JP2009029946A - ガスハイドレートの濃度測定方法およびその装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】原料ガスと原料水とを気液接触させてガスハイドレートを製造する製造装置において、生成されるガスハイドレートの濃度をインラインでかつその場で計測することを特徴とするガスハイドレートの製造装置におけるハイドレート濃度測定装置を提供する。
【解決手段】所定の圧力と温度を保持している生成器1に原料ガスG1と原料水W1とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管L2にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計K1を設けた。
【選択図】図1
【解決手段】所定の圧力と温度を保持している生成器1に原料ガスG1と原料水W1とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管L2にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計K1を設けた。
【選択図】図1
Description
本発明は、ガスハイドレートの製造装置におけるガスハイドレート濃度測定装置、より詳しくは、メタン等の原料ガスと原料水とを所定の圧力と温度で反応させてガスハイドレートと未反応の水とよりなるスラリーを生成するガスハイドレート製造装置において、前記スラリー中のガスハイドレートの濃度を測定することを特徴とするガスハイドレートの製造装置におけるガスハイドレート濃度測定装置に関するものである。
近年、クリーンなエネルギー源として、メタン等を主成分とする天然ガスが注目されている。そして、このような天然ガスを効率よく輸送し又は貯蔵するためこの天然ガスと原料水とを反応させてガスハイドレートを製造することが知られている。
ガスハイドレートの製造方法としては、原料水中に原料ガスを吹き込みながら攪拌する気液攪拌方式(例えば、特許文献1)と、原料ガス中に原料水を噴霧する水スプレー方式(例えば、特許文献2)がある。これら気液攪拌方式や水スプレー方式により生成したガスハイドレートは、粉末状であり、かつ未反応の水と混合したスラリーとして生成される。さらに好ましくは、このスラリーを後流側に配置された脱水装置で未反応水とガスハイドレートとを分離して比較的含水率の低いガスハイドレートが製造される。
このようなガスハイドレート製造装置においては、スラリー中のガスハイドレートの濃度を知ることは装置の運転状態を把握する上で重要である。そして、スラリー中のガスハイドレートの濃度を測定する方法として、通常、作業者がスラリーの一部をサンプリング管等で取り出し、このサンプルを分析することが行われている。
他方、特許文献3には、液の導電率を測定することにより炭酸ガスハイドレートの生成状態を把握することができると記載されている。
特開2000−302701号公報
特開2000−264852号公報
特開2002−273205号公報
ところで、前述のガスハイドレートをサンプリングしてその濃度を測定する方法は、非連続的なバッチ操作であり、かつオフライン計測であり、さらに、ガスハイドレート濃度の測定結果を得るためには長時間(例えば、1〜2時間)が必要になっていた。また、手作業を伴うためガスハイドレート濃度の測定値にばらつきが生じるおそれがあった。
一方、特許文献3の方法によれば、導電率により炭酸ガスハイドレートの生成を検知することはできるが、ガスハイドレートの濃度を定量するための具体的な方法は開示されていないことから、濃度の定量は困難であると予想される。
本発明は、前記したような従来の問題点を解決するためになされたものであって、次のように構成されている。
1)所定の圧力と温度を保持している生成器に原料ガスと原料水とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする。
2)前記スラリー管の一部を小径管に絞り、該小径管部にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする。
3)前記スラリー管にスクリューポンプを配置し、該スクリューポンプの吐出側にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする。
4)前記スラリー管の一部を略垂直に形成した立ち上がり部を設け、該立ち上がり部にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする。
5)前記濃度計の計測したガスハイドレートの濃度の信号により前記生成器内の圧力又は温度の少なくとも何れか一方を制御することを特徴とする。
6)前記濃度計が近赤外線分光分析計であることを特徴とする。
(a)スラリーのサンプルを静置した状態で測定するとハイドレートスラリー中のハイドレートと未反応水とが分離してしまうのに対し、本発明はスラリー管の中を移送されるスラリーの濃度を直接測定するので、正確なハイドレート濃度を連続的かつリアルタイムに直接計測することができる。
