JP2009088583A - 増幅回路及びこれを備える光ピックアップ - Google Patents

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Abstract

【課題】ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることのできる増幅回路を提供する。
【解決手段】本発明による増幅回路は、増幅部と、前記増幅部に接続されたゲイン決定用抵抗16及び位相補償用キャパシタ17の複数の組み合わせと、複数の組み合わせ17の中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、を備えることを特徴とする。抵抗16の抵抗値の変化に併せてキャパシタ17を切り替えることができるので、抵抗16の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は増幅回路に関し、特に、フォトダイオードの出力信号の増幅に用いることが好適な増幅回路に関する。また、本発明はこのような増幅回路を備えた光ピックアップに関する。
CD、DVD、ブルーレイディスク等の光ディスクへのデータの記録及び再生を行う光記録再生装置は光ピックアップを備えている。光ピックアップには、光源であるレーザーダイオードや、光ディスクにて反射したレーザービームを受光するフォトダイオードなどが備えられている。フォトダイオードは、受光したレーザービームを電気信号に変換する素子であり、その出力信号を参照することにより光ディスクに記録されている情報を読み取ることが可能となる。
しかしながら、フォトダイオードの出力信号は極めて微弱であることから、これを外部に出力するためには、増幅回路が必要である。したがって、光ピックアップにはこのような増幅回路(受光アンプ)も搭載されることになる。
この種の増幅回路においては、発振防止のための位相補償が必要となる。位相補償の具体的方法には種々のものがあり、例えば特許文献1にはその一例が示されている。また、図7には、位相補償を行う増幅回路の別の一例を示している。図7の例における増幅回路1001は、フォトダイオード1000の出力信号を増幅するためのものであり、オペアンプ1003と、帰還抵抗1006と、を備えている。帰還抵抗1006は進み位相補償用のキャパシタ1007と並列接続されている。
特開2000−332546号公報
ところで、例えば図7の増幅回路1001の電圧増幅度(ゲイン)は、帰還抵抗1006及びフォトダイオード1000の内部抵抗(以下、ゲイン決定用抵抗と総称する。)の抵抗値によって決まる。このことから、本願の発明者は、スイッチで切り替え可能に構成した複数のゲイン決定用抵抗を増幅回路内に予め設置しておくことにより、電圧増幅度可変の増幅回路を作成することに想い到った。
しかしながら、ゲイン決定用抵抗を切り替えると、その抵抗値の変化によって増幅回路のポールやゼロが変化してしまう。そのため、最適な位相補償結果が得られない場合が生ずるという問題があった。
したがって、本発明の目的は、ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることのできる増幅回路を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、フォトダイオード用の改良された増幅回路を提供することにある。
また、本発明のさらに他の目的は、このような増幅回路を備える光ピックアップを提供することにある。
上記目的を達成するための本発明にかかる増幅回路は、増幅部と、前記増幅部に接続されたゲイン決定用抵抗及び位相補償用キャパシタの複数の組み合わせと、前記複数の組み合わせの中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、ゲイン決定用抵抗のみでなく位相補償用キャパシタも切り替えることができるので、ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることができる。
また、上記増幅回路において、前記ゲイン決定用抵抗は、前記増幅部の出力端と入力端の間に接続された帰還抵抗である、こととしてもよい。これによれば、帰還抵抗の切り替えにより電圧増幅度可変を実現できる。
また、この増幅回路において、前記位相補償用キャパシタと前記ゲイン決定用抵抗とは並列回路を構成する、こととしてもよい。これによれば、進み位相補償を行うための位相補償用キャパシタを帰還抵抗とともに切り替えることができるようになる。
