JP2008287998A - Coaxial cable - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、銅害防止効果に優れた同軸ケーブルに関する。 The present invention relates to a coaxial cable excellent in copper damage prevention effect.
従来、同軸ケーブルの中心導体は、Cu線からなる導体(Cu導体)の外周に、防食、防錆のための該Cu導体を覆うめっき層を形成してなる。同軸ケーブルは、この中心導体の外周に、該中心導体を覆う絶縁体を形成してなる。絶縁体は、ポリプロピレン系樹脂(ポリプロピレン又はポリプロピレンを含有した樹脂)からなる。 Conventionally, the central conductor of a coaxial cable is formed by forming a plating layer covering the Cu conductor for corrosion prevention and rust prevention on the outer periphery of a conductor made of Cu wire (Cu conductor). The coaxial cable is formed by forming an insulator covering the center conductor on the outer periphery of the center conductor. The insulator is made of polypropylene resin (polypropylene or resin containing polypropylene).
ところが、このようなポリプロピレン系樹脂を絶縁体とした同軸ケーブルは、絶縁体とCu導体とが接触すると、絶縁体がCuと化学的に反応し、絶縁体が分解する現象(銅害)が発生する。 However, in such a coaxial cable made of polypropylene resin as an insulator, when the insulator and the Cu conductor come into contact, the insulator chemically reacts with Cu, and the insulator is decomposed (copper damage). To do.
従来から銅害を防止するため、絶縁体中に銅害防止剤を添加したり、Cu導体の表面にSnめっきを施したりしている。特許文献1では、銅害防止効果を高めるために、Cu導体の外側、もしくは絶縁体の内側にポリエチレンなどからなる銅害防止層を設けている。
Conventionally, in order to prevent copper damage, a copper damage inhibitor is added to the insulator, or Sn plating is applied to the surface of the Cu conductor. In
しかしながら、絶縁体中に銅害防止剤を添加する場合、添加量が十分でないと、銅害防止効果が得られないため、必要十分な量を添加することになる。そのため、絶縁体の特性、例えば、可塑性、屈曲性、可とう性などに影響が及ぶ。 However, when a copper damage inhibitor is added to the insulator, the necessary and sufficient amount is added because the effect of preventing copper damage cannot be obtained unless the addition amount is sufficient. Therefore, the properties of the insulator, such as plasticity, flexibility, flexibility, etc. are affected.
Cu導体の表面にSnめっきを施す場合、Sn中にCu原子が拡散する現象を防止しているわけではないので、経時的にCu原子がめっき表面に析出し、銅害を引き起こす。 When Sn plating is applied to the surface of the Cu conductor, the phenomenon of Cu atoms diffusing into Sn is not prevented, so that Cu atoms precipitate on the plating surface over time, causing copper damage.
特許文献1では、銅害防止効果を高めるために複数の樹脂層を設けているが、複数の樹脂層を重ねて構成するために、内側の樹脂を硬化した後に、外側の樹脂を形成する工程を複数回行う必要があり、銅害防止剤を含んでいる樹脂材料と通常の樹脂材料を熱的に安定なまま交互に構成することは、樹脂の熱劣化等の問題があり、事実上困難である。
In
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、銅害防止効果に優れた同軸ケーブルを提供することにある。 Then, the objective of this invention is providing the coaxial cable excellent in the copper damage prevention effect which solves the said subject.
上記目的を達成するために本発明は、中心導体と、該中心導体を覆う絶縁体と、該絶縁体を覆う外部導体と、該外部導体を覆う外皮部材とを備えた同軸ケーブルにおいて、上記中心導体は、Cu導体と該Cu導体を覆うCoを主成分とする層と該Coを主成分とする層を覆うSnを主成分とする層とを有する素線を複数本撚り合わせてなるものである。 To achieve the above object, the present invention provides a coaxial cable comprising a center conductor, an insulator covering the center conductor, an outer conductor covering the insulator, and a skin member covering the outer conductor. The conductor is formed by twisting a plurality of strands each having a Cu conductor, a Co-based layer covering the Cu conductor, and a Sn-based layer covering the Co-based layer. is there.
上記外部導体は、上記素線を複数本網組したものであってもよい。 The outer conductor may be a network of a plurality of the strands.
上記Coを主成分とする層は、Sn−Co、Sn−Cu−Co、Co−W、Co−W−P、Co−Pdのいずれかの金属間化合物層であってもよい。 The layer containing Co as a main component may be an intermetallic compound layer of any one of Sn—Co, Sn—Cu—Co, Co—W, Co—WP, and Co—Pd.
