JP2008252031A - Light-emitting device and printing apparatus - Google Patents

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吉幸 松岡
Isao Ebisawa
功 海老澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device and a printing apparatus which is capable of efficiently cooling its light-emitting element. <P>SOLUTION: A light-emitting device and a printing apparatus equipped with the same, comprises a light-emitting board 21 on which a plurality of light-emitting elements 20 are arranged in an array form; pixel electrodes 23 for lighting the plurality of light-emitting elements 20; a heat-conducting layer 30 for conducting the heat generated by the light-emitting elements 20; a gate insulating layer 45 for insulating the heat-conducting layer 30 and the pixel electrodes 23; a heat-conducting insulating layer 85, disposed in contact with the heat conducting layer 30; and a heat sink 81. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光素子を光源として利用した発光装置及び印刷装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device and a printing device that use a light emitting element as a light source.

従来より、発光素子を光源として利用した発光装置が知られており、例えば印刷装置における露光デバイス等に用いられている。ところで、発光素子を光源として利用した発光装置においては、発光素子の冷却する試みがなされている。例えば特許文献1には、発光素子をペルチェ素子によって効率的に冷却する為の技術が開示されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, light emitting devices that use light emitting elements as light sources are known, and are used, for example, as exposure devices in printing apparatuses. By the way, in a light emitting device using a light emitting element as a light source, an attempt is made to cool the light emitting element. For example, Patent Document 1 discloses a technique for efficiently cooling a light emitting element using a Peltier element.

すなわち、特許文献1に開示された技術によれば、発光素子で発生した熱をペルチェ素子である吸熱側電極によって直接的に吸熱する。また、ペルチェ素子における発熱側電極を基板に接触させることで、発熱側電極に移動してきた熱が、前記基板を介してスムーズに放熱される。
特開2006−147826号公報
That is, according to the technique disclosed in Patent Document 1, the heat generated in the light emitting element is directly absorbed by the heat absorption side electrode that is a Peltier element. Further, by bringing the heat generation side electrode in the Peltier element into contact with the substrate, the heat transferred to the heat generation side electrode is smoothly radiated through the substrate.
JP 2006-147826 A

ところで、印刷装置等に利用される発光素子においては、高輝度で発光することに起因する発熱が、当該発光素子の劣化を招いている。従って、高輝度で発光することに起因する発熱を、効率よく当該発光素子の外部へ放熱する手段が求められている。   By the way, in a light emitting element used for a printing apparatus or the like, heat generated due to light emission with high luminance causes deterioration of the light emitting element. Therefore, a means for efficiently radiating heat generated due to light emission with high luminance to the outside of the light emitting element is required.

本発明は、前記の事情に鑑みてなされたもので、効率よく発光素子を冷却する発光装置及び印刷装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a light emitting device and a printing device that efficiently cool a light emitting element.

前記の目的を達成するために、本発明の第1の態様による発光装置は、
複数の発光素子がアレイ状に構築された基板と、
電極を備えたスイッチング素子と、
前記電極とともに一括して形成された熱伝導層と、
を具備することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a light emitting device according to the first aspect of the present invention comprises:
A substrate in which a plurality of light emitting elements are constructed in an array;
A switching element comprising an electrode;
A heat conductive layer formed together with the electrodes;
It is characterized by comprising.

前記熱伝導層は、金属から成る金属層を含むことが好ましく、前記熱伝導層は、前記発光素子の下方に設けられていることが熱の授受の観点から好ましい。また、前記熱伝導層に接触して設けられたヒートシンクを、さらに備えることによって、より発光素子を放熱しやすくなる。   The heat conductive layer preferably includes a metal layer made of metal, and the heat conductive layer is preferably provided below the light emitting element from the viewpoint of heat transfer. Further, by further providing a heat sink provided in contact with the heat conductive layer, it becomes easier to radiate the light emitting element.

本発明における印刷装置は、請求項1に記載の発光装置を具備することを特徴とする。   A printing apparatus according to the present invention includes the light emitting device according to claim 1.

本発明によれば、効率よく発光素子を冷却する発光装置及び印刷装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the light-emitting device and printing apparatus which cool a light emitting element efficiently can be provided.

