JP2009199674A

JP2009199674A - Magnetic recording medium and manufacturing method of same

Info

Publication number: JP2009199674A
Application number: JP2008041141A
Authority: JP
Inventors: Koji Matsumoto; 幸治松本; Kazuyuki Ozaki; 一幸尾崎; Takeshi Morikawa; 剛森河
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 2008-02-22
Filing date: 2008-02-22
Publication date: 2009-09-03

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium provided with a soft magnetic layer whose magnetic characteristics is not spoiled by irradiation with ions and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The magnetic recording medium A includes a substrate 1, the soft magnetic layer 2 provided on the substrate 1, a recording layer 5 provided on the soft magnetic layer 2 and having a magnetic part 5a and a non-magnetic part 5b non-magnetized by irradiation with ions and an ion control layer 4 including an element heavier than the ions used for the irradiation with ions between the recording layer 5 and the soft magnetic layer 2. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体とその製造方法に関する。 The present invention relates to a magnetic recording medium used for a hard disk device or the like and a manufacturing method thereof.

ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として磁気記録媒体が知られている。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、磁気記録媒体の高密度化の要求が高まっている。高記録密度化を図るのに好ましい磁気記録媒体としては、たとえばディスクリートトラックメディア(ＤＴＭ)やビットパターンドメディア（ＢＰＭ)が知られている。 A magnetic recording medium is known as a recording medium for constituting a storage device such as a hard disk. With the increase in the amount of information processing in computer systems, there is an increasing demand for higher density magnetic recording media. As a preferable magnetic recording medium for increasing the recording density, for example, discrete track media (DTM) and bit patterned media (BPM) are known.

図１０には、ＤＴＭである従来の磁気記録媒体を断面図で示している。図１０に示す磁気記録媒体Ｘは、基板９１と、基板９１上に積層された軟磁性層９２と、軟磁性層９２上に積層された中間層９３と、中間層９３上に積層された記録層９４と、記録層９４上に積層された保護層９５とを備えている。軟磁性層９２は、記録時等に稼働する磁気ヘッド（図示略）からの磁束を再び当該磁気ヘッドに還流させる磁路を磁気記録媒体Ｘ内に効率よく形成するための層である。この軟磁性層９２は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有するという磁気特性を備えている。中間層９３は、Ｒｕなどからなり、例えば１２ｎｍの厚みを有している。記録層９４は、ＣｏＰｔなどからなり、例えば１０ｎｍの厚みを有し、複数の磁性部９４ａと、複数の磁性部９４ａを互いに離間させる非磁性部９４ｂとによって構成されている。非磁性部９４ｂの形成は、例えば特許文献１に示されているようにイオンを照射することによって行うことができる。複数の磁性部９４ａは、非磁性部９４ｂによって隔てられているので、高密度記録に適した状態となる。 FIG. 10 is a sectional view of a conventional magnetic recording medium that is a DTM. A magnetic recording medium X shown in FIG. 10 includes a substrate 91, a soft magnetic layer 92 stacked on the substrate 91, an intermediate layer 93 stacked on the soft magnetic layer 92, and a recording stacked on the intermediate layer 93. A layer 94 and a protective layer 95 laminated on the recording layer 94 are provided. The soft magnetic layer 92 is a layer for efficiently forming a magnetic path in the magnetic recording medium X that recirculates the magnetic flux from a magnetic head (not shown) operating during recording or the like to the magnetic head again. The soft magnetic layer 92 has a magnetic property of having a high magnetic permeability, a large saturation magnetization, and a small coercive force. The intermediate layer 93 is made of Ru or the like and has a thickness of 12 nm, for example. The recording layer 94 is made of CoPt or the like, has a thickness of, for example, 10 nm, and includes a plurality of magnetic portions 94a and a nonmagnetic portion 94b that separates the plurality of magnetic portions 94a from each other. The formation of the nonmagnetic part 94b can be performed by irradiating ions as shown in Patent Document 1, for example. Since the plurality of magnetic parts 94a are separated by the nonmagnetic part 94b, the magnetic part 94a is in a state suitable for high-density recording.

