JP2009103462A - 観察装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】エッジ部分の形状やウェハ自身の反りなどに対応可能な観察装置を提供すること。
【解決手段】被観察物(半導体ウェハ10のエッジ部分11)を観察する観察部20a、20b、20cと、前記観察部を支持する支持部材(ドーム30、ボックス40)と、前記観察部を、観察中心Aを中心とした円弧に沿って移動させる駆動部(Θ軸モータ50、Φ軸モータ60、自走駆動機構21a、21b、21c)と、を備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は例えば半導体ウェハのエッジ部分などの欠陥を観察する観察装置に関する。
半導体ウェハの外周部にあるエッジ部分は、他の部位に比して肉厚が薄く、また他の物との接触や他の物から衝撃を受けて欠けやすい箇所である。このエッジ部分の欠けによってパーティクルが発生し、またこの欠けによってウェハに新たな傷が発生するおそれがある。また、半導体ウェハのエッジ部分にはパーティクルダストが付着しやすく、このエッジ部分に付着したパーティクルやダストがウェハ処理工程に持ち込まれて、歩留まり低下の原因となることが知られている。
このため、半導体ウェハのエッジ部分の検査は半導体ウェハの製造において極めて重要である。これまでにも半導体ウェハのエッジ部分の検査装置が種々提案されている。例えば、エッジ部分の上側テーパー面と、下側テーパー面と、エッジ部分の側面にそれぞれ正対するようにして撮像手段を配置し、またこれら上側テーパー面、下側テーパー面及び側面を散乱光で照明する円弧状のC型光源をエッジ部に配置した装置が提案されている(特許文献1)。
特開2003−139523号公報
半導体ウェハのエッジ部分の形状はウェハのメーカーや製造工程の違いなどによって丸みを帯びたものや台形状のものがあり、エッジ部分への最適な照明とその受光側との組み合わせである、照明光源と撮像手段とを、エッジ部分の形状に合わせる必要がある。
また、検査ステージによってウェハを回転させてウェハ全周のエッジ部分の検査を行うが、検査ステージの面ぶれ精度やウェハ自身の反りによって撮像手段の焦点距離がずれてしまうおそれがある。
しかし、上記検査装置を含めてこれまで提案された装置では、いずれも予め照明光源や撮像手段の配置位置が固定されていて、エッジ部分の形状やウェハ自身の反りなどに対応することが出来ない課題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、エッジ部分の形状やウェハ自身の反りなどに対応可能な観察装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成する本発明の請求項1に記載の観察装置は、被観察物の端部を観察する観察部と、前記観察部を支持する支持部材と、前記観察部を、観察中心とした円弧に沿って移動させる駆動部と、を備えてなることを特徴とする。
本発明の請求項2に記載の観察装置は、前記被観察物が円盤状部を有し、前記観察中心が、前記被観察物に含まれ、前記円弧に沿った前記観察部の移動の回転軸が、前記観察中心を通る前記被観察物の前記円盤状部の法線上又は接線上に位置することを特徴とする。
本発明の請求項3に記載の観察装置は、前記観察中心に向けて光を照射する照明部を更に備えることを特徴とする。
本発明の請求項4に記載の観察装置は、前記支持部材が、前記円弧を含む半球状の殻体によって形成され、該殻体の中心を前記観察中心と合致させて配置され、前記駆動部が、前記観察部を、前記回転軸を中心に回転させることを特徴とする。
本発明の請求項5に記載の観察装置は、前記支持部材が、前記被観察物と前記観察部との間の距離を一定に維持するように前記法線及び前記接線と直交する線に沿って移動可能であることを特徴とする。
本発明の請求項6に記載の観察装置は、前記直交する前記線に沿う方向における前記被観察物の変位を検出する変位検出部と、前記変位検出部によって検出した前記変位に基づいて前記支持部材を前記直交する前記線に沿って移動させる直線移動機構と、を更に備えたことを特徴とする。
本発明の請求項7に記載の観察装置は、前記観察部が前記被観察物からの散乱光の輝度を検出することを特徴とする。
本発明の請求項8に記載の観察装置は、前記観察部に、該観察部を前記支持部材に対して前記円弧に沿って移動させる自走駆動機構を備えてなることを特徴とする。
本発明によれば、エッジ部分の形状やウェハ自身の反りなどに対応可能である。
以下本発明の観察装置の一実施形態について図1乃至図5を参照して説明する。
本発明の観察装置は被観察物である半導体ウェハのエッジ部分を観察する装置であり、図1は本発明の観察装置の一実施形態を示す一部省略して示した概略側面図、図2は同一実施形態の一部省略して示した概略平面図である。
