JP2009173295A - Storing container for glass substrate for recording medium, storing body of glass substrate for recording medium, method for manufacturing glass substrate for recording medium, glass substrate for recording medium, and recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、記録媒体用ガラス基板を収納する収納容器、記録媒体用ガラス基板収納体、記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体に関する。 The present invention relates to a storage container for storing a glass substrate for recording medium, a glass substrate storage body for recording medium, a method for manufacturing a glass substrate for recording medium, a glass substrate for recording medium, and a recording medium.
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム合金基板が広く用いられていた。しかし、アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、記録用ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の情報機器やその他のテレビ等の家庭用機器にも広く使用されていくことが予測されている。 Among recording media having a recording layer utilizing properties such as magnetism, light, and magnetomagnetism, there is a magnetic disk as a representative one. Conventionally, aluminum alloy substrates have been widely used as magnetic disk substrates. However, since aluminum alloys are easily deformed and have insufficient hardness, the smoothness of the substrate surface after polishing cannot be said to be sufficient. Further, when the recording head mechanically contacts the magnetic disk, there is a problem that the magnetic film is easily peeled off from the substrate. Therefore, a glass substrate with little deformation, good smoothness, and high mechanical strength may be widely used not only for portable types but also for stationary information devices and other household devices such as televisions. It is predicted.
このような記録媒体用ガラス基板は、研削処理や研磨処理、化学強化処理、洗浄処理などの複数の工程を経て製造されている。しかし、その製造工程中又はその工程間において、ガラス基板表面に異物が付着することがある。このような異物が記録媒体用ガラス基板表面に存在すると、磁気ディスク、あるいは、磁気ディスクを搭載したハードディスクドライブの信頼性が低下し、クラッシュなどの障害を起こす恐れがある。そのため、記録媒体用ガラス基板の表面は、平滑、且つ、清浄でなければならない。 Such a glass substrate for a recording medium is manufactured through a plurality of processes such as a grinding process, a polishing process, a chemical strengthening process, and a cleaning process. However, foreign matter may adhere to the surface of the glass substrate during the manufacturing process or between the processes. If such foreign matter is present on the surface of the glass substrate for recording media, the reliability of the magnetic disk or the hard disk drive equipped with the magnetic disk is lowered, and there is a possibility of causing a failure such as a crash. Therefore, the surface of the glass substrate for recording media must be smooth and clean.
製造工程中における記録媒体用ガラス基板は、厚みも１ｍｍ以下と薄く、傷を受け易い。そのため、製造の各工程における処理や各工程を経たガラス基板の保管、搬送に際しては、ガラス基板同士が相互に接触したり、あるいは、他のものと接触したりすることによる損傷を受けることがないようにする必要がある。 The glass substrate for recording medium during the manufacturing process is as thin as 1 mm or less and is easily damaged. Therefore, when storing and transporting glass substrates that have undergone processing in each process and each process, the glass substrates are not in contact with each other or damaged due to contact with other objects. It is necessary to do so.
そこで、ガラス基板の保管及び搬送に際しては、複数枚のガラス基板を所定の間隔を隔てて収納保持するための収納容器が提案されている。このような収納容器としては、例えば、特許文献１に記載されているように、上方が開放された収納レーンと、この収納レーンの内壁に形成されガラス基板を収納保持するための複数の溝部とを有するものが提案されている。磁気ディスクの製造においては、このような収納容器を用いて製造された磁気ディスク用ガラス基板上に、スパッタリング成膜等の方法により、磁性層等の薄膜が成膜される。
しかし、特許文献１における収納容器を用いて記録媒体用ガラス基板を製造したところ、ガラス基板の保管、搬送の後にガラス基板表面に異物が付着するという問題が生じた。 However, when a glass substrate for a recording medium was manufactured using the storage container in Patent Document 1, there was a problem that foreign matter adhered to the surface of the glass substrate after storage and transportation of the glass substrate.
従って、本発明が解決しようとする技術課題は、記録媒体用ガラス基板の製造工程において、収納容器に保管、搬送されたガラス基板の表面に異物が付着しない記録媒体用ガラス基板の収容容器、記録媒体用ガラス基板収納体、記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体を提供することである。 Therefore, the technical problem to be solved by the present invention is that in the manufacturing process of the glass substrate for recording medium, the container for recording glass substrate for recording medium in which foreign matter does not adhere to the surface of the glass substrate stored and transported in the storage container, recording It is providing the glass substrate storage body for media, the manufacturing method of the glass substrate for recording media, the glass substrate for recording media, and a recording medium.
上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を有するものである。 In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
１．
外周端部が円弧状のガラス基板を起立した状態で、前記ガラス基板の厚み方向に所定の間隔で支持するための、少なくとも表面が樹脂からなる複数の溝を備えた記録媒体用ガラス基板の収納容器において、
前記溝の断面形状が、曲率半径Ｒ１の円弧状部を有し、該円弧状部で前記ガラス基板の外周端部を支持し、
前記ガラス基板の外周端部の曲率半径をＲ２としたとき、
Ｒ１＞Ｒ２であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の収納容器。
1.
Storage of a glass substrate for a recording medium having a plurality of grooves at least on the surface for supporting at a predetermined interval in the thickness direction of the glass substrate with the glass substrate having an arcuate outer peripheral portion standing upright. In the container,
The cross-sectional shape of the groove has an arc-shaped portion with a radius of curvature R1, and supports the outer peripheral end of the glass substrate with the arc-shaped portion,
When the radius of curvature of the outer peripheral edge of the glass substrate is R2,
A storage container for a glass substrate for a recording medium, wherein R1> R2.
２．
外周端部が円弧状のガラス基板を起立した状態で、前記ガラス基板の厚み方向に所定の間隔で支持するための、少なくとも表面が樹脂からなる複数の溝を備えた記録媒体用ガラス基板の収納容器において、
前記溝の断面形状がＶ字状部を有し、該Ｖ字状部で前記ガラス基板の外周端部を支持し、
前記Ｖ字状の角度θが９０°〜１７０°であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の収納容器。
2.
Storage of a glass substrate for a recording medium having a plurality of grooves at least on the surface for supporting at a predetermined interval in the thickness direction of the glass substrate with the glass substrate having an arcuate outer peripheral portion standing upright. In the container,
The cross-sectional shape of the groove has a V-shaped part, and the V-shaped part supports the outer peripheral end of the glass substrate,
A storage container for a glass substrate for a recording medium, wherein the V-shaped angle θ is 90 ° to 170 °.
３．
前記収納容器における、前記ガラス基板と接触する部分の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下、Ｒｍａｘが５００ｎｍ以下であることを特徴とする１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の収納容器。
3.
3. The storage container for a glass substrate for a recording medium according to 1 or 2, wherein a surface roughness Ra of the portion in contact with the glass substrate in the storage container is 50 nm or less and Rmax is 500 nm or less.
４．
１乃至３の何れか１項に記載の収納容器に、前記ガラス基板を収納し、該ガラス基板を保管することを特徴とする記録媒体用ガラス基板収納体。
4).
A glass substrate storage body for a recording medium, wherein the glass substrate is stored in the storage container according to any one of 1 to 3, and the glass substrate is stored.
５．
ガラス基板を研磨する研磨工程と、該研磨工程の後に前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
４に記載の記録媒体用ガラス基板収納体を、前記洗浄工程後の前記ガラス基板の保管に用いることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
5.
In a method for producing a glass substrate for a recording medium, comprising a polishing step for polishing a glass substrate, and a cleaning step for cleaning the glass substrate after the polishing step.
5. A method for producing a glass substrate for a recording medium, comprising using the glass substrate container for a recording medium according to 4 for storing the glass substrate after the cleaning step.
６．
５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いて製造されることを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
6).
A glass substrate for a recording medium, which is produced using the method for producing a glass substrate for a recording medium according to 5.
７．
６に記載の記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする記録媒体。
7).
6. A recording medium comprising a magnetic film on the surface of the glass substrate for recording medium according to 6.
本発明によれば、ガラス基板の外周端部と収納容器の溝との収納時における接触面積を少なくすることができる。よって、記録媒体用ガラス基板の製造工程において、収納容器に保管、搬送されたガラス基板と収納容器との接触よる微粉や、接触部の摩擦帯電を抑えることができ、ガラス基板表面に異物が付着しない記録媒体用ガラス基板の収納容器、記録媒体用ガラス基板収納体、記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the contact area at the time of accommodation with the outer peripheral edge part of a glass substrate and the groove | channel of a storage container can be decreased. Therefore, in the manufacturing process of the glass substrate for the recording medium, fine powder due to contact between the glass substrate and the storage container stored and transported in the storage container and frictional charging of the contact portion can be suppressed, and foreign matter adheres to the glass substrate surface. It is possible to provide a storage container for a glass substrate for recording medium, a glass substrate storage body for recording medium, a method for manufacturing a glass substrate for recording medium, a glass substrate for recording medium, and a recording medium.
