JP2009101292A - Dip treatment apparatus and its operating method - Google Patents
Dip treatment apparatus and its operating method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009101292A JP2009101292A JP2007275040A JP2007275040A JP2009101292A JP 2009101292 A JP2009101292 A JP 2009101292A JP 2007275040 A JP2007275040 A JP 2007275040A JP 2007275040 A JP2007275040 A JP 2007275040A JP 2009101292 A JP2009101292 A JP 2009101292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- processing
- flow path
- solution
- circulation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
本発明は、処理対象物を処理溶液に浸漬することにより、処理対象物に表面処理を行う浸漬処理装置および浸漬処理装置の運転方法に関するものである。 The present invention relates to an immersion treatment apparatus that performs surface treatment on a treatment object by immersing the treatment object in a treatment solution, and an operation method of the immersion treatment apparatus.
従来、この種のコーティング装置（浸漬処理装置）として、ワークに対して表面処理を行なう浸漬槽（処理槽）と、浸漬槽からオーバーフローしたコーティング用液体（処理溶液）を回収する貯液槽（補充槽）と、貯液槽と浸漬槽とを接続する配管と、配管に介設され、コーティング用液体中に混入した異物を除去するフィルタと、配管に介設され、貯液槽のコーティング用液体を浸漬槽に送液するポンプと、を有するものが知られている（特許文献１参照）。このコーティング装置では、ワークの浸漬によって浸漬槽からオーバーフローしたコーティング用液体を貯液槽に受けると共に、ポンプを駆動することで、貯液槽のコーティング用液体の異物をフィルタにより濾過した後に浸漬槽に戻すようにしている。
このように、従来のコーティング装置では、ワークの浸漬により浸漬槽からオーバーフローしたコーティング用液体のみを循環させながら濾過作業を行っているため、浸漬槽のコーティング用溶液に多くの異物が残留してしまうと共に、混入している異物を完全に除去するには多くの時間を要するという問題があった。 As described above, in the conventional coating apparatus, since the filtration operation is performed while circulating only the coating liquid overflowing from the immersion tank due to the immersion of the work, many foreign matters remain in the coating solution in the immersion tank. At the same time, there is a problem that it takes a lot of time to completely remove the contaminated foreign matter.
本発明は、短時間で、処理溶液に混入している異物を確実に濾過することができる浸漬処理装置および浸漬処理装置の運転方法を提供することをその課題としている。 This invention makes it the subject to provide the operating method of the immersion treatment apparatus and immersion treatment apparatus which can filter the foreign material mixed in the process solution reliably in a short time.
本発明の浸漬処理装置は、貯留した処理溶液により、浸漬した処理対象物の表面処理を行う処理タンクと、処理タンクの容量以上の容量を有するバッファタンクと、処理タンクとバッファタンクとを相互に接続する循環流路と、循環流路に介設され、処理タンクの処理溶液をバッファタンクに送液すると共に、バッファタンクの処理溶液を処理タンクに送液する送液手段と、循環流路に介設したフィルタと、送液手段を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、処理タンクに貯留された処理溶液の濾過時に、処理タンクに貯留している全ての処理溶液をバッファタンクに送液した後、バッファタンクから処理タンクに送液することを特徴とする。 The immersion treatment apparatus of the present invention includes a treatment tank that performs a surface treatment of an immersed treatment object with a stored treatment solution, a buffer tank having a capacity that is greater than or equal to the capacity of the treatment tank, and the treatment tank and the buffer tank. A circulating flow path to be connected; a liquid feeding means interposed in the circulating flow path for feeding the processing solution in the processing tank to the buffer tank; and feeding the processing solution in the buffer tank to the processing tank; An intervening filter and a control means for controlling the liquid feeding means, and the control means supplies all of the processing solution stored in the processing tank to the buffer tank when the processing solution stored in the processing tank is filtered. After the liquid is sent, the liquid is sent from the buffer tank to the processing tank.
本発明の浸漬処理装置の運転方法は、処理タンクの処理溶液を、フィルタを介設した循環流路を介して循環させることで、処理溶液を濾過する浸漬処理装置の運転方法において、循環流路に、処理タンクの処理溶液を全て抜き取るバッファタンクを設け、処理タンクの全ての処理溶液をバッファタンクにいったん抜き取った後、処理タンクに戻すことを特徴とする。 The operation method of the immersion treatment apparatus of the present invention is the circulation flow path in the operation method of the immersion treatment apparatus that filters the treatment solution by circulating the treatment solution in the treatment tank through the circulation passage provided with a filter. In addition, a buffer tank for extracting all the processing solution from the processing tank is provided, and all the processing solution in the processing tank is once extracted into the buffer tank and then returned to the processing tank.
