JP2009157334A - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法に関し、特にはカラー表示において広い視野角を得るための位相差層を設けた液晶表示装置およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device provided with a retardation layer for obtaining a wide viewing angle in color display and a method for manufacturing the same.
一対の基板間に液晶層を狭持してなる液晶表示装置には、コントラストの改善や視野角特性の向上を目的として、光学補償用の位相差層が設けられている。また、半透過半反射型の液晶表示装置においては、位相差層を円偏光板として用いることにより、１つの画素内に透過表示領域と反射表示領域とを実現している。近年においては、このような位相差層を、液晶表示装置の基板間（いわゆる液晶セル内）に設けてインセル化することにより、装置の薄型化と製造プロセスの簡便化を図る構成が提案されている。 In a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates, an optical compensation retardation layer is provided for the purpose of improving contrast and viewing angle characteristics. In a transflective liquid crystal display device, a transmissive display area and a reflective display area are realized in one pixel by using a retardation layer as a circularly polarizing plate. In recent years, a configuration has been proposed in which such a retardation layer is provided between substrates of a liquid crystal display device (in a so-called liquid crystal cell) so as to be in-cell, thereby reducing the thickness of the device and simplifying the manufacturing process. Yes.
ここで、カラー表示の液晶表示装置においては、可視光の広い範囲で良好な視野角が得られるように、いわゆる広帯域性を備えた位相差層が求められている。このような位相差層としては、長波長側に向かって位相差が大きくなる波長分散性（逆分散性）の材料を選択して構成する必要がある。波長分散が逆分散性を示す位相差層として、例えばフルオレン骨格を備えたポリカーボネートからなるものが開示されている（下記特許文献１参照）。
Here, in a liquid crystal display device for color display, a retardation layer having a so-called broadband property is required so that a good viewing angle can be obtained in a wide range of visible light. Such a retardation layer needs to be configured by selecting a material having wavelength dispersion (reverse dispersion) in which the phase difference increases toward the longer wavelength side. As a retardation layer in which chromatic dispersion exhibits reverse dispersion, for example, a layer made of polycarbonate having a fluorene skeleton is disclosed (see
しかしながらこのような材料はインセル化に適するものではなく、高分子材料の多くは、長波長側に向かって位相差が小さくなる波長分散（順分散）となる傾向がある。そこで、順分散性の材料からなる位相差層を積層構造とすることにより広帯域性が得られることを利用し、液晶セル内に位相差層を積層構造として設ける構成が提案されている（例えば下記特許文献２参照）。 However, such materials are not suitable for in-cell, and many polymer materials tend to have wavelength dispersion (forward dispersion) in which the phase difference decreases toward the longer wavelength side. In view of this, a configuration has been proposed in which a retardation layer is formed in a liquid crystal cell as a multilayer structure by utilizing the fact that a broadband structure can be obtained by forming a retardation layer made of a forward-dispersing material as a multilayer structure (for example, the following). Patent Document 2).
以上のようなインセル化に適する位相差層の構成材料としては、例えば重合型の液晶材料が用いられている。重合型の液晶材料であれば、リソグラフィーによるパターン化が可能であり、液晶セル内の所定箇所（例えば画素内の反射表示部）に位相差層をパターン形成できる。また、積層構造の位相差層としては、重合性のコレステリック液晶を用いた例が開示されている（下記特許文献３参照）。
As a constituent material of the retardation layer suitable for in-cell formation as described above, for example, a polymerization type liquid crystal material is used. If it is a polymerization type liquid crystal material, it can be patterned by lithography, and a retardation layer can be patterned at a predetermined location in the liquid crystal cell (for example, a reflective display portion in a pixel). An example using a polymerizable cholesteric liquid crystal is disclosed as a retardation layer having a laminated structure (see
ところが、液晶セル内に位相差層を積層構造として設けるには、位相差層の形成プロセスを２回行う必要がある。したがって、例えば半透過反射型の液晶表示装置のように画素内の反射表示部のみに位相差層をパターン形成する構成であれば、２度のリソグラフィー工程を重ね合わせて行う必要があるため、製造工程数が多く手間が掛かった。 However, in order to provide the retardation layer as a laminated structure in the liquid crystal cell, the retardation layer forming process needs to be performed twice. Accordingly, for example, in the case of a configuration in which a retardation layer is patterned only on a reflective display portion in a pixel, such as a transflective liquid crystal display device, it is necessary to perform two lithography processes in an overlapping manner. It took a lot of time and effort.
そこで本発明は、より簡便なプロセスによって、広帯域性を備えた信頼性の高い位相差層をインセル化することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of in-celling a highly reliable retardation layer having broadband properties by a simpler process and a method for manufacturing the same.
このような目的を達成するための本発明の液晶表示装置は、２枚の基板と、当該基板間に封止された液晶層と、基板のうちの一方の基板における液晶層側に設けられた位相差層とを備えている。そして特に位相差層は、重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成であって、波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とが、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１であることを特徴としている。 In order to achieve such an object, the liquid crystal display device of the present invention is provided on the liquid crystal layer side of one of the two substrates, the liquid crystal layer sealed between the substrates, and the substrate. And a retardation layer. In particular, the retardation layer has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked, and a retardation R (450) for a wavelength of 450 nm and a retardation R (550) for a wavelength of 550 nm are R (450) / R. (550) ≦ 1.
また本発明は、このような構成の液晶表示装置の製造方法でもあり、位相差層を形成する際には、第１の基板上に予め形成した配向膜上に重合性液晶モノマーを含有する溶液を塗布して位相差層形成膜を形成する第１工程と、位相差層形成膜に対して配向処理を行う第２工程と、配向処理された相差層形成膜に含有される前記重合性液晶モノマーを三次元架橋させて、当該位相差層形成膜を硬化させる第３工程とを行う。 The present invention is also a method for manufacturing a liquid crystal display device having such a configuration, and when forming a retardation layer, a solution containing a polymerizable liquid crystal monomer on an alignment film previously formed on a first substrate. A first step of forming a retardation layer forming film by applying a coating, a second step of performing an alignment treatment on the retardation layer forming film, and the polymerizable liquid crystal contained in the alignment layer formed film subjected to the alignment treatment A third step is performed in which the monomer is three-dimensionally crosslinked to cure the retardation layer forming film.
このような構成では、２枚の基板間に液晶層が封止された液晶セル内に、上記リタデーション条件であって逆分散性の位相差層が設けられることになる。このため、単層構造でありながらもより広い波長帯域に対応する位相差層がインセルで配置されることになる。またこの位相差層は重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成を備えているため、耐熱性および耐薬品性に優れている。 In such a configuration, a retardation layer having reverse dispersion under the above retardation conditions is provided in a liquid crystal cell in which a liquid crystal layer is sealed between two substrates. For this reason, although it is a single layer structure, the phase difference layer corresponding to a wider wavelength band is arrange | positioned by in-cell. In addition, since this retardation layer has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked, it has excellent heat resistance and chemical resistance.
以上より本発明によれば、単層構造でありながらも広帯域性を備え、かつ耐熱性および耐薬品性に優れた信頼性の高い位相差層を、インセル化した液晶表示装置を実現することが可能である。 As described above, according to the present invention, it is possible to realize a liquid crystal display device that is in-celled with a highly reliable retardation layer having a broadband property and having excellent heat resistance and chemical resistance while having a single layer structure. Is possible.
次に本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。先ず、実施形形態の液晶表示装置に設けられる位相差層、位相差層の形成方法、位相差層を用いた液晶表示装置の構成の順に説明を行う。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, a retardation layer provided in the liquid crystal display device of the embodiment, a method for forming the retardation layer, and a configuration of the liquid crystal display device using the retardation layer will be described in this order.
＜位相差層＞
本発明の液晶表示装置に用いる位相差層は、重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成を第１の特徴としている。またこの位相差層は、波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とが、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１であって順分散ではなく、好ましくは逆分散性であることを第２の特徴としている。
<Phase difference layer>
The retardation layer used in the liquid crystal display device of the present invention has a first feature of a configuration in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked. Further, this retardation layer has a phase difference R (450) for a wavelength of 450 nm and a phase difference R (550) for a wavelength of 550 nm so that R (450) / R (550) ≦ 1 and is not forward-dispersed, The second feature is that it is inversely dispersible.