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図１は、本発明の記録媒体用ガラス基板の収納容器を用いた記録媒体用ガラス基板収納体１の一実施形態の全体を示す分解斜視図である。記録媒体用ガラス基板収納体１は、複数のガラス基板１０と、ガラス基板１０を収納する収納容器２０、上蓋２１、上蓋２１に取り付けられ、収納容器２０に収納されたガラス基板１０を固定する固定部材２３からなっている。固定部材２３は、ガラス基板１０の外周端部を抑える抑え板２４を有している。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an entire embodiment of a recording medium glass substrate storage body 1 using a recording medium glass substrate storage container of the present invention. The glass substrate storage body 1 for a recording medium is fixed to a plurality of
収納容器２０は、側板２５、２６と、該側板２５、２６を連結し、Ｕ字形状の開口を持つ連結板２７、２８と、収納容器２０の下部を構成する底板２９からなり、側板２５、２６の内壁には、複数のリブ３０がガラス基板１０の厚みより広い、所定の間隔で形成されている。このように複数のリブ３０を形成することで、ガラス基板１０をその厚み方向に所定の間隔で支持する複数の溝３１を形成している。
The
図２は、収納容器２０にガラス基板１０を収納した状態を連結板２７側から見た側面図である。ガラス基板１０は、互いに対向配置された一対の溝３１に支持されてる。側板２５、２６の内壁の間隔は、上方の開口側は、ガラス基板１０の外径よりわずかに大きく、上方からガラス基板１０を挿入できるようになっている。また、下方の底板２９側に近づくにつれて、側板２５、２６の内壁の間隔は狭くなり、溝３１のＰ１とＰ２でガラス基板１０の外周端部と接触している。
FIG. 2 is a side view of the
図３は、図２における溝３１とガラス基板１０との接触位置Ｐ１で、ガラス基板１０の厚み方向に切断した断面Ａ−Ａの模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram of a cross section AA cut in the thickness direction of the
本発明において、ガラス基板１０の外周端部は、曲率半径Ｒ２の円弧状に加工されている。図３のガラス基板１０の外周端部は、半円弧状に加工されているが、図４に示すように、外周端部の幅Ｈ０のうち、その先端部の幅Ｈ１が曲率半径Ｒ２の円弧状に加工されていれば良く、それ以外の外周端部（Ｈ０−Ｈ１）は、図のように直線状でも、また、放物線状であっても良い。
In the present invention, the outer peripheral end of the
また、収納容器２０の溝３１の断面形状は、曲率半径Ｒ１の円弧状部を有し、該円弧状部でガラス基板１０の外周端部を支持し、ガラス基板１０の外周端部の円弧状部の曲率半径Ｒ２よりも溝の円弧状部分の曲率半径Ｒ１が大きい。また、曲率半径Ｒ１は、Ｒ２＜Ｒ１＜１０・Ｒ２であることが好ましい。Ｒ１がＲ２よりも小さいと、溝の曲率部分で、ガラス基板の外周端部の曲率部分を保持できなくなり、先端部で擦れによる微粉が発生しやすくなる。また、Ｒ２の１０倍よりも大きくなっても、溝の曲率部分で、外周端部が動きやすくなり、微粉が発生しやすく、好ましくない。図３では、溝の曲率部分は、半円状であるが、円弧状部分でガラス基板１０の外周端部を支持できる円弧部分があればよい。
The cross-sectional shape of the
このような構成にすることにより、記録媒体用ガラス基板の製造工程において、ガラス基板１０を保管、搬送する場合、収納容器２０とガラス基板１０の外周端部との接触領域を少なくすることができ、かつ、曲率部分が接することにより、ガラス基板１０の外周端部の破損を防ぐことができる。よって、保管、搬送時に収納容器２０とガラス基板１０との擦れによる発塵を抑え、また、接触部の摩擦帯電を抑制でき、周りの粉塵の吸着を抑えることができる。よって、ガラス基板１０の表面に異物が付着しない記録媒体用ガラス基板収納体を提供することができる。
With such a configuration, when the
なお、本実施形態においては、上蓋２１、固定部材２３が別々の部材となっているが、合体したものであってもよい。また、収納容器２０は、樹脂を主体とする材料であれば良く、金属材料に樹脂被覆したものであっても良い。また、溝の幅Ｂ１は、ガラス基板１０の幅よりも大きければよく、ピッチＢ２も特に限定しない。
In the present embodiment, the
また、別の実施形態としては、図５に示すように、溝３１の断面形状が、Ｖ字状部を有し、該Ｖ字状部で前記ガラス基板１０の外周端部を支持し、Ｖ字状部の角度θが９０°〜１７０°である。溝３１の断面形状以外は、先に説明した実施形態と同様である。角度θが９０°より小さいと、ガラス基板１０が溝３１に食い込んだ状態になり、取り出しにくくなる。また、角度θが１７０°より大きくなるとガラス基板が１０の安定が悪くなり、ガラス基板の外周端部が溝の中で横に動くことにより、微粉が発生する。
As another embodiment, as shown in FIG. 5, the cross-sectional shape of the
また、上記２つの実施形態において、収納容器２０における、ガラス基板１０と接触する部分の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下、Ｒｍａｘが５００ｎｍ以下であることが好ましい。即ち、溝３１を構成する表面（側面３２、底面３３）の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下、Ｒｍａｘが５００ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さＲａが５０ｎｍを越えると、収納容器２０とガラス基板１０との接触により、微粉の発生が多くなり、好ましくない。また、表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であっても、Ｒｍａｘが５００ｎｍを越えても微粉の発生が多くなり、好ましくない。表面粗さは、ＪＩＳのＢ０６０１に規定されおり表面の算術平均粗さＲａ、Ｒｍａｘとして、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定できる。
In the above two embodiments, it is preferable that the surface roughness Ra of the portion in contact with the
本発明に係る収納容器２０を製造するにあたっては、一例として、樹脂成形方法を用いることができる。この樹脂成形工程では、各種ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、テフロン（登録商標）／ＰＴＦＥ等の一般的な樹脂を用いることができる。特に、射出成形法により製造する場合、樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアミド、サーモトロピック液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ＰＥＥＫ系アロイ樹脂（例えば、ＰＥＥＫ／サーモトロピック液晶ポリマー、ＰＥＥＫ／ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）等）、ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂等を用いることができる。また、研削砥石を用いて、所定の形状の溝に作成することもできる。
In manufacturing the
更に、樹脂材料に導電性を付与するのが好ましい。例えば導電性樹脂や導電粒子を含有させることが好ましく、カーボンなどを含有させても良い。また、表面に金属などの導電性材料を塗布したり、蒸着させても良い。樹脂材料に導電性を付与することでガラス基板との接触や、梱包時の梱包材との接触などで生じる収納容器の局部的な帯電を抑えることができ、周辺の異物の吸着を抑えることができ、ガラス表面への異物付着を抑制することができる。 Furthermore, it is preferable to impart conductivity to the resin material. For example, it is preferable to contain conductive resin or conductive particles, and carbon or the like may be contained. Further, a conductive material such as a metal may be applied to the surface or may be deposited. By imparting electrical conductivity to the resin material, local charging of the storage container caused by contact with the glass substrate or contact with the packing material during packing can be suppressed, and adsorption of surrounding foreign objects can be suppressed. It is possible to suppress adhesion of foreign matter to the glass surface.
また、溝部の表面粗さは、研磨を行うことにより所定の粗さにすることができる。具体的には、織布や皮などを用いたバフ研磨を行うのが好ましい。 Further, the surface roughness of the groove can be set to a predetermined roughness by polishing. Specifically, it is preferable to perform buffing using a woven fabric or leather.
次に、本発明の記録媒体用ガラス基板収納体１を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法の一例について説明する。なお、記録媒体用ガラス基板の製造方法は、以下の方法に限るものではなく、本発明の記録媒体用ガラス基板収納体を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法であればよい。 Next, an example of the manufacturing method of the glass substrate for recording media using the glass substrate storage body 1 for recording media of this invention is demonstrated. In addition, the manufacturing method of the glass substrate for recording media is not restricted to the following method, What is necessary is just the manufacturing method of the glass substrate for recording media using the glass substrate storage body for recording media of this invention.
