JP2009031600A - Method of manufacturing plastic structure, plastic structure and display device using the structure - Google Patents

Method of manufacturing plastic structure, plastic structure and display device using the structure Download PDF

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Daisei Minegishi
大生 峯岸
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily manufacture a plastic structure having a narrow line width and used for e.g. an electrophoretic display. <P>SOLUTION: This method of manufacturing plastic structure includes the steps of: forming a first pattern on a substrate by using a liquid curable resin; deforming the first pattern in such a way that the first pattern is extended in the thickness direction of the substrate by using a shape transfer mold having a second pattern; curing the curable resin while the first pattern is kept deformed as it is; and releasing the cured first pattern and the second pattern from the mold. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラスチックによる微小(μmオーダー)な凹凸構造を簡便に製造する方法に関し、特に電気泳動型ディスプレイ等の表示素子のセル構造の製造方法、この製造方法により得られるプラスチック構造体およびこの構造体を有するディスプレイデバイスに関する。   The present invention relates to a method for easily manufacturing a fine (μm order) concavo-convex structure made of plastic, particularly a method for manufacturing a cell structure of a display element such as an electrophoretic display, a plastic structure obtained by this manufacturing method, and the structure The present invention relates to a display device having a body.

従来、電子ペーパー等の表示デバイスにおいて、高解像度及び視認性を上げるために、画素間の隔壁を極力薄くする必要がある。今後商品化等されると期待されているフレキシブル薄型ディスプレイの場合、プラスチック材料で基板等を作製する必要があり、隔壁は相対的に高アスペクト比の構造であることが求められている（例えば特許文献１，２参照）。   Conventionally, in a display device such as electronic paper, it is necessary to make the partition walls between pixels as thin as possible in order to increase high resolution and visibility. In the case of a flexible thin display that is expected to be commercialized in the future, it is necessary to produce a substrate or the like with a plastic material, and the partition is required to have a relatively high aspect ratio structure (for example, a patent). References 1 and 2).

特開２００４−１９１４６３号公報JP 2004-191463 A 特開２００７−１０３９１３号公報JP 2007-103913 A

上記したようなフレキシブルな素材を従来技術のプレス工法等を用いて作成する場合、画素間の隔壁以外の部分まで樹脂が残存するという問題点がある。また、高アスペクト比の構造を得るためには、加熱、加圧を行う時間が長くなるなど、生産性に劣るという問題がある。またフレキシブルな素材として光硬化性樹脂を採用した場合、高アスペクト構造を転写して形成するのが困難であるという問題点がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、線幅が小さなプラスチック構造体、たとえば電気泳動型のディスプレイなどに使用可能なプラスチック構造体を簡便に作ることを目的としている。 When the flexible material as described above is produced by using a conventional press method or the like, there is a problem that the resin remains up to a portion other than the partition between the pixels. Moreover, in order to obtain a structure with a high aspect ratio, there is a problem that productivity is inferior, such as a long time for heating and pressurization. Further, when a photocurable resin is employed as a flexible material, there is a problem that it is difficult to transfer and form a high aspect structure.
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to easily produce a plastic structure having a small line width, for example, a plastic structure usable for an electrophoretic display.

上記の課題を解決するために、請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、
基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
第２のパターンを有する形状転写型で前記第１のパターンを前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記変形された第１のパターンをその状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含むことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the invention of the method for producing a plastic structure according to claim 1 comprises:
Forming a first pattern with a liquid curable resin on a substrate;
Transforming the first pattern with a shape transfer mold having a second pattern so as to extend in the thickness direction of the substrate;
Curing the curable resin while maintaining the state of the deformed first pattern;
Releasing the cured first pattern and the second pattern;
It is characterized by including.

また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンを変形させる工程は、前記第１のパターンに前記第２のパターンを有する形状転写型を接触させる工程と、前記第１のパターンと前記形状転写型とを接触させながら前記基板と前記第２のパターンとを前記基板に略平行に離間させて前記第１のパターンを前記第２のパターンの離間動作に追随させながら変形する工程とを含むことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the method of manufacturing a plastic structure according to the first aspect, the step of deforming the first pattern is a shape having the second pattern in the first pattern. Contacting the transfer mold; and contacting the first pattern and the shape transfer mold while separating the substrate and the second pattern substantially in parallel to the substrate, thereby moving the first pattern to the first pattern. And a step of deforming while following the separating operation of the two patterns.

また請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記変形工程は、前記第１のパターンが前記第２のパターンと接触していない空気接触部分は連続した面が形成されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to the first or second aspect, the deformation step includes an air contact portion where the first pattern is not in contact with the second pattern. Is characterized in that a continuous surface is formed.

また請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンと前記第２のパターンは、前記第１のパターンを変形させる工程中は、接触面積が略一定であることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to any one of the first to third aspects, the first pattern and the second pattern include the first pattern. During the step of deforming, the contact area is substantially constant.

また請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型の前記第１のパターンと接触するパターン部位は突起状部を複数有していることを特徴とする。   The invention according to claim 5 is the plastic structure manufacturing method according to any one of claims 1 to 4, and is in contact with the first pattern of the shape transfer mold having the second pattern. The pattern part has a plurality of protrusions.

また請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記突起状部は、前記第１のパターンと同周期に形成され、かつ前記突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が前記第１のパターンの幅より小さいことを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a plastic structure according to the fifth aspect, the protrusions are formed in the same period as the first pattern, and the protrusions of the protrusions are formed. The width of the portion in contact with the first pattern is smaller than the width of the first pattern.

また請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記硬化性樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする。   The invention according to claim 7 is the method for producing a plastic structure according to any one of claims 1 to 6, wherein the curable resin is an ultraviolet curable resin.

また請求項８に記載の発明は、請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンの形成は、インクジェット装置を用いて形成することを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to the seventh aspect, the first pattern is formed by using an ink jet apparatus.

また、請求項９に記載の発明は、請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンの形成は、スクリーン印刷により形成することを特徴とする。   According to a ninth aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to the seventh aspect, the first pattern is formed by screen printing.

