JP2009110930A

JP2009110930A - Scattering member and organic electroluminescent display device using the same

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Publication number: JP2009110930A
Application number: JP2008212230A
Authority: JP
Inventors: Ryuji Saneto; 竜二実藤; Yukito Saito; 之人齊藤; Tatsuo Nomura; 達穂野村
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-08-21
Filing date: 2008-08-20
Publication date: 2009-05-21

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent display device having high light taking-out efficiency, and reducing a blur of an image, in a self-light emitting type light emitting display device having a refractive index of a light emitting part higher than a refractive index of air. <P>SOLUTION: This scattering member 170 includes at least a binder and a light scattering particle. The scattering member is characterized by being used for the organic electroluminescent display device, and is characterized in that a pressure sensitive adhesive, an adhesive, a transparent resin and an inorganic particulate are included in the binder, and the refractive index is set to 1.65 or more. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率を高めるために用いる散乱部材、及びこの散乱部材を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。 The present invention relates to a scattering member used for increasing the light emission efficiency of an organic electroluminescence display device, and an organic electroluminescence display device using the scattering member.

有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置ともいう）は自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に用いられる。有機ＥＬディスプレイは、従来のＣＲＴやＬＣＤと比較して視認性が高い、視野角依存性が無いといった表示性能の利点を有する。またディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点もある。一方、有機ＥＬ照明は軽量化、薄層化といった利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を持っている。 An organic electroluminescence display device (also referred to as an organic EL display device) is a self-luminous display device, and is used for displays and illumination. The organic EL display has advantages in display performance such as higher visibility than conventional CRTs and LCDs and no viewing angle dependency. There is also an advantage that the display can be made lighter and thinner. On the other hand, in addition to the advantages of reducing the weight and the thickness of organic EL lighting, there is a possibility of realizing illumination in a shape that could not be realized so far by using a flexible substrate.

有機ＥＬ表示装置や無機ＥＬ表示装置は優れた特徴を有しているが、一般に、発光層を含め表示装置を構成する各層の屈折率が空気より高い。例えば、有機ＥＬ表示装置では、発光層など有機薄膜層の屈折率は１．６〜２．１である。このため、発光した光の界面での全反射や干渉が起こり易く、その光取り出し効率は２０％に満たず、大部分の光を損失している。 Although organic EL display devices and inorganic EL display devices have excellent characteristics, in general, the refractive index of each layer constituting the display device including the light emitting layer is higher than that of air. For example, in an organic EL display device, the refractive index of an organic thin film layer such as a light emitting layer is 1.6 to 2.1. For this reason, total reflection and interference easily occur at the interface of the emitted light, the light extraction efficiency is less than 20%, and most of the light is lost.

この有機ＥＬ表示装置における光損失について図１を参照にして概観する。
有機ＥＬ表示装置は基本的には、図１に示すように、ＴＦＴ基板１の上に、背面電極２、発光層を含み２層又は３層からなる有機層３、及び透明電極４、透明基板５が積層された構成を有し、背面電極２から注入された正孔と透明電極４から注入された電子が有機層３で再結合し、蛍光性物質などを励起することにより発光するものである。そして、有機層３から発光した光は、直接、またはアルミニウムなどで形成される背面電極２で反射して、透明基板５から出射する。
しかしながら、図１に示すように、表示装置内部で発生した光は、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては全反射を起こし、表示装置内部を導波してしまい外部に取り出すことができない（図１のＬｂ、Ｌｃの光）。この導波する光の割合は隣接層との相対屈折率で決まり、一般的な有機ＥＬ表示装置（空気（ｎ＝１．０）／透明基板（ｎ＝１．５）／透明電極（ｎ＝２．０）／有機層（ｎ＝１．７）／背面電極）の場合には、大気（空気）に放出されず表示装置内部を導波する光の割合は約８１％となる。すなわち、発光量全体の約１９％しか有効に利用できないこととなる。 The optical loss in this organic EL display device will be outlined with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the organic EL display device basically has a back electrode 2, an organic layer 3 including two or three layers including a light emitting layer, a transparent electrode 4, and a transparent substrate on the TFT substrate 1. 5 is laminated, and the holes injected from the back electrode 2 and the electrons injected from the transparent electrode 4 recombine in the organic layer 3 to emit light by exciting a fluorescent substance or the like. is there. Then, the light emitted from the organic layer 3 is reflected directly or by the back electrode 2 formed of aluminum or the like and is emitted from the transparent substrate 5.
However, as shown in FIG. 1, the light generated inside the display device may be totally reflected depending on the angle of incidence on the adjacent layer interface having a different refractive index, and may be guided out of the display device and taken out to the outside. Not possible (lights Lb and Lc in FIG. 1). The ratio of the guided light is determined by the relative refractive index with the adjacent layer, and is a general organic EL display device (air (n = 1.0) / transparent substrate (n = 1.5) / transparent electrode (n = 2.0) / organic layer (n = 1.7) / back electrode), the proportion of light that is not emitted into the atmosphere (air) but is guided inside the display device is about 81%. That is, only about 19% of the total light emission amount can be effectively used.

このため、光取り出し効率を向上させるには、（ａ）透明基板／空気界面で全反射し「有機層＋透明電極＋透明基板」を導波する光（図１のＬｂ）を取り出す、（ｂ）透明電極／透明基板界面で全反射し「有機層＋透明電極」を導波する光（図１のＬｃ）を取り出す施策が必須である。
これらのうち、（ａ）に関しては、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板／空気界面での全反射を防ぐ方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、（ｂ）に関しては、透明電極／透明基板界面や発光層／隣接層界面を回折格子状に加工する方法（例えば、特許文献２や特許文献３参照）が提案されている。さらに、積層された有機層間の界面を凹凸に加工して発光効率を増加させる方法（例えば、特許文献４参照）も提案されている。例えば、上記の発光層／隣接層界面に回折格子を形成する方法は、隣接層が導電性媒体からなり、回折格子の凹凸の深さは発光層の膜厚に対して４０％程度で、凹凸のピッチと深さを特定の関係にすることで、導波光を取り出すものである。また、有機層間の界面に凹凸を形成する方法は、凹凸を挟んで隣接する層は導電性媒体からなり、発光層の膜厚に対する深さが２０％程度、界面の傾斜角が３０°程度の凹凸を有機層間の界面に形成し、有機層同士の接合界面を大きくすることで発光効率を増大させるものである。
しかしながら、上記方法は加工が難しく、また通電時に絶縁破壊を起こし易い等の問題があり、有用な光の取り出し方法の更なる開拓が発光表示装置の高効率化のために望まれる。 Therefore, in order to improve the light extraction efficiency, (a) the light (Lb in FIG. 1) that is totally reflected at the transparent substrate / air interface and guided through the “organic layer + transparent electrode + transparent substrate” is extracted (b) ) It is essential to take out light (Lc in FIG. 1) that is totally reflected at the transparent electrode / transparent substrate interface and guided through the “organic layer + transparent electrode”.
Among these, regarding (a), a method has been proposed in which irregularities are formed on the surface of the transparent substrate to prevent total reflection at the transparent substrate / air interface (see, for example, Patent Document 1).
Regarding (b), a method of processing the transparent electrode / transparent substrate interface and the light emitting layer / adjacent layer interface into a diffraction grating shape (for example, see Patent Document 2 and Patent Document 3) has been proposed. Furthermore, a method for increasing the luminous efficiency by processing the interface between the stacked organic layers into irregularities has been proposed (for example, see Patent Document 4). For example, in the method of forming a diffraction grating at the light emitting layer / adjacent layer interface, the adjacent layer is made of a conductive medium, and the depth of the unevenness of the diffraction grating is about 40% of the thickness of the light emitting layer. By taking a specific relationship between the pitch and the depth, the guided light is extracted. Further, in the method of forming irregularities at the interface between organic layers, the layer adjacent to the irregularities is made of a conductive medium, the depth of the light emitting layer is about 20% deep, and the inclination angle of the interface is about 30 °. The unevenness is formed at the interface between the organic layers, and the light emission efficiency is increased by increasing the bonding interface between the organic layers.
However, the above method is difficult to process and has a problem that dielectric breakdown is likely to occur during energization. Further development of a useful light extraction method is desired for increasing the efficiency of the light emitting display device.

これらの問題を解決する一つの手段として、例えば有機EL面発光体の表面に光散乱層を付与することで、取り出し効率を改善する手段が提案されている。（例えば、特許文献５や特許文献６参照）しかしながら表面で光散乱を起こすと、光の滲みが大きくなり、解像度が劣化するという問題があった。 As one means for solving these problems, for example, a means for improving the extraction efficiency by providing a light scattering layer on the surface of the organic EL surface light emitter has been proposed. (For example, see Patent Document 5 and Patent Document 6) However, when light scattering occurs on the surface, there is a problem in that light blur increases and resolution deteriorates.

米国特許第４７７４４３５号明細書US Pat. No. 4,774,435 特開平１１−２８３７５１号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-283951 特開２００２−３１３５５４号公報JP 2002-31554 A 特開２００２−３１３５６７号公報JP 2002-31567 A 特開２００３−１０９７４７号公報JP 2003-109747 A 特開２００３−１７３８７７号公報JP 2003-173877 A

したがって本発明の課題は、発光部位の屈折率が空気の屈折率よりも高い自発光型の発光表示装置において、高い光取り出し効率を有し、且つ、画像ボケが少ない表示装置を得ることにある。特に、「有機層＋透明電極」を導波する光の取り出し効率を高めることができる散乱部材、及び光取り出し効率の高い有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to obtain a display device having high light extraction efficiency and less image blur in a self-luminous light emitting display device in which the refractive index of the light emitting portion is higher than the refractive index of air. . In particular, it is an object of the present invention to provide a scattering member capable of increasing the extraction efficiency of light guided through “organic layer + transparent electrode” and an organic electroluminescence display device having high light extraction efficiency.

本発明の課題は、下記（１）〜（２１）に記載した散乱部材、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置により達成された。 The object of the present invention has been achieved by the scattering member and the organic electroluminescence display device described in the following (1) to (21).

