JP2009076571A - 強誘電体キャパシタとその製造方法、及び強誘電体メモリ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下部電極12と強誘電体膜13と上部電極14とを有する。強誘電体膜13は、下部電極12上に有機金属化学気相堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなる第1の強誘電体層13aと、第1の強誘電体層13a上に化学溶液堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti,MB)O3(ただし、MBはBサイトに入り得るZr、Ti以外の金属元素である)で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなり、Bサイト中におけるMBの原子数比[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]が0%を越え5%以下である第2の強誘電体層13bと、を含む。
【選択図】図1
Description
強誘電体キャパシタを構成する強誘電体膜の形成材料、すなわち強誘電体材料としては、単純ペロブスカイト構造を有するチタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zi,Ti)O3:PZT)が、分極量が大きく有力である。なお、このPZTの分極量を大きくし、また、強誘電体メモリとしての信頼性を最大限に引き出すためには、強誘電体膜の結晶構造を正方晶とし、さらに(111)面配向制御を行うことが非常に重要である。
ところで、次世代の強誘電体メモリでは、強誘電体膜をMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition:有機金属化学気相堆積)法で成膜することが望まれている。これは、従来のスパッタ法等による成膜では得られる強誘電体膜の結晶配向性が不十分であり、より良好な強誘電体性が得られないことから、結晶配向性の良好な強誘電体膜が望まれているからである。
なお、MOCVD法を用いてPZT系の強誘電体膜を形成するとともに、この強誘電体膜のリーク電流の低減化を図った技術として、特許文献1に記載された技術が知られている。
そこで、さらに改善をすべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成させた。
前記強誘電体膜は、
前記下部電極上に有機金属化学気相堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなる第1の強誘電体層と、
前記第1の強誘電体層上に化学溶液堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti,MB)O3(ただし、MBはBサイトに入り得るZr、Ti以外の金属元素である)で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなり、Bサイト中におけるMBの原子数比[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]が0%を越え5%以下である第2の強誘電体層と、を含むことを特徴としている。
このように、第1の強誘電体層及び第2の強誘電体層からなる強誘電体膜の結晶構造が、正方晶であって(111)面配向していることにより、強誘電体キャパシタの特性がより良好になる。さらに、第1の強誘電体層及び第2の強誘電体層の結晶粒子が連続していることが好ましい。
前記下部電極上に、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなる第1の強誘電体層を、有機金属化学気相堆積法で形成する工程と、
前記第1の強誘電体層上に、Pb(Zr,Ti,MB)O3(ただし、MBはBサイトに入り得るZr、Ti以外の金属元素である)で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなり、Bサイト中におけるMBの原子数比[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]が0%を越え5%以下である第2の強誘電体層を、化学溶液堆積法で形成する工程と、
前記第2の強誘電体層上に上部電極を形成する工程と、を含むことを特徴としている。
さらに、この化学溶液堆積法で成膜する第2の強誘電体膜を、純粋なPZT膜ではなく、PZTにおけるBサイト中にZr、Ti以外の金属元素であるMB(例えばNb)を原子数比が0%を越え5%以下となるように含有させて形成しているので、前記の突起状結晶の脇でのリークパス等に起因するリーク電流の低減効果を高くするとともに、分極量の低下を抑えて強誘電体メモリ(強誘電体キャパシタ)としての十分な特性を確保することができる。
