JP2008302533A - Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、主に工業用としてインクジェット法を用いた塗布装置に関するものである。 The present invention relates to a coating apparatus using an inkjet method mainly for industrial use.
インクジェット法を用いた塗布装置は、家庭用プリンターばかりでなく、工業用の用途に於いても各種インクやレジスト等の塗布装置として広く適用され始めている。 A coating apparatus using an ink jet method has begun to be widely applied as a coating apparatus for various inks and resists not only for household printers but also for industrial applications.
従来より広く普及しているオフセット印刷法やスクリーン印刷法に代表される印刷方式は、目的の印刷パターン(図柄)を作成する為の印刷版やスクリーン版等が、その印刷パターン毎に必要であった。これに対しインクジェット塗布方式の場合、図2に示すように一般的にはインクを吐出する為の微細な吐出口(以下ノズル3と呼ぶ)が1mm以下の間隔で多数個配置されたインクジェットヘッド1を持ち、該インクジェットヘッド1或いは印刷対象物の移動と各ノズル3から吐出される吐出液7のON/OFFにて所定の塗布パターンを実現することが可能である。従って予め各ノズル3の液吐出のON/OFFの条件(塗布パターン)を作成しておくことにより、印刷方式のように印刷版やスクリーン版等を多数保有する必要が無く、またこれら版の交換作業も不要である。
Printing methods such as offset printing methods and screen printing methods that have been widely used in the past require a printing plate or screen plate for creating the desired printing pattern (design) for each printing pattern. It was. In contrast, in the case of the ink jet coating method, as shown in FIG. 2, generally, an
しかし、インクジェット法を用いて目的の印刷パターンを高精度に作成するためには、以下に示す項目を実現する事が重要である。
1)吐出される液滴量が常に均一であること。
2)吐出される液滴の飛翔方向が一定でバラツキが少ないこと。
3)吐出される液滴の飛翔速度が一定でバラツキが少ないこと。
However, in order to create a target print pattern with high accuracy using the inkjet method, it is important to realize the following items.
1) The amount of ejected droplets is always uniform.
2) The flying direction of the discharged droplets is constant and there is little variation.
3) The flying speed of the ejected droplets is constant and there is little variation.
これらを実現するために制御しなければならない項目は幾つか存在するが、その中の一つに、インクジェットヘッド1のオリフィスプレート2に空けられたノズル3出口に吐出液7によって形成されるメニスカスを一定に保つことが重要である。一般的には、ノズル3出口に液によって形成されるメニスカスは図3に示すように凹形状が良いと言われている。しかし、液の吐出を繰り返すことによって、吐出される液の一部や印刷対象物に着弾した液滴の一部の跳ね返りによって、図4に示すようにオリフィスプレート2表面に液が付着し、この付着した液がノズル3に掛かってしまった場合には、正常時のメニスカス形状と違ってしまうため、吐出される液滴の量が変動したり、吐出される液滴の飛翔方向がばらつき吐出液7の着弾精度が悪化する場合が有る。従って、このような吐出異常は、オリフィスプレート2表面に付着している吐出される液7の一部や印刷対象物に着弾した液滴の跳ね返りの一部によって引き起こされている為、定期的にオリフィスプレート2の表面をクリーニングする事によって防止することが可能であり、一般的なインクジェット装置では、このようなオリフィスプレート2表面のクリーニング機構が付随し用いられている。
There are several items that need to be controlled in order to realize these. One of them is the meniscus formed by the
オリフィスプレート表面のクリーニング方式には、ゴム製のワイパーブレードを用いて余分な液滴を掻き取り除去する方式や吸液性を有する材料によって余分な液滴を吸着する方式、さらに真空吸引によって液滴を除去する方式など幾つかの方式が存在する。 Orifice plate surface cleaning methods include a method of scraping and removing excess droplets using a rubber wiper blade, a method of adsorbing excess droplets with a material having liquid absorption properties, and a method of droplets by vacuum suction. There are several methods such as a method for removing the image.
本発明の対象となるクリーニング方式は、ゴム製のワイパーブレードを用いた掻き取り方式である。 The cleaning method that is the subject of the present invention is a scraping method using a rubber wiper blade.
