JP2008283191A - シリコンナノワイヤーを利用した発光ダイオード及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板と、半導体基板の上面で互いに対向して配置された第1及び第2半導体突出部と、第1半導体突出部と第2半導体突出部との間に懸架された半導体ナノワイヤーと、第1及び第2半導体突出部の上面にそれぞれ形成された第1及び第2電極と、を備えることを特徴とする発光ダイオードである。
【選択図】図1
Description
11 半導体基板
12 第1半導体突出部
13 第2半導体突出部
14 半導体ナノワイヤー
15 第1電極
16 第2電極
Claims (15)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の上面で互いに対向して配置された第1及び第2半導体突出部と、
前記第1半導体突出部と前記第2半導体突出部との間に懸架された半導体ナノワイヤーと、
前記第1及び第2半導体突出部の上面にそれぞれ形成された第1及び第2電極と、を備えることを特徴とする発光ダイオード。 - 前記第1半導体突出部と前記第1半導体突出部から延伸した前記半導体ナノワイヤーの一部とがPタイプにドーピングされており、前記第2半導体突出部と前記第2半導体突出部から延伸した前記半導体ナノワイヤーの残りの一部とがNタイプにドーピングされていることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
- 前記第1半導体突出部と前記第2半導体突出部との間に複数の半導体ナノワイヤーが配列されていることを特徴とする請求項2に記載の発光ダイオード。
- 前記半導体ナノワイヤーのそれぞれの直径が同じであることを特徴とする請求項3に記載の発光ダイオード。
- 前記半導体ナノワイヤーのそれぞれの直径が異なることを特徴とする請求項3に記載の発光ダイオード。
- 前記半導体基板と、前記第1及び第2半導体突出部と、前記半導体ナノワイヤーとの半導体は、シリコン、ゲルマニウム、III−V族化合物半導体またはII−VI族化合物半導体のうちいずれか一つであることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
- 前記半導体ナノワイヤーの直径は、10nmより小さいことを特徴とする請求項6に記載の発光ダイオード。
- 前記半導体ナノワイヤーの直径は、5nmより小さいことを特徴とする請求項7に記載の発光ダイオード。
- 半導体基板上に犠牲層、半導体層及び第1マスク層を順次に形成し、前記第1マスク層の両側エッジを第1方向にエッチングして除去する工程と、
前記半導体基板、前記犠牲層及び前記半導体層の側面と前記半導体層の上面とを覆うように酸化物層を形成する工程と、
前記酸化物層上に第2マスク層を形成し、前記第2マスク層の中心を前記第1方向に直角である第2方向にエッチングして除去する工程と、
前記犠牲層の上面が表れるまで、前記第2マスク層と前記酸化物層との間の前記第1マスク層及び前記半導体層をエッチングして、前記半導体基板の上面の両側に第1及び第2半導体突出部を形成する工程と、
前記第2マスク層間の前記酸化物層を除去する工程と、
前記第2マスク層間の前記犠牲層を除去すると共に、前記第1半導体突出部と前記第2半導体突出部との間の前記半導体層をエッチングして半導体ナノワイヤーを形成する工程と、
残っている前記第1及び第2マスク層、前記酸化物層を除去する工程と、
前記第1及び第2半導体突出部上にそれぞれ第1及び第2電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする発光ダイオードの製造方法。 - 前記第1半導体突出部と前記第1半導体突出部から延伸する前記半導体ナノワイヤーの一部とをPタイプにドーピングし、前記第2半導体突出部と前記第2半導体突出部から延伸する前記半導体ナノワイヤーの残りの一部とをNタイプにドーピングする工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記ドーピングする工程は、
前記第1及び第2半導体突出部と前記半導体ナノワイヤーとを全体的にNタイプにドーピングする工程と、
前記第2半導体突出部と前記第2半導体突出部から延伸する前記半導体ナノワイヤーの一部とをレジストで覆う工程と、
前記第1半導体突出部と前記第1半導体突出部から延伸する前記半導体ナノワイヤーの一部とをPタイプにドーピングする工程と、
前記レジストを除去する工程と、を含むことを特徴とする請求項10に記載の発光ダイオードの製造方法。 - 前記第1マスク層を形成する前に、前記半導体層の一部をPタイプにドーピングし、前記半導体層の残りの一部をNタイプにドーピングすることを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記半導体基板及び前記半導体層の半導体は、シリコン、ゲルマニウム、III−V族化合物半導体またはII−VI族化合物半導体のうちいずれか一つであることを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記半導体ナノワイヤーの直径は、10nmより小さいことを特徴とする請求項13に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記半導体ナノワイヤーの直径は、5nmより小さいことを特徴とする請求項14に記載の発光ダイオードの製造方法。
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