば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｈｆ、ＴｉＡｌ、ＴｉＳｉ、ＡｌＣｒ、ＴｉＮ、ＴｉＯＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣＮＯ、ＴｉＢＮ、ＴｉＣＢＮ、ＴｉＡｌＣＮ、ＡｌＮ、ＡｌＣＮ、ＡｌＣｒＣＮ、ＡｌＯＮ、ＣｒＮ、ＣｒＣＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＣＮ、Ｔｉ2Ｏ3、ＴｉＡｌＯＮ、ＺｒＮ、ＺｒＣＮ、ＡｌＺｒＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＡｌＳｉＮ、ＴｉＡｌＣｒＳｉＮ、ＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＳｉＮ、ＴｉＺｒＮ、ＴｉＡｌＭｏＮ、ＴｉＡｌＮｂＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＣＮ、ＡｌＣｒＴａＮ、ＡｌＴｉＶＮ、ＴｉＢ2、ＴｉＣｒＨｆＮ、ＣｒＳｉＷＮ、ＴｉＡｌＣＮ、ＴｉＳｉＣＮ、ＡｌＺｒＯＮ、ＡｌＣｒＣＮ、ＡｌＨｆＮ、ＣｒＳｉＢＯＮ、ＴｉＡｌＷＮ、ＡｌＣｒＭｏＣＮ、ＴｉＡｌＢＮ、ＴｉＡｌＣｒＳｉＢＣＮＯ等を挙げることができる。 Examples of elements or compounds constituting such a hard coating layer include Cr, Ti, Al, Si, V, Zr, Hf, TiAl, TiSi, AlCr, TiN, TiON, TiCN, TiCNO, TiBN, and TiCBN. , TiAlCN, AlN, AlCN, AlCrCN , AlON, CrN, CrCN, TiSiN, TiSiCN, Ti 2 O 3, TiAlON, ZrN, ZrCN, AlZrN, TiAlN, TiAlSiN, TiAlCrSiN, AlCrN, AlCrSiN, TiZrN, TiAlMoN, TiAlNbN, TiSiN, TiSiCN, AlCrTaN, AlTiVN, TiB 2 , TiCrHfN, CrSiWN, TiAlCN, TiSiCN, AlZrON, AlCrCN, AlHfN, CrSiBON, Ti lWN, mention may be made of AlCrMoCN, TiAlBN, the TiAlCrSiBCNO like.
とりわけ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＡｌＮＯ、ＴｉＡｌＣＮＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＢＮ、ＴｉＣＢＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＮＯ、ＴｉＳｉＣＮＯ、ＣｒＴｉＮ、ＣｒＴｉＮＯ、ＣｒＴｉＣＮＯ、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＮＯ、ＳｉＡｌＣＮＯ、ＣｒＳｉＮ、ＣｒＳｉＮＯ、ＣｒＳｉＣＮＯ、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＮＯ、ＳｉＡｌＣＮＯ、ＣｒＳｉＮ、ＣｒＳｉＮＯ、ＣｒＳｉＣＮＯ、ＴｉＡｌＳｉＮ、ＴｉＡｌＳｉＮＯ、ＴｉＡｌＳｉＣＮＯ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮＯ、ＴｉＡｌＣｒＣＮＯ、ＴｉＣｒＳｉＮ、ＴｉＣｒＳｉＮＯ、ＴｉＣｒＳｉＣＮＯ、ＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＮＯ、ＡｌＣｒＣＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＢＮＯ等を挙げることができ、特にＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＢＮＯ、ＡｌＣｒＣＮＯ等が好適である。 In particular, at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one element selected from the group consisting of at least one of the elements and carbon, nitrogen, oxygen, and boron Examples of the compound consisting of, Ti, Cr, Al, Si , TiAlN, TiAlNO, TiAlCNO, Al 2 O 3, TiBN, TiCBN, TiSiN, TiSiNO, TiSiCNO, CrTiN, CrTiNO, CrTiCNO, SiAlN, SiAlNO, SiAlCNO, CrSiN, CrSiNO, CrSiCNO, SiAlN, SiAlNO, SiAlCNO, CrSiN, CrSiNO, CrSiCNO, TiAlSiN, TiAlSiNO, TiAlSiCNO, TiAlCrN, TiAlCrNO, TiAlCrCN , TiCrSiN, TiCrSiNO, TiCrSiCNO, AlCrN, AlCrNO, AlCrSiNO, AlCrCNO, there may be mentioned AlCrSiBNO like, particularly AlCrN, AlCrNO, AlCrSiNO, AlCrSiBNO, AlCrCNO the like.
