JP2009176888A - Mastering machine and liquid-immersion differential drainage static pressure surfacing pad used in same - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mastering machine using a liquid-immersion differential drainage static pressure surfacing pad not only preventing a liquid from leaking out of a static surfacing pad, but also causing no fluctuation of an irradiated light. <P>SOLUTION: This mastering machine is equipped with a static pressure surfacing pad B having not only a liquid-immersed object lens 111 immersed in a liquid for lens immersion L for irradiating an irradiated light exposably to a moving master 10, but also an exit aperture 112a placed opposite to the master 10 with a fine distance for irradiating an irradiated light to the master through the liquid-immersed object lens 111. The machine also includes: ring-shaped air supplying grooves 114 to 116 formed in a plurality around the exit aperture 112a and on a face 110a of the static pressure surfacing pad B confronted with the master 10 which are opened toward the master 10; and a pressure-regulating means F1 for regulating air pressures of air supplying grooves 114 to 116 so that the air pressures become gradually higher from the air pressure of an air supplying groove in the most inner circumference side to that of an air supplying groove in the most outer circumference side. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば光ディスク等の原盤露光装置及びこれに用いる液浸差動排液静圧浮上パッドに関する。   The present invention relates to a master exposure apparatus such as an optical disk and an immersion differential drainage static pressure floating pad used for the same.

従来、原盤露光装置に用いられているレンズは、原盤表面とレンズ先端の差動距離の間が大気で屈折率は約１である。そのためレンズの開口率(NA:Numerical Aperture)が１を超えることはできない。   Conventionally, a lens used in a master exposure apparatus has a refractive index of about 1 in the atmosphere between the differential distance between the master surface and the lens tip. Therefore, the numerical aperture (NA) of the lens cannot exceed 1.

上記開口率ＮＡを１以上にして、ビーム径をより絞れる高密度露光を可能とする手段の一つとして、原盤表面とレンズ先端のＷＤ（ワークディスタンス）を光の波長以下に短くした近接場露光がある。
しかし、原盤表面とレンズ先端のＷＤ（ワークディスタンス）を光の波長以下に短くした構成では、微細な塵埃の影響を大きく受け（レンズ先端に塵埃が付着し原盤表面へダメージを与える）、高価な高クリーン環境が要求される。
これに対して、レンズと原盤との間に液体（例えば水等）を満たして、集光レンズのＮＡを増大させて液浸レンズとして機能させる方法も開示されている。 As one of means for enabling high-density exposure with an aperture ratio NA of 1 or more and a narrower beam diameter, near-field exposure in which the WD (work distance) on the surface of the master and the tip of the lens is made shorter than the wavelength of light. There is.
However, the structure in which the WD (work distance) between the master surface and the lens tip is made shorter than the wavelength of light is greatly affected by fine dust (the dust tip adheres to the lens tip and damages the master surface) and is expensive. A high clean environment is required.
On the other hand, a method of filling a liquid (for example, water) between the lens and the master and increasing the NA of the condenser lens to function as an immersion lens is also disclosed.

上記特許文献１に開示されている原盤露光装置では、レンズと原盤表面間を満たした液体を撒き散らしながら露光するため、飛散した液体が乾き汚れとなったり、飛散自体が振動発生源となり、精度を劣化させる不都合があった。
そこで本出願人は、特許文献２〜４の中に構成要素として記載され、非接触で高真空を実現することにより電子ビーム露光を可能とした液浸差動排液静圧浮上パッドを液浸露光に適用することを特許文献５において提案した。
特開平１０−２５５３１９号公報 特開２０００−０７６７０７号公報 特開２０００−０７６７０８号公報 特開２００１−２４２３００号公報 特開２００４−３４９６４５号公報 In the master exposure apparatus disclosed in the above-mentioned patent document 1, since the liquid that fills between the lens and the master surface is exposed while being scattered, the scattered liquid becomes dry and dirty, or the splash itself becomes a vibration generation source. There was an inconvenience that deteriorated.
Therefore, the present applicant describes an immersion differential drainage static pressure floating pad which is described as a component in Patent Documents 2 to 4 and enables electron beam exposure by realizing a high vacuum without contact. It has been proposed in Patent Document 5 to be applied to exposure.
JP-A-10-255319 JP 2000-076707 A JP 2000-076708 A JP 2001-242300 A JP 2004-349645 A

上記した特許文献５において説明した液浸差動排液静圧浮上パッド（以下、単に「パッド」ともいう。）では、円形のパッド外周にある多孔質の環状気体静圧軸受部から噴出する気体により、原盤に対して約５μｍの隙間を保ち非接触状態にある。
また、パッド中央にあるレンズの液浸部からこの５μｍの隙間を通して漏れ出してくる液をその周りに同心円上に配した複数の環状吸引溝で回収する機構を採用している。 In the above-described immersion differential drainage static pressure floating pad (hereinafter also simply referred to as “pad”) described in Patent Document 5, gas is ejected from a porous annular gas static pressure bearing portion on the outer periphery of the circular pad. Thus, a gap of about 5 μm is maintained with respect to the master and is in a non-contact state.
Further, a mechanism is adopted in which the liquid leaking from the immersion part of the lens in the center of the pad through the 5 μm gap is collected by a plurality of annular suction grooves arranged concentrically around the liquid.

ところで、上記の液浸部に存在する液体には、分子間力（分子同士が引き合う力）が作用し、この力が液体の表面と内部で異なるために表面張力が生じる。この表面張力の大きな液体は、原盤のような固体表面と接触する場合に固体分子との分子間力が大きいほど良く濡らし、パッドと原盤との隙間に毛細管現象で入り込んでいく。
例えば、水の表面張力は７２．７５×１０−３Ｎ／ｍであり、エタノールやベンゼン等の他の液体と比べて数倍大きい。そのため、水を使った液浸露光においては、スピンドルが回転しパッドと原盤が相対的に高速移動（数ｍ／ｓ程度）するような状況では、パッドの環状吸引溝が複数あっても液体の回収が追いつかずパッド外に漏れ出し、原盤の遠心力で外に飛び散り周囲に散乱するという問題があった。 By the way, an intermolecular force (a force that attracts molecules) acts on the liquid present in the liquid immersion part, and this force is different from the inside of the liquid surface, so that surface tension is generated. When the liquid having a large surface tension comes into contact with a solid surface such as a master, the higher the intermolecular force with the solid molecule, the better the wetness, and the capillarity enters the gap between the pad and the master.
For example, the surface tension of water is 72.75 × 10 −3 N / m, which is several times larger than other liquids such as ethanol and benzene. Therefore, in immersion exposure using water, in a situation where the spindle rotates and the pad and the master disc move relatively fast (about several m / s), even if there are multiple annular suction grooves of the pad, There was a problem that the recovery could not catch up and leaked out of the pad, and it was scattered outside by the centrifugal force of the master and scattered around.