（製造工程）
記録媒体用ガラス基板の製造方法について製造工程順に説明する。図６に、記録媒体用ガラス基板の製造工程の例をフロー図で示す。
（ガラス溶融工程）
まず、ガラス溶融工程として、ガラス素材を溶融する。ガラス基板の材料としては、例えば、ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2系ガラス；Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
（プレス成型工程）
次に、プレス成形工程として、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板状のガラス基板前駆体を得る。なお、円板状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
(Manufacturing process)
The manufacturing method of the glass substrate for recording media is demonstrated in order of a manufacturing process. FIG. 6 is a flowchart showing an example of the manufacturing process of the recording medium glass substrate.
(Glass melting process)
First, a glass material is melted as a glass melting step. As a material of the glass substrate, for example, soda lime glass mainly composed of SiO 2 , Na 2 O, CaO; mainly composed of SiO 2 , Al 2 O 3 , R 2 O (R = K, Na, Li) Aluminosilicate glass; borosilicate glass; Li 2 O—SiO 2 glass; Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 glass; R′O—Al 2 O 3 —SiO 2 glass (R ′ = Mg) , Ca, Sr, Ba) and the like can be used. Among these, aluminosilicate glass and borosilicate glass are particularly preferable because they are excellent in impact resistance and vibration resistance.
(Press molding process)
Next, as a press molding step, molten glass is poured into the lower mold and press molded with the upper mold to obtain a disk-shaped glass substrate precursor. The disc-shaped glass substrate precursor may be produced by cutting a sheet glass formed by, for example, a downdraw method or a float method with a grinding stone, without using press molding.
ガラス基板の大きさに限定はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど種々の大きさのガラス基板がある。また、ガラス基板の厚みにも限定はなく、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍなど種々の厚みのガラス基板がある。
（コアリング加工工程）
プレス成形したガラス基板前駆体は、コアリング加工工程で、中心部に穴を開ける。穴開けは、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で研削することで中心部に穴を開ける。
（第１ラッピング工程）
次に、第１ラッピング工程として、ガラス基板の両表面を研磨加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する。
（第２ラッピング工程）
更に、ガラス基板の両表面を再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する。
There is no limitation on the size of the glass substrate. For example, there are glass substrates of various sizes such as an outer diameter of 2.5 inches, 1.8 inches, 1 inch, and 0.8 inches. Further, the thickness of the glass substrate is not limited, and there are glass substrates having various thicknesses such as 2 mm, 1 mm, and 0.63 mm.
(Coring process)
The press-molded glass substrate precursor is pierced at the center in the coring process. In the drilling, a hole is drilled in the center by grinding with a core drill or the like equipped with a diamond grindstone or the like in the cutter part.
(First lapping process)
Next, as a first lapping step, both surfaces of the glass substrate are polished to preliminarily adjust the overall shape of the glass substrate, that is, the parallelism, flatness and thickness of the glass substrate.
(Second wrapping process)
Further, both surfaces of the glass substrate are polished again to finely adjust the parallelism, flatness and thickness of the glass substrate.
第１及び第２ラッピング工程にてガラス基板の表裏の表面を研磨する研磨機は、両面研磨機と呼ばれる公知の研磨機を使用できる。両面研磨機は、互いに平行になるように上下に配置された円盤状の上定盤と下定盤とを備えており、互いに逆方向に回転する。この上下の定盤の対向するそれぞれの面にガラス基板の主表面を研磨するための複数のダイヤモンドペレットが貼り付けてある。上下の定盤の間には、下定盤の外周に円環状に設けてあるインターナルギアと下定盤の回転軸の周囲に設けてあるサンギアとに結合して回転する複数のキャリアがある。このキャリアには、複数の穴が設けてあり、この穴にガラス基板をはめ込んで配置する。上下の定盤、インターナルギア及びサンギアは別駆動で動作することができる。 As the polishing machine for polishing the front and back surfaces of the glass substrate in the first and second lapping processes, a known polishing machine called a double-side polishing machine can be used. The double-side polishing machine includes a disk-shaped upper surface plate and a lower surface plate that are arranged vertically so as to be parallel to each other, and rotate in opposite directions. A plurality of diamond pellets for polishing the main surface of the glass substrate are attached to the opposing surfaces of the upper and lower surface plates. Between the upper and lower surface plates, there are a plurality of carriers that rotate in combination with an internal gear provided in an annular shape on the outer periphery of the lower surface plate and a sun gear provided around the rotation axis of the lower surface plate. The carrier is provided with a plurality of holes, and a glass substrate is fitted into the holes. The upper and lower surface plates, the internal gear and the sun gear can be operated by separate driving.
研磨機の研磨動作は、上下の定盤が互いに逆方向に回転し、ダイヤモンドペレットを介して定盤に挟まれているキャリアは、複数のガラス基板を保持した状態で、自転しながら定盤の回転中心に対して下定盤と同じ方向に公転する。このような動作している研磨機において、研削液を上定盤とガラス基板及び下定盤とガラス基板との間に供給することでガラス基板の研磨を行うことができる。 The polishing operation of the polishing machine is such that the upper and lower surface plates rotate in opposite directions, and the carrier sandwiched between the surface plates via the diamond pellets rotates with the surface plate holding a plurality of glass substrates. Revolves in the same direction as the lower surface plate with respect to the center of rotation. In such an operating polishing machine, the glass substrate can be polished by supplying a grinding liquid between the upper surface plate and the glass substrate, and the lower surface plate and the glass substrate.
この両面研磨機を使用する際、ガラス基板に加わる定盤の荷重及び定盤の回転数を所望の研磨状態に応じて適宜調整する。第１及び第２ラッピング工程における単位面積当たりの荷重は、６０ｇ／ｃｍ2から１２０ｇ／ｃｍ2とするのが好ましい。また、定盤の回転数は、１０ｒｐｍから３０ｒｐｍ程度とし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より３０％から４０％程度遅くするのが好ましい。定盤による荷重を大きくし、定盤の回転数を速くすると研磨量は多くなるが、荷重を大きくしすぎると面粗さが良好とならず、また、回転数が速すぎると平坦度が良好とならない。また荷重が小さく定盤の回転数が遅いと研磨量が少なく製造効率が低くなる。 When using this double-side polishing machine, the load on the surface plate applied to the glass substrate and the rotation speed of the surface plate are adjusted as appropriate according to the desired polishing state. The load per unit area in the first and second lapping steps is preferably 60 g / cm 2 to 120 g / cm 2 . Further, the rotation speed of the surface plate is preferably about 10 to 30 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is preferably about 30 to 40% slower than the lower surface rotation speed. If the load on the surface plate is increased and the rotation speed of the surface plate is increased, the amount of polishing increases, but if the load is increased too much, the surface roughness will not be good, and if the rotation speed is too high, the flatness will be good. Not. Further, when the load is small and the rotation speed of the surface plate is slow, the polishing amount is small and the production efficiency is lowered.
第２ラッピング工程を終えた時点で、大きなうねり、欠け、ひび等の欠陥は除去され、ガラス基板の主表面の面粗さは、Ｒｍａｘが２μｍから４μｍ、Ｒａが０．２μｍから０．４μｍ程度とするのが好ましい。このような面状態にしておくことで、次の化学強化処理工程を経て第１ポリッシング工程で研磨を効率よく行うことができる。 When the second lapping process is completed, defects such as large waviness, chipping and cracks are removed, and the surface roughness of the main surface of the glass substrate is about 2 μm to 4 μm for Rmax and about 0.2 μm to 0.4 μm for Ra. Is preferable. By setting it as such a surface state, it can polish efficiently by a 1st polishing process through the following chemical strengthening process process.
尚、第１ラッピング工程では、第２ラッピング工程を効率よく行うことができるように大まかに大きなうねり、欠け、ひびを効率よく除去する。このため、第２ラッピングで使用する粗さ＃１３００メッシュから＃１７００メッシュより粗い＃８００メッシュから＃１２００メッシュ程度のダイヤモンドペレットを使用するのが好ましい。第１ラッピング工程が完了した時点での面粗さは、Ｒｍａｘが４μｍから８μｍで、Ｒａが０．４μｍから０．８μｍ程度とするのが好ましい。 In the first lapping step, roughly large undulations, chips and cracks are efficiently removed so that the second lapping step can be performed efficiently. For this reason, it is preferable to use diamond pellets of # 800 mesh to # 1200 mesh which are coarser than # 1300 mesh to # 1700 mesh used in the second wrapping. The surface roughness at the time when the first lapping step is completed is preferably such that Rmax is 4 μm to 8 μm and Ra is about 0.4 μm to 0.8 μm.
