JP2008310204A - Light beam scanning optical device, two-dimensional scanning mirror device and optical scanner using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光走査光学素子、2次元走査ミラー装置及びそれを用いた光走査装置に関し、特に、小さい走査角を広い走査角に変換することが可能な走査角変換機能を有した光走査光学素子とそれを用いた光走査装置、その光走査装置に用いる2次元走査ミラー装置に関するものである。 The present invention relates to an optical scanning optical element, a two-dimensional scanning mirror device, and an optical scanning device using the same, and in particular, an optical scanning optical having a scanning angle conversion function capable of converting a small scanning angle into a wide scanning angle. The present invention relates to an element, an optical scanning device using the element, and a two-dimensional scanning mirror device used in the optical scanning device.
光源から発せられた光ビームを走査することにより、対象物からの反射光を受光し、対象物の情報を検出する光走査光学系が広く用いられている。そのような光走査光学系として2次元の走査を行うものとして例えば特許文献1〜3に記載のものがある。
しかしながら、水平方向全方位であって垂直方向を90°以上、なかんづく180°以上の広い範囲を走査することが可能なものは今まで提案されていない。 However, there has not been proposed so far that it is possible to scan a wide range of all directions in the horizontal direction and 90 ° or more in the vertical direction, especially 180 ° or more.
本発明は従来技術のこのような状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、全方位360°であって垂直方向90°以上、好ましくは180°以上の全空間を走査することが可能な光走査光学素子、2次元走査ミラー装置及びそれを用いた光走査装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation in the prior art, and its purpose is to scan the entire space of 360 ° in all directions and 90 ° or more in the vertical direction, preferably 180 ° or more. An optical scanning optical element, a two-dimensional scanning mirror device, and an optical scanning device using the same.
上記目的を達成する本発明の光走査装置は、光ビームを発生する光源ユニットと、前記光ビームの伝播軸上であって中心軸上に配置された2次元光走査手段と、前記2次元光走査手段により走査され光ビームの前記中心軸に沿う方向の走査角を拡大する走査角変換手段とを含み、前記中心軸の周り360°、前記中心軸を含む断面内90°以上を走査可能なことを特徴とするものである。 The optical scanning device of the present invention that achieves the above object includes a light source unit that generates a light beam, a two-dimensional light scanning unit disposed on a propagation axis of the light beam and on a central axis, and the two-dimensional light. Scanning angle conversion means for enlarging the scanning angle of the light beam in the direction along the central axis scanned by the scanning means, and capable of scanning 360 ° around the central axis and 90 ° or more in the cross section including the central axis It is characterized by this.
この場合、前記走査角変換手段は前記中心軸に対して回転対称な面より構成されていて、少なくとも1面の内部反射面を有するものである。 In this case, the scanning angle conversion means is composed of a rotationally symmetric surface with respect to the central axis, and has at least one internal reflection surface.
また、前記走査角変換手段は、被走査側から順に、第1透過面、少なくとも1つの内部反射面、第2透過面を備えており、前記第1透過面は前記中心軸に沿う方向の外周面からなるものとすることができる。 Further, the scanning angle conversion means includes, in order from the scanned side, a first transmission surface, at least one internal reflection surface, and a second transmission surface, and the first transmission surface is an outer periphery in a direction along the central axis. It can consist of surfaces.
また、走査対象物からの光であって、走査される光ビームと逆の光路をたどって進む光を前記光源ユニットと前記2次元光走査手段との間で分離して検出する光検出手段を備えているようにすることができる。 A light detection means for separating and detecting light from the scanning object that travels along an optical path opposite to the scanned light beam between the light source unit and the two-dimensional light scanning means; Can be provided.
また、前記2次元光走査手段としては2次元走査ミラーが用いられる。 A two-dimensional scanning mirror is used as the two-dimensional light scanning means.
本発明の光走査光学素子は、中心軸に対して回転対称な面より構成された透明媒体からなり、第1透過面、少なくとも1つの内部反射面、第2透過面を備えており、前記中心軸上の1点から前記中心軸に沿う方向に偏向された光ビームが前記第2透過面、前記内部反射面、前記第1透過面の順に経て、前記中心軸に沿う方向の走査角が拡大されて射出することを特徴とするものである。 The optical scanning optical element of the present invention is made of a transparent medium composed of a rotationally symmetric surface with respect to the central axis, and includes a first transmission surface, at least one internal reflection surface, and a second transmission surface, and the center. A light beam deflected in a direction along the central axis from one point on the axis passes through the second transmission surface, the internal reflection surface, and the first transmission surface in this order, and the scanning angle in the direction along the central axis is enlarged. It is characterized by being injected.
この場合、光学面の少なくとも1つが前記中心軸を中心とするトーリック面又は拡張回転自由曲面からなることが望ましい。 In this case, it is desirable that at least one of the optical surfaces is a toric surface or an extended rotation free-form surface centered on the central axis.
また、2面以上の内部反射面を備えており、前記中心軸を含む断面内で前記第1透過面から前記第2透過面に至る光路がZ字状のジクザク光路をとることが望ましい。 In addition, it is preferable that two or more internal reflection surfaces are provided, and an optical path from the first transmission surface to the second transmission surface is a Z-shaped zigzag optical path in a cross section including the central axis.