これらの構成によれば、処理溶液を濾過するときに、処理タンクの全ての処理溶液をバッファタンクにいったん抜き取った後、処理タンクに戻すようにしている。その際、循環流路を流れる処理溶液は、循環流路に介設したフィルタを通過し、濾過される。この場合、処理タンクの全ての処理溶液をいったん抜き取るため、処理タンクに異物が残ることがない。また、循環流路を介して処理タンクからバッファタンクへ、更にバッファタンクから処理タンクへ送液するだけで、全ての処理溶液を濾過することができる。したがって、処理溶液に混入している異物を確実に濾過することができると共に、処理溶液全体の濾過作業を短時間で行うことができる。 According to these configurations, when the processing solution is filtered, all the processing solution in the processing tank is once extracted into the buffer tank and then returned to the processing tank. At that time, the treatment solution flowing through the circulation channel passes through a filter interposed in the circulation channel and is filtered. In this case, since all the processing solution in the processing tank is once extracted, no foreign matter remains in the processing tank. Moreover, all the processing solutions can be filtered by only sending liquid from the processing tank to the buffer tank and further from the buffer tank to the processing tank via the circulation channel. Therefore, the foreign matters mixed in the processing solution can be reliably filtered, and the entire processing solution can be filtered in a short time.
この場合、循環流路は、処理溶液を、処理タンクからバッファタンクに送液するための往流路と、バッファタンクから処理タンクに送液するための返流路と、を有し、送液手段は、往流路に介設した循環往ポンプと、返流路に介設した循環返ポンプと、を有していることが、好ましい。 In this case, the circulation channel has a forward channel for sending the processing solution from the processing tank to the buffer tank, and a return channel for sending the solution from the buffer tank to the processing tank. It is preferable that the means has a circulation forward pump interposed in the forward flow path and a circulation return pump interposed in the return flow path.
この構成によれば、循環往ポンプで処理タンクからバッファタンクへの処理溶液の送液を行い、循環返ポンプでバッファタンクから処理タンクへの処理溶液の送液を行なって、処理溶液の濾過が行われる。したがって、処理タンクおよびバッファタンクの設置位置の上下に関わらず、短時間で処理溶液を送液することができ、濾過作業をより一層、短時間で行うことができる。 According to this configuration, the processing solution is sent from the processing tank to the buffer tank by the circulation pump, and the processing solution is sent from the buffer tank to the processing tank by the circulation return pump, and the processing solution is filtered. Done. Therefore, regardless of the installation position of the processing tank and the buffer tank, the processing solution can be sent in a short time, and the filtering operation can be performed in a shorter time.
この場合、循環往ポンプの下流側の往流路には、分岐切替バルブを介して処理溶液を廃棄するための廃液タンクが接続されていることが、好ましい。 In this case, it is preferable that a waste liquid tank for discarding the processing solution is connected to the forward flow path on the downstream side of the circulation forward pump via the branch switching valve.
この構成によれば、往流路の一部を処理タンクから廃棄タンクに処理溶液を送液する流路として利用することができると共に、循環往ポンプを廃棄のための駆動源として利用することができるため、装置の構造を簡単にすることができる。 According to this configuration, a part of the forward flow path can be used as a flow path for sending the processing solution from the processing tank to the disposal tank, and the circulating forward pump can be used as a drive source for disposal. Therefore, the structure of the device can be simplified.
この場合、循環返ポンプの上流側の返流路には、合流切替バルブを介して処理溶液を供給するための給液タンクが接続されていることが、好ましい。 In this case, it is preferable that a liquid supply tank for supplying a processing solution is connected to the return flow path on the upstream side of the circulation return pump via a merging switching valve.
この構成によれば、返流路の一部を給液タンクから処理タンクに処理溶液を送液する流路として利用することができると共に、循環返ポンプを駆動源として利用することができるため、装置の構造を簡単にすることができる。 According to this configuration, a part of the return channel can be used as a channel for supplying the processing solution from the liquid supply tank to the processing tank, and the circulation return pump can be used as a drive source. The structure of the device can be simplified.
この場合、バッファタンクの底部には、返流路の上流端が接続される集液部が設けられ、バッファタンクの底面は、集液部に向って導水勾配を有していることが、好ましい。 In this case, it is preferable that a liquid collection part to which the upstream end of the return flow path is connected is provided at the bottom of the buffer tank, and the bottom surface of the buffer tank has a water guide gradient toward the liquid collection part. .
この構成によれば、送液終了直前において、バッファタンク内の処理溶液が残り少なくなると、処理溶液は底部の導水勾配によって集液部に集液される。このため、処理タンクに処理溶液を戻した（送液）ときに、バッファタンクに処理溶液が残ることがなく、全ての処理溶液をバッファタンクから処理タンクに確実に送液することができる。 According to this configuration, when the remaining processing solution in the buffer tank becomes short immediately before the end of liquid feeding, the processing solution is collected in the liquid collecting portion by the water guide gradient at the bottom. For this reason, when the processing solution is returned to the processing tank (liquid feeding), the processing solution does not remain in the buffer tank, and all the processing solutions can be reliably fed from the buffer tank to the processing tank.
