JP2009198525A - Screening apparatus for drug development - Google Patents
Screening apparatus for drug development Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009198525A JP2009198525A JP2008036775A JP2008036775A JP2009198525A JP 2009198525 A JP2009198525 A JP 2009198525A JP 2008036775 A JP2008036775 A JP 2008036775A JP 2008036775 A JP2008036775 A JP 2008036775A JP 2009198525 A JP2009198525 A JP 2009198525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- focus error
- well plate
- optical system
- error signal
- observation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Abstract
Description
本発明は、焦点誤差信号を用いた観察光学系の自動合焦機能を有する創薬スクリーニング装置に関するものである。 The present invention relates to a drug discovery screening apparatus having an automatic focusing function of an observation optical system using a focus error signal.
顕微鏡の対物レンズをアクチュエータで駆動することで、自動的な合焦制御を実行する自動焦点装置が知られている。この装置では、顕微鏡の対物レンズの焦点位置からのずれを検出し、そのずれの検出信号に応じて圧電素子等のアクチュエータにより対物レンズを移動させ、合焦させている。 2. Description of the Related Art An automatic focusing device that performs automatic focusing control by driving an objective lens of a microscope with an actuator is known. In this apparatus, a deviation from the focal position of the objective lens of the microscope is detected, and the objective lens is moved and focused by an actuator such as a piezoelectric element in accordance with the detection signal of the deviation.
このような従来の自動焦点装置を有する創薬スクリーニング装置について、図４のブロック構成図を用いて説明する。
図４において、創薬スクリーニング装置１は、観察光学系１０および焦点誤差検出光学系２０からなる光学系を備えている。
A drug discovery screening apparatus having such a conventional autofocus apparatus will be described with reference to the block diagram of FIG.
In FIG. 4, the drug
光学系は、試料が載置されるウェルプレート５の近傍に配置される対物レンズ１１と、対物レンズ１１を光軸方向に移動させるアクチュエータ１６と、ウェルプレート５側からの光を観察光および焦点誤差検出光に分離する分離手段としてのダイクロイックミラー１２と、ダイクロイックミラー１２を透過した観察光が入射する顕微鏡１３と、焦点誤差検出用光源としてのレーザダイオード２１と、レーザダイオード２１から照射された焦点誤差検出光をウェルプレート５に向けて通過させるレンズ群２２と、焦点誤差検出光を反射させるハーフミラー２３と、ウェルプレート５で反射されハーフミラー２３を通過した焦点誤差検出光が透過するシリンドリカルレンズ２７およびコリメータレンズ２７aと、焦点誤差信号生成手段としての４分割フォトダイオード２５を備えている。
The optical system includes an
上述の構成において、レーザダイオード２１から照射された焦点誤差検出光は、レンズ群２２、ハーフミラー２３、フィルタ２８を通ってダイクロイックミラー１２により反射して、対物レンズ１１を介してウェルプレート５に照射される。
ウェルプレート５で反射された焦点誤差検出光は、対物レンズ１１を介してダイクロイックミラー１２に戻り、ここで分岐してハーフミラー２３を通過して、シリンドリカルレンズ２７を通過し、４分割フォトダイオード２５で受光される。ダイクロイックミラー１２を透過した焦点誤差検出光は顕微鏡１３に入射し、顕微鏡１３においてウェルプレート５に載置された試料の観察像が得られる。
In the above-described configuration, the focus error detection light emitted from the
The focus error detection light reflected by the well plate 5 returns to the dichroic mirror 12 through the
焦点誤差検出光学系２０に設けられたフィルタ２８は、ダイクロイックミラー１２により除去されきれなかったウェルプレート５の側からの観察光を遮断する。
図４においては、フィルタ２８において観察光を遮断し、フィルタ２８を経由した焦点誤差検出光のみが４分割フォトダイオード２５に入射する。
The filter 28 provided in the focus error detection
In FIG. 4, the observation light is blocked by the filter 28, and only the focus error detection light that has passed through the filter 28 enters the
このため、４分割フォトダイオード２５において、観察光の影響を受けない正確な焦点誤差信号を生成することができる。また、観察光の影響を排除することで、焦点誤差検出の感度を向上させることができるので、ウェルプレート５に照射する焦点誤差検出光の光量を低下させることができ、ウェルプレート５上に載置された試料が生細胞である場合などに、試料への悪影響を防止できる。
For this reason, the
図５は、４分割フォトダイオード２５に照射される焦点誤差検出光の投影形状を示して
おり、図５（ａ）は合焦時の形状、図５（ｂ）は焦点が遠い場合の形状、図５（ｃ）は焦
点が近い場合の形状をそれぞれ示している。フォトダイオード２５の領域２５ａの出力
レベルを「Ａ」、領域２５ｂの出力レベルを「Ｂ」、領域２５ｃの出力レベルを「Ｃ」、
領域２５ｄの出力レベルを「Ｄ」とすると、「（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋Ｄ）」を演算すること
で、焦点誤差（フォーカスエラー）検出信号を得ることができる。
FIG. 5 shows the projected shape of the focus error detection light irradiated to the four-divided
If the output level of the
このような自動焦点装置を用いてハイ・コンテンツ・スクリーニング（ＨＣＳ）を行う場合、スクリーニングの過程において、予め培養した細胞を培養液と一緒にウェルプレートにあるウェルに適切な数で分注し、ウェル毎に異なる濃度、または異なる量、または異なる種類の試薬を滴下して、テスト試料を用意しておく。 When performing high content screening (HCS) using such an autofocus device, in the process of screening, dispense a suitable number of pre-cultured cells into the wells in the well plate together with the culture solution, A test sample is prepared by dropping different concentrations, different amounts, or different types of reagents for each well.
