JP2008515230A - レーザ出力光パルスビームパラメータ遷移補正システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】休止時間によって分離され、レーザ出力光パルスビームを形成する、選択されたパルス繰返し数でのパルスのバーストのレーザ出力光パルスを生成するための装置及び方法。これは、ビームパラメータとビームパラメータに対する選択目標値との間の差を表すビームパラメータ誤差信号を供給するレーザ出力光パルスビームパラメータ誤差検出器と、ビームパラメータ調節機構と、ビームパラメータ誤差信号の値に基づいてビームパラメータ調節信号をビームパラメータ調節機構に供給するビームパラメータ調節機構コントローラと、ビームパラメータ誤差信号の値に基づいてビームパラメータ調節信号を修正する低速遷移反転信号を供給する低速遷移補償器とを含むことができるレーザ出力光パルスビームパラメータ調節システムを含むことができる。この装置及び方法は、ビームパラメータ誤差信号の値から判断された正規化ビームパラメータ誤差信号を供給するビームパラメータ誤差スケーリング機構を更に含むことができ、ビームパラメータ調節機構コントローラと低速遷移コントローラは、それぞれ、正規化ビームパラメータ誤差信号に基づいてビームパラメータ調節信号と低速遷移反転信号とを供給する。ビームパラメータ調節機構コントローラは、平均実波長誤差又は実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいてビームパラメータ調節信号を供給することができる。
【選択図】図4
Description
エキシマレーザによって生成されたパルスのバースト内のパルスエネルギと集積エネルギ線量とを制御する方法。各バースト内の各パルスのエネルギを測定する。充電電圧によるパルスエネルギの変化率を判断する。パルスエネルギ誤差を現在のバーストの前のパルスに対して判断する。また、現在のバースト内の全ての以前のパルスに対して集積線量誤差を判断する。パルスエネルギ誤差、集積線量誤差、充電電圧によるエネルギの変化率、及び基準電圧を用いて次のパルスの充電電圧を判断する。好ましい実施形態では、各バーストの2つのパルス中に1回は低く及び1回は高く電圧をディザすることによって電圧によるエネルギの変化率を判断する。基準電圧は、以前のエネルギ及び電圧データを用いて計算した電圧である。この実施形態では、パルスの第1の部分中の基準電圧を判断する方法は、バーストの後の部分中に用いる方法と異なる。パルスの第1の組(この実施形態では、40)中に、各パルスに対して、前回のバーストにおける対応するパルスからの電圧及びエネルギデータを用いて計算した指定電圧は、目標パルスエネルギに収束するパルスエネルギを生成するのに必要とされる電圧の予測値として利用される。41及びそれ以降のパルスに対しては、各パルスの基準電圧は、前回パルスに対して指定された電圧である。
バーストモード作動中に望ましい限界値内にレーザガス温度を維持する高速応答ガス温度制御を備えたガス放電レーザ。好ましい実施形態は、受動的温度安定化装置を含む...。好ましい実施形態は、加熱要素及び冷却水流量制御を利用し、休止期間を予測するようにプログラムされたプロセッサを使用してレーザガス温度を調整する。
高繰返し数での波長チャープを最小にするためのガス放電レーザにおける方法及び構造的変化。本出願人は、高パルス繰返し数ガス放電リソグラフィレーザにおける波長チャープの主な原因を、その後の放電と一致する放電領域に反射して戻された放電からの圧力波として特定した。...バーストモード作動中、レーザガス温度...は、数ミリ秒の期間にわたって...変化し、放電領域内のパルス間の一致する圧力波の位置を...変え、レーザガスの圧力の変動を引き起こし、これは、次に、レーザの後部を出るレーザビームに若干方向を変えさせる放電領域の屈折係数に影響を与える。ビーム方向のこの変化により、LNP内の回折格子が...若干異なる波長を反射して戻し、波長チャープを引き起こす。この問題の解決法は、レーザ室内に構造的要素を含んで圧力波を抑えるか又は分散させてレーザガス温度をできるだけ一定の値に近く維持することである。
少なくとも1つの圧電駆動装置と高速波長検出手段と、...1.0ミリ秒未満のフィードバック応答時間とを含む高速チャープ補正を備えた放電レーザ...。好ましい実施形態では、単純な学習アルゴリズムは、...既習チャープパターンの予想における事前の同調ミラー調節を可能にする。技術には、比較的低回転数のステッパモータと超高速圧電駆動装置の組合せが含まれる。別の好ましい実施形態では、チャープ補正は、パルス間ベースで行われ、1つのパルスの波長が測定され、次のパルスの波長は、その測定結果に基づいて補正される。
高速波長補正を備えた放電レーザ。...技術には、同調ミラーを使用してレーザ波長を同調させる比較的低回転数のステッパモータと超高速圧電制御装置との組合せが含まれる。低速及び中速の波長制御を提供するための好ましい制御技術(超高速波長モニタを利用する)と、超高速(数マイクロ秒)の波長制御を提供するための圧電駆動装置と組み合わせた圧電ロードセルとが説明されている。
約4,000Hz又はそれよりも高いパルス繰返し数かつ約5mJ又はそれよりも大きいパルスエネルギで高品質パルスレーザビームを生成することができる注入シードモジュール式ガス放電レーザシステム。2つの別々の放電チャンバが設けられ、その一方は、第2の放電チャンバにおいて増幅される超狭帯域シードビームを生成する主発振器の一部である。2つの放電チャンバを別々に制御することができ、主発振器における波長パラメータの別々の最適化と、増幅チャンバにおけるパルスエネルギパラメータの最適化とを可能にする。MOPAとして構成され、かつ集積回路リソグラフィの光源として使用されるように特別に設計されたArFエキシマレーザシステムにおける好ましい実施形態。好ましいMOPA実施形態では、各チャンバは、パルス間で約0.25ミリ秒よりも短い時間で放電領域からデブリを除去することによって4000Hz又はそれよりも高いパルス繰返し数での作動を可能にするのに十分なガス流量をもたらす単一の接線ファンを含む。主発振器には、4000Hz又はそれよりも高い繰返し数及びパルス間ベースで中心線波長を0.2pm未満の精度まで制御することができる超高速同調ミラーを有する線狭化パッケージが装備される。
