JP2008507471A - 反応性シリコン亜酸化物フレーク - Google Patents

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Abstract

本発明は、反応中心を含有する、0.70≦y≦0.95、特には0.70≦y≦1.80、もっとも特には1.0≦y≦1.8であるSiOフレーク、その製造方法及び化学的に変性したSiOフレークの使用に関する。

Description

本発明は、反応中心を含む、0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特には1.0≦y≦1.8である、SiOフレーク、これらの製造方法、及び、化学的に変性したSiOフレークを提供するための使用に関する。
WO03/068868(及びWO03/106569)には、SiOフレーク(0.95≦y≦1.8)の製造方法:シリコン亜酸化物(SiO)の層に引き続いて、NaClが、0.5Pa未満の真空下で蒸発器を通して、連続的な金属ベルトであることができる、キャリア上へ蒸着させることが記載されている。WO03/068868に示される干渉顔料は、従来からの透明な有機顔料、例えばジケトピロロピロールと有利に組み合わせることができる。
WO04/065295によると、多孔質SiOフレークは以下の方法で得られる:
シリコン亜酸化物(SiO)とNaClとの層に引き続いて、NaClを、0.5Pa未満の真空下で蒸発器を通して、連続的な金属ベルトであることができるキャリア上へ蒸着させる。
シリコン亜酸化物(SiO)及びNaClの混合層を、2つの異なる蒸発器により蒸着し、ここで分離剤は、混合層の総重量を基準に1から60重量%の量で混合層に含まれている。
蒸着したNaClの厚さは、生成物の所望の特性に依存して、約20nmから100nm、特に30から60nm、混合層の厚さは20から2000nm、特に50から500nmである。
キャリアを水中に浸漬する。機械的な支援により、NaClは素早く水中に溶解し、そして生成物層はフレークに破壊し、次いで懸濁状で水に存在する。上述のプロセスの欠点は、多孔質シリコン酸化物フレークの反応中心が水の作用で失活することである。
前記の欠点は、シリコン酸化物フレークの反応中心と反応しない溶媒中に溶解している分離剤の使用で避けることができる。好ましくは、分離剤は、不活性な有機溶媒に溶解する有機分離剤である。
したがって、本発明は反応中心を含む、0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特に1.0≦y≦1.8であるSiOフレークを対象とする。
用語「反応中心」は、少なくとも1つのSi−Si基、好ましくは複数のSi−Si基、すなわち[SiO4−xSi]要素(x≧1)、特に[SiSi]要素が、SiOフレーク中に存在することを意味する。
有機分離剤及び不活性溶媒を使用することで以下の生成物
a)表面上に反応中心を有するSiOフレーク、
b)表面上及び孔の中に反応中心を有する多孔質SiOフレーク、並びに
c)孔の中にのみ反応中心を有する多孔質SiOフレーク、
を得る。
固体状態29Si−NMRによると、SiOフレークは、[SiO]成分の典型的な約−110ppm付近の信号、[SiSi]成分の典型的な、顕著な約−85ppmの信号を示す。さらに、SiOフレークは、[SiO4−xSi]成分(X≧1)の典型的な、約−73ppmのさらなる信号を示す。SiOフレークは明らかに、商業的に入手可能なSiO(例えば、Patinal(登録商標)、Merck)と区別される。固体状態29Si−NMRによると、Patinal(登録商標)は、[SiO4−xSi]成分に割り当てられる、約−110ppmの信号に加えて−69ppmの信号を示す。
したがって、用語「反応中心」は、[SiSi]成分がSiO中に存在していることを意味する。非常に小さいSi成分がSiOマトリックスに組み込まれている、相分離したSiOが存在すると思われる。
用語「0.70≦y≦1.95であるSiO」は、シリコン酸化物基材の平均値での酸素とシリコンのモル比が0.70〜1.95であることを意味する。シリコン酸化物基材の組成が、ESCA(electron spectroscopy for chemical analysis)で決定できる。シリコン酸化物基板のシリコン及び酸素の化学量論が、RBS(Rutherford-Backscattering)で決定できる。