また、前記中心軸を含む断面内での走査角拡大倍率をβωとするとき、
2<βω ・・・(1)
なる条件を満足することが望ましい。
When the scanning angle magnification within the cross section including the central axis is βω,
2 <βω (1)
It is desirable to satisfy the following conditions.
また、前記光走査光学素子外径をdとするとき、
d<50(mm) ・・・(2)
なる条件を満足することが望ましい。
When the outer diameter of the optical scanning optical element is d,
d <50 (mm) (2)
It is desirable to satisfy the following conditions.
また、前記光走査光学素子外径をd、光線の通る順に、前記第1透過面に至る前の反射面の前記中心軸を含む断面内でのパワーをpm1(1/mm)とするとき、
−0.01<pm1/d(mm-2) ・・・(3)
なる条件を満足することが望ましい。
Further, when the outer diameter of the optical scanning optical element is d and the power in the cross section including the central axis of the reflection surface before reaching the first transmission surface is pm1 (1 / mm) in the order in which the light beam passes,
−0.01 <pm1 / d (mm −2 ) (3)
It is desirable to satisfy the following conditions.
本発明の2次元走査ミラー装置は、基板表面に弾性撓み可能な柱が立っており、前記柱の先端に反射鏡が取り付けられ、前記反射鏡を中心としてその周辺から前記基板の表面に平行な方向に放射状に3本の腕部材が相互に120°をなすように前記反射鏡に一体に取り付けられ、前記腕部材各々の先端部直下の前記基板表面部に電極が配置され、前記電極に、相互に位相が120°ずれた三相交流にその振幅分の直流を重畳してなる交番電圧であって、その交番電圧の振幅が時間と共に可変な交番電圧が印加可能になっていることを特徴とするものである。 In the two-dimensional scanning mirror device of the present invention, an elastically deflectable column stands on the surface of the substrate, a reflecting mirror is attached to the tip of the column, and the periphery of the reflecting mirror is parallel to the surface of the substrate. Three arm members radially attached to the direction are integrally attached to the reflecting mirror so as to form 120 ° to each other, and an electrode is disposed on the surface of the substrate immediately below the tip of each of the arm members. It is an alternating voltage obtained by superimposing a direct current corresponding to the amplitude on a three-phase alternating current whose phase is shifted by 120 °, and an alternating voltage whose alternating voltage amplitude is variable with time can be applied. It is what.
以上の本発明によると、2次元の走査を行う例えばマイクロミラーデバイス等と組み合わせて用いることにより、全方位360°であって垂直方向90°以上、好ましくは180°以上の全空間を走査することが可能な装置を提供することができる。 According to the present invention described above, by using in combination with, for example, a micromirror device that performs two-dimensional scanning, the entire space of 360 ° in all directions and 90 ° or more in the vertical direction, preferably 180 ° or more is scanned. It is possible to provide a device capable of performing the above.
以下、実施例に基づいて本発明の光走査光学素子、2次元走査ミラー装置と光走査装置について説明する。 The optical scanning optical element, the two-dimensional scanning mirror device, and the optical scanning device of the present invention will be described below based on examples.
図1に、本発明の実施例1の光走査装置の中心軸1を含む断面図(a)と中心軸1上にあるZ軸に沿ってZ軸正方向から見た光路図(b)を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view (a) including the
本実施例の光走査装置は、中心軸1に配置された光源2と、同様に中心軸1に配置されたマイクロミラーデバイス等からなる2次元走査ミラー3と、中心軸1を回転対称軸とする走査角変換素子4とからなる。
The optical scanning device of the present embodiment includes a
光源2は、例えばレーザダイオード(LD)等で構成され、光源2からの発散光は走査角変換素子4の中心部に設けられた第3透過面15と第2透過面14を順に通過後、略平行な光束となり、2次元走査ミラー3で反射される。このとき、2次元走査ミラー3により中心軸1周りの所定の方位角(水平角)と中心軸1に沿った方向の垂直角(中心軸1に直交する方向を0°とする。)の方向に偏向される。偏向された光束は走査光束となり、再度走査角変換素子4の第2透過面14から素子内に入射し、正のパワーを有する第2反射面13、負のパワーを有する第1反射面12で順に反射され、第1透過面11で屈折されて走査角変換素子4の外に射出し、2次元走査ミラー3から出た走査光束の走査角が拡大されて、走査対象物を走査する。2次元走査ミラー3の反射点は中心軸1上に位置するため、第2透過面14、第2反射面13、第1反射面12、第1透過面11を順に経た走査光束の中心光線(主光線)は中心軸1と2次元走査ミラー3の法線を含む断面(メリジオナル断面)内に位置し、その断面と交差する対象物位置を走査することになる。なお、走査角変換素子4の、透過面11、14、15、反射面12、13の番号は逆光線追跡の順による。以下、同じ。
The
この実施例の走査角変換素子4の第3透過面15は球面、第2透過面14は非球面、第2反射面13と第1反射面14はトーリック面、第1透過面11はシリンドリカル面で構成され、何れも中心軸1を回転対称軸とする。
In the scanning
この実施例において、2次元走査ミラー3のメリジオナル断面内での振り角範囲は17.09°〜37.81°の20.72°であり、走査角変換素子4を出た走査光束のメリジオナル断面内での走査角は180°であり、走査角拡大倍率βωは4.34である。
In this embodiment, the swing angle range in the meridional section of the two-
したがって、2次元走査ミラー3をその法線がメリジオナル断面内で20.72°の振り角で振りながら中心軸1の周りでその法線を回転するようにすることで、方位角(水平角)360°、垂直角±90°(+は仰角、−は俯角)の範囲の全空間を走査することができる。
Therefore, the azimuth angle (horizontal angle) is obtained by rotating the normal line around the