そしてこれらの試料に光を用いて励起し、励起された試料から出る蛍光像を、顕微鏡を介してカメラで取り込む。全てのウェルから蛍光画像を取得するため、ＸＹステージでウェルプレートを移動する。カメラで取得した画像に対して画像処理をし、その結果を元に薬の候補になる試料を見出す。画像の画質を高めるため、顕微鏡とカメラの間に共焦点スキャナ４０ａを設置する。 These samples are excited using light, and a fluorescent image emitted from the excited sample is captured by a camera through a microscope. To acquire fluorescent images from all wells, the well plate is moved on the XY stage. Image processing is performed on the image acquired by the camera, and a sample that is a drug candidate is found based on the result. In order to improve the image quality, a confocal scanner 40a is installed between the microscope and the camera.
ウェルプレートには観察試料を収納するウェル穴が格子状に多数形成されているが、ウェルプレートには本質的なたわみがあるため、基本的には一つ一つのウェル穴において以下のような動作を行って合焦を行っている。 The well plate has a number of well holes that store the observation sample in a lattice pattern. However, because the well plate has an inherent deflection, the following operations are basically performed in each well hole. To focus on.
図６（ａ〜ｃ）は焦点位置調整の具体的な合焦の方法を示す図である。
図６（ａ）において、まず１番目のウェル穴で従来技術と同様に、対物レンズをＺ軸方向にスキャンさせ、Ｓ字状の焦点誤差信号を検出し、合焦位置に合わせる。
6A to 6C are diagrams showing a specific focusing method for adjusting the focal position.
In FIG. 6A, the objective lens is first scanned in the Z-axis direction in the first well hole in the same manner as in the prior art, and an S-shaped focus error signal is detected and adjusted to the in-focus position.
図６（ｂ）において、合焦したウェル穴から、ＸＹ軸方向にウェルプレートを移動させ次のウェル穴に移す。移動させるとウェル底面たわみによるＺ方向のずれにより、焦点誤差信号が変位する。
図６（ｃ）において、焦点誤差信号の変位量より、ウェル底面の変位量を計算し、その変位量の分だけ、対物レンズを駆動させ、合焦とする。
In FIG. 6B, the well plate is moved in the XY axis direction from the focused well hole and moved to the next well hole. When moved, the focus error signal is displaced due to the deviation in the Z direction due to the deflection of the bottom of the well.
In FIG. 6C, the displacement amount of the well bottom surface is calculated from the displacement amount of the focus error signal, and the objective lens is driven by the amount of the displacement amount to achieve focusing.
このような創薬スクリーニング装置としては下記の特許文献が知られている。 The following patent documents are known as such drug discovery screening devices.
特開２００５−０９５０１２
特開２００５−１０２６２９
JP 2005-095012 A
JP 2005-102629 A
図７は図４に示す焦点誤差検出装置でレーザ光を用いて焦点誤差信号を検出した場合の模式図を示すものである。図に示すように、底面が所定の厚みを有するガラスのウェルプレートの場合、実際には底面ガラス５ａの下面と上面の両方からの焦点誤差信号が得られる。このときウェルプレートの上面は水（細胞培養液など）とガラスなので境界の屈折率差は小さい。そのため、そこからの反射は小さく焦点誤差信号も小さなものとなる。
これに対して、下面の境界は空気とガラスという、屈折率差の大きいものであるため、焦点誤差信号は大きいものとなる。
FIG. 7 is a schematic diagram when a focus error signal is detected using laser light by the focus error detection apparatus shown in FIG. As shown in the drawing, in the case of a glass well plate having a predetermined thickness at the bottom, focus error signals are actually obtained from both the lower surface and the upper surface of the bottom glass 5a. At this time, since the upper surface of the well plate is water (such as a cell culture solution) and glass, the difference in refractive index between the boundaries is small. Therefore, the reflection from there is small and the focus error signal is also small.
On the other hand, since the boundary between the lower surfaces is a large difference in refractive index between air and glass, the focus error signal is large.
その結果、図７に示すように、上面の焦点誤差信号は下面の反射信号の干渉を受けて、不明瞭になる。さらに、レーザ光の照射部位に細胞５ｂがある場合、乱反射を起こすためノイズの原因となる。 As a result, as shown in FIG. 7, the focus error signal on the upper surface becomes unclear due to the interference of the reflected signal on the lower surface. Further, when the cell 5b is present at the laser beam irradiation site, it causes irregular reflection and causes noise.