また、上記増幅回路において、前記増幅部は従属接続された少なくとも第1及び第2の増幅器からなり、前記位相補償用キャパシタの一端は接地され、他端は前記第1の増幅器の出力端と前記第2の増幅器の入力端との間に接続される、こととしてもよい。これによれば、ゼロ点調整による位相補償を行うための位相補償用キャパシタを帰還抵抗とともに切り替えることができるようになる。
また、上記増幅回路において、前記増幅部は従属接続された少なくとも第1及び第2の増幅器からなり、前記各組み合わせはそれぞれ2つの位相補償用キャパシタを含み、前記2つの位相補償用キャパシタのうちの一方と前記ゲイン決定用抵抗とは並列回路を構成し、前記2つの位相補償用キャパシタのうちの他方の一端は接地され、他端は前記第1の増幅器の出力端と前記第2の増幅器の入力端との間に接続される、こととしてもよい。これによれば、進み位相補償を行うための位相補償用キャパシタとゼロ点調整による位相補償を行うためのキャパシタの両方を、帰還抵抗とともに切り替えることができるようになる。
また、上記増幅回路において、前記増幅部の入力信号がフォトダイオードの出力信号であることとしてもよい。これによれば、フォトダイオードの出力信号を増幅するための増幅回路において、ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることができるようになる。
また、本発明にかかる光ピックアップは、レーザービームを受光するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの出力信号を増幅する増幅回路とを備える光ピックアップであって、前記増幅回路は、増幅部と、前記増幅部に接続されたゲイン決定用抵抗及び位相補償用キャパシタの複数の組み合わせと、前記複数の組み合わせの中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、を備える、ことを特徴とする。これによれば、光ピックアップ内の増幅回路において、ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることができるようになる。
このように、本発明によれば、ゲイン決定用抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることのできる増幅回路が得られる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
[実施形態1]
図1は、本発明の実施形態1にかかる増幅回路1及びフォトダイオード2の基本構成を示す回路図である。
図1に示すように、増幅回路1はオペアンプ10(増幅部)を備えて構成される。このオペアンプ10は差動増幅回路20(第1の増幅器)及びソースフォロア回路30(第2の増幅器)からなり、これらが従属接続された構成を有している。つまり、差動増幅回路20が第1段の増幅回路を、ソースフォロア回路30が第2段の増幅回路をそれぞれ構成している。
差動増幅回路20の反転入力端子(−)にはフォトダイオード2が接続され、差動増幅回路20の非反転入力端子(+)には基準電圧源14が接続されている。また、増幅回路1は、ソースフォロア回路30の出力端と差動増幅回路20の反転入力端子(−)とを接続する帰還回路を備えている。この帰還回路は、増幅回路1のゲイン決定用抵抗としての帰還抵抗(ここでは抵抗16−1と抵抗16−2の2つ)を含んで構成される。これらの構成により、増幅回路1は所謂反転増幅回路を構成している。
また、増幅回路1は、抵抗16及びキャパシタ17の複数の組み合わせと、複数の組み合わせの中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、を備えている。ここでは、この組み合わせは、抵抗16−1、キャパシタ17−1−1、及びキャパシタ17−1−2からなる第1の組み合わせと、抵抗16−2、キャパシタ17−2−1、及びキャパシタ17−2−2からなる第2の組み合わせと、を含んで構成される。また、スイッチ手段は、スイッチ18−1−1,18−1−2,18−2−1,及び18−2−2により構成される。これらの構成の詳細については後述する。
一方、フォトダイオード2は、光ディスクにて反射したレーザービームを受光し、光電変換を行う素子である。一例では、フォトダイオード2はPNダイオード、逆バイアス電源、抵抗を含んで構成され、PNダイオードにレーザービームが当たることによって抵抗の両端の電圧が変動する。この電圧は所定の電圧値(バイアス電圧)を基準として上下に変動し、フォトダイオード2の出力Vinとなる。以下では、このバイアス電圧は1.65Vであるとする。