この実施例の構成パラメータは後記するが、図1に示すように、遠方の対象物(物体面)から走査角変換素子4の第1透過面11、第1反射面12、第2反射面13、第2透過面14、2次元走査ミラー(絞り面)3、第2透過面14、第3透過面15、光源(像面)2に至る逆光線追跡の結果に基づくものである。
The configuration parameters of this embodiment will be described later. As shown in FIG. 1, the
座標系は、逆光線追跡において、図1に示すように、中心軸1に直交する方向に走査する光束の中心光線10の延長線と中心軸1が交差する点を原点として、回転対称軸(中心軸)1の光源(像面)2と反対方向(実施例2、3では光源2の方向)をZ軸正方向とし、図1の紙面内をY−Z平面とする。そして、図1の面の紙面の表から裏に向かう方向をX軸正方向とし、X軸、Z軸と右手直交座標系を構成する軸をY軸正方向とする。
As shown in FIG. 1, the coordinate system has a rotationally symmetric axis (center) with the origin at the point where the extension line of the
偏心面については、その面が定義される座標系の上記光学系の原点の中心からの偏心量(X軸方向、Y軸方向、Z軸方向をそれぞれX,Y,Z)と、光学系の原点に定義される座標系のX軸、Y軸、Z軸それぞれを中心とする各面を定義する座標系の傾き角(それぞれα,β,γ(°))とが与えられている。その場合、αとβの正はそれぞれの軸の正方向に対して反時計回りを、γの正はZ軸の正方向に対して時計回りを意味する。なお、面の中心軸のα,β,γの回転のさせ方は、各面を定義する座標系を光学系の原点に定義される座標系のまずX軸の回りで反時計回りにα回転させ、次に、その回転した新たな座標系のY軸の回りで反時計回りにβ回転させ、次いで、その回転した別の新たな座標系のZ軸の回りで時計回りにγ回転させるものである。 For the decentered surface, the amount of decentering from the center of the origin of the optical system in the coordinate system in which the surface is defined (X-axis direction, Y-axis direction, and Z-axis direction are X, Y, and Z, respectively) and the optical system The inclination angles (α, β, γ (°), respectively) of the coordinate system defining each surface centered on the X axis, Y axis, and Z axis of the coordinate system defined at the origin are given. In this case, positive α and β mean counterclockwise rotation with respect to the positive direction of each axis, and positive γ means clockwise rotation with respect to the positive direction of the Z axis. Note that the α, β, and γ rotations of the central axis of the surface are performed by rotating the coordinate system defining each surface counterclockwise around the X axis of the coordinate system defined at the origin of the optical system. Then rotate it around the Y axis of the new rotated coordinate system by β and then rotate it around the Z axis of another rotated new coordinate system by γ. It is.
また、光学系を構成する光学作用面の中、特定の面とそれに続く面が共軸光学系を構成する場合には面間隔が与えられており、その他、面の曲率半径、媒質の屈折率、アッベ数が慣用法に従って与えられている。 In addition, when a specific surface and subsequent surfaces of the optical working surface constituting the optical system constitute a coaxial optical system, a surface interval is given. In addition, the curvature radius of the surface and the refractive index of the medium are given. , Abbe numbers are given according to idioms.
なお、後記の構成パラメータ中にデータの記載されていない非球面に関する項は0である。屈折率、アッベ数については、d線(波長587.56nm)に対するものを表記してある。長さの単位はmmである。各面の偏心は、上記のように、絞り面中心からの偏心量で表わす。 It should be noted that a term relating to an aspheric surface for which no data is described in the constituent parameters described later is zero. The refractive index and the Abbe number are shown for the d-line (wavelength 587.56 nm). The unit of length is mm. The eccentricity of each surface is expressed by the amount of eccentricity from the center of the diaphragm surface as described above.
なお、非球面は、以下の定義式で与えられる回転対称非球面である。 The aspheric surface is a rotationally symmetric aspheric surface given by the following definition.
Z=(Y2 /R)/[1+{1−(1+k)Y2 /R2 }1 /2]
+aY4 +bY6 +cY8 +dY10+・・・
・・・(a)
ただし、Zを軸とし、Yを軸と垂直な方向にとる。ここで、Rは近軸曲率半径、kは円錐定数、a、b、c、d、…はそれぞれ4次、6次、8次、10次の非球面係数である。この定義式のZ軸が回転対称非球面の軸となる。
Z = (Y 2 / R) / [1+ {1- (1 + k)
+ AY 4 + bY 6 + cY 8 + dY 10 +...
... (a)
However, Z is taken as an axis, and Y is taken in a direction perpendicular to the axis. Here, R is a paraxial radius of curvature, k is a conic constant, a, b, c, d,... Are fourth-order, sixth-order, eighth-order, and tenth-order aspherical coefficients, respectively. The Z axis of this defining formula is the axis of a rotationally symmetric aspherical surface.
また、拡張回転自由曲面は、以下の定義で与えられる回転対称面である。 The extended rotation free-form surface is a rotationally symmetric surface given by the following definition.
まず、Y−Z座標面上で原点を通る下記の曲線(b)が定められる。 First, the following curve (b) passing through the origin on the YZ coordinate plane is determined.