また、パッドと原盤が相対移動しないスピンドル停止状況でも、パッドとの隙間に入り込んだ液体が最内周の吸引溝から常に吸引回収され、パッド中心の液浸部（レンズ部）の液体が減り、常に補充する必要があった。このような液浸レンズ部の水の流れは、気泡の発生による照射光のゆらぎにつながり、露光品質的には無い方が望ましい。   In addition, even in a spindle stop situation where the pad and master do not move relative to each other, the liquid that has entered the gap with the pad is always sucked and collected from the innermost suction groove, reducing the liquid in the liquid immersion part (lens part) at the center of the pad, There was always a need to replenish. It is desirable that such water flow in the immersion lens portion leads to fluctuations in irradiation light due to the generation of bubbles, and is not in terms of exposure quality.

そこで本発明は、レンズ液浸用液が液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との対向領域外に拡散漏出することを防止するとともに、照射光にゆらぎを生じさせない原盤露光装置及びこれに用いる液浸差動排液静圧浮上パッドの提供を目的としている。   Accordingly, the present invention provides a master exposure apparatus that prevents the lens immersion liquid from diffusing and leaking out of the area where the differential immersion liquid static pressure floating pad and the master are opposed to each other and does not cause fluctuations in the irradiation light. The purpose is to provide an immersion differential drainage static pressure floating pad for use in the above.

上記目的を達成するための本発明の原盤露光装置は、レンズ液浸用液に浸漬されて、移動する原盤に照射光を露光可能に照射するための液浸対物レンズを有するとともに、上記原盤との間にレンズ液浸用液を介在させて対向し、かつ、その原盤に液浸対物レンズを介して照射光を照射するための液浸差動排液静圧浮上パッドを備えたものであり、上記液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との間に介在するレンズ液浸用液の周囲に環状に形成した複数の送気溝と、それら各送気溝から送出する気体の圧力を、内周側のものから外周側のものに向けて高くなるように調圧する調圧手段を設けたことを特徴としている。   The master exposure apparatus of the present invention for achieving the above object includes an immersion objective lens that is immersed in a lens immersion liquid and irradiates irradiation light to the moving master so that exposure is possible. It is equipped with an immersion differential drainage static pressure floating pad for irradiating irradiation light through the immersion objective lens with the lens immersion liquid interposed between them. , A plurality of air supply grooves formed annularly around the lens immersion liquid interposed between the immersion differential drainage static pressure floating pad and the master, and the pressure of the gas sent from each of the air supply grooves Is provided with pressure adjusting means for adjusting the pressure from the inner peripheral side toward the outer peripheral side.

同上の目的を達成するための本発明の液浸差動排液静圧浮上パッドは、レンズ液浸用液に浸漬されて、移動する原盤に照射光を露光可能に照射するための液浸対物レンズを有するとともに、上記原盤との間にレンズ液浸用液を介在させて対向し、かつ、その原盤に液浸対物レンズを介して照射光を照射するためのものであり、上記液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との間に介在するレンズ液浸用液の周囲に、上記レンズ液浸用液の外方から内方に向けて気流を生じさせるための送気溝を複数形成したことを特徴としている。   In order to achieve the above object, an immersion differential drainage static pressure floating pad of the present invention is immersed in a lens immersion liquid, and is an immersion objective for irradiating a moving master so that exposure light can be exposed. A lens immersion liquid is interposed between the lens and the master, and the master is irradiated with irradiation light through an immersion objective lens. Around the lens immersion liquid interposed between the dynamic drainage static pressure floating pad and the master, there are a plurality of air supply grooves for generating an air flow from the outside to the inside of the lens immersion liquid. It is characterized by the formation.

本発明によれば、レンズ液浸用液が液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との対向領域外に拡散漏出することを防止するとともに、照射光にゆらぎを生じさせない原盤露光装置及びこれに用いる液浸差動排液静圧浮上パッドを提供できる。   According to the present invention, a master exposure apparatus that prevents the lens immersion liquid from diffusing and leaking out of the area where the immersion differential drainage static pressure flotation pad and the master are opposed to each other, and does not cause fluctuations in the irradiation light, and An immersion differential drainage static pressure floating pad used for this can be provided.

以下に、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る原盤露光装置の概略構成を示す概略ブロック図、図２は、原盤露光装置に用いられる液浸差動排液静圧浮上パッドの底面図、図３は、その液浸差動排液静圧浮上パッドの拡大断面図、図４は、図３に包囲線Ｉで示す部分の拡大図である。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is demonstrated with reference to drawings. 1 is a schematic block diagram showing a schematic configuration of a master exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a bottom view of an immersion differential drainage static pressure floating pad used in the master exposure apparatus. Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view of the immersion differential drainage static pressure floating pad, and Fig. 4 is an enlarged view of a portion indicated by an encircling line I in Fig. 3.

本発明の一実施形態に係る原盤露光装置Ａは、ターンテーブル機構２０、液浸差動排液静圧浮上パッドＢ、レーザー駆動部３０、反射検出機構４０、正圧部５０、負圧部６０、液供給部７０、排液部８０、タンク９０、調圧部１００及び制御部Ｃを有して構成されている。   A master exposure apparatus A according to an embodiment of the present invention includes a turntable mechanism 20, an immersion differential drainage static pressure floating pad B, a laser driving unit 30, a reflection detection mechanism 40, a positive pressure unit 50, and a negative pressure unit 60. The liquid supply unit 70, the drainage unit 80, the tank 90, the pressure regulating unit 100, and the control unit C are configured.

ターンテーブル機構２０は、中心軸線Ｏ１を中心にして回転自在なターンテーブル２１、このターンテーブル２１を回転させるためのスピンドル回転機構２２及び、そのターンテーブル２１を中心軸線Ｏ１を通る直径線（図示しない）上で移動するスライド機構２３を有して構成されており、詳細を後述する制御部Ｃから出力される駆動情報により駆動されるようになっている。   The turntable mechanism 20 includes a turntable 21 that is rotatable about a central axis O1, a spindle rotating mechanism 22 for rotating the turntable 21, and a diameter line (not shown) passing through the central axis O1 through the turntable 21. ) And a slide mechanism 23 that moves upward, and is driven by drive information output from the control unit C, which will be described in detail later.

