JP2008252093A - リソグラフィスキャナのための瞳の残留非対称補償器 - Google Patents

Abstract

【課題】 スキャンと一体化した瞳非対称を低減するためのシステムおよび方法を提供することである。
【解決手段】 均一性補正システムは、リソグラフィシステムの非スキャン方向に変化するスキャンと一体化した非対称の照射瞳フィルを補正するためのアクチュエータとして使用することができる。非対称の不透明要素の挿入を最小化するのでなく、照射ビームへ不透明要素を挿入して、照射ビーム中に追加の瞳非対称を導入する。瞳非対称を補償するステップが、実質的に元の瞳非対称を無効にする。瞳非対称を導入するために、第１不透明要素は、第２対向する不透明要素と並行して照射ビーム中へ、または照射ビーム外へ移動することができる。均一性と瞳非対称の両方を繰り返しフィードバックすると、両方が実質的に同時に最適化されることが確かなものになる。
【選択図】 図２

Description

[0001] 本発明は、リソグラフィスキャナに関し、具体的にはリソグラフィスキャナの照射ビームの瞳非対称の補正に関する。

[0002] 従来のリソグラフィスキャナは、とりわけ、受け取られたレーザビームから生成される照射の均一な輝度分布をもたらす照射システムを含む。その結果の、スキャンと一体化した照射ビームのプロファイルは、できるだけ均一で、いかなる均一性の誤差もできるだけ小さく保たれることが望ましい。これは、照射の均一性が、全露光フィールドにわたって均一なライン幅をもたらすためのリソグラフィスキャナの能力に影響を及ぼすからである。照射の均一性の誤差は、リソグラフィシステムによって製造されたデバイスの品質にかなり影響することがある。

[0003] 普及している従来のリソグラフィシステムの一例にステップアンドスキャンシステム（スキャナと呼ばれることがある）がある。ステップアンドスキャンシステムは、１つの露光フィールドよりも狭い照射スロットを生成する。次いで、システムは、スロットによってレチクルおよびウェーハを同期スキャンし、ウェーハ上の各フィールドを露光する。このプロセスが繰り返される。システムの動作の性質のために、スキャン方向の放射エネルギーがまとまり、その結果、基体上の感光性被覆上のドーズ量が不均一になるおそれがある。ドーズ量における不均一性は、プリント誤差およびデバイス性能の低下をもたらす。

[0004] いくつかのリソグラフィシステムは、均一性補正システムを使用して、スキャンと一体化した輝度プロファイルを均一にする。これら均一性補正システムのうちのいくつかは、照射エッジビーム中に、減衰要素（ａｔｔｅｎｕａｔｉｎｇ ｅｌｅｍｅｎｔ）または不透明要素（ｏｐａｑｕｅ ｅｌｅｍｅｎｔ）（本明細書では総称して減衰要素と呼ぶ）を、焦点面またはその近くで瞳と焦点面の間に配置して挿入することにより、この効果を実現する。焦点面の近くで減衰要素を非対称に挿入する（対向する減衰要素を不均等な距離で挿入する）と、照射瞳を非対称的にぼかし、かつ照射瞳の周囲をぼかす。非スキャン方向に沿って非対称の挿入を変化させると、瞳の非対称性に変化をもたらす。

[0005] 現今のリソグラフィスキャナは、均一性補正減衰要素のための正確な位置を求めるために、一般に輝度測定および高度なアルゴリズムを使用する。減衰要素は、照射の均一性、スキャンと一体化した全体としての輝度、および対称な挿入（均一性補正システムによって引き起こされた瞳非対称性を最小化するための試みにおいて）に配慮して位置決めする。一般に、リソグラフィスキャナは、照射瞳のまわりの光分布を測定することができる一体化された光メトロロジ要素を含み、これから瞳非対称性を算定することができる。オーバレイ誤差がクリティカルディメンション（ＣＤ）の不均一性をもたらすことがあり、製造された半導体デバイスにおける不十分な性能や低い歩留まりを招くので、将来のスキャナは、非常に厳しいオーバレイ仕様の必要性が生じる二重露光技術向けに使用されるかもしれない。瞳非対称は焦点結合の像変換をもたらすことがあり、これが一般的な焦点誤差と相まって実現不可能な厳しいオーバレイ仕様を新たに作るおそれがある。

