JP2008302533A - Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device - Google Patents

Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device Download PDF

Info

Publication number
JP2008302533A
JP2008302533A JP2007149878A JP2007149878A JP2008302533A JP 2008302533 A JP2008302533 A JP 2008302533A JP 2007149878 A JP2007149878 A JP 2007149878A JP 2007149878 A JP2007149878 A JP 2007149878A JP 2008302533 A JP2008302533 A JP 2008302533A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiper blade
droplets
liquid
orifice plate
wiping
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007149878A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Kawabe
俊一 川邊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Displays Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Displays Ltd filed Critical Hitachi Displays Ltd
Priority to JP2007149878A priority Critical patent/JP2008302533A/en
Publication of JP2008302533A publication Critical patent/JP2008302533A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Ink Jet (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem regarding a wiper blade for a wiping mechanism for an ink-jet device wherein due to droplets adhered to the wiper blade, even when wiping operation is performed, droplets adhered to an orifice plate surface cannot be removed completely, which may cause discharge failure, and provide a means for suppressing adhesion of droplets to the wiper blade. <P>SOLUTION: Surface treatment to improve application performance with respect to cleaning fluid is applied to the surface of the wiper blade, so as to prevent the cleaning fluid from remaining on the surface of the wiper blade in a form of droplets. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、主に工業用としてインクジェット法を用いた塗布装置に関するものである。   The present invention relates to a coating apparatus using an inkjet method mainly for industrial use.

インクジェット法を用いた塗布装置は、家庭用プリンターばかりでなく、工業用の用途に於いても各種インクやレジスト等の塗布装置として広く適用され始めている。   A coating apparatus using an ink jet method has begun to be widely applied as a coating apparatus for various inks and resists not only for household printers but also for industrial applications.

従来より広く普及しているオフセット印刷法やスクリーン印刷法に代表される印刷方式は、目的の印刷パターン(図柄)を作成する為の印刷版やスクリーン版等が、その印刷パターン毎に必要であった。これに対しインクジェット塗布方式の場合、図2に示すように一般的にはインクを吐出する為の微細な吐出口(以下ノズル3と呼ぶ)が1mm以下の間隔で多数個配置されたインクジェットヘッド1を持ち、該インクジェットヘッド1或いは印刷対象物の移動と各ノズル3から吐出される吐出液7のON/OFFにて所定の塗布パターンを実現することが可能である。従って予め各ノズル3の液吐出のON/OFFの条件(塗布パターン)を作成しておくことにより、印刷方式のように印刷版やスクリーン版等を多数保有する必要が無く、またこれら版の交換作業も不要である。   Printing methods such as offset printing methods and screen printing methods that have been widely used in the past require a printing plate or screen plate for creating the desired printing pattern (design) for each printing pattern. It was. In contrast, in the case of the ink jet coating method, as shown in FIG. 2, generally, an ink jet head 1 in which a large number of fine discharge ports (hereinafter referred to as nozzles 3) for discharging ink are arranged at intervals of 1 mm or less. The predetermined application pattern can be realized by moving the inkjet head 1 or the printing object and turning on / off the discharge liquid 7 discharged from each nozzle 3. Therefore, by preparing the ON / OFF conditions (coating pattern) for the liquid discharge of each nozzle 3 in advance, it is not necessary to have a large number of printing plates, screen plates, etc. unlike the printing method, and these plates can be replaced. Work is also unnecessary.

しかし、インクジェット法を用いて目的の印刷パターンを高精度に作成するためには、以下に示す項目を実現する事が重要である。
1)吐出される液滴量が常に均一であること。
2)吐出される液滴の飛翔方向が一定でバラツキが少ないこと。
3)吐出される液滴の飛翔速度が一定でバラツキが少ないこと。
However, in order to create a target print pattern with high accuracy using the inkjet method, it is important to realize the following items.
1) The amount of ejected droplets is always uniform.
2) The flying direction of the discharged droplets is constant and there is little variation.
3) The flying speed of the ejected droplets is constant and there is little variation.