（１）バインダーと光散乱粒子が少なくとも含まれる散乱部材であって、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられることを特徴とする散乱部材。
（２）前記バインダーに、液体が含まれることを特徴とする（１）に記載の散乱部材。
（３）前記バインダーに、粘着剤が含まれることを特徴とする（１）に記載の散乱部材。（４）前記バインダーに、接着剤が含まれることを特徴とする（１）に記載の散乱部材。（５）前記バインダーに、透光性樹脂が含まれることを特徴とする（１）に記載の散乱部材。
（６）前記バインダーの屈折率が１．６５以上であることを特徴とする（１）から（５）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（７）前記バインダーに、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ及びＳｎＯ_２の中から選択される、少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする（１）から（６）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（８）前記光散乱粒子の屈折率が１．５５以下、又は２．１以上であることを特徴とする（１）から（７）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（９）前記光散乱粒子の平均直径が、２．０μｍ以下であることを特徴とする（１）から（８）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１０）前記光散乱粒子の平均直径が、０．２μｍ以上、０．５μｍ以下であることを特徴とする（１）から（８）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１１）前記散乱部材の膜厚が０．５μｍ以上、１０．０μｍ以下であることを特徴とする（１）から（１０）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１２）前記散乱部材の膜厚が１．０μｍ以上、７．５μｍ以下であることを特徴とする（１）から（１０）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１３）前記バインダーの屈折率が１．５以下であることを特徴とする（１）から（５）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１４）前記バインダーに、シリカ微粒子、及び中空シリカ微粒子の中から選択される、少なくとも１種の微粒子が含まれることを特徴とする（１３）に記載の散乱部材。
（１５）前記光散乱粒子の屈折率が１．６５以上であることを特徴とする（１３）から（１４）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１６）前記光散乱粒子の平均直径が、２．０μｍ以下であることを特徴とする（１３）から（１５）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１７）前記光散乱粒子の平均直径が、０．２μｍ以上、０．５μｍ以下であることを特徴とする（１３）から（１５）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１８）前記散乱部材の膜厚が０．５μｍ以上、１０．０μｍ以下であることを特徴とする（１３）から（１７）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（１９）前記散乱部材の膜厚が１．０μｍ以上、７．５μｍ以下であることを特徴とする（１３）から（１７）のいずれか１項に記載の散乱部材。
（２０）基板上に形成された下部電極と、当該下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、当該有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極と、当該上部電極上に配置された透明基板からなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、当該上部電極に、（１）から（１９）のいずれか１項に記載の散乱部材が接することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２１）基板上に形成された下部電極と、当該下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、当該有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極と、当該上部電極上に形成されたバリア層と、当該バリア層上に配置された透明基板からなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、当該バリア層に、（１）から（１９）のいずれか１項に記載の散乱部材が接することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 (1) A scattering member comprising at least a binder and light scattering particles, wherein the scattering member is used in an organic electroluminescence display device.
(2) The scattering member according to (1), wherein the binder contains a liquid.
(3) The scattering member according to (1), wherein the binder contains an adhesive. (4) The scattering member according to (1), wherein the binder contains an adhesive. (5) The scattering member according to (1), wherein the binder contains a translucent resin.
(6) The scattering member according to any one of (1) to (5), wherein the binder has a refractive index of 1.65 or more.
(7) Any one of (1) to (6), wherein the binder contains at least one inorganic fine particle selected from ZrO ₂ , TiO ₂ , ZnO, and SnO _2. The scattering member according to 1.
(8) The scattering member according to any one of (1) to (7), wherein the light scattering particles have a refractive index of 1.55 or less, or 2.1 or more.
(9) The scattering member according to any one of (1) to (8), wherein an average diameter of the light scattering particles is 2.0 μm or less.
(10) The scattering member according to any one of (1) to (8), wherein an average diameter of the light scattering particles is 0.2 μm or more and 0.5 μm or less.
(11) The scattering member according to any one of (1) to (10), wherein the scattering member has a thickness of 0.5 μm or more and 10.0 μm or less.
(12) The scattering member according to any one of (1) to (10), wherein the scattering member has a thickness of 1.0 μm or more and 7.5 μm or less.
(13) The scattering member according to any one of (1) to (5), wherein the binder has a refractive index of 1.5 or less.
(14) The scattering member according to (13), wherein the binder includes at least one kind of fine particles selected from silica fine particles and hollow silica fine particles.
(15) The scattering member according to any one of (13) to (14), wherein the light scattering particles have a refractive index of 1.65 or more.
(16) The scattering member according to any one of (13) to (15), wherein an average diameter of the light scattering particles is 2.0 μm or less.
(17) The scattering member according to any one of (13) to (15), wherein an average diameter of the light scattering particles is 0.2 μm or more and 0.5 μm or less.
(18) The scattering member according to any one of (13) to (17), wherein the scattering member has a thickness of 0.5 μm or more and 10.0 μm or less.
(19) The scattering member according to any one of (13) to (17), wherein the scattering member has a thickness of 1.0 μm or more and 7.5 μm or less.
(20) A lower electrode formed on the substrate, an organic electroluminescence layer formed on the lower electrode, an upper electrode formed on the organic electroluminescence layer, and a transparent disposed on the upper electrode An organic electroluminescence display device comprising a substrate, wherein the scattering member according to any one of (1) to (19) is in contact with the upper electrode.
(21) A lower electrode formed on the substrate, an organic electroluminescence layer formed on the lower electrode, an upper electrode formed on the organic electroluminescence layer, and a barrier formed on the upper electrode An organic electroluminescence display device comprising a layer and a transparent substrate disposed on the barrier layer, wherein the scattering member according to any one of (1) to (19) is in contact with the barrier layer. An organic electroluminescence display device.

背景技術で述べたように、自発光表示装置の光取り出し効率が低い原因は、表示装置内部で発生した光が、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度が大きいときに全反射を起こし、表示装置内部を導波してしまい外部に取り出すことができないことによる。
これに対し、バインダーと光散乱粒子からなる散乱部材を有機ＥＬ表示装置中に導入することで、これらの光を外部に取り出すことができるようになる。これは、全反射により層内を導波していた光の進む方向を、光散乱の作用によって曲げることで実現される。
このとき、散乱部材のバインダーの屈折率を有機発光層の屈折率と同等以上の大きさにすることで、有機発光層を含む高屈折率層内で導波する光を取り出すことが可能となる。またこの時、上部電極の上で光散乱させることで、発光点と散乱位置の距離を近づけることができ、光散乱による画像の解像度の劣化を抑制することができる。さらに、より光取り出し効率を上げるためには、光散乱が起こる回数を増やすことが好ましい。このためには、有機発光層を含む高屈折率層内での全反射の回数を増やすことが好ましく、これは有機発光層を含む高屈折率層を薄層化することで実現される。
また、接合部剤のバインダーの屈折率を有機発光層よりも低くし、光散乱粒子の屈折率を有機発光層と同等の大きさにすることでも光取り出し効率をあげることができる。この場合、全反射は上部電極と散乱部材の界面で起こるが、この界面に高屈折率の光散乱粒子が接触することで、この接触箇所で光散乱が生じ、全反射している光を外部に取り出すことができる。 As described in the background art, the reason for the low light extraction efficiency of the self-luminous display device is that the light generated inside the display device causes total reflection when the angle of incidence on the adjacent layer interface having a different refractive index is large, This is because the inside of the display device is guided and cannot be taken out.
On the other hand, by introducing a scattering member composed of a binder and light scattering particles into the organic EL display device, it becomes possible to extract these lights to the outside. This is realized by bending the traveling direction of light guided in the layer by total reflection by the action of light scattering.
At this time, by making the refractive index of the binder of the scattering member equal to or greater than the refractive index of the organic light emitting layer, it is possible to extract light guided in the high refractive index layer including the organic light emitting layer. . At this time, by scattering light on the upper electrode, the distance between the light emitting point and the scattering position can be reduced, and deterioration of the resolution of the image due to light scattering can be suppressed. Furthermore, in order to further increase the light extraction efficiency, it is preferable to increase the number of times light scattering occurs. For this purpose, it is preferable to increase the number of total reflections in the high refractive index layer including the organic light emitting layer, and this can be realized by thinning the high refractive index layer including the organic light emitting layer.
Further, the light extraction efficiency can also be increased by making the refractive index of the binder of the bonding agent lower than that of the organic light emitting layer and making the refractive index of the light scattering particles equal to that of the organic light emitting layer. In this case, total reflection occurs at the interface between the upper electrode and the scattering member. When light scattering particles with a high refractive index come into contact with this interface, light scattering occurs at this contact point, and the totally reflected light is externally reflected. Can be taken out.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

＜＜有機エレクトロルミネッセンス表示装置＞＞
本発明の表示装置は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した表示装置であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、バリア層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。 << Organic electroluminescence display device >>
The display device of the present invention is a display device in which a light emitting layer or a plurality of organic compound thin films including a light emitting layer is formed between a pair of anode and cathode electrodes. In addition to the light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron An injection layer, an electron transport layer, a barrier layer, and the like may be included, and each of these layers may have other functions. Various materials can be used for forming each layer.

陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。 The anode supplies holes to a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and the like, and a metal, an alloy, a metal oxide, an electrically conductive compound, or a mixture thereof can be used. Is a material having a work function of 4 eV or more. Specific examples include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide and indium tin oxide (ITO), metals such as gold, silver, chromium and nickel, and these metals and conductive metal oxides. Inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene, and polypyrrole, and laminates of these with ITO, preferably conductive metals It is an oxide, and ITO is particularly preferable from the viewpoint of productivity, high conductivity, transparency, and the like. Although the film thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material, it is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, still more preferably 100 nm to 500 nm.

陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。 As the anode, a layer formed on a soda-lime glass, non-alkali glass, a transparent resin substrate or the like is usually used. When glass is used, it is preferable to use non-alkali glass as the material in order to reduce ions eluted from the glass. Moreover, when using soda-lime glass, it is preferable to use what gave barrier coatings, such as a silica. The thickness of the substrate is not particularly limited as long as it is sufficient to maintain the mechanical strength, but when glass is used, a thickness of 0.2 mm or more, preferably 0.7 mm or more is usually used.

前記透明樹脂基板としてバリアフィルムを用いることもできる。バリアフィルムとはプラスチック支持体上にガス不透過性のバリア層を設置したフィルムである。バリアフィルムの例としては酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特公昭５３−１２９５３、特開昭５８−２１７３４４）、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの（特開２０００−３２３２７３、特開２００４−２５７３２）、無機層状化合物を有するもの（特開２００１−２０５７４３）、無機材料を積層したもの（特開２００３−２０６３６１、特開２００６−２６３９８９）、有機層と無機層を交互に積層したもの（特開２００７−３０３８７、米国特許６４１３６４５、Ａｆｆｉｎｉｔｏら著ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ１９９６年２９０−２９１頁）、有機層と無機層を連続的に積層したもの（米国特許２００４−４６４９７）などが挙げられる。 A barrier film can also be used as the transparent resin substrate. The barrier film is a film in which a gas impermeable barrier layer is provided on a plastic support. Examples of the barrier film include those deposited with silicon oxide or aluminum oxide (Japanese Patent Publication No. Sho 53-12953, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 58-217344), and those having an organic-inorganic hybrid coating layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-323273, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2004-25732). ), Those having an inorganic layered compound (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-205743), those obtained by laminating inorganic materials (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-206361, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-263389), those obtained by alternately laminating organic layers and inorganic layers (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-263389) 2007-30387, U.S. Pat. No. 6413645, Affinito et al., Thin Solid Films 1996, pages 290-291), and organic layers and inorganic layers laminated continuously (U.S. Patent No. 2004-46497).

陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、表示装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。 Various methods are used for producing the anode depending on the material. For example, in the case of ITO, an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, a chemical reaction method (such as a sol-gel method), an indium tin oxide dispersion A film is formed by a method such as coating. The anode can be subjected to cleaning or other processing to lower the driving voltage of the display device or to increase the light emission efficiency. For example, in the case of ITO, UV-ozone treatment is effective.

陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）またはそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。 The cathode supplies electrons to the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, etc., and the adhesion, ionization potential, stability, etc., between the negative electrode and the adjacent layer such as the electron injection layer, electron transport layer, light emitting layer, etc. Selected in consideration of As the material of the cathode, a metal, an alloy, a metal oxide, an electrically conductive compound, or a mixture thereof can be used. Specific examples include alkali metals (for example, Li, Na, K, etc.) or fluorides thereof, alkaline earths. Metals (for example, Mg, Ca, etc.) or fluorides thereof, gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloy or mixed metal thereof, lithium-aluminum alloy or mixed metal thereof, magnesium-silver alloy or mixed thereof Examples thereof include metals, rare earth metals such as indium and ytterbium, preferably a material having a work function of 4 eV or less, more preferably aluminum, lithium-aluminum alloy or mixed metal thereof, magnesium-silver alloy or mixed metal thereof Etc. The film thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material, but is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, still more preferably 100 nm to 1 μm. For production of the cathode, methods such as an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, and a coating method are used, and a metal can be vapor-deposited alone or two or more components can be vapor-deposited simultaneously. Furthermore, a plurality of metals can be vapor-deposited simultaneously to form an alloy electrode, or a previously prepared alloy may be vapor-deposited.
The sheet resistance of the anode and the cathode is preferably low, and is preferably several hundred Ω / □ or less.