図１には、波長に対する位相差（リタデーション）のグラフを示す。このグラフに示すように、本発明で用いる位相差層は、グラフ中の破線で示すような長波長帯域ほどリタデーションが低くなる順分散性ではなく、好ましくはグラフ中の実践で示すような長波長帯域ほどリタデーションが高くなる逆分散性であることとする。 In FIG. 1, the graph of the phase difference (retardation) with respect to a wavelength is shown. As shown in this graph, the retardation layer used in the present invention is not forward-dispersive, in which the retardation is lower in the longer wavelength band as indicated by the broken line in the graph, preferably the longer wavelength as indicated by the practice in the graph. It is assumed that the reverse dispersion is such that the retardation becomes higher as the bandwidth is increased.
以上のような位相差層は、例えば下記化合物（１）〜（５）の、いわゆる重合性液晶モノマーであって放射線硬化型の液晶(ネマチック液晶）を単独または必要に応じて２種類以上を配向させた状態で三次元架橋させた構成であることとする。 The retardation layer as described above is, for example, a so-called polymerizable liquid crystal monomer of the following compounds (1) to (5), and aligns two or more kinds of radiation-curable liquid crystal (nematic liquid crystal) as needed. It is assumed that the structure is three-dimensionally cross-linked in such a state.
＜位相差層の形成方法−１＞
図２は、上述したような位相差層の形成手順の第１例を示すフローチャートであり、以下このフローチャートに従って位相差層の形成方法の第１例を説明する。
<Method for Forming Retardation Layer-1>
FIG. 2 is a flowchart showing a first example of a procedure for forming a retardation layer as described above. Hereinafter, a first example of a method for forming a retardation layer will be described with reference to this flowchart.
先ず、ステップＳ１では、配向機能を有する配向面を備えた基板を用意する。ここでは例えば、ガラス基板上に配向膜を形成する。配向膜の形成は、公知の用法を適用することができる。配向膜には、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール等、通常の液晶表示装置に用いられる配向膜が用いられる。このような配向膜のラビング処理はレーヨン、綿、ポリアミド、ポリメチルメタアクリレート等の素材からなる選ばれるラビング布を金属ロールに捲きつけ、これをフィルムに接した状態で回転させるか、ロールを固定したままフィルムを搬送することにより、フィルム面をラビングで摩擦する通常の方法が適用される。尚、配向面を備えた基板として、もともと配向機能を有する支持フィルムを基板として用意しても良い。 First, in step S1, a substrate having an alignment surface having an alignment function is prepared. Here, for example, an alignment film is formed on a glass substrate. A known method can be applied to the formation of the alignment film. As the alignment film, an alignment film used for a normal liquid crystal display device such as polyimide, polyamide, polyvinyl alcohol, or the like is used. For the rubbing treatment of the alignment film, a selected rubbing cloth made of materials such as rayon, cotton, polyamide, polymethylmethacrylate, etc. is rubbed against a metal roll and rotated while in contact with the film, or the roll is fixed. A normal method of rubbing the film surface by rubbing is applied by conveying the film as it is. In addition, you may prepare the support film which has an orientation function originally as a board | substrate provided with the orientation surface.
次に、ステップＳ２では、基板の配向面上に位相差層形成膜を塗布成膜する。化合物（１）〜（５）として例示した重合性液晶モノマーを含有する溶液（塗布液）を配向面上にスピンコートにて塗布成膜する。ただし、位相差層形成膜中における重合性液晶モノマーのうちの５０％以上が、２つ以上のアクリレート基を末端に有するものであることとする。これにより、重合性液晶モノマーを三次元架橋させた後の位相差層を、耐熱性および耐薬品性の高いものとすることができる。 Next, in step S2, a retardation layer forming film is formed by coating on the alignment surface of the substrate. A solution (coating liquid) containing the polymerizable liquid crystal monomer exemplified as the compounds (1) to (5) is applied onto the alignment surface by spin coating. However, 50% or more of the polymerizable liquid crystal monomer in the retardation layer forming film has two or more acrylate groups at the terminal. Thereby, the retardation layer after three-dimensionally crosslinking the polymerizable liquid crystal monomer can have high heat resistance and chemical resistance.
また、ここでの位相差層形成膜の塗布成膜においては、位相差層の設計膜厚に対応する膜厚で位相差層形成膜を塗布成膜することが重要である。またこの際に用いる塗布液は、上記重合性液晶モノマーの他に、界面活性剤および光重合開始剤など添加剤を適宜、溶剤中に溶解させることによって調整する。尚、最終的に得られる位相差を、逆波長分散性とするには、ＷＯ２００６／０５２００１などに公開されている各種添加剤を混ぜることにより得ることができる。 In addition, in the coating formation of the retardation layer forming film here, it is important to apply and form the retardation layer forming film with a film thickness corresponding to the designed film thickness of the retardation layer. The coating liquid used at this time is adjusted by appropriately dissolving additives such as a surfactant and a photopolymerization initiator in a solvent in addition to the polymerizable liquid crystal monomer. In addition, in order to make the phase difference finally obtained into reverse wavelength dispersion, it can be obtained by mixing various additives disclosed in WO2006 / 052001 or the like.
上記界面活性剤としては、アクリル系、シリコーン系、フッ素系などを単独または複数種を混合したものを用いることができる。アクリル系の材料としては、ＢＹＫ３６１、３０７、３２５、３４４、３５２、３５４、３９２（以上、ビックケミー社製商品名）、ポリフロー４６１（共栄社化学社製商品名）を挙げることができる。フッ素系材料としては、ＳＣ１０１，ＳＣ３８６（以上、ＡＧＣ社製商品名）、メガファックＲ−０８、Ｒ−９０、Ｆ−４３０（以上、大日本インキ社製商品名）、ＤＭＡＯＰ（アズマックス社製商品名）、シリコーン系材料としては、KF-643、X22-1927（信越化学工業社製商品名）等を用いることができる。 As the surfactant, acrylics, silicones, fluorines, or the like can be used alone or in combination. Examples of the acrylic material include BYK361, 307, 325, 344, 352, 354, 392 (above, trade name manufactured by BYK Chemie) and Polyflow 461 (trade name, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). Examples of fluorine-based materials include SC101, SC386 (above, product names manufactured by AGC), MegaFac R-08, R-90, F-430 (above, product names manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), DMAOP (products manufactured by Asmax Corporation). Name), KF-643, X22-1927 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like can be used as the silicone material.
界面活性剤の添加量は、液晶の配向を阻害しない範囲で適宜添加することができるが、一般的には液晶材料に対して０．００１ｗｔ％〜１０ｗｔ％程度が好ましく、さらに好ましくは、０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％程度が好ましい。 The addition amount of the surfactant can be appropriately added as long as the alignment of the liquid crystal is not disturbed. In general, the amount is preferably about 0.001 wt% to 10 wt% with respect to the liquid crystal material, and more preferably, about 0.001 wt%. About 01 wt% to 5 wt% is preferable.
このような界面活性剤は、この重合性液晶組成物を用いた光学素子において、重合性液晶モノマーのチルト角を制御するものであり、面内で傾斜角の均一なチルト角で重合性液晶モノマーを配向させた光学素子を形成することができる。 Such a surfactant controls the tilt angle of the polymerizable liquid crystal monomer in an optical element using this polymerizable liquid crystal composition, and the polymerizable liquid crystal monomer has a uniform tilt angle within the plane. Can be formed.
また光重合開始剤としては、チオキサントン系光重合開始剤（例、２，４-ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン）、ベンゾフェノン系光重合開始剤（例、ベンゾフェノン、（４−（メチルフェニルチオ）フェニル）フェニルメタノン）やアントラキノン系光重合開始剤（例、エチルアントラキノン）を用いることができる。市販の光重合開始剤（チバジャパン製のIrgacure１８４、Irgacure３６９、Irgacure６５１、Irgacure８１９、Irgacure９０７、IrgacureＯＸＥ０２、IrgacureＯＸＥ０１、Darocur １１７３、Darocur ４２６５）なども用いることができ、必要に応じて２つをブレンドさせても良い。また、他の光重合開始剤や重合開始助剤をブレンドして用いても良い。添加量としては、一般的に０．０１〜１５重量％、好ましくは０．１〜１２重量％、より好ましくは０．５〜１０重量％の範囲で重合性液晶モノマーに添加することができる。 Further, as the photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator (eg, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone), benzophenone photopolymerization initiator (eg, benzophenone, (4- (methylphenylthio) phenyl) ) Phenylmethanone) or an anthraquinone photopolymerization initiator (eg, ethyl anthraquinone) can be used. Commercially available photopolymerization initiators (Irgacure 184, Irgacure 369, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 907, Irgacure OXE02, Irgacure OXE01, Darocur 1173, Darocur 4265 manufactured by Ciba Japan) and the like may be blended as necessary. . Further, other photopolymerization initiators and polymerization initiation assistants may be blended and used. The addition amount is generally 0.01 to 15% by weight, preferably 0.1 to 12% by weight, and more preferably 0.5 to 10% by weight.