板状(平行−平面)SiO構造(SiOフレーク)、特に本発明で使用した多孔質SiOフレークは、1μm〜5mmの長さ、1μm〜2mmの幅及び20nm〜1.5μmの厚さ、並びに少なくとも2:1の長さ対厚さの比を有し、粒子は2つの実質的に平行な面を有し、これらの距離は粒子の短軸(厚さ)である。多孔質SiOは、メソ多孔性物質、例えば約1〜約50nm、特に2〜20nmの孔の幅を有する。孔は3次元の状態で不規則に相互−結合(inter-connected)する。担体として用いる時は、孔の2次元的な配列を有するSiOフレーク中で頻繁に発生する、通路の閉塞が妨げられる。多孔質SiOフレークの比表面積は、多孔性に依存し、約400m/g〜1000m/g以上の範囲にある。好ましくは、多孔性SiOフレークは500m/g以上、特に600m/g以上の比表面積を有する。BET比表面積は、Brunauer−Emmet−Teller法(J.Am.Chem.Soc.60(1938)309)を用いた、DIN66131又はDIN66132(R.Haul und G.Dumbgen,Chem.−ing.−techn.32(1960)349 and 35(1063)586)により決定する。
SiOフレーク、特に多孔質SiOフレークは、均一な形状ではない。それにもかかわらず、簡潔さの目的のために、フレークは”直径”を有するものとして参照することとする。SiOフレークは、面―平行性及び、平均厚さの±10%、特に±5%の範囲の明確な厚さを有する。SiOフレークは、20〜2000nm、特に100〜500nmの厚さを有する。フレークの直径が、好ましくは約1〜60μmの範囲、より好ましくは5〜40μmの範囲、及びもっとも好ましくは5〜20μmの範囲であることが、現在好ましい。よって、本発明のフレークのアスペクト比は好ましくは約2.5〜625の範囲、より好ましくは約50〜250の範囲である。
a)表面上に反応中心を有する、SiOフレーク
b)表面上及び孔の中に反応中心を有する、多孔性SiOフレーク、並びに
c)孔の中にのみ反応中心を有する、多孔性SiOフレーク
の生成物の製法を、以下に、より詳細を示す。
変種a)
表面上に反応中心を有するSiOを、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着し、分離剤層を得る工程と、
b)分離剤層(a)にSiOを蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒の溶解で、分離剤層からSiO(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
を含む方法で得ることができる。
変種b)
表面上及び孔の中に反応中心を有する多孔性SiOフレークを、
a)キャリア上に有機分離剤を蒸着し、分離剤層を得る工程と、
b)分離剤層(a)にSiO及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒に溶解することで、分離剤層からSiO(ここで0.70≦y≦1.95)を分離する工程と、
を含む方法で得ることができる。
変種a)及びb)の選択において、水に溶解性がある分離剤(第一の分離剤)は、工程a)の前にキャリア上に析出し、工程c)の前に水中に溶解する。前記選択は、有機分離剤(第二の分離剤)中に含まれたフレークが、第一の分離剤を水中に溶解することで単離できる有利な点を有する。第二の分離剤の分離のために、単離されたフレークを引き続き不活性有機溶媒中で処理することができる。
変種c)
孔の中にのみ反応中心を有する多孔質SiOフレークを、
a)水へ溶解性がある分離剤をキャリア上へ蒸着させ、分離剤層を形成する工程と、
b)SiOと不活性有機溶媒に溶けるが水には溶けない有機分離剤とを分離剤層(a)へ同時に蒸着する工程と、
c)水への溶解により、分離剤(a)からのSiO(ここで0.70≦y≦1.95)の分離する工程と、
d)不活性有機溶媒中の分離剤(b)を溶解する工程と、
を含む方法で得ることができる。
水に溶解性がある分離剤は、好ましくは水に溶解し、真空で蒸発性がある無機塩、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウムアルミニウム及びホウ酸ナトリウム、又はこれらの混合物である。
反応中心(すなわち、少なくとも1つの開裂できるSi−Si基)を有するSiOフレークは、官能基を有する化合物、特にSiOフレークに対する官能基を有する有機化合物に化学的に結合する化合物に使用することができる。
官能基は、Si−Si基と反応し、化学結合を形成できるすべての基である。