なお、上記の化学式において、各元素の原子比が特に記載されていないものは必ずしも等比となるものではなく、従来公知の原子比が全て含まれるものとする。たとえば単にＴｉＮと記す場合、ＴｉとＮとの原子比は１：１が含まれる他、２：１、１：０．９５、１：０．９等が含まれる（特に断りのない限り、以下において同じ）。 In the above chemical formula, those in which the atomic ratio of each element is not particularly described are not necessarily equivalent, and all conventionally known atomic ratios are included. For example, when simply describing TiN, the atomic ratio of Ti and N includes 1: 1, and includes 2: 1, 1: 0.95, 1: 0.9, etc. (unless otherwise noted, the following) The same).
なお、この硬質被膜層は、これらの元素または化合物を単層または多層として形成することができ、多層の場合はこれらの元素または化合物からなる層を４ｎｍ〜５μｍの厚みで積層する場合も含む。そして、特にＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される２種以上の層が、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして周期的に積層される超多層を１以上含むことが好ましい。このように上記各層を周期的に積層させることにより、耐酸化性および耐熱性がさらに向上し極めて優れた耐摩耗性が示される。ここで、周期的に積層させるとは、たとえば２種の層を上下交互に積層させるなど、一定の周期性をもって積層させることをいう。なお、各層の厚みが１ｎｍ未満となる場合や１００ｎｍを超える場合には積層による耐摩耗性の向上効果が示されない場合があるが、その場合であってもこれらの元素や化合物によってもたらされる固有の耐摩耗性の向上効果は示される。各層の厚みはより好ましくは４ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。 In addition, this hard film layer can form these elements or compounds as a single layer or a multilayer, and in the case of a multilayer, the case where the layer which consists of these elements or compounds is laminated | stacked by the thickness of 4 nm-5 micrometers is also included. In particular, at least one element selected from the group consisting of Ti, Cr, Al, and Si, or at least one element selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and boron, and at least one of the elements It is preferable that two or more types of layers composed of a compound composed of an element include one or more super multi-layers that are periodically stacked with each layer having a thickness of 1 nm to 100 nm. Thus, by periodically laminating the above layers, the oxidation resistance and heat resistance are further improved, and extremely excellent wear resistance is exhibited. Here, periodically laminating means, for example, laminating with a certain periodicity such as alternately laminating two kinds of layers. In addition, when the thickness of each layer is less than 1 nm or exceeds 100 nm, the effect of improving the abrasion resistance by lamination may not be shown, but even in that case, it is inherent to these elements and compounds. The effect of improving wear resistance is shown. The thickness of each layer is more preferably 4 nm or more and 60 nm or less.
また、このような硬質被膜層は、０．３μｍ以上１０μｍ以下の厚み（超多層で形成される場合はその全体の厚み）を有することが好ましく、より好ましくはその上限が７μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、その下限が０．５μｍ以上、さらに好ましくは１μｍ以上である。その厚みが０．３μｍ未満の場合には、十分な耐摩耗性が示されなくなるとともに十分な靭性を示さなくなる場合があり、１０μｍを超えると耐欠損性が低下することがあるため好ましくない。 Further, such a hard coating layer preferably has a thickness of 0.3 μm or more and 10 μm or less (when it is formed of a super multi-layer, its total thickness), more preferably its upper limit is 7 μm or less, and more preferably 5 μm or less, and the lower limit is 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more. If the thickness is less than 0.3 μm, sufficient wear resistance may not be exhibited and sufficient toughness may not be exhibited. If the thickness exceeds 10 μm, the fracture resistance may decrease, which is not preferable.
なお、このような硬質被膜層は、基材とバナジウム含有ニオブ層との間に形成することができるとともに、バナジウム含有ニオブ層上に形成することもでき、その積層配置は特に限定されない。 Such a hard coating layer can be formed between the base material and the vanadium-containing niobium layer, and can also be formed on the vanadium-containing niobium layer, and the lamination arrangement is not particularly limited.