前記したようにキャパシタ特性が良好であり、またリーク電流が低減化され、かつ、分極量の低下が抑えられた強誘電体キャパシタを備えているので、本発明の強誘電体メモリ装置は十分な特性が確保された良好なものとなる。
まず、本発明の強誘電体キャパシタを備えた強誘電体メモリ装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。
強誘電体メモリ装置1は、図1に示すように、半導体基板2と、半導体基板2上に形成された強誘電体キャパシタ3と、この強誘電体キャパシタ3のスイッチングトランジスタ(以下、トランジスタと記す)4とを備えて構成されたものである。
プラグ6は、コンタクトホール5A内に充填された導電材料によって形成されたもので、例えばタングステン(W)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)などからなっている。本実施形態ではWによって形成されている。
導電膜15は、例えば窒化チタン(TiN)によって形成されている。窒化チタンは、自己配向性に優れたTiを含むことにより、特にプラグ6上においても良好な結晶配向性を有し、したがってこの上に形成される各層の結晶配向性をより良好にする機能を有している。
バリア層16は、結晶質を含んで導電性を有すると共に、酸素バリア性を有する材料からなり、例えばTiAlN、TiAl、TiSiN、TiN、TaN、TaSiNなどからなるものである。本実施形態ではTiAlNによって形成されている。
例えば、バリア層16が立方晶系に属してその結晶配向が(111)面配向である場合、またはバリア層16が六方晶系に属してその結晶配向が(001)面配向である場合、下部電極12の結晶配向が(111)面配向であることが好ましい。この構成によれば、下部電極12上に強誘電体膜13を形成する際、強誘電体膜13の結晶構造を正方晶とし、その結晶配向を(111)面配向にすることが容易になる。したがって、本実施形態では、下部電極12をIrによって形成し、その結晶配向を(111)面配向にしている。
第1の強誘電体層13aは、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物、すなわちPZTからなるもので、後述するようにMOCVD法(有機金属化学気相堆積法)で成膜されて形成されたものである。ここで、形成するPZTとしては、より大きな自発分極量を獲得するため、Tiの含有量をZrの含有量より多くするのが好ましく、このようにTiの含有量をZrの含有量より多くすることにより、ヒステリシス特性が良好になる。
MBの原子数比;[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]
また、トランジスタ4は、半導体基板2に間隔をおいて複数形成されており、隣接する他のトランジスタ4との間に素子分離領域25が設けられたことにより、互いに絶縁され分離されている。
まず、従来と同様にして、半導体基板2の表層に第1及び第2不純物領域層23、24を形成すると共に半導体基板2上にトランジスタ4や層間絶縁膜5を形成する。そして、図2(a)に示すように層間絶縁膜5にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホール内に導電材料として例えばWを充填することにより、プラグ6を形成する。
一方、MOD法では、加水分解反応を起こさせることなく、有機金属化合物を有機溶剤に溶解させた原料溶液をその状態(混合状態)で基板上(第1の強誘電体層13a上)に塗布する。
その後、形成したゾルゲル膜を120℃〜400℃程度の温度で乾燥・脱脂し、さらに酸素含有雰囲気下にて450℃〜700℃の温度範囲で60〜120秒程度高速昇温加熱処理(RTA処理)し、結晶化させる。これにより、図3(b)に示したように第1の強誘電体層13a上に第2の強誘電体層13bを厚さ30nm程度に形成し、これによって第1の強誘電体層13aと第2の強誘電体層13bとからなる強誘電体膜13を得る。
その後、形成したMOD膜を120℃〜400℃程度の温度で乾燥・脱脂し、さらに酸素雰囲気中にて500℃〜700℃程度で1〜60分程度熱処理することにより、結晶化させる。これにより、図3(b)に示したように第1の強誘電体層13a上に第2の強誘電体層13bを厚さ30nm程度に形成し、これによって第1の強誘電体層13aと第2の強誘電体層13bとからなる強誘電体膜13を得る。
その後、上部電極14上にレジスト層を形成し、さらにこれを露光・現像して所定形状にパターニングし、得られたレジストパターンをマスクにして前記下地層11、下部電極12、強誘電体膜13、上部電極14をエッチングすることにより、図1に示した強誘電体キャパシタ3を得る。さらに、この強誘電体キャパシタ3を覆って層間絶縁膜(図示せず)を形成し、その上に上部配線等(図示せず)を形成することにより、強誘電体メモリ装置1が得られる。
