JP2008507471A - 反応性シリコン亜酸化物フレーク - Google Patents
反応性シリコン亜酸化物フレーク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008507471A JP2008507471A JP2007523062A JP2007523062A JP2008507471A JP 2008507471 A JP2008507471 A JP 2008507471A JP 2007523062 A JP2007523062 A JP 2007523062A JP 2007523062 A JP2007523062 A JP 2007523062A JP 2008507471 A JP2008507471 A JP 2008507471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sio
- flakes
- separating agent
- separating
- depositing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 CC(C)(C=CC=C1)C=C1C(N(C)C(C1=C(C2=CC(C)(*)C=CC=C2)N2*)=O)=C1C2=O Chemical compound CC(C)(C=CC=C1)C=C1C(N(C)C(C1=C(C2=CC(C)(*)C=CC=C2)N2*)=O)=C1C2=O 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/0015—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings
- C09C1/0018—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings uncoated and unlayered plate-like particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0005—Separation of the coating from the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
Description
シリコン亜酸化物(SiOy)とNaClとの層に引き続いて、NaClを、0.5Pa未満の真空下で蒸発器を通して、連続的な金属ベルトであることができるキャリア上へ蒸着させる。
a)表面上に反応中心を有するSiOyフレーク、
b)表面上及び孔の中に反応中心を有する多孔質SiOyフレーク、並びに
c)孔の中にのみ反応中心を有する多孔質SiOyフレーク、
を得る。
b)表面上及び孔の中に反応中心を有する、多孔性SiOyフレーク、並びに
c)孔の中にのみ反応中心を有する、多孔性SiOyフレーク
の生成物の製法を、以下に、より詳細を示す。
表面上に反応中心を有するSiOyを、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着し、分離剤層を得る工程と、
b)分離剤層(a)にSiOyを蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒の溶解で、分離剤層からSiOy(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
を含む方法で得ることができる。
表面上及び孔の中に反応中心を有する多孔性SiOyフレークを、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着し、分離剤層を得る工程と、
b)分離剤層(a)にSiOy及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒に溶解することで、分離剤層からSiOy(ここで0.70≦y≦1.95)を分離する工程と、
を含む方法で得ることができる。
孔の中にのみ反応中心を有する多孔質SiOyフレークを、
a)水へ溶解性がある分離剤をキャリア上へ蒸着させ、分離剤層を形成する工程と、
b)SiOyと不活性有機溶媒に溶けるが水には溶けない有機分離剤とを分離剤層(a)へ同時に蒸着する工程と、
c)水への溶解により、分離剤(a)からのSiOy(ここで0.70≦y≦1.95)の分離する工程と、
d)不活性有機溶媒中の分離剤(b)を溶解する工程と、
を含む方法で得ることができる。
R1OH、R1R2C(=O)、R1R2C(=N−OH)、R1R2NOH、R1R3NH、NHR3C(=O)R2,又はR1C(=O)OH、
(ここで、R1及びR2は、互いに独立して、有機基であり、及びR3は水素又は有機基である)
に例示されているが、しかしこれらに限定されない。
の基であり、
R23及びR24は、互いに独立して式
X1は、−S−、−SO2NH−又は−NH−であり、
X2は、C1〜C18アルキレン基であり、及び
X3は、−OHである;)の基である)であるか、又は
X2は、C1〜C18アルキレンであり、及び
X3は、−OHである)
の基であり、
のWO04/009710で示されるジケトピロロピロールである。
a)キャリア上へ有機分離剤を蒸着し、分離剤層を生成する工程と、
b)分離剤層(a)上へSiOy及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒中の溶解で分離剤層からSiOy(ここで0.70≦y≦1.95)を分離する工程と、
を含む。
真空チャンバー(<10−1Pa)を配置した2つの別個の蒸発器に、それぞれSiO及びテトラフェニルメタン粉末を仕込んだ。アルミ箔を機械的に取付けた回転キャリアを、蒸発器の上に配置した。テトラフェニルメタン層(90nm)は、最初にアルミ箔上に昇華した。次いで、SiO蒸発器を加熱し、そしてテトラフェニルメタンが依然として昇華している間、SiOを昇華しはじめた。このように、テトラフェニルメタン及びSiOは、テトラフェニルメタン層上に同時に昇華した。テトラフェニルメタン及びSiOの同時の蒸着を厚さ300nmに達するまで続けた。昇華が終了し、キャリアのアルミ箔を取り除き、トルエンに浸漬した。SiOマトリックス中に含まれているテトラフェニルメタン層並びにテトラフェニルメタンを、トルエン中で分解し、これによりシリコン酸化物フレークを得た。
実施例1で得られたSiOフレーク1gをトルエン300ml中の式
Claims (12)
- 反応中心を含む、0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特に1.0≦y≦1.8である、SiOyフレーク。
- [SiSi4]成分を含む、請求項1記載のSiOyフレーク。
- SiOyフレークが、非多孔質であり、その表面上に反応中心を有する、請求項1又は2記載のSiOyフレーク。
- SiOyフレークが、多孔質であり、その表面上及びその孔の中又はその孔の中にのみ反応中心を有する、請求項1又は2記載のSiOyフレーク。
- フレークが、1μmから5mmの長さ、1μmから2mmの幅、及び20nmから1.5μmの厚さ、及び少なくとも2:1の長さと厚さの比を有し、2つの実質的に平行な面を有し、この距離が粒子の短軸である、請求項1〜4いずれか1項記載のSiOyフレーク。
- 請求項3記載のSiOyフレークを製造する方法であって、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
b)分離剤層(a)上にSiOyを蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒中での溶解により、分離剤からSiOy(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