上記絶縁体は、ポリプロピレン又はポリプロピレンを含有した樹脂からなってもよい。 The insulator may be made of polypropylene or a resin containing polypropylene.
本発明は次の如き優れた効果を発揮する。 The present invention exhibits the following excellent effects.
(1)銅害防止効果に優れる。 (1) Excellent copper damage prevention effect.
以下、本発明の一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
本発明に係る同軸ケーブルは、図2に示されるように、中心導体21と、該中心導体21を覆う絶縁体22と、該絶縁体22を覆う外部導体23と、該外部導体23を覆う外皮部材24とを備えた同軸ケーブル1において、上記中心導体21は、図1に示されるように、Cu導体11と該Cu導体11を覆うCoを主成分とする層12と該Coを主成分とする層12を覆うSnを主成分とする層13とを有する素線14を、図2に示されるように、複数本撚り合わせてなる。また、外部導体23は、同様の素線14を複数本網組してなる。
As shown in FIG. 2, the coaxial cable according to the present invention includes a center conductor 21, an insulator 22 covering the center conductor 21, an outer conductor 23 covering the insulator 22, and a skin covering the outer conductor 23. In the
Coを主成分とする層12は、Cu導体11の表面にCoめっきを施すことにより形成されるCoめっき層である。Snを主成分とする層13は、Coを主成分とする層12の表面にSnめっきを施すことにより形成されるSnめっき層である。各めっき層は、各金属層界面に該界面で接するそれぞれの元素で構成される合金層を含む。また、めっき時に還元剤として金属イオンを含む水溶液を用いた場合、それらの金属元素、金属間化合物を含んでもよい。Snのめっき方法には、電気めっき、無電解めっき、溶融めっきなどの方法がある。 The layer 12 containing Co as a main component is a Co plating layer formed by applying Co plating to the surface of the Cu conductor 11. The layer 13 containing Sn as a main component is a Sn plating layer formed by performing Sn plating on the surface of the layer 12 containing Co as a main component. Each plating layer includes an alloy layer composed of each element in contact with each metal layer interface at the interface. Further, when an aqueous solution containing metal ions is used as a reducing agent during plating, these metal elements and intermetallic compounds may be included. Sn plating methods include electroplating, electroless plating, and hot dipping.
Coを主成分とする層12とは、Sn−Co、Sn−Cu−Co、Co−W、Co−W−P、Co−Pdなどの金属間化合物層のことである。 The layer 12 containing Co as a main component is an intermetallic compound layer such as Sn—Co, Sn—Cu—Co, Co—W, Co—WP, or Co—Pd.
図2に示されるように、図1の素線14を撚り線加工することにより、撚り線導体からなる中心導体21が形成されている。絶縁体22は、ポリプロピレン又はポリプロピレンを含有した樹脂(ポリプロピレン系樹脂)からなる。図1の素線14を網組加工することにより、撚り線網組からなる外部導体23が形成されている。外皮部材24は、PFAからなり、外部絶縁体(シース)とも言う。
As shown in FIG. 2, a center conductor 21 made of a stranded wire conductor is formed by twisting the
ここで、めっき層について説明しておく。 Here, the plating layer will be described.
Cu導体にSnめっきを施した線材の場合、Snに対するCuの溶解量が大きいために容易にSn中にCuが拡散し、Su−Cu合金を形成し、めっき表面にCuが析出してくる。 In the case of a wire material obtained by applying Sn plating to a Cu conductor, Cu is easily diffused into Sn because of the large amount of Cu dissolved in Sn, forming a Su—Cu alloy, and Cu is deposited on the plating surface.
金属原子の拡散現象を抑制するためには、対象となる金属に対し、高融点金属、および窒素化合物を用いる(バリア層の形成)。例えば、W、Ta、TiN、Ta2Nなどの高融点金属、窒素化合物を用いる。 In order to suppress the diffusion phenomenon of metal atoms, a refractory metal and a nitrogen compound are used for the target metal (formation of a barrier layer). For example, a refractory metal such as W, Ta, TiN, Ta 2 N, or a nitrogen compound is used.
Cu導体を覆うバリア層としては、電気伝導率が高い必要がある。しかし、多くの窒素化合物は、電気伝導率が低い。 The barrier layer covering the Cu conductor needs to have high electrical conductivity. However, many nitrogen compounds have low electrical conductivity.
また、窒素化合物は、反応性スパッタ法などに代表される真空技術を用いた形成方法で形成されるため、製造コストが高いと共に、その工程にリール・トゥ・リールなどの電線製造技術との親和性がない(なじまない)。 In addition, since nitrogen compounds are formed by a forming method using a vacuum technique typified by a reactive sputtering method, the manufacturing cost is high and the process is compatible with wire manufacturing technology such as reel-to-reel. There is no sex.