次に、ステップＳ３では、減圧処理によって位相差層形成膜中の溶剤を除去する。 Next, in step S3, the solvent in the retardation layer forming film is removed by a decompression process.
その後、ステップＳ４では、位相差層形成膜に対して配向処理を行う。この際、位相差層形成膜に対して加温処理を行うことにより、位相差層形成膜中の重合性液晶モノマーを液晶相とし、下地の配向面の配向方向に対して配向させる。尚ここの工程での加温は、重合性液晶モノマーが液晶相を示す範囲から架橋しない範囲の低温で行われることが重要である。また、基板における配向面の配向規制力や重合性液晶モノマーが液晶相となる温度範囲によっては、加温処理を行うことなく重合性液晶モノマーが配向面の配向方向に対して配向するため、この加温処理は必要に応じて行えば良い。また重合性液晶モノマーによっては、減圧乾燥処理で配向させることも可能である。 Thereafter, in step S4, an alignment process is performed on the retardation layer forming film. At this time, by performing a heating process on the retardation layer forming film, the polymerizable liquid crystal monomer in the retardation layer forming film is made into a liquid crystal phase and is aligned with respect to the alignment direction of the underlying alignment surface. It is important that the heating in this step is performed at a low temperature within a range where the polymerizable liquid crystal monomer does not crosslink from the range where the liquid crystal phase exhibits a liquid crystal phase. Further, depending on the alignment regulating force of the alignment plane in the substrate and the temperature range in which the polymerizable liquid crystal monomer becomes a liquid crystal phase, the polymerizable liquid crystal monomer is aligned with respect to the alignment direction of the alignment plane without performing a heating treatment. The heating process may be performed as necessary. Further, depending on the polymerizable liquid crystal monomer, it is possible to align by a vacuum drying treatment.
次いで、ステップＳ５では、配向処理された相差層形成膜に対して室温または加温状態で全面露光を行うことにより、位相差層形成膜に含有される重合性液晶モノマーを三次元架橋させて、当該位相差層形成膜を硬化させなる位相差層を得る。ここで露光光（放射線）の光源として、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などの水銀励起光源、およびキセノン光源等を用いることができる。なかでも、光重合開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを有する光源を選択することが好ましい。 Next, in step S5, the polymerizable liquid crystal monomer contained in the retardation layer forming film is three-dimensionally cross-linked by exposing the entire surface of the retardation layer forming film subjected to the alignment treatment at room temperature or in a heated state. A retardation layer that cures the retardation layer forming film is obtained. Here, as a light source of exposure light (radiation), a mercury excitation light source such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, or an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon light source, or the like can be used. Among these, it is preferable to select a light source having an intensity peak in a wavelength band where the photopolymerization initiator has high sensitivity.
その後、ステップＳ６では、熱処理によって位相差層を硬化させる。ここでは、１５０℃〜２３０℃の加熱温度で１０分〜数時間程度の熱処理を行う。 Thereafter, in step S6, the retardation layer is cured by heat treatment. Here, heat treatment is performed at a heating temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for about 10 minutes to several hours.
以上により、波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とがＲ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１である位相差層を得る。
Thus, a retardation layer is obtained in which the retardation R (450) for the
＜位相差層の形成方法−２＞
図３は、上述したような位相差層の形成手順の第２例を示すフローチャートであり、以下このフローチャートに従ってパターニングされた位相差層の形成方法の第２例を説明する。
<Method for forming retardation layer-2>
FIG. 3 is a flowchart showing a second example of the procedure for forming the retardation layer as described above. Hereinafter, a second example of the method for forming the retardation layer patterned according to this flowchart will be described.
先ずステップＳ１〜ステップＳ４を、先の第１例と同様に行い、化合物（１）〜（５）として例示した重合性液晶モノマーを含有する位相差層形成膜に対して加温による配向処理を行う。 First, Step S1 to Step S4 are performed in the same manner as in the first example, and an alignment treatment by heating is performed on the retardation layer forming film containing the polymerizable liquid crystal monomer exemplified as the compounds (1) to (5). Do.
その後、新たなステップＳ２１では、位相差層形成膜を室温にまで冷却する。 Thereafter, in a new step S21, the retardation layer forming film is cooled to room temperature.
次に、ステップＳ２２では、位相差層形成膜に対してフォトマスクなどを介してパターン露光を行うことにより、露光部のみにおいて重合性液晶モノマーを三次元架橋させる。また、このパターン露光における露光光（放射線）の光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などの水銀励起光源、およびキセノン光源等を用いることができる。なかでも、光重合開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを有する光源を選択することが好ましい。 Next, in step S22, the polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked only in the exposed portion by performing pattern exposure on the retardation layer forming film through a photomask or the like. In addition, as a light source of exposure light (radiation) in this pattern exposure, a mercury excitation light source such as a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, or an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon light source, or the like can be used. Among these, it is preferable to select a light source having an intensity peak in a wavelength band where the photopolymerization initiator has high sensitivity.
次いで、ステップＳ２３では、位相差層形成膜が可溶な現像液を用いて現像処理を行う。現像液としては、位相差形成膜が可溶であれば良く、無機アルカリ水溶液、有機アルカリ水溶液、有機溶媒などが用いられる。これにより、先のステップＳ２２におけるパターン露光によって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた部分のみをのみを残すように当該位相差層形成膜をパターニングしてなる位相差層を得る。尚、現像処理後にはリンス液を用いた洗浄処理を行なっても良い。 Next, in step S23, development processing is performed using a developer in which the retardation layer forming film is soluble. As the developer, it is sufficient that the retardation forming film is soluble, and an inorganic alkaline aqueous solution, an organic alkaline aqueous solution, an organic solvent, or the like is used. Thus, a retardation layer is obtained by patterning the retardation layer forming film so as to leave only the portion where the polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked by the pattern exposure in the previous step S22. In addition, after the developing process, a cleaning process using a rinse solution may be performed.
またステップＳ２４では、乾燥処理を行うことにより、現像液およびリンス液を除去する。また、別のパターニング手法として、未露光部を温度調整により等方相にし、光または熱にて硬化させる手法を用いても良い。 In step S24, the developer and the rinse liquid are removed by performing a drying process. Further, as another patterning method, a method of making an unexposed portion isotropic by adjusting temperature and curing with light or heat may be used.
以上の後には、第１例と同様にステップＳ６として熱処理によって位相差層を硬化させる。ここでは、１５０℃〜２３０℃の加熱温度で１０分〜数時間程度の熱処理を行う。 After the above, the retardation layer is cured by heat treatment as step S6 as in the first example. Here, heat treatment is performed at a heating temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for about 10 minutes to several hours.
以上により、波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とがＲ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１である位相差層を得る。この位相差層は、基板上にステップＳ２２で行ったパターン露光に応じた形状でパターニングされてものとなる。
Thus, a retardation layer is obtained in which the retardation R (450) for the
＜液晶表示装置−１＞
図４は、本発明を適用した透過型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図である。以下、この図に基づいて第１実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。
<Liquid crystal display device-1>
FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram showing the configuration of a transmissive liquid crystal display device to which the present invention is applied. Hereinafter, the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment will be described with reference to FIG.