以上のことから、スクリーニング動作の際、精度の高い自動合焦を行う場合、底面ガラスの下面に合焦させ、その後、上面付近の観察点まで対物レンズをオフセットさせるという作業が必要である。即ち、はじめに下面に合焦し次に上面付近の観察点までオフセットするという動作をウェルプレートの全ウェルにおいて行わねばならず、スクリーニング動作時間が増加してしまうという問題があった。 From the above, when performing highly accurate automatic focusing during the screening operation, it is necessary to focus on the lower surface of the bottom glass and then offset the objective lens to the observation point near the upper surface. That is, the operation of first focusing on the lower surface and then offsetting to the observation point near the upper surface must be performed in all wells of the well plate, resulting in an increase in screening operation time.
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、一つ一つのウェル穴において、対物レンズをスキャンすることなく、ＨＣＳにおける観察時間を短縮することが可能な創薬スクリーニング装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a drug discovery screening apparatus capable of shortening the observation time in HCS without scanning the objective lens in each well hole. The purpose is to do.
本発明の創薬スクリーニング装置は、請求項１においては、
焦点誤差検出光学系により得られる焦点誤差信号を用いて観察光学系の合焦を行う顕微鏡を備えた創薬スクリーニング装置において、観察対象が配置されたウェルプレートの底部の複数の基準点に前記顕微鏡の焦点を合わせてその基準点における焦点位置の違いから底部全体のたわみプロファイルを予測し、観察対象の観測に際しては前記予測したたわみプロファイル予測値に基づいてフィードフォワード制御を行って前記測定対象の合焦を行うことを特徴とする。
In the drug discovery screening device of the present invention, in
In a drug discovery screening apparatus including a microscope that focuses an observation optical system using a focus error signal obtained by a focus error detection optical system, the microscope is attached to a plurality of reference points at the bottom of a well plate on which an observation target is arranged. The deflection profile of the entire bottom is predicted from the difference in focus position at the reference point, and when observing the observation target, feedforward control is performed based on the predicted deflection profile prediction value to match the measurement target. It is characterized by performing scorching.
請求項２においては、
焦点誤差検出光学系により得られる焦点誤差信号を用いて観察光学系の合焦を行う顕微鏡を備えた創薬スクリーニング装置において、観察対象が配置されたウェルプレートの底部のたわみプロファイルを、焦点誤差信号に基づくフィードバック制御を行うことによって取得し、観察対象の観測に際しては前記実測したたわみプロファイル実測値に基づいてフィードフォワード制御を行って前記測定対象の合焦を行うことを特徴とする。
In
In a drug discovery screening apparatus equipped with a microscope that focuses the observation optical system using the focus error signal obtained by the focus error detection optical system, the deflection error signal at the bottom of the well plate on which the observation target is placed is expressed as the focus error signal. Obtained by performing feedback control based on the above, and in observing the observation target, feed-forward control is performed based on the actually measured deflection profile actual value to focus the measurement target.
請求項３においては、
焦点誤差検出光学系により得られる焦点誤差信号を用いて観察光学系の合焦を行う顕微鏡を備えた創薬スクリーニング装置において、複数の観察対象が配置されたウェルプレートの底部の複数の基準点に前記顕微鏡の焦点を合わせてその基準点における焦点位置の違いから底部全体のたわみプロファイルを予測し、観察対象の観測に際しては前記予測したたわみプロファイル予測値をフィードフォワード要素として、焦点誤差信号に基づくフィードバック制御を行って前記測定対象の合焦を行うことを特徴とする。
In claim 3,
In a drug discovery screening apparatus equipped with a microscope for focusing an observation optical system using a focus error signal obtained by a focus error detection optical system, a plurality of reference points at the bottom of a well plate on which a plurality of observation targets are arranged The deflection profile of the entire bottom is predicted from the difference in focus position at the reference point by focusing the microscope, and feedback based on the focus error signal using the predicted deflection profile prediction value as a feedforward element when observing the observation target Control is performed to focus the measurement object.
請求項４においては、
焦点誤差検出光学系により得られる焦点誤差信号を用いて観察光学系の合焦を行う顕微鏡を備えた創薬スクリーニング装置において、複数の観察対象が配置されたウェルプレートの底部の複数の基準点に前記顕微鏡の焦点を合わせてその基準点における焦点位置の違いから底部全体のたわみプロファイルを予測し、そのたわみプロファイル予測値をフィードフォワード要素として、焦点誤差信号に基づくフィードバック制御を行うことによって、たわみプロファイルを実測し、観察対象の観測に際しては前記実測したたわみプロファイル実測値に基づいてフィードフォワード制御を行って前記測定対象の合焦を行うことを特徴とする。
In claim 4,
In a drug discovery screening apparatus equipped with a microscope for focusing an observation optical system using a focus error signal obtained by a focus error detection optical system, a plurality of reference points at the bottom of a well plate on which a plurality of observation targets are arranged The deflection profile is obtained by focusing the microscope and predicting the deflection profile of the entire bottom from the difference in focal position at the reference point, and performing feedback control based on the focus error signal using the deflection profile prediction value as a feedforward element. When the observation target is observed, feedforward control is performed based on the actually measured deflection profile actual measurement value to focus the measurement target.