また、ガラス基板を研磨する方法として、上下の定盤の研磨面にパッドを貼り付け、研磨剤を含む研磨液を供給して研磨する方法を用いることもできる。研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。これらを水で分散化してスラリー状として使用する。パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。 In addition, as a method for polishing the glass substrate, a method in which a pad is attached to the polishing surfaces of the upper and lower surface plates and a polishing liquid containing an abrasive is supplied for polishing can be used. Examples of the abrasive include cerium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, manganese oxide, colloidal silica, and diamond. These are dispersed in water and used as a slurry. The pad is divided into a hard pad and a soft pad, but can be appropriately selected and used as necessary. Examples of the hard pad include pads made of hard velor, urethane foam, pitch-containing suede, etc., and examples of the soft pad include pads made of suede, velor, etc.
パッドと研磨剤を使用する研磨方法は、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨から精密研磨まで対応することができる。よって、第１ラッピング工程と第２ラッピング工程で、効率よく大きなうねり、欠け、ひび等を除去し上記の面粗さを得ることができる様に研磨材、研磨材の粒度、パッドを適宜組み合わせて対応することができる。 A polishing method using a pad and a polishing agent can cope with rough polishing to precision polishing by changing the particle size of the polishing agent and the type of the pad. Therefore, in the first lapping step and the second lapping step, the abrasive material, abrasive particle size, and pad are appropriately combined so that the above-mentioned surface roughness can be obtained by efficiently removing large undulations, chips, cracks, etc. Can respond.
また、第１及び第２ラッピング工程の後、ガラス基板の表面に残った研磨剤やガラス粉を除去するための洗浄工程を行うことが好ましい。 Moreover, it is preferable to perform the washing | cleaning process for removing the abrasive | polishing agent and glass powder which remained on the surface of the glass substrate after the 1st and 2nd lapping process.
尚、第１ラッピング工程及び第２ラッピング工程で使用する研磨機は、同一構成ではあるがそれぞれの工程専用に用意された別の研磨機を用いて研磨加工を行うのが好ましい。これは、専用のダイヤモンドペレットを貼り付けているため交換が大掛かりな作業となり、また、研磨条件を再設定する等の煩雑な作業が必要となり、製造効率が低下するためである。
（内・外周加工工程）
次に、内・外周加工工程として、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削する。
（内・外端面加工工程）
内・外径加工工程を終えたガラス基板を、所定の間隔を空けて、複数積み重ねて、積層し、その状態で内周端面及び外周端面の研磨加工を、端面研磨機を用いて研磨する。外周端面の研磨機としては、複数の凹型の砥石を上記所定の間隔を空けて、それぞれのガラス基板の外周端面に対応させ、砥石を回転させると共にガラス基板も回転させて、接触させることで端面の研磨加工をする。砥石の凹部の形状により、所望の曲率半径Ｒ２の円弧状の形状を作製することができる。内・外端面加工は、研磨剤をかけながら、ブラシ状のものを回転させて行うこともできる。内・外端面加工工程の後、ガラス基板の表面に残った研磨剤やガラス粉を除去するための洗浄を行う。洗浄方法としては、超音波洗浄装置を用いることができる。
（化学強化処理工程）
内・外端面加工工程の次に、化学強化処理工程として、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する。化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
It should be noted that the polishing machines used in the first lapping process and the second lapping process have the same configuration, but it is preferable to perform polishing using different polishing machines prepared exclusively for the respective processes. This is because the dedicated diamond pellets are pasted, so that the replacement is a large-scale operation, and complicated operations such as resetting the polishing conditions are required, resulting in a reduction in manufacturing efficiency.
(Inner / outer peripheral machining process)
Next, as an inner / outer peripheral processing step, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate are ground by a grinding wheel such as a drum-shaped diamond.
(Inner / outer end face machining process)
A plurality of glass substrates that have been subjected to the inner / outer diameter processing step are stacked and stacked at a predetermined interval, and in this state, the inner end face and the outer end face are polished using an end face polishing machine. As an outer peripheral end surface polishing machine, a plurality of concave grindstones are made to correspond to the outer peripheral end surfaces of the respective glass substrates at the predetermined intervals, and the grindstones are rotated and the glass substrates are also rotated and brought into contact with each other. Polishing process. Depending on the shape of the concave portion of the grindstone, an arc shape having a desired radius of curvature R2 can be produced. The inner and outer end face processing can also be performed by rotating a brush-like object while applying an abrasive. After the inner and outer end face processing steps, cleaning is performed to remove the abrasive and glass powder remaining on the surface of the glass substrate. As a cleaning method, an ultrasonic cleaning apparatus can be used.
(Chemical strengthening process)
Next to the inner / outer end face processing step, as a chemical strengthening treatment step, the glass substrate is immersed in a chemical strengthening solution to form a chemically strengthened layer on the glass substrate. By forming the chemical strengthening layer, impact resistance, vibration resistance, heat resistance and the like can be improved.
化学強化処理工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板の表面が強化される。 In the chemical strengthening process, by immersing the glass substrate in a heated chemical strengthening solution, alkali metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass substrate are converted into alkali metal ions such as potassium ions having a larger ion radius. By an ion exchange method of substituting Compressive stress is generated in the ion-exchanged region due to the distortion caused by the difference in ion radius, and the surface of the glass substrate is strengthened.
化学強化処理液に特に制限はなく、公知の化学強化処理液を用いることができる。通常、カリウムイオンを含む溶融塩又はカリウムイオンとナトリウムイオンをふくむ溶融塩を用いることが一般的である。カリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融塩としては、カリウムやナトリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩やこれらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点からは、硝酸塩を用いることが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular in a chemical strengthening process liquid, A well-known chemical strengthening process liquid can be used. In general, a molten salt containing potassium ions or a molten salt containing potassium ions and sodium ions is generally used. Examples of the molten salt containing potassium ions and sodium ions include potassium and sodium nitrates, carbonates, sulfates, and mixed molten salts thereof. Among these, from the viewpoint that the melting point is low and deformation of the glass substrate can be prevented, it is preferable to use nitrate.
化学強化処理液は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板の温度が上がりすぎ、ガラス基板の変形を招く恐れがある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点（Ｔｇ）よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−５０℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。 The chemical strengthening treatment liquid is heated to a temperature higher than the temperature at which the above components melt. On the other hand, when the heating temperature of the chemical strengthening treatment liquid is too high, the temperature of the glass substrate is excessively increased, and the glass substrate may be deformed. For this reason, the heating temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably lower than the glass transition point (Tg) of the glass substrate, more preferably lower than the glass transition point −50 ° C.
なお、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。 In addition, in order to prevent the occurrence of cracks and fine cracks in the glass substrate due to thermal shock when immersed in the heated chemical strengthening treatment liquid, the glass substrate is placed in a preheating tank prior to immersion in the chemical strengthening treatment liquid. You may have the preheating process heated to predetermined temperature.
化学強化層の厚みとしては、ガラス基板の強度向上とポリッシング工程の時間の短縮との兼ね合いから、５μｍ〜１５μｍ程度の範囲が好ましい。強化層の厚みがこの範囲の場合、平坦度、機械的強度である耐衝撃性が良好なガラス基板とすることができる。 The thickness of the chemically strengthened layer is preferably in the range of about 5 μm to 15 μm in view of improving the strength of the glass substrate and shortening the time of the polishing process. When the thickness of the reinforcing layer is within this range, a glass substrate having good impact resistance, which is flatness and mechanical strength, can be obtained.
化学強化処理工程後の表主表面及び裏主表面の外周端部の形状は、化学強化処理工程前とほとんど変わらず、上記の５μｍ〜１５μｍ程度の化学強化層がガラス基板の表面全体にほぼ一様に載った状態となる。
（研磨工程）
次に、研磨工程としてのポリッシング工程を行う。
The shape of the outer peripheral edge portions of the front main surface and the back main surface after the chemical strengthening treatment step is almost the same as that before the chemical strengthening treatment step, and the above-mentioned chemical strengthening layer of about 5 μm to 15 μm is almost uniform over the entire surface of the glass substrate. It will be in the state of being put on.