[0006] リソグラフィスキャナは、非対称照射瞳、および非スキャン方向に変化するスキャンと一体化した瞳非対称を有する照射システムを使用することが多い。均一性補正システム（均一性を平らにするために挿入された減衰要素）を普通に使用すると、非スキャン方向に変化する、スキャンと一体化したさらなる瞳のゼロでない非対称をもたらす。均一性補正システムが照射ビームに対して調整不良であると、減衰要素を非対称に挿入しがちになる。

[0007] 減衰要素を位置決めする既存のアルゴリズムは、輝度測定だけを考慮してピューピルグラム（ｐｕｐｉｌｇｒａｍ）に配慮しないので、このアルゴリズムは、照射ビームに固有の照射瞳フィル（ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ ｐｕｐｉｌ ｆｉｌｌ）が対称であると仮定せざるをえない。この均一性補正システムは、瞳非対称補正のためのアクチュエータではなく、単に瞳非対称の原因である。

[0008] 上記の瞳非対称の原因は、いずれも実現不可能な厳しいオーバレイ仕様を作るおそれがある。スキャンと一体化した瞳非対称を低減するためのシステムおよび方法が必要とされる。

[0009] 本発明の一実施形態による均一性補正システムは、非スキャン方向に変化するスキャンと一体化した瞳非対称を補正するためのアクチュエータとして使用することができる。非対称の減衰要素の挿入を最小限にするのではなく、ピューピルグラムは、各位置で（非スキャン方向に沿って）、スキャンと一体化した瞳非対称を最小限にする正確な非対称の減衰要素挿入を求めるために使用される。ピューピルグラムは、較正プロセスの間に均一性補正システムの減衰要素の正確な位置を求めるために利用される。アルゴリズムは、スキャンと一体化した照射の均一性を最適化し、かつスキャンと一体化した瞳非対称を最小化するために対向する減衰要素を移動するように利用される、要素位置のオフセットを算定するために利用される。瞳非対称を動かすために、１つの減衰要素をビーム中へ移動し、それぞれの対向する減衰要素をビーム外へ移動するように要素位置のオフセットが使用される。したがって、減衰要素を対称に移動させた従来のシステムと異なり、本発明の一実施形態による均一性補正システムは、減衰要素を非対称に移動する。均一性と瞳非対称の両方を繰り返しフィードバックすると、両方が実質的に同時に最適化されることが確かなものになる。

[0010] 本発明のさらなる実施形態、特徴および利点、ならびに本発明の様々な実施形態の構造および動作が、添付図面を参照しながら以下で詳細に説明される。

[0011] 本明細書に組み込まれて本明細書の一部を形成する添付図面は、本発明を示し、さらに、記述が加わって本発明の原理を説明し、かつ当業者が本発明を作り使用することを可能にする働きをする。

[0021] 本発明が添付図面を参照しながら説明される。ある要素が初めて出現する図面では、一般に対応する参照番号の最上位桁によって示される。

[0022] 特定の構成および配置が論じられるが、これは単に説明の目的のためであることを理解されたい。当業者なら、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、他の構成および配置を使用することができることを理解するであろう。当業者には、様々な他の用途でも本発明を用いることができることが明らかであろう。

[0023] 本明細書において、「一実施形態」、「実施形態」、「例示の実施形態」などへの言及は、説明された実施形態が、特定の特徴、構造、または特性を含むことができるが、いずれの実施形態も必ずその特定の特徴、構造、または特性を含むとは限らないことを示すことに留意されたい。さらに、そのような語句は、必ずしも同一の実施形態を参照するとは限らない。その上、一実施形態に関連して特定の特徴、構造または特性が説明されたとき、他の実施形態に関連してそのような特徴、構造または特性を達成することは、明示的に説明されたか否かにかかわらず、当業者の理解の範囲内にあるであろう。

