JP2009076699A - Method of manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、片面に配線パターンをなす導体が設けられた絶縁性基材が複数枚積層された多層プリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which a plurality of insulating base materials provided with a conductor forming a wiring pattern on one side are laminated.
近年の電子機器の軽量化、薄型化、小型化に伴い、半導体チップや電子部品の小型化及び端子間の狭ピッチ化が図られ、プリント配線板においては、配線の高密度化及び多層化が必要不可欠となっている。 With recent reduction in weight, thickness, and size of electronic devices, semiconductor chips and electronic components have been downsized and the pitch between terminals has been reduced. It is indispensable.
特許文献1には、絶縁基材にビアホールを形成し、このビアホールに導電性ペーストを充填することによって、基板表裏の導通を得るようにした多層プリント配線板の製造方法が記載されている。この製造方法においては、導電性ペーストの突起を形成する必要があるため、基材にマスキングフィルムをラミネートしてからビアホールを形成し、導電性ペーストを充填した後、マスキングフィルムを剥がして、導電性ペーストの突起を形成するようにしている。
また、特許文献2には、吸熱物質を含有させるか塗布したマスキングフィルムを用いることによって、レーザ加工時の収縮を防止する技術が記載されている。
特許文献3には、マスキングフィルムに金属層を設けることによって、レーザ加工時の基材への融着を防止する技術が示されている。
ところで、前述したような従来の多層プリント配線板の製造方法においては、図2に示すように、マスキングフィルムと接着材フィルムの密着力が弱い場合には、レーザ加工などによりビアホールを形成したとき、または、デスミア時、あるいは、酸洗浄時に、マスキングフィルムの剥がれが生じる。 By the way, in the manufacturing method of the conventional multilayer printed wiring board as described above, as shown in FIG. 2, when the adhesion force between the masking film and the adhesive film is weak, when the via hole is formed by laser processing or the like, Alternatively, the masking film is peeled off during desmearing or acid cleaning.
また、マスキングフィルムと接着材フィルムとの密着力が強い場合には、マスキングフィルムが剥離させにくく、また、マスキングフィルムを剥離させたときに、図3に示すように、導電性ペーストの突起に欠け不良が生じる。 In addition, when the adhesion between the masking film and the adhesive film is strong, the masking film is difficult to peel off, and when the masking film is peeled off, as shown in FIG. Defects occur.
そこで、本発明は、前述の実情に鑑みて提案されるものであって、導電性ペーストが充填されたビアホールを有する多層プリント配線板の製造方法において、マスキングフィルムと接着材フィルムとの密着力を適切にコントロールすることにより、ビアホールを形成したとき、デスミア時及び酸洗浄時にマスキングフィルムの剥がれを防止でき、かつ、マスキングフィルムの剥離が容易であり、マスキングフィルムを剥離させたときに導電性ペーストの突起に不良が生じることを防止できる多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention is proposed in view of the above circumstances, and in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a via hole filled with a conductive paste, the adhesion between the masking film and the adhesive film is improved. By controlling appropriately, peeling of the masking film can be prevented during desmearing and acid cleaning when the via hole is formed, and the masking film can be easily peeled off. It aims at providing the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which can prevent that a defect arises in a processus | protrusion.
本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、以下の構成のいずれか一を有するものである。 The manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on this invention has any one of the following structures.
〔構成1〕
片面に配線パターンをなす導体が設けられた絶縁性基材が複数枚積層され各絶縁性基材に設けられたビアホール充填された導電性ペーストにより各絶縁性基材に設けられた導体間が層間導通された多層プリント配線板の製造方法であって、絶縁性基材に接着材フィルムをラミネートし、この接着材フィルム面にマスキングフィルムを0.20N/cm以上3.0N/cm以下の密着力でラミネートすることを特徴とするものである。
[Configuration 1]
A plurality of insulating base materials each provided with a conductor forming a wiring pattern on one side are laminated and a conductive paste filled in via holes provided in each insulating base material is provided between the conductors provided on each insulating base material. A method for producing a conductive multilayer printed wiring board, in which an adhesive film is laminated on an insulating substrate, and a masking film is adhered to the adhesive film surface at an adhesive strength of 0.20 N / cm to 3.0 N / cm. It is characterized by laminating with.