本発明の創薬スクリーニング装置によれば、予め、実測もしくは予測したウェルプレートのたわみプロファイルを目標値として対物レンズの位置制御を行うため、各々の測定ウェルについて探索動作およびオフセット動作を行う必要が無い。したがって、スクリーニング動作時間の短縮が期待できる。 According to the drug discovery screening apparatus of the present invention, since the position of the objective lens is controlled in advance using the measured or predicted well profile of the well plate as a target value, there is no need to perform a search operation and an offset operation for each measurement well. . Therefore, shortening of the screening operation time can be expected.
はじめに、ウェルプレート全体におけるＺ変位量を予測する方法について図８を用いて説明する。
この実施例では、ウェルプレートの四隅と４辺の中間および中央部において、対物レンズのＺ軸方向のスキャンを行い、合焦位置におけるアクチュエータのＺ軸駆動量から、ウェルのその点におけるＺ軸座標を求める。この９点のＺ軸座標を元にウェルの曲面を求め、マッピングを行う。観察時には、このマッピングされた座標に基づいて、対物レンズを動かしながら撮影を行う。
First, a method for predicting the amount of Z displacement in the entire well plate will be described with reference to FIG.
In this embodiment, the Z-axis direction scan of the objective lens is performed in the middle and center of the four corners and four sides of the well plate, and the Z-axis coordinates at that point of the well are determined from the Z-axis drive amount of the actuator at the in-focus position. Ask for. Based on these nine Z-axis coordinates, a curved surface of the well is obtained and mapping is performed. At the time of observation, photographing is performed while moving the objective lens based on the mapped coordinates.
図１は本発明の創薬スクリーニング装置の要部を示すブロック構成図である。
１１は対物レンズ、１６はアクチュエータ、３５はメモリであり、ウェルプレートのたわみが推定されたプロファイルが書き込まれている。
FIG. 1 is a block diagram showing the main part of the drug discovery screening apparatus of the present invention.
図１において、アクチュエータ１６によって、メモリ３５に書き込まれているたわみプロファイル予測値の位置に、対物レンズ１１が駆動される。この場合、たわみプロファイルの値には予め図７で説明したＺｏｓ（細胞の）観察点が加算されている。
上述のような構成によりフィードフォワード制御が行われる。
In FIG. 1, the
Feedforward control is performed by the above-described configuration.
観察手順は以下のとおりである。
１）ウェルプレート５のスクリーニング動作前に、そのウェルプレートの複数の箇所において、ウェルプレート５の底面ガラスの下面からの焦点誤差信号が検出されるＺ位置（図７におけるＺ０の位置）を測定する。
２）Ｚ位置の測定結果より、ウェルプレート全体におけるたわみのプロファイルを最小二乗法などにより予測する。
The observation procedure is as follows.
1) Before the screening operation of the well plate 5, measured at a plurality of locations of the well plate, Z position where the focus error signal from the lower surface of the bottom glass-well plate 5 is detected (the position of the Z 0 in FIG. 7) To do.
2) Based on the measurement result of the Z position, a deflection profile in the whole well plate is predicted by the least square method or the like.
３）一つ目の撮影点において、画像処理を用いるなどをして、最適な撮影が行えるＺ位置を探索する。その撮影Ｚ位置と上記２）で作成したプロファイルとのＺ位置の差をＺｏｓとする（図７参照）
４）スクリーニング動作時には、上記２）で作成した予測プロファイルにＺｏｓを加えた位置にフィードフォワード制御を行う。
3) At the first shooting point, a Z position where optimum shooting can be performed is searched by using image processing or the like. The difference in Z position between the photographing Z position and the profile created in 2) above is defined as Zos (see FIG. 7).
4) During the screening operation, feedforward control is performed at a position obtained by adding Zos to the prediction profile created in 2) above.
なお、上記２）で作成した予測プロファイルは、同一ウェルプレートを複数回観察する場合に、繰り返し使用してよい。 Note that the prediction profile created in 2) above may be used repeatedly when observing the same well plate multiple times.
図２（ａ〜ｃ）はフィードバック制御を用いてたわみプロファイルを取得する実施例を示すものである。 2A to 2C show an embodiment in which a deflection profile is acquired using feedback control.