フォトダイオード2の出力Vinはまず差動増幅回路20に供給され、さらに差動増幅回路20の出力がソースフォロア回路30に供給される。これらの構成により、増幅回路1は、フォトダイオード2の出力Vinを増幅して出力する。その結果、増幅回路1の出力Voutには、受光したレーザービームの強度に応じた出力が得られる。
図2は、本実施形態による増幅回路1をより詳細に示す回路図である。
図2に示すように、差動増幅回路20は、カレントミラー接続されたPチャンネルMOSトランジスタ21,22と、トランジスタ21,22にそれぞれ直列接続されたNチャンネルMOSトランジスタ23,24と、トランジスタ23,24のソースに接続された定電流源25によって構成されている。トランジスタ23のゲートはフォトダイオード2に接続され、トランジスタ24のゲートは基準電圧源14に接続されている。基準電圧源14はフォトダイオード2のバイアス電圧と同値の電圧(ここでは1.65V。)を発生する。差動増幅回路20の出力は、トランジスタ21とトランジスタ23の接続点から取り出される。
ソースフォロア回路30は、差動増幅回路20の出力がゲートに供給されるNチャンネルMOSトランジスタ31と、トランジスタ31のソースに接続された定電流源32によって構成されている。ソースフォロア回路30の出力は、トランジスタ31のソースから取り出され、増幅回路1の出力Voutとなる。トランジスタ31は、いわゆるデプレッション型のMOSトランジスタである。すなわち、トランジスタ31のしきい値電圧Vthはゼロ又はマイナス値である。
なお、トランジスタ21,22の各ソース,及びトランジスタ31のドレインには電源電圧Vddが供給されている。
ここで、増幅回路1の電圧増幅度(ゲイン)は、抵抗16の抵抗値とフォトダイオード2の内部抵抗値の調節により、適宜設定される。ただし、フォトダイオード2の出力電圧がバイアス電圧の電圧値1.65Vである場合、電圧増幅度にかかわらず、ソースフォロア回路30の出力電圧(トランジスタ31のソース電圧)は約1.65V程度となる。
トランジスタ31のしきい値電圧をVthとすると、トランジスタ31のゲート電圧は、Vout+Vthで与えられるが、本実施形態においてはトランジスタ31がデプレッション型であるため、Vth≦0である。したがって、トランジスタ31のゲート電圧は、ソース電圧とほぼ同じか、寧ろこれよりも低くなる。例えば、しきい値電圧Vthがほぼ0Vであるとすると、トランジスタ31のゲート電圧は出力Voutの電圧とほぼ一致することになる。その結果、例えば出力Voutの電圧が約1.65Vであるとすれば、トランジスタ31のゲート電圧も約1.65Vとなる。
これにより、カレントミラー回路を構成するトランジスタ21,22のソースドレイン間電圧が、トランジスタ31としてエンハンスメント型のトランジスタを用いる場合に比べて拡大される。つまり、トランジスタ31としてエンハンスメント型のトランジスタを用いると、トランジスタ31のゲート電圧は出力Voutの電圧よりもしきい値電圧分高くなり、その結果、トランジスタ21,22のソースドレイン間電圧が低下し、ダイナミックレンジが狭くなる。このため、ダイナミックレンジを十分に確保するためには、上述したように、電源電圧Vddを高くする必要が生じる。
これに対し、本実施形態では、トランジスタ31としてデプレッション型のトランジスタを用いていることから、電源電圧Vddが比較的低くてもダイナミックレンジを十分に確保することが可能となる。例えば、電源電圧Vddが3.3Vであるとすると、トランジスタ21,22のソースドレイン間電圧の振幅の最大値(差動増幅回路20が出力し得る信号の振幅の最大値)は約1.65V(=3.3V−1.65V(フォトダイオード2のバイアス電圧の電圧値))となり、十分な振幅が確保される。なお、この場合における増幅回路1のダイナミックレンジの上限値は3.3Vとなる。
なお、本実施形態ではトランジスタ31としてデプレッション型のMOSトランジスタを用いているが、エンハンスメント型のMOSトランジスタをトランジスタ31として用いることも可能である。
さて、各抵抗16、各キャパシタ17、及び上記スイッチ手段の構成について、以下で詳細に説明する。
まず、図1及び図2に示すように、キャパシタ17−1−1及び17−2−1は、それぞれ対応する抵抗16(同じ組み合わせ内の抵抗16)と並列回路を構成している。一方、キャパシタ17−1−2及び17−2−2については、一端が接地され、他端が差動増幅回路20の出力端とソースフォロア回路30の入力端との間に接続されている。