液浸差動排液静圧浮上パッド（以下、単に「浮上パッド」という。）Ｂは、ターンテーブル２１上に真空吸着された原盤１０に露光可能に照射光であるレーザー光を照射するものであり、その詳細は次のとおりである。
浮上パッドＢは、パッド本体１１０と液浸対物レンズ１１１とを有している。
パッド本体１１０は所要の厚みにした円板形のものであり、これの中心軸線Ｏ２に一致して液浸部１１２を凹陥形成している。 The immersion differential drainage static pressure floating pad (hereinafter simply referred to as “floating pad”) B irradiates the master 10 vacuum-adsorbed on the turntable 21 with laser light that is irradiation light so that exposure is possible. The details are as follows.
The flying pad B includes a pad main body 110 and an immersion objective lens 111.
The pad main body 110 has a disk shape with a required thickness, and a liquid immersion portion 112 is formed in a concave shape so as to coincide with the central axis O2.

液浸部１１２の底部には、液浸対物レンズ１１１を介して導光されたレーザー光２５を原盤１０に照射するための出射孔１１２ａが形成されている。
液浸対物レンズ１１１は、高開口率の対物レンズとして機能するものであり、高屈折率のレンズ液浸用液Ｌによる液浸状態にして液浸部１１２に浸漬収容され、圧電素子やボイスコイルモータ等で構成されるアクチュエータ２４により中心軸線Ｏ２に沿う方向、換言すると、原盤１０に対して接近及び離間する方向で移動されるようになっている。 An exit hole 112 a for irradiating the master 10 with the laser beam 25 guided through the immersion objective lens 111 is formed at the bottom of the immersion part 112.
The immersion objective lens 111 functions as an objective lens having a high aperture ratio, and is immersed in the immersion part 112 in a liquid immersion state with the lens immersion liquid L having a high refractive index. The actuator 24 composed of a motor or the like is moved in a direction along the central axis O2, in other words, in a direction approaching and separating from the master 10.

パッド本体１１０の原盤１０との対向面１１０ａには、これの内周側から外周側に向けて、それぞれ原盤１０に向けて開口した補液溝１１３、３つの送気溝１１６，１１５，１１４、液回収溝１１７、及び液吹上げ用送気溝１１８が中心軸線Ｏ２、従ってまた、出射孔１１２ａを中心として同心円状に形成されている。
そして、液吹上げ用送気溝１１８の外周側に、浮上パッドＢを原盤１０から所要の寸法ｔだけ浮上させるためパッド浮上部１１９が、上記と同じく中心軸線Ｏ２を中心とした円環状に形成されている。
本実施形態においては、上記所要の寸法ｔを５μｍとしているが、これに限るものではない。 On the surface 110a of the pad main body 110 facing the master 10, from the inner peripheral side to the outer peripheral side, the replacement fluid groove 113, the three air supply grooves 116, 115, 114, which are opened toward the master 10, respectively, The recovery groove 117 and the liquid blowing air supply groove 118 are formed concentrically around the central axis O2, and hence the emission hole 112a.
A pad floating portion 119 is formed in an annular shape around the central axis O2 in the same manner as described above in order to allow the floating pad B to float from the master 10 by the required dimension t on the outer peripheral side of the air blowing groove 118 for liquid blowing. Has been.
In the present embodiment, the required dimension t is 5 μm, but is not limited to this.

液吹上げ用送気溝１１８は、液回収溝１１７の開口１１７ｂ（図３参照）に近接して開口されているとともに、その液回収溝１１８の開口に向けて所要の角度に傾斜して形成されている。換言すると、気体を内周側であって原盤１０に向けて送出するように傾斜して形成されている。
また、液回収溝１１７等に比較して小さい断面積（流路断面積）に形成することにより、整流された気体を高速度で噴出できるようにしている。
「所要の角度」は、浮上パッドＢと原盤１０との間のレンズ液浸用液が、その浮上バッドＢの周囲に拡散漏出しないように、そのレンズ液浸用液を液回収溝１１７に漏れなく吹き上げ誘導できる程度に設定している。 The liquid blowing air supply groove 118 is formed close to the opening 117b (see FIG. 3) of the liquid recovery groove 117, and is inclined at a required angle toward the opening of the liquid recovery groove 118. Has been. In other words, it is formed so as to be inclined so as to send the gas toward the master 10 on the inner peripheral side.
Further, by forming the cross-sectional area smaller than that of the liquid recovery groove 117 or the like (flow-path cross-sectional area), the rectified gas can be ejected at a high speed.
The “required angle” indicates that the lens immersion liquid between the floating pad B and the master disk 10 leaks into the liquid recovery groove 117 so that the lens immersion liquid does not diffuse and leak around the floating pad B. It is set to such an extent that it can be guided without blowing.

パッド浮上部１１９は、原盤１０に対して上記した所要の間隔ｔをもって対向させるためのものであり、パッド本体１１０の対向面１１０ａであって、その外縁部に形成された段差１１０ｃの上壁面に、２つの送気用溝１１０ｄ，１１０ｅを上記中心軸線Ｏ２を中心とした円環状に形成するとともに、その段差１１０ｃに円環状の多孔質体１２０を配設した構成のものである。   The pad floating portion 119 is for facing the master 10 with the above-described required interval t, and is a facing surface 110a of the pad main body 110, and on the upper wall surface of the step 110c formed on the outer edge thereof. The two air supply grooves 110d and 110e are formed in an annular shape with the central axis O2 as the center, and the annular porous body 120 is disposed on the step 110c.

パッド本体１１０内には、所要の気体を送気溝１１４，１１５，１１６、１１０ｄ，１１０ｅに送給するための送気路１１４ａ，１１５ａ，１１６ａ、１１０ｆ、レンズ液浸用液を液浸部１１２に送給するための送液路１１２ｂ、レンズ液浸用液を補液溝１１３に送給するための送液路１１３ａ、液回収溝１１７から回収したレンズ液浸用液を排出するための排液路１１７ａ、液吹上げ用送気溝１１８に気体を送給するための送気路１１８ａが形成されている。   In the pad main body 110, air supply passages 114 a, 115 a, 116 a, 110 f for supplying required gas to the air supply grooves 114, 115, 116, 110 d, 110 e, and lens immersion liquid are immersed in the liquid immersion part 112. A liquid feeding path 112b for feeding to the liquid, a liquid feeding path 113a for feeding the lens immersion liquid to the replacement liquid groove 113, and a drain for discharging the lens immersion liquid recovered from the liquid recovery groove 117. An air supply path 118a for supplying gas to the path 117a and the liquid blowing air supply groove 118 is formed.