特開２００７−２２６８６２号公報JP 2007-226862 A

しかしながら、磁気記録媒体Ｘでは、記録層９４にイオンを照射する際に、イオンが中間層９３を通り抜けて軟磁性層９２にまで入り込み、軟磁性層９２の磁気特性が損なわれることがあった。 However, in the magnetic recording medium X, when the recording layer 94 is irradiated with ions, the ions may pass through the intermediate layer 93 and enter the soft magnetic layer 92, and the magnetic characteristics of the soft magnetic layer 92 may be impaired.

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、より好ましい磁気特性を有する軟磁性層を備えた磁気記録媒体およびその製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been conceived under such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium including a soft magnetic layer having more preferable magnetic characteristics and a method for manufacturing the same.

本発明の第１の側面により提供される磁気記録媒体は、基板と、上記基板上に設けられた軟磁性層と、上記軟磁性層上に設けられ、磁性部とイオン照射により非磁性化された非磁性部とを有した記録層と、上記記録層と上記軟磁性層との間には、上記イオン照射に用いられるイオンよりも重い元素を含むイオン制御層と、が設けられていることを要件としている。 The magnetic recording medium provided by the first aspect of the present invention is provided with a substrate, a soft magnetic layer provided on the substrate, and provided on the soft magnetic layer, and is made non-magnetic by ion irradiation with a magnetic part. In addition, a recording layer having a nonmagnetic portion and an ion control layer containing an element heavier than ions used for the ion irradiation are provided between the recording layer and the soft magnetic layer. Is a requirement.

好ましくは、上記記録層と上記イオン制御層との間あるいは上記軟磁性層と上記イオン制御層との間に中間層が設けられており、上記中間層の主成分となる元素は、上記イオン制御層の主成分となる元素よりも軽くなっている。 Preferably, an intermediate layer is provided between the recording layer and the ion control layer or between the soft magnetic layer and the ion control layer, and the element as the main component of the intermediate layer is the ion control. Lighter than the element that is the main component of the layer.

好ましくは、上記イオン制御層は、第６周期の元素を主成分とする。 Preferably, the ion control layer includes a sixth-period element as a main component.

本発明の第２の側面により提供される磁気記録媒体の製造方法は、基板上に軟磁性層を形成する工程と、上記軟磁性層上に所定の元素を主成分とするイオン制御層を形成する工程と、上記イオン制御層上に、磁性材料からなる磁性膜を形成する工程と、上記磁性膜の適所に、上記所定の元素よりも軽いイオンを用いてイオン照射を行って非磁性部を形成する工程と、を有することを要件としている。 A method of manufacturing a magnetic recording medium provided by the second aspect of the present invention includes a step of forming a soft magnetic layer on a substrate, and an ion control layer containing a predetermined element as a main component on the soft magnetic layer. A step of forming a magnetic film made of a magnetic material on the ion control layer, and ion irradiation using ions lighter than the predetermined element at appropriate positions of the magnetic film to form a non-magnetic portion. And a step of forming.

このような磁気記録媒体においては、イオン照射を行った際に、イオンが上記イオン制御層によって制止されるため、上記軟磁性層にイオンが入り込みにくくなっている。このため、上記軟磁性層は、その磁気特性が上記イオンによって変化せずに好ましい状態となる。 In such a magnetic recording medium, when ions are irradiated, ions are restrained by the ion control layer, so that ions do not easily enter the soft magnetic layer. For this reason, the soft magnetic layer is in a preferable state with its magnetic characteristics not being changed by the ions.

本発明のその他の利点および特徴については、以下に行う発明の実施形態の説明から、より明らかとなるであろう。 Other advantages and features of the present invention will become more apparent from the following description of embodiments of the invention.

以下、本発明の好ましい実施形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図１および図２には、本発明に係る磁気記録媒体の一実施形態を示している。図１は、ディスク状の磁気記録媒体Ａの平面図であり、図２は、図１のII-II線に沿う断面図である。 1 and 2 show an embodiment of a magnetic recording medium according to the present invention. 1 is a plan view of a disk-shaped magnetic recording medium A, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.