これらを実現するために制御しなければならない項目は幾つか存在するが、その中の一つに、インクジェットヘッド1のオリフィスプレート2に空けられたノズル3出口に吐出液7によって形成されるメニスカスを一定に保つことが重要である。一般的には、ノズル3出口に液によって形成されるメニスカスは図3に示すように凹形状が良いと言われている。しかし、液の吐出を繰り返すことによって、吐出される液の一部や印刷対象物に着弾した液滴の一部の跳ね返りによって、図4に示すようにオリフィスプレート2表面に液が付着し、この付着した液がノズル3に掛かってしまった場合には、正常時のメニスカス形状と違ってしまうため、吐出される液滴の量が変動したり、吐出される液滴の飛翔方向がばらつき吐出液7の着弾精度が悪化する場合が有る。従って、このような吐出異常は、オリフィスプレート2表面に付着している吐出される液7の一部や印刷対象物に着弾した液滴の跳ね返りの一部によって引き起こされている為、定期的にオリフィスプレート2の表面をクリーニングする事によって防止することが可能であり、一般的なインクジェット装置では、このようなオリフィスプレート2表面のクリーニング機構が付随し用いられている。   There are several items that need to be controlled in order to realize these. One of them is the meniscus formed by the discharge liquid 7 at the outlet of the nozzle 3 formed in the orifice plate 2 of the inkjet head 1. It is important to keep it constant. In general, it is said that the meniscus formed by the liquid at the outlet of the nozzle 3 has a concave shape as shown in FIG. However, by repeating the discharge of the liquid, the liquid adheres to the surface of the orifice plate 2 as shown in FIG. 4 due to the rebound of a part of the discharged liquid and a part of the droplet landed on the printing object. When the adhered liquid is applied to the nozzle 3, it is different from the normal meniscus shape. Therefore, the amount of ejected liquid droplets varies or the flying direction of the ejected liquid droplets varies. 7 landing accuracy may be deteriorated. Therefore, such an abnormal discharge is caused by a part of the ejected liquid 7 adhering to the surface of the orifice plate 2 or a part of the rebound of the droplets landed on the printing object. This can be prevented by cleaning the surface of the orifice plate 2. In a general ink jet apparatus, such a cleaning mechanism for the surface of the orifice plate 2 is additionally used.

オリフィスプレート表面のクリーニング方式には、ゴム製のワイパーブレードを用いて余分な液滴を掻き取り除去する方式や吸液性を有する材料によって余分な液滴を吸着する方式、さらに真空吸引によって液滴を除去する方式など幾つかの方式が存在する。   Orifice plate surface cleaning methods include a method of scraping and removing excess droplets using a rubber wiper blade, a method of adsorbing excess droplets with a material having liquid absorption properties, and a method of droplets by vacuum suction. There are several methods such as a method for removing the image.

本発明の対象となるクリーニング方式は、ゴム製のワイパーブレードを用いた掻き取り方式である。   The cleaning method that is the subject of the present invention is a scraping method using a rubber wiper blade.

工業用の用途に用いられるインクジェット塗布装置では、吐出される液が必ずしもインクジェット吐出に最適な組成に調整することは困難である。場合によっては、クリーニング機構内のワイパーブレードにてオリフィスプレート表面に付着している残液を掻き取り方式によるワイピング動作を行った場合、該ワイパーブレードにて掻き取った液が、ワイパーブレード上に付着し、そのまま残っているとその液の一部が固化し、ワイパーブレードの特性を劣化させてしまう場合がある。その為、ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構の場合、オリフィスプレートのワイピング動作直後に、ワイパーブレード自体に付着している液を洗浄液によって洗い流す動作を行う場合がある。図5を用い、ワイピング動作直後にワイパーブレードの洗浄を実施する場合の、ワイピング動作の一例を説明する。
1)ワイパーブレード4をインクジェットヘッド1のオリフィスプレート2表面に接触させる。
2)ワイパーブレード4あるいはインクジェットヘッド1を移動させ、オリフィスプレート2表面付着している余分な液滴8を除去する。
3)掻き取った液滴8がワイパーブレード4上に残り固化しないよう、該ワイパーブレードの先端を洗浄液9の中に浸して洗い落とす。
4)ワイパーブレード4を洗浄液9より取り出し、ワイパーブレード4の乾燥を行う(ワイパーブレード4上の洗浄液9の除去)。
In an inkjet coating apparatus used for industrial applications, it is difficult to adjust the liquid to be ejected to an optimal composition for inkjet ejection. In some cases, when the remaining liquid adhering to the orifice plate surface is wiped off by the wiper blade in the cleaning mechanism, the liquid scraped off by the wiper blade adheres to the wiper blade. However, if it is left as it is, a part of the liquid may solidify and the characteristics of the wiper blade may be deteriorated. For this reason, in the case of a wiping mechanism based on a scraping method using a wiper blade, an operation of washing away the liquid adhering to the wiper blade itself with a cleaning liquid may be performed immediately after the wiping operation of the orifice plate. An example of the wiping operation when the wiper blade is cleaned immediately after the wiping operation will be described with reference to FIG.
1) The wiper blade 4 is brought into contact with the surface of the orifice plate 2 of the inkjet head 1.
2) The wiper blade 4 or the inkjet head 1 is moved to remove excess droplets 8 adhering to the surface of the orifice plate 2.
3) The tip of the wiper blade is immersed in the cleaning liquid 9 so that the scraped droplets 8 remain on the wiper blade 4 and do not solidify.
4) The wiper blade 4 is taken out from the cleaning liquid 9, and the wiper blade 4 is dried (removal of the cleaning liquid 9 on the wiper blade 4).