[0024] 図１は、照射光学システム１０２、対比デバイス１０４（例えばレチクル）、投影光学システム１０６および結像面１０８を有する一般的なリソグラフィシステム１００を示す。理想的には、照射光学システム１０２は、結像面１０８で均一になる光線１０９を生成する。その上、照射光学システム１０２によって生成されたビーム１０９は、理想的には所定の２次元の範囲の角度θ（ｘ）およびθ（ｙ）で結像面１０８に入射する。照射瞳の角度範囲のまわりのエネルギー分布は、瞳フィル（ｐｕｐｉｌ ｆｉｌｌ）と呼ばれる。

[0025] 図２は、本発明の一実施形態による例示のリソグラフィシステム２００を示す。一実施形態では、リソグラフィシステム２００は、レチクルまたはマスクを使用するシステムである。代替実施形態では、システム２００はマスクがないリソグラフィシステムである。

[0026] リソグラフィシステム２００は、光の経路に沿って、照射光学システム２０２、均一性補正システム２０４、対比デバイス（本明細書ではパターニングデバイスとも呼ばれる）２０６、投影光学システム２０８および結像面２１０を含む。一例では、均一性補正システム２０４は、システム２００に関連した照射フィールドの特定区間内の照射レベルを制御する。参照により全体が本明細書に援用される２００５年１２月７日出願の「均一性補正のためのシステムおよび方法（“Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ”）」というタイトルの米国特許出願第１１／２９５，５１７号には、例示の均一性システムが説明されている。

[0027] 照射光学システム２０２は、照射ビーム２１２を出力する。均一性補正システム２０４は、照射光学システム２０２と対比デバイス２０６の間で焦点はずれの位置に配置される。したがって、均一性補正システム２０４は、対比デバイス２０６で均一性に影響を及ぼす。一例では、均一性補正システム２０４は、対比デバイス２０６に最も近く（例えば約５ｍｍから３０ｍｍ以内に）配置される。別の例では、均一性補正システム２０４は、照射光学システム２０２と中間の焦点面（図示せず）の間に配置される。

[0028] 図３は、例示の均一性補正システム２０４の上面図である。均一性補正システム２０４は、減衰要素３０６ａの最上部バンク３０２および減衰要素３０６ｂの最下部バンク３０４を含む。減衰要素３０６は金属または照射ビーム（図示せず）で使用される特定の波長で光を減衰する（例えば部分的にまたは完全に阻止する）他の材料で作ることができる。最上部バンク３０２の個々の減衰要素３０６ａおよび最下部バンク３０４の個々の減衰要素３０６ｂは、スキャン方向ｙに沿って開口３１０へ別々に延ばすことができる。最上部バンク３０２および最下部バンク３０４の減衰要素３０６は、照射軸ｚに沿って進む照射ビームと相互作用する。減衰要素３０６が照射ビーム中へ移動されると、ビームの特性が変化する。

[0029] 開口３１０内のスキャン方向ｙに沿った瞳は、瞳３１２として示される。理想的なシステムでは、図３に示されるように、瞳はスキャン方向ｙに沿ったすべての点で中央に置かれて整合される。様々な瞳フィルサイズを支持するために、均一性補正システム２０４の位置は、対比デバイス２０６に対して可変でよい。すなわち、均一性補正システム２０４は、対比デバイス２０６に対して、光路に沿って移動可能でよい。均一性補正システム２０４は、照射ビーム２１２に１つまたは複数の減衰要素３０６を挿入することにより照射ビームの均一性を補正する。均一性補正システム２０４によって一旦均一性が補正されれば、照射ビーム２１２は、対比デバイス２０６を照射する。