送気路１１４ａ，１１５ａは、上記送気溝１１４，１１５に一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに開口して形成され、それら各他端には、送気パイプ２００，２０１を介して上記調圧部１００が接続されている。
なお、送気路１１６ａの一端は送気溝１１６に連通され、他端は大気に開放されている。 The air supply passages 114a and 115a have one end communicating with the air supply grooves 114 and 115 and the other end opened to the peripheral wall 110b. The air supply pipes 200 and 201 are respectively connected to the other ends. The pressure regulating unit 100 is connected via the via.
One end of the air supply path 116a communicates with the air supply groove 116, and the other end is open to the atmosphere.

送気路１１８ａは、液吹上げ用送気溝１１８に一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに開口して形成され、その他端には、送気パイプ２０２を介して調圧部１００が接続されている。
送気路１１０ｆは、パッド浮上部１１９の送気溝１１０ｄ，１１０ｅに一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに開口して形成され、その他端には、送気パイプ２０３を介して正圧部５０が接続されている。 The air supply path 118 a has one end communicating with the liquid blowing air supply groove 118 and the other end opened to the peripheral wall 110 b, and the other end is provided with a pressure adjusting unit via an air supply pipe 202. 100 is connected.
The air supply path 110f has one end communicating with the air supply grooves 110d and 110e of the pad floating portion 119 and the other end opened to the peripheral wall 110b, and the other end via an air supply pipe 203. The positive pressure part 50 is connected.

送液路１１２ｂは、上記した液浸部１１２に一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに開口して形成され、その他端には、送液パイプ２０４を介して液供給部７０が接続されている。
送液路１１３ａは、補液溝１１３に一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに開口して形成され、その他端には、送液パイプ２０５を介して液供給部７０が接続されている。
排液路１１７ａは、液回収溝１１７に一端を連通しているとともに、他端を周壁１１０ｂに臨ませて形成され、その他端には送液パイプ２０６を介して排液部８０が接続されている。 The liquid supply path 112b is formed with one end communicating with the liquid immersion section 112 and the other end opened to the peripheral wall 110b, and the liquid supply section 70 is connected to the other end via a liquid supply pipe 204. It is connected.
The liquid supply path 113a is formed with one end communicating with the replacement fluid groove 113 and the other end opened to the peripheral wall 110b, and the other end is connected to the liquid supply unit 70 via the liquid supply pipe 205. Yes.
The drainage path 117a is formed with one end communicating with the liquid recovery groove 117 and the other end facing the peripheral wall 110b. The drainage section 80 is connected to the other end via a liquid feeding pipe 206. Yes.

正圧部５０は、連結パイプ２０７〜２１０を介して液供給部７０、伸縮部１３０、調圧部１００、パッド浮上部１１９にそれぞれ接続されており、圧縮空気（圧縮気体）によって正圧を各部に付与する機能を有している。
負圧部６０は、連結パイプ２１１を介して排液部８０に接続されており、圧縮空気によって負圧を付与する機能を有している。 The positive pressure part 50 is connected to the liquid supply part 70, the expansion / contraction part 130, the pressure adjustment part 100, and the pad floating part 119 via connection pipes 207 to 210, respectively, and the positive pressure is applied to each part by compressed air (compressed gas). It has the function to give to.
The negative pressure part 60 is connected to the drainage part 80 via the connection pipe 211, and has a function of applying a negative pressure with compressed air.

調圧部１００は、上記した各送気溝１１４，１１５，液吹上げ用送気溝１１８の各気圧を互いに独立して調圧するものであり、詳細を後述する制御部Ｃから出力される調圧情報に基づいて機能するようになっている。
具体的には、大気圧となっている送気溝１１６よりも、送気溝１１５，１１４の気圧を高しており、さらには、送気溝１１５よりも送気溝１１４の気圧が高くなるように調圧設定されている。換言すると、各送気溝１１４〜１１６の気圧を、内周側のものから外周側のものに向けて高くなるように調圧しているのである。
調整する各圧力は、制御部Ｃから送出される調圧情報により個別に増減できるようになっているが、予め所定の圧力に設定しておいてもよい。 The pressure adjusting unit 100 adjusts the respective air pressures of the air supply grooves 114 and 115 and the liquid blowing air supply groove 118 independently of each other, and the pressure output from the control unit C described later in detail. It works based on pressure information.
Specifically, the air pressure in the air supply grooves 115 and 114 is higher than the air supply groove 116 that is at atmospheric pressure, and the air pressure in the air supply groove 114 is higher than that in the air supply groove 115. The pressure adjustment is set as follows. In other words, the air pressure in each of the air supply grooves 114 to 116 is adjusted so as to increase from the inner peripheral side toward the outer peripheral side.
Each pressure to be adjusted can be individually increased or decreased by pressure adjustment information sent from the control unit C, but may be set to a predetermined pressure in advance.

液供給部７０は、正圧部５０から圧送される圧縮気体によってレンズ液浸用液を供給する機能を有している。
排液部８０は、負圧部６０により吸圧される圧縮気体によって、液回収溝１１７を通じてレンズ液浸用液Ｌを吸引回収する機能を有している。
タンク９０は、排液部８０によって吸引回収したレンズ液浸用液Ｌを濾過するとともに、一次的に貯留するものである。
伸縮部１３０は、正圧部５０から圧送される圧縮気体により伸縮することにより、基台１３１に対してパッド本体１１０を原盤１０に対して接離する方向に移動させる機能を有している。 The liquid supply unit 70 has a function of supplying the lens immersion liquid with the compressed gas pumped from the positive pressure unit 50.
The drainage part 80 has a function of sucking and collecting the lens immersion liquid L through the liquid recovery groove 117 by the compressed gas sucked by the negative pressure part 60.
The tank 90 filters the lens immersion liquid L sucked and collected by the drainage unit 80 and temporarily stores it.
The expansion / contraction part 130 has a function of moving the pad main body 110 in the direction of contacting / separating the master 10 with respect to the base 131 by expanding / contracting with the compressed gas fed from the positive pressure part 50.