(Polishing process)
Next, a polishing process as a polishing process is performed.
ポリッシング工程では、ガラス基板の表面を精密に仕上げると伴に主表面の外周端部の形状を所定の形状に研磨する。ポリッシング工程は１工程でも良いが、２工程の方が好ましい。 In the polishing process, the surface of the glass substrate is precisely finished, and the shape of the outer peripheral end of the main surface is polished to a predetermined shape. The polishing step may be one step, but two steps are preferable.
まず、第１ポリシング工程では、第２ポリッシング工程で最終的に必要とされる面粗さを効率よく得ることができるように、面粗さを向上させるとともに最終的に本発明の形状を効率よく得ることができる研磨を行う。 First, in the first polishing step, the surface roughness is improved and the shape of the present invention is finally efficiently improved so that the surface roughness finally required in the second polishing step can be efficiently obtained. Polishing can be obtained.
研磨の方法は、ラッピング工程で使用したダイヤモンドペレットと研削液に代えて、パッドと研磨液を使用する以外は第１及び２ラッピング工程で使用した研磨機と同一の構成の研磨機を使用する。 The polishing method uses a polishing machine having the same configuration as the polishing machine used in the first and second lapping processes except that a pad and a polishing liquid are used instead of the diamond pellets and the grinding liquid used in the lapping process.
パッドは硬度Ａで８０から９０程度の硬質パッドで例えば発泡ウレタンを使用するのが好ましい。パッドの硬度が研磨による発熱により柔らかくなると研磨面の形状変化が大きくなるため硬質パッドを用いるのが好ましい。研磨材は、粒径が０．６μｍから２．５μｍの酸化セリウム等を水に分散させてスラリー状にして用いるのが好ましい。水と研磨剤との混合比率は、概ね１：９から３：７程度が好ましい。 The pad is preferably a hard pad having a hardness A of about 80 to 90, for example, urethane foam. When the pad hardness becomes soft due to heat generated by polishing, the shape change of the polished surface increases, so it is preferable to use a hard pad. The abrasive is preferably used in the form of a slurry by dispersing cerium oxide or the like having a particle size of 0.6 to 2.5 μm in water. The mixing ratio of water and abrasive is preferably about 1: 9 to 3: 7.
定盤によるガラス基板への単位面積当たりの荷重は、９０ｇ／ｃｍ2から１１０ｇ／ｃｍ2とするのが好ましい。定盤によるガラス基板への荷重は、外周端部の形状に大きく影響する。荷重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、荷重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。こうした傾向を観察しながら荷重を決めることができる。 The load per unit area on the glass substrate by the surface plate is preferably 90 g / cm 2 to 110 g / cm 2 . The load applied to the glass substrate by the surface plate greatly affects the shape of the outer peripheral edge. When the load is increased, the inner side of the outer peripheral end portion tends to decrease and increase toward the outer side. Further, when the load is reduced, the outer peripheral end portion tends to become close to a plane and the surface sagging increases. The load can be determined while observing such a tendency.
また、面粗さを向上させるために、定盤の回転数を２５ｒｐｍから５０ｒｐｍとし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より３０％から４０％遅くするのが好ましい。 In order to improve the surface roughness, it is preferable that the rotation speed of the surface plate is 25 rpm to 50 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is 30% to 40% slower than the rotation speed of the lower surface plate.
上記の研磨条件により研磨量を３０μｍから４０μｍとするのが好ましい。３０μｍ未満では、キズや欠陥を十分に除去ができない。また４０μｍを超える場合は、面粗さをＲｍａｘが２ｎｍから６０ｎｍ、Ｒａが２ｎｍから４ｎｍの範囲とすることができるが、必要以上に研磨を行うことになり製造効率が低下する。 The polishing amount is preferably 30 μm to 40 μm depending on the above polishing conditions. If it is less than 30 μm, scratches and defects cannot be removed sufficiently. On the other hand, when it exceeds 40 μm, the surface roughness can be in the range of Rmax from 2 nm to 60 nm and Ra from 2 nm to 4 nm.
第２ポリッシング工程は、第１ポリッシング工程後のガラス基板の表面を更に精密に研磨する工程である。第２ポリッシング工程で使用するパッドは、第１ポリッシング工程で使用するパッドより柔らかい硬度６５から８０（Ａｓｋｅｒ−Ｃ）程度の軟質パッドで、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用するのが好ましい。研磨材としては、第１ポリッシング工程と同様の酸化セリウム等を用いることができるが、ガラス基板の表面をより滑らかにするため、粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤を用いるのが好ましい。粒径の平均粒子径が４０ｎｍから７０ｎｍの研磨剤を水に分散させてスラリー状にして研磨液として用い、水と研磨剤との混合比率は、１：９から３：７程度が好ましい。 The second polishing step is a step of further precisely polishing the surface of the glass substrate after the first polishing step. The pad used in the second polishing step is a soft pad having a hardness of about 65 to 80 (Asker-C) softer than the pad used in the first polishing step, and it is preferable to use, for example, urethane foam or suede. As the abrasive, cerium oxide or the like similar to that in the first polishing step can be used, but it is preferable to use an abrasive having a finer particle size and less variation in order to make the surface of the glass substrate smoother. An abrasive having an average particle diameter of 40 nm to 70 nm is dispersed in water to form a slurry and used as a polishing liquid. The mixing ratio of water and abrasive is preferably about 1: 9 to 3: 7.
定盤によるガラス基板への単位面積当たりの荷重は、９０ｇ／ｃｍ2から１１０ｇ／ｃｍ2が好ましい。定盤によるガラス基板への荷重は、第１ポリッシング工程と同様に外周端部の形状に大きく影響するが、研磨速度が遅いため第１ポリッシング工程ほど効率的に形状を変化させることはできない。荷重の加減による外周端部の形状の変化は、第１ポリッシング工程と同様であり、荷重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、荷重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。外周端部の形状を得るために、こうした傾向を観察しながら荷重を決めることができる。定盤の回転数を１５ｒｐｍから３５ｒｐｍとし、上定盤の回転数を下定盤の回転数より３０％から４０％遅くするのが好ましい。 The load per unit area on the glass substrate by the surface plate is preferably 90 g / cm 2 to 110 g / cm 2 . The load applied to the glass substrate by the surface plate greatly affects the shape of the outer peripheral edge as in the first polishing step, but the shape cannot be changed as efficiently as the first polishing step because the polishing rate is slow. The change in the shape of the outer peripheral end due to the load adjustment is the same as in the first polishing step, and when the load is increased, the inner side of the outer peripheral end tends to decrease and increase outward. Further, when the load is reduced, the outer peripheral end portion tends to become close to a plane and the surface sagging increases. In order to obtain the shape of the outer peripheral end, the load can be determined while observing such a tendency. The rotation speed of the surface plate is preferably 15 rpm to 35 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is preferably 30% to 40% slower than the rotation speed of the lower surface plate.
上記の様に第２ポリッシング工程での研磨条件を調整して外周端部の面粗さをＲｍａｘが２ｎｍから６ｎｍ、Ｒａが０．２ｎｍから０．４ｎｍの範囲とすることができる。 As described above, the polishing conditions in the second polishing step can be adjusted so that the surface roughness of the outer peripheral edge can be in the range of Rmax from 2 nm to 6 nm and Ra from 0.2 nm to 0.4 nm.
表面の研磨量は２μｍから５μｍとするのが好ましい。研磨量をこの範囲とすると、表面に発生した微小な荒れやうねり、これまでの工程で生じた微小な傷痕といった微小な欠陥を効率良く除去することができる。
（洗浄工程）
次に、研磨工程であるポリッシング工程を終えた後に洗浄工程として、スクラブ洗浄を行う。スクラブ洗浄装置は、圧接する一対の回転ローラであるスクラブ部材としてのスポンジローラのニップ部でガラス基板を挟み込み、洗浄液をスポンジローラとガラス基板との接触部近傍に滴下又はスプレー噴霧しながら、前記一対のスポンジローラを互いに逆方向に回転させると同時に、ガラス基板も回転させることによりガラス基板の表裏面全体を洗浄するものである。２つのスポンジローラの回転数はそれぞれ同一でもよいし、必要に応じてそれぞれ異なる回転数としても構わない。スポンジローラの回転数としては一般に１００〜１０００ｒｐｍの範囲であり、より好ましくは３００〜５００ｒｐｍの範囲である。またガラス基板の回転数としては一般に５０〜５００ｒｐｍの範囲であり、より好ましくは１００〜３００ｒｐｍの範囲である。洗浄液５０の供給速度は一般に１０〜１０００ｍｌ／分の範囲、より好ましくは５０〜５００ｍｌ／分の範囲である。スクラブ洗浄の時間は一般に５〜１５０秒の範囲、より好ましくは１０〜１００秒の範囲である。
The surface polishing amount is preferably 2 μm to 5 μm. When the polishing amount is within this range, minute defects such as minute roughness and undulation generated on the surface and minute scratches generated in the process so far can be efficiently removed.