この場合、処理タンクは、処理対象物の表面処理を行なう処理槽と、処理槽に処理溶液を補充するための補充槽と、処理槽と補充槽とを区画すると共に、処理槽から補充槽に流れる処理溶液の堰として機能する隔壁と、を有し、往流路の上流端は、処理槽および補充槽に流路切替え可能に接続され、返流路の下流端は、補充槽に接続され、循環往ポンプより上流側の往流路と、循環返ポンプの上流側の返流路と、を接続するバイパス流路、を更に備え、制御手段は、循環返ポンプを駆動し、バイパス流路を介して、補充槽の処理溶液を隔壁からオーバーフローするように処理槽に補充することが、好ましい。 In this case, the processing tank divides the processing tank for performing the surface treatment of the processing object, the replenishing tank for replenishing the processing tank with the processing solution, the processing tank and the replenishing tank, and from the processing tank to the replenishing tank. A partition functioning as a weir for the flowing processing solution, and the upstream end of the forward flow path is connected to the processing tank and the replenishing tank so that the flow path can be switched, and the downstream end of the return flow path is connected to the replenishing tank. A bypass flow path for connecting the upstream flow path upstream of the circulation return pump and the return flow path upstream of the circulation return pump, and the control means drives the circulation return pump to bypass the bypass flow path. It is preferable to replenish the treatment tank so that the treatment solution in the replenishment tank overflows from the partition wall.
この構成によれば、例えばワークの浸漬により、処理槽からオーバーフローした処理溶液を補充槽で回収することができると共に、循環返ポンプを駆動することで、目減りした処理槽の処理溶液を補充槽から満杯となるように補充することができる。さらに、往流路および返流路の一部をバイパス流路の一部として利用すると共に、循環返ポンプを処理溶液を補充するためのポンプとして利用することができる。このため、装置構成を単純化することができる。 According to this configuration, for example, the processing solution overflowed from the processing tank can be collected in the replenishing tank due to the immersion of the workpiece, and the processing solution in the processing tank reduced by driving the circulation return pump is removed from the replenishing tank. Can be replenished to fill. Furthermore, a part of the forward flow path and the return flow path can be used as a part of the bypass flow path, and the circulation return pump can be used as a pump for replenishing the processing solution. For this reason, the apparatus configuration can be simplified.
この場合、循環返ポンプより下流側の返流路には、処理溶液の送液の有無を検出する送液センサが介設され、制御手段は、循環返ポンプがバッファタンクから処理タンクに送液を開始した後、送液センサが「無」を検出したときに、循環返ポンプを停止させることが、好ましい。 In this case, a liquid feed sensor for detecting the presence or absence of the treatment solution is interposed in the return flow path downstream of the circulation return pump, and the control means sends the circulation return pump from the buffer tank to the treatment tank. It is preferable to stop the circulation return pump when the liquid feeding sensor detects “absence” after starting the operation.
同様に、返流路の下流端と処理タンクとの間に介設され、バッファタンクから送液された処理溶液を受容した後、自然流下で処理タンクに供給するサブタンクを、更に備えたことが、好ましい。 Similarly, a sub-tank is further provided between the downstream end of the return flow path and the processing tank, and after receiving the processing solution sent from the buffer tank, the sub-tank is supplied to the processing tank under natural flow. ,preferable.
これらの構成によれば、処理タンクへの送液終了直前に、エアー混じりの処理溶液が処理タンクに流入することがない。したがって、処理溶液内を浮上した気泡の崩壊による、処理溶液の処理タンク外部への飛散を有効に防止することができる。 According to these configurations, the processing solution mixed with air does not flow into the processing tank immediately before the liquid feeding to the processing tank is completed. Therefore, scattering of the processing solution to the outside of the processing tank due to the collapse of the air bubbles floating in the processing solution can be effectively prevented.
以下、添付した図面を参照して、本発明の第１実施形態に係る浸漬処理装置および浸漬処理装置の運転方法について説明する。この浸漬処理装置は、溶媒および溶質からなる処理溶液にワークを浸漬してコーティング等の表面処理を行う、いわゆるＤｉｐコータである。 Hereinafter, with reference to the attached drawings, an immersion treatment apparatus and an operation method of the immersion treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. This immersion treatment apparatus is a so-called Dip coater that performs surface treatment such as coating by immersing a workpiece in a treatment solution comprising a solvent and a solute.
