JP2008306088A - Process control system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プロセス管理システムに関する。 The present invention relates to a process management system.
近年、例えば、特許文献1に開示されるようなプロセス装置(例えば、CVD装置)を用いて加工対象を加工する際に、高いプロセス精度が求められるようになってきている。
In recent years, for example, when processing an object to be processed using a process apparatus (for example, a CVD apparatus) as disclosed in
ところで、特許文献1に示すようなプロセス装置では、従来、装置の各部の状態を示すアナログ波形をサンプリングして記憶装置に記憶しておき、加工対象に何らかの不具合が見つかった場合には記憶装置に記憶された情報に基づいて原因の解析を行っていた。
By the way, in a process apparatus as shown in
しかしながら、これらの作業は、手作業で行われていたことから、解析に時間を要するという問題点がある。また、前述したように、近年では、プロセス精度が高まっていることに関連して、プロセス上のわずかな差が、加工対象の性能を大きく左右するため、そのようなわずかな差をアナログ波形から手作業で検出するためには、多大な時間を要するという問題点がある。 However, since these operations are performed manually, there is a problem that analysis takes time. In addition, as described above, in recent years, a slight difference in the process greatly affects the performance of the processing object in connection with the increase in process accuracy. In order to detect manually, there exists a problem that much time is required.
本発明は、上記の事情に基づきなされたもので、その目的とするところは、装置によって得られる情報を迅速に解析することが可能なプロセス管理システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a process management system capable of quickly analyzing information obtained by an apparatus.
上述の目的を達成するため、本発明のプロセス管理システムは、装置の各部の状態を示す状態情報を取得する第1の取得手段と、装置の制御に関する制御情報を取得する第2の取得手段と、第1および第2の取得手段によって取得された状態情報と制御情報を対応付けする対応付手段と、対応付手段によって対応付けがされた状態情報および制御情報を格納する格納手段と、制御情報および状態情報に対して解析処理を施す際の解析条件の入力を受ける入力手段と、入力手段から入力された解析条件を記憶する記憶手段と、記憶手段に記憶された解析条件に従って、制御情報を参照して状態情報に対して解析処理を施す解析手段と、解析手段の解析の結果として得られた情報を呈示する呈示手段と、を有する。これにより、装置によって得られる情報を迅速に解析することが可能なプロセス管理システムを提供することができる。 In order to achieve the above object, the process management system of the present invention includes a first acquisition unit that acquires state information indicating the state of each unit of the apparatus, and a second acquisition unit that acquires control information related to control of the apparatus. The association means for associating the state information and the control information acquired by the first and second acquisition means, the storage means for storing the state information and the control information associated by the association means, and the control information And input means for receiving analysis conditions when performing analysis processing on the state information, storage means for storing analysis conditions input from the input means, and control information according to the analysis conditions stored in the storage means An analysis unit that performs an analysis process on the state information with reference to a display unit that presents information obtained as a result of analysis by the analysis unit. Thereby, it is possible to provide a process management system capable of quickly analyzing information obtained by the apparatus.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、入力手段が、複数の解析条件の雛形を有し、当該雛形を用いて解析条件の入力を受けるとともに、複数の雛形のいずれかの選択を受ける第1のインタフェースと、第1のインタフェースを介して入力された各解析条件を実行するか否かの選択を受ける第2のインタフェースと、を有する。これにより、第1のインタフェースにおいて雛形を用いて解析条件を簡易に入力することができるとともに、第2のインタフェースにおいて実行対象となる解析条件を簡易に選択することができる。 In addition to the above-described invention, the process management apparatus according to another invention includes an input unit having a plurality of analysis condition templates, receiving input of analysis conditions using the template, and any of the plurality of templates. A first interface that receives the selection, and a second interface that receives the selection as to whether to execute each analysis condition input via the first interface. As a result, the analysis conditions can be easily input using the template in the first interface, and the analysis conditions to be executed in the second interface can be easily selected.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、第2のインタフェースには、第1のインタフェースにおいて選択された解析条件を示す情報がテキスト情報として表示される。これにより、設定された解析条件を容易に知ることができる。 In addition to the above-described invention, in the process management apparatus of another invention, information indicating the analysis condition selected in the first interface is displayed as text information on the second interface. Thereby, the set analysis conditions can be easily known.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、第2のインタフェースが、所定の操作が行われた場合には、第1のインタフェースを介して入力された解析条件を複製して、新たな他の解析条件を生成するようにしている。これにより、部分的に異なる解析条件を簡易に生成することができる。 In addition to the above-described invention, the process management apparatus according to another invention, when the second interface performs a predetermined operation, duplicates the analysis condition input through the first interface. Thus, another new analysis condition is generated. Thereby, partially different analysis conditions can be easily generated.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、呈示手段が、第2のインタフェースにおいて選択された解析条件に基づく解析結果の情報を、グラフとして呈示するようにしている。これにより、解析の結果を視覚的に簡易に確認することができる。 In addition to the above-described invention, the process management apparatus according to another invention is configured so that the presenting means presents information of the analysis result based on the analysis condition selected in the second interface as a graph. Thereby, the result of the analysis can be easily confirmed visually.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、第1の取得手段および第2の取得手段が取得する情報の種類を指定するための第3のインタフェースを有し、第1のインタフェースは、第3のインタフェースを介して指定された情報に基づく雛形を表示するようにしている。これにより、第3のインタフェースにおいて、解析対象となる状態情報および制御情報を簡易に選択することが可能になる。 In addition to the above-described invention, the process management apparatus of another invention has a third interface for designating the type of information acquired by the first acquisition unit and the second acquisition unit, In this interface, a template based on information designated via the third interface is displayed. Thereby, in the third interface, it is possible to easily select state information and control information to be analyzed.
また、他の発明のプロセス管理装置は、上述の発明に加えて、状態情報と制御情報が、電子ファイルとして供給され、第1の取得手段および第2の取得手段は、それぞれ複数の電子ファイルを同時に取得するようにしている。このため、複数の電子ファイルを同時に対象として解析処理を実行することにより、例えば、異なる時期に生成された電子ファイルを解析することにより、経時的な変化を知ることができる。 In addition to the above-described invention, the process management apparatus of another invention is supplied with status information and control information as an electronic file, and the first acquisition unit and the second acquisition unit each include a plurality of electronic files. I try to get it at the same time. For this reason, it is possible to know a change with time by performing analysis processing on a plurality of electronic files at the same time, for example, by analyzing electronic files generated at different times.
本発明によれば、装置によって得られる情報を迅速に解析することが可能なプロセス管理システムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the process management system which can analyze rapidly the information obtained by an apparatus can be provided.
以下、本発明の一実施の形態について図に基づいて説明する。なお、以下では、(A)実施の形態の構成例、(B)実施の形態の動作の概要、(C)実施の形態の動作の詳細、(D)変形実施の態様の順に説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, (A) a configuration example of the embodiment, (B) an outline of the operation of the embodiment, (C) details of the operation of the embodiment, and (D) a modified implementation mode will be described in this order.