しかし実際の量産設備や製品では、前述したワイパーブレードを用いたワイピング動作を実施しても、インクジェットヘッドのオリフィスプレート表面に付着している液滴を完全に除去することは困難である為、該オリフィスプレート表面に残ってしまった残液の状態によっては、この残液の影響によって吐出不良が発生してしまう場合がある。   However, in actual mass production equipment and products, even if the wiping operation using the wiper blade described above is performed, it is difficult to completely remove the droplets adhering to the orifice plate surface of the inkjet head. Depending on the state of the remaining liquid remaining on the orifice plate surface, ejection failure may occur due to the influence of the remaining liquid.

特開2004−338371号公報JP 2004-338371 A 特開平10−235882号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-235882

ワイパーブレードを用いた掻き取り方式にてオリフィスプレート表面に付着している液滴の除去を行うワイピング機構が取り付けられているインクジェット塗布装置に於いて、ワイピング動作後にも関わらずオリフィスプレート表面に液残りが発生し、この液残りによって液の吐出の均一性が失われ、1)吐出される液滴量のバラツキや、2)吐出される液滴の飛翔方向のバラツキ、3)吐出される液滴の飛翔速度のバラツキ等が発生してしまう場合が有る。   In an inkjet coating machine equipped with a wiping mechanism that removes droplets adhering to the orifice plate surface by a scraping method using a wiper blade, liquid remains on the orifice plate surface even after the wiping operation. The remaining liquid causes the uniformity of liquid discharge to be lost, 1) variation in the amount of discharged liquid droplets, 2) variation in the flight direction of the discharged liquid droplets, and 3) liquid droplets to be discharged. In some cases, variations in the flying speed of the aircraft may occur.

ワイパーブレードを用いたワイピング動作を実施しているにもかかわらず、オリフィスプレート表面に液残りが発生してしまう原因の一つに、液滴が付着したワイパーブレードを用いて、オリフィスプレート表面に付着している液滴の除去動作を実施してしまう事が上げられる。これは、液滴が付着したワイパーブレードにて、インクジェットヘッドのオリフィスプレート表面に付着している液滴の除去を行うと、オリフィスプレート表面に付着している液滴の除去と同時に、ワイパーブレードに付着していた液滴を該オリフィスプレート表面に転写してしまうためである。   One of the causes of liquid residue on the orifice plate surface despite the wiping operation using the wiper blade is attached to the orifice plate surface using the wiper blade with droplets attached. It is possible to perform the operation of removing the droplets that are being processed. This is because when the droplets adhered to the orifice plate surface of the ink jet head are removed with the wiper blade to which the droplets have adhered, the droplets adhered to the orifice plate surface are removed simultaneously with the wiper blade. This is because the adhered droplets are transferred to the surface of the orifice plate.

ワイパーブレードに液滴が付着してしまう原因は、ワイピング動作によって該ワイパーブレード表面から掻き取り除去した液滴の一部がワイパーブレード自体に残ってしまったり、前述したワイパーブレード自体の洗浄作業によってワイパーブレード自体に洗浄液が液滴として残ってしまう事が上げられる。   The reason why liquid droplets adhere to the wiper blade is that some of the liquid droplets scraped and removed from the surface of the wiper blade by the wiping operation remain on the wiper blade itself, or the wiper blade itself is cleaned by the above-described cleaning operation. The cleaning liquid is left as droplets on the blade itself.