Figure 2008507471
HXの例が、以下、
OH、RC(=O)、RC(=N−OH)、RNOH、RNH、NHRC(=O)R,又はRC(=O)OH、
(ここで、R及びRは、互いに独立して、有機基であり、及びRは水素又は有機基である)
に例示されているが、しかしこれらに限定されない。
Figure 2008507471
(式中、Yは、ハロゲン、特にClであり、及びRは有機基である)
好ましくは、HXは、ROH、特にRCHOHである。
CHOHは、例えば、CHOH基で変性したポリマー添加剤から生成する、又はCHOH基を有するポリマー添加剤であることができる。
そのようなポリマー添加剤は、光安定剤、熱安定剤、金属不活性剤、反応安定剤、酸捕捉剤、ブロッキング防止剤、かぶり防止剤、帯電防止剤、難燃剤、親水性/疎水性界面変性剤、IR−反射剤、IR−吸収剤、核形成剤、引っかき抵抗添加剤及び熱伝導性添加剤からなる群から選択することができる。
さらに、RCHOHは、UV吸収剤、特に肌及び髪の保護のためのUV吸収剤から生成することができるか、又は蛍光増白剤であることができる。
SiOフレークは、光活性化フレークの調製に使用することができる:
Figure 2008507471
(式中
PGは、光活性化基であり、
LSは、架橋基又はスペーサー基であり、
Figure 2008507471

は、SiOフレークから生成されたシリコン酸化物フレークである。
架橋基又はスペーサー基は、光活性化基を
Figure 2008507471

に結合する。架橋基又はスペーサー基は炭化水素、−O−、−NH−結合を含むことが好ましい。
光活性化基の例は:
Figure 2008507471

である。
さらに、RCHOHは、例えば、CHOH基でそれを変性することで有機着色剤から生成する、又はCHOH基を有する有機着色剤であることができる。有機着色剤は染料又は顔料であるか又はそれらから生成することができる。
異なるクラスの染料の例は、Colour Index;Colour Index、Third Edition、1970/1971:Acid Dyes、第1巻、1001〜1562頁;Basic Dyes、第1巻、1607〜1688頁;Direct Dyes、第2巻、2005〜2478頁;Disperse Dyes、第2巻、2479〜2743頁;Natural Dyes、第3巻、3225〜3256頁;Pigments、第3巻、3267〜3390頁;Reactive Dyes、第3巻、3391〜3560頁;Solvent Dyes、第3巻、3563〜3648頁;Vat Dyes、第3巻、3719〜3844頁;を参照されたい。
有機着色剤は、顔料、例えば1−アミノアントラキノン、アントラキノン、アントラピリミジン、アゾ、アゾメチン、ベンゾジフラノン、キナクリドン、キナクリドン−キノン、キノフタロン、ジケトピロロピロール、ジオキサジン、フラバントロン、インダトロン、インジゴ、イソインドリン、イソインドリノン、イソビオラントロン、ペリノン、ペリレン、プタロシアニン、ピラントロン又はチオインジゴである。そのような発色団は例えば、W.Herbst,K.Hunger,Industrielle Organische Pigment,2nd completely revised edition,VCH 1995 に示されている。
有機着色剤は、蛍光性有機着色剤、例えばクマリン類、ベンゾクマリン類、キサンテン類、ベンゾ[a]キサンテン類、ベンゾ[b]キサンテン類、ベンゾ[c]キサンテン類、フェノキサジン類、ベンゾ[a]フェノキサジン類、ベンゾ[b]フェノキサジン類及びベンゾ[c]フェノキサジン類、ナフタルイミド類、ナフトラクタム類、アズラクトン、メチン類、オキサジン類及びチアジン類、ジケトピロロピロール類、ペリレン類、キナクリドン類、ベンゾキサンテン類、チオ−エピンドリン類、ラクタムイミド類、ジフェニルマレイミド類、アセトアセトアミド類、イミダゾチアジン類、ベンズアントロン類、ペリレンモノイミド類、ペリレン類、フタルイミド類、ベンゾトリアゾール類、ピリミジン類、ピラジン類、及びトリアジン類であることができる。
適切な例は、一般式:
Figure 2008507471
(式中、R21及びR22は、互いに独立して、水素、C〜C18アルキル、O若しくはSで1回以上中断されているC〜C18アルキル、C〜C12アラルキル又は式
Figure 2008507471
(式中、RはC〜C18アルキルである)
の基であり、
23及びR24は、互いに独立して式
Figure 2008507471