＜製造方法＞
本発明の被膜とりわけバナジウム含有ニオブ層は、上記の通り結晶性の高い化合物で構成されている必要があるため、本発明の被膜はそのような結晶性の高い化合物で構成されるような成膜プロセスにより形成されていることが好ましい。したがって、本発明の被膜は特に物理蒸着法（ＰＶＤ法）により形成されることが望ましい。このような物理蒸着法としては、たとえばバランストマグネトロンスパッタリング法、アンバランストマグネトロンスパッタリング法、アークイオンプレーティング法、これらを各組み合せた方法等を挙げることができる。なお、バナジウム含有ニオブ層や硬質被膜層が上記のような積層構造（超多層）で形成されている場合であっても、これらの物理蒸着法の下、従来公知の手法により形成することができる。
<Manufacturing method>
Since the coating of the present invention, particularly the vanadium-containing niobium layer, needs to be composed of a compound having high crystallinity as described above, the coating of the present invention is formed to be composed of such a compound having high crystallinity. It is preferably formed by a process. Therefore, it is desirable that the film of the present invention is formed by physical vapor deposition (PVD method). Examples of such physical vapor deposition include balanced magnetron sputtering, unbalanced magnetron sputtering, arc ion plating, and combinations of these. Even when the vanadium-containing niobium layer or the hard coating layer is formed in the above-described laminated structure (super multilayer), it can be formed by a conventionally known method under these physical vapor deposition methods. .
そして、特に上記のようなバナジウム含有ニオブ層を好適に形成する具体的な条件を挙げると以下の通りとなる。すなわち、アークイオンプレーティング法を採用する場合、所望の構造の第１化合物が得られるように適切な配合比で各対応する元素を含んだターゲット（焼結ターゲットまたは溶成ターゲット）をアーク式蒸発源にセットし、基板（基材）温度を４００〜７００℃および該装置内の反応ガス圧を２．０〜６．０Ｐａに設定し、反応ガスとしてたとえば窒素、メタン、酸素等のうちから１以上のガスを選択することによりこれを導入する。そして、基板（負）バイアス電圧を−６０Ｖ〜−２００Ｖに維持したまま、カソード電極に５０〜１２０Ａのアーク電流を供給し、アーク式蒸発源から金属イオン等を発生させることによりクロム含有チタン層を形成することができる。なお、上記基板温度を高くする程、第１化合物の結晶性が高くなる傾向を示す。 In particular, specific conditions for suitably forming the vanadium-containing niobium layer as described above are as follows. That is, when the arc ion plating method is employed, arc-type evaporation of a target (sintered target or melted target) containing each corresponding element at an appropriate blending ratio so as to obtain a first compound having a desired structure. The substrate (base material) temperature is set to 400 to 700 ° C., the reaction gas pressure in the apparatus is set to 2.0 to 6.0 Pa, and the reaction gas is selected from, for example, nitrogen, methane, oxygen, etc. This is introduced by selecting the above gas. Then, while maintaining the substrate (negative) bias voltage at −60 V to −200 V, an arc current of 50 to 120 A is supplied to the cathode electrode to generate metal ions and the like from the arc evaporation source, thereby forming the chromium-containing titanium layer. Can be formed. Note that the higher the substrate temperature, the higher the crystallinity of the first compound.
また、アンバランストマグネトロンスパッタリング法を採用する場合、基板（基材）温度を４００〜７００℃および該装置内の反応ガス圧を３００ｍＰａ〜８００ｍＰａに設定し、所望の第１化合物に対応する反応ガスとしてたとえば窒素、アセチレン、酸素のうちから１以上のガスを選択することによりこれを導入する（なお、反応ガスの導入に際しては、希ガス／反応ガスの比を１〜５に設定することが好ましい）。そして、基板温度を高くする程、第１化合物の結晶性は高くなる傾向を示し、ターゲットに０．１２〜０．３Ｗ／ｍｍ2の電力密度を発生させることによりバナジウム含有ニオブ層を形成することができる。 When the unbalanced magnetron sputtering method is employed, the substrate (base material) temperature is set to 400 to 700 ° C., the reaction gas pressure in the apparatus is set to 300 mPa to 800 mPa, and the reaction gas corresponding to the desired first compound For example, one or more gases are selected from nitrogen, acetylene, and oxygen (introducing the reaction gas, the ratio of the rare gas / reaction gas is preferably set to 1 to 5). ). And the higher the substrate temperature, the higher the crystallinity of the first compound tends to be, and the formation of a vanadium-containing niobium layer by generating a power density of 0.12-0.3 W / mm 2 on the target. Can do.