キャパシタ17−1−1及び17−2−1についてより詳しく説明する。まず、抵抗16−1は、ソースフォロア回路30の出力端と差動増幅回路20の反転入力端子(−)とを接続している。抵抗16−2は、ソースフォロア回路30の出力端及び抵抗16−1の間と、差動増幅回路20の反転入力端子(−)及び抵抗16−1の間と、に接続されている。なお、以下では、抵抗16−1から差動増幅回路20の反転入力端子(−)に至る回路と、抵抗16−2から差動増幅回路20の反転入力端子(−)に至る回路との接続点を接続点Aと称する。また、抵抗16−2からソースフォロア回路30の出力端に至る回路と、抵抗16−2からソースフォロア回路30の出力端に至る回路との接続点を接続点Cと称する。
キャパシタ17−1−1は、抵抗16−1と差動増幅回路20の入力端の間の回路上の接続点Aより抵抗16−1側と、抵抗16−1とソースフォロア回路30の出力端の間の回路上の接続点Cより抵抗16−1側と、に接続されている。なお、以下では、抵抗16−1から接続点Aに至る回路と、キャパシタ17−1−1から接続点Aに至る回路の接続点を接続点B1と称する。
同様に、キャパシタ17−2−1は、抵抗16−2と差動増幅回路20の入力端の間の回路上の接続点Aより抵抗16−2側と、抵抗16−2とソースフォロア回路30の出力端の間の回路上の接続点Cより抵抗16−2側と、に接続されている。なお、以下では、抵抗16−2から接続点Aに至る回路と、キャパシタ17−2−1から接続点Aに至る回路の接続点を接続点B2と称する。
次に、スイッチ手段について説明する。上述したように、スイッチ手段はスイッチ18−1−1,18−1−2,18−2−1,及び18−2−2により構成されており、このうち、スイッチ18−1−1は接続点Aと接続点B1の間に、スイッチ18−2−1は接続点Aと接続点B2の間に、それぞれ設けられている。また、スイッチ18−1−2は、差動増幅回路20の出力端とソースフォロア回路30の入力端との間と、キャパシタ17−1−2と、に接続されている。さらに、スイッチ18−2−2は、差動増幅回路20の出力端とソースフォロア回路30の入力端との間と、キャパシタ17−2−2と、に接続されている。
スイッチ手段は、各スイッチ18の動作により、上述した第1の組み合わせ又は第2の組み合わせのいずれかを選択する。この動作の結果、選択された組み合わせは回路に組み入れられ、選択されなかった組み合わせは回路から外される。
具体的には、外部からロー信号が入力されたときに、スイッチ手段は第1の組み合わせを選択する。すなわち、外部からロー信号が入力されたときに、スイッチ18−1−1及びスイッチ18−1−2がともにオンとなり、スイッチ18−2−1及びスイッチ18−2−2がともにオフとなる。この動作の結果、抵抗16−1が帰還抵抗となり、キャパシタ17−1−1が進み位相補償を、キャパシタ17−1−2がゼロ点調節による位相補償を、それぞれ行うことになる。
一方、ハイ信号が入力されたときには、スイッチ手段は第2の組み合わせを選択する。すなわち、外部からロー信号が入力されたときに、スイッチ18−1−1及びスイッチ18−1−2がともにオフとなり、スイッチ18−2−1及びスイッチ18−2−2がともにオンとなる。この動作の結果、抵抗16−2が帰還抵抗となり、キャパシタ17−2−1が進み位相補償を、キャパシタ17−2−2がゼロ点調節による位相補償を、それぞれ行うことになる。
このように、増幅回路1では、外部信号によって帰還抵抗が切り替わることによって電圧増幅度を切り替えることができるようにされている。そしてその際、帰還抵抗のみでなく位相補償用のキャパシタも切り替えることができるので、帰還抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることが可能となっている。
なお、上記実施形態では帰還抵抗を切り替え可能に構成したが、フォトダイオード2の内部抵抗を切り替え可能に構成してもよい。この場合においても、内部抵抗の抵抗値に応じた容量の位相補償キャパシタを予め用意しておき、内部抵抗の切り替えとともにキャパシタも切り替えるようにすることで、内部抵抗の抵抗値を変化させても最適な位相補償結果を得ることが可能となる。
[実施形態2]
増幅回路1は、フォトダイオード2と同一チップ上に集積することができ、このようなチップは、通常、フォトダイオードIC(PDIC)と呼ばれる。本実施形態では、このPDICを用いる光記録再生装置の回路構成の具体例を挙げ、さらに、この光記録再生装置内において用いられる光ピックアップの構成について説明する。
まず、図3は、光ディスクの記録再生を行う光記録再生装置において用いられるPDIC100の外観例を示す図である。同図に示すPDIC100は、光記録再生装置の中でも特にCD(Compact Disc)/DVD/BD(Blu-ray Disc(登録商標))コンパチブルレコーダーに用いられるものであり、20個のフォトダイオード(A,B,C,D,E1,E2,E3,E4,F1,F2,F3,F4,a,b,c,d,e1,e2,f1,f2)を備えている。各フォトダイオードは、それぞれ受光部R−1〜6のいずれかに配置されている。