モジュール式高繰返し数2放電チャンバ紫外線ガス放電レーザのための制御システム...主発振器は、第2の放電チャンバにおいて増幅される超狭帯域シードビームを生成する。バーストモード作動においてさえも、約20億から50億分の1秒の範囲の精度で2チャンバにおける放電の相対的タイミングを制御するフィードバックタイミング制御技術が提供される。
約4,000Hz又はそれよりも高いパルス繰返し数かつ約5mJ又はそれよりも大きいパルスエネルギで高品質パルスレーザビームを生成することができる注入シードモジュール式ガス放電レーザシステム。2つの別々の放電チャンバが設けられ、その一方は、第2の放電チャンバにおいて増幅される超狭帯域シードビームを生成する主発振器の一部である。2つの放電チャンバを別々に制御することができ、主発振器における波長パラメータの別々の最適化と、増幅チャンバにおけるパルスエネルギパラメータの最適化とを可能にする。
高速波長補正を備えた放電レーザ。高速波長補正機器は、少なくとも1つの圧電駆動装置、高速波長測定システム、及び高速フィードバック応答時間を含む。...好ましい実施形態は、(1)波長測定に基づく高速フィードバック制御、(2)高速振動制御、(3)ロードセル及び能動減衰モジュールを用いた能動減衰、(4)履歴バーストデータに基づいてフィードフォワードアルゴリズムを使用する遷移反転を提供する。好ましい実施形態は、フィードフォワードアルゴリズムを現在の条件に適応させる。別の好ましい実施形態は、同調ミラー位置を測定して波長事前同調及び能動的波長同調を可能にする。
波長計からのフィードバック信号を用いたパルスエネルギ、波長、及び帯域幅の自動コンピュータ制御を有するスマートレーザ。パルスエネルギは、放電電圧を制御することによって制御される。波長は、線狭化モジュールにおけるRMAXミラーの超微細かつ迅速な位置決めによって制御される。帯域幅は、線狭化モジュールにおける回折格子の曲率を調節することによって制御される。好ましい実施形態は、ビーム拡張プリズムが位置するプリズムプレートの自動調節及びRMAX傾斜の自動調節による水平及び垂直ビームプロフィールの自動フィードバック制御を含む。他の好ましい実施形態は、共振空洞内のレーザチャンバの水平位置の自動調節を含む。好ましい実施形態では、波長モニタからのフィードバック信号は、RMAXミラーを位置決めするのに使用される。他の好ましい実施形態では、RMAXミラーからフォトダイオードアレイ上に反射した別々のレーザビームが、ミラーを位置決めするのに使用される。
能動チャープ補正を備えた放電レーザ。本出願は、...圧力波を抑えて分配する技術を開示する。一部のレーザにおいては、小さな予測可能なパターンが残り、これは、従来技術の比較的低速の波長制御計器を使用する能動波長制御で実質的に補正することができる。好ましい実施形態では、既習チャープパターンを予想して事前同調ミラー調節を可能にする単純な学習アルゴリズムが説明される。実施形態は、同調精度を増すために同調段階の大きさが大幅に低減されるように非常に細かい調節を有するステッパモータを含む。しかし、波長チャープを完全に排除することは、レーザチャンバの構造的な変化及び事前同調では通常は実行可能ではなく、従って、本出願人は、比較的低回転数のステッパモータと超高速圧電駆動装置の組合せを含む...超高速能動チャープ補正のための機器及び技術を開発した。別の好ましい実施形態では、チャープ補正は、1つのパルスの波長が測定され、その測定結果に基づいて次のパルスの波長が補正されるパルス間ベースで行われる。
放電レーザの帯域幅制御のための技術。少なくとも1つの圧電駆動装置と、高速帯域幅検出手段と、約1.0ミリ秒未満の時間応答を有する帯域幅制御装置とを有する線狭化機器が提供される。好ましい実施形態では、波長同調ミラーは、ピボット角度の非常に狭い範囲内で500ディザ/秒を超えるディザ速度でディザされ、公称波長値におけるディザを引き起こして一連のレーザパルスの望ましい有効な帯域幅を生成する。
レーザからの波長チャープの特性を学習する学習アルゴリズムと、学習アルゴリズムを実行して既習特性に基づいて波長補正制御信号を供給し、現在の波長チャープとその後の波長チャープの波長シフトのマグニチュードを低減するコンピュータシステムとを含む...波長チャープを補正するためのレーザシステムに対する波長シフト補正システムが提供される。
バーストモードで作動するエキシマ又は分子フッ素レーザシステムに対する波長チャープ補償方法は、バースト間の休止中に調節を行うための共振器同調光学器械調節をレーザシステムのコンピュータに事前プログラムして、続いて起こるバーストの始めに波長チャープを補償する段階を含む。
本出願人は、このような遷移が、通常パルス1又はパルス1近くから開始して全振幅を構築するまで単一バースト内で約100回の発射が必要である可能性があることを発見した。一般的に、本出願人は、このような遷移が、比較的狭い繰返し数帯域内で発生することも発見している。
本出願人は、これらの遷移を適正に処理することができない根本的な原因を更に調べた上で、本出願において、その解決法に関連する本発明の実施形態の態様を提案する。
従って、作動においては、システム20は、各バーストの終わりにパラメータ制御サーボ28をリセットする際に前回バースト中に発生する電圧範囲に対する変更回数に対処する必要がある。
STI[k]=STI[k−1]+gSTI(ε0)+gsteps(nsteps) (1)