また、請求項１０に記載の発明は、請求項１〜９のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型は、前記第２のパターンのパターン部位より高いストッパ部を有することを特徴とする。   The invention according to claim 10 is the method for producing a plastic structure according to any one of claims 1 to 9, wherein the shape transfer mold having the second pattern is a pattern portion of the second pattern. It has a higher stopper part.

また、請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さは、前記第２のパターンの突起高さと、前記第１のパターンの高さとの和よりも小さいことを特徴とする。   The invention according to claim 11 is the method of manufacturing a plastic structure according to claim 10, wherein the height of the stopper portion of the shape transfer mold having the second pattern is a protrusion of the second pattern. It is smaller than the sum of the height and the height of the first pattern.

また請求項１２に記載の発明は、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンを形成する基板はＴＦＴを有する基板であることを特徴とする。   The invention according to claim 12 is the method for producing a plastic structure according to any one of claims 1 to 11, wherein the substrate on which the first pattern is formed is a substrate having TFTs. And

また請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記第１のパターンは、前記ＴＦＴを有する基板の画素電極部を囲むことを特徴とする。   According to a thirteenth aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to the twelfth aspect, the first pattern surrounds a pixel electrode portion of a substrate having the TFT.

また請求項１４に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする。   The invention of the method for producing a plastic structure according to claim 14 is the method of bringing the substrate and the shape transfer mold to a predetermined position while bringing the shape transfer mold into contact with the curable resin provided on the substrate. The curable resin is cured by being spaced apart.

また請求項１５に記載のプラスチック構造体の製造方法の発明は、基板上の硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させて画素の隔壁を形成することを特徴とする。   Further, in the invention of the method for producing a plastic structure according to claim 15, the substrate and the shape transfer mold are separated to a predetermined position while contacting the shape transfer mold after contacting the curable resin on the substrate. The partition wall of the pixel is formed by curing the curable resin.

また請求項１６に記載の発明は、請求項１４または１５に記載のプラスチック構造体の製造方法において、前記硬化は紫外線照射により行うことを特徴とする。   According to a sixteenth aspect of the present invention, in the plastic structure manufacturing method according to the fourteenth or fifteenth aspect, the curing is performed by ultraviolet irradiation.

また請求項１７に記載のプラスチック構造体の発明は、請求項1〜１６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法を用いて形成されたことを特徴とする。   The invention of the plastic structure according to claim 17 is characterized by being formed using the method for producing a plastic structure according to any of claims 1 to 16.

また請求項１８に記載のディスプレイデバイスの発明は、請求項１７に記載のプラスチック構造体を有することを特徴とする。   An invention of a display device according to claim 18 has the plastic structure according to claim 17.

本発明によれば、
基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
前記第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記形状転写型と前記第１のパターンとを前記変形させた状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含んでいるので、第１のパターンを液状樹脂を用いて大まかにパターンを形成して細部形状を別の工程により基板の厚みを増す方向に変形させて形成するので、微細な形状を簡便に作成することができる。 According to the present invention,
Forming a first pattern with a liquid curable resin on a substrate;
Deforming the first pattern with a shape transfer mold having a second pattern so as to extend in the thickness direction of the substrate;
Curing the curable resin while maintaining the deformed state of the shape transfer mold and the first pattern;
Releasing the cured first pattern and the second pattern;
Since the first pattern is roughly formed using a liquid resin and the detailed shape is deformed in the direction of increasing the thickness of the substrate by another process, a fine shape can be easily formed. Can be created.

以下、図面を参照して、本発明のプラスチック構造体などの発明に関し、以下の実施形態により、詳細に説明する。
本発明のプラスチック構造体の製造方法は、基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、前記第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、前記形状転写型と前記第１のパターンとを前記変形させた状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程とを含むことを特徴としている。 Hereinafter, the invention such as a plastic structure according to the present invention will be described in detail by the following embodiments with reference to the drawings.
The method for producing a plastic structure according to the present invention includes a step of forming a first pattern on a substrate with a liquid curable resin, and a shape transfer mold having the second pattern in the first pattern. A step of deforming so as to extend in the vertical direction, a step of curing the curable resin while maintaining the deformed state of the shape transfer mold and the first pattern, and the cured first pattern And a step of releasing the second pattern.

本発明のプラスチック構造体に使用される基板としては、透明性のある樹脂基板であればよく、このような基板としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂基板、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂基板、アクリル樹脂基板、ポリカーボネート樹脂基板などのポリエステル樹脂基板、ポリエチレン樹脂基板、ポリプロピレン樹脂基板、ポリメチルペンテン樹脂基板などのオレフィン樹脂基板（α−オレフィン樹脂基板、環状オレフィン樹脂基板）、ポリアミド樹脂基板等を挙げることができ、さらにその他の透明樹脂基板も挙げることができる。   The substrate used in the plastic structure of the present invention may be a transparent resin substrate, such as a PET (polyethylene terephthalate) resin substrate, a PBT (polybutylene terephthalate) resin substrate, an acrylic substrate. Examples include resin substrates, polyester resin substrates such as polycarbonate resin substrates, polyethylene resin substrates, polypropylene resin substrates, olefin resin substrates such as polymethylpentene resin substrates (α-olefin resin substrates, cyclic olefin resin substrates), polyamide resin substrates, and the like. In addition, other transparent resin substrates can also be mentioned.

このような樹脂基板に液状の硬化性樹脂により、第１のパターンを形成する。硬化性樹脂としては、紫外線を照射することにより硬化する樹脂、加熱することにより硬化する樹脂、あるいは紫外線−熱硬化複合型樹脂などの反応性樹脂を用いることができる。このような上記した基板と、液状の硬化性樹脂とを用いて、第１のパターンを形成する工程について、説明する。   The first pattern is formed on such a resin substrate with a liquid curable resin. As the curable resin, a reactive resin such as a resin that cures when irradiated with ultraviolet rays, a resin that cures when heated, or an ultraviolet-thermosetting composite resin can be used. A process of forming the first pattern using such a substrate and a liquid curable resin will be described.