そこで本発明の目的は、ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構に於いて、ワイパーブレード自体の洗浄作業を行ったとしても掻き取り方式によるワイピング動作に悪影響を与えるような液滴の残りがワイパーブレードに発生しないような、ワイパーブレードを提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to remove the remaining droplets that have an adverse effect on the wiping operation by the scraping method even if the wiper blade itself is cleaned in the wiping mechanism by the scraping method using the wiper blade. It is to provide a wiper blade that does not occur in the wiper blade.

前記課題を解決し上記目的を達成するために、本発明では以下の手段を用いる。   In order to solve the above problems and achieve the above object, the present invention uses the following means.

[手段1]ワイパーブレード表面に洗浄液との塗れ性を向上するような表面処理を施し、洗浄液がワイパーブレード表面に液滴の形で残らないようにする。   [Means 1] The surface of the wiper blade is subjected to a surface treatment for improving the wettability with the cleaning liquid so that the cleaning liquid does not remain in the form of droplets on the surface of the wiper blade.

本発明を用いることにより、ワイパーブレード上に掻き取った残液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在する部位が発生する割合が大幅に低減する。またワイパーブレード先端部分に付着する洗浄液の量が低減され、オリフィス表面に付着している残液の除去能力及び除去信頼性が向上する。さらにオリフィスプレート先端部分に付着する洗浄液の量が低減される為、ワイピング動作によって、ワイパーブレードに付着していた洗浄液がオリフィスプレート表面に転写される量が減少する。これにより、ノズルから吐出される液滴量の均一性、液滴の飛翔方向及び液滴飛翔速度のバラツキが低減され、高品質な塗布動作を実現することが可能となる。   By using the present invention, the ratio of occurrence of a part where the remaining liquid or cleaning liquid scraped on the wiper blade is adhering in the form of liquid droplets and a part where no liquid droplets are adhering is greatly reduced. To do. Further, the amount of cleaning liquid adhering to the tip of the wiper blade is reduced, and the removal ability and the removal reliability of the residual liquid adhering to the orifice surface are improved. Further, since the amount of the cleaning liquid adhering to the tip portion of the orifice plate is reduced, the amount of the cleaning liquid adhering to the wiper blade transferred to the orifice plate surface by the wiping operation is reduced. Thereby, the uniformity of the amount of droplets ejected from the nozzle, the variation in the droplet flying direction and the droplet flying speed are reduced, and a high-quality coating operation can be realized.

本発明を実施例により具体的に説明する。   The present invention will be specifically described with reference to examples.

ワイパーブレード上に掻き取った液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在するワイパーブレードを用いて、オリフィスプレート表面のワイピング動作を実施すると、ワイピング後のオリフィスプレート表面に液滴が残ってしまう場合がある。最良の方法としては、ワイパーブレード洗浄後に、ワイパーブレード上に残っている洗浄液を完全に無くなるまで、自然あるいは強制的に乾燥させるか、別の手段で除去する事によって、前記したようなワイピング不良は発生しない。しかしこれを実現するには、ワイパーブレードの液滴除去機構が必要となってしまう。   When wiper operation is performed on the surface of the orifice plate using a wiper blade that has a mixture of the liquid scraped and washed on the wiper blade in the form of droplets and a part where no droplets are attached, Droplets may remain on the surface of the later orifice plate. As the best method, after the wiper blade is washed, the cleaning liquid remaining on the wiper blade is completely or completely dried until it is completely removed, or removed by another means. Does not occur. However, in order to realize this, a droplet removing mechanism for the wiper blade is required.

そこで本発明では、前述したワイパーブレード上に残った洗浄液の除去機構を用いることなく、ワイパーブレード上に洗浄液が残らないか、或いは残っていたとしても液の付着量が少なく且つ均一に(ワイパーブレード上に洗浄液が液滴の形で付着している部分と付着していない部分が混在することが無い)ワイパーブレードを実現する方法を提案することにした。   Therefore, in the present invention, without using the mechanism for removing the cleaning liquid remaining on the wiper blade, the cleaning liquid does not remain on the wiper blade, or even if it remains, the amount of liquid adhered is small and uniform (wiper blade We decided to propose a method for realizing a wiper blade in which the portion where the cleaning liquid adheres in the form of droplets and the portion where it does not adhere are not mixed.