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態に係る発光装置及び印刷装置を説明する。   Hereinafter, a light-emitting device and a printing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本一実施形態に係る発光装置を用いた印刷装置の構成の一例を示す図である。まず、図1に示すように、本一実施形態に係る発光装置を用いた印刷装置は、感光体ドラム1と、ケース部2Aとロッドレンズ部2Bとから成る発光装置2と、帯電ローラ3と、イレーサ光源感光体4と、クリーニング部材5と、現像ローラ6aを含む現像器6と、転写ローラ8と、定着ローラ9と、搬送ベルト11とを具備している。なお、参照符号7が付されているのは印刷用紙である。ロッドレンズ部2Bは、セルフォック(登録商標)レンズを一列又は複数の列に配列させたレンズアレイであって、入射された光を等倍正立像として感光体ドラム1に結像するレンズ部である。   FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a printing apparatus using a light emitting device according to the present embodiment. First, as shown in FIG. 1, a printing apparatus using the light emitting device according to the present embodiment includes a photosensitive drum 1, a light emitting device 2 including a case portion 2A and a rod lens portion 2B, a charging roller 3, and the like. , An eraser light source photoreceptor 4, a cleaning member 5, a developing device 6 including a developing roller 6 a, a transfer roller 8, a fixing roller 9, and a conveyor belt 11. Note that reference numeral 7 denotes printing paper. The rod lens unit 2B is a lens array in which SELFOC (registered trademark) lenses are arranged in one or a plurality of columns, and is a lens unit that forms incident light on the photosensitive drum 1 as an equal-magnification erect image. .

前記感光体ドラム1は負帯電型OPC(Organic Photo Conductor)感光体(有機感光体)である。このことに鑑みて、前記帯電ローラ3は負帯電器とされている。また、前記現像器6は負帯電トナーで現像を行う現像器である。また、前記発光装置2のケース部2Aは、詳しくは後述するが、複数の有機EL素子(発光素子)20がアレイ状に配列されて構成されている。   The photoreceptor drum 1 is a negatively charged OPC (Organic Photo Conductor) photoreceptor (organic photoreceptor). In view of this, the charging roller 3 is a negative charger. The developing device 6 is a developing device for developing with negatively charged toner. The case portion 2A of the light emitting device 2 includes a plurality of organic EL elements (light emitting elements) 20 arranged in an array, as will be described in detail later.

ところで、図1に示す印刷装置では、おおまかには以下のような工程により印刷が行われる。まず、前記帯電ローラ3が回転する感光体ドラム1の表面に接触することによって、感光体ドラム1の接触した表面が一様に負電位となるように帯電される。続いて、前記発光装置2の発光素子20から発した光が、ロッドレンズ部2Bを介して前記感光体ドラム1の所定位置に対して入射され、前記感光体ドラム1上には静電潜像が形成される。その後、前記現像器6によって、前記静電潜像にトナーが付着される。そして、前記転写ローラ8によって、前記静電潜像に付着しているトナーが前記印刷用紙7に転写される。以下、このような印刷工程を詳細に説明する。   By the way, in the printing apparatus shown in FIG. 1, printing is roughly performed by the following processes. First, when the charging roller 3 comes into contact with the surface of the rotating photosensitive drum 1, the contacted surface of the photosensitive drum 1 is uniformly charged with a negative potential. Subsequently, light emitted from the light emitting element 20 of the light emitting device 2 is incident on a predetermined position of the photosensitive drum 1 via the rod lens portion 2B, and an electrostatic latent image is formed on the photosensitive drum 1. Is formed. Thereafter, toner is attached to the electrostatic latent image by the developing device 6. Then, the toner attached to the electrostatic latent image is transferred to the printing paper 7 by the transfer roller 8. Hereinafter, such a printing process will be described in detail.

まず、前記感光体ドラム1は、帯電用電源(不図示)から供給される負電位であって且つ後述する現像器6で出力される現像電圧に比較的近似している或いは等しい電位の初期化帯電電圧を、前記帯電ローラ3によって印加される。これにより、前記感光体ドラム1における周表面は一様に負帯電され、電位的に初期化される(初期化帯電状態となる)。   First, the photosensitive drum 1 is initialized to a negative potential supplied from a charging power source (not shown) and relatively close to or equal to a developing voltage output from a developing device 6 described later. A charging voltage is applied by the charging roller 3. As a result, the peripheral surface of the photosensitive drum 1 is uniformly negatively charged and is initialized in terms of potential (becomes an initialized charging state).