陰極上に前記バリアフィルムを貼り合せて、ガスの浸入を防ぐともに、ディスプレイ表面に保護層を形成しても良い。 The barrier film may be bonded onto the cathode to prevent gas from entering, and a protective layer may be formed on the display surface.

発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよい。好ましくは発光層に本発明の化合物を含有するものであるが、本発明の化合物の他の発光材料を用いることもできる。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。
発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。 The material of the light emitting layer is a function that can inject holes from the anode or hole injection layer, hole transport layer and cathode or electron injection layer, electron transport layer when an electric field is applied, Any layer can be used as long as it can form a layer having a function of moving injected charges and a function of emitting light by providing a recombination field of holes and electrons. Preferably, the light emitting layer contains the compound of the present invention, but other light emitting materials of the compound of the present invention can also be used. For example, benzoxazole derivatives, benzimidazole derivatives, benzothiazole derivatives, styrylbenzene derivatives, polyphenyl derivatives, diphenylbutadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, naphthalimide derivatives, coumarin derivatives, perylene derivatives, perinone derivatives, oxadiazole derivatives, aldazine derivatives , Pyraziridine derivatives, cyclopentadiene derivatives, bisstyrylanthracene derivatives, quinacridone derivatives, pyrrolopyridine derivatives, thiadiazolopyridine derivatives, cyclopentadiene derivatives, styrylamine derivatives, aromatic dimethylidin compounds, 8-quinolinol derivatives, metal complexes and rare earth complexes Representative metal complexes, polymer compounds such as polythiophene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, etc. And the like. Although the film thickness of a light emitting layer is not specifically limited, Usually, the thing of the range of 1 nm-5 micrometers is preferable, More preferably, it is 5 nm-1 micrometer, More preferably, it is 10 nm-500 nm.
The method for forming the light emitting layer is not particularly limited, but methods such as resistance heating vapor deposition, electron beam, sputtering, molecular lamination method, coating method (spin coating method, casting method, dip coating method, etc.), LB method, etc. Are preferably used by resistance heating vapor deposition and coating.

正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。 The material of the hole injection layer and the hole transport layer has any one of the function of injecting holes from the anode, the function of transporting holes, and the function of blocking electrons injected from the cathode. That's fine. Specific examples include carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives. , Fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, porphyrin compounds, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole) derivatives, aniline compounds Examples thereof include conductive polymer oligomers such as copolymers, thiophene oligomers, and polythiophenes. The film thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer are not particularly limited, but are usually preferably in the range of 1 nm to 5 μm, more preferably 5 nm to 1 μm, and still more preferably 10 nm to 500 nm. . The hole injection layer and the hole transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the materials described above, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.
As a method for forming the hole injection layer and the hole transport layer, a vacuum deposition method, an LB method, a method in which the hole injection / transport agent is dissolved or dispersed in a solvent (a spin coating method, a casting method, a dip coating method) Etc.) are used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component. Examples of the resin component include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, and poly (N -Vinyl carbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, vinyl acetate, ABS resin, polyurethane, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, silicone resin, and the like.

電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。 The material for the electron injection layer and the electron transport layer may be any material having any one of a function of injecting electrons from the cathode, a function of transporting electrons, and a function of blocking holes injected from the anode. Specific examples include triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyryl. Various metal complexes such as pyrazine derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, metal complexes of phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, metal complexes having benzoxazole and benzothiazole as ligands, etc. Is mentioned. Although the film thickness of an electron injection layer and an electron carrying layer is not specifically limited, The thing of the range of 1 nm-5 micrometers is preferable normally, More preferably, it is 5 nm-1 micrometer, More preferably, it is 10 nm-500 nm. The electron injection layer and the electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or may have a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions.
As a method for forming the electron injection layer and the electron transport layer, a vacuum deposition method, an LB method, a method in which the electron injection / transport agent is dissolved or dispersed in a solvent (a spin coating method, a casting method, a dip coating method, etc.), etc. Is used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component. As the resin component, for example, those exemplified in the case of the hole injection transport layer can be applied.

バリア層の材料としては水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等の金属酸化物、ＳｉＮ_２等の金属窒化物、ＳｉＯＮ等の金属酸窒化物、ＭｇＦ_２、ＬｉＦ、ＡｌＦ_３、ＣａＦ_２等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。
バリア層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法を適用できる。 As the material of the barrier layer, any material may be used as long as it has a function of suppressing the entry of elements that promote element deterioration such as moisture and oxygen into the element. Specific examples thereof include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, and Ni, MgO, SiO, SiO ₂ , Al ₂ O ₃ , GeO, NiO, CaO, BaO, and Fe ₂ O. ₃ , metal oxides such as Y ₂ O ₃ and TiO ₂ , metal nitrides such as SiN ₂ , metal oxynitrides such as SiON, metal fluorides such as MgF ₂ , LiF, AlF ₃ and CaF ₂ , polyethylene, polypropylene Polymethyl methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, a copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, tetrafluoroethylene and at least one comonomer. A copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture containing Fluorine-containing copolymer having a cyclic structure in the chain, 1% by weight of the water absorbing water absorption material, water absorption of 0.1% or less of moisture-proof material, and the like.
There is no particular limitation on the method for forming the barrier layer. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization (high frequency excitation ions) Plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal CVD method, gas source CVD method, coating method can be applied.

＜＜散乱部材＞＞
散乱部材はバインダーと光散乱粒子を少なくとも含む。以下に、バインダー、光散乱粒子について詳細に述べる。 << scattering member >>
The scattering member includes at least a binder and light scattering particles. Hereinafter, the binder and the light scattering particles will be described in detail.

＜バインダー＞
バインダーは液体、粘着剤、接着剤、及び透光性樹脂から選ばれる少なくとも１種を含有するものである。またバインダーには屈折率調整用に無機微粒子を混合することができる。以下に、液体、粘着剤、接着剤、透光性樹脂、無機微粒子について詳細に述べる。 <Binder>
The binder contains at least one selected from a liquid, a pressure-sensitive adhesive, an adhesive, and a translucent resin. The binder can be mixed with inorganic fine particles for adjusting the refractive index. Hereinafter, the liquid, the pressure-sensitive adhesive, the adhesive, the translucent resin, and the inorganic fine particles will be described in detail.

＜液体＞
本発明の散乱部材に含有されるバインダーの１つである液体の素材としては、水、アルコール、油、シリコーンオイル等の常温で液体の物質を用いることができる。 <Liquid>
As a liquid material which is one of the binders contained in the scattering member of the present invention, a liquid material at room temperature such as water, alcohol, oil, silicone oil or the like can be used.

＜粘着剤＞
本発明の散乱部材に含有されるバインダーの１つである粘着剤の素材としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤等の感圧系の粘着剤が好ましい。 <Adhesive>
As a material of the adhesive which is one of the binders contained in the scattering member of the present invention, a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyether adhesive, a polyester adhesive A pressure sensitive adhesive such as an adhesive is preferred.

アクリル系粘着剤の場合には、そのベースポリマーであるアクリル系重合体に使用されるモノマーとしては、各種（メタ）アクリル酸エステル〔（メタ）アクリル酸エステルとはアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルを総称した表現であり、以下（メタ）の付く化合物名は同様の意味である。〕を使用できる。かかる（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、たとえば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等を例示でき、これらを単独もしくは組合せて使用できる。また、得られるアクリル系重合体に極性を付与するために前記（メタ）アクリル酸エステルの一部に代えて（メタ）アクリル酸を少量使用することもできる。さらに、架橋性単量体として（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等も併用しうる。更に所望により、（メタ）アクリル酸エステル重合体の粘着特性を損なわない程度において他の共重合可能な単量体、たとえば酢酸ビニル、スチレン等を併用しうる。
ゴム系粘着剤のベースポリマーとしては、たとえば、天然ゴム、イソプレン系ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム、再生ゴム、ポリイソブチレン系ゴム、さらにはスチレン−イソプレン−スチレン系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン系ゴム等があげられる。
シリコーン系粘着剤のベースポリマーとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等があげられる。
ポリエーテル系粘着剤のベースポリマーとしては、たとえば、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル等があげられる。 In the case of an acrylic pressure-sensitive adhesive, monomers used in the base polymer acrylic polymer include various (meth) acrylic acid esters [(meth) acrylic acid esters include acrylic acid esters and methacrylic acid esters. This is a generic expression, and the following compound names with (meth) have the same meaning. ] Can be used. Specific examples of such (meth) acrylic acid esters include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and the like. Can be used alone or in combination. Further, in order to impart polarity to the resulting acrylic polymer, a small amount of (meth) acrylic acid can be used instead of a part of the (meth) acrylic acid ester. Furthermore, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide and the like may be used in combination as the crosslinkable monomer. Furthermore, if desired, other copolymerizable monomers such as vinyl acetate and styrene may be used in combination as long as the adhesive properties of the (meth) acrylic acid ester polymer are not impaired.
Examples of the base polymer of the rubber adhesive include natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, recycled rubber, polyisobutylene rubber, styrene-isoprene-styrene rubber, and styrene-butadiene-styrene rubber. Etc.
Examples of the base polymer of the silicone pressure-sensitive adhesive include dimethylpolysiloxane and diphenylpolysiloxane.
Examples of the base polymer of the polyether-based pressure-sensitive adhesive include polyvinyl ethyl ether, polyvinyl butyl ether, polyvinyl isobutyl ether and the like.

また、前記粘着剤は、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、ポリイソシアネート化合物、ポリアミン化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂等があげられる。さらに、前記粘着剤には、必要に応じて、従来公知の、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を、また本発明の目的を逸脱しない範囲で各適宜に使用することもできる。 The pressure-sensitive adhesive can contain a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include polyisocyanate compounds, polyamine compounds, melamine resins, urea resins, and epoxy resins. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive may be appropriately selected from conventionally known tackifiers, plasticizers, fillers, antioxidants, ultraviolet absorbers, and the like, as necessary, without departing from the object of the present invention. It can also be used.

粘着剤は、上記材料に加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させても良い。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ_２が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、粘着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 The pressure-sensitive adhesive may contain, in addition to the above materials, a monomer having a high refractive index and / or metal oxide ultrafine particles having a high refractive index. Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether and the like. Examples of the metal oxide ultrafine particles having a high refractive index include an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm made of at least one oxide selected from zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. It is preferable to contain the following fine particles. The metal oxide ultrafine particles having a high refractive index are preferably oxide ultrafine particles of at least one metal selected from Al, Zr, Zn, Ti, In and Sn. Specific examples include ZrO ₂ , TiO ₂ , _{_{_{_{al 2 O 3, In 2 O}}}} 3, ZnO, SnO 2, Sb 2 O 3, ITO , and the like. Among these, ZrO ₂ is particularly preferably used. The addition amount of the high refractive index monomer and the metal oxide ultrafine particles is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the pressure-sensitive adhesive.

また、粘着剤は、上記材料に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させても良い。低屈折率を有する超微粒子の例には、平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いても良い。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 The pressure-sensitive adhesive may contain ultrafine particles having a low refractive index in addition to the above materials. Examples of the ultrafine particles having a low refractive index preferably include silica fine particles having an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm or less. Moreover, you may use the hollow silica which contains air in particle | grains and expresses a lower refractive index. The addition amount of the ultrafine particles having a low refractive index is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the adhesive.

光散乱粒子の添加量が１質量部未満では光拡散性が不充分であり、４０質量部を超えて添加すると粘着力がやや低下する傾向なので、添加量は１〜４０質量部の範囲が好ましい。 If the addition amount of the light scattering particles is less than 1 part by mass, the light diffusibility is insufficient. If the addition amount exceeds 40 parts by mass, the adhesive force tends to be slightly lowered, so the addition amount is preferably in the range of 1 to 40 parts by mass. .