図１に示すように、浸漬処理装置１は、貯留した処理溶液により、浸漬したワークＷの表面処理を行なう処理タンク２と、処理タンク２の全ての処理溶液を一時的に貯留するバッファタンク３と、処理タンク２およびバッファタンク３を相互に接続する循環流路４と、循環流路４を介して処理タンク２およびバッファタンク３間で処理溶液を送液する送液装置５と、循環流路４に介設され、処理溶液に混入した異物を濾過するフィルタ６と、溶媒を貯留する給液タンク７と、廃棄する処理溶液を貯留する廃液タンク８と、本装置の運転を制御する制御装置と、を有している。循環流路４は、処理タンク２からバッファタンク３に処理溶液を導く往流路２１と、バッファタンク３から処理タンク２に処理溶液を導く返流路２５とで構成され、また、送液装置５は、往流路２１に介設した循環往ポンプ３６と、返流路２５に介設した循環返ポンプ４４とで構成されている。
As shown in FIG. 1, the immersion treatment apparatus 1 includes a treatment tank 2 that performs surface treatment of the immersed workpiece W with a stored treatment solution, and a buffer tank 3 that temporarily stores all treatment solutions in the treatment tank 2. A circulation channel 4 that connects the processing tank 2 and the buffer tank 3 to each other, a liquid feeding device 5 that sends the processing solution between the processing tank 2 and the buffer tank 3 via the circulation channel 4, and a circulation
処理タンク２は、浸漬することでワークＷの表面処理を行う処理槽１１と、主に処理槽１１に補充するための処理溶液を貯留する補充槽１２と、を有している。処理槽１１および補充槽１２は、隔壁１３により区画されており、隔壁１３は、処理タンク２の周壁より低く設計されている。処理槽１１の底部には、返流路２５の下流端が接続され、処理槽１１および補充槽１２の底部には、合流部２４を介して往流路２１の上流端が接続されている。なお、図示では省略したが、処理タンク２には蓋体が開閉自在に設けられている。
The processing tank 2 includes a processing tank 11 that performs surface treatment of the workpiece W by dipping, and a
処理槽１１および補充槽１２に貯留されている処理溶液は、給液タンク７から処理タンク２に供給された溶媒に、所定の濃度となるように少量の溶質を直接投入して調整したものであり、処理にあたり、適宜フィルタリングを実施しながら使用し、汚れが目立ってきたとこで廃棄するようになっている。一方、ワークＷは、数枚から数十枚を単位として、一括して浸漬処理する。ワークＷの浸漬（処理）にあたっては、処理溶液を隔壁１３からオーバーフローさせるようにして処理槽１１を満杯にしておく。また、ワークＷの浸漬によりオーバーフローした処理溶液は、ワークＷの徐給材（交換）の際に補充槽１２から補充する。そして、補充槽１２から処理槽１１への処理溶液の補充は、上記の循環返ポンプ４４により行い、且つこの循環往ポンプ３６により、上記の溶媒と溶質との混合も行う。
The processing solution stored in the processing tank 11 and the
バッファタンク３は、処理タンク２より低い位置に配設され、処理タンク２から抜き取るように送液された処理溶液を貯留する。バッファタンク３の容量は、処理タンク２の容量と同等か、大きい容量を有している。バッファタンク３の底部には、集液部１４が設けられており、集液部１４に処理溶液が集まるようにバッファタンク３の底面は、集液部１４に向って所定の導水勾配を有している。すなわち、処理タンク２に貯留している全ての処理溶液がバッファタンク３に貯留することができると共に、バッファタンク３に貯留された全ての処理溶液を処理タンク２に送液できるようになっている。そして、バッファタンク３の上部には、上記の往流路２１の下流端が接続され、集液部１４には、上記の返流路２５の上流端が接続されている。これにより、バッファタンク３の処理溶液を処理タンク２に送液したときに、バッファタンク３に処理溶液が残ることがない。
The buffer tank 3 is disposed at a position lower than the processing tank 2 and stores the processing solution sent so as to be extracted from the processing tank 2. The capacity of the buffer tank 3 is equal to or larger than the capacity of the processing tank 2. A
往流路２１は、処理槽１１の底面に接続された処理側短流路２２と、補充槽１２の底面に接続された補充側短流路２３と、合流部２４を介して両短流路２２，２３の下流端からバッファタンク３に至る主往流路２７と、で構成されており、主往流路２７の下流側には、分岐部を介して廃液タンク８に至る廃液流路２６が接続されている。処理側短流路２２および補充側短流路２３には、それぞれ処理側開閉バルブ３１および補充側開閉バルブ３２がそれぞれ介設されており、また主往流路２７と後述するバイパス流路３３との分岐部には、第１分岐切替バルブ３４が介設されている。同様に、主往流路２７と廃液流路２６との分岐部には、第２分岐切替バルブ３５が介設され、第１分岐切替バルブ３４と第２分岐切替バルブ３５との間の主往流路２７には、処理タンク２の処理溶液をバッファタンク３に送液する循環往ポンプ３６が介設されている。第１分岐切替バルブ３４は、主往流路２７とバイパス流路３３との間で流路の切替えを行い、第２分岐切替バルブ３５は、主往流路２７と廃液流路２６との間で流路の切替えを行う。