制御部Ｃは、本装置の制御中枢となるものであり、所要のプログラムの実行によって、レーザー駆動部３０、スピンドル回転機構２２、スライド機構２３、正圧部５０、負圧部６０、排液部８０、アクチュエータ２４及び調圧部１００をそれぞれ駆動制御するとともに、反射検出機構４０、液供給部７０、排液部８０からそれぞれ出力される各検出信号によって、レーザー光が合焦状態となるように液浸対物レンズ１１１をアクチュエータ２４により原盤１０に接離する方向で移動させる機能を有している。   The control unit C is a control center of the apparatus, and by executing a required program, the laser driving unit 30, the spindle rotating mechanism 22, the slide mechanism 23, the positive pressure unit 50, the negative pressure unit 60, and the drainage unit. 80, the actuator 24, and the pressure adjusting unit 100 are respectively driven and controlled so that the laser light is brought into focus by the detection signals output from the reflection detection mechanism 40, the liquid supply unit 70, and the drainage unit 80, respectively. It has a function of moving the immersion objective lens 111 in a direction in which it is in contact with or separated from the master 10 by the actuator 24.

本実施形態においては、制御部Ｃ、正圧部５０及び調圧部１００により、各送気溝１１４，１１５の気圧を、内周側のものから外周側のものに向けて高くなるように調圧する調圧手段Ｆ１（図１参照）を構成している。
また、制御部Ｃ、負圧部６０及び排液部８０により、液回収溝１１７を介してレンズ液浸用液Ｌを吸引するための吸引手段Ｆ２（図１参照）を構成している。 In the present embodiment, the control unit C, the positive pressure unit 50, and the pressure adjusting unit 100 adjust the air pressure of each of the air supply grooves 114 and 115 so as to increase from the inner peripheral side toward the outer peripheral side. The pressure adjusting means F1 (refer FIG. 1) to pressurize is comprised.
Further, the control unit C, the negative pressure unit 60, and the drainage unit 80 constitute suction means F2 (see FIG. 1) for sucking the lens immersion liquid L through the liquid recovery groove 117.

以上のように構成された原盤露光装置の動作について、図５〜９を参照して説明する。図５は、原盤露光装置の一連の動作を示すメインフローチャート、図６は、詳細なワーク交換動作を示すサブフローチャートであり、図５のステップＳ１に対応するものである。なお、以下に「ワーク」と呼称しているものは、上記した原盤のことである。   The operation of the master exposure apparatus configured as described above will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a main flowchart showing a series of operations of the master exposure apparatus, and FIG. 6 is a sub-flowchart showing a detailed work exchanging operation, which corresponds to step S1 in FIG. In the following, what is referred to as “work” is the above-mentioned master.

ステップＳ１（図５において単に「Ｓ１」と記す。以下、各図において同様とする）：ターンテーブル２１上に、露光される他のワークがあるか否かを判断し、ワークがあると判断すればステップＳ２に進み、ワークがないと判断すれば処理を終了する。   Step S1 (denoted simply as “S1” in FIG. 5; hereinafter the same applies in each figure): It is determined whether there is another work to be exposed on the turntable 21, and it is determined that there is a work. If it is determined that there is no work, the process ends.

ステップＳ１の詳細な処理内容は、図６に示すとおりである。
ステップＴ１：制御部Ｃは、正圧部５０から伸縮部１３０への圧縮気体の供給を停止して、浮上パッドＢを原盤１０から離間する方向に収縮させる。このとき、スライド機構２３によりターンテーブル２１をワーク交換位置に移動する。
ステップＴ２：露光後のワークを取り除き、露光前の他のワークをターンテーブル２１に真空吸着させて、ステップＴ３に進む。 The detailed processing content of step S1 is as shown in FIG.
Step T <b> 1: The control unit C stops the supply of compressed gas from the positive pressure unit 50 to the expansion / contraction unit 130 and contracts the floating pad B in a direction away from the master 10. At this time, the turntable 21 is moved to the workpiece replacement position by the slide mechanism 23.
Step T2: The workpiece after exposure is removed, the other workpiece before exposure is vacuum-sucked on the turntable 21, and the process proceeds to Step T3.

ステップＴ３：制御部Ｃは、浮上パッドＢを原盤１０から離間させた状態のまま、スライド機構２３によりターンテーブル２１を露光位置に移動してステップＴ４に進む。
ステップＴ４：制御部Ｃは、他のワークがあるか否かを判断し、他のワークがあると判断したときはステップＴ１へ戻り、ステップＴ１〜ステップＴ４の処理及び判断を繰り返し実行し、他のワークがないと判断したときにはステップＳ２に進む。 Step T3: The controller C moves the turntable 21 to the exposure position by the slide mechanism 23 while keeping the floating pad B away from the master 10, and proceeds to Step T4.
Step T4: The control unit C determines whether or not there is another workpiece. When it is determined that there is another workpiece, the control unit C returns to step T1, repeatedly executes the processing and determination of steps T1 to T4, and so on. When it is determined that there is no workpiece, the process proceeds to step S2.

ステップＳ２（図５参照）：制御部Ｃは、正圧部５０から伸縮部１３０に圧縮気体を供給して、浮上パッドＢを原盤１０に近接する方向に伸張させることにより、浮上パッドＢを下降させる。
ステップＳ３：制御部Ｃは、正圧部５０からの圧縮気体をパット浮上部１１９に供給して、浮上パッドＢを原盤１０から離間浮上させる。 Step S2 (see FIG. 5): The control unit C supplies the compressed gas from the positive pressure unit 50 to the expansion / contraction unit 130 and extends the floating pad B in a direction close to the master 10 to lower the floating pad B. Let
Step S <b> 3: The control unit C supplies the compressed gas from the positive pressure unit 50 to the pad floating portion 119 and causes the flying pad B to float away from the master 10.