受光部R−1〜3はBD/DVD記録再生用に用いられるものである。受光部R−1は4つのフォトダイオードA,B,C,Dにより構成され、BD又はDVDで反射したメインビームMBを受光する。また、受光部R−2は4つのフォトダイオードE1,E2,E3,E4により構成され、BD又はDVDで反射したサブビームSB1を受光する。また、受光部R−3は4つのフォトダイオードF1,F2,F3,F4により構成され、BD又はDVDで反射したサブビームSB2を受光する。
受光部R−4〜6はCD記録再生用に用いられるものである。受光部R−4は4つのフォトダイオードa,b,c,dにより構成され、CDで反射したメインビームMBを受光する。また、受光部R−5は2つのフォトダイオードe1,e2により構成され、CDで反射したサブビームSB1を受光する。また、受光部R−6は2つのフォトダイオードf1,f2により構成され、CDで反射したサブビームSB2を受光する。
図4及び図5は、増幅回路1を含む上記PDIC100の内部回路構成を示す図である。なお、図4及び図5は、2つの図で1つのPDOC100の内部回路構成を示しており、実際には図4の下部と図5の上部とがつながっている。各フォトダイオードにかかる回路構成には互いに類似している部分が多いので、以下では、フォトダイオードA及びフォトダイオードaに着目して説明を行うこととする。
図4に示す回路40は、フォトダイオードA及びフォトダイオードaの他、実施形態1で説明した増幅回路1を含み、さらにスイッチ41及びリミッタ回路42を含んで構成される。
増幅回路1の反転入力端子(−)(=差動増幅回路20の反転入力端子(−))には、外部からの制御に応じたスイッチ41の動作により、記録再生対象メディアがBD又はDVDである場合にフォトダイオードAが接続され、記録再生対象メディアがCDである場合にフォトダイオードaが接続される。一方、増幅回路1の非反転入力端子(+)(=差動増幅回路20の非反転入力端子(+))には、所定電圧の電源Vsが接続される。これらの構成により、増幅回路1は、フォトダイオードの出力信号に増幅処理を施す。
増幅回路1内のスイッチ18−1−1、スイッチ18−1−2、スイッチ18−2−1、及びスイッチ18−2−2(図4では図示していない)のオンオフは、ゲイン制御部50により制御される。ゲイン制御部50は、外部からの指示に従ってハイ信号又はロー信号を生成することにより各スイッチ18を制御する。
リミッタ回路42は、増幅回路1から出力された信号の振幅が所定の最大値を超えている場合、超えた分の振幅をクリップして、後段に出力する。
リミッタ回路42の出力信号は、端子VA/Vaから出力されるとともに、合成回路60にも入力される。端子VA/Vaからの出力信号は、図示しない制御回路において、光スポットのデフォーカスやトラックからのずれを検出するためのサーボ信号として用いられる。
合成回路60には、上記リミッタ回路42の出力信号の他、フォトダイオードB,C,D又はフォトダイオードb,c,dからも同様にリミッタ回路の出力信号が入力される。これらの各出力信号は合成され、端子VRFP及び端子VRFNから出力される。なお、端子VRFP及び端子VRFNの出力信号は互いに逆相となる。こうして出力される信号は、図示しない制御回路において、記録されているデータを示すデータ信号として用いられる。
次に、図6は、上記PDIC100を備える光ピックアップ101の構成を示す模式図である。
図6に示すように、光ピックアップ101は、レーザ光源102と、レーザ光源102からのレーザービームを複数に分割する回折格子103と、回折格子103から出射されたレーザービームを平行光にするコリメートレンズ104と、平行光とされたレーザービームを光ディスク200側へ導くミラー105と、ミラー105で反射されたレーザービームを円偏光に変換して対物レンズ106に入射する1/4波長板110と、1/4波長板110から入射されたレーザービームをディスク面に収束させる対物レンズ106と、光ディスク200により反射されミラー105でさらに反射された光をPDIC100側へ導くビームスプリッタ107と、ビームスプリッタ107からの反射光を収束させるアナモフィックレンズ108と、アナモフィックレンズ108によって収束された反射光を受光するPDIC100とを備えている。PDIC100は、上述したように20個のフォトダイオードを備え、各フォトダイオードは、上記反射光を受光して光電変換し、反射光の強度に応じた電圧信号を出力する。