The
一方、返流路２５は、上流端をバッファタンク３の集液部１４に接続され、下流端を処理槽１１の底部に接続されており、上流側には合流部を介して給液タンク７に至る給液流路４１が接続されている。そして、この合流部には、返流路２５と給液流路４１との流路切替えを行う第１合流切替バルブ４２が介設されている。第１合流切替バルブ４２の下流側の返流路２５には、第２合流切替バルブ４３が介設されており、第２合流切替バルブ４３には、バイパス流路３３が接続されている。すなわち、バイパス流路３３は、循環流路４をショートカットするように介設されている。第２合流切替バルブ４３の下流側の返流路２５には、上記の循環返ポンプ４４が介設され、また循環返ポンプ４４下流側の返流路２５には、上記のフィルタ６が介設されている。さらに、フィルタ６の下流側に位置して返流路２５には、送液の有無を検知する送液センサ４５が設けられている。
On the other hand, the
バイパス流路３３は、その一端が循環往ポンプ３６の上流側の往流路２１に設けた第１分岐切替バルブ３４に接続され、他端が返流路２５の循環返ポンプ４４の上流側に設けた第２合流切替バルブ４３を介して接続されている。例えば、処理溶液を補充槽１２から処理槽１１に補充する場合、循環返ポンプ４４を駆動させ、このバイパス流路３３を介して、補充槽１２から処理槽１１へ処理溶液を送液する。なお、バイパス流路３３は、循環往ポンプ３６の下流側と循環返ポンプ４４の下流側とを接続するものであってもよく、かかる場合には、循環往ポンプ３６の駆動により送液を行う。
One end of the bypass flow path 33 is connected to the first
フィルタ６は、循環返ポンプ４４と送液センサ４５の間に介設され、ワークＷに付着していた異物や、処理溶液が空気中の水分と反応して生ずるゲル状の反応物を濾過する。実施形態のものでは、処理タンク２の処理溶液をいったんバッファタンク３に抜き取ってから、フィルタ６に通液するようにして、全処理溶液を一括してフィルタリングするようになっている。なお、フィルタ６は、循環流路４のいずれかの位置、すなわち返流路２５は元より往流路２１のいずれかの位置に介設されていればよい。
The
送液センサ４５は、フィルタ６と補充槽１２との間に介設された流量センサ等から成り、処理タンク２へ送液される処理溶液の有無を検出する（実際には、流速を計測している。）。処理溶液の処理槽１１への送液が完了し、送液センサ４５が「無」を検出すると、制御装置は、循環返ポンプ４４を停止させ、送液を終了させる。好ましくは、送液センサ４５から処理槽１１までの送液時間を予め把握しておき、送液センサ４５が「無」を検出してからこの送液時間分遅延させて、循環返ポンプ４４を停止させる。これにより、処理溶液を返流路２５に残すことなく処理タンク２に送液することができ、且つ送液完了時のエアー混じりの処理溶液が、処理タンク２に吹き込むことがない。なお、送液センサ４５は、循環返ポンプ４４とフィルタ６との間に介設されていてもよい。
The
一方、給液タンク７は、溶媒を処理タンク２に供給するものであり、溶媒運搬用のボトルをそのまま転用している。すなわち、購入したボトルをそのまま設置し、その流出入口に、ワンタッチの接続具を介して返流路２５（チューブ）を接続するようにしている。また、廃液タンク８も、同様の構造となっている。なお、図中の符号５２は、給液タンク７を交換するときにのみ「閉」としておく、タンク専用バルブである。
On the other hand, the liquid supply tank 7 supplies the solvent to the processing tank 2 and uses a solvent transport bottle as it is. That is, the purchased bottle is installed as it is, and the return flow path 25 (tube) is connected to the outflow inlet via a one-touch connector. The
制御装置は、特に図示はしないが、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）およびＲＡＭ（Random Access Memory）等により主要部が構成され、後述する各種の運転形態別に、各バルブ３１，３２，３４，３５，４２，４２および両循環ポンプ３６，４４を制御する（図１参照）。 Although not shown in the figure, the control device includes a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and the like. 32, 34, 35, 42, 42 and both circulation pumps 36, 44 are controlled (see FIG. 1).
次に、図１を参照して、浸漬処理装置１の運転方法を説明する。浸漬処理装置１の運転動作には、浸漬処理に使用する処理溶液を調整する調整動作と、処理溶液を補充する補充動作と、処理溶液中の異物を除去する濾過動作と、使用済みの処理溶液を廃棄する廃液動作と、がある。 Next, an operation method of the immersion treatment apparatus 1 will be described with reference to FIG. The operation of the immersion treatment apparatus 1 includes an adjustment operation for adjusting the treatment solution used for the immersion treatment, a replenishment operation for replenishing the treatment solution, a filtration operation for removing foreign matters in the treatment solution, and a used treatment solution. And waste liquid operation to dispose of.