磁気記録媒体Ａは、基板１、軟磁性層２、中間層３、イオン制御層４、記録層５、および、保護層６を含む積層構造を有し、ビットパターンドメディア（ＢＰＭ)として構成されたものである。 The magnetic recording medium A has a laminated structure including a substrate 1, a soft magnetic layer 2, an intermediate layer 3, an ion control layer 4, a recording layer 5, and a protective layer 6, and is configured as a bit patterned medium (BPM). It is a thing.

基板１は、主に、磁気記録媒体Ａの剛性を確保するための部位であり、例えば、アルミニウム合金、ガラス、または樹脂よりなる。 The substrate 1 is a part for ensuring the rigidity of the magnetic recording medium A, and is made of, for example, an aluminum alloy, glass, or resin.

軟磁性層２は、記録時等に稼働する磁気ヘッド（図示略）からの磁束を再び当該磁気ヘッドに還流させる磁路を磁気記録媒体Ａ内に効率よく形成するための層である。この軟磁性層２は、高透磁率を有して大きな飽和磁化を有するとともに小さな保磁力を有するという磁気特性を備えている。このような磁気特性を備えた軟磁性層２を構成するための軟磁性材料としては、例えば、ＦｅＣ、ＦｅＮｉ、ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＣ、およびＦｅＣｏ−ＡｌＯなどのＦｅを主成分とした材料や、ＣｏＺｒＮｂ、ＣｏＺｒＴａなどのＣｏを主成分とした材料が挙げられる。この軟磁性層２の厚さは例えば２０〜２００ｎｍである。 The soft magnetic layer 2 is a layer for efficiently forming a magnetic path in the magnetic recording medium A that recirculates the magnetic flux from a magnetic head (not shown) operating during recording or the like to the magnetic head again. The soft magnetic layer 2 has a magnetic property of having a high magnetic permeability, a large saturation magnetization, and a small coercive force. Examples of the soft magnetic material for constituting the soft magnetic layer 2 having such magnetic characteristics include, for example, FeC, FeNi, FeCoB, FeCoSiC, and FeCo-AlO as a main component, CoZrNb, Examples thereof include materials containing Co as a main component, such as CoZrTa. The thickness of the soft magnetic layer 2 is, for example, 20 to 200 nm.

中間層３は、所定の非磁性材料を主成分とし、軟磁性層２上に積層されている。上記非磁性材料としては、例えばＲｕが用いられる。この中間層３の厚さは、例えば８ｎｍとされる。 The intermediate layer 3 has a predetermined nonmagnetic material as a main component and is laminated on the soft magnetic layer 2. For example, Ru is used as the nonmagnetic material. The thickness of the intermediate layer 3 is 8 nm, for example.

イオン制御層４は、比較的重い元素からなる非磁性材料を主成分とし、中間層３上に積層されている。上記のように比較的重く、かつ非磁性である元素としては、Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕなどの第６周期元素が挙げられる。また、このイオン制御層４の厚さは、例えば４ｎｍとされる。 The ion control layer 4 has a nonmagnetic material made of a relatively heavy element as a main component and is laminated on the intermediate layer 3. Examples of relatively heavy and nonmagnetic elements as described above include sixth periodic elements such as Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, and Au. The thickness of the ion control layer 4 is, for example, 4 nm.

記録層５は、例えば、所定の磁性材料を主成分とし、イオン制御層４上に５〜３５ｎｍの厚みで積層されており、複数の磁性部５ａおよび非磁性部５ｂを有する。上記所定の磁性材料としては、例えば、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ₂、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｄ、ＳｍＣｏ、ＴｂＦｅＣｏなどの垂直磁気異方性を有する材料を用いることができる。磁性部５ａは、図１に示すように、互いに離間するように形成されている。非磁性部５ｂは、例えばＡｒイオン照射によって非磁性化された部位であり、複数の磁性部５ａ同士の間に形成されている。 The recording layer 5 includes, for example, a predetermined magnetic material as a main component, is laminated on the ion control layer 4 with a thickness of 5 to 35 nm, and has a plurality of magnetic portions 5a and nonmagnetic portions 5b. As the predetermined magnetic material, for example, a material having perpendicular magnetic anisotropy such as CoCrPt—SiO ₂ , FePt, CoPd, SmCo, TbFeCo can be used. As shown in FIG. 1, the magnetic parts 5a are formed so as to be separated from each other. The nonmagnetic part 5b is a part made nonmagnetic by Ar ion irradiation, for example, and is formed between the plurality of magnetic parts 5a.