〔構成2〕
構成1を有する多層プリント配線板の製造方法において、マスキングフィルムをなす材料は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイト、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、または、メラミン樹脂から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とするものである。
[Configuration 2]
In the method for producing a multilayer printed wiring
〔構成3〕
構成1、または、構成2を有する多層プリント配線板の製造方法において、接着材フィルム面へのマスキングフィルムのラミネートは、プレス機、もしくは、ロールラミネータを用いて行うことを特徴とするものである。
[Configuration 3]
In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which has the
〔構成4〕
構成1乃至構成3のいずれか一を有する多層プリント配線板の製造方法において、接着材フィルム面へのマスキングフィルムのラミネートは、0.2MPa以下の真空下で行うことを特徴とするものである。
[Configuration 4]
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board having any one of
構成1を有する本発明に係る多層プリント配線板の製造方法においては、マスキングフィルムと接着フィルムとの密着力を0.20N/cm以上3.0N/cm以下の範囲に規定することによって、レーザ、デスミア、酸洗浄などの工程において、マスキングフィルムの接着材フィルムからの剥離を防止し、また、導電性ペースト印刷後、マスキングフィルムを剥がしたときに、導電性ペーストの良好な形状の突起を形成することを可能とする。
In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board according to the present invention having the
構成2を有する本発明に係る多層プリント配線板の製造方法においては、マスキングフィルムをなす材料は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイト、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、または、メラミン樹脂から選ばれる少なくとも一つであるので、マスキングフィルムの接着材フィルムへの密着力を適正な状態に管理することができる。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present
構成3を有する本発明に係る多層プリント配線板の製造方法においては、接着材フィルム面へのマスキングフィルムのラミネートは、プレス機、もしくは、ロールラミネータを用いて行うので、マスキングフィルムの接着材フィルムへの密着力を適正な状態に管理することができる。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present
構成4を有する本発明に係る多層プリント配線板の製造方法においては、接着材フィルム面へのマスキングフィルムのラミネートは、0.2MPa以下の真空下で行うので、マスキングフィルムの接着材フィルムへの密着力を適正な状態に管理することができる。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present
すなわち、本発明は、レーザ、デスミア、酸洗浄などの工程において、マスキングフィルムの接着材フィルムからの剥離を防止し、また、導電性ペースト印刷後、マスキングフィルムを剥がしたときに、導電性ペーストの良好な形状の突起を形成することができる多層プリント配線板の製造方法を提供することができるものである。 That is, the present invention prevents peeling of the masking film from the adhesive film in steps such as laser, desmear, and acid cleaning, and when the masking film is peeled off after printing the conductive paste, It is possible to provide a method for producing a multilayer printed wiring board capable of forming a projection having a good shape.
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
本発明に係る多層プリント配線板の製造方法においては、接着材フィルムとマスキングフィルムとの密着力を0.20N/cm以上、3.0N/cm以下の範囲として、マスキングフィルムを接着フィルムにラミネートすることによって、レーザ加工、デスミア、酸洗浄などの各工程において、マスキングフィルムの接着フィルムからの剥離を防止し、また、導電性ペースト印刷後、マスキングフィルムを剥がしたときに、導電性ペーストの良好な形状の突起を形成することを可能としたものである。 In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the masking film is laminated on the adhesive film with the adhesive force between the adhesive film and the masking film being in the range of 0.20 N / cm to 3.0 N / cm. Therefore, in each process such as laser processing, desmearing, acid cleaning, etc., the peeling of the masking film from the adhesive film is prevented, and when the masking film is peeled off after printing the conductive paste, the conductive paste is good. It is possible to form a protrusion having a shape.
図1は、本発明に係る多層プリント配線板の製造方法を説明する側面図である。 FIG. 1 is a side view for explaining a method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、図1に示すように、以下の工程により実施される。 The manufacturing method of the multilayer printed wiring board which concerns on this invention is implemented by the following processes, as shown in FIG.