(Washing process)
Next, scrub cleaning is performed as a cleaning process after the polishing process, which is a polishing process, is completed. The scrub cleaning device sandwiches a glass substrate at a nip portion of a sponge roller as a scrub member that is a pair of rotating rollers that are pressed against each other, and drops or sprays the cleaning liquid in the vicinity of the contact portion between the sponge roller and the glass substrate. The entire surface of the glass substrate is cleaned by rotating the sponge rollers in opposite directions and simultaneously rotating the glass substrate. The rotation speeds of the two sponge rollers may be the same or different as required. The rotation speed of the sponge roller is generally in the range of 100 to 1000 rpm, more preferably in the range of 300 to 500 rpm. Moreover, as a rotation speed of a glass substrate, it is generally the range of 50-500 rpm, More preferably, it is the range of 100-300 rpm. The supply rate of the cleaning liquid 50 is generally in the range of 10 to 1000 ml / min, more preferably in the range of 50 to 500 ml / min. The scrub cleaning time is generally in the range of 5 to 150 seconds, more preferably in the range of 10 to 100 seconds.
スポンジローラとしては、特に限定されず、例えば、セルローススポンジ、ポリビニルアルコールスポンジ、ウレタンフォーム、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）スポンジ、メラミンフォーム、ポリエチレンフォーム等の樹脂系スポンジ、天然ゴム（ＮＲ）スポンジ、クロロプレンゴム（ＣＲ）スポンジ、エチレン−プロピレンゴム（ＥＰＤＭ）スポンジ、ブタジエン−アクリロニトリルゴムスポンジ等のゴム系スポンジ等で構成することができる。この中でも、スポンジ部分は、樹脂系スポンジで構成、すなわち樹脂を主材料として構成されているのが好ましい。また、前記樹脂は、ポリウレタン、メラミン樹脂、セルロース、ポリビニルアルコール等の親水性ポリマーであるのが好ましい。これにより、スポンジ部分による汚れ等の保持能力および洗浄液の担持能力をより優れたものとすることができ、また、ガラス基板との接触面積も多くなり、より、汚れの除去能力があがる。 The sponge roller is not particularly limited. For example, cellulose sponge, polyvinyl alcohol sponge, urethane foam, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) sponge, melamine foam, polyethylene foam and other resin sponge, natural rubber (NR) It can be composed of a sponge such as sponge, chloroprene rubber (CR) sponge, ethylene-propylene rubber (EPDM) sponge, butadiene-acrylonitrile rubber sponge, or the like. Among these, the sponge portion is preferably made of a resin-based sponge, that is, made of resin as a main material. The resin is preferably a hydrophilic polymer such as polyurethane, melamine resin, cellulose, or polyvinyl alcohol. As a result, the ability to retain dirt and the like by the sponge part and the carrying ability of the cleaning liquid can be made more excellent, and the contact area with the glass substrate is increased, thereby further improving the ability to remove dirt.
スクラブ洗浄において用いる洗浄液としては、一般に用いられる洗浄液を用いることが出来る。 As a cleaning liquid used in scrub cleaning, a generally used cleaning liquid can be used.
このようにして、スクラブ洗浄がなされ、ガラス基板表面に付着した研磨剤や異物が除去される。 In this way, scrub cleaning is performed, and the abrasive and foreign matter adhering to the glass substrate surface are removed.
スクラブ洗浄がなされたガラス基板に対して、必要により洗剤による超音波洗浄及び乾燥処理が行われる。乾燥処理は具体的には、ガラス基板をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）中に浸漬し、ＩＰＡ中に洗浄液成分を溶け込ませ、基板表面の被覆液体をＩＰＡと置換した後、さらにＩＰＡ蒸気中にさらしながら、ＩＰＡを蒸発させてガラス基板を乾燥させるものである。そしてその後、必要により検査が行われる。基板の乾燥処理としてはこれに限定されるわけではなく、スピン乾燥、エアーナイフ乾燥などガラス基板の乾燥方法として一般的に知られた方法であってももちろん構わない。 If necessary, the glass substrate that has been scrubbed is subjected to ultrasonic cleaning with a detergent and drying treatment. Specifically, the drying treatment is performed by immersing the glass substrate in IPA (isopropyl alcohol), dissolving the cleaning liquid component in IPA, replacing the coating liquid on the substrate surface with IPA, and then exposing the substrate to IPA vapor. IPA is evaporated to dry the glass substrate. Thereafter, an inspection is performed as necessary. The substrate drying process is not limited to this, and a method generally known as a glass substrate drying method such as spin drying or air knife drying may be used.
洗浄後のガラス基板１０の表面は、非常に活性の高い状態にあるため、速やかに、図１に示す収納容器２０に収納し、製造された記録媒体用ガラス基板１０を収納した記録媒体用ガラス基板収納体１とする。この記録媒体用ガラス基板収納体を真空パックして保管する。
Since the surface of the
このようにして保管された記録媒体用ガラス基板１０は、記録媒体とするためにその表面に磁性膜を形成する工程に搬送される。
The recording
磁性膜形成工程に搬送された記録媒体用ガラス基板収納体１は、真空パックから取り出される。その後、記録媒体用ガラス基板収納体１からロボットアームなどで１枚づつ記録媒体用ガラス基板１０を取り出し、蒸着装置にセットして、磁性膜を蒸着する。
The recording medium glass substrate container 1 transported to the magnetic film forming step is taken out of the vacuum pack. Thereafter, the recording
このように本発明の記録媒体用ガラス基板収納体１を用いて保管、搬送を行うことにより、保管、搬送時に記録媒体用ガラス基板１０の外周端部と収納容器２０の溝３１の部分での接触面積が少なく、擦れによる発塵や、摩擦帯電を抑えることができる。
Thus, by storing and transporting using the recording medium glass substrate storage body 1 of the present invention, the recording
なお、記録媒体用ガラス基板収納体１を研磨加工であるポリッシング工程の後の洗浄工程後に保管、搬送用として用いているが、これに限らず、製造工程中であれば、工程間での保管、搬送用に用いることができる。特に、ガラス基板の研磨を行い、その後洗浄する洗浄工程の後に用いるのが、ガラス表面への異物付着の抑制に対して、より効果がある。 The recording medium glass substrate container 1 is used for storage and conveyance after the cleaning process after the polishing process, which is a polishing process. However, the present invention is not limited to this. Can be used for transportation. In particular, it is more effective to suppress the adhesion of foreign matter to the glass surface by using the glass substrate after polishing and then cleaning it.
（記録媒体）
次に、上記のように作成された記録媒体用ガラス基板１０を用いた記録媒体について説明する。この記録媒体用ガラス基板１０を用いると、表面に異物の付着がほとんど無く、ハードディスクに用いた場合の耐久性および高記録密度が実現される。以下、図面に基づき記録媒体について説明する。
(recoding media)
Next, a recording medium using the recording
図７は磁気ディスクＤＩの斜視図である。この磁気ディスクＤＩは、円形の記録媒体用ガラス基板１０の表面に磁性膜２を直接形成されている。磁性膜２の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４μｍ〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５μｍ〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。
FIG. 7 is a perspective view of the magnetic disk DI. In this magnetic disk DI, the magnetic film 2 is directly formed on the surface of a circular recording
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割しノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ２、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。 The magnetic material used for the magnetic film is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Ni having a high crystal anisotropy is basically used, and Ni or A Co-based alloy to which Cr is added is suitable. Specific examples include CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, and CoNiPt containing Co as a main component, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, and CoCrPtSiO. The magnetic film may have a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTa / CrMo / CoCrPtTa) that is divided by a nonmagnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, etc.) to reduce noise. In addition to the above-described magnetic materials, even a granular material having a structure in which magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, CoNiPt are dispersed in a non-magnetic film made of ferrite, iron-rare earth, SiO2, BN, or the like. Good. Further, the magnetic film may be either an inner surface type or a vertical type recording format.