に従って更新される。ここで、gSTIは、選択スケーリング利得であり、ε0は、前回パルスk−1におけるパルスn0の記憶波長誤差である。本発明の実施形態の態様によれば、この係数STI[k]にバーストkのスケーリングされた誤差信号30を乗じたものは、パルス毎の加算器42に応答して波長サーボ28の出力と共に合計される。更に、「nstep」係数は、前回バーストにおいて実際にステッパモータによって取られたステップ数に基づくものであり、それは、例えば、実際に実行されたステップ指令に対して前回バースト中のアクチュエータ信号の非飽和を得るためにSTI信号を補正する。
24 コントローラ
30 誤差信号
40 低速遷移反転(STI)補償器
Claims (93)
- 休止時間によって分離され、レーザ出力光パルスビームを形成する、選択されたパルス繰返し数でのパルスのバーストのレーザ出力光パルスを生成するレーザ光源であって、
ビームパラメータと該ビームパラメータに対する選択された目標値との間の差を表すビームパラメータ誤差信号を供給するレーザ出力光パルスビームパラメータ誤差検出器と、
ビームパラメータ調節機構と、
前記ビームパラメータ誤差信号の値に基づいてビームパラメータ調節信号を前記ビームパラメータ調節機構に供給するビームパラメータ調節機構コントローラと、
前記ビームパラメータ誤差信号の前記値に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を修正する低速遷移反転信号を供給する低速遷移補償器と、
を含むレーザ出力光パルスビームパラメータ調節システム、
を含むことを特徴とする光源。 - 前記ビームパラメータ誤差信号の前記値から判断された正規化ビームパラメータ誤差信号を供給するビームパラメータ誤差スケーリング機構、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節機構コントローラ及び前記低速遷移コントローラは、それぞれ、前記正規化ビームパラメータ誤差信号に基づいて前記ビームパラメータ調節信号及び前記低速遷移反転信号を供給する、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項5に記載の装置。 - 前記低速遷移コントローラは、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項6に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項7に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項10に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構、
を更に含むことを特徴とする請求項12に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項7に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項10に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項12に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項13に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項14に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項16に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項17に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項18に記載の装置。 - 休止時間によって分離され、レーザ出力光パルスビームを形成する、選択されたパルス繰返し数でのパルスのバーストのレーザ出力光パルスを生成するレーザ光源であって、
ビームパラメータと該ビームパラメータに対する選択された目標値との間の差を表すビームパラメータ誤差信号を供給するためのレーザ出力光パルスビームパラメータ誤差検出手段と、
ビームパラメータ調節手段と、
前記ビームパラメータ誤差信号の値に基づいてビームパラメータ調節信号を前記ビームパラメータ調節手段に供給するためのビームパラメータ調節手段制御手段と、
前記ビームパラメータ誤差信号の前記値に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を修正する低速遷移反転信号を供給するための低速遷移制御手段と、
を含むレーザ出力光パルスビームパラメータ調節システム、
を含むことを特徴とする光源。 - 前記ビームパラメータ誤差信号の前記値から判断された正規化ビームパラメータ誤差信号を供給するためのビームパラメータ誤差スケーリング手段、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節手段制御手段及び前記低速遷移制御手段は、それぞれ、前記正規化ビームパラメータ誤差信号に基づいて前記ビームパラメータ調節信号及び前記低速遷移反転信号を供給する、