この図に示す液晶表示装置１aは、透過型の液晶表示装置であり、透明材料からなる第１基板１０と第２基板２０との間に液晶層ＬＣが封止されている。そして、第２基板２０における液晶層ＬＣ側に上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が設けられている。また第１基板１０の外側面には、透過表示の視野角を補償や透過率を確保するための位相差板４１が密着状態で設けられている。またらさらに第１基板１０および第２基板２０の外側面に、クロスニコルに偏光板４３，４５が密着状態で設けられている。そして第１基板１０側に配置された偏光板４３の外側には、バックライト４７、および反射板３９がこの順に配置されている。
The liquid crystal display device 1a shown in this figure is a transmissive liquid crystal display device, and a liquid crystal layer LC is sealed between a
このうち第１基板１０は、ガラス基板のような透明基板からなる。この第１基板１０における液晶層ＬＣに向かう面上には、例えば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）等を用いた駆動回路を絶縁膜で覆ってなる駆動回路層１１が設けられている。そして、この駆動回路層１１上には透明画素電極１３ｔが配列形成され、これらの透明画素電極１３ｔを覆う状態で配向膜１５が設けられている。
Among these, the 1st board |
一方、第２基板２０は、ガラス基板のような透明基板からなる。この第２基板２０における液晶層ＬＣに向かう面上には、位相差層３０の下地となる配向膜２１が設けられている。そして、この配向膜２１の配向軸に沿って配向してなる上述の位相差層３０が、第２基板２０における表示領域の全面に設けられている。このような位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ａの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光（例えば波長５５０ｎｍ）でのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲で設定されることとする。またこのような位相差層３０は、図２のフローチャートを用いて説明した製造方法を適用して形成されている。また、配向膜の配向軸（位相差層の遅相軸または進相軸）についても液晶表示装置１ａの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定されていることとする。
On the other hand, the
またこの位相差層３０上には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色のカラーフィルタと必要に応じてブラックマトリックスを設けたカラーフィルタ層２３が設けられている。さらにこの上部には、透明導電性材料からなる共通電極２５および配向膜２７がこの順に設けられている。この配向膜２７は、例えば第１基板１０側に設けられた配向膜１５に対して反平行にラビング処理または配向処理されたものであることとする。
On the retardation layer 30, a
尚、液晶層ＬＣは、以上の第１基板１０-第２基板２０の周縁に設けられた封止剤２９によって、これらの基板１０−２０間に充填封止されている。
The liquid crystal layer LC is filled and sealed between the substrates 10-20 by the sealing
以上のように構成された第１実施形態の透過型の液晶表示装置１ａでは、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、上記リタデーション条件であって順分散性ではなく好ましくは逆分散性の位相差層３０が設けられることになる。このため、コントラストに優れ表示品位が良く、しかも単層構造でありながらもより広い波長帯域に対応する位相差層３０がインセルで配置されることになる。また、この位相差層３０は重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成を備えているため、耐熱性および耐薬品性に優れている。 In the transmissive liquid crystal display device 1a according to the first embodiment configured as described above, the liquid crystal cell in which the liquid crystal layer LC is sealed between the substrates 10-20 is in the above-described retardation condition and in the forward dispersibility. Preferably, the reverse dispersion phase difference layer 30 is provided. For this reason, the phase difference layer 30 corresponding to a wider wavelength band is disposed in-cell while being excellent in contrast and display quality and having a single layer structure. Further, since the retardation layer 30 has a configuration in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked, it has excellent heat resistance and chemical resistance.
この結果、以上の液晶表示装置１ａは、単層構造でありながらも広帯域性を備え、かつた耐熱性および耐薬品性に優れた信頼性の高い位相差層３０をインセル化したてものであるため、製造プロセスの簡便化と信頼性の向上が図られたものとなる。 As a result, the above-described liquid crystal display device 1a has a single layer structure, but has a wide band property, and has a highly reliable retardation layer 30 having excellent heat resistance and chemical resistance, and is in-cell. Therefore, the manufacturing process is simplified and the reliability is improved.
尚、上記液晶層ＬＣが、ホメオトロピック配向の液晶分子を用いて構成されている場合、この液晶表示装置１ａはＶＡモードで駆動されるものとなる。そしてこのようなＶＡモード型の液晶表示装置において、逆波長分散型の位相差層３０を透過部に設けることにより、透過率アップや斜め方向からのコントラストアップなど透過表示品位も優れた液晶表示装置を提供することができる。またこの液晶層ＬＣがホモジニアス配向する液晶分子で構成されている場合であれば、この液晶表示装置１ａは、ＥＣＢモードや横電界モードで駆動されるものとなる。そしてこのような液晶表示装置において、逆波長分散型の位相差板を透過部に設けることにより、透過率アップや斜め方向からのコントラストアップなど透過表示品位も優れた液晶表示装置を提供することができる。 Note that, when the liquid crystal layer LC is configured using homeotropic alignment liquid crystal molecules, the liquid crystal display device 1a is driven in the VA mode. In such a VA mode type liquid crystal display device, the reverse wavelength dispersion type retardation layer 30 is provided in the transmission part, so that the liquid crystal display device is also excellent in transmission display quality such as increased transmittance and increased contrast from an oblique direction. Can be provided. If the liquid crystal layer LC is composed of liquid crystal molecules that are homogeneously aligned, the liquid crystal display device 1a is driven in an ECB mode or a transverse electric field mode. In such a liquid crystal display device, by providing a reverse wavelength dispersion type retardation plate in the transmission part, it is possible to provide a liquid crystal display device having excellent transmission display quality such as increased transmittance and increased contrast from an oblique direction. it can.
＜液晶表示装置−２＞
図５は、本発明を適用した透過型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図である。以下、この図に基づいて第２実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。尚、図４を用いて説明した構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Liquid crystal display device-2>
FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram showing a configuration of a transmissive liquid crystal display device to which the present invention is applied. Hereinafter, the configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component demonstrated using FIG. 4, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
この図に示す液晶表示装置１ｂは、透過型の液晶表示装置であり、図４を用いて説明した第１実施形態の液晶表示装置と異なるところは、第２基板２０の液晶層ＬＣ側の積層順にあり、他の構成は同様である。
The liquid crystal display device 1b shown in this figure is a transmissive liquid crystal display device, and is different from the liquid crystal display device of the first embodiment described with reference to FIG. 4 in that the
すなわち、第２基板２０における液晶層ＬＣに向かう面上には、カラーフィルタ層２３が設けられ、これを覆う状態で表面平坦な保護絶縁膜３１が設けられている。そしてこの保護絶縁膜３１上に配向膜２１を介して上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が全面に設けられ、この位相差層３０を覆う状態で、共通電極２５および配向膜２７がこの順に設けられている。尚、このような位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ｂの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光（例えば波長５５０ｎｍ）でのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍで設定されることと、配向軸は偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定することは第1実施形態と同様である。
That is, the
以上のように構成された第２実施形態の透過型の液晶表示装置１ｂであっても、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、順分散性ではなく好ましくは逆分散性であって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成の位相差層３０を設けているため、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。 Even in the transmissive liquid crystal display device 1b of the second embodiment configured as described above, the liquid crystal cell in which the liquid crystal layer LC is sealed between the substrates 10-20 is preferably not forwardly dispersible. Since the retardation layer 30 that is reversely dispersible and has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked is provided, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
＜液晶表示装置−３＞
図６は、本発明を適用した反射型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図である。以下、この図に基づいて第３実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。尚、図４，５を用いて説明した先の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Liquid crystal display device-3>
FIG. 6 is a sectional view showing the structure of a reflective liquid crystal display device to which the present invention is applied. The configuration of the liquid crystal display device according to the third embodiment will be described below with reference to this figure. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component of previous embodiment demonstrated using FIG.4, 5, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
この図に示す液晶表示装置１ｃは、反射型の液晶表示装置であり、第１基板１０と透明材料からなる第２基板２０との間に液晶層ＬＣが封止され、第２基板２０における液晶層ＬＣ側に上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が全面に設けられている。また第２基板２０の外側面のみに偏光板４５が密着状態で設けられている。
The liquid crystal display device 1c shown in this figure is a reflective liquid crystal display device, in which a liquid crystal layer LC is sealed between a