ワイパーブレードを用いた掻き取り方式によるワイピング機構に於いて、ワイピング性能を低下させる原因は、ワイパーブレード上に掻き取った液や洗浄液が液滴の形で付着している部分と液滴が付着していない部分が混在する事で有る。   In the wiping mechanism by the scraping method using the wiper blade, the cause of lowering the wiping performance is that the liquid scraped on the wiper blade or the cleaning liquid adheres in the form of droplets and the droplets adhere. This is due to a mixture of parts that are not.

ワイパーブレード4にてワイピング動作を行う場合、図8に示すようにワイピング動作中のワイパーブレード4の先端は若干変形した状態となる。これはワイピング時のワイパーブレード4とオリフィスプレート2表面を完全に接触させる必要から、ワイパーブレード4とオリフィスプレート2を若干オーバーラップするように取り付ける場合が多いからである。このようなワイピング機能の場合、ワイパーブレード4先端部分に洗浄液9等が付着していると、ワイピング動作時にワイパーブレード4先端に付着していた洗浄液9がオリフィスプレート2表面に転写され、この転写された洗浄液滴9によって、吐出の安定性が低下するおそれがある。通常ワイパーブレード4はオリフィスプレート2と接触してオリフィスプレート2表面に付着している余分な液滴8の掻き取り動作を行う構造から、ある一定の剛性が必要で有り、通常先端部の幅は図2に示すように1〜2mm程度とすることが多い。ワイパーブレード4の先端部の幅が1mm以上の場合、図8に示すように洗浄液9が先端部に液滴の形で付着する場合があり、このような状態でワイピング動作を行うと、ワイピング後のオリフィスプレート2表面にワイパーブレード4先端部に付着していた洗浄液がオリフィスプレート2表面に転写されてしまう場合があった。   When the wiping operation is performed by the wiper blade 4, the tip of the wiper blade 4 during the wiping operation is slightly deformed as shown in FIG. This is because the wiper blade 4 and the orifice plate 2 need to be completely brought into contact with each other during wiping, and the wiper blade 4 and the orifice plate 2 are often attached so as to slightly overlap. In the case of such a wiping function, if the cleaning liquid 9 or the like is attached to the tip of the wiper blade 4, the cleaning liquid 9 attached to the tip of the wiper blade 4 during the wiping operation is transferred to the surface of the orifice plate 2 and transferred. There is a possibility that the ejection stability is lowered by the washed droplets 9. Usually, the wiper blade 4 is in contact with the orifice plate 2 and scrapes off excessive droplets 8 adhering to the surface of the orifice plate 2, so that a certain rigidity is required. As shown in FIG. 2, it is often about 1 to 2 mm. When the width of the tip of the wiper blade 4 is 1 mm or more, the cleaning liquid 9 may adhere to the tip in the form of droplets as shown in FIG. 8, and if the wiping operation is performed in such a state, The cleaning liquid adhering to the tip of the wiper blade 4 on the surface of the orifice plate 2 may be transferred to the surface of the orifice plate 2.

ワイパーブレード先端部分や側面に洗浄液が液滴の形で残らないようにする方法の一つに、ワイパーブレードと洗浄液との接触角を小さくする方法が有る。すなわち、ワイパーブレード表面を親液化する方法である。ワイパーブレードと洗浄液の濡れ性を向上させるための表面処理技術には、薬品処理などに代表される化学的処理技術、紫外線照射、プラズマ処理に代表される物理的処理技術及び界面活性物質を用いる添加剤処理技術など様々な方法がある。   One method for preventing the cleaning liquid from remaining in the form of droplets on the tip and side surfaces of the wiper blade is to reduce the contact angle between the wiper blade and the cleaning liquid. That is, it is a method of making the wiper blade surface lyophilic. The surface treatment technology to improve the wettability of wiper blade and cleaning liquid includes chemical treatment technology represented by chemical treatment, physical treatment technology represented by ultraviolet irradiation and plasma treatment, and addition using surface active substances. There are various methods such as agent processing technology.

本発明では、ワイパーブレード表面に微細な凹凸を形成することによって、洗浄液とワイパーをブレードの塗れ性を向上させる事にした。   In the present invention, the wettability of the cleaning liquid and the wiper is improved by forming fine irregularities on the surface of the wiper blade.

表面粗さとぬれの関係について図6、図7を用い説明する。   The relationship between surface roughness and wetting will be described with reference to FIGS.