有機ＥＬ発光装置への、粘着剤層の形成方法としては、特に制限されず、有機ＥＬ発光装置に粘着剤の溶液を塗布し乾燥する方法、粘着剤層を設けた離型シートにより転写する方法等の従来公知の方法があげられる。粘着剤層の厚さは特に限定されないが、乾燥膜厚で０．１〜４０．０μｍとするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍとするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。 The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer on the organic EL light-emitting device is not particularly limited. Conventionally known methods such as Although the thickness of an adhesive layer is not specifically limited, It is preferable to set it as 0.1-40.0 micrometers by dry film thickness, It is more preferable to set it as 0.5-10.0 micrometers, 1.0-7.5 micrometers Is most preferable.

＜接着剤＞
本発明の散乱部材に含有されるバインダーの1つである接着剤について以下で詳細に述べる。接着剤は、加熱または加圧により流動する接着剤であることが好ましく、特に、２００℃以下の加熱または１ｋｇｆ／ｃｍ^２以上の加圧により流動性を示す接着剤であることが好ましい。このような接着剤を用いることにより、透明基板等の部材を被着体であるディスプレイやプラスチック板に接着剤を流動させて接着することができる。流動できるので光学フィルムを被着体にラミネートや加圧成形、特に加圧成形により、また曲面、複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができる。このためには、接着剤の軟化温度が２００℃以下であると好ましい。 <Adhesive>
The adhesive which is one of the binders contained in the scattering member of the present invention will be described in detail below. The adhesive is preferably an adhesive that flows by heating or pressurization, and in particular, an adhesive that exhibits fluidity by heating at 200 ° C. or less or pressurization by 1 kgf / cm ² or more. By using such an adhesive, a member such as a transparent substrate can be bonded to a display or a plastic plate which is an adherend by flowing the adhesive. Since it can flow, the optical film can be easily adhered to an adherend having a curved surface or a complicated shape by laminating or pressure forming, particularly pressure forming, on the adherend. For this purpose, the softening temperature of the adhesive is preferably 200 ° C. or lower.

上記のような加熱または加圧により流動する接着剤としては、主に以下に示す熱可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジエン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオキシカルボニルテトラメチレン(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.475)、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.489)などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.60)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエーテルアクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルアクリレート(n=1.48〜1.54)なども使うこともできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。これらの接着剤となるポリマーの軟化温度は、取扱い性から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好ましい。光拡散フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化温度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一方、ポリマーの質量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）は、５００以上のものを使用することが好ましい。分子量が５００以下では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下するおそれがある。本発明で使用する接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。接着剤の層の厚さは、１〜５０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍとすることが特に好ましい。 Typical examples of the adhesive that flows by heating or pressurization as described above include the following thermoplastic resins. For example, natural rubber (refractive index n = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), poly-1,2-butadiene (n = 1.50), polyisobutene (n = 1.505 to 1.51), polybutene (n = 1.513), poly- Such as 2-heptyl-1,3-butadiene (n = 1.50), poly-2-tert-butyl-1,3-butadiene (n = 1.506), poly-1,3-butadiene (n = 1.515) ) Polyenes such as ene, polyoxyethylene (n = 1.456), polyoxypropylene (n = 1.450), polyvinyl ethyl ether (n = 1.454), polyvinyl hexyl ether (n = 1.459), polyvinyl butyl ether (n = 1.456) Ethers, polyvinyl acetate (n = 1.467), polyesters such as polyvinyl propionate (n = 1.467), polyurethane (n = 1.5 to 1.6), ethyl cellulose (n = 1.479), polyvinyl chloride (n = 1.54 to 1.55) ), Polyacrylonitrile (n = 1.52), polymethacrylonitrile (n = 1.52), polysulfone (n = 1.633), polysulfide (n = 1.6), phenoxy resin (n = 1.5 to 1.6), polyethyl acrylate (n = 1.469), polybutyl acrylate (n = 1.466), poly-2-ethylhexyl acrylate (n = 1.463) , Poly-t-butyl acrylate (n = 1.464), poly-3-ethoxypropyl acrylate (n = 1.465), polyoxycarbonyltetramethylene (n = 1.465), polymethyl acrylate (n = 1.472-1.480), polyisopropyl Methacrylate (n = 1.473), polydodecyl methacrylate (n = 1.474), polytetradecyl methacrylate (n = 1.475), poly-n-propyl methacrylate (n = 1.484), poly-3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate ( n = 1.484), polyethyl methacrylate (n = 1.485), poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate (n = 1.487), poly-1,1-diethylpropyl methacrylate (n = 1.485). 489) and poly (meth) acrylic acid esters such as polymethyl methacrylate (n = 1.489) can be used. Two or more kinds of these acrylic polymers may be copolymerized as needed, or two or more kinds may be blended and used. Furthermore, as copolymer resins other than acrylic resin and acrylic, epoxy acrylate (n = 1.48 to 1.60), urethane acrylate (n = 1.5 to 1.6), polyether acrylate (n = 1.48 to 1.49), polyester acrylate (n = 1.48) ~ 1.54) can also be used. In particular, urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyether acrylate are excellent from the viewpoint of adhesiveness. Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether, and resorcinol. (Meth) acrylic such as diglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether An acid adduct is mentioned. A polymer having a hydroxyl group in the molecule such as epoxy acrylate is effective for improving the adhesion. These copolymer resins can be used in combination of two or more as required. The softening temperature of the polymer used as these adhesives is preferably 200 ° C. or less, and more preferably 150 ° C. or less from the viewpoint of handleability. Since the environment in which the light diffusing film is used is usually 80 ° C. or lower, the softening temperature of the adhesive layer is most preferably 80 to 120 ° C. in view of processability. On the other hand, it is preferable to use a polymer having a mass average molecular weight (measured using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography, the same applies hereinafter) of 500 or more. When the molecular weight is 500 or less, the cohesive force of the adhesive composition is too low, and the adhesion to the adherend may be reduced. You may mix | blend additives, such as a diluent, a plasticizer, antioxidant, a filler, a coloring agent, a ultraviolet absorber, and a tackifier, with the adhesive agent used by this invention as needed. The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 50 μm, and particularly preferably 1 to 20 μm.

接着剤の材料としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂（いずれも屈折率が１．５５〜１．６０）を使うことができる。エポキシ樹脂以外では天然ゴム（ｎ＝１．５２）、ポリイソプレン（ｎ＝１．５２１）、ポリ１，２−ブタジエン（ｎ＝１．５０）、ポリイソブテン（ｎ＝１．５０５〜１．５１）、ポリブテン（ｎ＝１．５１２５）、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５０）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５０６）、ポリ−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５１５）などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ＝１．４５６３）、ポリオキシプロピレン（ｎ＝１．４４９５）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ＝１．４５４）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ＝１．４５９１）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ＝１．４５６３）などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ＝１．４６６５）、ポリビニルプロピオネート（ｎ＝１．４６６５）などのポリエステル類、ポリウレタン（ｎ＝１．５〜１．６）、エチルセルロース（ｎ＝１．４７９）、ポリ塩化ビニル（ｎ＝１．５４〜１．５５）、ポリアクリロニトリル（ｎ＝１．５２）、ポリメタクリロニトリル（ｎ＝１．５２）、ポリスルホン（ｎ＝１．６３３）、ポリスルフィド（ｎ＝１．６）、フェノキシ樹脂（ｎ＝１．５〜１．６）などを挙げることができる。これらは、好適な可視光透過率を発現する。 Adhesive materials include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resin, novolac type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, polyalcohol / polyglycol type epoxy resin, polyolefin type epoxy resin Epoxy resins such as alicyclic and halogenated bisphenol (both having a refractive index of 1.55 to 1.60) can be used. Other than epoxy resin, natural rubber (n = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), poly 1,2-butadiene (n = 1.50), polyisobutene (n = 1.505 to 1.51) Polybutene (n = 1.125), poly-2-heptyl-1,3-butadiene (n = 1.50), poly-2-tert-butyl-1,3-butadiene (n = 1.506), (Di) enes such as poly-1,3-butadiene (n = 1.515), polyoxyethylene (n = 1.4563), polyoxypropylene (n = 1.4495), polyvinyl ethyl ether (n = 1.454), polyethers such as polyvinyl hexyl ether (n = 1.4591), polyvinyl butyl ether (n = 1.4563), polyvinyl acetate (n = 1.4665), polyvinyl Polyesters such as lopionate (n = 1.4665), polyurethane (n = 1.5 to 1.6), ethyl cellulose (n = 1.479), polyvinyl chloride (n = 1.54 to 1.55), Polyacrylonitrile (n = 1.52), polymethacrylonitrile (n = 1.52), polysulfone (n = 1.633), polysulfide (n = 1.6), phenoxy resin (n = 1.5-1) .6). These express suitable visible light transmittance.

さらに上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート（ｎ＝１．４６８５）、ポリブチルアクリレート（ｎ＝１．４６６）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ＝１．４６３）、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ＝１．４６３８）、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ＝１．４６５）、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート（ｎ＝１．４６５）、ポリメチルアクリレート（ｎ＝１．４７２〜１．４８０）、ポリイソプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４７２８）、ポリドデシルメタクリレート（ｎ＝１．４７４）、ポリテトラデシルメタクリレート（ｎ＝１．４７４６）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８４）、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ＝１．４８４）、ポリエチルメタクリレート（ｎ＝１．４８５）、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８６８）、ポリテトラカルバニルメタクリレート（ｎ＝１．４８８９）、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８８９）、ポリメチルメタクリレート（ｎ＝１．４８９３）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うこともできる。
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使うこともできる。特に接着性の点から、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートは分子内に水酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。接着剤の主成分となるポリマーの質量平均分子量は、１，０００以上のものが使われる。分子量が１，０００未満だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下する。 In addition to the above resins, polyethyl acrylate (n = 1.4685), polybutyl acrylate (n = 1.466), poly-2-ethylhexyl acrylate (n = 1.463), poly-t-butyl acrylate ( n = 1.638), poly-3-ethoxypropyl acrylate (n = 1.465), polyoxycarbonyltetramethacrylate (n = 1.465), polymethyl acrylate (n = 1.472-1.480), Polyisopropyl methacrylate (n = 1.428), polydodecyl methacrylate (n = 1.474), polytetradecyl methacrylate (n = 1.4746), poly-n-propyl methacrylate (n = 1.484), poly- 3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate (n = 1.484), Riethyl methacrylate (n = 1.485), poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate (n = 1.4868), polytetracarbanyl methacrylate (n = 1.48889), poly-1,1-diethyl Poly (meth) acrylic acid esters such as propyl methacrylate (n = 1.48889) and polymethyl methacrylate (n = 1.4893) can be used. Two or more kinds of these acrylic polymers may be copolymerized as necessary, or two or more kinds may be blended and used.
Furthermore, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate, or the like can also be used as a copolymer resin of an acrylic resin and other than acrylic. In particular, epoxy acrylate and polyether acrylate are excellent from the viewpoint of adhesiveness. As the epoxy acrylate, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether (Meth) acrylic acid adducts such as adipic acid diglycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether Is mentioned. Epoxy acrylate has a hydroxyl group in the molecule and is effective in improving adhesiveness. These copolymer resins can be used in combination of two or more as required. The polymer used as the main component of the adhesive has a mass average molecular weight of 1,000 or more. When the molecular weight is less than 1,000, the cohesive force of the composition is too low, so that the adhesion to the adherend is lowered.