(式中、
は、−S−、−SONH−又は−NH−であり、
は、C〜C18アルキレン基であり、及び
は、−OHである;)の基である)であるか、又は
Figure 2008507471
(式中、R及びRは、互いに独立して、式
Figure 2008507471
(式中
は、C〜C18アルキレンであり、及び
は、−OHである)
の基であり、
及びRは、互いに独立して、C〜C18アルキル、C〜C18アルコキシ、−NR1617、−CONHR18、COOR19、−SONH−R20、C〜C18アルコキシカルボニル、C〜C18アルキルアミノカルボニルであり、ここで、R16、R17、R18、R19及びR20は、C〜C18アルキルである)
Figure 2008507471
(式中、nは0〜18である);又は
Figure 2008507471
(式中、nは1〜18である)
のWO04/009710で示されるジケトピロロピロールである。
SiOフレークは、これらをアルコールR30−OH、又はR30Cl(ここでR30は置換又は非置換C〜C20アルキル基である)と反応することで親水性にされる。R30の特定な例は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec.−ブチル、イソブチル、tert.−ブチル、n−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル及び2−エチルヘキシル、n−ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、イコシル、ヘニコシル、ドコシル、テトラコシル又はペンタコシル、好ましくはC〜Cアルキル例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、n−ブチル、sec.−ブチル、イソブチル、tert.−ブチル、n−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル及び2−エチルヘキシルである。置換C〜C20アルキル基の例は、「フルオロアルキル」基である。用語「フルオロアルキル」は、フッ素で上述のアルキル基を部分的に又は全体的に置換することで与えられる基であり、例えばトリフルオロメチル、トリフルオロプロピル、特に3,3,3−トリフルオロ−n−プロピル、2,2,2,2’,2’,2’−ヘキサフルオロイソプロピル及びヘプタデカフルオロデシルである。
本発明の態様において、SiOフレークの孔は最初に、例えば、蛍光性染料で充填することができ、及び、次いで、これらをアルコールR30OHと反応することで、疎水性にすることができる。
本発明は、表面上及び孔の中に反応中心を有するSiOフレークに基づいて、より詳細に説明されているが、それに限られない。表面上に反応中心を有する非多孔質SiOフレークも、主にWO04/035693中に示されている方法で生成でき、また適切である。
多孔質SiOフレークは、主に、PCT/EP2004/000137中に示されている方法で得られる。前記方法は、
a)キャリア上へ有機分離剤を蒸着し、分離剤層を生成する工程と、
b)分離剤層(a)上へSiO及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
c)不活性有機溶媒中の溶解で分離剤層からSiO(ここで0.70≦y≦1.95)を分離する工程と、
を含む。
板状の多孔質材料は、2の処理変数(SiO及び有機分離剤の混合層の厚さ、及び混合層中に含まれているSiOの量)のみを変化させることで、独特な及び再現可能な多様な変種で生成できる。
工程a)でキャリア上へ蒸着した分離剤は、有機溶剤に溶ける有機物質であり、反応性SiOフレークに対し不活性であり及び真空中で蒸発性がある、例えばアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、しょうのう酸無水物、ベンゾイミダゾール、ビス(4−ヒドロキシルフェニル)スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、フェノールフタレイン、フェノチアジン、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノール又はこれら物質の少なくとも2つの混合物である。