Z=(Y2 /RY)/[1+{1−(C1 +1)Y2 /RY2 }1 /2]
C2 Y+C3 Y2 +C4 Y3 +C5 Y4 +C6 Y5 +C7 Y6
+・・・・+C21Y20+・・・・+Cn+1 Yn +・・・・
・・・(b)
次いで、この曲線(b)をX軸正方向を向いて左回りを正として角度θ(°)回転した曲線F(Y)が定められる。この曲線F(Y)もY−Z座標面上で原点を通る。
Z = (Y 2 / RY) / [1+ {1- (
C 2 Y + C 3 Y 2 + C 4 Y 3 + C 5 Y 4 + C 6 Y 5 + C 7 Y 6
+ ··· + C 21 Y 20 + ··· + C n + 1 Y n + ····
... (b)
Next, a curve F (Y) obtained by rotating the curve (b) in the positive direction of the X-axis and turning it counterclockwise is defined as an angle θ (°). This curve F (Y) also passes through the origin on the YZ coordinate plane.
その曲線F(Y)をY正方向に距離R(負のときはZ負方向)だけ平行移動し、その後にZ軸の周りでその平行移動した曲線を回転させてできる回転対称面を拡張回転自由曲面とする。 The curve F (Y) is translated in the Y positive direction by a distance R (Z negative direction when negative), and then the rotationally symmetric surface formed by rotating the translated curve around the Z axis is expanded and rotated. Let it be a free-form surface.
その結果、拡張回転自由曲面はY−Z面内で自由曲面(自由曲線)になり、X−Y面内で半径|R|の円になる。 As a result, the extended rotation free-form surface becomes a free-form surface (free-form curve) in the YZ plane and a circle with a radius | R | in the XY plane.
この定義からZ軸が拡張回転自由曲面の軸(回転対称軸)となる。 From this definition, the Z-axis becomes the axis of the extended rotation free-form surface (rotation symmetry axis).
ここで、RYはY−Z断面での球面項の曲率半径、C1 は円錐定数、C2 、C3 、C4 、C5 …はそれぞれ1次、2次、3次、4次…の非球面係数である。 Where RY is the radius of curvature of the spherical term in the YZ section, C 1 is the conic constant, C 2 , C 3 , C 4 , C 5 . Aspheric coefficient.
以下の実施例についても同様である。 The same applies to the following embodiments.
図2に、この実施例の光学系の横収差を示す。この横収差図において、中央に示された角度は走査角を示し、中心軸1に直交する方向を0°とし、X軸の正方向に対して反時計回りを正、時計回りを負とし、逆光線追跡で遠方の対象物(物体面)から光源(像面)2に至る光束のY方向(メリジオナル方向)とX方向(サジタル方向)の横収差を示す。以下、同じ。
FIG. 2 shows the lateral aberration of the optical system of this example. In this lateral aberration diagram, the angle shown at the center indicates the scanning angle, the direction orthogonal to the
上記実施例の変形例の図1(a)と同様の図を図3(a)、(b)に示す。図3(a)の実施例は、走査角変換素子4に光源2のからの発散光束をコリメートする機能を持たせない場合(第3透過面15と第2透過面14からなる系に集光機能を持たせない場合)の変形例であり、第3透過面15と第2透過面14の曲率を等しくしてパワーを略0とし、別素子として図3(a)中両矢符で略図として示すコリメータレンズ5を配置する例である。また、走査角変換素子4の2次元走査ミラー3まで間の光路はこの場合パワー0なので、必ずしも必要なく、走査角変換素子4の中心軸1近傍を中空構造にすることも可能である。
3A and 3B are views similar to FIG. 1A of the modified example of the above embodiment. In the embodiment of FIG. 3A, the scanning
また、コリメーターレンズ5を用いず、光源2として、平行光束を射出するレーザー等を用いることも可能である。
Further, a laser or the like that emits a parallel light beam can be used as the
さらに、図3(b)に示すように、光源2から走査角変換素子4に至る光路中にハーフミラー6を配置し、走査対象物で反射散乱された光を走査光と逆の光路を経てこのハーフミラー6に入射させ、その光をハーフミラー6で分割して受光素子8に入射させ検出することで、走査対象物の撮像をするようにすることも可能である。なお、図3(b)の場合は、ハーフミラー6をコリメーターレンズ5で平行にされた光束中に配置しているため、ハーフミラー6から受光素子8に至る光路中に検出光を受光素子8に集光させる集光レンズ7を配置してある。
Further, as shown in FIG. 3B, a
図4に、本発明の実施例2の光走査装置の中心軸1を含む断面図を示す。図1(b)と同様の光路図は省く。
FIG. 4 is a sectional view including the
本実施例の光走査装置は、中心軸1に配置された光源2と、同様に中心軸1に配置されたマイクロミラーデバイス等からなる2次元走査ミラー3と、中心軸1を回転対称軸とする走査角変換素子4とからなる。
The optical scanning device of the present embodiment includes a