図２において、サーボアンプ３４には焦点誤差目標値と焦点誤差光学系２０で検出した誤差信号が入力される。サーボアンプ３４の出力はアクチュエータ１６に入力され、アクチュエータ１６により対物レンズ１１が駆動される。
In FIG. 2, the focus error target value and the error signal detected by the focus error
即ち、ウェルプレートを次の観察点（ウェル）に駆動させるとき、ウェルプレートのたわみにより、ウェルプレート底面Ｚ０の位置が変位する（外乱）。この変位は焦点誤差光学系２０により検出され、この誤差信号と焦点誤差目標値との差が０になるように、アクチュエータ１６を駆動させる信号が、サーボアンプ３４より出力される。
That is, when driving the well plate to the next observation point (well), the deflection of the well plate, the position of the well plate bottom Z 0 is displaced (disturbance). This displacement is detected by the focus error
この実施例ではウェルプレートのたわみのプロファイルを取得する際、底面ガラスの下面におけるフィードバック制御を用いる方法である。すなわち、底面ガラス下面にサーボをかけた状態でウェルプレート全体をスキャンし、対物レンズの駆動量から、ウェルプレートのたわみの実測プロファイルを得る。そして、スクリーニング動作時は、実測したプロファイルにＺｏｓを加えた位置に図１に示すようなシステムにより、フィードフォワード制御を行う。 In this embodiment, the feedback control on the lower surface of the bottom glass is used when acquiring the deflection profile of the well plate. That is, the entire well plate is scanned with the servo applied to the bottom surface of the bottom glass, and a measured profile of the deflection of the well plate is obtained from the driving amount of the objective lens. During the screening operation, feedforward control is performed by a system as shown in FIG. 1 at a position where Zos is added to the measured profile.
観察手順は次の通りである。
１）対物レンズ１１を任意駆動により図２（ｂ）に示すウェルプレート５の焦点誤差信号のs字範囲内に移動させる。
２）対物レンズ１１をサーボ駆動に切り替え、図２（ｃ）に示すように矢印イ方向に移動させてウェルプレート全体をスキャンし、各測定ウェルにおける、対物レンズ１１の絶対位置を取得し、それを元にウェルプレートのたわみプロファイルを作成する。
The observation procedure is as follows.
1) The
2) The
３）一つ目の撮影点において、画像処理を用いるなどをして、最適な撮影が行えるＺ位置を探索する。その撮影Ｚ位置と上記２）で作成したプロファイルとのＺ位置の差をＺｏｓとする（図７参照）
４）スクリーニング動作時には、上記２）で作成した実測プロファイルにＺｏｓを加えた位置に図１に示すようなシステムにより、フィードフォワード制御を行う。
3) At the first shooting point, a Z position where optimum shooting can be performed is searched by using image processing or the like. The difference in Z position between the photographing Z position and the profile created in 2) above is defined as Zos (see FIG. 7).
4) During the screening operation, feedforward control is performed by a system as shown in FIG. 1 at a position obtained by adding Zos to the actual measurement profile created in 2) above.
なお、上記２）で作成した実測プロファイルは、同一ウェルプレートを複数回観察する場合に、繰り返し使用してよい。 The actual measurement profile created in 2) above may be used repeatedly when observing the same well plate multiple times.
この方法は、たわみのプロファイルを取得するのには時間はかかるものの、そのプロファイルは実測値となるため、より正確な合焦動作を行うことが出来る。 In this method, although it takes time to acquire a deflection profile, the profile becomes an actual measurement value, so that a more accurate focusing operation can be performed.
図３はたわみの予測プロファイルを用いて、フィードフォワード＋フィードバック制御を行う実施例を示すものである。１１は対物レンズ、１６はアクチュエータ、３４はサーボアンプ、３５はメモリであり、ウェルプレートのたわみが推定されたプロファイルが書き込まれている。 FIG. 3 shows an embodiment in which feedforward + feedback control is performed using a deflection prediction profile. 11 is an objective lens, 16 is an actuator, 34 is a servo amplifier, 35 is a memory, and a profile in which the deflection of the well plate is estimated is written.
図３において、サーボアンプ３４には焦点誤差目標値と焦点誤差光学系２０で検出した誤差信号が入力される。サーボアンプ３４の出力にはメモリ３５のたわみプロファイルの推定値が入力され、その出力信号がアクチュエータ１６に入力され、アクチュエータ１６により対物レンズ１１が駆動される。
In FIG. 3, the
即ち、ウェルプレートを次の観察点（ウェル）に駆動させるとき、ウェルプレートのたわみにより、ウェルプレート底面Ｚ０の位置が変位する（外乱）。この変位は焦点誤差光学系２０により検出され、この誤差信号と焦点誤差目標値との差が０になるように、アクチュエータ１６を駆動させる信号が、サーボアンプ３４より出力される。
That is, when driving the well plate to the next observation point (well), the deflection of the well plate, the position of the well plate bottom Z 0 is displaced (disturbance). This displacement is detected by the focus error
この例ではサーボ動作時に、たわみプロファイルを対物レンズのアクチュエータに加えることにより（フィードフォワード制御）、実際のウェルのたわみによる外乱をある程度相殺できるため、より高速にサーボ動作を行うことが出来る。
ただし、基本的に底面ガラスの下面を追従するような制御のため、撮影時にはサーボを切って、図７に示すＺｏｓだけオフセット動作をする必要がある。
In this example, by applying a deflection profile to the actuator of the objective lens during the servo operation (feedforward control), disturbance due to actual well deflection can be offset to some extent, so that the servo operation can be performed at a higher speed.