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の各被膜を構成する各層の化学組成（化合物の組成）はＲＢＳにより確認し、各層の厚みは被膜の断面を二次電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することにより確認し、また結晶構造はＸＲＤ（Ｘ線回折）θ／２θ法により確認した。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. The chemical composition (compound composition) of each layer constituting each coating is confirmed by RBS, and the thickness of each layer is confirmed by observing the cross section of the coating with a secondary electron microscope (SEM). Was confirmed by the XRD (X-ray diffraction) θ / 2θ method.
本実施例において基材上に形成される被膜の構成を以下の表１に示す。被膜（その合計厚みを表１の最右欄に記載した）は、第１層、第２層および第３層を含み、基材上に第１層から順に形成した。ただし、表１中空欄になっている層は形成されなかったことを示す。たとえば実施例１〜１６は被膜として第１層のみを形成したことを示す。 The structure of the film formed on the substrate in this example is shown in Table 1 below. The coating (the total thickness is described in the rightmost column of Table 1) includes a first layer, a second layer, and a third layer, and was formed on the substrate in order from the first layer. However, it indicates that the layer in the hollow column of Table 1 was not formed. For example, Examples 1 to 16 show that only the first layer was formed as a coating.
また、表１中、「ＮｂＶ層」という表記はバナジウム含有ニオブ層を示し、「ＮｂＶ層（積）」という表記はバナジウム含有ニオブ層が第１層と第２層とを積層した構造であることを示している。表１中、「ＮｂＶ層」および「ＮｂＶ層（積）」以外に記載されている化学式は、硬質被膜層がその化学式で示される化合物によって構成されていることを示す。ただし、実施例１９のように「ＴｉＡｌＮ（５ｎｍ）／ＡｌＣｒＮ（４ｎｍ）」という表記は、硬質被膜層が厚み５ｎｍのＴｉＡｌＮ層と厚み４ｎｍのＡｌＣｒＮ層とを上下交互に積層した超多層（合計厚み２．０μｍ）により構成されることを示している。ここで、ＴｉとＡｌとＮの原子比は０．４４／０．５６／１．０であり、ＡｌとＣｒとＮの原子比は０．６８／０．３２／１．０である。なお、実施例１８の「ＴｉＳｉＮ」の原子比は０．８２／０．１８／１．０であり、実施例２０の「ＡｌＣｒＮＯ」の原子比は０．６８／０．３２／０．７４／０．２６であり、実施例２３の「ＴｉＡｌＮ」の原子比は０．４２／０．６／０．９８である。また、実施例１７の「ＴｉＮ」の原子比は１．０／１．０であり、実施例２１、２２の「ＴｉＣＮ」の原子比は１．０／０．１５／０．８５である。 In Table 1, the notation “NbV layer” indicates a vanadium-containing niobium layer, and the notation “NbV layer (product)” indicates that the vanadium-containing niobium layer has a structure in which the first layer and the second layer are stacked. Is shown. In Table 1, the chemical formulas other than “NbV layer” and “NbV layer (product)” indicate that the hard coating layer is composed of a compound represented by the chemical formula. However, as in Example 19, the notation “TiAlN (5 nm) / AlCrN (4 nm)” is an ultra-multi-layer (total thickness) in which a hard coating layer is alternately stacked with a TiAlN layer with a thickness of 5 nm and an AlCrN layer with a thickness of 4 nm. 2.0 μm). Here, the atomic ratio of Ti, Al, and N is 0.44 / 0.56 / 1.0, and the atomic ratio of Al, Cr, and N is 0.68 / 0.32 / 1.0. The atomic ratio of “TiSiN” in Example 18 is 0.82 / 0.18 / 1.0, and the atomic ratio of “AlCrNO” in Example 20 is 0.68 / 0.32 / 0.74 / The atomic ratio of “TiAlN” in Example 23 is 0.42 / 0.6 / 0.98. The atomic ratio of “TiN” in Example 17 is 1.0 / 1.0, and the atomic ratio of “TiCN” in Examples 21 and 22 is 1.0 / 0.15 / 0.85.