電気めっき、無電解めっき、溶融めっきなどのめっき法は、めっき液が入っているめっき浴槽中に電線であるCu導体を通過させることでCu導体の表面に所望のめっき層を形成することができ、リール・トゥ・リールなどの電線製造技術との親和性が高い(電線製造ライン中にめっき工程を入れることができる)。 With plating methods such as electroplating, electroless plating, and hot dipping, a desired plating layer can be formed on the surface of the Cu conductor by passing the Cu conductor, which is an electric wire, through a plating bath containing a plating solution. High affinity with wire manufacturing technology such as reel-to-reel (plating process can be put in the wire manufacturing line).
Coは、無電解めっきによりめっき層を形成することが可能である。Coの無電解めっきは、Coイオンを含む水溶液に次亜リン酸塩を還元剤として用いる。Cu導体表面では、一時的に次亜リン酸塩を利用しためっき反応が発生しにくい。Cu導体表面にCoを析出するために、Pdイオンを含んだ水溶液を触媒として用いる。これにより、Cu導体表面に選択的にCoを析出することができる。 Co can form a plating layer by electroless plating. In electroless plating of Co, hypophosphite is used as a reducing agent in an aqueous solution containing Co ions. On the surface of the Cu conductor, a plating reaction that temporarily uses hypophosphite hardly occurs. In order to deposit Co on the surface of the Cu conductor, an aqueous solution containing Pd ions is used as a catalyst. Thereby, Co can be selectively deposited on the surface of the Cu conductor.
このような無電解めっきによりCoめっき層をCu導体表面に形成することが可能である。Coめっき層は、電気伝導率が高いので、Cu導体を覆うバリア層として好ましい。また、Coめっきの工程は、電線製造技術との親和性が高い。 It is possible to form a Co plating layer on the surface of the Cu conductor by such electroless plating. Since the Co plating layer has high electrical conductivity, it is preferable as a barrier layer covering the Cu conductor. Further, the Co plating process has a high affinity with the electric wire manufacturing technology.
本発明にあっては、中心導体21は素線14を複数本撚り合わせてなる。その素線14は、Cu導体11をCoを主成分とする層(Coめっき層)12で覆い、そのCoめっき層12をSnを主成分とする層(Snめっき層)13で覆うため、Coめっき層12がバリア層となり、Cu導体11からCuがSnめっき層13に拡散することがなく、Snめっき層13の表面にCuが析出しない。よって、中心導体21に接する絶縁体22への銅害を効果的に防止することができる。
In the present invention, the center conductor 21 is formed by twisting a plurality of
また、本発明によれば、外部導体23は素線14を複数本網組したものである。よって、外部導体23に接する絶縁体22への銅害を効果的に防止することができる。
Further, according to the present invention, the outer conductor 23 is formed by assembling a plurality of
このように、本発明によれば、素線14のめっき構造をCu導体11、Coめっき層12、Snめっき層13としたので、Cu導体11から外部へ拡散する銅原子を抑制することができ、その結果、絶縁体22への銅害を効果的に防止することができる。
Thus, according to the present invention, since the plating structure of the
また、従来は銅害防止対策として絶縁体に銅害防止剤を添加する必要があったが、本発明によれば、絶縁体に銅害防止剤を添加する必要がなくなり、ケーブル使用用途に応じて、ケーブルの可塑性、可とう性、屈曲性等の諸特性に応じた絶縁体を選択することが可能となる。 Conventionally, it was necessary to add a copper damage inhibitor to the insulator as a measure for preventing copper damage. However, according to the present invention, it is not necessary to add a copper damage inhibitor to the insulator, and depending on the usage of the cable. Thus, it is possible to select an insulator according to various characteristics such as plasticity, flexibility, and flexibility of the cable.