本実施形態の観察装置は、半導体ウェハ10のエッジ部分11を観察する観察部20(図5参照)と、この観察部20を支持する支持部材としての半球状の殻体であるドーム30と、このドーム30を収容する一端面が開口したボックス40と、ドーム30及びボックス40を介して観察部20を、観察中心A(図4参照)を中心として円弧状の軌跡(観察中心Aを中心として描かれる円)に沿って移動させる駆動部としてのΘ軸モータ50、Φ軸モータ60(図2参照)と、観察部20からの出力などを入力してΘ軸モータ50、Φ軸モータ60などを制御する制御部70(図5参照)と、を備える。
半導体ウェハ10は検査ステージ15上に載置され、観察時にこの検査ステージ15によって回転される。半導体ウェハ10は、それ自身の反りがある他に検査ステージ15の面ブレの影響を受けることがある。
半導体ウェハ10のエッジ部分11は、図3に詳細に示すように、上ベベル12とアペックス13と下ベベル14とを備える。これら上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14のうち、アペックス13の部位に上述した観察中心Aが含まれる。図4に示すように、この観察中心Aを通る半導体ウェハ10の法線上にΘ回転軸51が位置し、また接線上にΦ回転軸61が位置する。
観察部20は、例えばフォトダイオードやCCD等の撮像素子などの光電変換素子によって構成され(本実施形態では観察部20にCCDを使用している)、上ベベル12、アペックス13又は下ベベル14を観察するもので、ドーム30の内側面に複数(本実施形態では3個)配置されている。具体的には、図1、図2に示すように、主に上ベベル12を観察するように該上ベベル12と略正対して観察部20aが配置され、また主にアペックス13を観察するように該アペックス13と略正対して観察部20bが配置され、さらに主に下ベベル14を観察するように該下ベベル14と略正対して観察部20cが配置される。
これら観察部20a、20b、20cは、それぞれドーム30の内側面に沿って自走する自走駆動機構21a、21b、21c上に搭載されている。観察部20a、20b、20cは、ドーム30又はボックス40によって観察中心A(図4参照)を中心として(Θ回転軸51、Φ回転軸61を中心として)円弧状の軌跡(観察中心Aを中心として描かれる円)に沿って移動する他に、自走駆動機構21a、21b、21cによってドーム30の内側面上を移動する。
ドーム30は、図1、図2に示すように、観察中心Aを中心とした円弧を含む内側面を有する。したがって、自走駆動機構21a、21b、21cによって観察部20a、20b、20cをドーム30の内側面に沿って移動させると、観察中心Aを中心とした円弧に沿って移動させることになる。
ドーム30は、図1、図2に示すように、その中心を観察中心Aに一致させ、且つ、その開口部31をボックス40の開口部41に略一致させた状態でボックス40内に収容される。またドーム30は、その開口部31寄りの外側面箇所に固定した上述したΦ回転軸61を介してボックス40内に揺動可能に取り付けられている。ドーム30は、図2に示すように、その開口部31が半導体ウェハ10のエッジ部分11の一部分を僅かに覆った状態になっている。ドーム30の内側面には、観察中心Aに向けて光を照射する照明部として発光ダイオード32が複数配置されている。半導体ウェハ10のエッジ部分11にある、上ベベル12、アペックス13又は下ベベル14は、ドーム30内でこれら発光ダイオード32からの光によって照明される。
ボックス40はΘ回転軸51を介してΘ軸モータ50に接続されている。このΘ軸モータ50を駆動することによってボックス40はΘ回転軸51を中心に回転する。これによって、ドーム30もΘ回転軸51を中心に回転し、観察部20(観察部20a、20b、20c)は、Θ回転軸51を中心とした円弧状の軌跡に沿って移動する。
また、ボックス40は、図2に示すように、その開口部41寄りの両側面箇所でΦ回転軸61を不図示の軸受を介して回転可能に支持し、また一方の側面箇所でΦ軸モータ60を支持している。Φ軸モータ60は、歯車減速機構62を介してΦ回転軸61に接続されている。Φ軸モータ60を駆動することによってドーム30がボックス40内でΦ回転軸61を中心に回転する。これによって、観察部20(観察部20a、20b、20c)はΦ回転軸61を中心とした円弧状の軌跡(Θ回転軸51を中心とした円弧状の軌跡と直交する軌跡)に沿って移動する。
Θ軸モータ50は直線移動機構としてのZ軸駆動機構80上に載置されている。このZ軸駆動機構80は、例えば、回転モータとこの回転モータの回転運動を直線運動に変換する回転・直線運動変換機構との組み合わせ又はリニアーモータから構成され、Θ軸モータ50を回転・直線運動変換機構上又はリニアーモータの直線移動体上に載置して、ボックス40全体を図1の矢印Z軸方向(図1の上下方向)に移動させるものである。