(b)濃度計によりスラリーの濃度を連続して計測することができる上に、その計測された計測値はリアルタイムに把握されるので、下流側の工程における運転条件等を予め設定でき、運転効率が向上する。しかも、運転条件等を予め設定することで、均一な品質のガスハイドレート製品(例えば、圧縮成型されたペレット等)を安定的に生産することができる。
(c)スラリー管に絞り部を設け、この絞り部に濃度計を取り付けたため、この絞り部でのスラリーの混合がより一層促進されることとなる。そのため、スラリー中のガスハイドレートはより一層均一に分布することとなり、その結果、一層正確にガスハイドレートの濃度を測定することができる。
(d)スラリー管の一部にスラリーポンプを配置し、このスラリーポンプの吐出側に濃度計を取り付けたため、該スラリーポンプにより積極的にスラリーが攪拌混合される。そのため、スラリー中のガスハイドレートはよりさらに一層均一に分布することとなる。従って、より一層正確なガスハイドケート濃度を測定することが出来る。
(e)スラリー管に垂直部を設け、この垂直部に濃度計を取り付けたため、この垂直部を流れるスラリーは、未反応水との分離が抑制される。その結果、正確にガスハイドレートの濃度を測定することができる。
(f)スラリー中のガスハイドレート濃度をリアルタイムにその場測定することができるので、計測された濃度信号により生成器内の圧力や温度の少なくとも一方を制御することができ、生成器の運転を自動化することができる。結果、ガスハイドレートの製造効率が向上する。
(g)濃度計として近赤外線分光分析計を用いたので、ガスハイドレートの濃度測定が迅速かつ正確になされる。従って、生成器の安定した運転と効率的なガスハイドレートの製造が可能になる。
以下、図1乃至図5に基づき本発明によるガスハイドレート製造装置におけるガスハイドレート濃度測定装置の実施態様について説明する。
(実施例1)
図1は、本発明に係るガスハイドレートの濃度測定装置を備えたガスハイドレート製造装置の概略構成図である。この図1に示すようなガスハイドレート製造装置は、気液攪拌方式によるガスハイドレートの生成器1が用いられている。この生成器1は、耐圧容器5と、この耐圧容器5内の原料水を冷却する熱交換器7、耐圧容器5の内部に配置された攪拌翼6a及びガス噴出管9(スパージャ)と、攪拌翼6aが設けられた軸6bを回転させる電動機等の駆動機M1とより構成されている。
図1は、本発明に係るガスハイドレートの濃度測定装置を備えたガスハイドレート製造装置の概略構成図である。この図1に示すようなガスハイドレート製造装置は、気液攪拌方式によるガスハイドレートの生成器1が用いられている。この生成器1は、耐圧容器5と、この耐圧容器5内の原料水を冷却する熱交換器7、耐圧容器5の内部に配置された攪拌翼6a及びガス噴出管9(スパージャ)と、攪拌翼6aが設けられた軸6bを回転させる電動機等の駆動機M1とより構成されている。
また、前記生成器1には、メタン等の原料ガスG1を導入するガス供給ラインL5と、原料水W1を導入する水供給ラインL6と、ガス循環ブロワB1を有する原料ガスG1のガス循環ラインL1と、熱交換器7を有するブライン循環ラインL10と、後述する脱水塔2にそれぞれ一端が接続されたスラリーラインL2及び未反応の水W2の戻しラインL3がそれぞれ接続されている。前記スラリーラインL2にはスラリーポンプP1が設けられており、戻しラインL3にはポンプP2が設けられている。さらにスラリーラインL2にはスラリー循環ラインL2Rが設けられている。
また、前記スラリーラインL2には、インライン計測形濃度計K1が取り付けられ、図3に示すように、濃度計K1の計測した濃度の信号V1は、演算装置40に入力されるようになっている。演算装置40は、演算器41と記憶装置43と比較器42より構成され、44は表示器、45は出力部、46は制御信号送信器であり、この制御器により作成された信号V5により攪拌機6の駆動装置M1の回転速度やスラリー循環量を調整するようになっている。
前記濃度計K1は近赤外線分光分析装置であり、例えば、防爆等級がExd IIB T4以上の耐圧防爆構造のものを使用し、メタンガス等の爆発性ガスを原料ガスとして使用するガスハイドレートの製造装置において安全に使用できるようになっている。また、ガスハイドレートに波長の異なる少なくとも2つの光線を照射し、ガスハイドレートからの反射光を検出器に集光してこのガスハイドレートに含まれる未反応水の濃度に応じた赤外線の吸収量から含水量を計測している。よって、応答性がよく、計測時間が非常に短いという特徴がある。
この濃度計K1で計測されたガスハイドレートスラリーSに含まれるガスハイドレートh1の濃度は信号V1として出力され、この信号V1が演算装置40を構成する演算器41に入力されここでその濃度d1が求められるようになっている。そして、この濃度d1は、比較器42に入力され、記憶装置43に予め入力されている所定の濃度d2と比較され、必要に応じてその結果が表示器44や出力部45に出力されるようになっている。また、前記比較器42から出力された信号V4が制御信号送信器46に入力され、この信号V4に基づいて生成器1の駆動機M1を制御する制御信号V5が制御信号送信器46より出力されるようになっている。