〔第１のパターン形成工程〕
(第１パターンの形成例：インクジェット編)
本発明のプラスチック構造体の製造方法において、以下にまず、インクジェットプリンタ装置を用い、紫外線硬化樹脂をインクとしてガラス基板に第１のパターンである格子パターンを形成した例を挙げて説明する。基板上に第１のパターンをまず形成する。この第１のパターン形成は、公知の方法（たとえばスクリーン印刷法など）を用いて行うことができる。たとえば１つのライン幅は５０μｍであり、ラインとラインとの間隔（スペース）は２００μｍで作成することができる。
本発明ではたとえば、ライン幅とライン間隔の比を、１:２〜１:２０、好ましくは１:１０〜1：２０の範囲とした。またライン幅と高さの比を、１:１〜１:５、好ましくは１:３〜１:５と設定して形成することができる.ライン幅は特に限定されないが、たとえば、５〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ程度である。 [First pattern forming step]
(Example of forming the first pattern: inkjet)
In the method for producing a plastic structure according to the present invention, an explanation will first be given of an example in which an inkjet printer device is used and a lattice pattern as a first pattern is formed on a glass substrate using an ultraviolet curable resin as an ink. First, a first pattern is formed on a substrate. The first pattern formation can be performed using a known method (for example, a screen printing method). For example, one line width is 50 μm, and the interval (space) between the lines can be 200 μm.
In the present invention, for example, the ratio of the line width to the line interval is set in the range of 1: 2 to 1:20, preferably 1:10 to 1:20. The line width and height ratio can be set to 1: 1 to 1: 5, preferably 1: 3 to 1: 5. The line width is not particularly limited, but is, for example, 5 to 100 μm. The thickness is preferably about 5 to 20 μm.

また、第１のパターンを形成する工程として、以下に示す方法を採用することもできる。
(第１パターンの形成例：コンタクトプリント編)
公知のコンタクトプリント法によって、上記と同様の第１のパターンである格子パターンを形成することもできる。 Moreover, the method shown below can also be employ | adopted as a process of forming a 1st pattern.
(First pattern formation example: Contact print)
A lattice pattern, which is the first pattern similar to the above, can also be formed by a known contact printing method.

上述したように、本発明のプラスチック構造体で使用される第１パターンを形成する際に用いることのできる方法としては、インクジェット装置を用いて、インクの代わりに第１のパターンを形成するための液状の樹脂をそのまま用いるか、場合によっては溶剤を用いて適当な粘度に調整して基板上に第１のパターンを形成することができる。
また本発明では、コンタクトプリント法を採用して、基板上に第１のパターンを形成したり、あるいはネガ画像のマスクを介してスクリーン印刷法を用いて第１のパターンを形成することもできる。 As described above, as a method that can be used when forming the first pattern used in the plastic structure of the present invention, an ink jet device is used to form the first pattern instead of ink. The first pattern can be formed on the substrate by using the liquid resin as it is or adjusting the viscosity to an appropriate viscosity using a solvent in some cases.
In the present invention, the first pattern can be formed on the substrate by using the contact printing method, or the first pattern can be formed by using the screen printing method through a negative image mask.

次に上記のようにして形成した第１のパターンに第２のパターンを有する形状転写型で前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程を説明するが、まず、形状転写型の作製方法に関して説明する。
（形状転写型の作製）
図２を参照しながら、本発明の製造方法で使用される第２パターンを有する形状転写型を作成する。
まず、基板４０上にフォトレジスト５０を成膜する（図２（Ａ））。
次にパターンを形成するためパターン状のマスク（図示せず）を介して光を照射し、現像することにより、基板４０上にネガのパターン（形状転写型の元型）５１を形成する（図２（Ｂ））。
このネガのパターン（形状転写型の元型）５１を用い、このパターン面に剥離処理（たとえばフッ素系撥水処理剤で処理）を行い、前記ネガのパターンにたとえば未硬化の硬化型樹脂を塗布した後、この樹脂を硬化させてネガのパターンを逆転させたポジ型５２とし（図２（Ｃ））、硬化されたポジ型をネガのパターンから離型して作成する（図２（Ｄ））。その後、この作成されたポジ型に必要に応じて基板の端部にスペーサ２３を形成する（図２（Ｅ））。ここでポジ型５２は形状転写型の第２のパターン２２となるものである。
硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂または光硬化／熱硬化型併用樹脂が挙げられる。樹脂の種類としては、シリコーン樹脂、不飽和エチレン系重合基を有する樹脂（（メタ）アクリル基、（メタ）アリル基などの紫外線硬化基を有するシリコーン樹脂を含む）などを挙げることができる。 Next, a process of deforming the first pattern formed as described above so as to extend in the thickness direction of the substrate with the shape transfer mold having the second pattern will be described. The method will be described.
(Production of shape transfer mold)
Referring to FIG. 2, a shape transfer mold having a second pattern used in the manufacturing method of the present invention is created.
First, a photoresist 50 is formed on the substrate 40 (FIG. 2A).
Next, in order to form a pattern, a negative pattern (shape transfer type master) 51 is formed on the substrate 40 by irradiating light through a patterned mask (not shown) and developing (FIG. 5). 2 (B)).
Using this negative pattern (shape transfer mold master) 51, the pattern surface is stripped (for example, treated with a fluorine-based water repellent), and, for example, an uncured curable resin is applied to the negative pattern. Then, the resin is cured to obtain a positive mold 52 in which the negative pattern is reversed (FIG. 2C), and the cured positive mold is released from the negative pattern (FIG. 2D). ). Thereafter, a spacer 23 is formed on the edge of the substrate as necessary in the produced positive mold (FIG. 2E). Here, the positive mold 52 becomes the shape transfer mold second pattern 22.
Examples of the curable resin include a thermosetting resin, a photocurable resin, and a combined photocurable / thermosetting resin. Examples of the resin include a silicone resin and a resin having an unsaturated ethylene polymer group (including a silicone resin having an ultraviolet curable group such as a (meth) acryl group or a (meth) allyl group).