接着剤は、上記材料に加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させても良い。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ_２が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 In addition to the above materials, the adhesive may contain a monomer having a high refractive index and / or metal oxide ultrafine particles having a high refractive index. Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether and the like. Examples of the metal oxide ultrafine particles having a high refractive index include an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm made of at least one oxide selected from zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. It is preferable to contain the following fine particles. The metal oxide ultrafine particles having a high refractive index are preferably oxide ultrafine particles of at least one metal selected from Al, Zr, Zn, Ti, In and Sn. Specific examples include ZrO ₂ , TiO ₂ , _{_{_{_{al 2 O 3, In 2 O}}}} 3, ZnO, SnO 2, Sb 2 O 3, ITO , and the like. Among these, ZrO ₂ is particularly preferably used. The addition amount of the high refractive index monomer or metal oxide ultrafine particles is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the adhesive.

また、接着剤は、上記材料に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させても良い。低屈折率を有する超微粒子の例には、平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いても良い。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 In addition to the above materials, the adhesive may contain ultra fine particles having a low refractive index. Examples of the ultrafine particles having a low refractive index preferably include silica fine particles having an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm or less. Moreover, you may use the hollow silica which contains air in particle | grains and expresses a lower refractive index. The addition amount of the ultrafine particles having a low refractive index is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the adhesive.

接着剤には硬化剤（架橋剤）を用いても良く、架橋剤としては、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。これらの架橋剤の添加量は上記ポリマー１００質量部に対して０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部の範囲で選択するのがよい。この添加量が、０．１質量部未満であると硬化が不十分となり、５０質量部を越えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用する接着剤の樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そして、この接着剤の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。上記で得られた電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤によりＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレイに使用する。 A curing agent (crosslinking agent) may be used for the adhesive. Examples of the crosslinking agent include amines such as triethylenetetramine, xylenediamine and diaminodiphenylmethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecyl succinic anhydride, Mellitic acid, acid anhydrides such as benzophenone tetracarboxylic anhydride, diaminodiphenylsulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, ethylmethylimidazole, and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of these crosslinking agents is selected in the range of 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer. If the amount added is less than 0.1 parts by mass, curing may be insufficient, and if it exceeds 50 parts by mass, excessive crosslinking may occur, which may adversely affect adhesiveness. You may mix | blend additives, such as a diluent, a plasticizer, antioxidant, a filler, and a tackifier, with the resin composition of the adhesive agent used by this invention as needed. The adhesive resin composition is applied to cover a part or the entire surface of the base material of the constituent material provided with a geometric figure drawn with a conductive material on the surface of the transparent plastic base material, After the solvent drying and heat curing steps, the adhesive film according to the present invention is obtained. The adhesive film having electromagnetic shielding properties and transparency obtained above can be used by directly attaching to an adhesive film adhesive such as a CRT, PDP, liquid crystal, EL display, acrylic plate, glass plate, etc. Affixed to a plate or sheet of a sheet and used for a display.

本発明で用いる接着剤は、ディスプレイ本来の表示色を変化させないために無色であることが好ましい。ただし、樹脂自体が有色であっても接着剤の厚みが薄い場合には実質的には無色とみなすことが可能である。また、紫外線吸収や赤外線吸収を目的に該波長域の光を吸収する材料を混在させても良い。 The adhesive used in the present invention is preferably colorless so as not to change the original display color of the display. However, even if the resin itself is colored, it can be considered substantially colorless if the adhesive is thin. Further, a material that absorbs light in the wavelength range may be mixed for the purpose of ultraviolet absorption or infrared absorption.

上記の特性を有する接着剤としては例えば、アクリル系樹脂、α−オレフィン樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アクリル共重合物系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エチレン−ビニルアセテート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。これらの内、アクリル系樹脂が好ましい。同じ樹脂を用いる場合でも、接着剤を重合法により合成する際に架橋剤の添加量を下げる、粘着性付与材を加える、分子の末端基を変化させるなどの方法によって、粘着性を向上させることも可能である。また、同じ接着剤を用いても、接着剤を貼り合わせる面、すなわち、透明プラスチックフィルムまたはガラス板の表面改質を行なうことにより密着性を向上させることも可能である。このような表面の改質方法としては、コロナ放電処理、プラズマグロー処理等の物理的手法、密着性を向上させるための下地層を形成するなどの方法が挙げられる。 Examples of the adhesive having the above characteristics include acrylic resins, α-olefin resins, vinyl acetate resins, acrylic copolymer resins, urethane resins, epoxy resins, vinylidene chloride resins, vinyl chloride resins, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate resin, polyamide resin, and polyester resin. Of these, acrylic resins are preferred. Even when the same resin is used, the adhesiveness can be improved by reducing the amount of crosslinking agent added, adding a tackifier, or changing the end group of the molecule when synthesizing the adhesive by polymerization. Is also possible. Even if the same adhesive is used, it is possible to improve the adhesion by modifying the surface of the adhesive, that is, the surface of the transparent plastic film or glass plate. Examples of such surface modification methods include physical methods such as corona discharge treatment and plasma glow treatment, and methods such as forming an underlayer for improving adhesion.

光散乱粒子の添加量が１質量部未満では光拡散性が不充分であり、４０質量部を超えて添加すると接着力がやや低下する傾向なので、添加量は１〜４０質量部の範囲が好ましい。 If the addition amount of the light scattering particles is less than 1 part by mass, the light diffusibility is insufficient. If the addition amount exceeds 40 parts by mass, the adhesive force tends to be slightly reduced. .

有機ＥＬ発光装置への、接着剤層の形成方法としては、特に制限されず、有機ＥＬ発光装置に接着剤の溶液を塗布し紫外線を照射する方法等の従来公知の方法があげられる。接着剤層の厚さは特に限定されないが、乾燥膜厚で０．１〜４０．０μｍ程度とするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍ程度とするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。 The method for forming the adhesive layer on the organic EL light emitting device is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known methods such as a method of applying an adhesive solution to the organic EL light emitting device and irradiating ultraviolet rays. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but it is preferably about 0.1 to 40.0 μm, more preferably about 0.5 to 10.0 μm, more preferably 1.0 to 7 in terms of dry film thickness. Most preferably, the thickness is 5 μm.

＜透光性樹脂＞
透光性樹脂としては、主として紫外線、電子線、および熱のいずれかによって硬化する樹脂、即ち、光硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。またこれらの硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したものが使用される。 <Translucent resin>
As the translucent resin, there are mainly used three types of resins that are cured by any one of ultraviolet rays, electron beams, and heat, that is, photocurable resins, ionizing radiation curable resins, and thermosetting resins. Also, a mixture of these curable resins with a thermoplastic resin and a solvent is used.

透光性樹脂は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、透光性樹脂は架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを材料として用いることが好ましい。 The translucent resin is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. The translucent resin is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is preferably used as a material.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。 Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, penta Erythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,3,5-cyclohexanetriol trimethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene derivatives Examples include 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. included. Among these, acrylate or methacrylate monomers having at least three functional groups, and further acrylate monomers having at least five functional groups are preferable from the viewpoint of film hardness, that is, scratch resistance. A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate is commercially available and is particularly preferably used.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、紫外線、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。 These monomers having an ethylenically unsaturated group can be cured by a polymerization reaction by ultraviolet rays, ionizing radiation or heat after being dissolved in a solvent together with various polymerization initiators and other additives, applied and dried.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をマトリクスに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するマトリクスは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。 Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the matrix by reaction of a crosslinkable group. Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition. The matrix having these crosslinkable functional groups can form a crosslinked structure by heating after coating.

透光性樹脂は、上記マトリクスポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマーを加えても良い。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。 In addition to the matrix polymer, the translucent resin may contain a monomer having a high refractive index. Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether and the like.

溶剤として、炭表示装置数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等、炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等、２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等が挙げられる。さらに溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。 As the solvent, ethers having 3 to 12 charcoal display devices: specifically, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1, Ketones having 3 to 12 carbon atoms such as 3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole: specifically, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone And esters having 3 to 12 carbon atoms, such as methylcyclohexanone, specifically, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate , And γ-petite Organic solvents having two or more kinds of functional groups such as lactone: specifically, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-methoxyethanol, 2 -Propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and the like. Furthermore, as a solvent, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-2-butanol, cyclohexanol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 3-pentanone, 3-heptanone, 4-heptanone. These can be used alone or in combination of two or more.

透光性樹脂を形成するための材料は、バーコーターもしくはスピンコーターにて有機ＥＬディスプレイのバリア層上、もしくは上部電極上に塗布される。 The material for forming the translucent resin is applied on the barrier layer of the organic EL display or the upper electrode by a bar coater or a spin coater.

上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。 As a curing method of the ionizing radiation curable resin composition as described above, the ionizing radiation curable resin composition can be cured by a normal curing method, that is, irradiation with an electron beam or ultraviolet rays.

例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。 For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as a Cockrowalton type, a bandegraph type, a resonant transformation type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. Preferably, an electron beam having an energy of 100 to 300 KeV is used, and in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from rays of ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, metal halide lamp, etc. are used. it can.

透光性樹脂をバインダーとする散乱部材の厚さは０．１〜４０．０μｍとするのが好ましく、０．５〜１０．０μｍとするのがより好ましく、１．０〜７．５μｍとするのが最も好ましい。 The thickness of the scattering member having a translucent resin as a binder is preferably 0.1 to 40.0 μm, more preferably 0.5 to 10.0 μm, and 1.0 to 7.5 μm. Is most preferred.

＜無機微粒子＞
透光性樹脂は、上記材料に加えて、高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等を含有させても良い。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ_３、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、粘着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 <Inorganic fine particles>
The translucent resin may contain metal oxide ultrafine particles having a high refractive index in addition to the above materials. Examples of the metal oxide ultrafine particles having a high refractive index include an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm made of at least one oxide selected from zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. It is preferable to contain the following fine particles. The metal oxide ultrafine particles having a high refractive index are preferably oxide ultrafine particles of at least one metal selected from Al, Zr, Zn, Ti, In and Sn. Specific examples include ZrO ₂ , TiO ₂ , _{_{_{al 2 O 3, In 2 O}}} 3, ZnO, SnO 2, Sb 2 O 3, ITO , and the like. Among these, ZrO ₂ is particularly preferably used. The addition amount of the high refractive index monomer and the metal oxide ultrafine particles is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the pressure-sensitive adhesive.

また、透光性樹脂は、上記材料に加えて、これに低屈折率を有する超微粒子等を含有させても良い。低屈折率を有する超微粒子の例には、平均直径１００ｎｍ以下、好ましくは平均直径５０ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有することが好ましい。また粒子中に空気を含有してより低屈折率を発現する中空シリカを用いても良い。低屈折率の超微粒子の添加量は、接着剤の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。 In addition to the above materials, the translucent resin may contain ultrafine particles having a low refractive index. Examples of the ultrafine particles having a low refractive index preferably include silica fine particles having an average diameter of 100 nm or less, preferably an average diameter of 50 nm or less. Moreover, you may use the hollow silica which contains air in particle | grains and expresses a lower refractive index. The addition amount of the ultrafine particles having a low refractive index is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the adhesive.

＜光散乱粒子＞
散乱部材を構成する光散乱粒子の種類は限定されず、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、スチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ等が用いられる。無機微粒子としては、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、等が用いられる。当該無機微粒子の平均直径は、０．１μｍ以上、１０μｍ以下であるが、０．１μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましく、さらには、０．２μｍ以上、０．５μｍ以下であることが更に好ましい。 <Light scattering particles>
The kind of the light scattering particles constituting the scattering member is not limited, and may be organic fine particles or inorganic fine particles. As the organic fine particles, polymethyl methacrylate beads, acrylic-styrene copolymer beads, melamine beads, polycarbonate beads, styrene beads, crosslinked polystyrene beads, polyvinyl chloride beads, benzoguanamine-melamine formaldehyde beads and the like are used. As the inorganic fine particles, SiO ₂ , ZrO ₂ , TiO ₂ , Al ₂ O ₃ , In ₂ O ₃ , ZnO, SnO ₂ , Sb ₂ O ₃ , etc. are used. The average diameter of the inorganic fine particles is 0.1 μm or more and 10 μm or less, preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.2 μm or more and 0.5 μm or less. .