工業用の用途に用いられるインクジェット塗布装置では、吐出される液が必ずしもインクジェット吐出に最適な組成に調整することは困難である。場合によっては、クリーニング機構内のワイパーブレードにてオリフィスプレート表面に付着している残液を掻き取り方式によるワイピング動作を行った場合、該ワイパーブレードにて掻き取った液が、ワイパーブレード上に付着し、そのまま残っているとその液の一部が固化し、ワイパーブレードの特性を劣化させてしまう場合がある。その為、ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構の場合、オリフィスプレートのワイピング動作直後に、ワイパーブレード自体に付着している液を洗浄液によって洗い流す動作を行う場合がある。図5を用い、ワイピング動作直後にワイパーブレードの洗浄を実施する場合の、ワイピング動作の一例を説明する。
1)ワイパーブレード4をインクジェットヘッド1のオリフィスプレート2表面に接触させる。
2)ワイパーブレード4あるいはインクジェットヘッド1を移動させ、オリフィスプレート2表面付着している余分な液滴8を除去する。
3)掻き取った液滴8がワイパーブレード4上に残り固化しないよう、該ワイパーブレードの先端を洗浄液9の中に浸して洗い落とす。
4)ワイパーブレード4を洗浄液9より取り出し、ワイパーブレード4の乾燥を行う(ワイパーブレード4上の洗浄液9の除去)。
In an inkjet coating apparatus used for industrial applications, it is difficult to adjust the liquid to be ejected to an optimal composition for inkjet ejection. In some cases, when the remaining liquid adhering to the orifice plate surface is wiped off by the wiper blade in the cleaning mechanism, the liquid scraped off by the wiper blade adheres to the wiper blade. However, if it is left as it is, a part of the liquid may solidify and the characteristics of the wiper blade may be deteriorated. For this reason, in the case of a wiping mechanism based on a scraping method using a wiper blade, an operation of washing away the liquid adhering to the wiper blade itself with a cleaning liquid may be performed immediately after the wiping operation of the orifice plate. An example of the wiping operation when the wiper blade is cleaned immediately after the wiping operation will be described with reference to FIG.
1) The
2) The
3) The tip of the wiper blade is immersed in the cleaning
4) The
しかし実際の量産設備や製品では、前述したワイパーブレードを用いたワイピング動作を実施しても、インクジェットヘッドのオリフィスプレート表面に付着している液滴を完全に除去することは困難である為、該オリフィスプレート表面に残ってしまった残液の状態によっては、この残液の影響によって吐出不良が発生してしまう場合がある。 However, in actual mass production equipment and products, even if the wiping operation using the wiper blade described above is performed, it is difficult to completely remove the droplets adhering to the orifice plate surface of the inkjet head. Depending on the state of the remaining liquid remaining on the orifice plate surface, ejection failure may occur due to the influence of the remaining liquid.
ワイパーブレードを用いた掻き取り方式にてオリフィスプレート表面に付着している液滴の除去を行うワイピング機構が取り付けられているインクジェット塗布装置に於いて、ワイピング動作後にも関わらずオリフィスプレート表面に液残りが発生し、この液残りによって液の吐出の均一性が失われ、1)吐出される液滴量のバラツキや、2)吐出される液滴の飛翔方向のバラツキ、3)吐出される液滴の飛翔速度のバラツキ等が発生してしまう場合が有る。 In an inkjet coating machine equipped with a wiping mechanism that removes droplets adhering to the orifice plate surface by a scraping method using a wiper blade, liquid remains on the orifice plate surface even after the wiping operation. The remaining liquid causes the uniformity of liquid discharge to be lost, 1) variation in the amount of discharged liquid droplets, 2) variation in the flight direction of the discharged liquid droplets, and 3) liquid droplets to be discharged. In some cases, variations in the flying speed of the aircraft may occur.
ワイパーブレードを用いたワイピング動作を実施しているにもかかわらず、オリフィスプレート表面に液残りが発生してしまう原因の一つに、液滴が付着したワイパーブレードを用いて、オリフィスプレート表面に付着している液滴の除去動作を実施してしまう事が上げられる。これは、液滴が付着したワイパーブレードにて、インクジェットヘッドのオリフィスプレート表面に付着している液滴の除去を行うと、オリフィスプレート表面に付着している液滴の除去と同時に、ワイパーブレードに付着していた液滴を該オリフィスプレート表面に転写してしまうためである。 One of the causes of liquid residue on the orifice plate surface despite the wiping operation using the wiper blade is attached to the orifice plate surface using the wiper blade with droplets attached. It is possible to perform the operation of removing the droplets that are being processed. This is because when the droplets adhered to the orifice plate surface of the ink jet head are removed with the wiper blade to which the droplets have adhered, the droplets adhered to the orifice plate surface are removed simultaneously with the wiper blade. This is because the adhered droplets are transferred to the surface of the orifice plate.