ステップＳ４：排液部８０によりレンズ液浸用液Ｌを回収することにより、浮上パッドＢを下降させ、その浮上パッドＢとワーク（原盤１０）とを所要の間隔ｔにする。
具体的には、制御部Ｃは、液回収溝１１７から負圧部６０による圧縮気体の吸引と、正圧部５０からパット浮上部１１９への圧縮気体の供給による浮上とがつりあう状態にして、浮上パッドＢが、原盤１０に対して所要の微小間隔（５μｍ）をもって対向するように維持させる。
このとき、送気溝１１４〜１１６の気圧が送気溝の気圧を、内周側のものから外周側のものに向けて高くなるように調圧しているので、浮上パッドＢの対向面１１０ａと原盤１０との間には、外周から内周に向かう気流が生じる。
その気流により、浮上パッドＢの対向面１１０ａと原盤１０との間に介在しているレンズ液浸用液Ｌは、それら浮上パッドＢの対向面１１０ａと原盤１０との対向領域を超えて周囲に拡散することを防止している。 Step S4: The lens immersion liquid L is collected by the drainage unit 80, so that the flying pad B is lowered, and the flying pad B and the work (master 10) are set to a required interval t.
Specifically, the control unit C is in a state where the suction of the compressed gas from the liquid recovery groove 117 by the negative pressure unit 60 and the floating by the supply of the compressed gas from the positive pressure unit 50 to the pad floating portion 119 are balanced. The flying pad B is maintained so as to face the master 10 with a required minute interval (5 μm).
At this time, since the air pressure of the air supply grooves 114 to 116 is adjusted so that the air pressure of the air supply groove increases from the inner peripheral side toward the outer peripheral side, An airflow from the outer periphery toward the inner periphery is generated between the master 10 and the master 10.
Due to the air flow, the lens immersion liquid L interposed between the opposing surface 110a of the floating pad B and the master 10 passes beyond the opposing region of the opposing surface 110a of the floating pad B and the master 10 and is surrounded by the surroundings. Prevents diffusion.

ステップＳ５：吸引状態でレンズ液浸用液Ｌを回収する。具体的には、制御部Ｃは、排液部８０により液回収溝１１７から負圧部６０による圧縮気体の吸引によりレンズ液浸用液Ｌを吸引して排液する。このとき、排液部８０により吸引したレンズ液浸用液をタンク９０に一時的に貯留する。   Step S5: The lens immersion liquid L is collected in the suction state. Specifically, the control unit C sucks and drains the lens immersion liquid L by suction of the compressed gas by the negative pressure unit 60 from the liquid recovery groove 117 by the drainage unit 80. At this time, the lens immersion liquid sucked by the drainage unit 80 is temporarily stored in the tank 90.

図７を参照して、上記ステップＳ４，Ｓ５の詳細な液回収動作について説明する。図７は、ステップＳ４，Ｓ５に対応する詳細なフローチャートである。
ステップＵ１：排液部８０によってレンズ液浸用液Ｌを回収する。具体的には、制御部Ｃは、負圧部６０による圧縮気体の吸引により、排液部８０により液回収溝１１７からレンズ液浸用液Ｌを吸引して排液する。 With reference to FIG. 7, the detailed liquid recovery operation in steps S4 and S5 will be described. FIG. 7 is a detailed flowchart corresponding to steps S4 and S5.
Step U1: The lens immersion liquid L is collected by the drainage unit 80. Specifically, the control unit C sucks and discharges the lens immersion liquid L from the liquid recovery groove 117 by the drainage unit 80 by suction of the compressed gas by the negative pressure unit 60.

液回収溝１１７からレンズ液浸用液を吸引する際、図４に示すように、液吹上げ用送気溝１１８から気体を高速度で吹き付けることにより、浮上パッドＢと原盤１０との間のレンズ液浸用液Ｌを液回収溝１１７に向けて吹き上げ誘導することができる。これにより、レンズ液浸用液Ｌを漏れなく効率よく回収できる。   When sucking the lens immersion liquid from the liquid recovery groove 117, as shown in FIG. 4, by blowing a gas from the liquid blowing air supply groove 118 at a high speed, the gap between the floating pad B and the master 10 is The lens immersion liquid L can be blown up and guided toward the liquid recovery groove 117. Thereby, the lens immersion liquid L can be efficiently recovered without leakage.

ステップＵ２：間隙が５μｍであるか否かを判断し、間隙が５μｍでないと判断したときはステップＵ１へ戻って、ステップＵ１〜Ｕ２の処理及び判断を繰り返し実行し、隙間が５μｍであると判断したときはステップＵ３に進む。   Step U2: It is determined whether or not the gap is 5 μm. When it is determined that the gap is not 5 μm, the process returns to Step U1, and the processes and determinations of Steps U1 and U2 are repeatedly executed to determine that the gap is 5 μm. If so, go to Step U3.

ステップＵ３：回収したレンズ液浸用液をタンク９０に一時的に貯留する。すなわち、制御部Ｃは、排液部８０により液回収溝１１７からレンズ液浸用液Ｌを吸引して、タンク９０に一時的に貯留する。   Step U3: The collected lens immersion liquid is temporarily stored in the tank 90. That is, the controller C sucks the lens immersion liquid L from the liquid recovery groove 117 by the drainage unit 80 and temporarily stores it in the tank 90.

ステップＳ６（図５参照）：液供給部７０によりレンズ液浸用液Ｌを補給する。具体的には、制御部Ｃは、液供給部７０により液浸対物レンズ１１１を収容する液浸部１１２に正圧部５０からの圧縮気体を介してレンズ液浸用液Ｌを供給する。これにより、液浸対物レンズ１１１を、高屈折率のレンズ液浸用液Ｌに浸した液浸状態とすることにより高開口率の対物レンズとして機能する。   Step S <b> 6 (see FIG. 5): The lens immersion liquid L is replenished by the liquid supply unit 70. Specifically, the control unit C supplies the lens immersion liquid L via the compressed gas from the positive pressure unit 50 to the liquid immersion unit 112 containing the immersion objective lens 111 by the liquid supply unit 70. Thereby, the immersion objective lens 111 functions as a high aperture ratio objective lens by being immersed in the high refractive index lens immersion liquid L.

ステップＳ７：対物レンズ１１１を下降させる。具体的には、制御部Ｃは、液浸対物レンズ１１１をアクチュエータ２４により原盤１０に対して接近する方向に移動させる。   Step S7: The objective lens 111 is lowered. Specifically, the control unit C moves the immersion objective lens 111 in the direction approaching the master 10 by the actuator 24.

ステップＳ８：合焦点であるか否かを判断する。合焦点であると判断したときはステップＳ９に進み、また、合焦点でないと判断したときはステップＳ７へ戻って、ステップＳ７，Ｓ８の処理及び判断を繰り返し実行する。   Step S8: It is determined whether or not the focus is achieved. When it is determined that the focus is achieved, the process proceeds to step S9. When it is determined that the focus is not achieved, the process returns to step S7, and the processes and determinations of steps S7 and S8 are repeatedly executed.