保護層６は、例えばダイヤモンドライクカーボンを主成分とし、記録層５上に厚さ１〜５ｎｍに積層されている。この保護層６によって、記録層５の磨耗や腐食が防止されている。 The protective layer 6 is mainly composed of diamond-like carbon, for example, and is laminated on the recording layer 5 to a thickness of 1 to 5 nm. The protective layer 6 prevents the recording layer 5 from being worn or corroded.

このような磁気記録媒体Ａの情報記録時には、保護層６に対して記録用の磁気ヘッド（図示略）が浮上配置され、当該磁気ヘッドによる記録磁界の印加によって、磁性部５ａの磁化方向を適宜反転させ、一の磁性部５ａに１ビットの記録を行う。このとき、情報記録進行中であって磁界が印加される磁性部５ａと、これの隣りの磁性部５ａとが、非磁性部５ｂにより分断されているため、当該隣りの磁性部５ａの記録が消失ないし劣化するというクロスライト現象が抑制される。クロスライト現象が抑制される磁気記録媒体は、トラックの狭ピッチ化ないし高記録密度化を図るうえで好ましい。 When recording information on the magnetic recording medium A, a recording magnetic head (not shown) is levitated with respect to the protective layer 6, and the magnetization direction of the magnetic part 5a is appropriately set by applying a recording magnetic field by the magnetic head. The recording is reversed, and 1-bit recording is performed on one magnetic part 5a. At this time, since information recording is in progress and the magnetic part 5a to which a magnetic field is applied and the adjacent magnetic part 5a are divided by the nonmagnetic part 5b, the recording of the adjacent magnetic part 5a is not performed. The cross light phenomenon of disappearance or deterioration is suppressed. A magnetic recording medium in which the cross write phenomenon is suppressed is preferable in order to narrow the track pitch or increase the recording density.

さらに、磁気記録媒体Ａでは、非磁性部５ｂに照射されるＡｒイオンは、イオン制御層４の主成分となる元素よりも軽いため、イオン制御層４を通り抜けにくくなっている。このため、磁気記録媒体Ａでは、軟磁性層２にＡｒイオンが入り込みにくくなっており、軟磁性層２の磁化特性を好ましい状態とすることができる。 Furthermore, in the magnetic recording medium A, Ar ions irradiated to the nonmagnetic portion 5 b are lighter than the element that is the main component of the ion control layer 4, and thus are difficult to pass through the ion control layer 4. For this reason, in the magnetic recording medium A, it is difficult for Ar ions to enter the soft magnetic layer 2, and the magnetization characteristics of the soft magnetic layer 2 can be in a preferable state.

図３〜図７は磁気記録媒体Ａの製造方法を表している。 3 to 7 show a method of manufacturing the magnetic recording medium A.