ワイパーブレードに液滴が付着してしまう原因は、ワイピング動作によって該ワイパーブレード表面から掻き取り除去した液滴の一部がワイパーブレード自体に残ってしまったり、前述したワイパーブレード自体の洗浄作業によってワイパーブレード自体に洗浄液が液滴として残ってしまう事が上げられる。 The reason why liquid droplets adhere to the wiper blade is that some of the liquid droplets scraped and removed from the surface of the wiper blade by the wiping operation remain on the wiper blade itself, or the wiper blade itself is cleaned by the above-described cleaning operation. The cleaning liquid is left as droplets on the blade itself.
そこで本発明の目的は、ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構に於いて、ワイパーブレード自体の洗浄作業を行ったとしても掻き取り方式によるワイピング動作に悪影響を与えるような液滴の残りがワイパーブレードに発生しないような、ワイパーブレードを提供することである。 Therefore, an object of the present invention is to remove the remaining droplets that have an adverse effect on the wiping operation by the scraping method even if the wiper blade itself is cleaned in the wiping mechanism by the scraping method using the wiper blade. It is to provide a wiper blade that does not occur in the wiper blade.
前記課題を解決し上記目的を達成するために、本発明では以下の手段を用いる。 In order to solve the above problems and achieve the above object, the present invention uses the following means.
[手段1]ワイパーブレード表面に洗浄液との塗れ性を向上するような表面処理を施し、洗浄液がワイパーブレード表面に液滴の形で残らないようにする。 [Means 1] The surface of the wiper blade is subjected to a surface treatment for improving the wettability with the cleaning liquid so that the cleaning liquid does not remain in the form of droplets on the surface of the wiper blade.
本発明を用いることにより、ワイパーブレード上に掻き取った残液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在する部位が発生する割合が大幅に低減する。またワイパーブレード先端部分に付着する洗浄液の量が低減され、オリフィス表面に付着している残液の除去能力及び除去信頼性が向上する。さらにオリフィスプレート先端部分に付着する洗浄液の量が低減される為、ワイピング動作によって、ワイパーブレードに付着していた洗浄液がオリフィスプレート表面に転写される量が減少する。これにより、ノズルから吐出される液滴量の均一性、液滴の飛翔方向及び液滴飛翔速度のバラツキが低減され、高品質な塗布動作を実現することが可能となる。 By using the present invention, the ratio of occurrence of a part where the remaining liquid or cleaning liquid scraped on the wiper blade is adhering in the form of liquid droplets and a part where no liquid droplets are adhering is greatly reduced. To do. Further, the amount of cleaning liquid adhering to the tip of the wiper blade is reduced, and the removal ability and the removal reliability of the residual liquid adhering to the orifice surface are improved. Further, since the amount of the cleaning liquid adhering to the tip portion of the orifice plate is reduced, the amount of the cleaning liquid adhering to the wiper blade transferred to the orifice plate surface by the wiping operation is reduced. Thereby, the uniformity of the amount of droplets ejected from the nozzle, the variation in the droplet flying direction and the droplet flying speed are reduced, and a high-quality coating operation can be realized.
本発明を実施例により具体的に説明する。 The present invention will be specifically described with reference to examples.
ワイパーブレード上に掻き取った液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在するワイパーブレードを用いて、オリフィスプレート表面のワイピング動作を実施すると、ワイピング後のオリフィスプレート表面に液滴が残ってしまう場合がある。最良の方法としては、ワイパーブレード洗浄後に、ワイパーブレード上に残っている洗浄液を完全に無くなるまで、自然あるいは強制的に乾燥させるか、別の手段で除去する事によって、前記したようなワイピング不良は発生しない。しかしこれを実現するには、ワイパーブレードの液滴除去機構が必要となってしまう。 When wiper operation is performed on the surface of the orifice plate using a wiper blade that has a mixture of the liquid scraped and washed on the wiper blade in the form of droplets and a part where no droplets are attached, Droplets may remain on the surface of the later orifice plate. As the best method, after the wiper blade is washed, the cleaning liquid remaining on the wiper blade is completely or completely dried until it is completely removed, or removed by another means. Does not occur. However, in order to realize this, a droplet removing mechanism for the wiper blade is required.