適切な不活性溶媒は、例えば、特に分子中に2〜8個の炭素原子を有するエーテル類、例えばジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルn−ブチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、エチルn−プロピルエーテル、ジn−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ビス−β−メトキシエチル;脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、低―及び高沸点石油エーテル、環状脂肪炭化水素、例えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、テトラリン、デカリン、;芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、o−、m−及びp−キシレン、エチルベンゼン;ニトリル類、例えばアセトニトリル;アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド;及びスルホキシド、例えばジメチルスルホキシドである。様々な混合物もまた用いることができる。
詳細は、有機分離剤、例えばテトラフェニルメタンを、シリコン亜酸化物(SiO)及び有機分離剤の層に引き続いて、<0.5Paの真空度以下の蒸発器を通して、テトラフェニルメタンを、連続的な金属ベルトであることができるキャリア上に蒸着する。
シリコン亜酸化物(SiO)及び分離剤の混合層を、互いに2種の物質の1つで満たされており及びこれらの蒸気線が重なり合っている、2種の異なる蒸発器で蒸着し、ここで、分離剤は、混合層の総重量に対し、1〜60重量%の量で混合層中に含まれている。
蒸着された有機分離剤の厚さは約20nm〜100nm、特に30〜60nmであり、混合層のものは20〜2000nm、特に50〜500nmであり、生成物の所望の特性に依存している。
キャリアを溶解浴、すなわち、不活性有機溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キシレン又はこれらの混合物に浸漬する。機械的な支援により、分離剤層を急速に溶解し、生成物層をフレークに細分化し、これらは次いで懸濁状で溶媒中に存在する。多孔質シリコン酸化物フレークは、US−B−6,270,840に示されている装置を使用することで有利に得ることができる。
生成物構造及び溶媒を含む場合及び分離剤がその中に溶解している場合のどちらの場合でも存在している懸濁液を、次いで公知の技術に従うさらなる操作により分離する。この目的のために、生成物の構造を最初に液体に濃縮し、及び溶解している分離剤を洗浄するために、新しい溶媒で数回洗浄処理する。依然として湿っている固体状の生成物を、次いで濾過、沈殿、遠心分離、デカンテーション又は蒸発で分離する。
SiO1.00−1.8層を、好ましくは、1300℃以上の温度で、Si及びSiOの混合物の反応で、蒸発器中で生成した一酸化ケイ素蒸気から形成する。
SiO0.70−0.99層を、好ましくは、1300℃以上の温度で、20重量%までの量のケイ素を含む蒸発する一酸化ケイ素で形成する。
y>1の多孔質SiOフレークの生成を蒸発の間、さらなる酸素を供給することで達成できる。この目的のために、真空チャンバーは、真空チャンバー内の酸素分圧を一定値に操作することができるガス注入口を供えることができる。
乾燥後、多孔質SiO分子は、WO03/106569による酸素―フリー雰囲気、すなわち、アルゴン若しくはヘリウム雰囲気で、又は13Pa(10−1Torr)以下の真空で、400℃以上の温度で、特に400〜1100℃で、加熱して、それによりSiナノ分子を含む多孔質シリコン酸化物フレークを得ることができる。
酸素フリー雰囲気下でSiO粒子を加熱することで、SiOが、SiO及びSi中で不均衡になると思われる。
Figure 2008507471
この不均衡で、多孔質SiOy+aフレークを、(1−(y/y+a))Si(式中0.70≦y≦1.8、特に0.70≦y≦0.99又は1≦y≦1.8、0.05≦a≦1.30、及び、y及びaの合計は2に等しいか又は2以下である)を含んで形成する。SiOy+aは酸素富化シリコン酸化物である。
Figure 2008507471
多孔質SiOzフレークは、処理可能にするため、50nmの最小厚さを有する。最小厚さは所望の用途に依存するが、一般には150〜500nmの範囲である。フレークの多孔率は5〜85%である。
以下に示す本発明の実施例は、それらの範囲に限られるものではない。他に示していなければ、パーセンテージ及び部はそれぞれ、重量に対するパーセント及び部である。