本方法においては、まず、図３に示すように、基板１上に、軟磁性層２、中間層３、イオン制御層４、および、磁性膜１５を順次積層する。軟磁性層２の形成は、例えばスパッタリング法により、基板１上に上述の軟磁性材料を成膜することによって行うことができる。中間層３の形成は、例えばスパッタリング法により、軟磁性層２上に上述の非磁性材料を成膜することによって行うことができる。イオン制御層４の形成は、例えばスパッタリング法により、中間層３上に上述の比較的重い元素を成膜することによって行うことができる。磁性膜１５は、例えば、全体にわたって垂直磁気異方性を有する垂直磁化膜である。磁性膜１５の形成においては、例えばスパッタリング法により、記録層５に関して上述した磁性材料をイオン制御層４上に成膜する。なお、本製造工程において、基板１およびその上に積層された層構造からなる磁気記録媒体Ａの素体を被加工体１０と呼ぶ。 In this method, first, as shown in FIG. 3, a soft magnetic layer 2, an intermediate layer 3, an ion control layer 4, and a magnetic film 15 are sequentially stacked on a substrate 1. The soft magnetic layer 2 can be formed by depositing the above-described soft magnetic material on the substrate 1 by, for example, a sputtering method. The intermediate layer 3 can be formed by depositing the above-described nonmagnetic material on the soft magnetic layer 2 by, for example, sputtering. The ion control layer 4 can be formed by depositing the above-described relatively heavy element on the intermediate layer 3 by sputtering, for example. The magnetic film 15 is, for example, a perpendicular magnetization film having perpendicular magnetic anisotropy throughout. In forming the magnetic film 15, the magnetic material described above with respect to the recording layer 5 is formed on the ion control layer 4 by, for example, sputtering. In this manufacturing process, the element body of the magnetic recording medium A having the substrate 1 and the layer structure laminated thereon is referred to as a workpiece 10.

本方法においては、次に、図４に示すように、磁性膜１５上にレジスト層７を形成する。レジスト層７の形成は、例えばスピンコート法によって行うことができる。このレジスト層７は、厚さが３０〜３００ｎｍである。 In this method, next, as shown in FIG. 4, a resist layer 7 is formed on the magnetic film 15. The resist layer 7 can be formed by, for example, a spin coat method. The resist layer 7 has a thickness of 30 to 300 nm.

本方法においては、次に、図５に示すように、レジスト層７を加工する。レジスト層７の加工は、例えば予め用意しておいたスタンパ８を用いたナノインプリントによって行われる。この加工によって、レジスト層７には磁性膜１５を露出させる貫通部７ａが形成される。 In this method, next, as shown in FIG. 5, the resist layer 7 is processed. The resist layer 7 is processed by, for example, nanoimprinting using a stamper 8 prepared in advance. By this processing, a through portion 7 a that exposes the magnetic film 15 is formed in the resist layer 7.

本方法においては、次に、図６に示すように、レジスト層７の貫通部７ａから露出する磁性膜１５にイオン照射を行う。この際、市販のイオン注入器を用い、Ａｒイオンを照射する。この工程において、イオンが照射された部分が、磁気記録媒体Ａにおける非磁性部５ｂとなり、レジスト層７に覆われてイオンが照射されない部分は磁性部５ａとなる。また、本工程において、磁性膜１５は記録層５となる。 In this method, next, as shown in FIG. 6, ion irradiation is performed on the magnetic film 15 exposed from the penetrating portion 7 a of the resist layer 7. At this time, Ar ions are irradiated using a commercially available ion implanter. In this step, the portion irradiated with ions becomes the nonmagnetic portion 5b in the magnetic recording medium A, and the portion covered with the resist layer 7 and not irradiated with ions becomes the magnetic portion 5a. In this step, the magnetic film 15 becomes the recording layer 5.

本方法においては、次に、図７に示すように、レジスト層７を除去する。さらに、記録層５の上に保護層６を形成することにより、被加工体１０は、図２に示す磁気記録媒体Ａとなる。保護層６の形成は、ＣＶＤ法を用いてダイヤモンドライクカーボンの薄膜を形成することによって行われる。あるいは、スパッタ法なども用いられる。 In this method, next, as shown in FIG. 7, the resist layer 7 is removed. Furthermore, by forming the protective layer 6 on the recording layer 5, the workpiece 10 becomes the magnetic recording medium A shown in FIG. The protective layer 6 is formed by forming a diamond-like carbon thin film using a CVD method. Alternatively, a sputtering method or the like is also used.