実施例として、図2と同じ構造及び組成の同軸ケーブル1を製造した。中心導体21は、φ0.064mm単線(素線14)を7本撚ったものである。その中心導体21の周囲に0.06mmの肉厚で絶縁体22を形成した。中心導体21と絶縁体22とをコアと呼ぶ。コアの外径がφ0.184mmである。このコアの外周にφ0.04mm単線(素線14)を網組して外部導体23を形成した。その外部導体23の周囲に肉厚0.04mmのPFAからなる外皮部材24を形成した。この同軸ケーブル1の外径はφ0.344mmである。
As an example, a
素線14は、図1と同じ構造及び組成であり、Coめっき層12の厚さを約300nm、Snめっき層13の厚さを約700nmとした。
The
比較例として、図2と同じ構造で、素線の組成が異なる同軸ケーブルを製造した。中心導体21は、φ0.064mm単線を7本撚ったものである。その中心導体21の周囲に0.06mmの肉厚で絶縁体22を形成した。コアの外径がφ0.184mmである。このコアの外周にφ0.04mm単線を網組して外部導体23を形成した。その外部導体23の周囲に肉厚0.04mmのPFAからなる外皮部材24を形成した。この同軸ケーブルの外径はφ0.344mmである。 As a comparative example, a coaxial cable having the same structure as that shown in FIG. The center conductor 21 is formed by twisting seven single wires having a diameter of 0.064 mm. An insulator 22 having a thickness of 0.06 mm was formed around the center conductor 21. The outer diameter of the core is φ0.184 mm. An outer conductor 23 was formed by braiding a 0.04 mm single wire on the outer periphery of the core. A skin member 24 made of PFA having a thickness of 0.04 mm was formed around the outer conductor 23. The outer diameter of this coaxial cable is φ0.344 mm.
素線は、図1と異なり、Cu導体の外側にCoめっき層がなく、Snめっき層のみを厚さ約700nm形成したものである。 Unlike FIG. 1, the element wire has no Co plating layer on the outside of the Cu conductor, and only the Sn plating layer is formed with a thickness of about 700 nm.
これら実施例と比較例の同軸ケーブルを約200℃の雰囲気下に放置し、絶縁体22に亀裂が発生するまでの時間を測定すると共に、中心導体21外部導体23間の絶縁抵抗を測定した。実施例、比較例とも20本ずつ試験し、評価を行った。 The coaxial cables of these examples and comparative examples were left in an atmosphere of about 200 ° C., the time until the insulator 22 cracked was measured, and the insulation resistance between the center conductor 21 and the outer conductor 23 was measured. In each of the examples and comparative examples, 20 pieces were tested and evaluated.
実施例の同軸ケーブルでは、約48時間経過後に半数の10本において絶縁体22に亀裂が入り、13本において中心導体21と外部導体23との間の短絡が確認された。比較例の同軸ケーブルでは、約15時間経過後に半数の10本において絶縁体22に亀裂が入り、11本において中心導体21と外部導体23との間の短絡が確認された。 In the coaxial cable of the example, after about 48 hours, half of the ten insulators were cracked in the insulator 22, and 13 were confirmed to be short-circuited between the center conductor 21 and the outer conductor 23. In the coaxial cable of the comparative example, the insulator 22 was cracked in 10 of the half after about 15 hours, and a short circuit between the central conductor 21 and the external conductor 23 was confirmed in 11 of the coaxial cables.
この試験評価から、実施例の同軸ケーブルは、銅害防止効果が高いので、高温環境下でも長期にわたり良好なケーブル特性を維持できることが分かる。 From this test evaluation, it can be seen that the coaxial cable of the example has a high effect of preventing copper damage, so that good cable characteristics can be maintained for a long time even in a high temperature environment.
1 同軸ケーブル
11 Cu導体
12 Coを主成分とする層(Coめっき層)
13 Snを主成分とする層(Snめっき層)
14 素線
21 中心導体
22 絶縁体
23 外部導体
24 外皮部材
1 Coaxial cable 11 Cu conductor 12 Co-based layer (Co plating layer)
13 Sn-based layer (Sn plating layer)
14 Wire 21 Central conductor 22 Insulator 23 External conductor 24 Skin member
Claims (4)
上記中心導体は、Cu導体と該Cu導体を覆うCoを主成分とする層と該Coを主成分とする層を覆うSnを主成分とする層とを有する素線を複数本撚り合わせてなることを特徴とする同軸ケーブル。 In a coaxial cable comprising a center conductor, an insulator covering the center conductor, an outer conductor covering the insulator, and a skin member covering the outer conductor,
The central conductor is formed by twisting a plurality of wires each having a Cu conductor, a Co-based layer covering the Cu conductor, and a Sn-based layer covering the Co-based layer. Coaxial cable characterized by that.
Priority Applications (1)
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JP2007130966A JP2008287998A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Coaxial cable |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007130966A JP2008287998A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Coaxial cable |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008287998A true JP2008287998A (en) | 2008-11-27 |
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Family Applications (1)
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JP2007130966A Pending JP2008287998A (en) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | Coaxial cable |
Country Status (1)
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2007
- 2007-05-16 JP JP2007130966A patent/JP2008287998A/en active Pending
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