平滑な固体表面上に置かれた液滴の接触角θは、次の(1)式(ヤングの式)によって与えられる。固体表面が同じ化学物質で出来ていても、その表面には液滴よりも小さな凹凸が有ると、接触角θγは平滑な表面上での接触角θとは異なってくる。凹凸が少ない場合には、凹凸面上の液滴の接触角θγは平滑面上のθによって式(2)のように表されることが知られている。式(2)は平滑表面のぬれと凹凸表面のぬれの関係を与える基本式であり、ウエンゼルの式と呼ばれる。ここでγ(γ>1)は凹凸面の表面積が平らな面に比べ何倍になったかを表す因子である(表面積増倍因子と呼ぶ)。   The contact angle θ of a droplet placed on a smooth solid surface is given by the following equation (1) (Young's equation). Even if the solid surface is made of the same chemical substance, the contact angle θγ differs from the contact angle θ on a smooth surface if the surface has irregularities smaller than the droplet. When the unevenness is small, it is known that the contact angle θγ of the droplet on the uneven surface is expressed by the equation (2) by θ on the smooth surface. Equation (2) is a basic equation that gives the relationship between the wetness of the smooth surface and the wetting of the uneven surface, and is called the Wenzel equation. Here, γ (γ> 1) is a factor indicating how many times the surface area of the concavo-convex surface is larger than that of a flat surface (referred to as a surface area multiplication factor).

凹凸面上では表面積増倍因子γは1よりも大きいから、式(2)によって、接触角θγはθ>90°の時にはθよりも大きくなり、θ<90°の時には逆に小さくなる(θ=90°の時には接触角は変わらない)。すなわち固体表面に凹凸を付けることによって、撥液的な表面はより撥液的に、親液的な表面はより親液的なる事がわかる。   Since the surface area multiplication factor γ is larger than 1 on the concavo-convex surface, the contact angle θγ is larger than θ when θ> 90 °, and is smaller when θ <90 °, according to the equation (2) (θ The contact angle does not change when = 90 °). In other words, it can be seen that by providing irregularities on the solid surface, the lyophobic surface becomes more lyophobic and the lyophilic surface more lyophilic.

従って、ワイパーブレード4と洗浄液9の接触角が90°より小さい場合には、ワイパーブレード4表面に凹凸を付けることによって、親液化の方向に変化し洗浄液がワイパーブレード4上に液滴の形で残りにくくなる。   Accordingly, when the contact angle between the wiper blade 4 and the cleaning liquid 9 is smaller than 90 °, the surface of the wiper blade 4 is made uneven to change the direction of lyophilicity, and the cleaning liquid drops on the wiper blade 4 in the form of droplets. It becomes difficult to remain.

ワイパーブレード表面に微細な凹凸を付ける方法としては、ワイパーブレード表面にプラズマジェット処理やプラズマ接触処理、イオンビーム処理、薬品によるエッチング効果にて表面を多孔性構造にする方法やワイパーブレードを作製するための金型表目に微細な凹凸を付けることによって、この金型によって作製されるワイパーブレード表面に微細な凹凸を形成する方法などが有る。また、ワイパーブレード表面を、ヤスリ(紙ヤスリなど)によってこすることにより、表面に微細な傷(凹凸)を作ることによっても、同様の効果を得ることが可能である。   The surface of the wiper blade can be finely textured by plasma jet treatment, plasma contact treatment, ion beam treatment, a method of making the surface porous by chemical etching, or for producing a wiper blade. There is a method of forming fine irregularities on the surface of the wiper blade produced by this mold by providing fine irregularities on the mold surface. The same effect can be obtained by rubbing the surface of the wiper blade with a file (such as a paper file) to create fine scratches (unevenness) on the surface.