形状転写型を作成する具体例について、以下に作成例により説明する。
（第２のパターンを有する形状転写型の作成例）
Siウェハ基板にフォトレジスト(東京応化工業 OFPR-800)を厚さ10μmの厚さに製膜し、スペース１０μｍ、２４０μｍ□（２４０×２４０μｍ２正方形）のパターン(ピッチは第１のパターンと同じで凹凸が逆のパターン)を形成した(形状転写型の元型)。逆パターンが形成された元型にダイキン化学工業 オプツールDSX被膜により離型処理を行った後、シリコーンゴム(東レ・ダウ・コーニング JCR-6140)を塗布し、スキーズ処理を行った後に石英ガラス(2ｍｍ厚)を圧着させ、この状態に保持して１５０℃に１.５時間加熱して、前記したシリコーンゴムを硬化させた。硬化されたシリコーンゴムがついた石英ガラス基板を、アルコール洗浄によって形状転写型を作製した。
この外周にフォトリソグラフィによって高さ２０μｍの外枠をストッパとして作製してもよい。
インクジェットプリンタ装置を用いて上記したガラス基板上にラインを形成後、公知の照射装置を用いてＵＶ光を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、断面を観測したところ、パターンの高さ（隔壁の高さ）は約３０μｍであった。すなわち、インクジェットで形成した未硬化の紫外線硬化樹脂の第１のパターンはそのパターンの高さが３０μｍであり、形状転写型に関してはスペーサが２０μｍであり、したがって第２のパターンの高さが１０μｍであるので、スペーサによって、第１のパターンの頂上部が必ず接触することが可能である（上記において３０μｍの高さに形成された状態で次工程の変形工程を行わずに第１のパターンを硬化させ、断面観察もしくは触針式膜厚計で測定した。）。 A specific example of creating a shape transfer mold will be described below with reference to a creation example.
(Example of creating a shape transfer mold having the second pattern)
Photoresist (Tokyo Ohka Kogyo OFPR-800) is deposited to a thickness of 10μm on a Si wafer substrate, and a space pattern of 10μm, 240μm □ (240 × 240μm 2 squares) (pitch is the same as the first pattern) A pattern with concavities and convexities reversed) was formed (an original mold for shape transfer mold). After applying mold release treatment to Daikin Chemical Industries OPTOOL DSX coating on the original mold with reverse pattern, silicone rubber (Toray Dow Corning JCR-6140) was applied, and after squeezing, quartz glass (2mm Thickness) was pressure-bonded and kept in this state and heated to 150 ° C. for 1.5 hours to cure the silicone rubber. A shape transfer mold was prepared by washing the quartz glass substrate with the cured silicone rubber with alcohol.
On the outer periphery, an outer frame having a height of 20 μm may be produced by photolithography as a stopper.
After forming a line on the glass substrate described above using an ink jet printer apparatus and irradiating UV light using a known irradiation apparatus to cure the UV curable resin, the cross section was observed, and the pattern height ( The height of the partition walls was about 30 μm. That is, the first pattern of uncured UV curable resin formed by inkjet has a pattern height of 30 μm, and the shape transfer mold has a spacer of 20 μm, and therefore the second pattern has a height of 10 μm. Therefore, the top of the first pattern can be in contact with the spacer without fail by the spacer (the first pattern is cured without performing the deformation process of the next process in the state where it is formed in the height of 30 μm in the above. And measured with a cross-sectional observation or a stylus type film thickness meter.).

また本発明で使用される第２のパターンが形成された基板である形状転写型の他の製造例を、以下に記載する。この方法では、形状転写型として、加熱硬化型のシリコーン樹脂を用いた例を示す。
（形状転写型の作製）
Siウェハー基板にフォトレジスト(東京応化工業 OFPR-800)を厚さ10μmで製膜し、スペースが１０μｍであり、２４０μｍ□（２４０×２４０μｍ２の略正方形）のパターン(ピッチは第１のパターンと同じで凹凸が逆のパターン)を形成した(形状転写型の元型)。逆パターンが形成された元型にダイキン化学工業 オプツールDSX被膜により離型処理を行った後、シリコーンゴム(東レ・ダウ・コーニング JCR-6140)を塗布し、スキーズ処理を行った後に石英ガラス(2mm厚)を圧着させ、この状態に保持して150℃に（1.5時間）加熱して、前記した順パターンのシリコーンゴムを硬化させた。硬化されたシリコーンゴムがついた石英ガラス基板を、アルコール洗浄によって形状転写型として作製した。なお本発明では、シリコーンゴムを用いて作成した例を示したが、このシリコーンゴムの常温あるいは加熱硬化性のシリコーン樹脂またはＵＶ硬化性のシリコーン樹脂を用いてもよい。
この外周にフォトリソグラフィによってたとえば高さ２０μｍの外枠を作製してもよい。
本発明のプラスチック構造体の製造方法においては、第１の型を上記したような工程を用いて硬化前（反応硬化前）の樹脂からなる大略的なパターンを形成した後に、第２のパターン（形状転写型）により、硬化前（反応硬化前）の樹脂を基板１の厚み方向に引き伸ばして高さ方向に伸長させて所定高さとした後に第１のパターン状のラインを硬化（反応硬化）させることによって得られる。
したがって形状転写型２は、好ましくは第１のラインに対応して形成された型であって、硬化後の第１のパターンが正規に決められた形状であるように第１のパターンの形状を整える機能を有し、さらに、第１のパターンの高さ方向のバラツキが少ないように設定可能な機能を有することが好ましい。 Another example of manufacturing the shape transfer mold which is the substrate on which the second pattern used in the present invention is formed will be described below. In this method, an example is shown in which a thermosetting silicone resin is used as the shape transfer mold.
(Production of shape transfer mold)
Photoresist (Tokyo Ohka Kogyo OFPR-800) is formed on a Si wafer substrate to a thickness of 10 μm, the space is 10 μm, and the pattern is 240 μm □ (240 × 240 μm 2 approximately square) (pitch is the same as the first pattern) The same pattern with the concavities and convexities reversed (form transfer master). The mold with the reverse pattern was subjected to mold release treatment with Daikin Chemical Industries OPTOOL DSX coating, then silicone rubber (Toray Dow Corning JCR-6140) was applied, and after squeezing, quartz glass (2 mm (Thickness) was pressure-bonded and kept in this state and heated to 150 ° C. (1.5 hours) to cure the silicone rubber having the above-mentioned normal pattern. A quartz glass substrate with a cured silicone rubber was produced as a shape transfer mold by alcohol washing. In the present invention, an example of using silicone rubber is shown. However, a normal temperature or heat curable silicone resin or UV curable silicone resin of this silicone rubber may be used.
For example, an outer frame having a height of 20 μm may be formed on the outer periphery by photolithography.
In the method for producing a plastic structure of the present invention, the first pattern is formed by using the process as described above to form a rough pattern made of a resin before curing (before reaction curing), and then the second pattern ( With the shape transfer mold), the resin before curing (before reaction curing) is stretched in the thickness direction of the substrate 1 and stretched in the height direction to obtain a predetermined height, and then the first pattern line is cured (reaction curing). Can be obtained.
Therefore, the shape transfer mold 2 is preferably a mold formed corresponding to the first line, and the shape of the first pattern is set so that the first pattern after curing is a shape determined in a regular manner. It is preferable to have a function of adjusting and further to have a function that can be set so that there is little variation in the height direction of the first pattern.