なお、光ディスク200に対する対物レンズ106の位置は、対物レンズ駆動装置109によって高精度に制御される。詳細には、対物レンズ106をフォーカス方向へ駆動することにより、光ディスク200の記録面にビームスポットの焦点を合わせるフォーカス補正が行われ、トラッキング方向へ駆動することにより、光ディスク200のトラックにビームスポットを追従させるトラッキング補正が行われる。また、タンジェンシャル方向を回転軸にして対物レンズ106をトラッキング方向に回転させることにより、ディスクの反りに対応するチルト角の補正が行われる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
例えば、上記実施形態では、本発明による増幅回路をPDICに適用した場合を例に説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されるものではない。
また、差動増幅回路の構成についても図2に示した構成に限定されず、これとは異なる回路構成を有していても構わない。
本発明の実施形態1にかかる増幅回路の基本構成を示す回路図である。 本発明の実施形態1にかかる増幅回路をより詳細に示す回路図である。 本発明の実施形態2にかかるPDICの外観例を示す図である。 本発明の実施形態2にかかるPDICの内部回路構成を示す図である。 本発明の実施形態2にかかるPDICの内部回路構成を示す図である。 本発明の実施形態2にかかるPDICを備える光ピックアップの構成を示す模式図である。 本発明の背景技術にかかる増幅回路の基本構成を示す回路図である。
符号の説明
1 増幅回路
2,A,B,C,D,a,b,c,d,E1,E2,E3,E4,F1,F2,F3,F4,e1,e2,f1,f2 フォトダイオード
10 オペアンプ
14 基準電圧源
16 抵抗
17 キャパシタ
18,41 スイッチ
20 差動増幅回路
21,22 PチャンネルMOSトランジスタ
23,24 NチャンネルMOSトランジスタ
31 デプレッション型トランジスタ
25,32 定電流源
30 ソースフォロア回路
40 回路
42 リミッタ回路
50 ゲイン制御部
60 合成回路
101 光ピックアップ
102 レーザ光源
103 回折格子
104 コリメートレンズ
105 ミラー
106 対物レンズ
107 ビームスプリッタ
108 アナモフィックレンズ
109 対物レンズ駆動装置
110 1/4波長板
200 光ディスク

Claims (7)

  1. 増幅部と、
    前記増幅部に接続されたゲイン決定用抵抗及び位相補償用キャパシタの複数の組み合わせと、
    前記複数の組み合わせの中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、
    を備えることを特徴とする増幅回路。
  2. 前記ゲイン決定用抵抗は、前記増幅部の出力端と入力端の間に接続された帰還抵抗である、
    ことを特徴とする請求項1に記載の増幅回路。
  3. 前記位相補償用キャパシタと前記ゲイン決定用抵抗とは並列回路を構成する、
    ことを特徴とする請求項2に記載の増幅回路。
  4. 前記増幅部は従属接続された少なくとも第1及び第2の増幅器からなり、
    前記位相補償用キャパシタの一端は接地され、他端は前記第1の増幅器の出力端と前記第2の増幅器の入力端との間に接続される、
    ことを特徴とする請求項2に記載の増幅回路。
  5. 前記増幅部は従属接続された少なくとも第1及び第2の増幅器からなり、
    前記各組み合わせはそれぞれ2つの位相補償用キャパシタを含み、
    前記2つの位相補償用キャパシタのうちの一方と前記ゲイン決定用抵抗とは並列回路を構成し、
    前記2つの位相補償用キャパシタのうちの他方の一端は接地され、他端は前記第1の増幅器の出力端と前記第2の増幅器の入力端との間に接続される、
    ことを特徴とする請求項2に記載の増幅回路。
  6. 前記増幅部の入力信号がフォトダイオードの出力信号であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の増幅回路。
  7. レーザービームを受光するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの出力信号を増幅する増幅回路とを備える光ピックアップであって、
    前記増幅回路は、
    増幅部と、
    前記増幅部に接続されたゲイン決定用抵抗及び位相補償用キャパシタの複数の組み合わせと、
    前記複数の組み合わせの中から少なくとも1つを選択するスイッチ手段と、
    を備える、
    ことを特徴とする光ピックアップ。
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