このうち第１基板１０における液晶層ＬＣに向かう面上には、駆動回路層１１が設けられ、この上部には反射層を兼ねた画素電極１３’が配列形成され、これらの画素電極１３’を覆う状態で配向膜１５が設けられている。
Among these, the
一方、第２基板２０側の構成は第１実施形態と同様である。すなわち第２基板２０は、ガラス基板のような透明基板からなる。この第２基板２０における液晶層ＬＣに向かう面上には、配向膜２１を介して上述の位相差層３０が全面に設けられ、さらにカラーフィルタ層２３、共通電極２５、および配向膜２７がこの順に設けられている。この配向膜２７は、例えば第１基板１０側に設けられた配向膜１５に対して例えば反平行にラビング処理または配向処理されたものであることとする。尚、このような位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ｃの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光（例えば波長５５０ｎｍ）でのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍで設定されることと、配向軸は偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定することは第１実施形態と同様である。
On the other hand, the configuration on the
以上のように構成された第３実施形態の反射型の液晶表示装置１ｃであっても、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、順分散性ではなく好ましくは逆分散性であって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成の位相差層３０を設けているため、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。 Even the reflective liquid crystal display device 1c of the third embodiment configured as described above is preferably not forward-dispersible in a liquid crystal cell in which a liquid crystal layer LC is sealed between substrates 10-20. Since the retardation layer 30 that is reversely dispersible and has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked is provided, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
＜液晶表示装置−４＞
図７は、本発明を適用した反射型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図である。以下、この図に基づいて第４実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。尚、図４〜６を用いて説明した先の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Liquid crystal display device-4>
FIG. 7 is a cross-sectional configuration diagram showing the configuration of a reflective liquid crystal display device to which the present invention is applied. The configuration of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment will be described below with reference to this drawing. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component of previous embodiment demonstrated using FIGS. 4-6, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
この図に示す液晶表示装置１ｄは、反射型の液晶表示装置であり、図６を用いて説明した第３実施形態の液晶表示装置と異なるところは、第２基板２０の液晶層ＬＣ側の積層順にあり、他の構成は同様である。
The liquid crystal display device 1d shown in this figure is a reflective liquid crystal display device, and is different from the liquid crystal display device of the third embodiment described with reference to FIG. 6 in that the
すなわち、第２基板２０における液晶層ＬＣに向かう面上には、カラーフィルタ層２３が設けられ、これを覆う状態で表面平坦な保護絶縁膜３１が設けられている。そしてこの保護絶縁膜３１上に配向膜２１を介して上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が全面に設けられ、この位相差層３０を覆う状態で、共通電極２５および配向膜２７がこの順に設けられている。尚、このような位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ｄの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光（例えば波長５５０ｎｍ）でのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍで設定されることと、配向軸は偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定することは第１実施形態と同様である。
That is, the
以上のように構成された第４実施形態の反射型の液晶表示装置１ｄであっても、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、順分散性ではなく好ましくは逆分散性であって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成の位相差層３０を設けているため、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。 Even in the reflection type liquid crystal display device 1d of the fourth embodiment configured as described above, the liquid crystal cell in which the liquid crystal layer LC is sealed between the substrates 10-20 is preferably not forwardly dispersive. Since the retardation layer 30 that is reversely dispersible and has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked is provided, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
＜液晶表示装置−５＞
図８は本発明を適用した半透過半反射型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図であり、図９は図８の液晶表示装置における１画素分の構成を示す要部の断面構成図である。以下、この図に基づいて第５実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。尚、図４〜７を用いて説明した先の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Liquid crystal display device-5>
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a transflective liquid crystal display device to which the present invention is applied, and FIG. It is. The configuration of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment will be described below with reference to this drawing. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component of previous embodiment demonstrated using FIGS. 4-7, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
これらの図に示す液晶表示装置１ｅは、半透過半反射型の液晶表示装置であり、透明材料からなる第１基板１０と第２基板２０との間に液晶層ＬＣが封止され、第２基板２０における液晶層ＬＣ側に上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が設けられている。また第１基板１０の外側面には、位相差板４１が密着状態で設けられ、さらに第１基板１０および第２基板２０の外側面に、クロスニコルに偏光板４３，４５が密着状態で設けられている。また第１基板１０側に配置された偏光板４３の外側には、バックライト４７、および反射板３９が配置されている。
The liquid crystal display device 1e shown in these drawings is a transflective liquid crystal display device, in which a liquid crystal layer LC is sealed between a
第１基板１０の液晶層ＬＣに向かう面上には、駆動回路層１１が設けられ、この駆動回路層１１上の各画素１０ａには透明画素電極１３ｔと反射画素電極１３ｒとからなる画素電極が配列形成されている。ここでは、各画素１０ａにおいて反射画素電極１３ｒが配置された部分が反射表示部１０ｒとなり、透明画素電極１３ｔのみが形成された部分が透過表示部１０ｔとなる。
A
また、特に図９に示されるように、反射表示部１３においては、反射画素電極１３ｒが表面凹凸形状の拡散反射層として構成されていることが好ましい。この場合、反射画素電極１３ｒの下地となる反射表示部１０ｒの駆動回路層１１において、薄膜トランジスタＴｒを用いた駆動回路を覆う絶縁膜１１ａの表面を凹凸形状に整形し、この凹凸形状に沿って反射画素電極１３ｒを設ける。尚、画素電極と薄膜トランジスタＴｒとは、絶縁膜１１ａに設けた接続孔ｈを介して透明画素電極１３ｔまたは反射画素電極１３ｒによって接続させる。
In particular, as shown in FIG. 9, in the reflective display unit 13, the
そして、以上のような透明画素電極１３ｔと拡散反射層として用いられる反射画素電極１３ｒとからなる画素電極を覆う状態で配向膜１５が設けられている。
The
一方、第２基板２０の液晶層ＬＣに向かう面上には、カラーフィルタ層２３、保護絶縁膜３１、配向膜２１、上述した構成の順分散性ではない位相差層３０が設けられている。この位相差層３０は、各画素における反射画素電極１３ｒ（すなわち反射表示部１０ｒ）に対応してパターン形成されており、図３のフローチャートを用いて説明した製造方法を適用して形成されている。
On the other hand, on the surface of the
また、特に図９に示されるように、この位相差層３０の膜厚によって、反射表示部１０ｒにおける液晶層ＬＣの層厚（セルギャップｇｒ）と、透過表示部１０ｔにおける液晶層ＬＣの層厚（セルギャップｇｔ）とが調整されている。例えば、これらのセルギャップｇｒ，ｇｔは、画素電極１３ｒ，１３−共通電極２５間に電圧を印加した状態において、反射表示部１０ｒで液晶層ＬＣがλ／４の位相差を有し、透過表示部１０ｔで液晶層ＬＣがλ／２の位相差を有する様に設定されていることとする。また位相差層３０は、上記膜厚を有すると共に、位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ｅにおける反射表示部１０ｒの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光（例えば波長５５０ｎｍ）でのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍで設定されることと、配向軸は偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定されることとする。
In particular, as shown in FIG. 9, depending on the thickness of the retardation layer 30, the layer thickness (cell gap gr) of the liquid crystal layer LC in the reflective display portion 10r and the layer thickness of the liquid crystal layer LC in the transmissive display portion 10t. (Cell gap gt) is adjusted. For example, the cell gaps gr and gt have a phase difference of λ / 4 in the reflective display unit 10r in a state where a voltage is applied between the
そして、以上のような配向膜２１および位相差層３０を覆う状態で、共通電極２５および配向膜２７がこの順に設けられている。
In addition, the
以上のように構成された第５実施形態の半透過半反射型の液晶表示装置１ｅあっても、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、順分散性ではなく好ましくは逆分散性であって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成の位相差層３０を設けているため、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。また、反射表示部１０ｒにのみ位相差層３０をパターン形成したことにより、透過表示にはなんら影響を与えない透過表示品位および反射表示品位に優れた液晶表示装置１ｅを提供することができる。 Even in the transflective liquid crystal display device 1e according to the fifth embodiment configured as described above, the liquid crystal cell in which the liquid crystal layer LC is sealed between the substrates 10-20 is not forwardly dispersible. Since the retardation layer 30 is preferably provided which is reversely dispersible and has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked, the same effect as in the first embodiment can be obtained. In addition, since the retardation layer 30 is patterned only on the reflective display portion 10r, it is possible to provide the liquid crystal display device 1e that has excellent transmissive display quality and reflective display quality that does not affect the transmissive display.