ことを特徴とする請求項31に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節手段制御手段は、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給するための手段を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項31に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節手段制御手段は、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給するための手段を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節手段制御手段は、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給するための手段を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項31に記載の装置。 - 前記ビームパラメータ調節手段制御手段は、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給するための手段を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項31に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項33に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項34に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項35に記載の装置。 - 前記低速遷移制御手段は、前記低速遷移反転信号を供給するための手段を含み、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項36に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項37に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項38に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項39に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項40に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項41に記載の装置。 - バーストの最初に前記ビームパラメータ調節手段への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にして、該ビームパラメータ調節手段がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止するための手段を含むビームパラメータ誤差信号スケジュール作成手段、
を更に含むことを特徴とする請求項42に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項37に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項38に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項39に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項40に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項41に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項42に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項43に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項44に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項45に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項46に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項47に記載の装置。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項48に記載の装置。 - 休止時間によって分離され、レーザ出力光パルスビームを形成する、選択されたパルス繰返し数でのパルスのバーストのレーザ出力光パルスを生成する方法であって、
ビームパラメータと該ビームパラメータに対する選択目標値との間の差を表すビームパラメータ誤差信号を供給するためのレーザ出力光パルスビームパラメータ誤差検出機構を使用する段階と、
ビームパラメータ調節機構を使用する段階と、
ビームパラメータ調節機構制御機構を使用して、前記ビームパラメータ誤差信号の値に基づいてビームパラメータ調節信号を前記ビームパラメータ調節機構に供給する段階と、
低速遷移制御機構を使用して、前記ビームパラメータ誤差信号の前記値に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を修正する低速遷移反転信号を供給する段階と、
を含むレーザ出力光パルスビームパラメータ調節方法を使用する段階、
を含むことを特徴とする方法。 - ビームパラメータ誤差スケーリング機構を使用して、前記ビームパラメータ誤差信号の前記値から判断された正規化ビームパラメータ誤差信号を供給する段階、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節機構制御機構及び前記低速遷移制御機構は、それぞれ、前記正規化ビームパラメータ誤差信号に基づいて前記ビームパラメータ調節信号及び前記低速遷移反転信号を供給する、