上記の製造方法によると、イオン照射を行う際に、Ａｒイオンが比較的重い元素からなるイオン制御層４によって遮断され、軟磁性層２に入り込みにくくなる。このため、軟磁性層２の磁気特性がイオンによって変化せず、好ましい磁気特性を有する軟磁性層２を得ることができる。 According to the manufacturing method described above, when ion irradiation is performed, Ar ions are blocked by the ion control layer 4 made of a relatively heavy element, and are difficult to enter the soft magnetic layer 2. For this reason, the magnetic characteristics of the soft magnetic layer 2 are not changed by ions, and the soft magnetic layer 2 having preferable magnetic characteristics can be obtained.

図８および図９には、磁性膜にイオン照射を行った際の磁性膜の表面からの深さに沿うイオンの分布をシミュレーションした結果を示している。図８では、磁性膜１５の表面からの深さが０〜２０ｎｍの領域におけるイオンの分布を示している。図９では、磁性膜１５の表面からの深さが２０〜４０ｎｍの領域におけるイオンの分布を示している。このシミュレーションでは、基板１上に厚さ２０ｎｍの軟磁性層２、厚さ８ｎｍの中間層３、厚さ４ｎｍのイオン制御層４、および、厚さ１０ｎｍの磁性膜１５が積層された被加工体１０に１３ＫｅＶのＡｒイオンを照射した場合を想定している。この被加工体１０の中間層３には、Ｒｕが用いられている。図８および図９では、イオン制御層４に、Ｔａ，Ｏｓ，Ｐｔ，Ａｕを用いた場合をそれぞれ示している。さらに、図８および図９では、比較のためにイオン制御層４を設ける代わりに、１２ｎｍのＲｕからなる中間層９３を備えた従来の場合についても示している。 8 and 9 show the simulation results of ion distribution along the depth from the surface of the magnetic film when the magnetic film is irradiated with ions. FIG. 8 shows the ion distribution in a region where the depth from the surface of the magnetic film 15 is 0 to 20 nm. FIG. 9 shows the distribution of ions in a region having a depth of 20 to 40 nm from the surface of the magnetic film 15. In this simulation, a workpiece in which a soft magnetic layer 2 having a thickness of 20 nm, an intermediate layer 3 having a thickness of 8 nm, an ion control layer 4 having a thickness of 4 nm, and a magnetic film 15 having a thickness of 10 nm are stacked on the substrate 1. 10 is assumed to be irradiated with Ar ions of 13 KeV. Ru is used for the intermediate layer 3 of the workpiece 10. 8 and 9 show cases where Ta, Os, Pt, and Au are used for the ion control layer 4, respectively. Further, FIGS. 8 and 9 also show a conventional case in which an intermediate layer 93 made of 12 nm Ru is used instead of providing the ion control layer 4 for comparison.

このシミュレーションは、イオン注入ソルバを用いている。具体的には、フリーソフトウエアであるＳＲＩＭ/ＴＲＩＭ（ HYPERLINK "http://www.srim.org/"）を用いた。 This simulation uses an ion implantation solver. Specifically, SRIM / TRIM (HYPERLINK "http://www.srim.org/"), which is free software, was used.

さらに、上記のシミュレーションの結果を元に、軟磁性層２に入り込むイオンの数を算出した。軟磁性層２は、図９において深さが２２ｎｍより深い領域に相当する。以下に示すイオン数は、従来の場合に軟磁性層９２に入り込むイオン数を１とした場合の数値である。なお、Ｒｕの比重は１２．３であり、Ａｒの比重は１．３８である。 Furthermore, the number of ions entering the soft magnetic layer 2 was calculated based on the simulation results. The soft magnetic layer 2 corresponds to a region having a depth deeper than 22 nm in FIG. The number of ions shown below is a numerical value when the number of ions entering the soft magnetic layer 92 is 1 in the conventional case. The specific gravity of Ru is 12.3, and the specific gravity of Ar is 1.38.

イオン制御層４としてＴａを用いた場合では、軟磁性層２中に入り込むＡｒイオンの数は０．５９となった。なお、Ｔａの比重は１６．６である。 When Ta was used as the ion control layer 4, the number of Ar ions entering the soft magnetic layer 2 was 0.59. The specific gravity of Ta is 16.6.