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。 In addition, a lubricant may be thinly coated on the surface of the magnetic film in order to improve the sliding of the magnetic head. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a freon-based solvent.
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。 Furthermore, you may provide a base layer and a protective layer as needed. The underlayer in the magnetic disk is selected according to the magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni. In the case of a magnetic film containing Co as a main component, Cr alone or a Cr alloy is preferable from the viewpoint of improving magnetic characteristics. Further, the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV may be used.
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。 Examples of the protective layer that prevents wear and corrosion of the magnetic film include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. These protective layers can be formed continuously with an in-line type sputtering apparatus, such as an underlayer and a magnetic film. In addition, these protective layers may be a single layer, or may have a multilayer structure including the same or different layers. Note that another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, in place of the protective layer, colloidal silica fine particles are dispersed and applied to a Cr layer diluted with an alcohol solvent, and then fired to form a silicon dioxide (SiO2) layer. May be.
以上、記録媒体の一実施態様として磁気ディスクについて説明したが、記録媒体はこれに限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも本発明の記録媒体用ガラス基板１０を用いることができる。
The magnetic disk has been described above as an embodiment of the recording medium. However, the recording medium is not limited to this, and the
（実施例１〜１５、比較例１〜４）
（１）溶融、プレス成型工程
ガラス材料としてＴｇが４８０℃のアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板前駆体（外径６８ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）を作製した。
（２）コアリング工程
次に円筒状のダイヤモンド砥石を用いてガラス基板の中心部に円穴（直径１８ｍｍ）を開けた。
（３）第１ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機（ＨＡＭＡＩ社製）を用いて研磨した。
(Examples 1-15, Comparative Examples 1-4)
(1) Melting and Press Molding Process Aluminosilicate glass having a Tg of 480 ° C. was used as a glass material, and the molten glass was press molded to produce a glass substrate precursor (outer diameter 68 mm, thickness 1.3 mm).
(2) Coring process Next, the circular hole (diameter 18mm) was opened in the center part of the glass substrate using the cylindrical diamond grindstone.
(3) 1st lapping process Both surfaces of the glass substrate were grind | polished using the grinder (made by HAMAI).
研磨条件としては、ダイヤモンドペレットとしては、＃１２００メッシュを用い、単位面積当たりの荷重１００ｇ／ｃｍ2とし、上定盤の回転数３０ｒｐｍ、下定盤の回転数１０ｒｐｍとした。 As polishing conditions, diamond pellets of # 1200 mesh were used, the load per unit area was 100 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm.
得られたガラス基板の厚さは、０．９ｍｍ、表面粗さはＲｍａｘが１．５μｍ、Ｒａが１．０μｍであった。
（４）第２ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機（ＨＡＭＡＩ社製）を用いて研磨した。
The thickness of the obtained glass substrate was 0.9 mm, and the surface roughness was Rmax of 1.5 μm and Ra of 1.0 μm.
(4) Second lapping step Both surfaces of the glass substrate were polished using a polishing machine (HAMAI).
研磨条件としては、ダイヤモンドペレットとしては、＃１２００メッシュを用い、単位面積当たりの荷重１００ｇ／ｃｍ2とし、上定盤の回転数３０ｒｐｍ、下定盤の回転数１０ｒｐｍとした。 As polishing conditions, # 1200 mesh was used as diamond pellets, the load per unit area was 100 g / cm 2 , the rotation speed of the upper surface plate was 30 rpm, and the rotation speed of the lower surface plate was 10 rpm.
得られたガラス基板の表面粗さはＲｍａｘが３μｍ、Ｒａが０．３μｍであった。
（５）内・外周加工工程
鼓状のダイヤモンド砥石により内・外径加工をい、内径２０ｍｍ、外径６５ｍｍとした。
（６）内・外端面加工工程
内・外加工工程を終えて得られたガラス基板を所定の間隔を空けて１００枚重ね、端面研磨機を用いて、内周及び外周の端面を研磨した。外周端面の研磨砥石には、所定の形状の凹型砥石を用い、外周端面加工後のガラス基板の外周端部が図４の形状のもので、曲率半径Ｒ２が表１のものを作成した。
（７）化学強化処理工程
次に、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬して化学強化処理工程を行った。化学強化処理液には、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）と硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）の混合溶融塩を用いた。混合比は質量比で１：１とした。また、化学強化処理液の温度は４００℃、浸漬時間は４０分とした。
（８）研磨工程
次に研磨工程の第１ポリッシング工程として、研磨機（ＨＡＭＡＩ社製）を用い、パッドに硬度Ａで８０度の発泡ウレタンを用いた。研磨材は、平均粒径１．５μｍの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にして用いた。水と研磨剤との混合比率は、２：８とした。単位面積当たりの荷重１００ｇ／ｃｍ2とし、上定盤の回転数３０ｒｐｍ、下定盤の回転数１０ｒｐｍとした。研磨量を３０μｍとした。
As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 3 μm and Ra was 0.3 μm.
(5) Inner / Outer Diameter Processing Step Inner / outer diameter processing was performed with a drum-shaped diamond grindstone to obtain an inner diameter of 20 mm and an outer diameter of 65 mm.
(6) Inner / Outer End Surface Processing Step One hundred glass substrates obtained by finishing the inner / outer end processing step were stacked at a predetermined interval, and the inner and outer end surfaces were polished using an end surface polishing machine. As the polishing grindstone on the outer peripheral end face, a concave grindstone having a predetermined shape was used, and the outer peripheral end portion of the glass substrate after the outer peripheral end face processing had the shape of FIG. 4 and the curvature radius R2 of Table 1 was prepared.
(7) Chemical strengthening treatment step Next, a chemical strengthening treatment step was performed by immersing the glass substrate in a chemical strengthening treatment solution. As the chemical strengthening treatment liquid, a mixed molten salt of potassium nitrate (KNO 3 ) and sodium nitrate (NaNO 3 ) was used. The mixing ratio was 1: 1 by mass ratio. The temperature of the chemical strengthening treatment liquid was 400 ° C. and the immersion time was 40 minutes.
(8) Polishing Step Next, as a first polishing step of the polishing step, a polishing machine (manufactured by HAMAI) was used, and urethane foam having a hardness A of 80 degrees was used for the pad. As the abrasive, cerium oxide having an average particle diameter of 1.5 μm was dispersed in water and used as a slurry. The mixing ratio of water and abrasive was 2: 8. The load per unit area was 100 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm. The polishing amount was 30 μm.
得られたガラス基板の表面粗さはＲｍａｘが３０ｎｍ、Ｒａが３ｎｍであった。 As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 30 nm and Ra was 3 nm.
次に第２ポリッシング工程として、研磨機（ＨＡＭＡＩ社製）を用い、パッドに硬度Ａで７０度の発泡ウレタンを用いた。研磨材は、平均粒径６０ｎｍの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にして用いた。水と研磨剤との混合比率は、２：８とした。単位面積当たりの荷重９０ｇ／ｃｍ2とし、上定盤の回転数３０ｒｐｍ、下定盤の回転数１０ｒｐｍとした。研磨量を３μｍとした。 Next, as a second polishing process, a polishing machine (manufactured by HAMAI) was used, and urethane foam having a hardness A of 70 degrees was used for the pad. As the abrasive, cerium oxide having an average particle diameter of 60 nm was dispersed in water and used as a slurry. The mixing ratio of water and abrasive was 2: 8. The load per unit area was 90 g / cm 2 , the upper surface plate was rotated at 30 rpm, and the lower surface plate was rotated at 10 rpm. The polishing amount was 3 μm.
得られたガラス基板の表面粗さはＲｍａｘが５ｎｍ、Ｒａが０．３ｎｍであった。
（９）洗浄工程
第２ポリッシング工程の終了後、洗浄装置でスクラブ洗浄を行った。スクラブ部材のスポンジとしては、ポリビニルアルコールスポンジを用いた。空隙率は、５０％で、硬度は、４５°（ＪＩＳ Ｋ７３１２）であった。また、スポンジローラの回転数は共に３００ｒｐｍとした。またガラス基板の回転数は２００ｒｐｍとした。洗浄液としては、過酸化水素濃度が０．５質量％の過酸化水素水を用いた。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって、スクラブ洗浄開始３秒前からスクラブ洗浄終了時まで連続して、毎分１００ｍｌの量を供給した。
As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 5 nm and Ra was 0.3 nm.