調整動作では、給液タンク７に貯留している溶媒と部外の溶質とを混和させて、処理溶液を調整する。先ず、第１合流切替バルブ４２を給液流路４１側に切り替えると共に第２合流切替バルブ４３を返流路２５側に切り替えた後、循環返ポンプ４４を駆動する。これにより、給液タンク７の溶媒を処理タンク２に送液し、その後、所定の濃度になるように少量の溶質を直接添加する。次に、後述する補充動作と同様に、処理側開閉バルブ３１を「閉」、補充側開閉バルブ３２を「開」とし、また第１分岐切替バルブ３４および第２合流切替バルブ４３を、それぞれバイパス流路３３側に切り替え、循環返ポンプ４４を駆動する。これにより、補充槽１２の処理溶液は、補充側短流路２３、主往流路２７、バイパス流路３３、返流路２５を通って処理槽１１に送液され、処理槽１１からオーバーフローして補充槽１２に戻る。この循環動作を複数回（実際には、所定時間）繰り返すことにより、溶媒と溶質とが均一に混和する。
In the adjustment operation, the processing solution is adjusted by mixing the solvent stored in the liquid supply tank 7 with the solute outside the portion. First, the first
補充動作では、上記と同様に、処理側開閉バルブ３１を「閉」、補充側開閉バルブ３２を「開」とし、また第１分岐切替バルブ３４および第２合流切替バルブ４３を、それぞれバイパス流路３３側に切り替え、循環返ポンプ４４を駆動する。これにより、補充槽１２の処理溶液は、補充側短流路２３、主往流路２７、バイパス流路３３および返流路２５を介して、処理溶液が目減りした処理槽１１に補充される。そして、処理槽１１から処理溶液がオーバーフローしたところで、循環返ポンプ４４を停止する。まお、補充される処理溶液は、自動的にフィルタ６を通過して濾過される。これにより、ワークＷの浸漬する直前には、処理槽１１の水位が復元する（満水にする）。
In the replenishment operation, similarly to the above, the processing side opening / closing
濾過動作は、ワークＷの浸漬処理によって処理溶液に混入した異物の除去が必要な場合に行い、処理溶液に混入している異物をフィルタ６により除去する。まず、処理側開閉バルブ３１および補充側開閉バルブ３２をそれぞれ「開」とし、第１分岐切替バルブ３４および第２分岐切替バルブ３５をそれぞれ主往流路２７側に切替えて、処理タンク２とバッファタンク３を連通した後、循環往ポンプ３６を駆動する。これにより、処理槽１１および補充槽１２に貯留している処理溶液は、それぞれ処理側短流路２２および補充側短流路２３から合流部２４を介して主往流路２７で合流し、いったんバッファタンク３に貯留（液抜き）される。
The filtering operation is performed when it is necessary to remove the foreign matter mixed in the processing solution by the immersion treatment of the workpiece W, and the foreign matter mixed in the processing solution is removed by the
次に、第１合流切替バルブ４２および第２合流切替バルブ４３を返流路２５側に切替えて、バッファタンク３と処理タンク２を連通した後、循環返ポンプ４４を駆動させる。これにより、バッファタンク３の処理溶液は、返流路２５を通って処理槽１１に送液される。このとき、処理溶液は、フィルタ６を通過し濾過される。すなわち、全ての処理溶液に混入する異物が濾過される。ここで、バッファタンク３から処理タンク２への送液中は送液センサ４５が作動しており、制御装置は、送液センサ４５が送液完了直前に「無」を検知すると、送液センサ４５から処理タンク２に処理溶液が移動するための所要時間分だけ送液した後、循環返ポンプ４４を停止する。これにより、一度の濾過作業で処理溶液内に混入している異物を全て除去することができる。
Next, the first
廃棄動作では、処理側開閉バルブ３１および補充側開閉バルブ３２をそれぞれ「開」とし、第１分岐切替バルブ３４を主往流路２７側に切替えると共に、第２分岐切替バルブ３５を廃液タンク８側に切り替えて、処理タンク２と廃液タンク８を連通させた後、循環往ポンプ３６を駆動する。これにより、処理溶液に濾過しきれない異物が混入した場合あるいは経時的な劣化により交換が必要になった処理溶液は、それぞれ処理側短流路２２および補充側短流路２３から合流部２４を介して主往流路２７に合流し、廃液流路２６を経て廃液タンク８に廃液される。
In the discarding operation, the processing side opening / closing
以上の構成によれば、処理タンク２の処理溶液を、混入した異物と共に一時的にバッファタンク３に貯留し、その後フィルタ６を通過させることで異物を濾過するため、一度の濾過作業で処理溶液内に混入している全ての異物を短時間で、且つ確実に除去することができる。
According to the above configuration, the processing solution in the processing tank 2 is temporarily stored in the buffer tank 3 together with the contaminated foreign matter, and then the foreign matter is filtered by passing through the
次に、図２を参照して、浸漬処理装置１の第２実施形態について説明する。重複記載を避けるべく異なる分部のみを記載する。この、浸漬処理装置１は、送液センサ４５に換えて、処理タンク２の一次側にサブタンク５０を設け、返流路２５の下流端をサブタンク５０に接続していることが第１実施形態と異なる。
Next, a second embodiment of the immersion treatment apparatus 1 will be described with reference to FIG. In order to avoid duplication, only different parts are described. The immersion treatment apparatus 1 has a