光源2は、例えばレーザダイオード(LD)等で構成され、光源2からの発散光は走査角変換素子4の中心部に設けられた第3透過面15と第2透過面14を順に通過後、集束光束となり、2次元走査ミラー3で反射される。このとき、2次元走査ミラー3により中心軸1周りの所定の方位角(水平角)と中心軸1に沿った方向の垂直角(中心軸1に直交する方向を0°とする。)の方向に偏向される。偏向された光束は走査光束となり、再度走査角変換素子4の第2透過面14から素子内に入射し、負のパワーを有する反射面12で反射され、第1透過面11で屈折されて走査角変換素子4の外に射出し、2次元走査ミラー3から出た走査光束の走査角が拡大されて、走査対象物を走査する。2次元走査ミラー3の反射点は中心軸1上に位置するため、第2透過面14、反射面12、第1透過面11を順に経た走査光束の中心光線(主光線)は中心軸1と2次元走査ミラー3の法線を含む断面(メリジオナル断面)内に位置し、その断面と交差する対象物位置を走査することになる。
The
この実施例の走査角変換素子4の第3透過面15は球面、第2透過面14は非球面、反射面14はトーリック面、第1透過面11はシリンドリカル面で構成され、何れも中心軸1を回転対称軸とする。
In the scanning
この実施例において、2次元走査ミラー3のメリジオナル断面内での振り角範囲は7.05°〜20.83°の13.78°であり、走査角変換素子4を出た走査光束のメリジオナル断面内での走査角は180°であり、走査角拡大倍率βωは6.53である。
In this embodiment, the swing angle range in the meridional section of the two-
したがって、2次元走査ミラー3をその法線がメリジオナル断面内で13.78°の振り角で振りながら中心軸1の周りでその法線を回転するようにすることで、方位角(水平角)360°、垂直角±90°(+は仰角、−は俯角)の範囲の全空間を走査することができる。
Accordingly, by rotating the normal line around the
この実施例の実施例1の場合と同様な構成パラメータは後記する。また、この実施例の図2と同様の収差図を図5に示す。 The configuration parameters similar to those in the first embodiment will be described later. FIG. 5 is an aberration diagram similar to FIG. 2 of this example.
図6に、本発明の実施例3の光走査装置の中心軸1を含む断面図を示す。図1(b)と同様の光路図は省く。
FIG. 6 is a sectional view including the
本実施例の光走査装置は、中心軸1に配置された光源2と、同様に中心軸1に配置されたマイクロミラーデバイス等からなる2次元走査ミラー3と、中心軸1を回転対称軸とする走査角変換素子4とからなる。
The optical scanning device of the present embodiment includes a
光源2は、例えばレーザダイオード(LD)等で構成され、光源2からの発散光は走査角変換素子4の中心部に設けられた第3透過面15と第2透過面14を順に通過後、集束光束となり、2次元走査ミラー3で反射される。このとき、2次元走査ミラー3により中心軸1周りの所定の方位角(水平角)と中心軸1に沿った方向の垂直角(中心軸1に直交する方向を0°とする。)の方向に偏向される。偏向された光束は走査光束となり、再度走査角変換素子4の第2透過面14から素子内に入射し、第3反射面13’、正のパワーを有する第2反射面13、負のパワーを有する第1反射面12で順に反射され、第1透過面11で屈折されて走査角変換素子4の外に射出し、2次元走査ミラー3から出た走査光束の走査角が拡大されて、走査対象物を走査する。2次元走査ミラー3の反射点は中心軸1上に位置するため、第2透過面14、第3反射面13’、第2反射面13、第1反射面12、第1透過面11を順に経た走査光束の中心光線(主光線)は中心軸1と2次元走査ミラー3の法線を含む断面(メリジオナル断面)内に位置し、その断面と交差する対象物位置を走査することになる。
The
この実施例の走査角変換素子4の第3透過面15は球面、第2透過面14は非球面、第3反射面13’と第2反射面13と第1反射面14はトーリック面、第1透過面11はシリンドリカル面で構成され、何れも中心軸1を回転対称軸とする。
In the scanning
この実施例において、2次元走査ミラー3のメリジオナル断面内での振り角範囲は12.21°〜24.20°の11.99°であり、走査角変換素子4を出た走査光束のメリジオナル断面内での走査角は180°であり、走査角拡大倍率βωは7.51である。
In this embodiment, the swing angle range in the meridional section of the two-
したがって、2次元走査ミラー3をその法線がメリジオナル断面内で11.99°の振り角で振りながら中心軸1の周りでその法線を回転するようにすることで、方位角(水平角)360°、垂直角±90°(+は仰角、−は俯角)の範囲の全空間を走査することができる。
Accordingly, by rotating the normal line around the
この実施例の実施例1の場合と同様な構成パラメータは後記する。また、この実施例の図2と同様の収差図を図7に示す。 The configuration parameters similar to those in the first embodiment will be described later. FIG. 7 is an aberration diagram similar to that of FIG.
本発明の走査角変換素子4のメリジオナル断面の角倍率βωは入射走査角と射出の走査角の比で求められ、その値βωは、
2<βω ・・・(1)
なる条件を満たすことが望ましい。
The angular magnification βω of the meridional section of the scanning
2 <βω (1)
It is desirable to satisfy the following condition.
本条件式(1)の下限の2を越えると、上下(垂直)方向の走査角を±45°以上とることができなくなる。 If the lower limit of 2 of this conditional expression (1) is exceeded, the vertical (vertical) scanning angle cannot be taken more than ± 45 °.
また、本発明の走査角変換素子4の外径(第1透過面11のサジタル方向の外径)をdとするとき、
d<50(mm) ・・・(2)
なる条件を満たすことが望ましい。
Further, when the outer diameter of the scanning
d <50 (mm) (2)
It is desirable to satisfy the following condition.