一方、表２は、表１に示されたバナジウム含有ニオブ層に含まれる第１化合物の組成を示している。すなわち、表２中「Ｘ」、「Ｙ」、「Ｚ」とは第１化合物である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY中のＸ、Ｙ、Ｚをそれぞれ示す（「Ｚ」の項に記載されている数値は原子比を示す（それらの数値の合計は「Ｙ」に記載された数値となる）。なお、表２に示された第１化合物の結晶構造が正方晶型であることはＸＲＤ θ／２θ法により確認した。 On the other hand, Table 2 shows the composition of the first compound contained in the vanadium-containing niobium layer shown in Table 1. That is, “X”, “Y”, and “Z” in Table 2 respectively indicate X, Y, and Z in the chemical formula Nb 1-X V X Z Y that is the first compound (described in the section “Z”). (The sum of these values is the value described in “Y.”) The crystal structure of the first compound shown in Table 2 is a tetragonal type. This was confirmed by the XRD θ / 2θ method.
また、表３は、表１において「ＮｂＶ層（積）」と示されたものについて、その第２化合物の組成（第１化合物の組成は上記の表２に示されている）と、第１層および第２層の１層当りの厚みを示している。たとえば、実施例１１のバナジウム含有ニオブ層は、第１化合物として「Ｎｂ0.77Ｖ0.23Ｎ1.0」を含む第１層（厚み６ｎｍ）と第２化合物としてＡｌＣｒＮ（原子比は０．７／０．３／１．０）を含む第２層（厚み８ｎｍ）とを合計厚みが４．０μｍとなるように上下交互に積層した構造を有していることを示している。 Table 3 shows the composition of the second compound (the composition of the first compound is shown in Table 2 above) and the first composition for what is indicated as “NbV layer (product)” in Table 1. The thickness per layer of the layer and the second layer is shown. For example, the vanadium-containing niobium layer of Example 11 has a first layer (thickness 6 nm) containing “Nb 0.77 V 0.23 N 1.0 ” as the first compound and AlCrN as the second compound (atomic ratio is 0.7 / 0.3). /1.0) and a second layer (thickness of 8 nm) are alternately stacked so that the total thickness is 4.0 μm.
また、表４は、比較例を示しており、本発明の規定範囲外となる第１化合物を含むバナジウム含有ニオブ層のみが基材上に形成されたことを示している。 Table 4 shows a comparative example, and shows that only the vanadium-containing niobium layer containing the first compound outside the specified range of the present invention was formed on the substrate.
なお、上記のような各被膜は、全て以下の陰極式アークイオンプレーティング法により形成した。 In addition, all the above coatings were formed by the following cathodic arc ion plating method.
＜陰極式アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）法＞
まず、基材として、グレードがＰ３０（ＪＩＳ Ｂ ４０５３−１９９８）の超硬合金であり、形状がＳＮＧＮ１２０４０８（ＪＩＳ Ｂ ４１２１−１９９８）である切削チップを準備し、これを洗浄した後、陰極式アークイオンプレーティング装置（成膜装置）内の基板取り付け位置にセットした。なお、このような成膜装置としては従来公知の構成のものを特に制限なく使用することができる。
<Cathode-type arc ion plating (AIP) method>
First, as a base material, a cutting tip having a grade of P30 (JIS B 4053-1998) cemented carbide and a shape of SNGN120408 (JIS B 4121-1998) was prepared, washed, and then a cathodic arc. The substrate was set in the ion plating apparatus (deposition apparatus) at the substrate mounting position. As such a film forming apparatus, a conventionally known apparatus can be used without any particular limitation.
そして、真空ポンプにより該装置内を１×１０-4Ｐａ以下に減圧するとともに、該装置内に設置されたヒーターにより上記基材の温度を６５０℃に加熱し、１時間保持した。 And while reducing the inside of this apparatus to 1x10 <-4> Pa or less with a vacuum pump, the temperature of the said base material was heated to 650 degreeC with the heater installed in this apparatus, and it hold | maintained for 1 hour.