ことを特徴とする請求項61に記載の方法。 - 前記ビームパラメータ調節機構制御機構を使用して、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項61に記載の方法。 - 前記ビームパラメータ調節機構制御機構を利用して、平均実波長誤差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項62に記載の方法。 - 前記ビームパラメータ調節機構制御機構を利用して、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項61に記載の方法。 - 前記ビームパラメータ調節機構制御機構を利用して、実波長誤差のウィンドウ標準偏差を最小にする制御機能に基づいて前記ビームパラメータ調節信号を供給する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項62に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項61に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項62に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項63に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項64に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項65に記載の方法。 - 前記低速遷移制御機構は、前記低速遷移反転信号を供給し、該低速遷移反転信号は、前回バーストの終わりに低速遷移反転信号から判断された低速遷移反転定数と、該前回バーストにおける選択パルスに対するビームパラメータ誤差信号を乗じた低速遷移反転利得係数との関数である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項66に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項67に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項68に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項69に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項70に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項71に記載の方法。 - ビームパラメータ誤差信号スケジュール作成機構を利用して、バーストの最初に前記ビームパラメータ調節機構への前記正規化ビームパラメータ誤差信号の入力を無効にし、該ビームパラメータ調節機構がビームパラメータ高速遷移に応答するのを防止する段階、
を更に含むことを特徴とする請求項72に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項67に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項68に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項69に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項70に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項71に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項72に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項73に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項74に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項75に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項76に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項77に記載の方法。 - 前記前回バーストにおける前記選択パルスは、ビームパラメータ高速遷移によって影響されることを回避するために選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項78に記載の方法。 - ビームパラメータ調節機構ステッパ機構と、
所定のバースト内で実行されないステッパ指令を含むステップ指令を供給するビームパラメータ調節機構ステッパ機構制御機構と、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、所定のバーストの終わりに次のバーストで使用するための前記低速遷移反転信号を該所定のバースト内の選択されたパルスに対する該低速遷移反転信号に基づいて更新する、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - ビームパラメータ調節機構ステッパ機構と、
所定のバースト内で実行されないステッパ指令を含むステップ指令を供給するビームパラメータ調節機構ステッパ機構制御機構と、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、所定のバーストの終わりに次のバーストで使用するための前記低速遷移反転信号を、実行されない前記ステッパ指令を差し引いた前記指令されたステップに基づいて更新する、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - ビームパラメータ調節機構ステッパ機構と、
所定のバースト内で実行されないステッパ指令を含むステップ指令を供給するビームパラメータ調節機構ステッパ機構制御機構と、
を更に含み、
前記ビームパラメータ調節機構コントローラは、所定のバーストの終わりに次のバーストで使用するための前記低速遷移反転信号を、実行されない前記ステッパ指令を差し引いた前記指令されたステップに基づいて更新する、
ことを特徴とする請求項92に記載の装置。
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