＜＜多色有機ＥＬ表示装置の作製＞＞ << Production of Multicolor Organic EL Display Device >>

次に、本発明のトップエミッション型有機ＥＬ表示装置を説明する。
まず、絶縁性基板上にバッファ層を介してＴＦＴを形成し、次いで、全面にＳｉＮ膜からなる層間絶縁膜層を堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いてソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールをそれぞれ形成する。 Next, the top emission type organic EL display device of the present invention will be described.
First, a TFT is formed on an insulating substrate through a buffer layer, and then an interlayer insulating film layer made of a SiN film is deposited on the entire surface, and then reaches a source region and a drain region using a normal photoetching process. Each contact hole is formed.

次いで、全面にＡｌ／Ｔｉ／Ａｌ多層構造導電層を堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いてパターニングすることによって、ＴＦＴ部上にも延在するようにソース電極を形成するとともに、ドレイン電極を形成する。
なお、ソース電極は共通ソース線から４つの分岐線に分岐している。 Next, after depositing an Al / Ti / Al multilayer structure conductive layer on the entire surface, patterning is performed using a normal photoetching process, thereby forming a source electrode so as to extend also on the TFT portion, and a drain. An electrode is formed.
Note that the source electrode branches from the common source line into four branch lines.

次いで、例えば、スピンコート法を用いて全面に感光性樹脂を塗布して層間絶縁膜とし、この層間絶縁膜を所定のマスクを用いて露光した後、所定の現像液を用いて現像することによって、ソース電極の分岐線に対するコンタクトホールを形成する。
なお、図においては、便宜的に共通ソース線に対してコンタクトホールが形成されている。 Next, for example, by applying a photosensitive resin to the entire surface by using a spin coating method to form an interlayer insulating film, the interlayer insulating film is exposed using a predetermined mask, and then developed using a predetermined developer. Then, a contact hole for the branch line of the source electrode is formed.
In the figure, a contact hole is formed for the common source line for convenience.

次いで、例えば、スパッタ法によりＡｌ膜を全面に堆積させたのち、通常のフォトエッチング工程を用いて所定の形状にパターニングすることによって、コンタクトホールを介してソース電極の分岐線に接続する分割下部電極を形成する。 Next, for example, an Al film is deposited on the entire surface by sputtering, and then patterned into a predetermined shape using a normal photoetching process, so that the divided lower electrode connected to the branch line of the source electrode through the contact hole Form.

次いで、マスク蒸着法を用いて画素開口部の底部に露出している分割下部電極を覆う有機ＥＬ層を形成したのち、再びマスク蒸着法を用いて有機ＥＬ層を覆う厚さが、例えば、１０ｎｍのＡｌ膜と厚さが、例えば、３０ｎｍのＩＴＯ膜を順次堆積させて共通上部電極を形成し、各分割下部電極に対応する領域がそれぞれ分割画素部となる。 Next, after forming an organic EL layer that covers the divided lower electrode exposed at the bottom of the pixel opening using a mask vapor deposition method, the thickness that covers the organic EL layer again using the mask vapor deposition method is, for example, 10 nm. A common upper electrode is formed by sequentially depositing an ITO film having a thickness of, for example, 30 nm, and a region corresponding to each divided lower electrode is a divided pixel portion.

次いで、全面にＣＶＤ法によりＳｉＮ膜、ＳｉＯＮ膜を順次堆積させて厚みが５μｍのバリア層を形成する。さらにバリア層上に、透明基板としてガラス板を貼り付ける。 Next, a SiN film and a SiON film are sequentially deposited on the entire surface by CVD to form a barrier layer having a thickness of 5 μm. Further, a glass plate is attached as a transparent substrate on the barrier layer.

図２に簡略化した有機ＥＬ素子１００の基本構成を示す。ＴＦＴ基板上１１０に下部電極１２０を形成し、その上に順次有機EL層１３０、上部電極１４０、バリア層１５０、透明基板１６０を形成する。 FIG. 2 shows a basic configuration of the simplified organic EL element 100. A lower electrode 120 is formed on the TFT substrate 110, and an organic EL layer 130, an upper electrode 140, a barrier layer 150, and a transparent substrate 160 are sequentially formed thereon.

また図３に本発明における有機ＥＬ素子１０１の構成を示す。ＴＦＴ基板上１１０に下部電極１２０を形成し、その上に順次有機EL層１３０、上部電極１４０、バリア層１５０、散乱部材１７０、透明基板１６０を形成する。 FIG. 3 shows the configuration of the organic EL element 101 in the present invention. A lower electrode 120 is formed on the TFT substrate 110, and an organic EL layer 130, an upper electrode 140, a barrier layer 150, a scattering member 170, and a transparent substrate 160 are sequentially formed thereon.

＜＜散乱部材の作製＞＞ << Production of scattering member >>

＜バインダーに粘着剤を含む、散乱部材＞
実施例１〜２において、以下に示す配合比の散乱部材を作製した。 <Scattering member containing adhesive in binder>
In Examples 1 and 2, scattering members having the following blend ratios were produced.

（実施例１）
アクリル系共重合体エマルジョンの製造攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込みラインを備えた４口フラスコに、水３０質量部、過硫酸アンモニウム０．１質量部を仕込み、窒素パージの中で７０℃まで昇温した後、下記組成の乳化モノマー混合物Ａを４時間かけて滴下し、滴下終了後さらに３時間反応させて固形分５０％のアクリル系共重合体エマルジョンを得た。
乳化モノマー混合物Ａの組成
ｎ−ブチルアクリレート４９．５質量部
２−エチルヘキシルアクリレート５０質量部
アクリル酸０．５質量部
水７０質量部
ドデシルメルカプタン０．０５質量部
ラウリル硫酸ナトリウム０．５質量部
ノニオン系乳化剤１．０質量部
（第一工業製薬社製，商品名「ノイゲンＥＡ１４０」）
無機微粒子ＺｒＯ_２フィラー（平均直径２０ｎｍ、屈折率２．１８）
１００質量部
光散乱粒子ポリメチルメタクリレート系ビーズ１７質量部
（綜研化学製ＭＸ１５０、平均直径１．５μｍ、屈折率１．４９）
分散剤（第一工業製薬社製，商品名「ネオゲンＰ」）０．１質量部
消泡剤（サンノプコ社製，商品名「ＳＮデフォーマー」）０．１質量部 (Example 1)
Production of acrylic copolymer emulsion A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and nitrogen blowing line was charged with 30 parts by mass of water and 0.1 part by mass of ammonium persulfate, and 70 ° C. in a nitrogen purge. The emulsion monomer mixture A having the following composition was added dropwise over 4 hours, and after completion of the addition, the mixture was further reacted for 3 hours to obtain an acrylic copolymer emulsion having a solid content of 50%.
Composition of emulsion monomer mixture A n-butyl acrylate 49.5 parts by mass 2-ethylhexyl acrylate 50 parts by mass Acrylic acid 0.5 part by mass Water 70 parts by mass Dodecyl mercaptan 0.05 part by mass Sodium lauryl sulfate 0.5 part by mass Nonionic Emulsifier 1.0 part by mass (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name “Neugen EA140”)
Inorganic fine particles ZrO ₂ filler (average diameter 20 nm, refractive index 2.18)
100 parts by mass Light-scattering particles 17 parts by mass of polymethyl methacrylate beads (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. MX150, average diameter 1.5 μm, refractive index 1.49)
Dispersant (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name “Neogen P”) 0.1 part by mass Defoamer (San Nopco, trade name “SN Deformer”) 0.1 part by mass

ここで、上記調合に光散乱粒子を含まないものは粘着剤に相当する。この粘着剤は散乱部材のバインダーとして用いられる。この粘着剤の屈折率を測定するため、ポリメチルメタクリレート系ビーズを混合しない乳化モノマー混合物Ａ’を調合し、これを上記と同様に滴下・反応させて、アクリル系共重合体エマルジョンを作製した。これをガラス基板に塗布して、粘着剤の膜を形成し、反射分光膜厚計を用いて屈折率を測定したところ、形成された膜の屈折率は１．７０であった。 Here, what does not contain light-scattering particles in the said preparation is equivalent to an adhesive. This pressure-sensitive adhesive is used as a binder for the scattering member. In order to measure the refractive index of this pressure-sensitive adhesive, an emulsified monomer mixture A 'not mixed with polymethyl methacrylate beads was prepared, and this was dropped and reacted in the same manner as described above to prepare an acrylic copolymer emulsion. When this was applied to a glass substrate to form a pressure-sensitive adhesive film and the refractive index was measured using a reflection spectral film thickness meter, the refractive index of the formed film was 1.70.

（実施例２）
アクリル系共重合体エマルジョンの製造攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込みラインを備えた４口フラスコに、水３０質量部、過硫酸アンモニウム０．１質量部を仕込み、窒素パージの中で７０℃まで昇温した後、下記組成の乳化モノマー混合物Ｂを４時間かけて滴下し、滴下終了後さらに３時間反応させて固形分５０％のアクリル系共重合体エマルジョンを得た。
乳化モノマー混合物Ｂの組成
ｎ−ブチルアクリレート４９．５質量部
２−エチルヘキシルアクリレート５０質量部
アクリル酸０．５質量部
水７０質量部
ドデシルメルカプタン０．０５質量部
ラウリル硫酸ナトリウム０．５質量部
ノニオン系乳化剤１．０質量部
（第一工業製薬社製，商品名「ノイゲンＥＡ１４０」）
無機微粒子ＳｉＯ_２フィラー（平均直径１５ｎｍ、屈折率１．４５）
１００．０質量部
光散乱粒子ベンゾグアナミン系ビーズ１７質量部
（日本触媒製エポスターＭＳ平均直径１．０μｍ、屈折率１．６６）
分散剤（第一工業製薬社製，商品名「ネオゲンＰ」）０．１質量部
消泡剤（サンノプコ社製，商品名「ＳＮデフォーマー」）０．１質量部 (Example 2)
Production of acrylic copolymer emulsion A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and nitrogen blowing line was charged with 30 parts by mass of water and 0.1 part by mass of ammonium persulfate, and 70 ° C. in a nitrogen purge. The emulsion monomer mixture B having the following composition was added dropwise over 4 hours, followed by further reaction for 3 hours after completion of the addition to obtain an acrylic copolymer emulsion having a solid content of 50%.
Composition of emulsion monomer mixture B n-butyl acrylate 49.5 parts by mass 2-ethylhexyl acrylate 50 parts by mass Acrylic acid 0.5 part by mass Water 70 parts by mass Dodecyl mercaptan 0.05 part by mass Sodium lauryl sulfate 0.5 part by mass Nonionic Emulsifier 1.0 part by mass (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name “Neugen EA140”)
Inorganic fine particles SiO ₂ filler (average diameter 15 nm, refractive index 1.45)
100.0 parts by weight Light-scattering particles 17 parts by weight of benzoguanamine-based beads (Epester MS average diameter 1.0 μm, refractive index 1.66 made by Nippon Shokubai)
Dispersant (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name “Neogen P”) 0.1 part by mass Defoamer (San Nopco, trade name “SN Deformer”) 0.1 part by mass

ここで、上記調合に光散乱粒子を含まないものは粘着剤に相当する。この粘着剤は散乱部材のバインダーとして用いられる。この粘着剤の屈折率を測定するため、ベンゾグアナミン系ビーズを混合しない乳化モノマー混合物Ｂ’を調合し、これを上記と同様に滴下・反応させて、アクリル系共重合体エマルジョンを作製した。これをガラス基板に塗布して、粘着剤の膜を形成し、反射分光膜厚計を用いて屈折率を測定したところ、形成された膜の屈折率は１．４５であった。 Here, what does not contain light-scattering particles in the said preparation is equivalent to an adhesive. This pressure-sensitive adhesive is used as a binder for the scattering member. In order to measure the refractive index of this pressure-sensitive adhesive, an emulsified monomer mixture B ′ not mixed with benzoguanamine-based beads was prepared, and this was dropped and reacted in the same manner as above to prepare an acrylic copolymer emulsion. When this was applied to a glass substrate to form a pressure-sensitive adhesive film and the refractive index was measured using a reflection spectral film thickness meter, the refractive index of the formed film was 1.45.

