JP2009134793A - 磁気転写用マスターディスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微細な凹凸状パターンが形成された原盤(26)の表面に、導電膜による初期層(16)を形成し、次いでこの初期層(16)の上に磁性層(主層)(14)を形成した後、電鋳法により金属層(28)を形成する。初期層(16)と磁性層(14)及び金属層(28)が一体となった複版(30)を原盤(26)から剥離し、金属層(28)の凹凸面に磁性層(14)と初期層(16)とが積層形成された複版(30)である磁気転写用マスターディスクを得る。
【選択図】 図3
Description
図1は本発明の実施形態に係る磁気転写用マスターディスクの部分拡大斜視図である。図2は磁気転写用マスターディスクの平面図である。なお、各図は説明の便宜上、実際の寸法とは異なる比率で示している。
次に、マスターディスク10の製造方法を図3に基づいて説明する。先ず、図3(a)に示されるように、表面が平滑なシリコンウエハーである原板20(ガラス板、石英ガラス板でもよい)の上に、電子線レジスト液をスピンコート法等により塗布して(レジスト塗布工程)、レジスト層22を形成し、ベーキング処理(プレベーク)を行う。
図4は、Ni複版凸部の台形形状の模式図である。図示のように、凸部の「高さ」と、「半値幅」、台形斜面の「傾斜角」を定義する。半値幅は、半分の高さ位置での凸部幅である。また、ここでは、凸部の台形形状のアスペクト比を「高さ/半値幅」と定義する。
多数の微細な凹凸状パターンが形成されたSi原盤(「反転型原盤」に相当)の表面に、スパッタ法にてNiからなる厚さ3nmの初期層を形成し、次いで、同じくスパッタ法にて、FeCoからなる磁性を有する厚さ60nmの主層を形成した。このNi初期層(3nm)とFeCo主層(60nm)の2層からなる導電層を形成したSi原盤の表面にNiを電鋳することにより、厚さ150μmのNi複版を形成した。この複版をSi原盤から剥離することにより、形状安定性の良い(凹凸パターンの崩れの無い)マスターディスクを作製することができた。
次に、本実施形態に係る磁気転写用マスターディスク10を用いた磁気転写方法について説明する。ここでは、ハードディスク装置に用いられる垂直磁気記録媒体に対して、サーボ信号等を転写する場合を例示する。
Claims (4)
- 転写する情報に対応した凹凸パターンを有する磁気転写用マスターディスクの製造方法であって、
反転凹凸パターンを有する反転型原盤の表面に導電性を有する初期層を形成する初期層形成工程と、
前記初期層の形成後に、前記反転型原盤の前記初期層の表面に磁性を有する主層を形成する主層形成工程と、
前記主層の形成後に、電鋳法により前記反転型原盤の前記主層の表面に金属層を形成する電鋳工程と、
前記電鋳工程の後、前記初期層と前記主層及び前記金属層が一体となった複版を前記反転型原盤から剥離し、前記金属層の凹凸面に前記主層と前記初期層とが積層形成された前記複版である磁気転写用マスターディスクを得る剥離工程と、
を備えることを特徴とする磁気転写用マスターディスクの製造方法。 - 転写する情報に対応した凹凸パターンを有する磁気転写用マスターディスクであって、
電鋳によって形成された金属盤の凹凸パターン上に、磁性を有する主層が形成され、該主層の上に、前記電鋳を行うときの導電層となる初期層が形成されていることを特徴とする磁気転写用マスターディスク。 - 前記初期層の膜厚は、1〜100nmであることを特徴とする請求項2記載の磁気転写用マスターディスク。
- 前記金属盤はNi電鋳により作製され、前記初期層はNi膜であることを特徴とする請求項2又は3記載の磁気転写用マスターディスク。
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