そして、周表面が初期化帯電状態となった前記感光体ドラム1には、前記発光装置2によって、印字情報に従った光書き込み(露光)が行われる。これにより、露光が行われないために初期化帯電状態のままの前記初期化帯電部と、前記露光によって初期化帯電部より相対的に高い負電位である−50(V)程度の露光帯電電圧が印加されて帯電された露光帯電部とから成る静電潜像が、前記感光体ドラム1の周表面上に形成される。   Then, the light emitting device 2 performs optical writing (exposure) according to the printing information on the photosensitive drum 1 whose peripheral surface has been initialized. As a result, the initialization charging portion that remains in the initialization charged state because no exposure is performed, and the exposure charging voltage of about −50 (V) that is a negative potential relatively higher than the initialization charging portion by the exposure. Is formed on the peripheral surface of the photosensitive drum 1.

ここで、前記現像器6内に収容されている弱いマイナス電位に帯電したトナーが、前記現像ローラ6aによって、前記現像ローラ6aと前記感光体ドラム1との対向部に回転搬送される。このとき、前記現像ローラ6aは、不図示の電源から、露光帯電部よりもさらに低い−250(V)程度の現像電圧を印加される。したがって、前記感光体ドラム1における前記静電潜像の−50(V)程度の露光帯電部では、現像電圧よりも200(V)程度高電位となり、初期化帯電部では、現像電圧との差が200(V)よりも絶対値が十分小さい電圧になる。   Here, the toner charged in the developing unit 6 and charged to a weak negative potential is rotated and conveyed by the developing roller 6a to the opposing portion between the developing roller 6a and the photosensitive drum 1. At this time, the developing roller 6a is applied with a developing voltage of about −250 (V), which is lower than the exposure charging unit, from a power source (not shown). Therefore, the exposure charging portion of about −50 (V) of the electrostatic latent image on the photosensitive drum 1 is about 200 (V) higher than the development voltage, and the initialization charging portion is different from the development voltage. Is a voltage whose absolute value is sufficiently smaller than 200 (V).

これらの静電潜像における現像電圧との電位差の違いにより、前記現像ローラ6aに対して相対的にプラス極性の電位となった前記静電潜像における露光帯電部には、マイナス極性に帯電しているトナーが付着してトナー像が形成されるのに対し、初期化帯電部には、トナーを静電的に吸引する程の電界が生じないのでトナーが付着しない。   Due to the difference in potential difference from the developing voltage in these electrostatic latent images, the exposure charging portion in the electrostatic latent image having a positive polarity relative to the developing roller 6a is charged with a negative polarity. On the other hand, the toner image does not adhere to the initialization charging portion because an electric field that attracts the toner electrostatically does not occur in the initialization charging portion.

このトナー像は、前記感光体ドラム1の回転によって、前記感光体ドラム1と前記転写ローラ8とが対向している転写部へと搬送される。 The toner image is conveyed to a transfer portion where the photosensitive drum 1 and the transfer roller 8 face each other by the rotation of the photosensitive drum 1.

なお、上述したようにして形成されたトナー像におけるトナー付着量(現像された画像の濃度)は、前記発光装置2による前記感光体ドラム1への露光量に応じて生じる前記感光体ドラム1の周表面上における電位の減衰量によって決定される。   The toner adhesion amount (developed image density) in the toner image formed as described above is generated according to the exposure amount of the photosensitive drum 1 by the light emitting device 2. It is determined by the amount of potential attenuation on the circumferential surface.

ところで、上述したように前記トナー像が前記転写部へ搬送されると、前記搬送ベルト11によって、前記印刷用紙7が前記転写部へ搬送される。そして、前記転写部においては、前記トナー像が前記印刷用紙7上に、前記転写ローラ8によって転写される。このようにして前記トナー像を転写された前記印刷用紙7は更に下流に搬送され、前記トナー像が前記定着ローラ9によって熱定着された後、前記印刷用紙7は当該印刷装置の外部へ排出される。   By the way, as described above, when the toner image is transported to the transfer unit, the printing paper 7 is transported to the transfer unit by the transport belt 11. In the transfer unit, the toner image is transferred onto the printing paper 7 by the transfer roller 8. The printing paper 7 to which the toner image is transferred in this way is further conveyed downstream, and after the toner image is thermally fixed by the fixing roller 9, the printing paper 7 is discharged to the outside of the printing apparatus. The