次に、アルゴンガスを導入して該装置内の圧力を３．０Ｐａに保持し、基板（基材）バイアス電圧を徐々に上げながら−１５００Ｖとし、基材の表面のクリーニングを１５分間行なった。その後、アルゴンガスを排気した。 Next, argon gas was introduced to maintain the pressure in the apparatus at 3.0 Pa, the substrate (base material) bias voltage was gradually increased to −1500 V, and the surface of the base material was cleaned for 15 minutes. Thereafter, argon gas was exhausted.
次いで、上記基材表面に形成される被膜を、その化学組成が表１および表２に示したものとなるように各対応する元素を含んだ各ターゲットを原料蒸発源（アーク式蒸発源）にセットした（ただし積層構造を有する層の形成については後述する）。基板（基材）温度を５５０〜６５０℃および該装置内の反応ガス圧を４．０Ｐａに設定し、表１および表２に示した化学組成に対応する反応ガスとして、窒素、メタン、酸素のうちから１以上のガスを選択することによりこれを導入した。そして、基板バイアス電圧を−８０Ｖに維持したまま、カソード電極に５０〜１２０Ａのアーク電流を供給し、アーク式蒸発源から金属イオン等を発生させることにより被膜（第１層〜第３層）を形成した。 Next, each target containing each corresponding element is used as a raw material evaporation source (arc evaporation source) so that the chemical composition of the coating film formed on the substrate surface is as shown in Table 1 and Table 2. Set (however, formation of a layer having a laminated structure will be described later). The substrate (base material) temperature was set to 550 to 650 ° C., the reaction gas pressure in the apparatus was set to 4.0 Pa, and the reaction gases corresponding to the chemical compositions shown in Tables 1 and 2 were nitrogen, methane, and oxygen. This was introduced by selecting one or more gases from among them. Then, while maintaining the substrate bias voltage at −80 V, an arc current of 50 to 120 A is supplied to the cathode electrode, and metal ions are generated from the arc evaporation source to form the coating (first to third layers). Formed.
すなわち、アーク式蒸発源から発生した金属イオン、金属元素、またはクラスター等がプラズマ雰囲気中で上記反応ガスと反応することにより、基材上に被膜（第１層〜第３層）が形成（析出）されることになる。なお、反応ガスとしては、最終生成物が窒化物の場合は窒素を選択し、その他の炭窒化物や窒酸化物等の場合は、２種以上の反応ガスを選択して用いた（適宜アルゴン等の雰囲気ガスを併用した）。化学組成に硼素が含まれる場合はターゲットに予め硼素元素を所望量含有させたものを用いた。 That is, metal ions, metal elements, or clusters generated from an arc evaporation source react with the reaction gas in a plasma atmosphere to form a film (first to third layers) on the substrate (deposition). ) Will be. As the reaction gas, nitrogen was selected when the final product was a nitride, and two or more reaction gases were selected and used when other carbonitrides, nitride oxides, etc. Etc.). When boron was included in the chemical composition, a target containing a desired amount of boron element in advance was used.
そして、表１に記載した厚みとなったところでアーク式蒸発源に供給する電流を停止し（２以上の層を形成する場合は順次次の層を形成した後に停止させ）、冷却後該装置内を大気に開放した後、被膜が基材上に形成された表面被覆切削工具を装置から取り出すことにより、本発明の表面被覆切削工具を製造した。 Then, when the thickness shown in Table 1 is reached, the current supplied to the arc evaporation source is stopped (when two or more layers are formed, the current layer is stopped after the next layer is formed), and after cooling the inside of the apparatus Then, the surface-coated cutting tool of the present invention was manufactured by taking out the surface-coated cutting tool having a coating formed on the substrate from the apparatus.