本条件式(2)の上限の50mmを越えると、光学素子が大型になり好ましくない。 If the upper limit of 50 mm of the conditional expression (2) is exceeded, the optical element becomes undesirably large.
本発明の走査角変換素子4の外径をd、第1反射面12のメリジオナル断面でのパワーをpm1(1/mm)とするとき、
−0.01<pm1/d(mm-2) ・・・(3)
なる条件を満たすことが望ましい。
When the outer diameter of the scanning
−0.01 <pm1 / d (mm −2 ) (3)
It is desirable to satisfy the following condition.
本条件式(3)の下限の−0.01mm-2を越えると、第1反射面12の負のパワーが弱くなり、広い上下方向の走査角を取ることができなくなる。
When the lower limit of −0.01 mm −2 of the conditional expression (3) is exceeded, the negative power of the first reflecting
実施例1〜3の条件式(1)〜(3)の値は次の通りである。 The values of conditional expressions (1) to (3) in Examples 1 to 3 are as follows.
実施例1 実施例2 実施例3
βω 4.34 6.53 7.51
pm1 -1.316 -0.443 -0.940
d 9.00 7.96 12.00
pm1/d -0.146 -0.056 -0.078
さらに好ましくは、第1反射面12は2次元走査ミラー3側に凹面を向けた負のパワーを有する形状であることが重要である。凹面を2次元走査ミラー3側に向けることにより、この面で発生するコマ収差の発生を少なくすることが可能である。
Example 1 Example 2 Example 3
βω 4.34 6.53 7.51
pm1 -1.316 -0.443 -0.940
d 9.00 7.96 12.00
pm1 / d -0.146 -0.056 -0.078
More preferably, it is important that the first reflecting
さらに好ましくは、第2反射面13は2次元走査ミラー3側に凹面を向けた正のパワーを有する形状であることが重要である。凹面を2次元走査ミラー3側に向けることにより、第1反射面12と組み合わせて負正の所謂レトロフォーカス型のパワー配置をとることが可能となり、走査角拡大倍率を大きくとることが可能となる。
More preferably, it is important that the second reflecting
なお、何れの実施例においても、第1透過面11をシリンドリカル面の代わりに走査対象物側に凸のトーリック面とすることで、メリジオナル断面内での走査角を180°以上にすることができる。
In any of the embodiments, the
以下に、上記実施例1〜3の構成パラメータを示す。なお、以下の表中の“ERFS”は拡張回転自由曲面、“ASS”は非球面を示す。 The configuration parameters of Examples 1 to 3 are shown below. In the table below, “ERFS” indicates an extended rotation free-form surface, and “ASS” indicates an aspherical surface.
実施例1
面番号 曲率半径 面間隔 偏心 屈折率 アッベ数
物体面 ∞ 偏心(1)
1 ERFS[1] 偏心(2) 1.8348 42.7
2 ERFS[2] 偏心(3) 1.8348 42.7
3 ERFS[3] 偏心(4) 1.8348 42.7
4 ASS[1] 偏心(5)
5 ∞(走査ミラー) 偏心(6)
(絞り面)
6 ASS[1] 偏心(5) 1.8348 42.7
7 0.81 -1.00 偏心(7)
像 面 ∞
ERFS[1]
RY ∞
θ 90.00
R -4.50
ERFS[2]
RY 2.29
θ 33.22
R -3.51
ERFS[3]
RY 5.97
θ 5.90
R -2.42
ASS[1]
R 4.83
k -0.19423
偏心[1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.52
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[5]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.99
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[6]
X 0.00 Y 0.00 Z 0.00
α 27.73 β 0.00 γ 0.00
偏心[7]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.50
α 0.00 β 0.00 γ 0.00 。
Example 1
Surface number Curvature radius Surface spacing Eccentricity Refractive index Abbe number Object surface ∞ Eccentricity (1)
1 ERFS [1] Eccentricity (2) 1.8348 42.7
2 ERFS [2] Eccentricity (3) 1.8348 42.7
3 ERFS [3] Eccentricity (4) 1.8348 42.7
4 ASS [1] Eccentricity (5)
5 ∞ (scanning mirror) Eccentricity (6)
(Diaphragm surface)
6 ASS [1] Eccentricity (5) 1.8348 42.7
7 0.81 -1.00 Eccentricity (7)
Image plane ∞
ERFS [1]
RY ∞
θ 90.00
R -4.50
ERFS [2]
RY 2.29
θ 33.22
R -3.51
ERFS [3]
RY 5.97
θ 5.90
R -2.42
ASS [1]
R 4.83
k -0.19423
Eccentric [1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.52
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [5]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.99
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [6]
X 0.00 Y 0.00 Z 0.00
α 27.73 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [7]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.50
α 0.00 β 0.00 γ 0.00.