さらに、この化学溶液堆積法で成膜する第2の強誘電体膜13bを、純粋なPZT膜ではなく、PZTにおけるBサイト中にZr、Ti以外の金属元素であるNbを原子数比が0%を越え5%以下となるように含有させて形成しているので、前記の突起状結晶の脇でのリークパス等に起因するリーク電流の低減効果を高くするとともに、分極量の低下を抑えて強誘電体メモリ装置1(強誘電体キャパシタ3)としての十分な特性を確保することができる。
さらに、この強誘電体キャパシタ3を備えてなる強誘電体メモリ装置1にあっては、前記したように優れた特性を有する強誘電体キャパシタ3を備えているので、この強誘電体メモリ装置1自体も十分な特性が確保された良好なものとなる。
例えば、強誘電体キャパシタ3の側面や上面を覆ってアルミナ(Al2O3)等の絶縁性水素バリアを設けてもよい。
本発明に係る強誘電体キャパシタとして、図1に示した構造のものを、(1)〜(3)の3種類作製した。作製した3種類の各強誘電体キャパシタについては、その第2の強誘電体層13bの形成材料が異なるだけであり、その他の構成要素については全て同一とした。
(1)〜(3)の3種類の強誘電体キャパシタにおける、第2の強誘電体層13bの形成材料(PZTN(PZT)のゾルゲル溶液)として、各金属元素が以下の原子数比となるように、特にNbの配合比を変化させて調製したものを用いた。
(1)(Ti/(Zr+Ti+Nb))=約0.55、かつ、
Nb/(Zr+Ti+Nb)=0.15[Bサイト中におけるNbの原子数比が15%]
(2)(Ti/(Zr+Ti+Nb))=約0.55、かつ、
Nb/(Zr+Ti+Nb)=0.03[Bサイト中におけるNbの原子数比が3%]
(3)(Ti/(Zr+Ti+Nb))=約0.55、かつ、
Nb/(Zr+Ti+Nb)=0 [Bサイト中におけるNbの原子数比が0%]
その後、これら(1)〜(3)の3種類の第2の強誘電体層13b上に、それぞれIrO2からなる上部電極14を形成し、3種類の強誘電体キャパシタを作製した。
したがって、この実験例によれば、(3)のようにNbの原子数比が0%ではリーク電流の改善効果が認められず、また、(1)のようにNbの原子数比が15%では分極量の低下が顕著であることが分かった。また、別の実験によって分極量の低下は、Nbの原子数比が5%以下では、強誘電体キャパシタの特性として許容できる範囲であることも分かった。
よって、(2)のようにNbの原子数比が3%、すなわち0%を越え5%以下であると、リーク電流の改善効果が認められ、かつ分極量の低下も抑えられることが分かった。
Claims (5)
- 下部電極と、該下部電極上に設けられた強誘電体膜と、該強誘電体膜上に設けられた上部電極と、を有し、
前記強誘電体膜は、
前記下部電極上に有機金属化学気相堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなる第1の強誘電体層と、
前記第1の強誘電体層上に化学溶液堆積法で形成された、Pb(Zr,Ti,MB)O3(ただし、MBはBサイトに入り得るZr、Ti以外の金属元素である)で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなり、Bサイト中におけるMBの原子数比[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]が0%を越え5%以下である第2の強誘電体層と、を含むことを特徴とする強誘電体キャパシタ。 - 前記MBがNbであることを特徴とする請求項1記載の強誘電体キャパシタ。
- 前記第1の強誘電体層及び前記第2の強誘電体層を構成する化合物の結晶構造が、いずれも正方晶であって、(111)面配向していることを特徴とする請求項1又は2に記載の強誘電体キャパシタ。
- 基体上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、Pb(Zr,Ti)O3で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなる第1の強誘電体層を、有機金属化学気相堆積法で形成する工程と、
前記第1の強誘電体層上に、Pb(Zr,Ti,MB)O3(ただし、MBはBサイトに入り得るZr、Ti以外の金属元素である)で示されるペロブスカイト型の結晶構造を有した化合物からなり、Bサイト中におけるMBの原子数比[{MB/(Zr+Ti+MB)}×100]が0%を越え5%以下である第2の強誘電体層を、化学溶液堆積法で形成する工程と、
前記第2の強誘電体層上に上部電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする強誘電体キャパシタの製造方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の強誘電体キャパシタ、あるいは請求項4記載の製造方法で得られた強誘電体キャパシタを備えてなることを特徴とする強誘電体メモリ装置。
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