[0030] 第１実施形態では、対比デバイス２０６はレチクルである。マスクレスの第２実施形態では、対比デバイス２０６は、個々にプログラマブルな要素のプログラマブル配列である。プログラマブル配列は、空間光変調器（「ＳＬＭ」）またはマイクロミラーアレイなど他の何らかの適当な反射デバイスを含んでよい。あるいは、ＳＬＭは、液晶ディスプレイ（「ＬＣＤ」）またはグレーティングライトバルブ（「ＧＬＶ」）などの透過型デバイスである。

[0031] 投影光学システム２０８は、結像面２１０上に対比デバイス２０６の像を投影するように構成される。投影光学システム２１２の詳細は、使用されるリソグラフィシステムのタイプ次第である。投影光学系の特定の機能上の詳細は当業者に周知であり、本明細書でさらに説明する必要はない。

[0032] 基体（図示せず）は結像面２１０に配置されてよい。基体は、例えばウェーハ、１枚のガラス、フラットパネルディスプレイなどでよく、制限はない。あるいは、基体が存在しないとき、均一性検出システム（図示せず）は結像面２１０に配置されてよい。均一性検出システムは、結像面２１０で均一性プロファイルを検出および／または測定し、補正モジュール２１４へプロファイルを伝達する。その上、瞳検出システム（図示せず）は、結像面２１０（または別の焦点面／別の焦点面の近傍）に配置されてよい。瞳検出システムは、瞳フィルを検出および／または測定するピューピルグラムを捕える。次いで、ピューピルグラムは、瞳検出システムによって補正モジュール２１４に伝達される。

[0033] 像変換を求めるステップにおける瞳非対称の役割が図４に示される。光円錐４１０は、広範囲の角度θから結像面１０８で焦点へ集中する。この角度範囲での光エネルギーの分布は、瞳対称／瞳非対称である。基体またはディテクタ（図示せず）がシステム１００の完全な像焦点に配置されているなら、瞳非対称が像位置に影響を与えることはない。しかし、基体の焦点がわずかでもずれる（例えばｚ方向にオフセットする）と、瞳非対称が像を変換してオーバレイ誤差が生じることになる。

[0034] 図５は、照射ビーム２１２が瞳非対称を有するリソグラフィシステム２００を示す。すなわち、対比デバイス２０６（ならびに結像面２１０）に入射する瞳フィルの重心が移動される。この瞳の移動は図６にさらに示され、位置の関数として非スキャン方向に変化する。

[0035] 図６は、減衰要素３０６による均一性または瞳非対称の補正に先立つ、均一性補正システム２０４の減衰要素３０６に関連した非対称照射ビームにおける瞳フィルの上面図である。減衰要素３０６を照射ビーム２１２へ挿入するとき、この挿入が照射ビーム２１２の不平衡をもたらし、それに応じて瞳フィルの重心が移動することがある。様々なスキャン位置に対する瞳フィルの移動が瞳フィルプロファイル６０２として示されている。

[0036] 従来のシステムは、減衰要素３０６の非対称の挿入を最小限にしようとするものであった。しかし、本発明の一実施形態によれば、図５および図６に示されるように、リソグラフィシステム２００に固有の既存の瞳非対称があるとき、照射ビーム２１２へ第２瞳非対称を挿入するために、均一性補正システム２０４の減衰要素３０６を使用することができる。このように、第１瞳非対称は、結像面２１０で第２瞳非対称によって実質的に無効にされる。均一性補正システム２０４が、非スキャン方向に沿って複数減衰要素３０６を含むので、非スキャン方向の位置のある範囲にわたって瞳非対称を別々に補正することができる。図７および図８に関して、この補正をさらに説明する。