次に上記したようにして形成した第２パターンである形状転写型を用いて、前記した第１パターン（好ましくは、インクジェットプリンタ装置を用いて、ガラス基板上に紫外線硬化樹脂でラインを形成する。）であるラインが形成された基板１のライン１１が形成された面を上にして、基板１２を略水平にする。次いで同一ライン周期の凸部を有するパターンが形成された形状転写型２を、その凸部パターン２２を下にして、上記したライン１１が形成された基板１の対応するラインと一致するように互いの面を対向させる（図１（Ａ））。そして凸部パターン２２を基板上に設けられた(紫外線硬化樹脂の)ライン１１と接触させ（図１（Ｂ））、基板１２と略平行に基板１又は転写型２の少なくとも１方を凸部パターン２２の接触面積をほぼ同一のままで離間させる方向に所定距離移動させる（図１（Ｃ））。その後、この状態を保持して紫外線硬化樹脂のパターン１１を硬化させ、硬化したパターンが形成された基板１と、転写型２とを離型すること（図１（Ｄ））によって、基板１２上にパターンを形成することができる。硬化したパターンが形成された基板１と、転写型２とを離型するには、これらを相対的に基板１の厚さ方向にこれらが離間していくように移動させればよい。   Next, using the shape transfer mold which is the second pattern formed as described above, a line is formed on the glass substrate with an ultraviolet curable resin using the above-described first pattern (preferably, an inkjet printer device). ), The surface of the substrate 1 on which the line 11 is formed is directed upward, and the substrate 12 is made substantially horizontal. Next, the shape transfer mold 2 on which the patterns having the convex portions having the same line period are formed, with the convex portion pattern 22 facing down, so as to coincide with the corresponding lines of the substrate 1 on which the above-described lines 11 are formed. Are faced to each other (FIG. 1A). Then, the convex pattern 22 is brought into contact with the line 11 (ultraviolet curable resin) provided on the substrate (FIG. 1B), and at least one of the substrate 1 or the transfer mold 2 is projected substantially parallel to the substrate 12. The pattern 22 is moved by a predetermined distance in a direction in which the contact area of the pattern 22 remains substantially the same (FIG. 1C). Thereafter, this state is maintained, the pattern 11 of the ultraviolet curable resin is cured, and the substrate 1 on which the cured pattern is formed and the transfer mold 2 are released (FIG. 1 (D)), whereby the substrate 12 A pattern can be formed. In order to release the substrate 1 on which the cured pattern is formed and the transfer mold 2, they may be moved relative to each other in the thickness direction of the substrate 1.

本発明のプラスチック構造体の製造方法では、上記した図１（Ｃ）に示す変形工程（変形プロセス）について、下記の作成例により説明する。
（変形プロセス）
図３に示すように、前記した工程により作成した形状転写型２をホルダ３２に固定し、このホルダ３２に固定された形状転写型２を、パターンを形成していない基板（裸の基板）３１を載せたステージ３３を上昇させて（図３（Ａ））、裸の基板３１と形状転写型２とが接触するときの高さの位置情報を原点として規定する（図３（Ｂ））。
次にステージ３３を元の位置に降下させた後、ステージ３３上の基板３１を紫外線硬化樹脂パターン付き基板１と取り替え顕微鏡３４を用いて微細アラインメント(Ｘ軸，Ｙ軸，θ軸)を調整しながらステージ３３を徐々に上昇させた。紫外線硬化樹脂パターンの厚さ(３０μｍ)程度に、前記した原点の位置から低い高さにまでステージ３３を上昇させたところ、基板３１上に設けられた紫外線硬化樹脂が形状転写型２に接触するのを顕微鏡３４で確認する（図３（Ｃ））。紫外線硬化樹脂のパターン１１全体が形状転写型の凸部２２に接触したところでステージ３３を10μm降下させて停止させ、この位置に固定した状態で紫外光を照射してパターン状に設けられた紫外線硬化樹脂を硬化させた（図３（Ｄ））。基板１上のパターン１１の硬化後、ステージ３３を降下させて形状転写型２から、硬化したパターン１１が形成された基板１を離型させた。 In the plastic structure manufacturing method of the present invention, the above-described deformation process (deformation process) shown in FIG.
(Deformation process)
As shown in FIG. 3, the shape transfer mold 2 created by the above-described steps is fixed to a holder 32, and the shape transfer mold 2 fixed to the holder 32 is a substrate (bare substrate) 31 on which no pattern is formed. 3 is raised (FIG. 3A), and the position information of the height when the bare substrate 31 and the shape transfer mold 2 come into contact with each other is defined as the origin (FIG. 3B).
Next, after the stage 33 is lowered to the original position, the substrate 31 on the stage 33 is replaced with the substrate 1 with the UV curable resin pattern, and the fine alignment (X axis, Y axis, θ axis) is adjusted using the microscope 34. However, the stage 33 was gradually raised. When the stage 33 is raised from the position of the origin to a low height to about the thickness (30 μm) of the ultraviolet curable resin pattern, the ultraviolet curable resin provided on the substrate 31 comes into contact with the shape transfer mold 2. This is confirmed with the microscope 34 (FIG. 3C). When the entire UV curable resin pattern 11 comes into contact with the shape transfer type convex portion 22, the stage 33 is lowered by 10 μm and stopped. The resin was cured (FIG. 3D). After the pattern 11 on the substrate 1 was cured, the stage 33 was lowered to release the substrate 1 on which the cured pattern 11 was formed from the shape transfer mold 2.