(9) Cleaning Step After the second polishing step, scrub cleaning was performed with a cleaning device. A polyvinyl alcohol sponge was used as the sponge for the scrub member. The porosity was 50% and the hardness was 45 ° (JIS K7312). Moreover, the rotation speed of the sponge roller was 300 rpm. The rotation speed of the glass substrate was 200 rpm. As the cleaning liquid, hydrogen peroxide having a hydrogen peroxide concentration of 0.5% by mass was used. The cleaning liquid was supplied by spraying in an amount of 100 ml per minute continuously from 3 seconds before the start of scrub cleaning until the end of scrub cleaning.
このようにして表１の実施例１〜１５、比較例１〜３のガラス基板をそれぞれ１００枚づつ作成した。 In this way, 100 glass substrates of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3 in Table 1 were prepared.
次に、この表面を清浄にしたガラス基板を、図３に示す情報記録媒体用ガラス基板収納体に収納した。情報記録媒体用ガラス基板収納体の収納容器２０、上蓋２１、固定部材２３は、ポリカーボネート樹脂を射出成型することにより作成した。収納容器２０の溝形状としては、図３と図５のものを用い、溝の幅Ｂ１は、２．００ｍｍ、ピッチＢ２は、６．３５ｍｍ、溝部の表面粗さは、バフ研磨により所定の表面粗さとした。溝部の曲率半径Ｒ１、角度θ、表面粗さＲａ、Ｒｍａｘを表１に示すようにして、実施例１〜１５、比較例１〜３とした。また、溝部の表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定した。
Next, the glass substrate whose surface was cleaned was stored in a glass substrate storage body for an information recording medium shown in FIG. The
それぞれのガラス基板を収納した情報記録媒体用ガラス基板収納体を真空パックした後、トラックに乗せて、１００ｋｍ搬送し、その後、ガラス基板表面の異物の付着状態を観察した。 The glass substrate housings for information recording media containing the respective glass substrates were vacuum-packed, then placed on a truck and transported 100 km, and then the adhesion state of foreign matters on the glass substrate surface was observed.
また、比較例４として、ガラス基板の外周端面処理を図８のように０．５ｍｍのフラット面に処理し、溝の形状を平坦な形状にした他は、実施例１と同様に作製した。
（ガラス基板面評価）
作製したガラス基板を走査型レーザーディスク表面検査装置を用い、ガラス基板表面に付着した微小異物に関して評価した。１００枚の微小付着物の数の合計を比較例４のものを１として相対評価した。ランクは、付着物の数が０〜０．７を◎、０．７を越えて０．８までを○、０．８を越えて１までを×とした。なお付着物の数が相対値で０．８を超えると磁気ディスクでのヘッドの読み取りエラーの発生が高くなるので０．８以下が製品として要求される。
Further, as Comparative Example 4, the outer peripheral end surface treatment of the glass substrate was processed to a flat surface of 0.5 mm as shown in FIG.
(Glass substrate surface evaluation)
The produced glass substrate was evaluated with respect to minute foreign substances adhering to the glass substrate surface using a scanning laser disk surface inspection apparatus. Relative evaluation was made with the total number of fine deposits of 100 sheets as that of Comparative Example 4. As for the rank, the number of deposits was 0 to 0.7, ◯, 0.7 to 0.8, ◯, 0.8 to 1, x. If the number of deposits exceeds 0.8 as a relative value, the occurrence of head read errors on the magnetic disk increases, so 0.8 or less is required as a product.
評価結果を表１に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
表１の結果から、実施例１〜４と比較例１とを比べると、ガラス基板の外周端部が曲率半径Ｒ２の円弧状に加工され、収納容器の溝の断面形状の曲率半径Ｒ１がＲ２よりも大きいことにより、保管搬送時におけるガラス基板の外周端部と収納容器の溝との擦れに伴う異物の発生、表面への付着が少ないことがわかる。また、Ｒ１はＲ２の１０倍より小さいことが好ましいといえる。Ｒ１がＲ２と同じ場合には、接触面積が多いため異物の発生や、摩擦帯電が起こり、異物付着が多くなっていると考えられる。また、実施例５、６と比較例２、３を比べると、ガラス基板の外周端部が円弧状に加工され、収納容器の溝の断面形状がＶ字状部で、Ｖ字状部の角度θが９０°〜１７０°であると、異物の付着が少ないことがわかる。θが９０°より小さいと、ガラス基板端面が溝に食い込む状態になり、擦れによる異物の発生が多くなっていると考えられる。また、θが１７０°を越えると、溝が外周端部を支持する位置が移動しやすく不安定になり、溝部分でがたつきが発生して異物の発生が多くなっていることが考えられる。 From the results of Table 1, when Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 are compared, the outer peripheral end of the glass substrate is processed into an arc shape having a curvature radius R2, and the curvature radius R1 of the cross-sectional shape of the groove of the storage container is R2. It can be seen that the generation of foreign matter and the adhesion to the surface are less due to rubbing between the outer peripheral edge of the glass substrate and the groove of the storage container during storage and conveyance. Further, it can be said that R1 is preferably smaller than 10 times R2. When R1 is the same as R2, it is considered that foreign matter is generated or frictional charging occurs due to a large contact area, and foreign matter adheres more. Further, when Examples 5 and 6 are compared with Comparative Examples 2 and 3, the outer peripheral end of the glass substrate is processed into an arc shape, the cross-sectional shape of the groove of the storage container is a V-shaped portion, and the angle of the V-shaped portion It can be seen that when θ is 90 ° to 170 °, there is little adhesion of foreign matter. If θ is less than 90 °, the end face of the glass substrate is in a state of being sunk into the groove, and it is considered that the generation of foreign matters due to rubbing is increased. Further, if θ exceeds 170 °, the position where the groove supports the outer peripheral end is likely to move and become unstable, and rattling occurs in the groove portion, which may increase the generation of foreign matter. .
また、実施例７〜１５を比較すると、溝部の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下、Ｒｍａｘが５００ｎｍ以下であることが好ましいことがわかる。また、表面粗さがこの範囲を超えると、微粉の発生が増えて、好ましくないことがわかる。 Moreover, when Examples 7-15 are compared, it turns out that it is preferable that the surface roughness Ra of a groove part is 50 nm or less, and Rmax is 500 nm or less. Moreover, when surface roughness exceeds this range, generation | occurrence | production of fine powder will increase and it turns out that it is not preferable.
１ 記録媒体用ガラス基板収納体
１０ ガラス基板（記録媒体用ガラス基板）
２０ 収納容器
２１ 上蓋
２３ 固定部材
２４ 抑え板
２５、２６ 側板
２７、２８ 連結板
２９ 底板
３０ リブ
３１ 溝
２ 磁性膜
ＤＩ 磁気ディスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate storage body for recording
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記溝の断面形状が、曲率半径Ｒ１の円弧状部を有し、該円弧状部で前記ガラス基板の外周端部を支持し、
前記ガラス基板の外周端部の曲率半径をＲ２としたとき、
Ｒ１＞Ｒ２であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の収納容器。 Storage of a glass substrate for a recording medium having a plurality of grooves at least on the surface for supporting at a predetermined interval in the thickness direction of the glass substrate with the glass substrate having an arcuate outer peripheral portion standing upright. In the container,
The cross-sectional shape of the groove has an arc-shaped portion with a radius of curvature R1, and supports the outer peripheral end of the glass substrate with the arc-shaped portion,
When the radius of curvature of the outer peripheral edge of the glass substrate is R2,
A storage container for a glass substrate for a recording medium, wherein R1> R2.
前記溝の断面形状がＶ字状部を有し、該Ｖ字状部で前記ガラス基板の外周端部を支持し、
前記Ｖ字状の角度θが９０°〜１７０°であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の収納容器。 Storage of a glass substrate for a recording medium having a plurality of grooves at least on the surface for supporting at a predetermined interval in the thickness direction of the glass substrate with the glass substrate having an arcuate outer peripheral portion standing upright. In the container,
The cross-sectional shape of the groove has a V-shaped part, and the V-shaped part supports the outer peripheral end of the glass substrate,
A storage container for a glass substrate for a recording medium, wherein the V-shaped angle θ is 90 ° to 170 °.
請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板収納体を、前記洗浄工程後の前記ガラス基板の保管に用いることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。 In a method for producing a glass substrate for a recording medium, comprising a polishing step for polishing a glass substrate, and a cleaning step for cleaning the glass substrate after the polishing step.
A method for producing a glass substrate for a recording medium, wherein the glass substrate container for a recording medium according to claim 4 is used for storing the glass substrate after the cleaning step.
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