を含む方法。 - 請求項4記載のSiOyフレークを製造する方法であって、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
b)分離剤層(a)上にSiOy及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒中での溶解により、分離剤からSiOy(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
を含む方法。 - 水に溶ける分離剤を、工程a)の前にキャリア上に析出させ、及び工程c)の前に水に溶解させる、請求項6又は7記載の方法。
- 請求項4記載のSiOyフレークを製造する方法であって、
a)キャリア上に水に溶ける分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
b)分離剤層(a)上にSiOy及び不活性有機溶媒に溶けるが水には溶けない有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)水への溶解により、分離剤(a)からSiOy(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
d)不活性有機溶媒中で分離剤(b)を溶解する工程と、
を含む方法。 - 請求項6〜9いずれか1項記載の方法で得られる、反応中心を含む0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特には1.0≦y≦1.8であるSiOyフレーク。
- 請求項1〜5又は10記載のSiOyをSi−Si基の開裂ができる官能基を有する化合物と反応させて得ることができる、SiOyフレークに化合物が化学的に結合している生成物。
- 化学的に変性したSiOyフレークを提供するための、請求項1〜5又は10記載のSiOyフレークの使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP04103565 | 2004-07-26 | ||
PCT/EP2005/053428 WO2006010720A2 (en) | 2004-07-26 | 2005-07-18 | Reactive silicon suboxide flakes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008507471A true JP2008507471A (ja) | 2008-03-13 |
JP2008507471A5 JP2008507471A5 (ja) | 2008-09-04 |
Family
ID=34929376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007523062A Pending JP2008507471A (ja) | 2004-07-26 | 2005-07-18 | 反応性シリコン亜酸化物フレーク |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080072794A1 (ja) |
EP (1) | EP1784355A2 (ja) |
JP (1) | JP2008507471A (ja) |
WO (1) | WO2006010720A2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101612104B1 (ko) | 2013-05-16 | 2016-04-14 | 주식회사 엘지화학 | SiO 제조 장치 및 방법 |
CN107313245A (zh) * | 2017-07-25 | 2017-11-03 | 东莞市荣腾纳米科技有限公司 | 一种阻燃型防雾湿巾及其加工方法 |
CN111819247A (zh) * | 2019-02-22 | 2020-10-23 | 浙江三时纪新材科技有限公司 | 一种球形或角形粉体填料的制备方法、由此得到的球形或角形粉体填料及其应用 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4022050B1 (ja) * | 1962-06-22 | 1965-09-30 | ||
JPS62213833A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 薄片状物質の製造方法 |
JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
WO2004065295A1 (en) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | A process for the production of porous inorganic materials or a matrix material containing nanoparticles |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19844357C2 (de) * | 1998-09-28 | 2001-04-05 | Hilmar Weinert | Bandbedampfungsanlage und Verfahren zur Herstellung von planparallelen Plättchen |
CN1662613A (zh) * | 2002-06-18 | 2005-08-31 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 硅/氧化硅的平面平行结构 |
AU2003301270A1 (en) * | 2002-10-16 | 2004-05-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Reducing pigments |
US7517404B2 (en) * | 2002-10-16 | 2009-04-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Interference pigments on the basis of silicon oxides |
RU2005118747A (ru) * | 2002-11-13 | 2006-01-27 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch) | Новые иетерференционные пигменты |
DE60317926T2 (de) * | 2002-11-21 | 2008-10-16 | Ciba Holding Inc. | Interferenzpigmente mit einer asymmetrischen schichtstruktur |
WO2004062629A2 (en) * | 2003-01-13 | 2004-07-29 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Apoptolidin analogs and derivatives for inducing apoptosis in transformed cells |
DE602004005817T8 (de) * | 2003-01-23 | 2008-04-30 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Plättchenförmige pigmente |
-
2005
- 2005-07-18 EP EP05776185A patent/EP1784355A2/en not_active Withdrawn
- 2005-07-18 WO PCT/EP2005/053428 patent/WO2006010720A2/en active Application Filing