そこで本発明では、前述したワイパーブレード上に残った洗浄液の除去機構を用いることなく、ワイパーブレード上に洗浄液が残らないか、或いは残っていたとしても液の付着量が少なく且つ均一に(ワイパーブレード上に洗浄液が液滴の形で付着している部分と付着していない部分が混在することが無い)ワイパーブレードを実現する方法を提案することにした。 Therefore, in the present invention, without using the mechanism for removing the cleaning liquid remaining on the wiper blade, the cleaning liquid does not remain on the wiper blade, or even if it remains, the amount of liquid adhered is small and uniform (wiper blade We decided to propose a method for realizing a wiper blade in which the portion where the cleaning liquid adheres in the form of droplets and the portion where it does not adhere are not mixed.
ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構に於いて、ワイピング性能を低下させる原因は、ワイパーブレード上に掻き取った液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在する事で有る。 In the wiping mechanism by the scraping method using the wiper blade, the cause of lowering the wiping performance is that the liquid scraped on the wiper blade or the cleaning liquid adheres in the form of droplets and the droplets adhere. This is due to a mixture of parts that are not.
ワイパーブレード4にてワイピング動作を行う場合、図8に示すようにワイピング動作中のワイパーブレード4の先端は若干変形した状態となる。これはワイピング時のワイパーブレード4とオリフィスプレート2表面を完全に接触させる必要から、ワイパーブレード4とオリフィスプレート2を若干オーバーラップするように取り付ける場合が多いからである。このようなワイピング機能の場合、ワイパーブレード4先端部分に洗浄液9等が付着していると、ワイピング動作時にワイパーブレード4先端に付着していた洗浄液9がオリフィスプレート2表面に転写され、この転写された洗浄液滴9によって、吐出の安定性が低下するおそれがある。通常ワイパーブレード4はオリフィスプレート2と接触してオリフィスプレート2表面に付着している余分な液滴8の掻き取り動作を行う構造から、ある一定の剛性が必要で有り、通常先端部の幅は図2に示すように1〜2mm程度とすることが多い。ワイパーブレード4の先端部の幅が1mm以上の場合、図8に示すように洗浄液9が先端部に液滴の形で付着する場合があり、このような状態でワイピング動作を行うと、ワイピング後のオリフィスプレート2表面にワイパーブレード4先端部に付着していた洗浄液がオリフィスプレート2表面に転写されてしまう場合があった。
When the wiping operation is performed by the
ワイパーブレード先端部分や側面に洗浄液が液滴の形で残らないようにする方法の一つに、ワイパーブレードと洗浄液との接触角を小さくする方法が有る。すなわち、ワイパーブレード表面を親液化する方法である。ワイパーブレードと洗浄液の濡れ性を向上させるための表面処理技術には、薬品処理などに代表される化学的処理技術、紫外線照射、プラズマ処理に代表される物理的処理技術及び界面活性物質を用いる添加剤処理技術など様々な方法がある。 One method for preventing the cleaning liquid from remaining in the form of droplets on the tip and side surfaces of the wiper blade is to reduce the contact angle between the wiper blade and the cleaning liquid. That is, it is a method of making the wiper blade surface lyophilic. The surface treatment technology to improve the wettability of wiper blade and cleaning liquid includes chemical treatment technology represented by chemical treatment, physical treatment technology represented by ultraviolet irradiation and plasma treatment, and addition using surface active substances. There are various methods such as agent processing technology.
本発明では、ワイパーブレード表面に微細な凹凸を形成することによって、洗浄液とワイパーをブレードの塗れ性を向上させる事にした。 In the present invention, the wettability of the cleaning liquid and the wiper is improved by forming fine irregularities on the surface of the wiper blade.
表面粗さとぬれの関係について図6、図7を用い説明する。 The relationship between surface roughness and wetting will be described with reference to FIGS.
平滑な固体表面上に置かれた液滴の接触角θは、次の(1)式(ヤングの式)によって与えられる。固体表面が同じ化学物質で出来ていても、その表面には液滴よりも小さな凹凸が有ると、接触角θγは平滑な表面上での接触角θとは異なってくる。凹凸が少ない場合には、凹凸面上の液滴の接触角θγは平滑面上のθによって式(2)のように表されることが知られている。式(2)は平滑表面のぬれと凹凸表面のぬれの関係を与える基本式であり、ウエンゼルの式と呼ばれる。ここでγ(γ>1)は凹凸面の表面積が平らな面に比べ何倍になったかを表す因子である(表面積増倍因子と呼ぶ)。 The contact angle θ of a droplet placed on a smooth solid surface is given by the following equation (1) (Young's equation). Even if the solid surface is made of the same chemical substance, the contact angle θγ differs from the contact angle θ on a smooth surface if the surface has irregularities smaller than the droplet. When the unevenness is small, it is known that the contact angle θγ of the droplet on the uneven surface is expressed by the equation (2) by θ on the smooth surface. Equation (2) is a basic equation that gives the relationship between the wetness of the smooth surface and the wetting of the uneven surface, and is called the Wenzel equation. Here, γ (γ> 1) is a factor indicating how many times the surface area of the concavo-convex surface is larger than that of a flat surface (referred to as a surface area multiplication factor).