(A)実施の形態の構成例 (A) Configuration example of the embodiment
図1は、本発明のプロセス管理システムの実施の形態の構成例を示す図である。この図に示すように、プロセス管理システムは、真空プロセス装置1、ログ格納装置2、ネットワーク3、および、解析装置4を主要な構成要素としている。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of an embodiment of a process management system of the present invention. As shown in this figure, the process management system includes a
ここで、真空プロセス装置1は、例えば、PVD(Physical Vapor Deposition)装置、CVD(Chemical Vapor Deposition)装置、エッチング装置、インプラー装置、フォトリソグラフィー装置等によって構成されている。この例では、後述するように、PVD装置を例に挙げている。
Here, the
ログ格納装置2は、真空プロセス装置1において生成されたログデータをネットワーク3を介して取得して格納するとともに、解析装置4から要求がなされた場合には、格納しているログデータをネットワーク3を介して送信する。
The
ネットワーク3は、例えば、LAN(Local Area Network)等によって構成され、真空プロセス装置1、ログ格納装置2、解析装置4を相互に電気的に接続し、これらの間で、例えば、パケットによる情報通信を可能とする。
The
解析装置4は、例えば、パーソナルコンピュータによって構成され、ログ格納装置2に格納されているログデータをネットワーク3を介して取得し、種々の解析処理を実行する。
The
図2は、図1に示す真空プロセス装置1の詳細な構成例を示す図である。この図の例では、真空プロセス装置1は、チャンバ10、ウエハステージ11、ウエハ12、ターゲット13、イオンリフレクタ14、マグネット15、制御監視部20、DC(Direct Current)電源部21、ガス供給部22、ガス流量制御部23、圧力検出部24、ヒータ制御部25、RF(Radio Frequency)電源部26、温度検出部27、静電チャック部28、ドライポンプ29、ターボポンプ30、ドライポンプ31、IR(Ion Reflector)電源部32、通信部33、および、タイマ34を主要な構成要素としている。
FIG. 2 is a diagram showing a detailed configuration example of the
ここで、チャンバ10は、例えば、石英、ステンレス、アルミ、銅、アルミナ、チタン等の部材によって構成された中空状の容器で、大気を遮断し、それぞれのプロセスに応じた高真空/内部雰囲気を保持する。
Here, the
ウエハステージ11は、ウエハ12を載置するためのステージである。ウエハステージ11の上部(図の上方向)にはウエハ12を静電気力によって吸着するための静電チャック機構(不図示)が配設されている。また、その内部には、ヒータおよび温度検出用のセンサ(共に不図示)が配設されている。
The
加工対象としてのウエハ12は、例えば、シリコン基板等であり、本装置では、シリコン基板上に、銅による配線をPVDによって形成する。
The
ターゲット13は、例えば、銅板によって構成されている。ターゲット13に対してアルゴンのプラズマが衝突することにより構成粒子が反跳し、ウエハ12上に堆積される。
The
イオンリフレクタ14は、ターゲット13およびウエハステージ11を囲繞するように構成される円筒形状の部材であり、イオンに対して電気的な斥力を与えることによってこれを反射(加速)する機能を有する。
The
マグネット15は、ターゲット13の上部に配置され、プラズマ中のアルゴンイオンにローレンツ力を印加することによりこれを加速し、ターゲット13から銅分子が放出される効率を高める機能を有する。
The
第1の取得手段、第2の取得手段、および、対応付手段の一部としての制御監視部20は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等を有するマイクロコンピュータによって構成され、ROMに格納されているプログラムに基づいて装置の各部を制御するとともに、ログデータを生成して、通信部33およびネットワーク3を介して、ログ格納装置2に送信する。
The
DC電源部21は、ターゲット13がマイナス、グランドがプラスになるようにこれらの間に直流電圧を印加し、ターゲット13とウエハ12の間の空間に満たされているアルゴンガスをプラズマ化する。
The DC
ガス供給部22は、チャンバ10内部にガス流量制御部23を経由してアルゴンガスを供給する。
The
ガス流量制御部23は、例えば、マスフローコントローラ等によって構成され、制御監視部20の制御に応じてガス供給部22から供給されるガスの流量を制御するとともに、その時点におけるガス流量を制御監視部20に通知する。
The gas flow
圧力検出部24は、例えば、イオンゲージ、ピラニーゲージ等によって構成され、チャンバ10内部の圧力を計測し、計測結果を制御監視部20に通知する。
The
ヒータ制御部25は、制御監視部20の制御に応じて、ウエハステージ11に内蔵されているヒータを制御し、ウエハ12の温度が所望の温度になるようにする。
The
RF電源部26は、グランドとウエハステージの間に高周波電力を印加し、ウエハ12に対してRFバイアスを印加することにより、ウエハ12をマイナスに帯電させ、プラスの電荷を有する銅イオンとの間に電気的な引力を生じせしめる。これにより、銅イオンが高速にウエハ12に衝突するため、銅イオンがウエハ12に形成された凹部の深部にまで到達する。
The RF
温度検出部27は、ウエハステージ11の温度を検出し、検出結果を制御監視部20に通知する。
The
静電チャック部28は、制御監視部20の制御に応じて、ウエハステージ11に設けられたチャック機構を制御して、ウエハ12を吸着して固定させる。
The
ドライポンプ29は、制御監視部20の制御に応じて、チャンバ10内部に存在する空気を外部に排出し、チャンバ10の内部を真空状態にする。
The
ターボポンプ30は、ドライポンプ29よりも高い真空度を達成するためのポンプであり、チャンバ10内部のガスを外部に排出する。
The
ドライポンプ31は、ターボポンプ30の排気側に接続され、ターボポンプ30から排出されるガスを外部に排出することにより、ターボポンプ30の効率を高める。
The
IR電源部32は、制御監視部20の制御に応じて、イオンリフレクタ14がプラス、グランドがマイナスになるように直流電圧を印加し、イオンリフレクタ14によって銅イオンを反射(加速)させる。
The IR
通信部33は、ネットワーク3を介してログ格納装置2と制御監視部20との間で通信を行う場合に、例えば、通信プロトコルに関する制御を行う。
When the
対応付手段の一部としてのタイマ34は、例えば、日時情報(年、月、時刻、)等の情報を生成し、制御監視部20に供給する。制御監視部20は、タイマ34が生成した日時情報をタイムスタンプとして利用する。
For example, the
図3は、図1に示すログ格納装置2の詳細な構成例を示す図である。この図に示すように、ログ格納装置2は、CPU2a、ROM2b、RAM2c、HDD(Hard Disk Drive)2d、I/F(Interface)2f、および、バス2gを主要な構成要素としている。
FIG. 3 is a diagram illustrating a detailed configuration example of the
ここで、CPU2aは、HDD2dに格納されているプログラム2d1およびROM2bに格納されているプログラム(不図示)に基づいて装置の各部を制御するとともに、各種演算処理を実行する。また、CPU2aは、HDD2dに格納されているプログラム2d1に基づいて、真空プロセス装置1からログデータを取得して格納するとともに、解析装置4からの要求に応じてログデータを読み出して供給する。
Here, the
ROM2bは、CPU2aが実行する基本的なプログラムおよびデータを格納している半導体記憶装置である。RAM2cは、CPU2aが実行するプログラムおよびデータを一時的に格納する半導体記憶装置である。
The
格納手段としてのHDD2dは、磁気記憶媒体であるハードディスクに情報を記憶したり、記憶されている情報を読み出したりする記憶装置である。なお、この例では、HDD2dには、プログラム2d1およびログデータ2d2が格納されている。ここで、プログラム2d1は、ログ格納装置2を制御するためのオペレーティングシステム等のプログラムおよびログデータを取得して格納するためのアプリケーションプログラム等を有している。ログデータ2d2は、プログラム2d1が実行されることによって起動されたアプリケーションプログラムによって真空プロセス装置1から取得されたログデータが格納されている。
The
I/F(Interface)2fは、ネットワーク3を介して真空プロセス装置1との間で情報を授受する際に、プロトコルに関する処理を実行する。バス2gは、CPU2a、ROM2b、RAM2c、HDD2d、および、I/F2fを相互に電気的に接続して、これらの間で情報の授受を可能にする信号線群である。
The I / F (Interface) 2 f executes processing related to a protocol when exchanging information with the
図4は、図1に示す解析装置4の詳細な構成例を示す図である。この図に示すように、解析装置4は、CPU4a、ROM4b、RAM4c、HDD4d、画像処理部4e、I/F4f、バス4g、表示装置4h、および、入力装置4iによって主に構成されている。
FIG. 4 is a diagram showing a detailed configuration example of the
ここで、解析手段としてのCPU4aは、HDD4dに格納されているプログラム4d1およびROM4bに格納されているプログラムに基づいて、装置の各部を制御するとともに、各種の演算処理を実行する。また、CPU4aは、プログラム4d1に基づいて、ログ格納装置2に格納されているログデータを取得し、解析処理を実行する。
Here, the
ROM4bは、CPU4aが実行する基本的なプログラムおよびデータを格納する半導体記憶装置である。記憶手段としてのRAM4cは、CPU4aが処理対象とするプログラムおよびデータを一時的に格納する半導体記憶装置である。また、RAM4cは、取得されたログデータを格納するとともに、解析条件を格納する。
The
HDD4dは、磁気記憶媒体であるハードディスクに情報を書き込んだり、書き込まれている情報を読み出したりする記憶装置である。この例では、プログラム4d1が格納されている。プログラム4d1は、例えば、解析装置4を制御するためのオペレーティングシステム等のプログラムおよびログデータを取得して解析するためのアプリケーションプログラム等を有している。
The
画像処理部4eは、CPU4aから供給された描画命令に従って描画処理を実行し、得られた画像を映像信号に変換して表示装置4hに供給する。I/F4fは、入力装置4iおよびネットワーク3との間で情報を授受する際に、データの表現形式等を変換する。バス4gは、CPU4a、ROM4b、RAM4c、HDD4d、画像処理部4e、および、I/F4fを相互に電気的に接続し、これらの間で情報の授受を可能にする信号線群である。
The image processing unit 4e executes a drawing process according to a drawing command supplied from the
呈示手段としての表示装置4hは、例えば、LCD(Liquid Crystal Display)またはCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイ等によって構成され、画像処理部4eから供給された映像信号に対応する映像を表示部(不図示)に表示する。
The
入力手段としての入力装置4iは、例えば、キーボードまたはマウス等によって構成され、真空プロセス管理システムの管理者の操作に応じた情報を生成し、I/F4fを介してCPU4aに供給する。
The
(B)実施の形態の動作の概要 (B) Overview of operation of the embodiment
本実施の形態の真空プロセス管理システムでは、真空プロセス装置1において、ウエハ12に対するプロセス処理が開始されると、制御監視部20は、予め設定されている制御プログラムに基づいて装置の各部(DC電源部21、ガス流量制御部23等)を制御し、プロセス処理を実行する。その際、制御監視部20は、制御に関する制御情報としてのデータ(イベントデータ)を生成し、処理対象となっているウエハ12を特定するためのID(以下、「ウエハID)と称する)を付加するとともに、タイマ34から供給されるタイムスタンプを貼付する。また、制御監視部20は、装置の各部の状態を示す状態情報としてのデータ(トレースデータ)を所定の周期(例えば、10分の1秒間隔)で取得し、タイマ34から供給されるタイムスタンプを貼付する。そして、得られたこれらの情報をログデータとして、ログ格納装置2に送信する。
In the vacuum process management system of the present embodiment, when process processing on the
ログ格納装置2は、真空プロセス装置1から供給されたログデータを、ログデータ2d2としてHDD2dに格納する。
The
そして、例えば、製造したウエハ12に不具合が生じた場合には、真空プロセス管理システムの管理者(以下、単に「管理者」と称する)は、解析装置4の入力装置4iを操作し、ログ格納装置2に格納されているログデータ2d2を取得し、解析処理を施し、様々な観点から分析することにより、不具合の原因を特定する。
For example, when a defect occurs in the manufactured