サブタンク５０は、濾過された処理溶液を一時的に貯留するものであり、自然流下により処理溶液を処理タンク２に補充する。サブタンク５０は、上蓋を有する開放タンクであり、上部に返流路２５の下流端が接続され、底部が勾配を有する短管５１を介して処理槽１１に接続されている。バッファタンク３からの送液完了時に生ずるエアー混じりの処理溶液は、サブタンク５０に流入するが、サブタンク５０から処理槽１１に流入する処理溶液は、気水分離されて処理槽１１に流入する。したがって、処理溶液が処理タンク２から外部に飛散することがなく、処理溶液による周辺部品の汚染を防止することができる。
The
なお、本実施形態において、処理タンク２とバッファタンク３との水頭差が十分にとれ、且つ往流路２１にエアー溜りが生じない構造であれば、循環往ポンプ３６を省略し、これに代えて開閉バルブを設けるようにしてもよい。
In the present embodiment, if the water head difference between the processing tank 2 and the buffer tank 3 is sufficiently large and no air accumulation occurs in the
１…浸漬処理装置 ２…処理タンク ３…バッファタンク ４…循環流路 ６…フィルタ ７…給液タンク ８…廃液タンク １１…処理槽 １２…補充槽 １４…集液部 ２１…往流路 ２５…返流路 ３３…バイパス流路 ３５…第２分岐切替バルブ ３６…循環往ポンプ ４２…第１合流切替バルブ ４４…循環返ポンプ ４５…送液センサ ５０…サブタンク Ｗ…ワーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Immersion processing apparatus 2 ... Processing tank 3 ... Buffer tank 4 ...
Claims (9)
前記処理タンクの容量以上の容量を有するバッファタンクと、
前記処理タンクと前記バッファタンクとを相互に接続する循環流路と、
前記循環流路に介設され、前記処理タンクの前記処理溶液を前記バッファタンクに送液すると共に、前記バッファタンクの前記処理溶液を前記処理タンクに送液する送液手段と、
前記循環流路に介設したフィルタと、
前記送液手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記処理タンクに貯留された前記処理溶液の濾過時に、前記処理タンクに貯留している全ての前記処理溶液を前記バッファタンクに送液した後、前記バッファタンクから前記処理タンクに送液することを特徴とする浸漬処理装置。 A treatment tank that performs a surface treatment of the immersed treatment object with the stored treatment solution;
A buffer tank having a capacity equal to or greater than the capacity of the processing tank;
A circulation flow path interconnecting the processing tank and the buffer tank;
A liquid feeding means interposed in the circulation channel, for feeding the processing solution in the processing tank to the buffer tank, and for feeding the processing solution in the buffer tank to the processing tank;
A filter interposed in the circulation channel;
Control means for controlling the liquid feeding means,
The control means, after filtering the processing solution stored in the processing tank, sends all the processing solution stored in the processing tank to the buffer tank, and then from the buffer tank to the processing tank. An immersion treatment apparatus for feeding a liquid.
前記送液手段は、前記往流路に介設した循環往ポンプと、前記返流路に介設した循環返ポンプと、を有していることを特徴とする請求項１に記載の浸漬処理装置。 The circulation flow path has a forward flow path for sending the processing solution from the processing tank to the buffer tank, and a return flow path for sending the liquid from the buffer tank to the processing tank. ,
The immersion treatment according to claim 1, wherein the liquid feeding means includes a circulation forward pump interposed in the forward flow path and a circulation return pump interposed in the return flow path. apparatus.
前記バッファタンクの底面は、前記集液部に向って導水勾配を有していることを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載の浸漬処理装置。 The bottom of the buffer tank is provided with a liquid collection part to which the upstream end of the return flow path is connected,
5. The immersion treatment apparatus according to claim 2, wherein a bottom surface of the buffer tank has a water guide gradient toward the liquid collection part. 6.