前記脱水塔2は、筒状本体11で構成され、上部に排水孔11aが設けられるとともにこの排水孔11aを覆いかつ筒状本体11の周囲に排水室12が形成されている。そして、この脱水塔2には、前記したスラリーラインL2と未反応の水W2の戻しラインL3と、ガスハイドレートh1の取り出しラインL4とが接続されると共に、排水室12に排気管L7が取り付けられている。
前記排気管L7から排水室12内のガスG2を排気ラインL7より排気するようになっており、この排水室12内の圧力A2は、脱水塔2内の圧力A1より低くなっている。そのため、排水孔11aより未反応水W2が排水室12側から吸引されて効率よく排水されるようになっている。
脱水塔2にて脱水されたガスハイドレートh2は、ホッパー22内にスクリュー式移送装置21を備えた一対の成型ロール23a,23bからなる圧縮成型機3に供給されるようになっており、この成型機3において、成型ロール23a,23bの表面に形成された成型凹部(図示せず)にガスハイドレートh2が充填され、このロール23a,23bの回転と共に圧縮されてペレット状に成型されるようになっている。このようにして成型されたガスハイドレートペレットh3は、図示しない貯槽に移送され、貯蔵されるようになっている。
このように構成されたガスハイドレート製造装置において、所定の温度と圧力、例えば、圧力が3〜10MPa、温度が0〜10℃の範囲から選択された所定の圧力A1と温度T1が保持されている生成器1の耐圧容器5内にガス供給ラインL5から原料ガスG1と、水供給ラインL6から原料水W1とがそれぞれ導入される。そして、原料ガスG1は、ガス循環ブロワB1によりガス循環ラインL1を経てスパージャ9に供給され、ここから原料水W1中に噴出され駆動機M1により回転される攪拌翼6aにより攪拌されてガスハイドレートと未反応の水W2とよりなるスラリーS1(混合ハイドレート)が生成される。
このガスハイドレートの生成工程において発生する反応熱は、ブライン循環ラインL10に設けられた熱交換器7により除去され、耐圧容器5内は選択された所定の温度T1に保持されている。
このようにして生成されたスラリーSは、スラリーポンプP1によりスラリーラインL2を経て脱水塔2に供給され、この脱水塔2内を上昇する過程において排水孔11aで未反応の水W2が排水されてガスハイドレート含有率が高められたガスハイドレートh2が生成される。
このスラリーラインL2は、図2に示す如く、ラインL2が絞られて小径管4が形成され、更に、この小径管4には前述のガスハイドレートh1の濃度を計測する濃度計K1が備えられている。
前記スラリーラインL2において、小径管4内のスラリーSの流速が通常の管の箇所の2〜5倍程度となるように両管の内径比を設定するのが好ましい。但し、生産量が多く移送速度が速い場合や生産量が少なくて移送速度が遅い場合などもあるので、これに限定されるものではない。また、図示しない流速計を小径管4に設け、所定の範囲の流速となるように管理することもできる。
そして、この小径管4により、スラリーS中のガスハイドレートh1と未反応水w2とがその比重差により分離することが防止されていると共に、高速で試料が濃度計K1の計測プローブ部を通過するので、平均的な濃度を計測することができるのである。
つまり、下流側の装置(例えば、脱水塔)の処理速度が比較的穏やかな場合、スラリーSの移送速度は低速となり、濃度計K1の計測するガスハイドレートh1の濃度が部分的となりやすいが、管路を縮小することで流速を高速としたので、より平均的な濃度を測定することができるようになり、計測誤差が小さくなるのである。
そして、この濃度計K1からの信号V1が制御装置40を構成する演算器41に入力され、スラリーS1中のガスハイドレートh1の濃度d1が求められる。この濃度d1の信号V2が比較器42に入力され、記憶装置43に予め記憶させた所定の濃度d2の信号V3と比較される。前記濃度d1(計測値)が所定の濃度d2(設定値)の範囲を外れたときに制御信号作成器46に信号V4が入力され、ここで制御信号V5が作成される。この制御信号V5により生成器1の駆動機M1の回転数が制御される。
すなわち、計測された濃度d1が設定濃度d2より高いときは、生成器1内の攪拌速度を速くするのである。計測された濃度d1が設定濃度d2より低いときは、前記と逆の制御が行われる。
本実施例により、スラリーラインL2の配管の上部、中央、下部とで僅かなガスハイドレート濃度の偏りが生じた場合であっても、絞り部(小径管)において流速を急速に上昇させてスラリー液を混合させているので、スラリー管に濃度計を設けた場合よりも正確にガスハイドレート濃度を計測することができる。
本実施例においては、生成器1を気液攪拌方式によりガスハイドレートを製造する場合を示したが、もちろんこの生成器1は、水スプレー方式によりガスハイドレートを製造する場合にも適用できる。
また、本実施例においては生成器の攪拌速度のみを調整したがこれに限定されるものではない。例えば、測定した濃度d1が設定した濃度d2より高いとき(測定された含水量が設定よりも低いとき)は、脱水塔2内に供給されるスラリーSの供給量を多くするか、又は排水室12内の圧力A2を高めて脱水塔2内の圧力A1との圧力差を小さくしたり、或いは生成器1内の温度を低下させるような制御を行ってもよい。
(実施例2)