＜積層構造＞
表１において「ＮｂＶ層（積）」と記載されている層も、上記と同様に陰極式アークイオンプレーティング法により形成した。すなわち、第１層を形成するためのターゲット１（組成は表２記載の第１化合物が得られる組成とした）と第２層を形成するためのターゲット２（組成は表３記載の第２化合物が得られる組成とした）とを装置内側壁に同じ高さでセットし、両ターゲットの中間点（装置のほぼ中心部）に基材をセットした。そして、これらのターゲット１とターゲット２とをともに蒸発させながら基材を回転させることにより、基材がターゲット１の正面に位置するときには第１層が形成され、ターゲット２の正面に位置するときには第２層が形成されるようにした。このようにして積層構造を形成することができるが、ターゲットを蒸発させる条件は上記で既に記載した条件と同様の条件を採用した。
<Laminated structure>
The layer described as “NbV layer (product)” in Table 1 was also formed by the cathodic arc ion plating method as described above. That is, the target 1 for forming the first layer (composition is the composition that gives the first compound shown in Table 2) and the target 2 for forming the second layer (the composition is the second compound shown in Table 3) Was set at the same height on the inner wall of the apparatus, and the base material was set at the midpoint between the two targets (substantially at the center of the apparatus). Then, by rotating the base material while evaporating both the target 1 and the target 2, a first layer is formed when the base material is located in front of the target 1, and when the base material is located in front of the target 2, the first layer is formed. Two layers were formed. A laminated structure can be formed in this way, but the conditions for evaporating the target were the same as those already described above.
なお、表１において硬質被膜層として「ＴｉＡｌＮ（５ｎｍ）／ＡｌＣｒＮ（４ｎｍ）」と記載されている層も、上記と同様の条件を採用することにより形成することができる。 In Table 1, the layer described as “TiAlN (5 nm) / AlCrN (4 nm)” as the hard coating layer can also be formed by employing the same conditions as described above.
以上のようにして、表１〜表３に記載した構成の実施例１〜２３の表面被覆切削工具を製造した。これらの実施例の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、この被膜は１以上の層を含み、該層のうち少なくとも１の層は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．１５≦Ｘ≦０．３であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す）で示される第１化合物を含むバナジウム含有ニオブ層であることを特徴とする。なお、上記の実施例の表面被覆切削工具と同様にして比較例１〜３の表面被覆切削工具も製造した。 As described above, the surface-coated cutting tools of Examples 1 to 23 having the configurations described in Tables 1 to 3 were manufactured. The surface-coated cutting tools of these examples comprise a substrate and a coating formed on the substrate, the coating including one or more layers, and at least one of the layers is Chemical formula Nb 1-X V X Z Y where the crystal structure is a tetragonal type (where X and Y represent atomic ratios, X is 0.15 ≦ X ≦ 0.3, and Y is 0.1 ≦ Y ≦ 2, and Z is a vanadium-containing niobium layer containing a first compound represented by the following formula: Z represents at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. And The surface-coated cutting tools of Comparative Examples 1 to 3 were also manufactured in the same manner as the surface-coated cutting tools of the above-described examples.
＜耐摩耗性試験＞
上記のようにして製造された実施例１〜２３の表面被覆切削工具および比較例１〜３の表面被覆切削工具について、以下の切削条件により耐摩耗性試験を実施し、逃げ面摩耗量が０．１５ｍｍとなる時間を測定した。その時間が長いもの程、耐摩耗性に優れていることを示す。その結果を以下の表５に示す。
<Abrasion resistance test>
The surface-coated cutting tools of Examples 1 to 23 and the surface-coated cutting tools of Comparative Examples 1 to 3 manufactured as described above were subjected to an abrasion resistance test under the following cutting conditions, and the flank wear amount was 0. The time to be 15 mm was measured. The longer the time, the better the wear resistance. The results are shown in Table 5 below.
（切削条件−旋削）
被削材：ＳＣＭ４３５丸棒
切削速度：２５０ｍ／ｍｉｎ
切込み：２．０ｍｍ
送り：０．３ｍｍ／ｒｅｖ．
乾式／湿式：乾式
(Cutting conditions-Turning)
Work material: SCM435 round bar Cutting speed: 250m / min
Cutting depth: 2.0mm
Feed: 0.3 mm / rev.
Dry / Wet: Dry
表５より明らかなように、本発明の実施例の表面被覆切削工具は、比較例の表面被覆切削工具に比し、優れた耐摩耗性を示した。 As is apparent from Table 5, the surface-coated cutting tool of the example of the present invention showed excellent wear resistance as compared with the surface-coated cutting tool of the comparative example.
以上のように本発明の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。 Although the embodiments and examples of the present invention have been described as described above, it is also planned from the beginning to appropriately combine the configurations of the above-described embodiments and examples.