半導体ウェハ10のエッジ部11近傍の平面部16上には、半導体ウェハ10自身の反り又は検査ステージ15の面ブレによるエッジ部11のZ軸方向の変位を検出する変位センサ90が配置されている。
制御部70は、観察装置全体の制御を行うもので、図5に示すように、観察部20a、20b、20cからの出力(観察像情報)を入力し、観察部20a、20b、20cが観察する観察像が最も鮮明になるようにΘ軸モータ50、Φ軸モータ60や自走駆動機構21a、21b、21cに駆動信号を出力する。これによって、観察像の検出感度の最も高い位置に観察部20a、20b、20cを移動させて調整することが出来る。なお、観察部20a,20b,20cは移動に際して観察中心Aとの距離が変わらないため、はじめに合焦させておけばピント調整は不要となる。
また、制御部70は、変位センサ90からの出力(半導体ウェハ10の反りや検査ステージ15の面ブレ情報)を入力し、エッジ部11と観察部20a、20b、20cとの間の距離を一定に維持するようにZ軸駆動機構80に駆動信号を出力する。これによって、Θ軸モータ50及びΘ回転軸51を介してボックス40及びドーム30のZ軸方向の位置を調整することができる。
さらに、制御部70は、上述した調整後に、観察部20a、20b、20cの出力である散乱光の輝度情報を入力し、これを欠陥検出部100に送る機能も有する。欠陥検出部100には、制御部70を介して観察部20a、20b、20cが受光した観察像の輝度情報が入力される他に、検査ステージ15の回転位置情報も入力されている。欠陥検出部100は、これら情報に基づいて欠陥の程度と箇所を検出する。
次に、本実施形態の観察装置の動作を説明する。
半導体ウェハ10のエッジ部分11の欠陥を観察する前に予め観察部20a、20b、20cの位置をエッジ部分11の形状に合わせて調整しておく。この調整作業では、発光ダイオード32を点灯し、エッジ部分11の上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14からの反射光を各観察部20a、20b、20cによって受光しつつ、観察中心Aを通るΘ回転軸51、Φ回転軸61を中心としてボックス40、ドーム30を回転させ、また自走駆動機構21a、21b、21cを駆動し、各観察部20a、20b、20cを、観察中心Aを中心とした円弧に沿って少しずつ移動させながら各観察部20a、20b、20cが受光する観察像の鮮明度が高くなる位置を探し出す。
すなわち、各観察部20a、20b、20cの位置をエッジ部分11の形状に合わせて調整しておく。
次いで、検査ステージ15によって半導体ウェハ10を回転させつつ、発光ダイオード32でエッジ部分11を照明して上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14の反射光を各観察部20a、20b、20cによって受光する。各観察部20a、20b、20cの出力は制御部70を介して欠陥検出部100に送られ、この欠陥検出部100でエッジ部分11の欠け、パーティクルの付着などの欠陥を検出する。
半導体ウェハ10のエッジ部分11の検査時には、変位センサ90によってZ軸方向における観察部20a、20b、20cと上ベベル12、アペックス13、下ベベル14との間の距離の変動を常時監視しており、半導体ウェハ10自身の反りや検査ステージ15の面ブレによってこの距離の変動を少しでも検出したときには、直ちにその変位量に応じて制御部70からZ軸駆動機構80に制御信号が出力され、変位量を打ち消すようにボックス40をZ軸方向に移動させて、Z軸方向における観察部20a、20b、20cと上ベベル12、アペックス13、下ベベル14との間の距離を常に一定に維持する。
したがって、半導体ウェハ10自身の反りや検査ステージ15の面ブレなどの影響を受けることなく、エッジ部分11の欠陥を検出することができる。
本実施形態の観察装置によれば、上述したように、予め観察中心Aを通るΘ回転軸51、Φ回転軸61を中心としてボックス40、ドーム30を回転させ、また自走駆動機構21a、21b、21cを駆動して、半導体ウェハ10のエッジ部分11の形状に合わせて各観察部20a、20b、20cの位置を調整しているので、最良の検出感度でエッジ部分11の欠陥(欠け、パーティクルの付着等)を検出することが可能である。
また、半導体ウェハ10自身の反りや検査ステージ15の面ブレがあっても、Z軸駆動機構80を駆動してボックス40をZ軸方向に移動させ、観察部20a、20b、20cとエッジ部分11との間のZ軸方向の距離を常に一定に維持するようにしているので、各観察部20a、20b、20cの上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14に対する焦点距離は変化せず、エッジ部分11の欠陥(欠け、パーティクルやダストの付着)を精度良く検出することが可能である。
さらに、各観察部20a、20b、20cの検出感度を向上させ、またこれら各観察部20a、20b、20cの位置を移動させることによって、これまで検出が難しかった欠陥も検出することが可能である。