[0037] 図２に戻って、補正モジュール２１４は、均一性補正システム２０４により、照射ビーム２１２のピューピルグラムを基に、所望の均一性仕様および瞳非対称仕様の両方を満たすように達成される非対称の調整を求めるように構成される。そのような調整は、照射ビーム２１２中へ、または照射ビーム外へ、個々の減衰要素（この図に示されていない。図６および／または図８を参照されたい）を移動することを含んでよい。論じられたように、従来のシステムは、減衰要素を対称的に移動させることにより減衰要素の非対称の挿入を最小限にしようとするものであった。しかし、本発明の実施形態では、減衰要素の非対称の挿入は最小限にしない。そうではなくて、結像面２１０で測定された均一性プロファイルは、非スキャン方向に沿った各位置で、スキャンと一体化した瞳非対称を最小限にする正確な減衰要素挿入の非対称性を求めるために使用することができる。均一性補正システム２０４の減衰要素の動きを制御するために、補正モジュール２１４は、求められた調整を均一性補正システム２０４に伝達する。

[0038] 様々な瞳非対称を補正するために必要な調整は、リソグラフィシステム２００の較正中に補正モジュール２１４によって求めることができる。一実施形態では、リソグラフィシステム２００の較正中に、補正モジュール２１４は、均一性補正システム２０４に対して、所与の減衰要素が照射ビーム２１２へ挿入されるとき、対向する減衰要素が（ときには近隣の減衰要素も）照射ビーム２１２から出るように、所与の減衰要素を対向する減衰要素と並行して移動するように指示する。したがって、較正時に、既存の瞳非対称は、ある諸減衰要素の並行した挿入／取り出しによって除去される。あるいは、補正モジュール２１４によって求められた均一性および瞳非対称の両方を補正するための減衰要素の位置調整は、減衰要素の挿入が、瞳非対称および／またはクロススキャンの座標の範囲にわたる均一性に対して対応付けられている、以前の較正を基準に算定することができる。

[0039] 均一性補正システム２０４は、補正モジュール２１４から調整制御信号を受け取り、調整制御信号によって特定された減衰要素を、非対称的に、照射ビーム２０９中へ、また照射ビーム２０９外へ、スキャン方向に移動することにより、不均一なスリット輝度プロファイルを補正する。図８に関して説明されるように、所与の減衰要素およびその対向する要素は、非スキャン方向における瞳非対称がすべての位置で最小限になるように同期して非スキャン方向に移動される。

[0040] 図７は、照射ビーム２１２に固有の瞳非対称を補正するために均一性補正システム２０４が使用されるリソグラフィシステム２００を示す。均一性補正システム２０４は、瞳フィルの重心を移動して所定の位置に戻すために照射ビーム２１２を減衰させる。

[0041] 図８は、本発明の一実施形態によって非対称に挿入された減衰要素３０６の上面図である。非対称の瞳フィル６０２を補正するために、減衰要素３０６が非対称的に挿入されている。図８に示されるように、所与の減衰要素８０２が照射ビームへ挿入されるとき、所与の減衰要素８０２と反対に配向された対応する減衰要素８０４が照射ビームから引き出される。同様に、別の減衰要素８０６が照射ビームへ挿入されるとき、対応する減衰要素８０８が照射ビームから引き出される。このようにして、照射ビームの均一性が維持され、同時に瞳非対称が補正される。

[0042] 図９は、本発明の一実施形態によって設計されたシステム（例えば前述のシステムの１つ）を使用してリソグラフィシステムの照射ビーム中の瞳非対称を補正するための例示の方法９００のフロー図である。本説明は瞳非対称の不均一性を補正することについて論じるが、当業者なら、均一性補正システムが、軸比および輝度など結像性能に影響を与える他の照射効果を変化させるために使用されてよいことを理解するであろう。

[0043] ステップ９０２では、補正されていない照射ビームの均一性プロファイルが測定される。そのような測定は、例えば結像面にディテクタを置くことによって行うことができる。ステップ９０４では、補正されていない均一性プロファイルの瞳非対称が、結像フィールド（または対象フィールド）内の複数位置で測定される。