本実施例は、スラリーラインL2に設けられているスラリーポンプP1を図3に示すようなスクリューポンプとしたことを特徴としている。
本実施例は、スラリーラインL2に設けられているスラリーポンプP1を図3に示すようなスクリューポンプとしたことを特徴としている。
本実施例においても前記実施例1同様に図1に示すようなガスハイドレート製造装置に適用されるものであり、前記実施例と同じ符号は同じ部材を示し、説明を省略する。
図4に示すように、スラリーラインL2にスクリューポンプ8が設けられており、このスクリューポンプ8の吐出口に濃度計K1が設置されている。
このスクリューポンプ8は、スクリュー羽根8aによりガスハイドレートスラリーSを攪拌・混合しながら圧送するようになっており、吐出されるスラリーSのハイドレートh1の濃度分布が均一となっている。
本実施例において、濃度計K1の測定プローブは、スラリーポンプP1の吐出口近傍に配置することが望ましい。すなわち、スクリューにより攪拌・混合作用を受けて均一に混合されたガスハイドレートスラリーS中のハイドレートh1と未反応水w2とはその比重差により分離しやすいからである。
本実施例により、ガスハイドレートスラリーSのガスハイドレートh1と未反応水w2とが均一に混合されるので、濃度計K1により計測される濃度がより正確なものとなる。従って、より厳密な運転条件の制御が可能となり、さらに一定の品質のガスハイドレートを安定的に生産することができるようになる。
(実施例3)
本実施例は、スラリーS中のガスハイドレートh1と未反応水w2との比重差により、該ハイドレートh1と水w2とに分離することを防止するためのものであって、スラリーラインL2の配管の一部を立ち上がらせたことに特徴とするものである。
本実施例は、スラリーS中のガスハイドレートh1と未反応水w2との比重差により、該ハイドレートh1と水w2とに分離することを防止するためのものであって、スラリーラインL2の配管の一部を立ち上がらせたことに特徴とするものである。
前記実施例と同様のガスハイドレート製造装置に適用されるものであり、同一符号については説明を省略する。
図5に示すように、スラリーラインL2の一部を垂直管L2bとし、この垂直管L2b内を下方から上方にスラリーSが所定の流速で流れるようになっている。そして、この垂直管L2bに濃度計K1が設けられており、ガスハイドレートスラリーS中のガスハイドレートh1濃度を計測するようになっている。
本実施例により、簡単な構造により、ガスハイドレートh1が浮上して未反応水w2と分離することが防止される。また、前記実施例同様に濃度計K1の計測した濃度d1の信号V1に基づいて生成器1の攪拌速度や脱水塔2の排水室12と円筒状本体11との差圧等が自動的に調整され、安定的に一定の品質のガスハイドレートが製造されるようになっている。
K1 濃度計
1 生成装置
2 脱水装置
3 成形装置
4 小径管
5 耐圧容器
6 攪拌機
6a 攪拌翼
6b 軸
7 熱交換器
8 スクリューポンプ
9 スパージャ
11 筒状本体
11a 排水孔
12 排水室
15 スクリューコンベア
17 攪拌装置
17a 攪拌翼
17b 回転軸
21a スクリュー翼
21b 軸
22 ホッパー
23a,23b 成型ロール
L2b 垂直管
V1,V2,V3,V4,V5 信号
1 生成装置
2 脱水装置
3 成形装置
4 小径管
5 耐圧容器
6 攪拌機
6a 攪拌翼
6b 軸
7 熱交換器
8 スクリューポンプ
9 スパージャ
11 筒状本体
11a 排水孔
12 排水室
15 スクリューコンベア
17 攪拌装置
17a 攪拌翼
17b 回転軸
21a スクリュー翼
21b 軸
22 ホッパー
23a,23b 成型ロール
L2b 垂直管
V1,V2,V3,V4,V5 信号
Claims (6)
- 所定の圧力と温度を保持している生成器に原料ガスと原料水とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、
前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とするガスハイドレートの製造装置。 - 前記スラリー管の一部を小径管に絞り、該小径管部にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造装置。
- 前記スラリー管にスクリューポンプを配置し、該スクリューポンプの吐出側にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造装置。
- 前記スラリー管の一部を略垂直に形成した立ち上がり部を設け、該立ち上がり部にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造装置。
- 前記濃度計の計測したガスハイドレートの濃度の信号により前記生成器内の圧力又は温度の少なくとも何れか一方を制御することを特徴とする請求項1乃至4記載のガスハイドレートの製造装置。
- 前記濃度計が近赤外線分光分析計であることを特徴とする請求項1乃至5記載のガスハイドレートの製造装置。
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