実施例2
面番号 曲率半径 面間隔 偏心 屈折率 アッベ数
物体面 ∞ 偏心(1)
1 ERFS[1] 偏心(2) 1.8348 42.7
2 ERFS[2] 偏心(3) 1.8348 42.7
3 ASS[1] 偏心(4)
4 ∞(走査ミラー) 偏心(5)
(絞り面)
5 ASS[1] 偏心(4) 1.8348 42.7
6 -1.58 2.25 偏心(6)
像 面 ∞
ERFS[1]
RY ∞
θ 90.00
R -3.98
ERFS[2]
RY 8.27
θ 36.77
R -2.38
ASS[1]
R 618.60
k -0.19423
偏心[1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.98
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[5]
X 0.00 Y 0.00 Z -5.41
α -15.83 β 0.00 γ 0.00
偏心[6]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.90
α 0.00 β 0.00 γ 0.00 。
Example 2
Surface number Curvature radius Surface spacing Eccentricity Refractive index Abbe number Object surface ∞ Eccentricity (1)
1 ERFS [1] Eccentricity (2) 1.8348 42.7
2 ERFS [2] Eccentricity (3) 1.8348 42.7
3 ASS [1] Eccentricity (4)
4 ∞ (scanning mirror) Eccentricity (5)
(Diaphragm surface)
5 ASS [1] Eccentricity (4) 1.8348 42.7
6 -1.58 2.25 Eccentricity (6)
Image plane ∞
ERFS [1]
RY ∞
θ 90.00
R -3.98
ERFS [2]
RY 8.27
θ 36.77
R -2.38
ASS [1]
R 618.60
k -0.19423
Eccentric [1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.98
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [5]
X 0.00 Y 0.00 Z -5.41
α -15.83 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [6]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.90
α 0.00 β 0.00 γ 0.00.
実施例3
面番号 曲率半径 面間隔 偏心 屈折率 アッベ数
物体面 ∞ 偏心(1)
1 ERFS[1] 偏心(2) 1.8348 42.7
2 ERFS[2] 偏心(3) 1.8348 42.7
3 ERFS[3] 偏心(4) 1.8348 42.7
4 ERFS[4] 偏心(5) 1.8348 42.7
5 ASS[1] 偏心(6)
6 ∞(走査ミラー) 偏心(7)
(絞り面)
7 ASS[1] 偏心(8) 1.8348 42.7
8 -1.42 2.40 偏心(9)
9 ∞
像 面 ERFS[1]
RY ∞
θ 90.00
R -6.00
ERFS[2]
RY 3.91
θ 33.61
R -4.96
ERFS[3]
RY 9.48
θ 11.77
R -3.93
ERFS[4]
RY 152.64
θ 10.29
R -2.13
ASS[1]
R -6.46
k -0.19423
偏心[1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.47
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[5]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.76
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[6]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.40
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[7]
X 0.00 Y 0.00 Z -4.13
α -19.31 β 0.00 γ 0.00
偏心[8]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.87
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
偏心[9]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.87
α 0.00 β 0.00 γ 0.00 。
Example 3
Surface number Curvature radius Surface spacing Eccentricity Refractive index Abbe number Object surface ∞ Eccentricity (1)
1 ERFS [1] Eccentricity (2) 1.8348 42.7
2 ERFS [2] Eccentricity (3) 1.8348 42.7
3 ERFS [3] Eccentricity (4) 1.8348 42.7
4 ERFS [4] Eccentricity (5) 1.8348 42.7
5 ASS [1] Eccentricity (6)
6 ∞ (scanning mirror) Eccentricity (7)
(Diaphragm surface)
7 ASS [1] Eccentricity (8) 1.8348 42.7
8 -1.42 2.40 Eccentricity (9)
9 ∞
Image surface ERFS [1]
RY ∞
θ 90.00
R -6.00
ERFS [2]
RY 3.91
θ 33.61
R -4.96
ERFS [3]
RY 9.48
θ 11.77
R -3.93
ERFS [4]
RY 152.64
θ 10.29
R-2.13
ASS [1]
R -6.46
k -0.19423
Eccentric [1]
X 0.00 Y -∞ Z 0.00
α 90.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [2]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [3]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.01
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [4]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.47
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [5]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.76
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [6]
X 0.00 Y 0.00 Z -2.40
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [7]
X 0.00 Y 0.00 Z -4.13
α -19.31 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [8]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.87
α 0.00 β 0.00 γ 0.00
Eccentric [9]
X 0.00 Y 0.00 Z -0.87
α 0.00 β 0.00 γ 0.00.