これらの散乱部材を前記有機ＥＬ表示装置のバリア層上に厚みが１０μｍとなるように塗り、さらにその上から透明基板を貼り付けた。 These scattering members were applied on the barrier layer of the organic EL display device so as to have a thickness of 10 μm, and a transparent substrate was further attached thereon.

＜バインダーに接着剤を含む、散乱部材＞
実施例３〜４において、以下に示す配合比の散乱部材を作製した。 <Scattering member containing adhesive in binder>
In Examples 3-4, the scattering member of the compounding ratio shown below was produced.

（実施例３）
脂環式エポキシ樹脂：セロキサイド２０８１１００質量部
（ダイセル化学株式会社製）
２−エチルー４−メチルイミダゾール４質量部
（四国化成株式会社製）
２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物
１０質量部
無機微粒子ＺｒＯ_２フィラー（平均直径２０ｎｍ、屈折率２．１８）１００質量部
光散乱粒子ポリメチルメタクリレート系ビーズ１７質量部
（綜研化学製ＭＸ１５０、平均直径１．５μｍ、屈折率１．４９） (Example 3)
Alicyclic epoxy resin: 100 parts by mass of Celoxide 2081 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
4-ethyl-4-methylimidazole 4 parts by mass (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
2,4-Diamino-6-vinyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct
10 parts by weight Inorganic fine particles ZrO ₂ filler (average diameter 20 nm, refractive index 2.18) 100 parts by weight Light scattering particles Polymethyl methacrylate beads 17 parts by weight (MX 150, average diameter 1.5 μm, refractive index 1.49 manufactured by Soken Chemical) )

ここで、上記調合に光散乱粒子を含まないものは接着剤に相当する。この接着剤は散乱部材のバインダーとして用いられる。この接着剤の屈折率を測定するため、実施例３の配合からポリメチルメタクリレート系ビーズを抜いたものを調合し、接着剤を作製した。これをガラス基板に塗布・硬化して、接着剤の膜を形成した。反射分光膜厚計を用いて屈折率を測定したところ、形成された膜の屈折率は１．７０であった。 Here, what does not contain light-scattering particle | grains in the said preparation is equivalent to an adhesive agent. This adhesive is used as a binder for the scattering member. In order to measure the refractive index of this adhesive, an adhesive was prepared by blending the composition of Example 3 with the polymethyl methacrylate beads removed. This was applied to a glass substrate and cured to form an adhesive film. When the refractive index was measured using a reflection spectral film thickness meter, the refractive index of the formed film was 1.70.

（実施例４）
脂環式エポキシ樹脂：セロキサイド２０８１１００質量部
（ダイセル化学株式会社製）
２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成株式会社製）４質量部
２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物
１０質量部
無機微粒子ＳｉＯ_２フィラー（平均直径１５ｎｍ、屈折率１．４５）１００質量部
光散乱粒子ベンゾグアナミン系ビーズ１７質量部
（日本触媒製エポスターＭＳ平均直径１．０μｍ、屈折率１．６６） Example 4
Alicyclic epoxy resin: 100 parts by mass of Celoxide 2081 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) 4 parts by mass 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct
10 parts by weight Inorganic fine particles SiO ₂ filler (average diameter 15 nm, refractive index 1.45) 100 parts by weight Light scattering particles 17 parts by weight of benzoguanamine-based beads (Epester MS average diameter 1.0 μm, refractive index 1.66 made by Nippon Shokubai)

ここで、上記調合に光散乱粒子を含まないものは接着剤に相当する。この接着剤は散乱部材のバインダーとして用いられる。この接着剤の屈折率を測定するため、実施例４の配合からベンゾグアナミン系ビーズを抜いたものを調合し、接着剤を作製した。これをガラス基板に塗布・硬化して、接着剤の膜を形成した。反射分光膜厚計を用いて屈折率を測定したところ、形成された膜の屈折率は１．４５であった。 Here, what does not contain light-scattering particle | grains in the said preparation is equivalent to an adhesive agent. This adhesive is used as a binder for the scattering member. In order to measure the refractive index of this adhesive, an adhesive was prepared by blending the composition of Example 4 with the benzoguanamine beads removed. This was applied to a glass substrate and cured to form an adhesive film. When the refractive index was measured using a reflection spectral film thickness meter, the refractive index of the formed film was 1.45.

これらの接着剤を前記有機ＥＬ表示装置のバリア層上に厚みが１０μｍとなるように塗り、さらにその上から透明基板を貼り付けた。 These adhesives were applied on the barrier layer of the organic EL display device so as to have a thickness of 10 μm, and a transparent substrate was further adhered thereon.

＜バインダーに透光性樹脂を含む、散乱部材＞
実施例５として、以下に示す配合比の、バインダーが透光性樹脂であり、光散乱粒子がＴｉＯ_２である散乱部材を作製した。 <Scattering member containing translucent resin in binder>
As Example 5, a scattering member having a blending ratio shown below, in which the binder is a translucent resin and the light scattering particles are TiO ₂ was produced.

＜実施例５＞
散乱部材用塗布液
無機微粒子である、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）１００質量部、透光性樹脂の材料である重合性モノマー（重合性化合物）（日本化薬製ＤＰＨＡ）５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した。この溶液に光散乱粒子として、ＴｉＯ₂（屈折率２．５４、平均直径０．２μｍ）１００質量部を混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように散乱部材用塗布液を調整した。 <Example 5>
Scattering member coating solution Inorganic fine particles, zirconium oxide ultrafine particle dispersion-containing hard coat coating solution (Desolite KZ-7114A, manufactured by JSR Corp.) 100 parts by mass, a transparent monomer material (polymerization) Compound (Nippon Kayaku DPHA) (57 parts by mass) was mixed with stirring and dissolved in a methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone (20/80 mass ratio) solution. In this solution, 100 parts by mass of TiO ₂ (refractive index 2.54, average diameter 0.2 μm) is mixed as light scattering particles so that the solid content is 50% with methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone (20/80 mass ratio). The coating solution for scattering members was prepared.

前記散乱部材用塗布液を、硬化時の厚みが１０μｍになるように有機EL表示装置のバリア層上に塗布した。溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ散乱部材を作製した。 The scattering member coating solution was applied onto the barrier layer of the organic EL display device so that the thickness upon curing was 10 μm. After drying the solvent, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm ² and an irradiation amount of 300 mJ / cm ² to form a scattering member. Produced.

ここで、上記調合に光散乱粒子を含まないものは透光性樹脂に相当する。この透光性樹脂は散乱部材のバインダーとして用いられる。この透光性樹脂の屈折率を測定するため、実施例５の配合からＴｉＯ_２を抜いたものを調合し、透光性樹脂用塗布液を作製した。これをガラス基板に塗布・硬化して、透光性樹脂の膜を形成した。反射分光膜厚計を用いて屈折率を測定したところ、形成された膜の屈折率は１．７０であった。 Here, what does not contain light-scattering particle | grains in the said preparation is corresponded to translucent resin. This translucent resin is used as a binder for the scattering member. In order to measure the refractive index of this translucent resin, a composition obtained by removing TiO ₂ from the formulation of Example 5 was prepared to prepare a translucent resin coating solution. This was applied to a glass substrate and cured to form a translucent resin film. When the refractive index was measured using a reflection spectral film thickness meter, the refractive index of the formed film was 1.70.

更に、実施例５の散乱部材の配合を元に、厚みと光散乱粒子の充填率を変更した散乱部材を作製し、実施例６〜１０及び比較例３〜７の有機ＥＬ表示装置を作製した。 Furthermore, based on the mixing | blending of the scattering member of Example 5, the scattering member which changed thickness and the filling rate of light-scattering particle was produced, and the organic EL display apparatus of Examples 6-10 and Comparative Examples 3-7 was produced. .

＜比較例１＞
比較例１において、以下に示す配合比の光拡散性の無い接着剤を作製した。
脂環式エポキシ樹脂：セロキサイド２０８１１００質量部
（ダイセル化学株式会社製）
２−エチルー４−メチルイミダゾール４質量部
（四国化成株式会社製）
２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物
１０質量部
比較例１では、この接着剤を前記有機ＥＬのバリア層上に厚さ１０μｍで塗布し、透明基板を貼り付けた。 <Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, an adhesive having no light diffusivity with the following blending ratio was prepared.
Alicyclic epoxy resin: 100 parts by mass of Celoxide 2081 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
4-ethyl-4-methylimidazole 4 parts by mass (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
2,4-Diamino-6-vinyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct
10 parts by mass In Comparative Example 1, this adhesive was applied to the organic EL barrier layer in a thickness of 10 μm, and a transparent substrate was attached.

＜比較例２＞
比較例２において、以下に示す製法による光拡散フィルムを作成した。
光拡散層を構成する透光性樹脂は、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を１００質量部、透光性樹脂の材料である重合性モノマー（重合性化合物）（日本化薬製ＤＰＨＡ）を５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した。この溶液に透光性微粒子として、ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製ＭＸ１５０、平均直径１．５μｍ、屈折率１．４９）１７質量部を混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように光拡散層用塗布液を調整した。トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、上記光拡散層用塗布液を、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ^２になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フィルムを作製した。
比較例２では、前記バリア層上に光拡散性の無い接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、透明基板を貼り付けた。さらに、その上に光拡散性の無い接着剤を厚さ１０μｍで塗布し、光拡散フィルムをトリアセチルセルロースフィルム基板が接着剤に接するように貼り付けた。 <Comparative example 2>
In the comparative example 2, the light-diffusion film by the manufacturing method shown below was created.
The light transmissive resin constituting the light diffusion layer is 100 parts by mass of a hard coat coating solution (Desolite KZ-7114A, manufactured by JSR Co., Ltd.) containing zirconium oxide ultrafine particle dispersion, and is a polymerizable resin material. 57 parts by mass of a monomer (polymerizable compound) (DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed with stirring and dissolved in a methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone (20/80 mass ratio) solution. In this solution, 17 parts by mass of polymethyl methacrylate beads (MX150, average diameter 1.5 μm, refractive index 1.49) as a light-transmitting fine particle were mixed to obtain methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone (20/80 mass ratio). The light diffusion layer coating solution was adjusted so that the solid content was 50%. On a triacetyl cellulose film (manufactured by FUJIFILM Corporation, TD-80U), the coating solution for the light diffusion layer is applied so that the coating amount of 1.5 μm polymethyl methacrylate-based beads is 0.4 g / m ^2. After coating and solvent drying, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating with an ultraviolet ray having an illuminance of 400 mW / cm ² and an irradiation amount of 300 mJ / cm ^2. A light diffusion film was prepared.
In Comparative Example 2, an adhesive having no light diffusibility was applied to the barrier layer with a thickness of 10 μm, and a transparent substrate was attached. Further, an adhesive having no light diffusibility was applied thereon with a thickness of 10 μm, and the light diffusion film was attached so that the triacetyl cellulose film substrate was in contact with the adhesive.