尚、図９においては、膜トランジスタＴｒを用いた画素回路を画素１０ａ内に配置した構成を示した。この場合画素回路（薄膜トランジスタＴｒ）付近の配向不良部、光洩れ部や非表示部は遮光することが好ましい。また、画素回路は、画素１０ａの周辺に配置することが好ましい。
FIG. 9 shows a configuration in which a pixel circuit using the film transistor Tr is arranged in the
＜液晶表示装置−６＞
図１０は本発明を適用した半透過半反射型の液晶表示装置の構成を示す断面構成図であり、図１１は図１０の液晶表示装置における１画素分の構成を示す要部の断面構成図である。以下、この図に基づいて第６実施形態の液晶表示装置の構成を説明する。尚、図４〜９を用いて説明した先の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Liquid crystal display device-6>
10 is a cross-sectional view showing the structure of a transflective liquid crystal display device to which the present invention is applied, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the main part showing the structure of one pixel in the liquid crystal display device of FIG. It is. The configuration of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment will be described below with reference to this drawing. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as the component of previous embodiment demonstrated using FIGS. 4-9, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
この図に示す液晶表示装置１ｆは、半透過半反射型の液晶表示装置であり、図８，９を用いて説明した第５実施形態の液晶表示装置と異なるところは、第１基板１０側に上述した構成の順分散性ではない位相差層３０をパターン形成した構成にある。
The liquid crystal display device 1 f shown in this figure is a transflective liquid crystal display device, and is different from the liquid crystal display device of the fifth embodiment described with reference to FIGS. 8 and 9 on the
すなわち、第１基板１０における液晶層ＬＣに向かう面上には、駆動回路層１１が設けられ、この駆動回路層１１上の各画素１０ａにおける反射表示部１０ａには、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）さらにはこれらの合金等の金属材料を用いた反射材料層３３がパターン形成されている。そして、特に図１１に示すように、反射表示部１０ｒにおいては、反射材料層３３が表面凹凸形状の拡散反射層として構成されていることが好ましい。この場合、反射材料層３３の下地となる反射表示部１０ｒの駆動回路層１１において、薄膜トランジスタＴｒを用いた駆動回路を覆う絶縁膜１１ａの表面を凹凸形状に整形し、この凹凸形状に沿って反射材料層３３を設ける。
That is, the
そして、これらの反射材料層３３を覆う状態で位相差層３０の下地となる配向膜２１が設けられ、この上部に配向膜２１に対して等方的に配向してなる上述の位相差層３０がパターン形成されている。この位相差層３０は、各画素における反射表示部１０ｒに対応してパターン形成されており、図３のフローチャートを用いて説明した製造方法を適用して形成されている。駆動回路層上に配向膜を用いた位相差層を配置する場合は、下層との導通をとるため、あらかじめ配向膜もパターニングしておくか、または位相差層形成後、現像またはドライエッチングなどで除去することが好ましい。
Then, an
ここでは、反射材料層３３上が位相差層３０で完全に覆われるように、反射材料層３３の幅Ｗ１、および位相差層３０の幅Ｗ２を設定することが重要である。このため、反射材料層３３の幅Ｗ１≦位相差層３０の幅Ｗ２であって、反射材料層３３の幅Ｗ１＜位相差層３０の幅Ｗ２であることが好ましい。また位相差層３０の下地となる配向膜２１が図示したようにパターニングされている場合、位相差層３０が所定に位置に形成されるように、位相差層３０の幅Ｗ２≦配向膜２１の幅Ｗ３であって、位相差層３０の幅Ｗ２＜配向膜２１の幅Ｗ３であることが好ましい。
Here, it is important to set the width W1 of the
また、この位相差層３０の膜厚によって、反射表示部１０ｒにおける液晶層ＬＣの層厚（セルギャップｇｒ）と、透過表示部１０ｔにおける液晶層ＬＣの層厚（セルギャップｇｔ）とが調整されている。例えば、これらのセルギャップｇｒ，ｇｔは、画素電極１３ｒ，１３−共通電極２５間に電圧を印加した状態において、反射表示部１０ｒで液晶層ＬＣがλ／４の位相差を有し、透過表示部１０ｔで液晶層ＬＣがλ／２の位相差を有する様に設定されていることとする。また位相差層３０は、上記膜厚を有すると共に、位相差層３０の位相差は、液晶表示装置１ｆにおける反射表示部１０ｒの表示モード毎に設定される光学設計に基づいて適宜設定され、例えば可視光に対して５５０ｎｍでのリデーションとして５０ｎｍ〜４００ｎｍで設定されることと、配向軸は偏光板４５の透過軸に対して０〜９０°に設定されることは第５実施形態と同様である。
Further, the thickness of the liquid crystal layer LC (cell gap gr) in the reflective display portion 10r and the thickness of the liquid crystal layer LC (cell gap gt) in the transmissive display portion 10t are adjusted by the film thickness of the retardation layer 30. ing. For example, the cell gaps gr and gt have a phase difference of λ / 4 in the reflective display unit 10r in a state where a voltage is applied between the
以上のような配向膜２１および各位相差層３０を覆う状態で、各画素１０ａには反射表示部１０ｒおよび透過表示部１０ｔに共通で透明画素電極１３ｔがパターン形成されている。この透明画素電極１３ｔは、駆動回路を覆う絶縁膜１１ａに設けた接続孔ｈを介して薄膜トランジスタＴｒに接続されている。この接続孔ｈは、位相差層３０の脇に配置されることとする。これにより、上述したように、位相差層３０で完全に覆われることを特徴とした反射材料層３３が、接続孔ｈの内壁に露出することもない。このため、例えば接続孔ｈを形成する際のドライエッチングなどの後プロセスにおいて、反射材料層３３を構成する金属材料が変質することが防止される。したがって、反射材料層３３の変質による反射特性の劣化を防止でき、反射材料層３３においての反射特性を維持することができる。
In a state of covering the
そして、以上のように位相差層３０上に設けられた透明画素電極１３ｔを覆う状態で配向膜１５が設けられている。
As described above, the
一方、第２基板２０の液晶層ＬＣに向かう面上には、カラーフィルタ層２３、共通電極２５、および配向膜２７がこの順に設けられている。
On the other hand, the
以上のように構成された第６実施形態の透過型の液晶表示装置１ｆであっても、基板１０−２０間に液晶層ＬＣが封止された液晶セル内に、順分散性ではなく好ましくは逆分散性であって重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成の位相差層３０を設けているため、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。また、反射表示部１０ｒにのみ位相差層３０をパターン形成したことにより、透過表示にはなんら影響を与えない透過表示品位および反射表示品位に優れた液晶表示装置１ｆを提供することができる。 Even in the transmissive liquid crystal display device 1f of the sixth embodiment configured as described above, the liquid crystal cell in which the liquid crystal layer LC is sealed between the substrates 10-20 is preferably not forwardly dispersible. Since the retardation layer 30 that is reversely dispersible and has a structure in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked is provided, the same effect as in the first embodiment can be obtained. In addition, since the retardation layer 30 is patterned only on the reflective display section 10r, it is possible to provide a liquid crystal display device 1f that is excellent in transmissive display quality and reflective display quality that does not affect transmissive display.
尚、図１１においては、膜トランジスタＴｒを用いた画素回路を画素１０ａ内に配置した構成を示した。この場合画素回路（薄膜トランジスタＴｒ）の形成部は遮光することが好ましい。また、画素回路は、画素１０ａの周辺に配置することが好ましい。
FIG. 11 shows a configuration in which a pixel circuit using the film transistor Tr is arranged in the
＜液晶表示装置の回路構成＞
図１２には、本発明が適用されるアクティブマトリックス駆動の液晶表示装置の回路構成を示す図である。尚、上述した実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を行う。
<Circuit configuration of liquid crystal display device>
FIG. 12 is a diagram showing a circuit configuration of an active matrix driving liquid crystal display device to which the present invention is applied. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the component same as embodiment mentioned above.
この図に示すように、液晶表示装置１ａ（１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ)には、表示領域Ａとその周辺領域Ｂとが設定されている。表示領域Ａには、複数の走査線７１と複数の信号線７２とが縦横に配線されており、それぞれの交差部に対応して１つの画素１０ａが設けられた画素アレイ部として構成されている。また、表示領域Ａには、各画素１０ａに共通の共通電極７３が設けられている。一方、周辺領域Ｂには、走査線７１を走査駆動する走査線駆動回路７４と、輝度情報に応じた映像信号（すなわち入力信号）を信号線７２に供給する信号線駆動回路７５とが配置されている。
As shown in this figure, a display area A and a peripheral area B are set in the liquid crystal display device 1a (1b, 1c, 1d, 1e, 1f). In the display area A, a plurality of
各画素１ａには、例えばスイッチング素子としての薄膜トランジスタＴｒおよび保持容量Ｃｓからなる画素回路が設けられ、さらにこの画素回路に接続された画素電極１３ｒ，１３ｔが設けられている。また保持容量Ｃｓは、共通電極７３−画素電極１３ｒ，１３ｔ間で構成される。薄膜トランジスタＴｒは、ゲートが走査線７１に接続され、ソース／ドレインの一方が信号線７２に接続され、ソース／ドレインの他方が画素電極１３ｒ，１３ｔに接続されている。
Each pixel 1a is provided with a pixel circuit composed of, for example, a thin film transistor Tr as a switching element and a storage capacitor Cs, and further provided with
そして、薄膜トランジスタＴｒを介して信号線７２から書き込まれた映像信号が保持容量Ｃｓに保持され、保持された信号量に応じた電圧が画素電極１３ｒ，１３ｔに供給される構成となっている。
The video signal written from the
以上のような画素回路の構成は、あくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成しても良い。また、周辺領域Ｂには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路を追加しても良い。 The configuration of the pixel circuit as described above is merely an example, and a capacitor element may be provided in the pixel circuit as necessary, or a plurality of transistors may be provided to configure the pixel circuit. In the peripheral region B, a necessary drive circuit may be added according to the change of the pixel circuit.