図８は、液浸対物レンズ１１３の下降動作を示すフローチャートであり、図５に示すステップＳ７、Ｓ８に対応するものである。
ステップＷ１：制御部Ｃからアクチュエータ２４に駆動信号を送出する。具体的には、制御部Ｃは、アクチュエータ２４に液浸対物レンズ１１１を下降させるための駆動信号を送出する。 FIG. 8 is a flowchart showing the lowering operation of the immersion objective lens 113, and corresponds to steps S7 and S8 shown in FIG.
Step W1: A drive signal is sent from the controller C to the actuator 24. Specifically, the control unit C sends a drive signal for lowering the immersion objective lens 111 to the actuator 24.

ステップＷ２：アクチュエータ２４によって液浸対物レンズ１１１を下降させる。具体的には、アクチュエータ２４が下方に進出することにより液浸対物レンズ１１１を下降させる。
ステップＷ３：制御部Ｃは、レーザー駆動部３０によってフォーカス調整用レーザーを照射する。 Step W2: The immersion objective lens 111 is lowered by the actuator 24. Specifically, the immersion objective lens 111 is lowered as the actuator 24 advances downward.
Step W3: The control unit C irradiates the focus adjustment laser with the laser driving unit 30.

ステップＷ４：制御部Ｃは、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構４０によりレーザー照射光を検出する。
ステップＷ５：制御部Ｃは、合焦点であるか否かを判断する。具体的には、制御部Ｃは、原盤１０に対する反射レーザー照射光の検出機構４０により検出されたレーザー光が合焦点状態であるか否かを判断する。合焦点状態でないと判断したときは、ステップＷ１へ戻って、ステップＷ１〜ステップＷ５の処理及び判断を繰り返し実行する。 Step W4: The control unit C detects the laser irradiation light by the reflected laser irradiation light detection mechanism 40 for the master 10.
Step W5: The control unit C determines whether or not the focus is achieved. Specifically, the control unit C determines whether or not the laser beam detected by the detection mechanism 40 of the reflected laser irradiation light with respect to the master 10 is in a focused state. When it is determined that the in-focus state is not obtained, the process returns to step W1, and the processes and determinations of steps W1 to W5 are repeatedly executed.

ステップＳ９（図５参照）：露光動作を行う。具体的には、制御部Ｃは、浮上パッドＢを用いて、レーザー駆動部３０からのレーザー光２５を介してスピンドル回転機構２２及びスライド機構２３により回転及びスライド移動するターンテーブル１１上の原盤１０に露光を行う。   Step S9 (see FIG. 5): An exposure operation is performed. Specifically, the control unit C uses the flying pad B to rotate and slide the master 10 on the turntable 11 via the spindle rotation mechanism 22 and the slide mechanism 23 via the laser beam 25 from the laser drive unit 30. The exposure is performed.

図９は露光動作を示すフローチャートであり、図５に示すステップＳ９に対応している。
ステップＸ１：レーザー駆動部３０が露光用レーザーを照射する。具体的には、制御部１９は、レーザー駆動部３０により露光用レーザー光を照射させる。
ステップＸ２：スピンドルの回転に応じてスライド機構２３でターンテーブル２１を内周から外周に移動する。
具体的には、制御部Ｃは、浮上パッドＢを用いて、レーザー駆動部３０からのレーザー光２５をスピンドル回転機構２２及びスライド機構２３により回転及びスライド移動するターンテーブル２１上の原盤１０にらせん状に露光するように照射する。
ステップＸ３：露光終了か否かを判断し、露光終了までステップＸ２へ戻って、ステップＸ２，３の処理及び判断を繰り返す。 FIG. 9 is a flowchart showing the exposure operation, and corresponds to step S9 shown in FIG.
Step X1: The laser driving unit 30 irradiates an exposure laser. Specifically, the control unit 19 causes the laser driving unit 30 to irradiate the exposure laser beam.
Step X2: The turntable 21 is moved from the inner periphery to the outer periphery by the slide mechanism 23 according to the rotation of the spindle.
Specifically, the control unit C uses the floating pad B to spiral the laser beam 25 from the laser driving unit 30 to the master 10 on the turntable 21 that is rotated and slid by the spindle rotation mechanism 22 and the slide mechanism 23. Irradiate so as to be exposed in a shape.
Step X3: It is determined whether or not the exposure is completed, the process returns to Step X2 until the exposure is completed, and the processes and determinations of Steps X2 and 3 are repeated.

上述した原盤露光装置Ａ及びこれに用いる液浸差動排液静圧浮上パッドＢによれば、液浸部１１２のレンズ液浸用液の減少（液体の流れ）を無くすことができるので、レーザー光にゆらぎを生じさせることがない。
また、レンズ液浸用液Ｌが液浸差動排液静圧浮上パッドＢと原盤１０との対向領域外に拡散漏出することを防止できる。 According to the above-described master exposure apparatus A and the immersion differential drainage static pressure floating pad B used therefor, it is possible to eliminate the decrease in lens immersion liquid (liquid flow) in the immersion part 112, so that laser Does not cause light fluctuation.
Further, it is possible to prevent the lens immersion liquid L from diffusing and leaking outside the area where the immersion differential drainage static pressure floating pad B and the master 10 are opposed to each other.

なお、本発明は上述した実施形態に限るものではなく、次のような変形実施が可能である。
・上述した実施形態においては、単一の補液溝を形成した例を示しているが、必要に応じて２つ以上形成してもよい。
・上述した実施形態においては、液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との間に介在するレンズ液浸用液の周囲に３つの送気溝を円環状に形成した例について説明したが、円形に限るものではなく、また、形成する数も３つに限らず、適宜増減できるものである。
・上述した実施形態においては、調圧部１００により、上記した各送気溝１１４，１１５，液吹上げ用送気溝１１８の各気圧を調圧する例について説明したが、それを正圧部５０に連結して調圧してもよい。この場合、調圧手段は、制御部Ｃと正圧部５０とにより構成されることになる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and the following modifications can be made.
-In embodiment mentioned above, although the example which formed the single fluid replacement groove | channel is shown, you may form two or more as needed.
In the above-described embodiment, an example in which three air supply grooves are formed in an annular shape around the lens immersion liquid interposed between the immersion differential drainage static pressure floating pad and the master has been described. The number is not limited to a circle, and the number to be formed is not limited to three, and can be increased or decreased as appropriate.
In the above-described embodiment, the example in which the pressure adjusting unit 100 adjusts the air pressure of each of the air supply grooves 114 and 115 and the liquid blowing air supply groove 118 has been described. The pressure may be adjusted by being connected to. In this case, the pressure adjusting means is configured by the control unit C and the positive pressure unit 50.

