JP2009093074A - 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程(1a)、前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする工程(2)、および前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる工程(3)、を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。
【選択図】なし
Description
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程(2)、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程(3)、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程(2)、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程(3)、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法、に関する。
(A)成分:ウレタンアクリレートおよびウレタンメタクリレートの少なくとも一方。
(B)成分:ポリオールアクリレートおよびポリオールメタクリレートの少なくとも一方
(C)成分:下記(C1)及び下記(C2)の少なくとも一方から形成されるポリマー若しくはコポリマー又は前記ポリマーとコポリマーの混合ポリマー。
(C1):水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルアクリレート。
(C2):水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキルメタクリレート。
位相差値の測定は、平行ニコル回転法を原理とする位相差計〔王子計測機器(株)製,製品名「KOBRA21−ADH」〕を用いて、波長590nmの値について測定した、nx、ny、nzの値と、フィルム厚み(d)から、正面位相差Re、厚み方向位相差Rth、Nzを求めた。[ただし、フィルムの遅相軸方向、進相軸方向及び厚さ方向の屈折率をそれぞれnx、ny、nzとし、d(nm)はフィルムの厚みとする。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率の最大となる方向とする。]。
(親水性高分子を含有する水溶液の調製)
(株)クラレ製のポリビニルアルコールフィルム(平均重合度2400,ケン化度99モル%、商品名:VF‐PS2400)を、1辺が5mm以下の小片に裁断し、95℃の熱水中に溶解して、濃度10重量%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。
基材層として、厚み40μmのアクリル系樹脂フィルム(ラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルム,Re=2nm,Rth=0nm)を用いた。当該アクリル系樹脂フィルムは、ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂[共重合モノマーの重量比:メタクリル酸メチル/2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル=8/2;ラクトン環化率約100%]90重量部とアクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂{トーヨーAS AS20,東洋スチレン(株)製}10重量部の混合物((株)日本触媒製)を溶融押出成膜した後、縦2.0倍、横2.4倍に延伸することにより得た。
上記積層体を、143℃の加熱下で、テンター装置を用いて、自由端一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率5倍まで延伸して延伸積層体とした。このとき、チャック間距離は100mm、延伸速度は2mm/secとした。この延伸処理後において、ポリビニルアルコール塗膜の厚みは2μmであった。
次いで、前記延伸積層体を、張力を保持した状態で、30℃のヨウ素溶液(重量比:ヨウ素/ヨウ化カリウム/水=1/10/100)に60秒間浸漬した。その後、60℃で4分間乾燥を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは2μmであった。
実施例1において、延伸処理における延伸倍率を3倍に変えたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは3μmであった。
実施例1において、基材層として、厚み50μmのポリプロピレンフィルムを用いたこと、延伸処理における延伸倍率を2.4倍に変えたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは3μmであった。
実施例1において、基材層として、厚み50μmのノルボルネン系樹脂フィルム(JSR(株)製,商品名:アートンフィルム)を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを15μmにしたこと、延伸処理における延伸倍率を1.5倍に変えたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは3μmであった。
実施例1において、基材層として、厚み50μmのノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン(株)製,商品名:ゼオノアフィルム)を用いたこと、親水性高分子層として形成したポリビニルアルコール塗膜の厚みを15μmにしたこと、延伸処理における延伸倍率を3.3倍に変えたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは3μmであった。
実施例1において、延伸処理における延伸倍率を3倍に変えたこと、染色処理を施した後に、さらに、30℃の3重量%のホウ酸および3重量%のヨウ化カリウムを含有する水溶液に30秒間浸漬する処理を施した後に、60℃で4分間乾燥を行ったこと以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは3μmであった。
実施例1において、延伸処理を、143℃の加熱下で、テンター装置を用いて、固定端(幅方向をチャックした状態)で一軸延伸により、幅方向に、延伸倍率2.2倍まで延伸して延伸積層体としたこと(このとき、チャック間距離は100mm、延伸速度は2mm/secとした。延伸処理後のポリビニルアルコール塗膜の厚みは2μmであった。)以外は実施例1と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは2μmであった。
実施例7において、延伸処理における延伸倍率を2.4倍に変えたこと以外は実施例7と同様の操作を行い、偏光板を得た。得られた偏光板(延伸積層体)におけるポリビニルアルコール塗膜の厚みは2μmであった。
実施例で得られた、偏光板について下記評価を行った。なお、実施例で得られた偏光板は、その片側(偏光子層表面:ポリビニルアルコール塗膜の表面)には、透明保護フィルムとして、厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤により貼り合わせたものを評価に供した。結果を表1に示す。
得られた偏光板の光学特性を、積分球付き分光光度計(日本分光株式会社製のV7100)にて測定した。各直線偏光に対する透過率はグランテラ‐プリズム偏光子を通して得られた完全偏光を100%として測定した。単体透過率(Ts)、平行透過率(H0)および直交透過率(H90)を、波長550nmで測定し、その値から下記式により偏光度(P)を求めた。なお、これらの透過率は、JlSZ 8701の2度視野(C光源)により、視感度補正を行ったY値である。
偏光度(%)={(H0−H90)/(H0+H90)}1/2×100
単体透過率(Ts)は、40%以上、偏光度は99%以上であるのが、液晶表示装置に適用できる目標値として設定される。実施例で得られた偏光板は、前記単体透過率(Ts)、偏光度の目標値を満足するものであった。
Claims (9)
- 基材層上に親水性高分子を含有する溶液を塗工した後、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材層上に親水性高分子層を形成して、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程(1a)、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程(2)、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程(3)、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。 - 基材層の形成材と、親水性高分子層の形成材の共押出により、基材層と親水性高分子層が積層されている積層体にする工程(1b)、
前記積層体に、延伸処理を施して延伸積層体にする延伸工程(2)、および
前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程(3)、
を含むことを特徴とする偏光板の製造方法。 - 親水性高分子層を形成する親水性高分子が、ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする請求項1または2記載の偏光板の製造方法。
- 延伸積層体における親水性高分子層の厚みが、0.5〜30μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
- さらに、前記積層体の親水性高分子層に、架橋処理を施す工程(4)を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
- 前記工程(1a)乃至工程(3)、または工程(1b)乃至工程(3)を施した後、得られた延伸積層体における親水性高分子層を、他の基材に転写する工程を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法により得られた偏光板。
- 請求項7記載の偏光板が、少なくとも1枚積層されていることを特徴とする光学フィルム。
- 請求項7記載の偏光板または請求項8記載の光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。
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