すなわち、管理者は、まず、解析装置4の入力装置4iを操作し、解析用のアプリケーションプログラム(以下、単に「プログラム」と称する)を起動する。プログラムが起動されると、図10に示す第3のインタフェースとしての入力画面(詳細は後述する)が表示されるので、管理者は、解析対象となるトレースデータおよびイベントデータを指定する。
That is, the administrator first operates the
その結果、解析装置4は、指定されたトレースデータおよびログデータを、RAM4c上にダウンロードする。そして、解析装置4は、ダウンロードされたトレースデータと、イベントデータとを、タイムスタンプを参照して対応付けする処理を実行する。ここで、イベントデータは、例えば、ガス供給部22からのガスの供給開始を示すデータと、加工対象であるウエハ12のウエハIDと、ガスの供給が開始された日時を示すタイムスタンプとを含んでいる。また、トレースデータは、それぞれの時点におけるガスの流量を示すデータと、その時点のタイムスタンプとを含むデータである。解析装置4は、同じ日時のタイムスタンプが貼付されているイベントデータと、トレースデータとを対応付けすることにより、2つのデータを時間軸上において関連付けする。
As a result, the
つぎに、管理者は、解析装置4の入力装置4iを操作して、図13に示す第2のインタフェースとしての入力画面(詳細は後述する)を表示させる。この入力画面では、「定義」ボタンを操作することにより後述する図14に示す第1のインタフェースとしての入力画面(詳細は後述する)を表示させて解析条件を設定することができる。また、この入力画面では、複数の「定義」ボタンのそれぞれについて解析条件を設定することができる。さらに、この入力画面では、入力された複数の解析条件を、実行するか否かを画面左端に表示されているチェックボックスをチェックすることにより選択することができる。
Next, the administrator operates the
図13に示す入力画面の「定義」ボタンが操作された場合には、図14に示す入力画面が表示される。この入力画面では、解析条件の雛形91〜103のいずれかをラジオボタンによって選択するとともに、選択された解析条件の雛形を利用して解析条件を設定する。この例では、解析条件の雛形100が選択されるとともに、「DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上、250以下の範囲にある時間」が条件として設定されている。
When the “definition” button on the input screen shown in FIG. 13 is operated, the input screen shown in FIG. 14 is displayed. On this input screen, one of the
以上のような設定が完了すると、管理者は、解析装置4の入力装置4iを操作して、解析処理を実行させる。その結果、解析装置4は、入力された解析条件に応じた解析処理を実行する。具体的には、前述した例では、トレースデータである「DC Voltage」を対象とし、イベントデータである「DC−ON」および「DC−OFF」を参照し、「DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上、250以下の範囲にある時間」が解析される。そして、処理結果として得られた情報は、グラフとして表示装置4hに表示される。
When the above settings are completed, the administrator operates the
管理者は、このようにして表示された情報を参照することで、不具合の原因を特定することができる。また、特定された不具合に基づいて、制御監視部20に格納されている制御プログラムを変更することにより、不具合が再度発生しないようにすることができる。
The administrator can identify the cause of the malfunction by referring to the information displayed in this way. Moreover, it is possible to prevent the problem from occurring again by changing the control program stored in the
(C)実施の形態の動作の詳細 (C) Details of operation of embodiment
つぎに、本発明の実施の形態の詳細な動作について説明する。以下では、(C−1)真空プロセス装置1におけるイベントデータの生成処理、(C−2)真空プロセス装置1におけるトレースデータの生成処理、(C−3)解析装置4における解析処理の順で説明を行う。
Next, the detailed operation of the embodiment of the present invention will be described. Hereinafter, (C-1) event data generation processing in the
(C−1)真空プロセス装置1におけるイベントデータの生成処理
(C-1) Event data generation processing in the
図5は、図2に示す真空プロセス装置1においてイベントデータを生成する処理の詳細を説明するフローチャートの一例である。なお、図5に示すフローチャートを説明する前に、図6を参照して、真空プロセス装置1において発生するイベントについて説明する。
FIG. 5 is an example of a flowchart for explaining details of processing for generating event data in the
真空プロセス装置1では、アルゴンガスによって生成されるプラズマによってターゲット13としての銅をスパッタリングし、ウエハ12上に堆積させる。真空プロセス装置1では、複数枚のウエハ12を保持するウエハカセット(不図示)が真空プロセス装置1にセットされ、プロセスの開始が指示されると、ウエハカセットからウエハ12が1枚ずつ抜き出されて、チャンバ10内のウエハステージ11上に載置される。つぎに、チャンバ10内部が所定の真空度になるまでドライポンプ29が駆動される。そして、所定の真空度に到達すると、ターボポンプ30とドライポンプ31がつづいて駆動される。この結果、チャンバ10内部が所定の真空度に到達すると、図6に示すプロセスが開始される(ST1:プロセス開始のイベントが発生する)。
In the
つぎに、制御監視部20は、IR電源部32を制御し、IR電源の供給を開始するとともに、静電チャック部28を制御して静電チャック機構を機能させる(ST2)。この結果、イオンリフレクタ14がプラスに、グランドがマイナスとなるように直流電圧が印加される。また、静電チャック部28が機能することにより、ウエハ12はウエハステージ11に吸着されて固定された状態となる。
Next, the
つぎに、制御監視部20は、ガス流量制御部23を制御することにより、ガスフローを開始する(ST3)。この結果、ガス供給部22から供給されたアルゴンガスは、ガス流量制御部23によって流量を調整された後、チャンバ10内部に導入される。
Next, the
つづいて、制御監視部20は、DC電源部21を制御し、ターゲット13がマイナスに、グランドがプラスになるように直流電圧(スパッタリングパワー)を印加する(ST4:スパッタリングパワーオン)。この結果、ターゲット13とウエハステージ11の間でグロー放電が開始され、その結果として、アルゴンガスがプラズマ状態となる。プラズマ状態となったアルゴンガスの原子核(アルゴンイオン)は、プラスの電荷を帯びているので、マイナスの電圧が印加されているターゲットとの間で引力が働くため、これに吸い寄せられて加速され、ターゲット13に衝突する。この結果、ターゲット13を構成する銅から銅の分子が反跳される。反跳された銅の分子は、ウエハ12の表面に堆積する。
Subsequently, the
つづいて、制御監視部20は、ガス流量制御部23を制御し、アルゴンガスの流量を減少させる(ST5)。つぎに、制御監視部20は、RF電源部26を制御し、ウエハステージ11とグランドの間に高周波電力(RFパワー)を印加する(ST6:RFパワーオン)。プラズマ内においては、電子は、イオンよりも移動度が大きいため、銅の分子から電子が分離され、イオン化される(銅イオンとなる)。そして、分離された電子は、ウエハ12上に集まるため、ウエハ12はマイナスに帯電する。これにより、プラスの電荷を有する銅イオンと、マイナスに帯電したウエハ12との間には電気的な引力が作用し、銅イオンは加速されて、ウエハ12に衝突する。このため、ウエハ12に形成された凹部の深部にまで銅イオンが到達する。また、高速に衝突することにより、凹部の開口部にバリ状の銅が形成されることが防止できる。さらに、銅イオンには、図2の横方向へ向かう速度よりも、下方向(ウエハ12の方向)に向かう速度の方が大きくなるので、高アスペクト比を有する凹部の内部に対しても均一な銅膜を形成することができる。
Subsequently, the
なお、イオン化された銅は、プラスの電荷を有するため、プラスの電圧が印加されたイオンリフレクタ14との間に斥力が働くため、銅イオンはイオンリフレクタ14によって反射(加速)され、プラズマの内部に引き戻される。これにより、銅膜の形成の効率を高めることができる。
Since ionized copper has a positive charge, a repulsive force acts between the
そして、スパッタリングが開始されてから所定の時間が経過し、ウエハ12上に堆積した銅の膜厚が所定の厚さに到達すると、制御監視部20は、DC電源部21を制御して、スパッタリングパワーをオフの状態にするとともに、RF電源部26を制御してRFパワーをオフの状態にする(ST7)。これによりスパッタリングが終了する。
Then, when a predetermined time elapses after the sputtering is started and the film thickness of the copper deposited on the
つづいて、制御監視部20は、静電チャック部28を制御して静電チャックをオフの状態にする(ST8)。つぎに、制御監視部20は、ガス流量制御部23を制御して、ガス供給部22からのアルゴンガスの供給を停止する(ST9)。そして、制御監視部20は、プロセスを終了する(ST10)。
Subsequently, the
以上により、1枚のウエハ12に対するプロセス処理が完了する。その後は、チャンバ10内からプロセス処理が完了したウエハ12が取り出され、つぎのウエハ12がウエハカセットから抜き出され、チャンバ10内のウエハステージ11上に載置され、前述の場合と同様の処理が繰り返される。そして、ウエハカセットに配置されている全てのウエハ12に対する処理が完了すると、1ロット分の処理が完了する。
Thus, the process processing for one
つぎに、図5を参照して、真空プロセス装置1において、以上のプロセスが実行される際に、イベントデータを取得する処理について説明する。図5に示すフローチャートの処理が開始されると、以下のステップが実行される。
Next, a process for acquiring event data when the above process is performed in the
ステップS10:制御監視部20は、イベントが発生したか否かを判定し、イベントが発生した場合にはステップS11に進み、それ以外の場合には同様の処理を繰り返す。すなわち、制御監視部20は、図示せぬ制御プログラムに応じて制御を行う上で、図6に示すいずれかのイベントが発生した場合にはステップS11に進み、それ以外の場合にはステップS10の処理を繰り返す。
Step S10: The
ステップS11:制御監視部20は、イベントデータを生成する。図7は、イベントデータの一例を示している。この例では、各行が1レコード分のイベントデータを示している。1レコード分のイベントデータは、タイムスタンプ(詳細は後述する)、実モジュールID、処理ID、ウエハID、および、メッセージを有している。ここで、タイムスタンプは後述するステップS12の処理において貼付される情報である。真空プロセス装置識別情報としての実モジュールIDは、チャンバ10を特定するためのIDである。図1の実施の形態では、真空プロセス装置1は、チャンバ10を1つしか有していないが、真空プロセス装置1が複数のチャンバを有している場合や、システムが複数の真空プロセス装置を有している場合には、複数のチャンバのそれぞれに対して付与されるIDである。この例では、真空プロセス装置1は1台であるので、モジュールIDは全て「F1」となっている。
Step S11: The
処理IDは、処理の種類を特定するためのIDである。この例では、「SP−S」、「IR−ON」、「SC−ON」、「GF−S」、および、「DC−ON」が列挙されている。ここで、SP−Sは、図6のST1の「スパッタリングプロセス開始」を示している。IR−ONは、図6のST2の「IR電源供給開始」を示している。SC−ONは、図6のST2の「静電チャックオン」を示している。GF−Sは、図6のST3の「ガスフロー開始」を示している。また、DC−ONは、図6のST4の「スパッタリングパワーオン」を示している。 The process ID is an ID for specifying the type of process. In this example, “SP-S”, “IR-ON”, “SC-ON”, “GF-S”, and “DC-ON” are listed. Here, SP-S indicates “sputtering process start” in ST1 of FIG. IR-ON indicates “IR power supply start” in ST2 of FIG. SC-ON indicates “electrostatic chuck on” in ST2 of FIG. GF-S indicates “gas flow start” in ST3 of FIG. DC-ON indicates “sputtering power on” in ST4 of FIG.