まず、図1中(0)に示すように、ポリイミド、LCPなどの絶縁体1に銅箔などの導体2を張り合わせたの積層板の導体を、図1中(1)に示すように、フォトリソグラフィーによって必要な部分にのみ配線となるように回路を形成する。
First, as shown in (0) in FIG. 1, a conductor of a laminated plate in which a
次に、図1中(2)に示すように、絶縁体面に熱可塑性あるいは熱硬化性の接着材フィルム3をラミネートする。
Next, as shown in FIG. 1 (2), a thermoplastic or thermosetting
さらに、図1中(3)に示すように、接着材フィルム3に、マスキングフィルム(プラスチックフィルム)4をラミネートする。マスキングフィルム4の材料には、特に制限は無く、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイト、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などのプラスチックフィルムである。
Further, as shown in FIG. 1 (3), a masking film (plastic film) 4 is laminated on the
ラミネーションは、ロールラミネータ、平行平板のプレスなどを用いて行い、また、それらが真空下で行われても良い。 Lamination is performed using a roll laminator, a parallel plate press, or the like, or they may be performed under vacuum.
図1中(4)に示すように、炭酸ガスレーザ、UV−YAGレーザあるいはエキシマーレーザ等のレーザによって、所定の位置にマスキングフィルム4側から導体2までの有底ビアホール5を形成する。導体2と導電性ペースト6の接続信頼性を向上させるために、必要に応じて、有底ビアホール5に残存したスミアを除去するためデスミア処理を行う。また、塩酸、硫酸などの酸を用いて洗浄する。
As shown in FIG. 1 (4), a bottomed via
その後、図1中(5)に示すように、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法などによって、有底ビアホール5に導電性ペースト6を均一に充填する。ここで、マスキングフィルム4は、導電性ペースト6が有底ビアホール5部分以外の接着材フィルムに塗布されることを防止するためのマスキングの役割を果たす。
Thereafter, as shown in FIG. 1 (5), the
図1中(6)に示すように、マスキングフィルム4を剥離し、導電性ペースト6の突起を形成する。
As shown in FIG. 1 (6), the
図1中(7)に示すように、図1中の(1)乃至(6)を経た基板を複数枚作製し、それぞれに設けた穴あるいは導体パターンを画像認識するか、もしくは、それぞれに設けた穴にピンを用いて位置合わせを行う。 As shown in (7) in FIG. 1, a plurality of substrates having passed through (1) to (6) in FIG. 1 are manufactured, and the holes or conductor patterns provided in each of them are image-recognized or provided in each. Use a pin to align the holes.
図1中(8)に示すように、プレス機で熱圧着する。その際、導電性ペースト6の突起が回路に潰され、有底ビアホール5に高密度に充填され、かつ、導電性ペースト6と回路2が電気的に接続される。
As shown in FIG. 1 (8), thermocompression bonding is performed with a press. At that time, the protrusions of the
図1中(9)に示すように、表面の導体2をカバーレイ7、あるいは、ソルダーレジストなどの絶縁層で覆うように形成する。
As shown in FIG. 1 (9), the
以下、本発明の実施例1乃至6、比較例1乃至3について詳細に説明する。 Hereinafter, Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 of the present invention will be described in detail.
(実施例1)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が0.87N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
Example 1
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 0.87 N / cm.
密着力は、接着材の種類、マスキングフィルムの種類、ラミネートの温度、時間などによって制御することができる。 The adhesion can be controlled by the type of adhesive, the type of masking film, the temperature of the laminate, the time, and the like.
(実施例2)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリイミドを用い、接着材フィルムとの密着力が0.48N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Example 2)
In FIG. 1 (3), polyimide was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 0.48 N / cm.
(実施例3)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンテレフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が0.59N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Example 3)
In FIG. 1, (3), polyethylene terephthalate was used as the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 0.59 N / cm.
(実施例4)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が0.22N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
Example 4
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 0.22 N / cm.
(実施例5)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が2.76N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Example 5)
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 2.76 N / cm.
(実施例6)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が1.25N/cmとなるようにロールラミネータでラミネートした。
(Example 6)
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used as the masking film, and the film was laminated with a roll laminator so that the adhesive strength with the adhesive film was 1.25 N / cm.
(比較例1)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が0.15N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Comparative Example 1)
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesion with the adhesive film was 0.15 N / cm.