本発明の一実施形態に係る原盤露光装置の概略構成を示す概略ブロック図である。1 is a schematic block diagram showing a schematic configuration of a master exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 液浸差動排液静圧浮上パッドの底面図である。It is a bottom view of an immersion differential drainage static pressure floating pad. 同上の液浸差動排液静圧浮上パッドの拡大断面図である。It is an expanded sectional view of a liquid immersion differential drainage static pressure floating pad same as the above. 図３に包囲線Ｉで示す部分の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a portion indicated by a surrounding line I in FIG. 3. 一連の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a series of operation | movement. ワーク交換動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows workpiece | work exchange operation | movement. 液回収動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a liquid collection | recovery operation | movement. 液供給動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows liquid supply operation | movement. 露光動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows exposure operation | movement.

符号の説明Explanation of symbols

１０…原盤、１１１…液浸対物レンズ、１１２ａ…出射孔、１１４〜１１６…送気溝、１１７…液吹上げ用送気溝、１１８…液回収溝、１１２…液浸部、１１３…補液溝、Ｂ…静圧浮上パッド、Ｆ１…調圧手段、Ｆ２…排液手段、Ｌ…レンズ液浸用液。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Master disk, 111 ... Liquid immersion objective lens, 112a ... Outlet hole, 114-116 ... Air supply groove, 117 ... Liquid blowing air supply groove, 118 ... Liquid recovery groove, 112 ... Liquid immersion part, 113 ... Replacement liquid groove B ... Static pressure floating pad, F1 ... Pressure adjusting means, F2 ... Draining means, L ... Lens immersion liquid.

Claims (5)

レンズ液浸用液に浸漬されて、移動する原盤に照射光を露光可能に照射するための液浸対物レンズを有するとともに、上記原盤との間にレンズ液浸用液を介在させて対向し、かつ、その原盤に液浸対物レンズを介して照射光を照射するための液浸差動排液静圧浮上パッドを備えた原盤露光装置において、
上記液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との間に介在するレンズ液浸用液の周囲に環状に形成した複数の送気溝と、
上記各送気溝から送出する気体の圧力を、内周側のものから外周側のものに向けて高くなるように調圧する調圧手段とを備えていることを特徴とする原盤露光装置。 The immersion liquid is immersed in the lens immersion liquid, and has a liquid immersion objective lens for irradiating the irradiation light so that the irradiation light can be exposed, and is opposed to the original disk with the lens immersion liquid interposed therebetween, And in the master exposure apparatus provided with the immersion differential drainage static pressure floating pad for irradiating the master with the irradiation light through the immersion objective lens,
A plurality of air supply grooves formed annularly around the lens immersion liquid interposed between the immersion differential drainage static pressure floating pad and the master,
A master exposure apparatus comprising pressure adjusting means for adjusting the pressure of the gas sent from each of the air supply grooves so as to increase from the inner peripheral side toward the outer peripheral side. 上記液浸差動排液静圧浮上パッドには、上記原盤に液浸対物レンズを介して照射光を照射するための出射孔が形成されており、
複数の送気溝を、上記出射孔を中心とした同心円状に形成していることを特徴とする請求項１に記載の原盤露光装置。 The immersion differential drainage static pressure floating pad is formed with an emission hole for irradiating irradiation light to the master through an immersion objective lens,
2. The master exposure apparatus according to claim 1, wherein a plurality of air supply grooves are formed concentrically around the exit hole. 上記送気溝の最外周側に、上記液浸差動排液静圧浮上パッドの原盤との間に介在するレンズ液浸用液を吹き上げるための液吹上げ用送気溝と、
上記液吹上げ用送気溝の内周側に隣接して形成され、吹き上げられたレンズ液浸用液及び液浸差動排液静圧浮上パッドの原盤との間に介在するレンズ液浸用液を吸引回収するための液回収溝と、
上記液回収溝を介してレンズ液浸用液を吸引するための吸引手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の原盤露光装置。 A liquid blowing air supply groove for blowing up lens immersion liquid interposed between the liquid immersion groove and the master of the immersion differential drainage static pressure floating pad on the outermost peripheral side of the air supply groove;
For lens immersion, which is formed adjacent to the inner peripheral side of the liquid blowing air supply groove and is interposed between the blown up lens immersion liquid and the master of the immersion differential drainage static pressure floating pad. A liquid collection groove for sucking and collecting the liquid;
2. The master exposure apparatus according to claim 1, further comprising suction means for sucking the lens immersion liquid through the liquid recovery groove. 上記液浸差動排液静圧浮上パッドには、上記液浸対物レンズをレンズ液浸用液に浸漬しておくための液浸部が形成されており、
上記レンズ液浸用液を上記液浸部に補給するための補液溝が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の原盤露光装置。 The immersion differential drainage static pressure floating pad is formed with an immersion part for immersing the immersion objective lens in a lens immersion liquid,
2. The master exposure apparatus according to claim 1, wherein a liquid replacement groove for supplying the lens immersion liquid to the immersion part is formed. レンズ液浸用液に浸漬されて、移動する原盤に照射光を露光可能に照射するための液浸対物レンズを有するとともに、上記原盤との間にレンズ液浸用液を介在させて対向し、かつ、その原盤に液浸対物レンズを介して照射光を照射するための原盤露光装置に用いる液浸差動排液静圧浮上パッドにおいて、
上記液浸差動排液静圧浮上パッドと原盤との間に介在するレンズ液浸用液の周囲に、
上記レンズ液浸用液の外方から内方に向けて気流を生じさせるための送気溝を複数形成したことを特徴とする原盤露光装置に用いる液浸差動排液静圧浮上パッド。 The immersion liquid is immersed in the lens immersion liquid, and has a liquid immersion objective lens for irradiating the irradiation light so that the irradiation light can be exposed, and is opposed to the original disk with the lens immersion liquid interposed therebetween, And, in the immersion differential drainage static pressure floating pad used in the master exposure apparatus for irradiating the master with irradiation light through the immersion objective lens,
Around the lens immersion liquid interposed between the above-mentioned immersion differential drainage static pressure floating pad and the master,
An immersion differential drainage static pressure floating pad used for a master exposure apparatus, wherein a plurality of air supply grooves for generating an air flow from the outside to the inside of the lens immersion liquid are formed.

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