実施例
実施例1
真空チャンバー(<10−1Pa)を配置した2つの別個の蒸発器に、それぞれSiO及びテトラフェニルメタン粉末を仕込んだ。アルミ箔を機械的に取付けた回転キャリアを、蒸発器の上に配置した。テトラフェニルメタン層(90nm)は、最初にアルミ箔上に昇華した。次いで、SiO蒸発器を加熱し、そしてテトラフェニルメタンが依然として昇華している間、SiOを昇華しはじめた。このように、テトラフェニルメタン及びSiOは、テトラフェニルメタン層上に同時に昇華した。テトラフェニルメタン及びSiOの同時の蒸着を厚さ300nmに達するまで続けた。昇華が終了し、キャリアのアルミ箔を取り除き、トルエンに浸漬した。SiOマトリックス中に含まれているテトラフェニルメタン層並びにテトラフェニルメタンを、トルエン中で分解し、これによりシリコン酸化物フレークを得た。
実施例2
実施例1で得られたSiOフレーク1gをトルエン300ml中の式
Figure 2008507471
のC.I.DisperseBrown1 0.5g溶液中に懸濁した。
懸濁液を還流下で48時間加熱した、室温に冷却しそして濾過し、これにより暗褐色フレークを得た。

Claims (12)

  1. 反応中心を含む、0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特に1.0≦y≦1.8である、SiOフレーク。
  2. [SiSi]成分を含む、請求項1記載のSiOフレーク。
  3. SiOフレークが、非多孔質であり、その表面上に反応中心を有する、請求項1又は2記載のSiOフレーク。
  4. SiOフレークが、多孔質であり、その表面上及びその孔の中又はその孔の中にのみ反応中心を有する、請求項1又は2記載のSiOフレーク。
  5. フレークが、1μmから5mmの長さ、1μmから2mmの幅、及び20nmから1.5μmの厚さ、及び少なくとも2:1の長さと厚さの比を有し、2つの実質的に平行な面を有し、この距離が粒子の短軸である、請求項1〜4いずれか1項記載のSiOフレーク。
  6. 請求項3記載のSiOフレークを製造する方法であって、
    a)キャリア上に有機分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
    b)分離剤層(a)上にSiOを蒸着する工程と、
    c)不活性有機溶媒中での溶解により、分離剤からSiO(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
    を含む方法。
  7. 請求項4記載のSiOフレークを製造する方法であって、
    a)キャリア上に有機分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
    b)分離剤層(a)上にSiO及び有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
    c)不活性有機溶媒中での溶解により、分離剤からSiO(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
    を含む方法。
  8. 水に溶ける分離剤を、工程a)の前にキャリア上に析出させ、及び工程c)の前に水に溶解させる、請求項6又は7記載の方法。
  9. 請求項4記載のSiOフレークを製造する方法であって、
    a)キャリア上に水に溶ける分離剤を蒸着して、分離剤層を形成する工程と、
    b)分離剤層(a)上にSiO及び不活性有機溶媒に溶けるが水には溶けない有機分離剤を同時に蒸着する工程と、
    c)水への溶解により、分離剤(a)からSiO(ここで0.70≦y≦1.80)を分離する工程と、
    d)不活性有機溶媒中で分離剤(b)を溶解する工程と、
    を含む方法。
  10. 請求項6〜9いずれか1項記載の方法で得られる、反応中心を含む0.70≦y≦1.95、特に0.70≦y≦1.80、もっとも特には1.0≦y≦1.8であるSiOフレーク。
  11. 請求項1〜5又は10記載のSiOをSi−Si基の開裂ができる官能基を有する化合物と反応させて得ることができる、SiOフレークに化合物が化学的に結合している生成物。
  12. 化学的に変性したSiOフレークを提供するための、請求項1〜5又は10記載のSiOフレークの使用。
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