(比較例2)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリエチレンナフタレートを用い、接着材フィルムとの密着力が3.13N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Comparative Example 2)
In FIG. 1, (3), polyethylene naphthalate was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 3.13 N / cm.
(比較例3)
図1中(3)において、マスキングフィルムにポリイミドを用い、接着材フィルムとの密着力が0.09N/cmとなるように真空プレス機にて0.1MPa下でラミネートした。
(Comparative Example 3)
In FIG. 1, (3), polyimide was used for the masking film, and lamination was performed under a pressure of 0.1 MPa with a vacuum press so that the adhesive strength with the adhesive film was 0.09 N / cm.
(評価)
これら各実施例及び比較例の多層プリント配線板について、以下の項目で評価を行った。
(Evaluation)
The multilayer printed wiring boards of these examples and comparative examples were evaluated on the following items.
(1)接着材フィルムとマスキングフィルムとの密着力
JIS C 6471に準拠して評価した。
(1) Adhesive strength between adhesive film and masking film Evaluation was performed in accordance with JIS C 6471.
(2)レーザ加工時のマスキングフィルムの剥がれ
500倍の光学顕微鏡にて観察した。
(2) Peeling of masking film at the time of laser processing It observed with the optical microscope of 500 times.
(3)デスミア時のマスキングフィルムの剥がれ
500倍の光学顕微鏡にて観察した。
(3) Peeling of masking film at the time of desmear It observed with the 500 times optical microscope.
(4)導電性ペーストの突起形状
500倍の光学顕微鏡にて観察した。
(4) Protrusion shape of conductive paste It observed with the optical microscope of 500 time.
実施例1乃至6、比較例1乃至3の多層プリント配線板の評価の結果を、以下の〔表1〕に示す。 The evaluation results of the multilayer printed wiring boards of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in the following [Table 1].
実施例1乃至6の多層プリント配線板においては、〔表1〕に示すように、マスキングフィルムと接着フィルムの密着力を0.20N/cm以上としたので、レーザ加工などによるビアホール形成時、デスミア時、あるいは酸洗浄時にマスキングフィルムの剥がれることがなくなった。 In the multilayer printed wiring boards of Examples 1 to 6, as shown in [Table 1], the adhesion force between the masking film and the adhesive film was set to 0.20 N / cm or more. The masking film is no longer peeled off at the time of acid cleaning.
また、実施例1乃至6の多層プリント配線板においては、〔表1〕に示すように、マスキングフィルムと接着フィルムの密着力を3.0N/cm以下としたので、マスキングフィルムが剥離しにくく、また、マスキングフィルム剥離した時に導電性ペーストの突起の欠け不良がなくなった。 Moreover, in the multilayer printed wiring boards of Examples 1 to 6, as shown in [Table 1], the adhesion force between the masking film and the adhesive film was 3.0 N / cm or less. Moreover, the chipping defect of the conductive paste disappeared when the masking film was peeled off.
1 絶縁体
2 導体
3 接着材フィルム
4 マスキングフィルム
5 ビアホール
6 導電性ペースト
1
Claims (4)
前記絶縁性基材に接着材フィルムをラミネートし、この接着材フィルム面にマスキングフィルムを0.20N/cm以上3.0N/cm以下の密着力でラミネートする
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 A plurality of insulating base materials each provided with a conductor forming a wiring pattern on one side are laminated, and a conductor provided on each insulating base material with a conductive paste filled in via holes provided on each insulating base material. A method for producing a multilayer printed wiring board with interlayer conduction between the layers,
An adhesive film is laminated on the insulating substrate, and a masking film is laminated on the adhesive film surface with an adhesion of 0.20 N / cm or more and 3.0 N / cm or less. Production method.
ことを特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板の製造方法。 The material forming the masking film is at least one selected from polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfite, polyimide, polypropylene, polyethylene, epoxy resin, silicone resin, phenol resin, or melamine resin. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of Claim 1 to do.
ことを特徴とする請求項1、または、請求項2記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the masking film is laminated on the adhesive film surface using a press or a roll laminator.
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the masking film is laminated on the adhesive film surface under a vacuum of 0.2 MPa or less.
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