上記した変形工程では、基板１２上に液状樹脂により第１のパターン１１が形成され、この液状樹脂による第１のパターン１１に第２のパターン２２が形成された転写型の凸部を接触させ、第１のパターン１１の接触部以外の空気に接触している部分は、連続面が形成されることが好ましい。このように、第１のパターン１１の空気接触部分は連続した面が形成されるものであり、第１のパターン１１と第２パターン２２との接触面積は、好ましくは第２パターン２２（凸部）の最下部が、液状樹脂による第１のパターン１１との接触に寄与している。この第２パターン２２（凸部）の最下部との接触を保持しながら、第１のパターン１１は、基板１の厚み方向に伸長して変形されることが望ましい。このため、この変形工程中は、接触面積は一定であること（すなわち、第２パターン２２（凸部）の最下部の面積と略同一）が好ましい。また第２のパターンを有する形状転写型の第１のパターンと接触するパターン部位は、突起状部を複数有していることが好ましく、このような突起状部は、第１のパターンと略同周期に形成され、かつ突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が第１のパターンの幅より小さいことが好ましい。   In the deformation process described above, the first pattern 11 is formed of the liquid resin on the substrate 12, and the transfer type convex portion in which the second pattern 22 is formed is brought into contact with the first pattern 11 of the liquid resin, It is preferable that a continuous surface is formed in a portion in contact with air other than the contact portion of the first pattern 11. Thus, the air contact portion of the first pattern 11 is formed with a continuous surface, and the contact area between the first pattern 11 and the second pattern 22 is preferably the second pattern 22 (convex portion). ) Contributes to contact with the first pattern 11 by the liquid resin. The first pattern 11 is preferably extended and deformed in the thickness direction of the substrate 1 while maintaining contact with the lowermost portion of the second pattern 22 (convex portion). For this reason, it is preferable that the contact area is constant during this deformation step (that is, substantially the same as the area of the lowermost portion of the second pattern 22 (convex portion)). Further, the pattern portion that contacts the first pattern of the shape transfer mold having the second pattern preferably has a plurality of protrusions, and such protrusions are substantially the same as the first pattern. It is preferable that the width of the portion formed in a cycle and in contact with the first pattern of the protruding portion is smaller than the width of the first pattern.

以上のようにして本発明のプラスチック構造体である、基板１上にパターン（例えば格子状パターン）が形成された基板を製造することができる。本発明のプラスチック構造体は、その用途は特に限定されるものではないが、このようにして硬化されたパターンを、たとえば電気泳動表示装置のセルの隔壁として用いることができる。
またパターンが形成される基板１２は、前述したように透明基板であることが好ましい。基板の材質としては、前記したようにガラスなどの無機材料、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴなどのポリエステル系、ＰＥ、ＰＰなどのオレフィン系、ポリイミド、ポリアミドなどの窒素含有系樹脂などの有機系材料を挙げられる。このうち、有機系材料が可撓性を有するため好ましい。
また形状転写型（第２のパターンを有する型）にスペーサを形成する場合、形状転写型のストッパ部は、第２のパターンのパターン部位より高さの高いストッパ部を有することができる。このようなストッパは、たとえば図２（Ｅ）に示すようにパターン部が形成された領域以外のたとえば端部などに、スペーサ２３として設けることができる。基板が矩形の場合などにおいては、基板の角部近傍に４箇所、点状のスペーサを設けたり、矩形の隣り合わない２辺上に、点状にあるいは線状（壁状に）に設けることもでき、また矩形の基板の端部近傍の４辺に設けることもできる。 As described above, a substrate having a pattern (for example, a lattice pattern) formed on the substrate 1, which is the plastic structure of the present invention, can be manufactured. The use of the plastic structure of the present invention is not particularly limited, but the pattern thus cured can be used as, for example, a partition wall of a cell of an electrophoretic display device.
The substrate 12 on which the pattern is formed is preferably a transparent substrate as described above. As described above, the substrate material is an inorganic material such as glass, a polyester material such as PET (polyethylene terephthalate) or PBT, an olefin material such as PE or PP, or an organic material such as a nitrogen-containing resin such as polyimide or polyamide. Can be mentioned. Of these, organic materials are preferable because they have flexibility.
When the spacer is formed on the shape transfer mold (the mold having the second pattern), the shape transfer mold stopper portion can have a stopper portion having a height higher than that of the pattern portion of the second pattern. Such a stopper can be provided as a spacer 23 at, for example, an end other than the region where the pattern portion is formed as shown in FIG. In the case where the substrate is rectangular, four point-like spacers are provided near the corners of the substrate, or on two non-adjacent sides of the rectangle, in the form of dots or lines (walls). It can also be provided on four sides in the vicinity of the end of the rectangular substrate.