加工対象識別情報としてのウエハIDは、ウエハ12を特定するためのIDである。ここで、ハイフンの左側の数字は、ウエハカセット(ロット)を特定するための値である。また、ハイフンの右側の数字は、ウエハカセット内の処理順序(ウエハカセットのスロット)を示す値である。この例では、イベントデータは全て同一のウエハ12に関するものであるので、ウエハIDとして「1−2」が格納されている。
The wafer ID as the processing target identification information is an ID for specifying the
メッセージは、解析処理において利用される付随的な情報であり、この例では、STEP1,STEP2等の情報が付与されている。
The message is incidental information used in the analysis process. In this example, information such as
なお、ステップS11の処理では、図7に示す1レコード分の情報のうち、イベントに応じた「処理ID」が生成されるとともに、チャンバおよびウエハに対応する「実モジュールID」および「ウエハID」が付加され、さらに、処理IDに対応した「メッセージ」が付加されてイベントデータが生成される。 In the process of step S11, among the information for one record shown in FIG. 7, “process ID” corresponding to the event is generated, and “actual module ID” and “wafer ID” corresponding to the chamber and the wafer are generated. Is further added, and a “message” corresponding to the process ID is added to generate event data.
ステップS12:制御監視部20は、タイマ34からイベントが発生した時点における日時情報を取得し、ステップS11において生成したイベントデータに対して貼付する。このとき、タイマ34が発生する日時情報の最小単位は、10分の1秒である。このため、100分の1秒以下の時間については、自動的に切り捨てまたは四捨五入がされる。具体的には、タイマ34が発生する日時情報が「2007/01/15 13:11:16.51」であった場合には、「13:11:16.51」の末尾の「1」が、例えば、四捨五入されて「13:11:16.5」がタイムスタンプとなる。これにより、後述するように、トレースデータとの時間の単位が一致することになる。
Step S12: The
以上の処理により、図7に示すように、年、月、日、および、時刻から構成されるタイムスタンプがイベントデータに対して付加されることになる。具体的には、図7の1行目のイベントデータでは、「2007/01/15 13:11:16.5」がタイムスタンプとして付加されている。 Through the above processing, as shown in FIG. 7, a time stamp composed of year, month, day, and time is added to the event data. Specifically, in the event data in the first row in FIG. 7, “2007/01/15 13: 11: 16.5” is added as a time stamp.
ステップS13:制御監視部20は、通信部33およびネットワーク3を介して、ステップS12において生成したイベントデータを、ログ格納装置2に対して送信する。ログ格納装置2では、ネットワーク3を介して送信されてきたイベントデータを、I/F2fによって受信し、HDD2dにログデータ2d2として格納する。これにより、HDD2dには、図7に示すような形態により、イベントデータが格納される。なお、ステップS13におけるイベントデータの送信単位としては、例えば、1レコード分のデータが完成した時点で送信してもよいし、所定数のレコード分のデータが集まった場合に送信してもよいし、あるいは、図6に示すプロセス終了からつぎのプロセス開始までの間(空き時間)において、まとめて送信するようにしてもよい。
Step S13: The
ステップS14:制御監視部20は、処理を終了するか否かを判定し、終了しないと判定した場合にはステップS10に戻って同様の処理を繰り返し、それ以外の場合には処理を終了する。例えば、管理者から終了の指示がなされた場合には処理を終了し、それ以外の場合にはステップS10に戻って同様の処理を繰り返す。
Step S14: The
以上の処理により、イベントログが生成されて、ログ格納装置2のHDD2dに格納されることになる。
Through the above processing, an event log is generated and stored in the
(C−2)真空プロセス装置1におけるトレースデータの生成処理
(C-2) Trace data generation processing in the
つぎに、図8を参照して、真空プロセス装置1におけるトレースデータの生成処理について説明する。図8のフローチャートの処理が開始されると、以下のステップが実行される。
Next, with reference to FIG. 8, a generation process of trace data in the
ステップS20:制御監視部20は、タイマ34によって生成される日時情報を参照し、所定の時間が経過したか否かを判定する。例えば、制御監視部20は、タイマ34によって生成される日時情報を参照して、前回の処理が終了してから10分の1秒が経過したか否かを判定し、経過したと判定した場合にはステップS21に進み、それ以外の場合には同様の処理を繰り返す。より具体的には、前回の処理においてタイマ34が発生する日時情報が「2007/01/15 13:11:16.4」であった場合に、日時情報が「2007/01/15 13:11:16.5」に変化した場合には、所定の時間が経過したと判定して、ステップS21に進む。なお、この処理は、タイマ34からの周期的な(10分の1秒単位の)割り込み処理によって実行するようにしてもよい。
Step S20: The
ステップS21:制御監視部20は、真空プロセス装置1の各部の状態を示す情報としてのトレースデータを取得する。図9は、トレースデータの一例を示している。この例では、各行が1レコード分のトレースデータを示している。1レコード分のトレースデータは「真空度」、「IR電圧」、「ガス流量」、「DC電圧」、「RF電力」、および、「ウエハ温度」その他によって構成されている。
Step S21: The
ここで、「真空度」は、図2に示す圧力検出部24によって測定された情報である。「IR電圧」は、IR電源部32によってイオンリフレクタ14とグランドとの間に印加されている直流電圧の電圧値を示す情報である。「ガス流量」は、ガス流量制御部23によってガス供給部22からチャンバ10内部に供給されるガスの単位時間あたりの流量を示す情報である。「DC電圧」は、DC電源部21によってターゲット13とグランドとの間に印加されている直流電圧の電圧値を示す情報である。「RF電力」は、RF電源部26によってウエハステージ11とグランドとの間に印加されている交流電力の電力値を示す情報である。また、「ウエハ温度」は、温度検出部27によって検出されたウエハ12の温度を示す情報である。なお、図9は一例であって、これ以外の情報であってもよい。
Here, “degree of vacuum” is information measured by the
なお、これらの情報は、略同時にサンプリングされて取得されるので、後述するタイムスタンプが示す日時のその瞬間における、真空プロセス装置1の各部の状態を示す情報となる。
Since these pieces of information are sampled and acquired substantially at the same time, they are information indicating the state of each part of the
ステップS22:制御監視部20は、タイマ34からその時点における日時情報を取得し、ステップS21において取得したトレースデータに対して貼付する。このとき、タイマ34が発生する日時情報の最小単位は、10分の1秒であるので、例えば、タイムスタンプとしては「2007/01/15 13:11:16.5」が貼付されることになる。これにより、前述したイベントデータとの時間の単位および周期が一致することになる。
Step S22: The
以上の処理により、図9に示すように、年、月、日、および、時刻から構成されるタイムスタンプがトレースデータに対して付加されることになる。具体的には、図9の1行目のイベントデータでは、「2007/01/15 13:11:16.5」がタイムスタンプとして付加され、これは、図7の1行目のタイムスタンプと一致している。 Through the above processing, as shown in FIG. 9, a time stamp composed of year, month, day, and time is added to the trace data. Specifically, in the event data on the first line in FIG. 9, “2007/01/15 13: 11: 16.5” is added as a time stamp, which is the same as the time stamp on the first line in FIG. Match.