However, since the control basically follows the bottom surface of the bottom glass, it is necessary to turn off the servo during photographing and perform an offset operation by Zos shown in FIG.
観察手順は以下のとおりである。
１）ウェルプレート５のスクリーニング動作前に、そのウェルプレートの複数の箇所において、ウェルプレート５の底面ガラスの下面からの焦点誤差信号が検出されるＺ位置（図７におけるＺ０の位置）を測定する。
２）Ｚ位置の測定結果より、ウェルプレート全体におけるたわみのプロファイルを最小二乗法などにより予測する。
The observation procedure is as follows.
1) Before the screening operation of the well plate 5, measured at a plurality of locations of the well plate, Z position where the focus error signal from the lower surface of the bottom glass-well plate 5 is detected (the position of the Z 0 in FIG. 7) To do.
2) Based on the measurement result of the Z position, a deflection profile in the whole well plate is predicted by the least square method or the like.
３）対物レンズ１１を任意駆動により図２（ｂ）に示す焦点誤差信号のs字範囲内に移動させる。
４）アクチュエータ１１をサーボ駆動に切り替える。以後のサーボ駆動は、上記の図３に示すような、フィードバック制御とフィードフォワード制御を組み合わせたものである。
3) The
4) Switch the
５）サーボ位置が決定した後、そのときのアクチュエータの絶対位置を記憶し、任意駆動に切り替える。撮影位置までアクチュエータを駆動させ、撮影する。
６）撮影後、上述の５）の位置までアクチュエータを戻し、サーボ駆動に切り替える。
７）次の撮影ウェルまで移動させる（このとき対物レンズはウェルの底面を追従する）
８）以下、５）〜７）を繰り返す。
5) After the servo position is determined, the absolute position of the actuator at that time is stored and switched to arbitrary driving. The actuator is driven to the shooting position to take a picture.
6) After shooting, the actuator is returned to the above-mentioned position 5) and switched to servo drive.
7) Move to the next imaging well (At this time, the objective lens follows the bottom of the well)
8) Repeat steps 5) to 7) below.
なお、上記２）で作成した予測プロファイルは、同一ウェルプレートを複数回観察する場合に、繰り返し使用してよい。 Note that the prediction profile created in 2) above may be used repeatedly when observing the same well plate multiple times.
次に、ウェルたわみのプロファイルの取得時にフィードバック＋フィードフォワード制御を行う実施例について説明する。
この実施例は２段階でたわみプロファイルを取得して、それを元にフィードフォワード制御を行うものである。
Next, an embodiment in which feedback + feedforward control is performed when a well deflection profile is acquired will be described.
In this embodiment, a deflection profile is acquired in two stages, and feedforward control is performed based on the deflection profile.
すなわち、前述の方法により、ウェルプレートたわみの予測プロファイルを取得し、その後、図３に示すシステムにより、予測プロファイルをフィードフォワード要素とした、フィードバック制御を用いてたわみプロファイルを実測する。実測後は実測プロファイルを元にフィードフォワード制御を行う。 That is, a predicted profile of well plate deflection is obtained by the above-described method, and thereafter, the deflection profile is actually measured by feedback control using the predicted profile as a feedforward element by the system shown in FIG. After the actual measurement, feedforward control is performed based on the actual measurement profile.
観察手順は以下のとおりである。
１）ウェルプレートのスクリーニング動作前に、そのウェルプレート５の複数の箇所において、ウェルプレートのたわみ量を測定する。
具体的には、ウェルプレート底面ガラスの下面からの焦点誤差信号が検出されるＺ位置を測定する、
２）上記１）の測定結果より、ウェルプレート全体におけるたわみのプロファイルを最小二乗法などにより予測する。
３）対物レンズ１１を任意駆動により図２（ｂ）に示す焦点誤差信号のs字範囲内に移動させる。
４）対物レンズをサーボ駆動に切り替え、ウェルプレート全体をスキャンし、各測定ウェルにおける、対物レンズの絶対位置を取得し、それを元にウェルプレートのたわみプロファイルを実測する。このときのサーボ駆動は、２）により取得した予測プロファイルをフィードフォワード要素としたフィードバック制御動作である。
５）一つ目の撮影点において、画像処理を用いるなどをして、最適な撮影が行えるＺ位置を探索する。その撮影Ｚ位置と上記２）で求めたプロファイルとのＺ位置の差をＺｏｓとする（図７参照）
６）スクリーニング動作時には、上記４）で実測した実測プロファイルにＺｏｓを加えた位置に図１に示すようなシステムにより、フィードフォワード制御を行う。
図３において、サーボアンプ３４には焦点誤差目標値と焦点誤差光学系２０で検出した誤差信号が入力される。サーボアンプ３４の出力にはメモリ３５のたわみプロファイルの推定値が入力され、その出力信号がアクチュエータ１６に入力され、アクチュエータ１６により対物レンズ１１が駆動される。
The observation procedure is as follows.