確認の結果、表面粗さ(10点平均高さ)Rzが0.005μmのフッ素系ゴムを使用したワイパーブレードでは、ワイパーブレードと洗浄液との接触角は約77°であり、洗浄液は、液滴の形でワイパーブレード上に付着してしまったのに対し、プラズマ処理によってワイパーブレード先端及び側面部分に表面粗さ:Rzが0.03μmの凹凸を作ることによって、接触角は約50°まで低下した。このワイパーブレードでは、より親液化されたことにより、洗浄液はワイパーブレード全体に付着(うっすらと塗れたような状態)した状態となるため、ワイパーブレード上に液滴の形で付着することが無くなり、また全体に付着している量も均一且つ微少であるため、ワイピング時の状態がワイパーブレード全体で均一であり、安定したワイピング動作が行えるようになった。   As a result of the confirmation, the wiper blade using fluorine rubber having a surface roughness (10-point average height) Rz of 0.005 μm has a contact angle of about 77 ° between the wiper blade and the cleaning liquid. The surface of the wiper blade has a surface roughness: Rz of 0.03 μm on the wiper blade tip and side surfaces by plasma treatment, but the contact angle is reduced to about 50 °. did. In this wiper blade, since it became more lyophilic, the cleaning liquid adheres to the entire wiper blade (slightly painted state), so it does not adhere to the wiper blade in the form of droplets, Further, since the amount adhering to the entire surface is uniform and minute, the wiping state is uniform throughout the wiper blade, and a stable wiping operation can be performed.

主に産業用のインクジェット法を用いた塗布装置において、インクジェットヘッド表面のワイピング機構として利用することが可能である。   It can be used as a wiping mechanism for the surface of an inkjet head mainly in a coating apparatus using an industrial inkjet method.

本発明の第1の実施例を示す斜視図。The perspective view which shows the 1st Example of this invention. インクジェットヘッドを示す斜視図。The perspective view which shows an inkjet head. ノズル部分の拡大断面図。The expanded sectional view of a nozzle part. オリフィスプレート表面に液滴が付着している状態を示すノズル部断面図。The nozzle part sectional drawing which shows the state in which the droplet has adhered to the orifice plate surface. ワイピング動作を示すプロセスフロー。Process flow showing wiping action. 表面粗さとぬれの関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the relationship between surface roughness and wetting. 表面粗さとぬれの関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the relationship between surface roughness and wetting. ワイピング動作時のワイパーブレードの状態を示す模式図。The schematic diagram which shows the state of the wiper blade at the time of wiping operation | movement.

符号の説明Explanation of symbols

1…インクジェットヘッド、2…オリフィスプレート、3…ノズル、4…ワイパーブレード、7…吐出液、8…余分な液滴、残液、9…洗浄液。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Inkjet head, 2 ... Orifice plate, 3 ... Nozzle, 4 ... Wiper blade, 7 ... Discharge liquid, 8 ... Excess liquid droplet, residual liquid, 9 ... Cleaning liquid.

Claims (2)

印刷或いは塗布対象の液を吐出する為の複数の吐出口が設けられたオリフィスプレートを有するインクジェットヘッドと、該オリフィスプレート表面に付着した残液を掻き取り方式によって除去するワイピング機構と、ワイピング動作後にワイパーブレード表面に付着している残液を取り除く為の洗浄機構を有するインクジェット塗布装置に於いて、該ワイパーブレード洗浄後の洗浄液がワイパーブレード表面に液滴として付着するのを防止する為、ワイパーブレードの表面に微細な凹凸を形成したことを特徴とするインクジェット塗布装置のワイピング機構に用いられるワイパーブレード。   An inkjet head having an orifice plate provided with a plurality of ejection openings for ejecting a liquid to be printed or applied, a wiping mechanism for removing residual liquid adhering to the surface of the orifice plate by a scraping method, and after a wiping operation In an inkjet coating apparatus having a cleaning mechanism for removing residual liquid adhering to the surface of the wiper blade, the wiper blade in order to prevent the cleaning liquid after cleaning the wiper blade from adhering as droplets to the surface of the wiper blade A wiper blade used in a wiping mechanism of an ink jet coating apparatus, wherein fine irregularities are formed on the surface of the ink jet coating apparatus. 請求項1に記載したワイパーブレードの表面には、表面粗さ:10点平均高さで0.03μmの凹凸が形成されていることを特徴とするインクジェット塗布装置のワイピング機構に用いられるワイパーブレード。   A wiper blade for use in a wiping mechanism of an ink jet coating apparatus, wherein the surface of the wiper blade according to claim 1 has an unevenness of 0.03 μm in surface roughness: 10-point average height.
JP2007149878A 2007-06-06 2007-06-06 Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device Pending JP2008302533A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007149878A JP2008302533A (en) 2007-06-06 2007-06-06 Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007149878A JP2008302533A (en) 2007-06-06 2007-06-06 Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008302533A true JP2008302533A (en) 2008-12-18