さらにまた、上述したように欠陥の検出感度が向上するなどの理由によって半導体ウェハ10を検査ステージ15によって一回転させるだけでエッジ部分11の欠陥検査を完了することができ、検査のスループット性が向上する。
本発明は上記実施形態に示すものに限定されるものではない。例えば、ドーム30内に発光ダイオード32を配置した場合を示したが、ドーム30の外に配置してもよい。半導体ウェハ10のエッジ部分11を照明する光源としては発光ダイオードに限定されるものではなく、レーザー光源を使用してもよい。
また、観察部20としてCCDを使用した場合を示したが、例えばフォトダイオードなどの受光素子(光電変換素子)を配置し、エッジ部分11の上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14からの散乱光を受光してこれら上ベベル12、アペックス13及び下ベベル14の欠陥を検出するようにしてもよい。
また、各観察部20a、20b、20cを、観察中心Aを中心とした円弧に沿って移動するように支持するのに、ドーム30及びボックス40を使用した場合を示したが、これに限定されるものではない。例えば、ボックス40を省略し、Θ回転軸51の一端を直接ドーム30に接続して、ドーム30をΘ軸モータ50によってΘ回転軸51を中心に回転させるようにしてもよい。また、Θ回転軸51、Θ軸モータ50を省略し、ボックス40を固定して、Φ軸モータ60によってドーム30を、Φ回転軸61を中心に回転させることによって、観察部20a、20b、20cを、観察中心Aを中心とした円弧に沿って移動させるようにしてもよい。さらに、ボックス40を省略し、ドーム30を固定し、自走駆動機構21a、21b、21cによって観察部20a、20b、20cをドーム30の内周面に沿って移動させるようにしてもよい。
本発明の観察装置の一実施形態を示す一部省略した概略側面図である。 図1の観察装置の一部省略した概略平面図である。 図1の観察装置によって観察される半導体ウェハのエッジ部分の部分拡大側面図である。 図1の観察装置のΘ回転軸とΦ回転軸と観察中心Aとの関係を説明する説明図である。 図1の観察装置に装備される制御部のブロック図である。
符号の説明
10 半導体ウェハ
11 エッジ部分
12 上ベベル
13 アペックス
14 下ベベル
15 検査ステージ
20a、20b、20c 観察部
21a、21b、21c 自走駆動機構
30 ドーム(支持部材)
32 発光ダイオード(照明部)
40 ボックス(支持部材)
50 Θ軸モータ(駆動部)
51 Θ回転軸
60 Φ軸モータ(駆動部)
61 Φ回転軸
80 Z軸駆動機構
A 観察中心

Claims (8)

  1. 被観察物の端部を観察する観察部と、
    前記観察部を支持する支持部材と、
    前記観察部を、観察中心とした円弧に沿って移動させる駆動部と、
    を備えてなることを特徴とする観察装置。
  2. 請求項1に記載の観察装置において、
    前記被観察物は円盤状部を有し、
    前記観察中心は、前記被観察物に含まれ、
    前記円弧に沿った前記観察部の移動の回転軸は、前記観察中心を通る前記被観察物の前記円盤状部の法線上又は接線上に位置することを特徴とする観察装置。
  3. 請求項1又は2に記載の観察装置において、
    前記観察中心に向けて光を照射する照明部を更に備えることを特徴とする観察装置。
  4. 請求項1乃至3の何れか一項に記載の観察装置において、
    前記支持部材は、前記円弧を含む半球状の殻体によって形成され、該殻体の中心を前記観察中心と合致させて配置され、
    前記駆動部は、前記観察部を、前記回転軸を中心に回転させることを特徴とする観察装置。
  5. 請求項2乃至4の何れか一項に記載の観察装置において、
    前記支持部材は、前記被観察物と前記観察部との間の距離を一定に維持するように前記法線及び前記接線と直交する線に沿って移動可能であることを特徴とする観察装置。
  6. 請求項5に記載の観察装置において、
    前記直交する前記線に沿う方向における前記被観察物の変位を検出する変位検出部と、
    前記変位検出部によって検出した前記変位に基づいて前記支持部材を前記直交する前記線に沿って移動させる直線移動機構と、
    を更に備えたことを特徴とする観察装置。
  7. 請求項1乃至6の何れか一項に記載の観察装置において、
    前記観察部は前記被観察物からの散乱光の輝度を検出することを特徴とする観察装置。
  8. 請求項1乃至7の何れか一項に記載の観察装置において、
    前記観察部に、該観察部を前記支持部材に対して前記円弧に沿って移動させる自走駆動機構を備えてなることを特徴とする観察装置。
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