1) Before the well plate screening operation, the amount of deflection of the well plate is measured at a plurality of locations on the well plate 5.
Specifically, the Z position where the focus error signal from the lower surface of the well plate bottom glass is detected is measured.
2) Based on the measurement result of 1), the deflection profile in the whole well plate is predicted by the least square method or the like.
3) The
4) Switch the objective lens to servo drive, scan the entire well plate, obtain the absolute position of the objective lens in each measurement well, and actually measure the deflection profile of the well plate based on it. The servo drive at this time is a feedback control operation using the prediction profile acquired in 2) as a feedforward element.
5) At the first shooting point, a Z position where optimum shooting can be performed is searched by using image processing or the like. The difference between the Z position of the photographing Z position and the profile obtained in the above 2) is defined as Zos (see FIG. 7).
6) During the screening operation, feedforward control is performed by a system as shown in FIG. 1 at a position obtained by adding Zos to the actually measured profile measured in 4) above.
In FIG. 3, the
このとき、即ち、ウェルプレートを次の観察点（ウェル）に駆動させるとき、ウェルプレートのたわみにより、ウェルプレート底面Ｚ０の位置が変位する（外乱）。この変位は焦点誤差光学系２０により検出され、この誤差信号と焦点誤差目標値との差が０になるように、アクチュエータ１６を駆動させる信号が、サーボアンプ３４より出力される。
In this case, i.e., when driving the well plate to the next observation point (well), the deflection of the well plate, the position of the well plate bottom Z 0 is displaced (disturbance). This displacement is detected by the focus error
なお、上記２）で作成した実測プロファイルは、同一ウェルプレートを複数回観察する場合に、繰り返し使用してよい。 The actual measurement profile created in 2) above may be used repeatedly when observing the same well plate multiple times.
以上説明したように、本発明の創薬スクリーニング装置によれば、ウェルプレートたわみの予測プロファイルを取得し、その後、フィードバック制御もしくは予測プロファイルをフィードフォワード要素としたフィードバック制御を用いてたわみプロファイルを実測する。その予測もしくは実測したプロファイルに基づいた位置にフィードフォワード制御を行う、もしくは予測プロファイルをフィードフォワード要素としたフィードバック制御を行うものである。各ウェルおいて対物レンズを大きくスキャンする必要がないのでＨＣＳにおける観察時間の短縮化を図ることができる。 As described above, according to the drug discovery screening apparatus of the present invention, a prediction profile of well plate deflection is acquired, and then the deflection profile is actually measured using feedback control or feedback control using the prediction profile as a feedforward element. . Feedforward control is performed at a position based on the predicted or measured profile, or feedback control is performed using the predicted profile as a feedforward element. Since it is not necessary to scan the objective lens greatly in each well, the observation time in HCS can be shortened.
なお、以上の説明は、本発明の説明および例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎない。本発明では創薬スクリーニング装置について説明したが他のスクリーニング装置に用いてもよい。
従って本発明は、上記実施例に限定されることなく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、変形を含むものである。
The above description merely shows a specific preferred embodiment for the purpose of explanation and illustration of the present invention. Although the drug discovery screening apparatus has been described in the present invention, it may be used for other screening apparatuses.
Therefore, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes many changes and modifications without departing from the essence thereof.
３ 制御回路（合焦手段）
４ 焦点調整部（焦点調整手段）
５ ウェルプレート
１０ 観察光学系
１１ 対物レンズ
１２ ダイクロイックミラー
１６ レンズアクチュエータ
２０ 焦点誤差検出光学系（合焦手段）
２１ レーザダイオード
２２ レンズ群
２３ ハーフミラー
２５ ４分割フォトダイオード（焦点誤差信号生成手段）
２７ シリンドリカルレンズ
２８ フィルタ
３４ サーボアンプ
３５ メモリ
４０ カメラ
４０ａ 共焦点スキャナ
3 Control circuit (focusing means)
4 Focus adjustment section (focus adjustment means)
5 Well plate 10 Observation
21 Laser diode 22 Lens group 23
27 Cylindrical lens 28
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008036775A JP4974060B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Drug discovery screening method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008036775A JP4974060B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Drug discovery screening method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009198525A true JP2009198525A (en) | 2009-09-03 |
| JP4974060B2 JP4974060B2 (en) | 2012-07-11 |
Family
ID=41142117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008036775A Active JP4974060B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Drug discovery screening method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4974060B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017145487A1 (en) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 富士フイルム株式会社 | Microscope and observation method |
| JP2018054968A (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | Observation device and method, as well as observation device control program |
| WO2018154924A1 (en) | 2017-02-27 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | Microscopic device, observation method, and control program for microscopic device |
| US10538729B2 (en) | 2014-03-04 | 2020-01-21 | Fujifilm Corporation | Cell imaging control device, method, and program |
| JP2020536266A (en) * | 2018-01-12 | 2020-12-10 | イラミーナ インコーポレーテッド | Real-time controller switching |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167313A (en) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Hitachi Ltd | Automatic focus control method |
| JPH09304703A (en) * | 1996-05-16 | 1997-11-28 | Olympus Optical Co Ltd | Focusing device |
| JPH11231228A (en) * | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Nikon Corp | Microscope system |
| JP2001091846A (en) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Olympus Optical Co Ltd | Microscopic image transferring system |
| JP2005284118A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Automatic focusing control device and automatic focusing control method |