以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載した条件・構成に限られるものではなく、各種の変更が可能であり、例えば、上記の各実施例において示した散乱部材を構成する散乱材料及びバインダー材料は単なる一例にすぎない。 The embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the conditions and configurations described in the embodiments, and various modifications can be made. The scattering material and binder material constituting the scattering member are merely examples.

有機ＥＬ表示装置に画像を表示させ、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺＣｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて輝度の角度分布を測定した。この測定値から発光総量を計算し、散乱部材を用いない場合の発光総量と散乱部材を用いた場合の発光総量の変化の百分率を光取り出し上昇率として求めた。更に下記の４段階で正面輝度を目視評価した。
とても明るい：ＡＡ
明るい：Ａ
やや暗い：Ｂ
暗い：Ｃ An image was displayed on the organic EL display device, and the angular distribution of luminance was measured using EZContrast 160D manufactured by ELDIM. The total amount of light emission was calculated from this measured value, and the percentage of change in the total amount of light emission when the scattering member was not used and the total amount of light emission when the scattering member was used was determined as the light extraction increase rate. Further, the front luminance was visually evaluated in the following four stages.
Very bright: AA
Bright: A
Slightly dark: B
Dark: C

また、有機ＥＬ表示装置に画像を表示させ、下記の３段階で画像の呆けを評価した。
画像の呆けが全く判らない：Ａ
画像がわずかに呆ける：Ｂ
画像の呆けが認識できる：Ｃ Further, an image was displayed on the organic EL display device, and the image blur was evaluated in the following three stages.
I don't understand the image blur at all: A
The image is slightly amazed: B
Can recognize image blur: C

完成したディスプレイの良し悪しを、輝度が向上し、且つ、画像ボケがないこと、という観点に基づいて、下記３段階の判定基準で評価した。
輝度ＡＡ、且つ、画像ボケＡｏｒＢ： ◎
輝度ＡＡｏｒＡｏｒＢ、且つ、画像ボケＡｏｒＢ： ○
輝度、画像ボケどちらかがＣ： × The quality of the completed display was evaluated according to the following three criteria based on the viewpoint that the luminance was improved and there was no image blur.
Luminance AA and image blur A or B: ◎
Luminance AA or A or B and image blur A or B: ○
Either brightness or image blur is C: ×

比較例１、２と実施例１〜１０及び比較例３〜７の基本的な構成を第１表に示す。また実施例１〜１０及び比較例３〜７について、散乱部材を構成するバインダーの種類、屈折率、及び光散乱粒子の材料、膜厚、充填率をまとめたものを表２に示す。ここで表２中の光散乱粒子の材料である粒子１から３は、以下の材料を表す。
粒子１：
ポリメチルメタクリレート系ビーズ
（綜研化学製ＭＸ１５０、平均直径１．５μｍ、屈折率１．４９）
粒子２：
ベンゾグアナミン系ビーズ
（日本触媒製エポスターＭＳ平均直径１．０μｍ、屈折率１．６６）
粒子３：
ＴｉＯ₂
（平均直径０．２μｍ、屈折率２．５４）
また表中の充填率の大きさは、実施例１〜１０及び比較例３〜７の調合で示した光散乱粒子の配合量で表す。比較例１〜７と実施例１〜１０の輝度、画像ボケ、判定を比較した結果を表３に示す。光散乱性を有する粘着剤、接着剤、透光性樹脂を塗布することで、輝度が向上し、且つ画像ボケの少ない有機EL表示装置が得られた。 Table 1 shows basic configurations of Comparative Examples 1 and 2, Examples 1 to 10, and Comparative Examples 3 to 7. Table 2 shows a summary of the types of binders constituting the scattering member, the refractive index, and the material, film thickness, and filling rate of the light scattering particles for Examples 1 to 10 and Comparative Examples 3 to 7. Here, particles 1 to 3 which are materials of light scattering particles in Table 2 represent the following materials.
Particle 1:
Polymethylmethacrylate beads (MX150, average diameter 1.5 μm, refractive index 1.49, manufactured by Soken Chemical)
Particle 2:
Benzoguanamine beads (Epester MS average diameter 1.0 μm, refractive index 1.66 made by Nippon Shokubai)
Particle 3:
TiO ₂
(Average diameter 0.2μm, refractive index 2.54)
Moreover, the magnitude | size of the filling rate in a table | surface is represented by the compounding quantity of the light-scattering particle shown by preparation of Examples 1-10 and Comparative Examples 3-7. Table 3 shows the results of comparing the luminance, image blur, and determination of Comparative Examples 1-7 and Examples 1-10. By applying a light-scattering pressure-sensitive adhesive, adhesive, and translucent resin, an organic EL display device with improved brightness and reduced image blur was obtained.

自発光表示装置における光取り出し効率低下の原因を説明する図である。It is a figure explaining the cause of the light extraction efficiency fall in a self-light-emitting display device. 有機ＥＬ表示装置の基本構成の概略図である。It is the schematic of the basic composition of an organic electroluminescence display. 本発明の実施例１，２の構成として、散乱部材に粘着剤を含むときの構成を示す図である。It is a figure which shows a structure when an adhesive is included in a scattering member as a structure of Example 1, 2 of this invention. 本発明の実施例３，４の構成として、散乱部材に接着剤を含むときの構成を示す図である。It is a figure which shows a structure when an adhesive agent is included in a scattering member as a structure of Example 3, 4 of this invention. 本発明の実施例５〜１０の構成として、散乱部材に透光性樹脂を含むときの構成を示す図である。It is a figure which shows a structure when a translucent resin is included in a scattering member as a structure of Examples 5-10 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１・・・ＴＦＴ基板
２・・・背面電極
３・・・有機層
４・・・透明電極
５・・・透明基板
１００・・・有機ＥＬ表示装置の基本構成
１０１・・・実施例１，２の素子構成
１０２・・・実施例３，４の素子構成
１０３・・・実施例５〜１０の素子構成
１１０・・・ＴＦＴ基板
１２０・・・下部電極
１３０・・・有機ＥＬ層
１４０・・・上部電極
１５０・・・バリア層
１６０・・・透明基板
１７０・・・散乱部材
１８０・・・貼合部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... TFT substrate 2 ... Back electrode 3 ... Organic layer 4 ... Transparent electrode 5 ... Transparent substrate 100 ... Basic structure of organic EL display device 101 ... Examples 1, 2 Element configuration 102 ... Element configurations of Examples 3 and 4 103 ... Element configurations of Examples 5 to 10 110 ... TFT substrate 120 ... Lower electrode 130 ... Organic EL layer 140 ... Upper electrode 150 ・・・ Barrier layer 160 ・・・ Transparent substrate 170 ・・・ Scattering member 180 ・・・ Bonding member

Claims

バインダーと光散乱粒子が少なくとも含まれる散乱部材であって、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられることを特徴とする散乱部材。 A scattering member comprising at least a binder and light scattering particles, wherein the scattering member is used in an organic electroluminescence display device.

前記バインダーに、液体が含まれることを特徴とする請求項１に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder contains a liquid.

前記バインダーに、粘着剤が含まれることを特徴とする請求項１に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder contains an adhesive.

前記バインダーに、接着剤が含まれることを特徴とする請求項１に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder contains an adhesive.

前記バインダーに、透光性樹脂が含まれることを特徴とする請求項１に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder contains a translucent resin.

前記バインダーの屈折率が１．６５以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to any one of claims 1 to 5, wherein the binder has a refractive index of 1.65 or more.

前記バインダーに、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ及びＳｎＯ_２の中から選択される、少なくとも１種の無機微粒子が含まれることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder contains at least one kind of inorganic fine particles selected from ZrO ₂ , TiO ₂ , ZnO, and SnO _2. .

前記光散乱粒子の屈折率が１．５５以下、又は２．１以上であることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の散乱部材。 8. The scattering member according to claim 1, wherein the light scattering particles have a refractive index of 1.55 or less, or 2.1 or more.

前記光散乱粒子の平均直径が、２．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein an average diameter of the light scattering particles is 2.0 μm or less.

前記光散乱粒子の平均直径が、０．２μｍ以上、０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の散乱部材。 9. The scattering member according to claim 1, wherein an average diameter of the light scattering particles is 0.2 μm or more and 0.5 μm or less.

前記散乱部材の膜厚が０．５μｍ以上、１０．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の散乱部材。 11. The scattering member according to claim 1, wherein a film thickness of the scattering member is 0.5 μm or more and 10.0 μm or less.

前記散乱部材の膜厚が１．０μｍ以上、７．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の散乱部材。 The film thickness of the said scattering member is 1.0 micrometer or more and 7.5 micrometers or less, The scattering member of any one of Claim 1 to 10 characterized by the above-mentioned.

前記バインダーの屈折率が１．５以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 1, wherein the binder has a refractive index of 1.5 or less.

前記バインダーに、シリカ微粒子、及び中空シリカ微粒子の中から選択される、少なくとも１種の微粒子が含まれることを特徴とする請求項１３に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 13, wherein the binder includes at least one kind of fine particles selected from silica fine particles and hollow silica fine particles.

前記光散乱粒子の屈折率が１．６５以上であることを特徴とする請求項１３から１４のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 13, wherein a refractive index of the light scattering particles is 1.65 or more.

前記光散乱粒子の平均直径が、２．０μm以下であることを特徴とする請求項１３から１５のいずれか１項に記載の散乱部材。 The scattering member according to claim 13, wherein an average diameter of the light scattering particles is 2.0 μm or less.

前記光散乱粒子の平均直径が、０．２μｍ以上、０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１３から１５のいずれか１項に記載の散乱部材。 16. The scattering member according to claim 13, wherein an average diameter of the light scattering particles is 0.2 μm or more and 0.5 μm or less.

前記散乱部材の膜厚が０．５μｍ以上、１０．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１３から１７のいずれか１項に記載の散乱部材。 18. The scattering member according to claim 13, wherein the scattering member has a thickness of 0.5 μm or more and 10.0 μm or less.

前記散乱部材の膜厚が１．０μｍ以上、７．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１３から１７のいずれか１項に記載の散乱部材。 18. The scattering member according to claim 13, wherein the scattering member has a thickness of 1.0 μm or more and 7.5 μm or less.

基板上に形成された下部電極と、当該下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、当該有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極と、当該上部電極上に配置された透明基板からなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、当該上部電極に、請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載の散乱部材が接することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 A lower electrode formed on a substrate, an organic electroluminescence layer formed on the lower electrode, an upper electrode formed on the organic electroluminescence layer, and a transparent substrate disposed on the upper electrode It is an organic electroluminescent display apparatus, Comprising: The scattering member of any one of Claims 1-19 touches the said upper electrode, The organic electroluminescent display apparatus characterized by the above-mentioned.

基板上に形成された下部電極と、当該下部電極上に形成された有機エレクトロルミネッセンス層と、当該有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上部電極と、当該上部電極上に形成されたバリア層と、当該バリア層上に配置された透明基板からなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、当該バリア層に、請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載の散乱部材が接することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 A lower electrode formed on the substrate, an organic electroluminescence layer formed on the lower electrode, an upper electrode formed on the organic electroluminescence layer, a barrier layer formed on the upper electrode, It is an organic electroluminescent display apparatus which consists of a transparent substrate arrange | positioned on the said barrier layer, Comprising: The scattering member of any one of Claims 1-19 contacts the said barrier layer, It is characterized by the above-mentioned. Organic electroluminescence display device.