[0044] ステップ９０６では、照射ビームの瞳非対称を考慮に入れた均一性調整が求められる。そのような調整は、例えば図２の補正モジュール２１４によって求めることができる。補正モジュール２１４は、例えば以前に較正された補正要素の挿入対瞳非対称および／またはクロススキャンの座標の範囲にわたる均一性のマップを基準に調整を求めることができる。あるいは、補正モジュール２１４は、リソグラフィシステムの較正中に、瞳非対称に対する効果を求めるために照射ビームへ各減衰要素を挿入することを必要とする所定の一連の反復ステップを基に調整を求めることができる。

[0045] ステップ９０８では、ステップ９０６で求められた調整が、例えば制御信号によって均一性補正システム２０４に伝達される。ステップ９１０では、均一性補正システム２０４は、ステップ９０８で伝達された調整に従って、照射ビームの中へ、または照射ビームの外へ、１つまたは複数の減衰要素を移動する。瞳非対称を補正するために、本発明の一実施形態では、均一性補正システム２０４は１つの減衰要素をビーム中へ移動し、同時にその対向する減衰要素をビームの外へ移動する。そのような対向する諸減衰要素の移動によって、均一性が平らになり、スキャンと一体化した瞳非対称が最小限になる。

[0046] 任意選択のステップ９１２では、補正された均一性プロファイルの瞳非対称とともに補正された均一性プロファイルが測定される。測定は、例えば結像面に置かれたディテクタによって行うことができる。

[0047] 任意選択のステップ９１４では、測定された瞳非対称および均一性が、定義された仕様を満たすかどうかの判定がなされる。測定された瞳非対称および均一性が、その定義された仕様を満たすなら、方法９００はステップ９１６に進む。測定された瞳非対称および／または均一性が、その定義された仕様を満たさないなら、方法９００はステップ９０６に戻る。

[0048] 方法９００はステップ９１６で終了する。

[0049] 上記に本発明の様々な実施形態が説明されてきたが、それらが例としてのみ示され、限定するためではないことを理解されたい。本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、形状および詳細の様々な変更を行うことができることが、当業者には明らかであろう。したがって、本発明の広さおよび範囲は、前述の例示の実施形態のうちいかなるものによっても限定されるべきではなく、以下の特許請求の範囲およびそれらの等価物によってのみ定義されるべきである。

[0050] さらに、前述の要約の目的は、米国特許商標局、および、特許または法律の用語または表現に精通していない、一般には国民、特に科学者、技術者および従業者が、出願の技術的な開示の性質および本質を、大まかな検討から迅速に判断することを可能にすることである。要約は、決して本発明の範囲を限定するようには意図されていない。

[0012]一般的なリソグラフィスキャナの光路を示す図である。 [0013]本発明の一実施形態による、瞳非対称に適応された均一性補正システムを有する例示のリソグラフィスキャナを示す図である。 [0014]本発明の一実施形態による、瞳非対称補正システムの上面図である。 [0015]リソグラフィスキャナの像に対する瞳非対称の影響を示す図である。 [0016]照射ビーム中に固有の瞳非対称を有する例示のリソグラフィスキャナを示す図である。 [0017]例示の瞳非対称補正システムを伴う、固有の瞳非対称を有する照射ビームの瞳フィルプロファイルの上面図である。 [0018]本発明の一実施形態による瞳非対称補正システムを使用して、例示のリソグラフィスキャナがその固有の瞳非対称を補正された様子を示す図である。 [0019]本発明の一実施形態による、照射ビーム中の瞳非対称を補正するように構成された例示の瞳非対称補正システムの上面図である。 [0020]本発明の一実施形態による、リソグラフィシステムにおける瞳非対称を補正する方法のフロー図である。

Claims (16)