| JP2007248501A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Horon:Kk | Focus adjustment method and focus adjustment device |
| JP2007271979A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Yokogawa Electric Corp | Living thing microscope |
-
2008
- 2008-02-19 JP JP2008036775A patent/JP4974060B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167313A (en) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Hitachi Ltd | Automatic focus control method |
| JPH09304703A (en) * | 1996-05-16 | 1997-11-28 | Olympus Optical Co Ltd | Focusing device |
| JPH11231228A (en) * | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Nikon Corp | Microscope system |
| JP2001091846A (en) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Olympus Optical Co Ltd | Microscopic image transferring system |
| JP2005284118A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Automatic focusing control device and automatic focusing control method |
| JP2007248501A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Horon:Kk | Focus adjustment method and focus adjustment device |
| JP2007271979A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Yokogawa Electric Corp | Living thing microscope |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10538729B2 (en) | 2014-03-04 | 2020-01-21 | Fujifilm Corporation | Cell imaging control device, method, and program |
| WO2017145487A1 (en) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 富士フイルム株式会社 | Microscope and observation method |
| US11029486B2 (en) | 2016-02-26 | 2021-06-08 | Fujifilm Corporation | Microscope and observation method |
| KR102157450B1 (en) | 2016-09-30 | 2020-09-17 | 후지필름 가부시키가이샤 | Observation device and method, observation device control program |
| JP2018054968A (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | Observation device and method, as well as observation device control program |
| WO2018061635A1 (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | Observation device and method, and observation device control program |
| KR20190037334A (en) * | 2016-09-30 | 2019-04-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | An observation apparatus and method, and an observation apparatus control program |
| US10627598B2 (en) | 2016-09-30 | 2020-04-21 | Fujifilm Corporation | Observation device, observation method, and observation device control program |
| WO2018154924A1 (en) | 2017-02-27 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | Microscopic device, observation method, and control program for microscopic device |
| KR20190090871A (en) | 2017-02-27 | 2019-08-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | Microscope device and observation method, microscope device control program |
| US11243386B2 (en) | 2017-02-27 | 2022-02-08 | Fujifilm Corporation | Microscope apparatus, observation method, and microscope apparatus-control program |
| JP2020536266A (en) * | 2018-01-12 | 2020-12-10 | イラミーナ インコーポレーテッド | Real-time controller switching |
| JP7018973B2 (en) | 2018-01-12 | 2022-02-14 | イラミーナ インコーポレーテッド | Real-time controller switching |
| US11412126B2 (en) | 2018-01-12 | 2022-08-09 | Illumina, Inc. | Real time controller switching |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4974060B2 (en) | 2012-07-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101375965B1 (en) | Substrate inspection apparatus and mask inspection apparatus | |
| JP5941395B2 (en) | Image acquisition device and focus method of image acquisition device | |
| JP4121849B2 (en) | Defect inspection apparatus and defect inspection method | |
| KR102317067B1 (en) | Runtime alignment system and method of spot scanning wafer inspection system | |
| ATE314672T1 (en) | HIGH-THROUGHPUT SCREENING MICROSCOPE WITH AUTOFOCUS DEVICE | |
| US20090187378A1 (en) | Depth measurement apparatus and depth measurement method | |
| CN1379459A (en) | Apparatus used for evaluating polycrystalline silicon film | |
| JP4974060B2 (en) | Drug discovery screening method | |
| JP2008146060A (en) | Automatic focus device and method thereof | |
| JP2018516380A (en) | System and method for continuous asynchronous autofocus of optical instruments | |
| JP2005275199A (en) | Three-dimensional confocal microscopic system | |
| JP2012049381A (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
| JP2007271979A (en) | Living thing microscope | |
| TWI574072B (en) | Automatic focusing system and focusing method thereof | |
| KR20070091236A (en) | Defective particle measuring apparatus and defective particle measuring method | |
| JP2008267842A (en) | Organism observation container, biological microscope using the same, and organism observation apparatus | |
| JP2013088570A (en) | Microscope apparatus | |
| CN115576074A (en) | Real-time focusing device and automatic focusing method for semiconductor surface detection | |
| JP4877588B2 (en) | Focus correction method | |
| KR100913508B1 (en) | Confocal three-dimensional scanning apparatus and scanning method for the same | |
| JP4974062B2 (en) | Drug discovery screening method | |
| JP2009282357A (en) | Observation apparatus and observation method | |
| KR20200019386A (en) | Laser processing apparatus | |
| JP2005284118A (en) | Automatic focusing control device and automatic focusing control method | |
| KR101138648B1 (en) | High speed substrate inspection apparatus and method using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100927 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111027 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111220 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120319 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4974060 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120401 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420 Year of fee payment: 3 |