このようなストッパ部は、たとえば、第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さを、前記第２のパターンの突起の高さと、第１のパターンの高さとの和よりも小さく設けることが好ましい。このように構成することにより、形状転写型を、第１のパターンを硬化により形成するための基板１の基板面まで押し当てた場合であっても、形状転写型の凸部の突起を、第１のパターンの上部のみに接触させて第１のパターンを基板の厚さ方向に伸長させる加工が可能となる。なお、形状転写型のパターン領域外周にストッパを設けた時は形状転写型に印加される圧力を、たとえば圧力センサなどのセンサ等を用いてモニターしながら形成してもよい。   In such a stopper portion, for example, the height of the shape transfer type stopper portion having the second pattern is set smaller than the sum of the height of the protrusion of the second pattern and the height of the first pattern. It is preferable. With this configuration, even when the shape transfer mold is pressed to the substrate surface of the substrate 1 for forming the first pattern by curing, the protrusions of the convex portions of the shape transfer mold are It is possible to process the first pattern in the thickness direction of the substrate by contacting only the upper part of the one pattern. In addition, when a stopper is provided on the outer periphery of the pattern area of the shape transfer mold, the pressure applied to the shape transfer mold may be monitored while being monitored using a sensor such as a pressure sensor.

また第１のパターン１１を形成するための基板には、好ましくはＴＦＴを有する基板を用いることが好ましい。
すなわち本発明のプラスチック構造体の製造方法により形成されたプラスチック構造体では、基板の厚み方向に伸長されて形成される第１のパターンによって、好ましくは壁を形成し、好ましくは硬化された第１のパターンによって画素が形成され、この画素は、ＴＦＴによって制御される素子として動作できるセル構造体となることが好ましい。
したがって第１のパターンが硬化して形成された構造体（プラスチック構造体）は、好ましくは画素を有する構造体とすることができる。
このような硬化して形成された第１のパターンは、ＴＦＴ基板の画素電極部を囲むように形成されることが好ましい。これにより、ＴＦＴを用いたディスプレイのセル構造を形成でき、本発明のプラスチック構造体は、ディスプレイ用のセル構造体に利用可能である。またこのようなセル構造体はＴＦＴ素子を含んで構成されるディスプレイデバイスとして用いることができる。 Further, as the substrate for forming the first pattern 11, it is preferable to use a substrate having TFTs.
That is, in the plastic structure formed by the method for producing a plastic structure of the present invention, the first pattern formed by extending in the thickness direction of the substrate preferably forms a wall, and preferably is cured. A pixel is formed by this pattern, and this pixel is preferably a cell structure that can operate as an element controlled by a TFT.
Therefore, the structure (plastic structure) formed by curing the first pattern is preferably a structure having pixels.
The first pattern formed by curing is preferably formed so as to surround the pixel electrode portion of the TFT substrate. Thereby, a cell structure of a display using TFT can be formed, and the plastic structure of the present invention can be used as a cell structure for display. Such a cell structure can be used as a display device including a TFT element.

本発明のプラスチック構造体は、基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら（好ましくは接触面積を維持させながら）、所定位置まで基板と形状転写型とを離間させて硬化性樹脂を硬化させることによって得られる。このようなプラスチック構造体は、第１のパターンを、液状樹脂を用いて基板１上に大まか（大略的）に形成し、第２のパターンを有する形状転写型を接触させて基板１の厚さ方向にパターンを伸長させて形成することにより、第２のパターンの離間方向に成長した後に液状樹脂を紫外線硬化または熱硬化の少なくともいずれかの硬化方法により硬化させて第２のパターンである形状転写型の精密な形状に沿って硬化する。これによって、転写型に形成された精密なパターンに依存した周期パターンを基板１上に容易に形成することができる。また第１のパターンは様々な方法により形成することができ、産業上の点から例えばコスト的にも有利であり、あるいは地球規模の点からいっても、有利な製造方法を提供するとともに、簡便な方法により形成できるため、特別なスキルを習得することなく、容易に製造可能である。また本発明の製造方法により、底部よりも上部が引き伸ばされることによって細い形状となるようなプラスチック構造体を形成可能である。   In the plastic structure of the present invention, the substrate and the shape transfer mold are brought to a predetermined position while the shape transfer mold is brought into contact with the curable resin provided on the substrate (preferably while maintaining the contact area). It is obtained by separating and curing the curable resin. In such a plastic structure, the first pattern is roughly (generally) formed on the substrate 1 using a liquid resin, and the thickness of the substrate 1 is brought into contact with the shape transfer mold having the second pattern. By extending the pattern in the direction, the liquid pattern is cured in at least one of ultraviolet curing and thermal curing after growing in the separation direction of the second pattern, and the shape transfer as the second pattern Cures along the precise shape of the mold. Thus, a periodic pattern depending on the precise pattern formed on the transfer mold can be easily formed on the substrate 1. In addition, the first pattern can be formed by various methods, which is advantageous from an industrial point of view, for example, in terms of cost, or from the point of view of the global scale. Since it can be formed by a simple method, it can be easily manufactured without acquiring special skills. In addition, the manufacturing method of the present invention can form a plastic structure that has a thin shape when the upper part is extended beyond the bottom part.