- 2005-07-18 US US11/632,685 patent/US20080072794A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-18 JP JP2007523062A patent/JP2008507471A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4022050B1 (ja) * | 1962-06-22 | 1965-09-30 | ||
JPS62213833A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | 薄片状物質の製造方法 |
JP2002528639A (ja) * | 1998-10-23 | 2002-09-03 | アベリー・デニソン・コーポレイション | 金属フレークの製造方法 |
WO2003068868A2 (en) * | 2002-02-18 | 2003-08-21 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof |
JP2005517620A (ja) * | 2002-02-18 | 2005-06-16 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 亜酸化ケイ素、二酸化ケイ素及び/又は炭化ケイ素の面平行な構造を製造する方法、当該方法によって得られる面平行な構造ならびにその使用 |
WO2004065295A1 (en) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | A process for the production of porous inorganic materials or a matrix material containing nanoparticles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080072794A1 (en) | 2008-03-27 |
EP1784355A2 (en) | 2007-05-16 |
WO2006010720A2 (en) | 2006-02-02 |
WO2006010720A3 (en) | 2006-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8722888B2 (en) | Materials and methods for the preparation of anisotropically-ordered solids | |
JP4511795B2 (ja) | 有機分離剤を使用することによる面平行な小板の製造方法 | |
Lin et al. | Au nanoplates as robust, recyclable SERS substrates for ultrasensitive chemical sensing | |
Wu et al. | Adsorption of dyes on nanosize modified silica particles | |
JP5504180B2 (ja) | リオトロピック色素化合物、液晶系および光学異方性フィルム | |
CN106586979B (zh) | 一种氮化硼纳米片及其有机分散液的高效制备方法 | |
Cook et al. | Self-assembled monolayers of phthalocyanine derivatives on glass and silicon | |
JP2008507471A (ja) | 反応性シリコン亜酸化物フレーク | |
Liang et al. | SiO2-g-PS/fluoroalkylsilane composites for superhydrophobic and highly oleophobic coatings | |
CN108059484A (zh) | 半导体晶体生长用石英坩埚镀氮化硼膜的方法 | |
JP2006156980A (ja) | 有機薄膜及びその製造方法 | |
CN110218325A (zh) | 硅烷化镉碲量子点分子印迹聚合物的制备及应用 | |
EP1683760B1 (en) | Method of fullerene separation and complex containing fullerene | |
Li et al. | Recent research progress on crystallization strategies for difficult-to-crystallize organic molecules | |
CN113402398B (zh) | 基于聚集诱导发光效应的碳点前驱体、碳点及其制备方法和应用 | |
CN114425181B (zh) | 一种多孔液体材料及其制备方法和应用 | |
Gao et al. | Can the production of 2D crystals be driven by differential temperature? Research with MoS2 as an example | |
CN109072066A (zh) | 调光材料、调光膜以及调光叠层体 | |
Yuan et al. | Water clusters induced assembly of chiral organic microstructures showing reversible phase transformations and luminescence switching | |
Wei et al. | Beyond cadmium yellow: CdS photonic crystal pigments with vivid structural colors | |
Zhou et al. | Temperature dependence of photoluminescence and hydrogen bonding revealed for the first time in a templated borate family: synthesis, structure and properties of a pentaborate [Emmim][B 5 O 6 (OH) 4] | |
Mizuguchi | A Pigment Precursor Based on 1, 4-diketo-3, 6-diphenyl-pyrrolo [3, 4-c]-pyrrole and its Regeneration into the Pigment | |
Jiang et al. | Single crystal growth of copper phthalocyanine using exaltation–evaporation growth method | |
Zhang et al. | Synthesis, characterization, and self‐assembly of cationic coumarin side‐chain polymer | |
TW201837122A (zh) | 含二苯并哌喃系染料之著色組合物、彩色濾光器用著色劑及彩色濾光器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080716 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080716 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110704 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111220 |