なお、以上の実施例1〜3の構成パラメータにおいて、走査ミラーの偏心データ中のαの値は、中心軸1に直交する方向を走査する場合の2次元走査ミラー3の振り角(°)である。
In the configuration parameters of Examples 1 to 3 above, the value of α in the eccentric data of the scanning mirror is the swing angle (°) of the two-
ところで、光走査手段としての2次元走査ミラー3の走査機構については、反射面の法線ベクトルを2次元的に振動させる機構であれば何れでもよいが、いくつか例示する。図8(a)の機構は、中心軸1の周りで回転する回転体21に中心軸1と直角に交差する振動軸21を設け、その軸21が反射面内に含まれるように2次元走査ミラー3を振動軸21に取り付けて構成し、例えば振動軸21周りの2次元走査ミラー3の往復動を比較的高速で行い、回転体21の中心軸1周りでの回転を比較的低速で行うことで、走査角変換素子4から射出した走査光束が中心軸1に略平行で±90°の垂直角範囲を往復軌跡を描きながら360°全方位の空間を走査することになる。
By the way, the scanning mechanism of the two-
また、図8(b)の機構は、内側枠22に中心軸1を通りX軸方向に伸びる振動軸23を設け、その軸23が反射面内に含まれるように2次元走査ミラー3を振動軸23に取り付け、その内側枠22を外側枠24内に今度は振動軸23が中心軸1と交差する点を通りY軸方向に伸びる振動軸25に取り付け、例えば振動軸23周りの2次元走査ミラー3の往復動を比較的高速で行い、振動軸25周りの内側枠22の往復動を比較的低速で行うことで、走査角変換素子4の第2透過面14に入射する走査光束を拡大縮小する“8”の字状の軌跡を描くように走査することになり、走査角変換素子4から射出した走査光束は垂直角±90°、水平角360°の範囲で曲線状の軌跡を描いて全空間を走査する。
In the mechanism of FIG. 8B, the
また、図8(c)の機構は、2次元走査ミラー3の反射面の法線ベクトルnが可変の頂角φで首振り運動をするように運動を制御し、その首振り運動の頂角φを首振り運動の速度に比して比較的低速で行うことで、走査角変換素子4から射出した走査光束が垂直角±90°の範囲で中心軸1の周りで略水平な軌跡で回転することで全空間を走査するものである。
8C controls the movement so that the normal vector n of the reflecting surface of the two-
図8(c)のように、2次元走査ミラー3の反射面の法線ベクトルnが可変の頂角φで首振り運動をするための機構としては、機械的に構成することもできるが、MEMSの技術を利用して一体型のものとして構成することができる(特許文献4)。その概略を図9の斜視図に示す。例えば半導体装置製造技術により基板30表面の中央に弾性撓み可能な柱31を立て、その先端に2次元走査ミラー3を取り付ける。そして、2次元走査ミラー3を中心としてその周辺から基板30の表面に平行な方向に放射状に3本の腕部材321 〜323 が相互に120°をなすように2次元走査ミラー3に一体に設ける。そして、各腕部材321 〜323 の先端部直下の基板30の表面部に電極331 〜333 を配置して2次元走査ミラー3を首振り運動させるための機構を構成する。そして、電極331 、332 、333 にそれぞれA(t){1+sin2πωt}、A(t){1+sin(2πωt−120°)}、A(t){1+sin(2πωt−240°)}の位相が相互に120°遅れてなる三相交流に類似した交番電圧を印加することで、2次元走査ミラー3を静電的に図8(c)のような首振り運動を可能にすることができる。ここで、A(t)は時間と共に増加又は減少する定数、tは時間、ωは周波数である。なお、腕部材321 〜323 は導体、誘電体何れで構成してもよいが、導体であることが望ましい。
As shown in FIG. 8C, the mechanism for swinging the normal vector n of the reflecting surface of the two-
以上本発明の光走査光学素子、2次元走査ミラー装置及びそれを用いた光走査装置を実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。 The optical scanning optical element, the two-dimensional scanning mirror device, and the optical scanning device using the same according to the present invention have been described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be made. .
1…中心軸
2…光源
3…2次元走査ミラー
4…走査角変換素子
5…コリメータレンズ
6…ハーフミラー
7…集光レンズ
8…受光素子
10…中心軸に直交する方向に走査する光束の中心光線
11、12、13、13’、14、15…走査角変換素子の光学面
21…回転体
21…振動軸
22…内側枠
23…振動軸
24…外側枠
25…振動軸
30…基板
31…柱
321 〜323 …腕部材
331 〜333 …電極
DESCRIPTION OF
Claims (12)
2<βω ・・・(1)
なる条件を満足することを特徴とする請求項6から8の何れか1項記載の光走査光学素子。 When the scanning angle magnification within the cross section including the central axis is βω,
2 <βω (1)
The optical scanning optical element according to claim 6, wherein the following condition is satisfied.
d<50(mm) ・・・(2)
なる条件を満足することを特徴とする請求項6から9の何れか1項記載の光走査光学素子。 When the outer diameter of the optical scanning optical element is d,
d <50 (mm) (2)
The optical scanning optical element according to claim 6, wherein the following condition is satisfied.
−0.01<pm1/d(mm-2) ・・・(3)
なる条件を満足することを特徴とする請求項6から10の何れか1項記載の光走査光学素子。 When the outer diameter of the optical scanning optical element is d and the power in the cross section including the central axis of the reflection surface before reaching the first transmission surface is pm1 (1 / mm) in the order that the light beam passes,
−0.01 <pm1 / d (mm −2 ) (3)
The optical scanning optical element according to claim 6, wherein the following condition is satisfied.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101157117B1 (en) | 2009-12-28 | 2012-06-22 | 한국기초과학지원연구원 | pointer using Omi-mirror and laser |
JP2015090463A (en) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | リコー光学株式会社 | Two-dimensional scanning laser beam emitter |
WO2018230024A1 (en) | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 三菱電機株式会社 | Optical scanning device, method for controlling same, and mobile body |
JP2021140014A (en) * | 2020-03-04 | 2021-09-16 | 国立大学法人東北大学 | Omnidirectional scanning mirror |
-
2007
- 2007-06-18 JP JP2007159756A patent/JP2008310204A/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101157117B1 (en) | 2009-12-28 | 2012-06-22 | 한국기초과학지원연구원 | pointer using Omi-mirror and laser |
JP2015090463A (en) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | リコー光学株式会社 | Two-dimensional scanning laser beam emitter |
WO2018230024A1 (en) | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 三菱電機株式会社 | Optical scanning device, method for controlling same, and mobile body |
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JP2021140014A (en) * | 2020-03-04 | 2021-09-16 | 国立大学法人東北大学 | Omnidirectional scanning mirror |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100907 |