前記往流路の上流端は、前記処理槽および前記補充槽に流路切替え可能に接続され、前記返流路の下流端は、前記補充槽に接続され、
前記循環往ポンプより上流側の前記往流路と、前記循環返ポンプの上流側の前記返流路と、を接続するバイパス流路、を更に備え、
前記制御手段は、前記循環返ポンプを駆動し、前記バイパス流路を介して、前記補充槽の前記処理溶液を前記隔壁からオーバーフローするように前記処理槽に補充することを特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載の浸漬処理装置。 The processing tank defines a processing tank for performing a surface treatment of the processing object, a replenishing tank for replenishing the processing tank with the processing solution, the processing tank and the replenishing tank, and the processing tank. Partition walls functioning as weirs of the processing solution flowing from the replenishing tank to
The upstream end of the forward flow path is connected to the processing tank and the replenishing tank so that the flow path can be switched, and the downstream end of the return flow path is connected to the replenishing tank,
Further comprising a bypass flow path for connecting the forward flow path upstream of the circulating forward pump and the return flow path upstream of the circulation return pump;
The said control means drives the said circulation return pump, and replenishes the said process tank so that the said process solution of the said replenishment tank may overflow from the said partition via the said bypass flow path. The immersion treatment apparatus according to any one of 5 to 5.
前記制御手段は、前記循環返ポンプが前記バッファタンクから前記処理タンクに送液を開始した後、前記送液センサが「無」を検出したときに、前記循環返ポンプを停止させることを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の浸漬処理装置。 In the return flow path downstream from the circulation return pump, a liquid feed sensor for detecting the presence or absence of liquid feed of the processing solution is interposed,
The control means stops the circulation return pump when the solution feeding sensor detects “no” after the circulation return pump starts feeding the buffer tank to the processing tank. The immersion treatment apparatus according to any one of claims 2 to 6.
前記循環流路に、前記処理タンクの前記処理溶液を全て抜き取るバッファタンクを設け、
前記処理タンクの全ての前記処理溶液を前記バッファタンクにいったん抜き取った後、前記処理タンクに戻すことを特徴とする浸漬処理装置の運転方法。 In the operation method of the immersion treatment apparatus for filtering the treatment solution by circulating the treatment solution in the treatment tank through a circulation channel provided with a filter,
Provided in the circulation channel is a buffer tank for extracting all the processing solution from the processing tank,
A method for operating an immersion treatment apparatus, wherein all of the treatment solution in the treatment tank is once extracted in the buffer tank and then returned to the treatment tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007275040A JP2009101292A (en) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | Dip treatment apparatus and its operating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007275040A JP2009101292A (en) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | Dip treatment apparatus and its operating method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009101292A true JP2009101292A (en) | 2009-05-14 |
Family
ID=40703634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007275040A Pending JP2009101292A (en) | 2007-10-23 | 2007-10-23 | Dip treatment apparatus and its operating method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009101292A (en) |
-
2007
- 2007-10-23 JP JP2007275040A patent/JP2009101292A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102353792B1 (en) | Liquid treatment device for substrate, cleaning method of liquid treatment device for substrate, and recording medium | |
| KR101916474B1 (en) | Processing liquid exchanging method and substrate processing device | |
| JPH0747202A (en) | Treating device for waste water, especially rainwater | |
| JP2009115500A (en) | System for sampling ship ballast water | |
| KR101757903B1 (en) | The supply and circulation system of recycling release agent for die casting process | |
| EP3505497B1 (en) | Method for operating membrane separation device, and membrane separation device | |
| JP2017094946A (en) | Ballast water treatment apparatus | |
| JP5593369B2 (en) | Pretreatment equipment for textile materials | |
| US4324481A (en) | Developing machine for radiation-sensitive material | |
| JP6203489B2 (en) | Substrate processing apparatus and cleaning method thereof | |
| CN110202229B (en) | Electric discharge machining apparatus | |
| KR101391022B1 (en) | System for cleaning membrane unit of anaerobic digestion process | |
| JP2009101292A (en) | Dip treatment apparatus and its operating method | |
| JP6159651B2 (en) | Filter cleaning method, liquid processing apparatus, and storage medium | |
| JP2007319799A (en) | Rubber stopper cleaning system and rubber stopper cleaning method | |
| KR20160026724A (en) | Rinsing bath and substrate cleaning method using such rinsing bath | |
| JP2009183880A (en) | Device for immersion treatment | |
| JP6411051B2 (en) | Immersion membrane separator and method for operating the same | |
| JP2000173962A (en) | Equipment and method for cleaning wafer | |
| CN105636665B (en) | Monitoring release solid feed system | |
| SE0802079A1 (en) | Apparatus for separating a lighter liquid phase from a heavier process liquid phase, plant for purifying a recirculating process liquid by means of the separating device, and a method for separating a lighter liquid phase from a heavier process liquid phase | |
| JP4158294B2 (en) | Water softener | |
| KR102400323B1 (en) | Apparatus for cleaning cooling chuck | |
| SE445303B (en) | SET AND APPARATUS FOR TREATING A MIXTURE OF USED ANCIENT RESINTS AND COTTON RESIN | |
| JP4253829B2 (en) | Water softener and method for regenerating the same |