イオン制御層４としてＯｓを用いた場合では、軟磁性層２中に入り込むＡｒイオンの数は０．４８となった。なお、Ｏｓの比重は２２．６である。 When Os was used as the ion control layer 4, the number of Ar ions entering the soft magnetic layer 2 was 0.48. The specific gravity of Os is 22.6.

イオン制御層４としてＰｔを用いた場合では、軟磁性層２中に入り込むＡｒイオンの数は０．５２となった。なお、Ｐｔの比重は２１．５である。 When Pt was used as the ion control layer 4, the number of Ar ions entering the soft magnetic layer 2 was 0.52. The specific gravity of Pt is 21.5.

イオン制御層４としてＡｕを用いた場合では、軟磁性層２中に入り込むＡｒイオンの数は０．６０となった。なお、Ａｕの比重は１９．３である。 When Au was used as the ion control layer 4, the number of Ar ions entering the soft magnetic layer 2 was 0.60. The specific gravity of Au is 19.3.

以上の結果から、より重い元素からなるイオン制御層４を設けることにより、軟磁性層２に入り込むイオンの数を減らすことが可能であることが一層明確となった。さらに、図９に示すように、従来の場合に比べてイオン制御層４を設けた場合は、Ａｒイオンが軟磁性層２の深くにまで入り込みにくくなっている。 From the above results, it was further clarified that the number of ions entering the soft magnetic layer 2 can be reduced by providing the ion control layer 4 made of heavier elements. Furthermore, as shown in FIG. 9, when the ion control layer 4 is provided as compared with the conventional case, it is difficult for Ar ions to penetrate deep into the soft magnetic layer 2.

イオン制御層４に用いる元素は、少なくともイオン照射に用いられるイオンよりも重い元素であれば、イオンの進行を妨げる効果があるが、上記のようにより重い元素を用いることでより大きな効果を得ることができる。上記の実施形態のように少なくとも従来の中間層よりも重い元素を用いることが好ましい。また、より重い元素を用いれば用いるほど、イオン制御層４の厚みを抑えることが可能となる。 If the element used for the ion control layer 4 is an element heavier than at least the ions used for ion irradiation, it has the effect of hindering the progress of ions, but a greater effect can be obtained by using a heavier element as described above. Can do. It is preferable to use an element heavier than at least a conventional intermediate layer as in the above embodiment. Further, the heavier element is used, the more the thickness of the ion control layer 4 can be suppressed.

さらに、図８に示すように、イオン制御層４を設けている場合は、従来の場合に比べて磁性膜１５表面からの深さが１０ｎｍ以内（磁性膜１５内）にイオンが残り易くなっている。このようにイオン制御層４を設けることによって、照射されるＡｒイオンのうち磁性膜１５内に残るＡｒイオンの数を増加させることができるため、従来よりもイオン照射量を減らしてコストを削減することが可能となる。 Furthermore, as shown in FIG. 8, when the ion control layer 4 is provided, ions are likely to remain within a depth of 10 nm (within the magnetic film 15) from the surface of the magnetic film 15 as compared with the conventional case. Yes. By providing the ion control layer 4 in this way, it is possible to increase the number of Ar ions remaining in the magnetic film 15 among the irradiated Ar ions, thereby reducing the amount of ion irradiation and reducing the cost compared to the conventional case. It becomes possible.

本発明の範囲は上記した実施形態に限定されるものではなく、各請求項に記載した事項の範囲内でのあらゆる変更は本発明の範囲に含まれる。たとえば、上記実施形態においては、イオン制御層が記録層と中間層との間にあるが、イオン制御層が中間層と軟磁性層との間にあっても構わない。 The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and any change within the scope of the matters described in each claim is included in the scope of the present invention. For example, in the above embodiment, the ion control layer is between the recording layer and the intermediate layer, but the ion control layer may be between the intermediate layer and the soft magnetic layer.