＜適用例＞
以上説明した本発明に係る表示装置は、図１３〜図１６に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
<Application example>
The display device according to the present invention described above is input to various electronic devices shown in FIGS. 13 to 16, such as digital cameras, notebook personal computers, mobile terminal devices such as mobile phones, and video cameras. The present invention can be applied to display devices for electronic devices in various fields that display a video signal or a video signal generated in the electronic device as an image or video. An example of an electronic device to which the present invention is applied will be described below.
図１３は、本発明が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル１０２やフィルターガラス１０３等から構成される映像表示画面部１０１を含み、その映像表示画面部１０１として本発明に係る表示装置を用いることにより作成される。 FIG. 13 is a perspective view showing a television to which the present invention is applied. The television according to this application example includes a video display screen unit 101 including a front panel 102, a filter glass 103, and the like, and is created by using the display device according to the present invention as the video display screen unit 101.
図１４は、本発明が適用されるデジタルカメラを示す図であり、（Ａ）は表側から見た斜視図、（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４等を含み、その表示部１１２として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 14A and 14B are diagrams showing a digital camera to which the present invention is applied. FIG. 14A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 14B is a perspective view seen from the back side. The digital camera according to this application example includes a light emitting unit 111 for flash, a display unit 112, a menu switch 113, a shutter button 114, and the like, and is manufactured by using the display device according to the present invention as the display unit 112.
図１５は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体１２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３等を含み、その表示部１２３として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 15 is a perspective view showing a notebook personal computer to which the present invention is applied. A notebook personal computer according to this application example includes a main body 121 including a keyboard 122 that is operated when characters and the like are input, a display unit 123 that displays an image, and the like. It is produced by using.
図１６は、本発明が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４等を含み、その表示部１３４として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 16 is a perspective view showing a video camera to which the present invention is applied. The video camera according to this application example includes a main body 131, a lens 132 for shooting an object on a side facing forward, a start / stop switch 133 at the time of shooting, a display unit 134, and the like. It is manufactured by using such a display device.
図１７は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図であり、（Ａ）は開いた状態での正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態での正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体１４１、下側筐体１４２、連結部（ここではヒンジ部）１４３、ディスプレイ１４４、サブディスプレイ１４５、ピクチャーライト１４６、カメラ１４７等を含み、そのディスプレイ１４４やサブディスプレイ１４５として本発明に係る表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 17 is a view showing a mobile terminal device to which the present invention is applied, for example, a mobile phone, in which (A) is a front view in an open state, (B) is a side view thereof, and (C) is in a closed state. (D) is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. The mobile phone according to this application example includes an upper housing 141, a lower housing 142, a connecting portion (here, a hinge portion) 143, a display 144, a sub display 145, a picture light 146, a camera 147, and the like. And the sub display 145 is manufactured by using the display device according to the present invention.
＜実施例１＞
下記組成物Ａを塗布液として調整した。
組成物Ａ
重合性液晶モノマー［化合物（１）］ ：１０重量部
重合性化合物［下記（１−１）］ ：１０重量部
重合開始剤［Irgacure OXE02］ ：０．２重量部
界面滑性剤［メガファックR-08］ ：０．０２重量部
溶剤［シクロヘキサノン］ ：７８．９８重量部
<Example 1>
The following composition A was prepared as a coating solution.
Composition A
Polymerizable liquid crystal monomer [compound (1)]: 10 parts by weight Polymerizable compound [following (1-1)]: 10 parts by weight Polymerization initiator [Irgacure OXE02]: 0.2 parts by weight Interfacial lubricant [Megafac® R] -08]: 0.02 parts by weight Solvent [cyclohexanone]: 78.98 parts by weight
以上のように調整した組成物Ａを、ラビング処理済の配向膜ＡＬ１２５４（ＪＳＲ社製商品名）上にスピンコートにて塗布し、その後減圧乾燥(最終到達真空度０．４Ｔｏｒｒ)にて溶剤を除去し、ホットプレート上(６０℃)にて１分間の加温による配向処理を行なった。その後、超高圧水銀灯にて照度３０ｍＷ／ｃｍ2、露光時間１０秒、窒素中（酸素濃度０．１％以下）にて３次元架橋処理を行なった。その後、オーブン（２２０℃）にて６０分間の熱処理を行なった。 The composition A prepared as described above was applied by spin coating on the rubbing-treated alignment film AL1254 (trade name, manufactured by JSR), and then the solvent was removed by drying under reduced pressure (final ultimate vacuum 0.4 Torr). After removing, alignment treatment was performed by heating on a hot plate (60 ° C.) for 1 minute. Thereafter, a three-dimensional crosslinking treatment was performed with an ultrahigh pressure mercury lamp at an illuminance of 30 mW / cm 2 , an exposure time of 10 seconds, and in nitrogen (oxygen concentration of 0.1% or less). Thereafter, heat treatment was performed in an oven (220 ° C.) for 60 minutes.
このようにして作製した位相差層の膜厚を触針式段差計にて測定したところ１．１μｍであった。また、この位相差層について正面で位相差を測定したところ、４５０ｎｍでは１１５ｎｍ、５５０ｎｍでは１３５ｎｍであり、逆波長分散性であることが確認された。 The thickness of the retardation layer produced in this way was measured with a stylus profilometer and was 1.1 μm. Further, when the phase difference of the retardation layer was measured in front, it was 115 nm at 450 nm and 135 nm at 550 nm, and it was confirmed to be reverse wavelength dispersion.
このようにして得られた位相差層をインセルで組み込んだ反射型の液晶表示装置（ＶＡモード、ノーマリーブラック）を作製した。この液晶表示装置は、黒表示の反射率は０．２％、白表示の反射率は５％であり、コントラストは２５であった。 A reflective liquid crystal display device (VA mode, normally black) incorporating the retardation layer thus obtained in-cell was produced. This liquid crystal display device had a black display reflectance of 0.2%, a white display reflectance of 5%, and a contrast of 25.
＜比較例１＞
実施例１と同様の構成で、位相差層のみを順分散性のものに換えて液晶表示装置を作製した。ここで用いた位相差層の波長分散は、λ４５０ｎｍでは１４５ｎｍ、λ５５０ｎｍでは１３５ｎｍである。このようにして作製した液晶表示装置は、黒表示の反射率は０．５％、白表示の反射率は５％であり、コントラストは１０であった。
<Comparative Example 1>
A liquid crystal display device having the same configuration as that of Example 1 was manufactured by changing only the retardation layer to one having forward dispersion. The wavelength dispersion of the retardation layer used here is 145 nm at λ450 nm and 135 nm at λ550 nm. The liquid crystal display device thus manufactured had a black display reflectance of 0.5%, a white display reflectance of 5%, and a contrast of 10.
以上の実施例１と比較例１との結果から、実施例１の逆分散性の位相差層を用いた液晶表示装置では、十分なコントラストが得られることが確認された。 From the results of Example 1 and Comparative Example 1 described above, it was confirmed that the liquid crystal display device using the reverse dispersion retardation layer of Example 1 can obtain sufficient contrast.
＜実施例２＞
下記組成物Ｂを塗布液として調整した。
組成物Ｂ
重合性液晶モノマー［化合物（１）］ ：１０重量部
重合性化合物［上記（１−１）］ ：１０重量部
重合開始剤［Irgacure OXE02］ ：０．０７重量部
界面滑性剤［メガファックR-08］ ：０．０２重量部
溶剤［シクロヘキサノン］ ：７８．９１重量部
<Example 2>
The following composition B was prepared as a coating solution.
Composition B
Polymerizable liquid crystal monomer [compound (1)]: 10 parts by weight Polymerizable compound [above-mentioned (1-1)]: 10 parts by weight Polymerization initiator [Irgacure OXE02]: 0.07 parts by weight Interfacial lubricant [Megafac® R] -08]: 0.02 part by weight Solvent [cyclohexanone]: 78.91 parts by weight
以上のように調整した組成物Ｂを、ラビング処理済の配向膜ＡＬ１２５４（ＪＳＲ社製商品名）上にスピンコートにて塗布し、その後減圧乾燥(最終到達真空度０．４Ｔｏｒｒ)にて溶剤を除去し、ホットプレート上(６０℃)にて１分間の加温による配向処理を行なった。次に、基板を室温(２５℃)まで急冷した後、空気中にてパターンの付いたフォトマスクを介して超高圧水銀灯にて照度３０ｍＷ／ｃｍ2、露光時間２秒のパターン露光による３次元架橋処理を行なった。次いで、露光された基板に室温(２５℃)のメチルエチルケトンを拡散スプレーにて吹きつけ処理を６０秒間行ない、未露光部を除去する現像処理を行なった。その後、オーブン（２２０℃）にて６０分間の熱処理を行なった。 The composition B prepared as described above was applied by spin coating on the rubbing-treated alignment film AL1254 (trade name, manufactured by JSR), and then the solvent was removed by drying under reduced pressure (final ultimate vacuum 0.4 Torr). After removing, alignment treatment was performed by heating on a hot plate (60 ° C.) for 1 minute. Next, after rapidly cooling the substrate to room temperature (25 ° C.), three-dimensional cross-linking by pattern exposure with an irradiance of 30 mW / cm 2 and an exposure time of 2 seconds with an ultrahigh pressure mercury lamp through a photomask with a pattern in the air. Processing was performed. Subsequently, room temperature (25 ° C.) methyl ethyl ketone was sprayed onto the exposed substrate by diffusion spraying for 60 seconds to perform development processing for removing unexposed portions. Thereafter, heat treatment was performed in an oven (220 ° C.) for 60 minutes.