ステップS23:制御監視部20は、通信部33およびネットワーク3を介して、ステップS22においてタイムスタンプが貼付されたトレースデータを、ログ格納装置2に対して送信する。ログ格納装置2では、ネットワーク3を介して送信されてきたトレースデータを、I/F2fによって受信し、HDD2dにログデータ2d2として格納する。これにより、HDD2dには、図9に示すような形態により、トレースデータが格納される。なお、ステップS23におけるトレースデータの送信単位としては、例えば、1レコード分のデータが完成した時点で送信してもよいし、所定数のレコード分のデータが集まった場合に送信してもよいし、あるいは、図6に示すプロセス終了からつぎのプロセス開始までの間(空き時間)において、まとめて送信するようにしてもよい。
Step S23: The
ステップS24:制御監視部20は、処理を終了するか否かを判定し、終了しないと判定した場合にはステップS20に戻って同様の処理を繰り返し、それ以外の場合には処理を終了する。例えば、管理者から終了の指示がなされた場合には処理を終了し、それ以外の場合にはステップS20に戻って同様の処理を繰り返す。
Step S24: The
以上の処理により、トレースデータが生成されて、ログ格納装置2のHDD2dに格納されることになる。
Through the above processing, trace data is generated and stored in the
なお、以上のようにして生成されたイベントデータとトレースデータは、例えば、2ヶ月程度ログ格納装置2に保持し、2ヶ月が経過したこれらのデータについては順次HDD2dから削除するようにしてもよい。その際、タイムスタンプを参照することにより、削除対象となるデータを容易に判別することができる。また、保持する期間は、ウエハ12に対する不具合が判明する期間に応じて設定すればよい。例えば、1ヶ月程度で不具合が判明する場合には例えば2ヶ月程度保持し、3ヶ月程度で不具合が判明する場合には4ヶ月程度保持する。これ以外の期間であってもよいことは言うまでもない。
Note that the event data and the trace data generated as described above may be held in the
(C−3)解析装置4における解析処理
(C-3) Analysis processing in
つぎに、図4に示す解析装置4において実行される解析処理について説明する。管理者が、解析装置4の入力装置4iを操作してプログラム4d1に含まれている解析用のアプリケーションプログラムを起動すると、CPU4aは画面表示用のデータをプログラム4d1のデータ領域から取得し、画像処理部4eに供給する。画像処理部4eは供給された画面表示用のデータに基づいて描画処理をし、得られた画像を映像信号に変換して表示装置4hに供給する。その結果、表示装置4hには、図10に示すような入力画面50が表示される。
Next, analysis processing executed in the
この入力画面50は、データファイルに関する情報を入力するデータファイル領域51、作業用フォルダ等の指定を行う設定領域52、処理対象データを設定する処理対象データ設定領域53、および、各種ボタン58〜63が表示されている。
The
ここで、データファイル領域51には、解析対象となるイベントファイルのファイル名を入力するテキストボックス51a、解析対象となるトレースファイルのファイル名を入力するテキストボックス51b、テキストボックス51aに入力されたファイル名のイベントファイルを読み込む際に操作されるボタン51c、テキストボックス51bに入力されたファイル名のトレースファイルを読み込む際に操作されるボタン51d、トレースファイルの対象実モジュールを指定するためのテキストボックス51e、および、テキストボックス51eに候補となる実モジュールをプルダウン表示させるためのボタン51fが表示されている。
Here, in the
また、設定領域52には、作業用のフォルダが入力されるテキストボックス52a、解析結果のグラフを表示するアプリケーションプログラムの名称が入力されるテキストボックス52b、および、テキストボックス52a,52bにおいて選択可能な情報をそれぞれ表示させるためのボタン52c,52dが表示されている。
The setting
また、処理対象データ設定領域53には、さらに、トレースデータの項目が表示されるとともに所望のトレースデータを選択するためのトレースデータ項目領域54、イベントデータに関する情報が表示されるとともに所望のイベントデータを選択するためのイベントデータ領域55、レシピに関する処理を行うためのレシピ領域56、および、解析条件に関する処理を行うための解析条件領域57が表示されている。
Further, in the processing target
ここで、トレースデータ項目領域54には、トレースデータが表示される表示領域54a、表示領域54aに表示された情報をスクロールする際に操作されるボタン54b〜54dが表示されている。また、イベントデータ領域55には、実モジュールが表示される表示領域55a、ウエハIDが表示される表示領域55b、および、処理IDが表示される表示領域55cが表示されている。レシピ領域56には、プロセスの流れを記述したレシピを設定する際に操作されるボタン56a、レシピを保存する際に操作されるボタン56b、および、レシピを読み込む際に操作されるボタン56cが表示されている。また、解析条件領域57には、解析条件を定義する際に操作されるボタン57a、解析条件を保存する際に操作されるボタン57b、および、解析条件を読み込む際に操作されるボタン57cが表示されている。
Here, in the trace data item area 54, a
ボタン58は、ヒストグラムを生成する際に操作されるボタンである。ボタン59は、一次解析を行う際に操作されるボタンである。ボタン60は、一次解析結果をファイルとして出力する際に操作されるボタンである。ボタン61は表示用のデータを出力する際に操作されるボタンである。ボタン62は、解析処理を実行する際に操作されるボタンである。ボタン63は、当該アプリケーションプログラムの処理を終了する際に操作されるボタンである。
The
このような入力画面50において、管理者は、まず、テキストボックス51aに対して、解析しようとするイベントファイルのファイル名を入力する。具体的には、ボタン51cを操作すると、読み込み可能なファイルの一覧が表示されるので、管理者は解析しようとするイベントファイルを指定する。その結果、解析装置4のCPU4aは、ログ格納装置2からイベントデータを取得する。すなわち、CPU4aは、I/F4fおよびネットワーク3を介してログ格納装置2に対して指定されたイベントデータを送信するように要求を行う。ログ格納装置2のCPU2aは、I/F2fを介してこの要求を受信し、HDD2dに格納されているログデータ2d2から指定されたイベントデータを取得して、I/F2fにより送信する。この結果、解析装置4のCPU4aは、I/F4aを介してイベントデータを受信する。そして、CPU4aは、受信したイベントデータを、RAM4cの所定の領域に格納する。この結果、イベントデータ領域55には、取得されたイベントデータに含まれている情報が一覧表示される(詳細は後述する)。
In such an
つぎに、管理者は、テキストボックス51eにおいて解析しようとする対象実モジュールを設定する。具体的には、ボタン51fを操作することにより表示されるプルダウンメニューの中から解析しようとする実モジュールを選択する。なお、「実モジュール」とは、「チャンバ」を示し、複数存在するチャンバの中から所望のチャンバが選択される。
Next, the administrator sets a target real module to be analyzed in the text box 51e. Specifically, an actual module to be analyzed is selected from a pull-down menu displayed by operating the
つぎに、管理者は、テキストボックス51bに対して、解析しようとするトレースファイルのファイル名を入力する。具体的には、ボタン51dを操作すると、読み込み可能なファイルの一覧が表示されるので、管理者は解析しようとするトレースファイルを指定する。その結果、解析装置4のCPU4aは、ログ格納装置2からトレースデータを取得する。すなわち、CPU4aは、I/F4fおよびネットワーク3を介してログ格納装置2に対して指定されたトレースデータを送信するように要求を行う。ログ格納装置2のCPU2aは、I/F2fを介してこの要求を受信し、HDD2dに格納されているログデータ2d2から指定されたトレースデータを取得して、I/F2fにより送信する。この結果、解析装置4のCPU4aは、I/F4aを介してトレースデータを受信する。そして、CPU4aは、受信したイベントデータを、RAM4cの所定の領域に格納する。この結果、トレースデータ項目領域54には、取得されたトレースデータに含まれている情報が一覧表示される(詳細は後述する)。
Next, the administrator inputs the file name of the trace file to be analyzed in the
図11は、イベントデータおよびトレースデータが読み込まれた際の入力画面の一例を示している。この例では、テキストボックス51aには解析対象であるイベントファイルのファイル名として「C:¥data¥event.dat」が入力されている。また、テキストボックス51bには解析対象であるトレースファイルのファイル名として「C:¥data¥trace.dat」が入力されている。また、トレースファイルの対象実モジュールとしては、「F1」がテキストボックス51eにおいて選択されている。なお、当該「F1」は、この例では、真空プロセス装置1のチャンバ10に対応している。また、これらのファイル名は、一例であって、これ以外であってもよい。
FIG. 11 shows an example of an input screen when event data and trace data are read. In this example, “C: \ data \ event.dat” is input to the
トレースデータ項目領域54の表示領域54aには、図9に示すトレースデータに対応する情報が一覧表示されている。具体的には、真空度に対応する情報「Vacuum」、IR電圧に対応する「IR Voltage」、および、その他の情報が表示されている。また、イベントデータ領域55の表示領域55aには真空プロセス装置1のチャンバ10に対応する「F1」を含む実モジュールの一覧が表示されている。表示領域55bには、イベントデータに含まれるウエハIDが一覧表示されている。表示領域55cには、イベントデータに含まれる処理IDが一覧表示されている。
In the
管理者は、図11に示す表示領域54aにおいて、解析対象とするトレースデータの項目を選択する。すなわち、管理者は、表示領域55aにおいて実モジュールを選択するとともに、表示領域55bにおいて対象となるウエハIDを選択する。例えば、管理者は、表示領域54aにおいて全てのトレースデータ項目を選択するとともに、表示領域55aにおいて実モジュール「F1」を選択し、さらに、表示領域55bにおいて全てのウエハIDを選択する。
The administrator selects an item of trace data to be analyzed in the
このような状態において、管理者によってボタン59が操作されると、イベントデータとトレースデータを関連付けする処理が実行される。つまり、CPU4aは、RAM4cに格納されているイベントデータと、トレースデータを、それぞれに1レコード単位で貼付されているタイムスタンプを参照して、対応付けする処理を実行する。すなわち、同一の日時情報を有するタイムスタンプが貼付されているイベントデータと、トレースデータとを対応付けする処理を実行する。なお、トレースデータは、10分の1秒単位で周期的にサンプリングされるが、イベントデータはイベントが発生した時点において生成されるので、非周期的なデータである。したがって、これらを対応付けした場合には、図12に示すような状態となる。この図の例は、図7に示す処理IDと、図9に示すトレースデータとを対応付けして示している。行と行の間の点は、その間のトレースデータを省略していることを示している。
In such a state, when the
このようにして、トレースデータと、イベントデータとを、タイムスタンプを参照して対応付けすることにより、トレースデータが標識化される。標識化されたトレースデータを用いることにより、後述するように、データの解析処理を容易かつ迅速に行うことができる。 In this way, the trace data is labeled by associating the trace data with the event data with reference to the time stamp. By using the labeled trace data, data analysis processing can be performed easily and quickly as described later.