Family

ID=40231671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007149878A Pending JP2008302533A (en) 2007-06-06 2007-06-06 Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008302533A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012088074A (en) * 2010-10-15 2012-05-10 Ritsumeikan Tool having water-repellent layer and method of manufacturing the tool
JP5970117B1 (en) * 2015-08-11 2016-08-17 住友化学株式会社 Polarizing film manufacturing method and manufacturing apparatus
JP5976972B1 (en) * 2016-02-25 2016-08-24 ローランドディー.ジー.株式会社 Cleaning device and ink jet printer provided with the same
CN106249334A (en) * 2015-06-11 2016-12-21 住友化学株式会社 The manufacture method of light polarizing film
KR20180057888A (en) * 2016-11-23 2018-05-31 한국전기연구원 Squeegee blade for conductive paste printing and manufacturing method thereof
KR101866811B1 (en) * 2016-12-14 2018-06-19 주식회사 다스코포레이션 Squeegee for screen printer and method of manufcturing the same
JP7438773B2 (en) 2020-02-04 2024-02-27 理想科学工業株式会社 Wiper mechanism and wiper

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004034477A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Seiko Epson Corp Wiping member and liquid ejector

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004034477A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Seiko Epson Corp Wiping member and liquid ejector

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012088074A (en) * 2010-10-15 2012-05-10 Ritsumeikan Tool having water-repellent layer and method of manufacturing the tool
CN106249334A (en) * 2015-06-11 2016-12-21 住友化学株式会社 The manufacture method of light polarizing film
JP5970117B1 (en) * 2015-08-11 2016-08-17 住友化学株式会社 Polarizing film manufacturing method and manufacturing apparatus
JP2017003955A (en) * 2015-08-11 2017-01-05 住友化学株式会社 Production method of polarizing film and production apparatus
JP5976972B1 (en) * 2016-02-25 2016-08-24 ローランドディー.ジー.株式会社 Cleaning device and ink jet printer provided with the same
KR20180057888A (en) * 2016-11-23 2018-05-31 한국전기연구원 Squeegee blade for conductive paste printing and manufacturing method thereof
KR102521506B1 (en) 2016-11-23 2023-04-14 한국전기연구원 Squeegee blade for conductive paste printing and manufacturing method thereof
KR101866811B1 (en) * 2016-12-14 2018-06-19 주식회사 다스코포레이션 Squeegee for screen printer and method of manufcturing the same
JP7438773B2 (en) 2020-02-04 2024-02-27 理想科学工業株式会社 Wiper mechanism and wiper

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5051887B2 (en) Liquid coating apparatus and method, and image forming apparatus
JP2008302533A (en) Wiper blade for wiping mechanism for ink-jet device
JP5020015B2 (en) Liquid coating apparatus and inkjet recording apparatus
JP3332503B2 (en) INK JET HEAD WITH IMPROVED INK DISCHARGE PORT FACE, INK JET EQUIPMENT WITH THE INK JET
JP2006212863A (en) Inkjet recording device and method for cleaning nozzle face of inkjet recording head
JP3834049B2 (en) Ink jet recording apparatus, ink jet head cleaning device, and ink jet head cleaning method
JP2009023118A (en) Wiping method for inkjet recording head
JP2007276256A (en) Liquid droplet discharging head, liquid droplet discharging device, and manufacturing method for liquid droplet discharging head
JP2019142145A (en) Wiping-out device, head maintenance device and liquid-discharging device
JP2013129193A (en) Device of cleaning deposit from component
JP2006205714A (en) Method of cleaning head and inkjet recorder
CN108297548B (en) Recording head and ink jet recording apparatus provided with the same
EP1440804B1 (en) Coated wiper for inkjet printer
JP6299330B2 (en) Liquid ejection device
US9139007B2 (en) Head cleaning method and liquid discharging apparatus
KR20070084877A (en) Method for coating of ink-jet printer head nozzle
JP2009018249A (en) Liquid material discharge device
JP2014024258A (en) Inkjet recording device
JP6690558B2 (en) Recording head and ink jet recording apparatus including the same
JP2002273285A (en) Wiping apparatus for liquid agent applying apparatus
JP2018199278A (en) Liquid discharge head and liquid discharge device
JP6686912B2 (en) Recording head and ink jet recording apparatus including the same
JP6160033B2 (en) Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus
JP2009137241A (en) Cleaning device of inkjet printer
JP2005153307A (en) Recording head, its manufacturing method and inkjet recording device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090917

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090917

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20100127

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100302

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110112

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20110621

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111025

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120403