1. 照射ビームの均一性プロファイルにおける第１瞳非対称を測定すること、
   複数の減衰要素の第１減衰要素を前記複数の減衰要素の他の減衰要素とは別々に前記照射ビーム中へ移動させて、前記第１減衰要素を前記照射ビームの焦点はずれの位置に配置すること、および
   前記複数の減衰要素の第２減衰要素を前記照射ビーム外へ移動させ、前記第２減衰要素を前記第１減衰要素に対向する焦点はずれの位置に配置すること
   を含み、
   前記第１減衰要素および前記第２減衰要素が、第２瞳非対称を導入することにより前記第１瞳非対称を補償する位置に移動される、リソグラフィシステムの照射ビームの瞳非対称を補正する方法。
2. 前記第１瞳非対称を補償する前記第１減衰要素および第２減衰要素の位置を算定することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記算定するステップが、
   前記複数の減衰要素に各不透明要素を挿入することによってもたらされた瞳非対称のマップを参照すること、
   前記第１瞳非対称を実質的に無効にする前記第２瞳非対称を特定すること、および
   前記第２瞳非対称をもたらす前記第１減衰要素および第２減衰要素の位置を求めることを含む、請求項２に記載の方法。
4. 前記算定するステップが、
   前記複数の減衰要素の所与の減衰要素を前記照射ビームへ挿入すること、
   前記所与の減衰要素の前記挿入によってもたらされた瞳非対称を測定すること、
   前記複数の減衰要素のすべての減衰要素が挿入されてそれぞれの瞳非対称が測定されるまで前記挿入および測定するステップを繰り返すこと、
   前記第１瞳非対称を実質的に無効にする、測定された瞳非対称を特定すること、および
   前記第１瞳非対称を実質的に無効にする前記測定された瞳非対称をもたらす、前記第１減衰要素および第２減衰要素の前記位置を求めることを含む、請求項２に記載の方法。
5. 前記照射ビームの不均一性を測定すること、および
   前記複数の減衰要素の少なくとも１つの減衰要素を移動させて前記不均一性を最小限にすることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
6. 前記第１減衰要素および第２減衰要素が前記第１瞳非対称を補償する位置に配置される間に前記照射ビームで基体を露光することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
7. 照射ビームの経路に対して垂直に配置され、各要素が独立して移動可能である第１組の補正要素と、
   前記補正要素の第１組からの照射ビームの経路に対して交差して配置され、各要素が独立して移動可能である第２組の補正要素と
   を備え、
   前記第１組の補正要素のうち所与の補正要素に対向する１つの補正要素が前記照射ビームの前記経路中へ移動されるときに、前記第２組の補正要素の所与の補正要素が前記照射ビームの前記経路の外へ移動するように構成される、リソグラフィデバイスの照射ビームの瞳非対称を低減するためのシステム。
8. 前記所与の補正要素の位置および前記所与の補正要素に対向する前記補正要素の位置を算定するためのディテクタをさらに備える、請求項７に記載のシステム。
9. 前記ディテクタが前記照射ビームの瞳非対称を特定するピューピルグラムを備える、請求項８に記載システム。
10. 各補正要素が、対向して配置された前記補正要素の１つと並行して移動される、請求項７に記載のシステム。
11. 前記照射ビームの前記経路に沿って、
    照射光学システム、
    パターニングデバイス、
    投影光学システム、および
    結像面をさらに備え、
    前記第１組および第２組の補正要素が前記照射ビーム中の焦点はずれの位置に配置される、請求項７に記載のシステム。
12. 前記第１組および第２組の補正要素が対比デバイスの約５ｍｍから３０ｍｍ以内に配置される、請求項１１に記載のシステム。
13. 前記第１組および第２組の補正要素が前記照射光学システムと焦点面の間の任意の位置に配置される、請求項１１に記載のシステム。
14. 前記第１組および第２組の補正要素が前記照射光学システムと中間の焦点面の間の任意の位置に配置される、請求項１１に記載のシステム。
15. 前記第１組および第２組の補正要素が前記照射ビームの前記経路に沿って移動可能である、請求項７に記載のシステム。
16. 前記第１組および第２組の補正要素が均一性および瞳非対称の両方を補正する、請求項７に記載のシステム。

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