なお、ボタン60を操作することにより、以上のようにして対応付けを行ったデータを、ファイルとして出力することもできる。このようにして出力されたファイルは、所定のアプリケーションプログラムで参照することができる。
In addition, by operating the
つぎに、管理者は、解析条件を設定する。ここで、新たな解析条件を設定する際には、ボタン57aを操作し、既存の解析条件を利用する場合にはボタン57cを操作する。以下では、新たな解析条件を設定する場合について説明する。
Next, the administrator sets analysis conditions. Here, when setting a new analysis condition, the
管理者がボタン57aを操作すると、CPU4aは、プログラム4d1に含まれている入力画面表示用のデータを取得し、画像処理部4eに供給する。画像処理部4eは描画処理を実行し、得られた画像を表示装置4hに供給する。その結果、表示装置4hには、図13に示す入力画面70が表示される。この例では、入力画面70の左端には、チェックボックス71a〜80aが表示されている。また、その右隣には、ボタン71b〜80bがそれぞれ表示されている。さらに、その右隣には、テキストボックス71c〜80cおよびテキストボックス71d〜80dが表示されている。入力画面70の下部には、表示対象解析条件定義選択領域81が表示され、その右隣には、ボタン82〜84が表示されている。
When the administrator operates the
ここで、チェックボックス71a〜80aは、その右側に表示されている解析条件を実行するか否かを指定する。すなわち、図10に示すボタン62が操作された場合に、右側に表示されている解析条件(定義)を実行する場合にはチェックボックスにチェックを入れる。ボタン71b〜80bは、解析条件を設定する際に操作され、これらのボタン71b〜80bが操作されると、図14に示す入力画面90が表示され、当該入力画面90において解析条件を設定することができる。テキストボックス71c〜80cには、それぞれの解析条件の名前(図14のテキストボックス104に入力された情報)が表示される。また、テキストボックス71d〜80dには、図14に示す入力画面90において設定された解析条件を示すテキスト情報が表示される。表示対象解析条件定義選択領域81では、複数の定義のいずれのグループを表示するかをラジオボタンによって選択する。この例では、定義1〜10に対応するラジオボタンが選択されているので、定義1〜10が表示されている。ボタン82は、後述するように、所定の定義を複製(コピー)する際に操作されるボタンである。ボタン83は、チェックボックスがチェックされた定義をリセットする際に操作されるボタンである。ボタン84は、当該入力画面70を閉じる際に操作されるボタンである。
Here, the
このような入力画面70において、例えば、ボタン71bが操作されると、CPU4aは、プログラム4d1に含まれている入力画面表示用のデータを取得し、画像処理部4eに供給する。画像処理部4eは描画処理を実行し、得られた画像を表示装置4hに供給する。その結果、表示装置4hには、図14に示すような入力画面90が表示される。この表示例では、入力画面90内には、解析条件の雛形91〜103が表示され、その下には、テキストボックス104およびボタン105,106が表示されている。
In such an
ここで、雛形91〜103は、解析条件を入力する雛形である。具体的には、雛形91は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から、所定のトレースデータが値yを「上回るまたは下回る」までの時間を条件として設定する。この例では、「イベント「SP−S」の「開始」の「0」秒後から、トレースデータ「PG」が「0」を「上回る」までの時間」が初期状態として表示されている。なお、イベントデータおよびトレースデータの選択肢は、読み込まれたトレースデータおよびイベントデータから取得されたものが表示される。
Here,
雛形92は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から所定のトレースデータと他の所定のトレースデータを四則演算した結果がyプラスマイナスz%以内になるまでの時間を条件として設定する。雛形93は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から、所定のイベントの「開始または終了」のy秒後までの時間を条件として設定する。雛形94は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後以降で所定のトレースデータの値がyプラスマイナスz%の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形95は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後以降で所定のトレースデータの値と他のトレースデータの値を四則演算した結果がyプラスマイナスz%の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形96は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から所定のイベントの「開始または終了」y秒後の間で所定のトレースデータの値がzプラスマイナスw%の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形97は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から所定のイベントの「開始または終了」y秒後の間で所定のトレースデータと他のトレースデータの四則演算の結果がzプラスマイナスw%の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形98は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後以降で所定のトレースデータの値がy以上z以下の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形99は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後以降で所定のトレースデータと他のトレースデータの四則演算の結果がy以上z以下の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形100は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後から所定のイベントの「開始または終了」y秒後の間で所定のトレースデータの値がz以上w以下の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形101は、所定のイベントの「開始または終了」から所定のイベントの「開始または終了」の間で所定のトレースデータと他のトレースデータとの四則演算の結果がx以上y以下の範囲にある「時間、最小値、最大値、平均値、または、中央値」を条件として設定する。雛形102は、所定のイベントの「開始または終了」のx秒後の所定のトレースデータの値を条件として設定する。雛形103は、所定のイベントの「開始または終了」から所定のイベントの「開始または終了」の間で所定のトレースデータが「最小値、最大値、平均値、または、中央値」になる時間を条件として設定する。
The
テキストボックス104には、解析条件の名前が入力され、当該名前は、図13のテキストボックス71c〜80cの対応するテキストボックス内に表示される。ボタン105は、入力された解析条件を登録する際に操作され、ボタン106は入力された解析条件をキャンセルする場合に操作される。
The name of the analysis condition is input to the
このような入力画面90において、管理者が、例えば、雛形100の各種ボタン等を操作して「DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上250以下の範囲である時間」を条件として設定した後、対応するラジオボタン(左側に表示されるラジオボタン)を選択したとする。そして、テキストボックス104に解析条件の名前として「Spt Time」を入力し、ボタン105を操作すると、表示装置4hには、図15に示す確認画面120が表示される。この確認画面120では、メッセージとして「設定する条件は以下です。よろしいですか?」および「DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上250以下の範囲である時間」が表示され、その下にはボタン122,123が表示されている。このような確認画面120に表示されたメッセージを参照し、表示した内容が正しい場合には、ボタン122を操作し、それ以外の場合にはボタン123を操作する。ボタン122が操作されると、図14に示す入力画面90において入力された解析条件がRAM4cに格納される。具体的には、図14に示すボタンが操作されて選択された条件および入力された情報が格納される。
In such an
また、図15に示すボタン122が操作されると、図16に示すように、入力画面70のテキストボックス71cには、図14のテキストボックス104に入力された「Spt Time」が表示され、また、テキストボックス71dには、雛形100を用いて設定された解析条件を示すテキスト情報(DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上250以下の範囲である時間)が表示される。また、左側のチェックボックスには、この定義を実行することを示すチェックが表示されている。これらの表示を参照することにより、管理者は、定義1として設定された解析条件の名前と内容とを知ることができる。
When the
なお、このような状態において、ボタン84を操作した後、図11に示すボタン62を操作すると、定義1に基づく解析処理が実行されることになる。具体的には、いまの例では、実モジュールIDが「F1」であるチャンバにおいてプロセス処理が実行されたウエハ12のDC−ON(図6のST4)開始0秒後からDC−OFF終了(図6のST7)0秒後の間でDC Voltageが200以上250以下の範囲にある時間が解析される。この場合、CPU4aは、まず、イベントデータから実モジュールIDが「F1」であるレコードを検索する。その結果、図7に示すデータが該当することから、図7に示すデータが取得される。
In this state, when the
つぎに、CPU4aは、DC−ONに対応する処理IDである「DC−ON」と、DC−OFFに該当する処理IDである「DC−OFF」とを取得されたデータから検索する。つづいて、CPU4aは、処理ID「DC−ON」と、処理ID「DC−OFF」のそれぞれのイベントデータに貼付されているタイムスタンプを取得する。
Next, the
つづいて、CPU4aは、取得した2つのタイムスタンプが示す期間に含まれているDC電圧のトレースデータを取得する。すなわち、CPU4aは、図9に示すトレースデータから上述した2つのタイムスタンプを始点および終点とした場合に、これらの範囲に含まれているDC電圧に関するトレースデータを取得する。以上の処理により、指定されたチャンバの指定されたウエハの指定された範囲に属するDC電圧に関するトレースデータが取得される。
Subsequently, the
なお、対象となるウエハが複数存在する場合には、上述のような処理をウエハ毎に繰り返し実行するようにすればよい。また、複数のトレースデータが対象となっている場合は、タイムスタンプによって指定される期間に属する該当するトレースデータ群を取得するようにすればよい。 If there are a plurality of target wafers, the above-described process may be repeatedly performed for each wafer. When a plurality of trace data are targeted, a corresponding trace data group belonging to the period specified by the time stamp may be acquired.