なお、上記の実施形態ではイオン照射にＡｒを用いているが、Ａｒ以外にも例えばＮｅなどの比較的に軽い元素のイオンを用いることができる。また、比較的重いＫｒなどを用いた場合でも、第６周期の元素を主成分とするイオン制御層を用いることで本発明の効果を発揮できる。 In the above embodiment, Ar is used for ion irradiation, but ions of relatively light elements such as Ne can be used in addition to Ar. Even when relatively heavy Kr or the like is used, the effect of the present invention can be exhibited by using the ion control layer mainly composed of the element of the sixth period.

また、軟磁性層、中間層、イオン制御層、記録層、および、保護層の厚さは、磁気記録媒体Ａのサイズに応じて適宜設定可能である。 The thicknesses of the soft magnetic layer, the intermediate layer, the ion control layer, the recording layer, and the protective layer can be set as appropriate according to the size of the magnetic recording medium A.

本発明に係る磁気記録媒体の一例を示す平面図である。1 is a plan view showing an example of a magnetic recording medium according to the present invention. 図１のII-II線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the II-II line of FIG. 基板上に積層構造を設ける工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of providing a laminated structure on a board | substrate. レジスト層を設ける工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of providing a resist layer. レジスト層を加工する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of processing a resist layer. イオン照射を行う工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of performing ion irradiation. レジスト層を除去する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of removing a resist layer. 磁性膜にイオン照射を行った際のイオンの分布図である。FIG. 6 is a distribution diagram of ions when ion irradiation is performed on a magnetic film. 磁性膜にイオン照射を行った際のイオンの分布図である。FIG. 6 is a distribution diagram of ions when ion irradiation is performed on a magnetic film. 従来の磁気記録媒体の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the conventional magnetic recording medium.

符号の説明Explanation of symbols

Ａ磁気記録媒体
１基板
２軟磁性層
３中間層
４イオン制御層
５記録層
５ａ磁性部
５ｂ非磁性部
６保護層
７レジスト層
８スタンパ
１０被加工体
１５磁性膜 A Magnetic recording medium 1 Substrate 2 Soft magnetic layer 3 Intermediate layer 4 Ion control layer 5 Recording layer 5a Magnetic portion 5b Nonmagnetic portion 6 Protective layer 7 Resist layer 8 Stamper 10 Workpiece 15 Magnetic film

Claims

基板と、
上記基板上に設けられた軟磁性層と、
上記軟磁性層上に設けられ、磁性部とイオン照射により非磁性化された非磁性部とを有した記録層と、
上記記録層と上記軟磁性層との間には、上記イオン照射に用いられるイオンよりも重い元素を含むイオン制御層と、
が設けられていることを特徴とする、磁気記録媒体。 A substrate,
A soft magnetic layer provided on the substrate;
A recording layer provided on the soft magnetic layer and having a magnetic part and a non-magnetic part made non-magnetic by ion irradiation;
Between the recording layer and the soft magnetic layer, an ion control layer containing an element heavier than the ions used for the ion irradiation,
A magnetic recording medium comprising:

上記記録層と上記イオン制御層との間あるいは上記軟磁性層と上記イオン制御層との間に中間層が設けられており、上記中間層の主成分となる元素は、上記イオン制御層の主成分となる元素よりも軽い、請求項１に記載の磁気記録媒体。 An intermediate layer is provided between the recording layer and the ion control layer or between the soft magnetic layer and the ion control layer, and the element that is the main component of the intermediate layer is the main layer of the ion control layer. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is lighter than an element as a component.

上記イオン制御層は、第６周期の元素を主成分とする、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。 The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the ion control layer contains a sixth-period element as a main component.

基板上に軟磁性層を形成する工程と、
上記軟磁性層上に所定の元素を主成分とするイオン制御層を形成する工程と、
上記イオン制御層上に、磁性材料からなる磁性膜を形成する工程と、
上記磁性膜の適所に、上記所定の元素よりも軽いイオンを用いてイオン照射を行って非磁性部を形成する工程と、を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。 Forming a soft magnetic layer on the substrate;
Forming an ion control layer containing a predetermined element as a main component on the soft magnetic layer;
Forming a magnetic film made of a magnetic material on the ion control layer;
And a step of forming a non-magnetic portion by irradiating ions using ions lighter than the predetermined element at an appropriate position of the magnetic film.