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be understood that the embodiments and examples disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
Claims (8)
前記被膜は、１以上の層を含み、
前記層のうち少なくとも１の層は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｎｂ1-XＶXＺY（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．１５≦Ｘ≦０．３であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）で示される第１化合物を含むバナジウム含有ニオブ層である表面被覆切削工具。 A surface-coated cutting tool comprising a substrate and a coating formed on the substrate,
The coating comprises one or more layers;
At least one of the layers has a chemical formula Nb 1-X V X Z Y having a tetragonal crystal structure (where X and Y each indicate an atomic ratio, and X is 0.15 ≦ X ≦ 0. 3 and Y is 0.1 ≦ Y ≦ 2, and Z represents at least one element selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. A surface-coated cutting tool that is a vanadium-containing niobium layer.
前記第２化合物は、Ｓｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、およびＶからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素と、硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とを含む請求項１または２に記載の表面被覆切削工具。 The vanadium-containing niobium layer is formed by laminating one or more layers each including a first layer containing the first compound and a second layer containing a second compound,
The second compound is at least one element selected from the group consisting of Si, Cr, Al, Ti, Hf, Ta, Nb, and V, and at least selected from the group consisting of boron, oxygen, carbon, and nitrogen. The surface-coated cutting tool according to claim 1 or 2, comprising one element.
前記第２層は、その厚みが０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項３記載の表面被覆切削工具。 The first layer has a thickness of 0.5 nm or more and 200 nm or less,
The surface-coated cutting tool according to claim 3, wherein the second layer has a thickness of 0.5 nm to 200 nm.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008050489A JP2009208155A (en) | 2008-02-29 | 2008-02-29 | Surface-coated cutting tool |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008050489A JP2009208155A (en) | 2008-02-29 | 2008-02-29 | Surface-coated cutting tool |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009208155A true JP2009208155A (en) | 2009-09-17 |
Family
ID=41181814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008050489A Withdrawn JP2009208155A (en) | 2008-02-29 | 2008-02-29 | Surface-coated cutting tool |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009208155A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030734A1 (en) | 2009-09-09 | 2011-03-17 | 本田技研工業株式会社 | Vehicle seat stowing device |
| JP2011125985A (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Surface coated cutting tool |
| JP2011125984A (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Surface coated cutting tool |
| JP2012224888A (en) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Toyota Central R&D Labs Inc | Sliding member |
| JP2015027718A (en) * | 2013-06-28 | 2015-02-12 | 住友電気工業株式会社 | Cutting insert with chip breaker, and turning processing method for hardened steel |
| JP2017133064A (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | トーヨーエイテック株式会社 | Hard film |
| JP2019038097A (en) * | 2017-08-24 | 2019-03-14 | 株式会社タンガロイ | Coated cutting tool |
-
2008
- 2008-02-29 JP JP2008050489A patent/JP2009208155A/en not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030734A1 (en) | 2009-09-09 | 2011-03-17 | 本田技研工業株式会社 | Vehicle seat stowing device |
| JP2011125985A (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Surface coated cutting tool |
| JP2011125984A (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | Surface coated cutting tool |
| CN102317016A (en) * | 2009-12-21 | 2012-01-11 | 住友电工硬质合金株式会社 | Surface-coated cutting tool |
| US8685531B2 (en) | 2009-12-21 | 2014-04-01 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Surface-coated cutting tool |
| JP2012224888A (en) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Toyota Central R&D Labs Inc | Sliding member |
| JP2015027718A (en) * | 2013-06-28 | 2015-02-12 | 住友電気工業株式会社 | Cutting insert with chip breaker, and turning processing method for hardened steel |
| JP2017133064A (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | トーヨーエイテック株式会社 | Hard film |
| JP2019038097A (en) * | 2017-08-24 | 2019-03-14 | 株式会社タンガロイ | Coated cutting tool |
| US10814402B2 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Tungaloy Corporation | Coated cutting tool |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5662680B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5172687B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2009034781A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5395454B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5640242B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5483067B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2009208155A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5074772B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP4970886B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5416429B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2009208156A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5417649B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5027491B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP4921984B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2008279563A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5668262B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP5483072B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP4917447B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2009148856A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5267365B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2013233603A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP2007283478A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP2008132564A (en) | Surface-coated cutting tool | |
| JP5640243B2 (en) | Surface coated cutting tool | |
| JP2010115739A (en) | Surface-coated cutting tool |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20110510 |