凹凸面上では表面積増倍因子γは1よりも大きいから、式(2)によって、接触角θγはθ>90°の時にはθよりも大きくなり、θ<90°の時には逆に小さくなる(θ=90°の時には接触角は変わらない)。すなわち固体表面に凹凸を付けることによって、撥液的な表面はより撥液的に、親液的な表面はより親液的なる事がわかる。 Since the surface area multiplication factor γ is larger than 1 on the concavo-convex surface, the contact angle θγ is larger than θ when θ> 90 °, and is smaller when θ <90 °, according to the equation (2) (θ The contact angle does not change when = 90 °). In other words, it can be seen that by providing irregularities on the solid surface, the lyophobic surface becomes more lyophobic and the lyophilic surface more lyophilic.
従って、ワイパーブレード4と洗浄液9の接触角が90°より小さい場合には、ワイパーブレード4表面に凹凸を付けることによって、親液化の方向に変化し洗浄液がワイパーブレード4上に液滴の形で残りにくくなる。
Accordingly, when the contact angle between the
ワイパーブレード表面に微細な凹凸を付ける方法としては、ワイパーブレード表面にプラズマジェット処理やプラズマ接触処理、イオンビーム処理、薬品によるエッチング効果にて表面を多孔性構造にする方法やワイパーブレードを作製するための金型表目に微細な凹凸を付けることによって、この金型によって作製されるワイパーブレード表面に微細な凹凸を形成する方法などが有る。また、ワイパーブレード表面を、ヤスリ(紙ヤスリなど)によってこすることにより、表面に微細な傷(凹凸)を作ることによっても、同様の効果を得ることが可能である。 The surface of the wiper blade can be finely textured by plasma jet treatment, plasma contact treatment, ion beam treatment, a method of making the surface porous by chemical etching, or for producing a wiper blade. There is a method of forming fine irregularities on the surface of the wiper blade produced by this mold by providing fine irregularities on the mold surface. The same effect can be obtained by rubbing the surface of the wiper blade with a file (such as a paper file) to create fine scratches (unevenness) on the surface.
確認の結果、表面粗さ(10点平均高さ)Rzが0.005μmのフッ素系ゴムを使用したワイパーブレードでは、ワイパーブレードと洗浄液との接触角は約77°であり、洗浄液は、液滴の形でワイパーブレード上に付着してしまったのに対し、プラズマ処理によってワイパーブレード先端及び側面部分に表面粗さ:Rzが0.03μmの凹凸を作ることによって、接触角は約50°まで低下した。このワイパーブレードでは、より親液化されたことにより、洗浄液はワイパーブレード全体に付着(うっすらと塗れたような状態)した状態となるため、ワイパーブレード上に液滴の形で付着することが無くなり、また全体に付着している量も均一且つ微少であるため、ワイピング時の状態がワイパーブレード全体で均一であり、安定したワイピング動作が行えるようになった。 As a result of the confirmation, the wiper blade using fluorine rubber having a surface roughness (10-point average height) Rz of 0.005 μm has a contact angle of about 77 ° between the wiper blade and the cleaning liquid. The surface of the wiper blade has a surface roughness: Rz of 0.03 μm on the wiper blade tip and side surfaces by plasma treatment, but the contact angle is reduced to about 50 °. did. In this wiper blade, since it became more lyophilic, the cleaning liquid adheres to the entire wiper blade (slightly painted state), so it does not adhere to the wiper blade in the form of droplets, Further, since the amount adhering to the entire surface is uniform and minute, the wiping state is uniform throughout the wiper blade, and a stable wiping operation can be performed.
主に産業用のインクジェット法を用いた塗布装置において、インクジェットヘッド表面のワイピング機構として利用することが可能である。 It can be used as a wiping mechanism for the surface of an inkjet head mainly in a coating apparatus using an industrial inkjet method.
1…インクジェットヘッド、2…オリフィスプレート、3…ノズル、4…ワイパーブレード、7…吐出液、8…余分な液滴、残液、9…洗浄液。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007149878A JP2008302533A (en) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device |
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ID=40231671
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090917 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090917 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20100127 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100302 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110621 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120403 |