また、トレースデータの所定のポイントから、一定の時間が経過した場合を基準として範囲が設定された場合には、該当するトレースデータのタイムスタンプに対して、前述した一定の時間を加算して得られた時刻を基準として前述の場合と同様の処理を実行すればよい。 In addition, when a range is set based on the case where a certain amount of time has elapsed from a predetermined point in the trace data, the above-mentioned certain time is added to the time stamp of the corresponding trace data. The same process as described above may be executed with the given time as a reference.
また、イベントデータと、トレースデータの双方を使用して範囲を決定する場合には、前述の処理によって特定されたトレースデータが、所定の条件を満たした場合を始点または終点として、範囲を決定するようにすればよい。 When determining the range using both event data and trace data, the range is determined with the trace data specified by the above-described processing satisfying a predetermined condition as a start point or an end point. What should I do?
また、取得したトレースデータの最大値、最小値、平均値、中央値を求める場合には、取得したトレースデータの中で最大となる値、最小となる値、平均値となる値、中央値となる値を求めるようにすればよい。さらに、トレースデータの比較(例えば、相関関数の計算)を行う場合には、トレースデータ同士で相関関数を演算するようにすればよい。 In addition, when obtaining the maximum value, minimum value, average value, and median value of the acquired trace data, the maximum value, minimum value, average value, and median value of the acquired trace data What is necessary is just to obtain | require the value which becomes. Further, when comparing the trace data (for example, calculating the correlation function), the correlation function may be calculated between the trace data.
図17は、以上の解析処理の結果として、表示装置4hに表示されるグラフの一例である。このグラフは、横軸がスロットを示し、縦軸が時間を示している。このグラフから、DC−ON開始0秒後からDC−OFF終了0秒後の間でDC Voltageが200以上250以下の範囲にある時間は、スロットによらず約35秒程度であることが分かる。このような解析結果のグラフを参照することにより、管理者は、DC電圧の傾向を知ることができる。
FIG. 17 is an example of a graph displayed on the
以上は、定義を直接指定する場合の説明であるが、本発明の実施の形態では、定義を複製(コピー)して新たな定義を生成することができる。この点についてつぎに説明する。 The above is an explanation of the case where the definition is directly specified. However, in the embodiment of the present invention, a new definition can be generated by copying (copying) the definition. This point will be described next.
図13に示す入力画面70においてボタン82が操作されると、CPU4aは、プログラム4d1に含まれている入力画面表示用のデータを取得し、画像処理部4eに供給する。画像処理部4eは描画処理を実行し、得られた画像を表示装置4hに供給する。その結果、表示装置4hには、図18に示す入力画面130が表示される。この例では、テキストボックス131,133およびボタン132,134,135が表示されている。テキストボックス131には複製元の定義が入力される。テキストボックス133には複製先の定義が入力される。また、ボタン132は、複製元の候補となる定義(入力済の定義)をプルダウメニューとして一覧表示する際に操作されるボタンである。また、ボタン134は、複製先の候補となる定義(未入力の定義)をプルダウメニューとして一覧表示する際に操作されるボタンである。ボタン135は複製元の定義を複製先の定義に複製する際に操作されるボタンである。
When the
このような入力画面130において、例えば、複製元として「定義1」を選択し、複製先として「定義2」を選択し、ボタン135が操作されたとすると、ROM4cに格納されている定義1に関する情報が取得され、定義2の情報として複製される。この結果、図19に示すように、入力画面70では、定義2に定義1と同一の情報が表示されることになる。すなわち、この例では、テキストボックス72cには「Spt Time」が表示され、また、テキストボックス72dには「DC−ON開始0秒からDC−OFF終了0秒の間でDC Voltageが200以上、250以下である時間」が表示されている。また、チェックボックス72aがチェックされた状態となっている。
In such an
このような入力画面70において、ボタン72bが操作されると、図20に示す入力画面90が表示される。この例は、定義1のコピーであるので、表示当初は、図14と同様の情報が表示される。すなわち、雛形100において「DC−ON開始0秒からDC−OFF終了0秒の間でDC Voltageが200以上、250以下である時間」が解析条件として入力されるとともに、対応するラジオボタンがチェックされた状態となっている。このような入力画面90において、雛形100の末尾(右端)のテキストボックスにおいて「時間」が「最大値」に変更され、また、テキストボックス104において「Spt Time」が「Spt Max」に変更された後に、ボタン105が操作されると、図21に示すように、テキストボックス72cに表示されていた「Spt Time」が「Spt Max」に変更され、また、テキストボックス72dに表示されていた「DC−ON開始0秒からDC−OFF終了0秒の間でDC Voltageが200以上、250以下である時間」が「DC−ON開始0秒からDC−OFF終了0秒の間でDC Voltageが200以上、250以下である最大値」に変更される。
When the
このような状態において、ボタン84を操作した後、図11に示すボタン62が操作されると、前述の場合と同様の流れにより、定義1および定義2に対応する解析処理が実行される。その結果、定義1に対応する解析結果として、図17に示すグラフが表示装置4hに表示されるとともに、図22に示すグラフが表示装置4hに併せて表示される。図22の表示例では、横軸はスロットであり、縦軸は電圧となっている。また、黒丸がそれぞれのロットの最大電圧を示している。このようなグラフを参照することにより、管理者は、指定された範囲におけるDC電圧の最大値を知ることができる。なお、図17と図22のグラフを同じ平面上に併せて表示するようにしてもよい。
In such a state, when the
なお、以上は1つまたは2つの定義に関する説明であるが、3つ以上の定義についても同様に解析処理を実行することができる。その場合には、3種類以上のグラフが表示装置4hに表示されることになる。また、図21の例では、定義1〜10のみが表示されているが、表示対象解析条件定義選択領域のラジオボタンを選択することにより、定義11〜20、または、定義21〜30を表示し、それぞれの定義を設定し、設定された定義を含む解析処理を実行することも可能である。なお、この例では、定義は30種類としたが、これ以下またはこれ以上であってもよい。
In addition, although the above is description regarding one or two definitions, an analysis process can be performed similarly about three or more definitions. In that case, three or more types of graphs are displayed on the
以上に説明したように、本発明の実施の形態によれば、イベントデータとトレースデータのそれぞれに対してタイムスタンプを貼付して対応付けし、イベントデータをトリガとして、所望のトレースデータを取得できるようにしたので、所望のタイミングのデータを迅速に検索することができる。 As described above, according to the embodiment of the present invention, it is possible to obtain desired trace data by using event data as a trigger by attaching a time stamp to each of event data and trace data and associating them with each other. Since it did in this way, the data of a desired timing can be searched quickly.
また、本発明の実施の形態によれば、イベントデータを基準として、所定の範囲のトレースデータを指定し、この範囲に含まれるトレースデータを表示したり、解析処理を施したりするようにしたので、特定の範囲のトレースデータを迅速かつ簡易に取得し、解析することができる。 In addition, according to the embodiment of the present invention, the trace data in a predetermined range is designated based on the event data, and the trace data included in this range is displayed or analyzed. Trace data in a specific range can be acquired and analyzed quickly and easily.
また、本発明の実施の形態によれば、イベントデータに対してウエハIDを付加して格納するようにしたので、所望のウエハに関するトレースデータを簡易かつ迅速に検索することができる。また、ウエハIDとして、ロットと、ロット内の処理順序(スロット)を示す符号を使用するようにしたので、所定のロットの所定の処理順序のウエハに関するトレースデータを簡易かつ迅速に検索することができる。また、同様にチャンバに対する実モジュールIDを付加するようにしたので、複数チャンバが存在する場合であっても、所望のチャンバのトレースデータを簡易かつ迅速に検索し、解析することができる。 Further, according to the embodiment of the present invention, since the wafer ID is added to the event data and stored, the trace data relating to the desired wafer can be retrieved easily and quickly. Further, since the lot and the code indicating the processing order (slot) in the lot are used as the wafer ID, it is possible to easily and quickly retrieve the trace data regarding the wafer in the predetermined processing order of the predetermined lot. it can. Similarly, since the real module ID for the chamber is added, even when there are a plurality of chambers, the trace data of the desired chamber can be searched and analyzed easily and quickly.
また、本発明の実施の形態によれば、図14に示す入力画面90において、複数の雛形のいずれかを用いて解析条件を定義するとともに、図13に示す入力画面70において、所望の定義を選択して実行するようにした。これにより、解析条件を簡単に生成するとともに、所望の解析条件を選択して解析処理を実行することが可能になる。
Further, according to the embodiment of the present invention, an analysis condition is defined using any of a plurality of templates on the
また、本発明の実施の形態によれば、図14に示す入力画面90において設定された条件を、図15に示す確認画面120においてテキスト情報として表示して確認を促すとともに、図16に示す入力画面70にも表示するようにした。このため、解析条件を間違いなく入力することができる。また、設定済の解析条件を容易に知ることが可能になる。
Further, according to the embodiment of the present invention, the conditions set on the
また、本発明の実施の形態によれば、解析条件を複写することができるようにしたので、同様の条件を複数生成する場合には、管理者の操作を簡略化することができる。 In addition, according to the embodiment of the present invention, the analysis conditions can be copied, so that when a plurality of similar conditions are generated, the operation of the administrator can be simplified.