本発明のプラスチック構造体の製造方法例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the example of the manufacturing method of the plastic structure of this invention. 本発明のプラスチック構造体を製造するのに使用される第２のパターンを有する形状転写型の製造例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacture example of the shape transfer type | mold which has a 2nd pattern used in manufacturing the plastic structure of this invention. 本発明のプラスチック構造体の製造方法例を説明するための第２の図である。It is a 2nd figure for demonstrating the example of the manufacturing method of the plastic structure of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ 第１のパターンが形成された基板
２ 形状転写型（第２のパターンを有する型）
１１ 第１パターン
１２、２１ 基板
２２ 第２パターン（凸部）
３１ 基板（裸基板）
３２ マスクホルダ
３３ ステージ（支持台）
３４ 顕微鏡 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate in which a first pattern is formed 2 Shape transfer mold (mold having a second pattern)
11 1st pattern 12, 21 Substrate 22 2nd pattern (convex part)
31 Substrate (bare substrate)
32 Mask holder 33 Stage (support)
34 Microscope

Claims (18)

基板上に液状の硬化性樹脂により第１のパターンを形成する工程と、
第２のパターンを有する形状転写型で前記第１のパターンを前記基板の厚さ方向に伸長させるように変形させる工程と、
前記変形された第１のパターンをその状態を維持しながら前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化した第１のパターンと、第２パターンとを離型する工程と、
を含むことを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。 Forming a first pattern with a liquid curable resin on a substrate;
Transforming the first pattern with a shape transfer mold having a second pattern so as to extend in the thickness direction of the substrate;
Curing the curable resin while maintaining the state of the deformed first pattern;
Releasing the cured first pattern and the second pattern;
The manufacturing method of the plastic structure characterized by including. 前記第１のパターンを変形させる工程は、前記第１のパターンに前記第２のパターンを有する形状転写型を接触させる工程と、前記第１のパターンと前記形状転写型とを接触させながら前記基板と前記第２のパターンとを前記基板に略平行に離間させて前記第１のパターンを前記第２のパターンの離間動作に追随させながら変形する工程とを含むことを特徴とする請求項１に記載のプラスチック構造体の製造方法。   The step of deforming the first pattern includes contacting the shape transfer mold having the second pattern with the first pattern, and contacting the substrate while bringing the first pattern and the shape transfer mold into contact with each other. The method further comprises a step of deforming the first pattern by following the separating operation of the second pattern by separating the first pattern and the second pattern substantially parallel to the substrate. The manufacturing method of the plastic structure of description. 前記変形工程は、前記第１のパターンが前記第２のパターンと接触していない空気接触部分は連続した面が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラスチック構造体の製造方法。   3. The plastic structure according to claim 1, wherein in the deformation step, a continuous surface is formed in an air contact portion where the first pattern is not in contact with the second pattern. Production method. 前記第１のパターンと前記第２のパターンは、前記第１のパターンを変形させる工程中は、接触面積が略一定であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。   The plastic structure according to claim 1, wherein the first pattern and the second pattern have a substantially constant contact area during the step of deforming the first pattern. Body manufacturing method. 前記第２のパターンを有する形状転写型の前記第１のパターンと接触するパターン部位は突起状部を複数有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。   5. The plastic structure according to claim 1, wherein the pattern portion that contacts the first pattern of the shape transfer mold having the second pattern has a plurality of protrusions. Manufacturing method. 前記突起状部は、前記第１のパターンと同周期に形成され、かつ前記突起状部の前記第１のパターンと接触する部の幅が前記第１のパターンの幅より小さいことを特徴とする請求項５に記載のプラスチック構造体の製造方法。   The protruding portion is formed in the same cycle as the first pattern, and a width of a portion of the protruding portion that contacts the first pattern is smaller than a width of the first pattern. The method for producing a plastic structure according to claim 5. 前記硬化性樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method for producing a plastic structure according to claim 1, wherein the curable resin is an ultraviolet curable resin. 前記第１のパターンの形成は、インクジェット装置を用いて形成することを特徴とする請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method for manufacturing a plastic structure according to claim 7, wherein the first pattern is formed by using an ink jet apparatus. 前記第１のパターンの形成は、スクリーン印刷により形成することを特徴とする請求項７に記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method of manufacturing a plastic structure according to claim 7, wherein the first pattern is formed by screen printing. 前記第２のパターンを有する形状転写型は、第２のパターンのパターン部位より高さの高いストッパ部を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method for producing a plastic structure according to claim 1, wherein the shape transfer mold having the second pattern has a stopper portion whose height is higher than the pattern portion of the second pattern. . 前記第２のパターンを有する形状転写型のストッパ部の高さは、前記第２のパターンの突起高さと、前記第１のパターンの高さとの和よりも小さいことを特徴とする請求項１０に記載のプラスチック構造体の製造方法。   11. The height of the shape transfer type stopper having the second pattern is smaller than the sum of the protrusion height of the second pattern and the height of the first pattern. The manufacturing method of the plastic structure of description. 前記第１のパターンを形成する基板はＴＦＴを有する基板であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method for producing a plastic structure according to claim 1, wherein the substrate on which the first pattern is formed is a substrate having TFTs. 前記第１のパターンは、前記ＴＦＴ基板の画素電極部を囲むことを特徴とする請求項１２に記載のプラスチック構造体の製造方法。   13. The method of manufacturing a plastic structure according to claim 12, wherein the first pattern surrounds a pixel electrode portion of the TFT substrate. 基板上に設けられた硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させることを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。   A plastic structure characterized in that after the shape transfer mold is brought into contact with the curable resin provided on the substrate, the curable resin is cured by separating the substrate and the shape transfer mold up to a predetermined position. Body manufacturing method. 基板上の硬化性樹脂に形状転写型を接触させた後に接触させながら所定位置まで前記基板と前記形状転写型とを離間させて前記硬化性樹脂を硬化させて画素の隔壁を形成することを特徴とするプラスチック構造体の製造方法。   The shape transfer mold is brought into contact with the curable resin on the substrate, and then the substrate and the shape transfer mold are separated to a predetermined position while being brought into contact with each other to cure the curable resin to form pixel partition walls. A method for producing a plastic structure. 前記硬化は紫外線照射により行うことを特徴とする請求項１４または１５に記載のプラスチック構造体の製造方法。   The method for producing a plastic structure according to claim 14 or 15, wherein the curing is performed by ultraviolet irradiation. 請求項1〜１６のいずれかに記載のプラスチック構造体の製造方法を用いて形成されたプラスチック構造体。   The plastic structure formed using the manufacturing method of the plastic structure in any one of Claims 1-16. 請求項１７に記載のプラスチック構造体を有することを特徴とするディスプレイデバイス。   A display device comprising the plastic structure according to claim 17.
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