以上のようにして位相差層を形成した後の基板表面を顕微鏡観察したところ、露光部のみに位相差層がパターン形成されていることが確認された。このようにして作製した位相差層の膜厚を触針式段差計にて測定したところ１．１μｍであった。またこのようにパターン形成された位相差層について、正面で位相差を測定したところ、λ４５０ｎｍでは１１５ｎｍ、λ５５０ｎｍでは１３５ｎｍであり、逆波長分散の位相差層がパターン形成されていることが確認された。 When the surface of the substrate after forming the retardation layer as described above was observed with a microscope, it was confirmed that the retardation layer was patterned only on the exposed portion. The thickness of the retardation layer produced in this way was measured with a stylus profilometer and was 1.1 μm. Further, when the phase difference of the retardation layer thus patterned was measured in front, it was 115 nm at λ450 nm and 135 nm at λ550 nm, and it was confirmed that the phase difference layer having a reverse wavelength dispersion was patterned. .
このようにして得られた位相差層をインセルで組み込んだ半透過半反射型の液晶表示装置（ＶＡモード、ノーマリーブラック、位相差層のパターン部のみに反射層を設置）を作製した。この液晶表示装置は、黒表示の反射率は０．１％、白表示の反射率は２．５％であり、コントラストは２５であった。 A transflective liquid crystal display device (VA mode, normally black, with a reflective layer provided only on the pattern portion of the retardation layer) in which the retardation layer thus obtained was incorporated in-cell was produced. This liquid crystal display device had a black display reflectance of 0.1%, a white display reflectance of 2.5%, and a contrast of 25.
＜比較例２＞
実施例２と同様の構成で、位相差層のみを順分散性のものに換えて液晶表示装置を作製した。ここで用いた位相差層の波長分散は、λ４５０ｎｍでは１４５ｎｍ、λ５５０ｎｍでは１３５ｎｍである。このようにして作製した液晶表示装置は、黒表示の反射率は０．２５％、白表示の反射率は２．５％であり、コントラストは１０であった。
<Comparative example 2>
A liquid crystal display device having the same configuration as that of Example 2 was manufactured by changing only the retardation layer to one having forward dispersion. The wavelength dispersion of the retardation layer used here is 145 nm at λ450 nm and 135 nm at λ550 nm. The liquid crystal display device thus fabricated had a black display reflectance of 0.25%, a white display reflectance of 2.5%, and a contrast of 10.
以上の実施例２と比較例２との結果から、実施例２の逆分散性の位相差層を用いた液晶表示装置では、十分なコントラストが得られることが確認された。 From the results of Example 2 and Comparative Example 2 described above, it was confirmed that the liquid crystal display device using the reverse dispersion retardation layer of Example 2 can obtain sufficient contrast.
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ，１ｆ…液晶表示装置、１０…第１基板、１０ａ…画素、１０ｔ…透過表示部、１０ｒ…反射表示部、２０…第２基板、３０…位相差層、ＬＣ…液晶層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b, 1c, 1d, 1e, 1f ... Liquid crystal display device, 10 ... 1st board | substrate, 10a ... Pixel, 10t ... Transmission display part, 10r ... Reflection display part, 20 ... 2nd board | substrate, 30 ... Retardation layer, LC ... Liquid crystal layer
Claims (8)
前記位相差層は、重合性液晶モノマーを三次元架橋させた構成であって、波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とが、Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１である
ことを特徴とする液晶表示装置。 In a liquid crystal display device comprising two substrates, a liquid crystal layer sealed between the substrates, and a retardation layer provided on the liquid crystal layer side of one of the substrates,
The retardation layer has a configuration in which a polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally crosslinked, and a retardation R (450) for a wavelength of 450 nm and a retardation R (550) for a wavelength of 550 nm are R (450) / R ( 550) ≦ 1, The liquid crystal display device characterized by the above.
前記２枚の基板には、透過表示部と反射表示部とがそれぞれ設定された複数の画素が配列形成され、
前記位相差層は、前記反射表示部に対応して前記各画素内においてパターニングされている
ことを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1.
A plurality of pixels each having a transmissive display portion and a reflective display portion are arranged and formed on the two substrates,
The liquid crystal display device, wherein the retardation layer is patterned in each pixel corresponding to the reflective display portion.
前記位相差層を形成する際には、
前記第１の基板の配向面上に重合性液晶モノマーを含有する溶液を塗布して位相差層形成膜を形成する第１工程と、
前記位相差層形成膜に対して配向処理を行う第２工程と、
前記配向処理された相差層形成膜に含有される前記重合性液晶モノマーを三次元架橋させて、当該位相差層形成膜を硬化させる第３工程とを行い、
波長４５０ｎｍに対する位相差Ｒ（４５０）と波長５５０ｎｍに対する位相差Ｒ（５５０）とがＲ（４５０）／Ｒ（５５０）≦１である前記位相差層を得る
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A retardation layer is formed on the first substrate, a second substrate is disposed opposite to the phase difference layer forming surface side of the first substrate, and the space between the first substrate and the second substrate. In a manufacturing method of a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is filled and sealed,
When forming the retardation layer,
A first step of forming a retardation layer forming film by applying a solution containing a polymerizable liquid crystal monomer on the alignment surface of the first substrate;
A second step of performing an alignment treatment on the retardation layer forming film;
Performing a third step of three-dimensionally crosslinking the polymerizable liquid crystal monomer contained in the orientation-treated retardation layer forming film and curing the retardation layer forming film,
Production of a liquid crystal display device, wherein the retardation layer has a retardation R (450) for a wavelength of 450 nm and a retardation R (550) for a wavelength of 550 nm satisfying R (450) / R (550) ≦ 1. Method.
前記位相差層形成膜中における前記重合性液晶モノマーのうちの５０％以上は、２つ以上のアクリレート基を末端に有する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 3,
50% or more of the polymerizable liquid crystal monomers in the retardation layer forming film have two or more acrylate groups at their ends. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
前記第３工程では、前記位相差層形成膜に対してパターン露光を行うことにより、露光部のみにおいて前記重合性液晶モノマーを三次元架橋させ、
その後、前記位相差層形成膜の現像処理を行うことにより前記露光部のみを残すように当該位相差層形成膜をパターニングする第４工程を行う
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 3,
In the third step, by performing pattern exposure on the retardation layer forming film, the polymerizable liquid crystal monomer is three-dimensionally cross-linked only in the exposed portion,
Then, the 4th process of patterning the said phase difference layer forming film is performed so that only the said exposure part may be left by developing the said phase difference layer forming film. The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
前記反射材料層は、前記位相差層で完全に覆われている
ことを特徴とする液晶表示装置。 Two substrates, a liquid crystal layer sealed between the substrates, a reflective material layer provided on the liquid crystal layer side of one of the substrates, and a pattern formed above the reflective layer In a liquid crystal display device comprising a retardation layer,
The liquid crystal display device, wherein the reflective material layer is completely covered with the retardation layer.
前記２枚の基板には、透過表示部と反射表示部とがそれぞれ設定された複数の画素が配列形成され、
前記反射材料層および前記位相差層は、前記反射表示部に対応して前記各画素内においてパターニングされている
ことを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 6.
A plurality of pixels each having a transmissive display portion and a reflective display portion are arranged and formed on the two substrates,
The liquid crystal display device, wherein the reflective material layer and the retardation layer are patterned in each pixel corresponding to the reflective display portion.
前記反射材料層は、金属材料を用いて構成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 6.
The reflective material layer is made of a metal material. A liquid crystal display device, wherein:
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