(D)変形実施の態様 (D) Modified embodiment
なお、上述の実施の形態は、本発明の好適な例であるが、本発明は、これらに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々の変形、変更が可能である。 The above-described embodiments are preferred examples of the present invention, but the present invention is not limited to these, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention. is there.
例えば、以上の実施の形態では、真空プロセス装置1としては、PVDによる銅のスパッタリングを行う装置を例に挙げて説明したが、これ以外のプロセス装置であってもよい。具体的には、前述したように、CVD装置、エッチング装置、インプラー装置、フォトリソグラフィー装置を真空プロセス装置1として用いることができる。また、以上では、真空下におけるプロセス装置を例に挙げて説明したが、必ずしも真空下に限定されるものではない。
For example, in the above embodiment, as the
また、以上の実施の形態では、真空プロセス装置1が1台の場合を例に挙げて説明したが、真空プロセス装置は複数存在してもよい。その場合には、実モジュールIDによって、複数の真空プロセス装置を区別するようにすればよい。
Moreover, although the case where there was one
また、以上の実施の形態では、ログ格納装置2を真空プロセス装置1とは独立した構成としたが、これらを一体としてもよい。すなわち、ログ格納装置2を真空プロセス装置1の一部として構成してもよい。
Further, in the above embodiment, the
また、以上の実施の形態では、解析装置4は、真空プロセス装置1およびログ格納装置2とは独立した構成としたが、解析装置4を真空プロセス装置1またはログ格納装置2の一部として構成してもよい。
In the above embodiment, the
また、以上の実施の形態では、ネットワーク3を介して、真空プロセス装置1、ログ格納装置2、および、解析装置4を相互に接続するようにしたが、これらをネットワーク3を介さずに直接接続するようにしてもよい。具体的には、USB(Universal Serial Bus)その他のインタフェースによって直接接続することができる。
In the above embodiment, the
また、以上の実施の形態では、図9に示すように、トレースデータは、常に一定の周期で取得するようにしたが、例えば、プロセス処理中とそれ以外の場合において、取得する周期を変更するようにしてもよい。具体的には、プロセス処理中は、短い周期(例えば、10分の1秒)でトレースデータを取得し、それ以外の場合には長い周期(例えば、1秒)でトレースデータを取得するようにしてもよい。これにより、トレースデータの量を減らすことができるので、HDD2dの必要な容量を削減できる。
In the above embodiment, as shown in FIG. 9, the trace data is always acquired at a constant cycle. However, for example, the acquisition cycle is changed during process processing and in other cases. You may do it. Specifically, during process processing, trace data is acquired at a short cycle (for example, 1/10 second), and trace data is acquired at a long cycle (for example, 1 second) in other cases. May be. Thereby, since the amount of trace data can be reduced, the required capacity of the
また、以上の実施の形態では、イベントデータとトレースデータとを別々に格納するようにしたが、例えば、図12に示すように予め対応付けしてから格納するようにしてもよい。そのような方法によれば、解析装置4側で対応付け処理を実行する必要がなくなるので、解析処理の待ち時間を短くすることができる。
In the above embodiment, the event data and the trace data are stored separately. However, for example, they may be stored after being associated in advance as shown in FIG. According to such a method, it is not necessary to perform the association process on the
また、以上の実施の形態では、解析装置4は、全てのイベントデータとトレースデータをログ格納装置2から取得し、取得した後に範囲および対象を絞り込むようにしたが、対象および範囲の指定を受けた後に、必要なデータのみをログ格納装置2から取得するようにしてもよい。そのような方法によれば、RAM4cの容量に比して、イベントデータおよびトレースデータのデータ量が大きい場合であっても解析処理を実行することができる。
In the above embodiment, the
また、以上の実施の形態では、イベントデータのメッセージを利用する場合については言及していないが、メッセージを利用して範囲を指定するようにしてもよい。具体的には、例えば、図7に示す「STEP1」および「STEP2」等のメッセージを利用して、範囲を指定することも可能である。 In the above embodiment, the case of using the event data message is not mentioned, but the range may be specified using the message. Specifically, for example, the range can be specified using messages such as “STEP1” and “STEP2” shown in FIG.
また、以上の実施の形態では、トレースデータおよびイベントデータとしてはそれぞれ単一のファイルを対象として処理を行うようにしたが、複数のトレースデータおよびイベントデータを対象として処理を行うようにしてもよい。そのような方法によれば、時間的に前後するデータを対象として解析処理を行うことにより、例えば、経時的な変化を知ることができる。なお、複数のデータを読み込む場合、時間的に重複したデータ(同一のタイムスタンプが付与されたデータ)が読み込まれたときには、データが重複して処理不能となってしまうので、時間的に重複しないデータのみを処理対象とできるように、タイムスタンプを参照して、時間的な重複の有無を予め判断するようにしてもよい。 In the above embodiment, the trace data and the event data are processed for a single file, respectively. However, the processing may be performed for a plurality of trace data and event data. . According to such a method, for example, a change with time can be known by performing an analysis process on data that changes in time. When reading multiple data, if duplicate data in time (data with the same time stamp) is read, the data is duplicated and cannot be processed, so it does not overlap in time It may be determined in advance whether or not there is a temporal overlap with reference to the time stamp so that only data can be processed.
本発明は、例えば、PVD装置、または、CVD装置等の真空プロセス装置を管理する管理システムに適用することができる。 The present invention can be applied to a management system for managing a vacuum process apparatus such as a PVD apparatus or a CVD apparatus, for example.
1 真空プロセス装置、2 ログ格納装置、2d HDD(格納手段)、3 ネットワーク、4 解析装置、4a CPU(解析手段)、4c RAM(記憶手段)、4h 表示装置(呈示手段)、4i 入力装置(入力手段)、12 ウエハ(加工対象)、20 制御監視部(第1の取得手段、第2の取得手段、対応付手段の一部)、34 タイマ(対応付手段の一部)、50 入力画面(第3のインタフェース)、70 入力画面(第2のインタフェース)、90 入力画面(第1のインタフェース) 1 vacuum process device, 2 log storage device, 2d HDD (storage means), 3 network, 4 analysis device, 4a CPU (analysis device), 4c RAM (storage device), 4h display device (presentation device), 4i input device ( Input means), 12 wafers (processing object), 20 control monitoring unit (first acquisition means, second acquisition means, part of correspondence means), 34 timer (part of correspondence means), 50 input screen (Third interface), 70 input screen (second interface), 90 input screen (first interface)
Claims (7)
上記装置の制御に関する制御情報を取得する第2の取得手段と、
上記第1および第2の取得手段によって取得された上記状態情報と上記制御情報を対応付けする対応付手段と、
上記対応付手段によって対応付けがされた上記状態情報および上記制御情報を格納する格納手段と、
上記制御情報および上記状態情報に対して解析処理を施す際の解析条件の入力を受ける入力手段と、
上記入力手段から入力された上記解析条件を記憶する記憶手段と、
上記記憶手段に記憶された上記解析条件に従って、上記制御情報を参照して上記状態情報に対して解析処理を施す解析手段と、
上記解析手段の解析の結果として得られた情報を呈示する呈示手段と、
を有することを特徴とするプロセス管理システム。 First acquisition means for acquiring state information indicating the state of each part of the device;
Second acquisition means for acquiring control information relating to control of the device;
Association means for associating the state information acquired by the first and second acquisition means with the control information;
Storage means for storing the state information and the control information associated by the association means;
Input means for receiving input of analysis conditions when performing analysis processing on the control information and the state information;
Storage means for storing the analysis conditions input from the input means;
Analyzing means for analyzing the state information with reference to the control information according to the analysis conditions stored in the storage means;
Presenting means for presenting information obtained as a result of the analysis of the analyzing means;
A process management system comprising:
複数の前記解析条件の雛形を有し、当該雛形を用いて解析条件の入力を受けるとともに、複数の雛形のいずれかの選択を受ける第1のインタフェースと、
上記第1のインタフェースを介して入力された各解析条件を実行するか否かの選択を受ける第2のインタフェースと、
を有することを特徴とする請求項1記載のプロセス管理システム。 The input means includes
A first interface having a plurality of analysis condition templates, receiving input of analysis conditions using the template, and receiving selection of any of the plurality of templates;
A second interface for receiving a selection as to whether or not to execute each analysis condition input via the first interface;
The process management system according to claim 1, further comprising:
前記第1のインタフェースは、上記第3のインタフェースを介して指定された情報に基づく雛形を表示する、
ことを特徴とする請求項2から5のいずれか1項記載のプロセス管理システム。 A third interface for designating a type of information acquired by the first acquisition unit and the second acquisition unit;
The first interface displays a template based on information specified via the third interface.
6. The process management system according to claim 2, wherein
前記第1の取得手段および第2の取得手段は、それぞれ複数の電子ファイルを同時に取得する、
ことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項記載のプロセス管理システム。 The state information and the control information are supplied as an electronic file,
Each of the first acquisition unit and the second acquisition unit acquires a plurality of electronic files simultaneously;
The process management system according to any one of claims 1 to 6, wherein:
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