なお、前記発光装置2における前記ケース部2A内には、図1に示す前記感光体ドラム1への露光走査の主走査方向(前記感光体ドラム1の幅方向、つまり前記印刷用紙7の幅方向)に、多数の発光素子20から成る有機ELアレイが一列に配設されている。この有機ELアレイは、当該印刷装置が、例えばA4サイズの印刷用紙を縦方向に用いてその幅一杯に印字密度1200dpi(ドット/インチ)で印字可能な印刷装置の場合であれば、およそ14000個の発光素子を備えている。これらの個々の発光素子には、ホスト機器(不図示)から出力される印字情報に従った信号が印加される。すなわち、個々の発光素子は、選択的に発光制御される。   In the case portion 2A of the light emitting device 2, the main scanning direction of exposure scanning onto the photosensitive drum 1 shown in FIG. 1 (the width direction of the photosensitive drum 1, that is, the width direction of the printing paper 7). ), An organic EL array comprising a large number of light emitting elements 20 is arranged in a line. If the printing apparatus is a printing apparatus capable of printing at a printing density of 1200 dpi (dots / inch) to the full width using, for example, A4 size printing paper in the vertical direction, this organic EL array is approximately 14,000 pieces. The light emitting element is provided. A signal in accordance with print information output from a host device (not shown) is applied to these individual light emitting elements. That is, the light emission of each light emitting element is selectively controlled.

以下、発光素子である有機EL素子の基本的な構造について、図2を参照して説明する。   Hereinafter, the basic structure of the organic EL element which is a light emitting element will be described with reference to FIG.

発光素子20は、図2に示すようにガラス等の発光素子基板21上に形成され、ガラス等の対向基板28によって挟まれている。発光素子基板21及び対向基板28は、周縁をシール材83で封止されている。具体的には、発光素子20として、発光素子基板21上に、画素電極23、正孔輸送層(HTL)24、発光層25、電子輸送層(ETL)26、及び対向電極27がこの順にて形成され、対向基板28によって封止されている。発光素子20は、対向電極の上面を封止膜34によってさらに封止されていることが好ましい。   The light emitting element 20 is formed on a light emitting element substrate 21 such as glass as shown in FIG. 2, and is sandwiched between opposing substrates 28 such as glass. The periphery of the light emitting element substrate 21 and the counter substrate 28 is sealed with a sealing material 83. Specifically, as the light-emitting element 20, a pixel electrode 23, a hole transport layer (HTL) 24, a light-emitting layer 25, an electron transport layer (ETL) 26, and a counter electrode 27 are arranged in this order on a light-emitting element substrate 21. Formed and sealed with a counter substrate 28. In the light emitting element 20, it is preferable that the upper surface of the counter electrode is further sealed with a sealing film 34.

ここで発光素子20は、発光層25の光29を対向基板28側から出射するトップエミッション構造とする。   Here, the light emitting element 20 has a top emission structure in which the light 29 of the light emitting layer 25 is emitted from the counter substrate 28 side.

また画素電極23は、アノードとして機能し、下層側に位置するアルミニウム合金等の反射金属層と、上層側に位置する、錫ドープ酸化インジウム(Indium Thin Oxide;ITO)や亜鉛ドープ酸化インジウム等の透明電極材料を有する透明導電性酸化金属層と、を有する積層反射構造であってもよく、アルミニウム合金等の反射金属層の単層であってもよい。   The pixel electrode 23 functions as an anode, and is a transparent metal layer such as an aluminum alloy located on the lower layer side, and a transparent material such as tin-doped indium oxide (ITO) or zinc-doped indium oxide located on the upper layer side. A laminated reflective structure having a transparent conductive metal oxide layer having an electrode material may be used, or a single layer of a reflective metal layer such as an aluminum alloy may be used.

対向電極27は、カソードとして機能し、下層側に位置するバリウム、マグネシウム、リチウム等の仕事関数の低い1〜20nm程度の膜厚の電子注入層と、上層側に位置する上記と同様の透明な導電性酸化金属層と、の積層透明構造であってもよい。   The counter electrode 27 functions as a cathode and has an electron injection layer having a low work function of about 1 to 20 nm, such as barium, magnesium, lithium, etc., located on the lower layer side, and a transparent layer similar to the above located on the upper layer side. A laminated transparent structure with a conductive metal oxide layer may be used.

なお、画素電極23をカソードとし、対向電極27をアノードとする場合、画素電極23に接している担体輸送層は電子輸送性の層となり、対向電極27に接している担体輸送層は正孔輸送性の層となる。   When the pixel electrode 23 is a cathode and the counter electrode 27 is an anode, the carrier transport layer in contact with the pixel electrode 23 is an electron transport layer, and the carrier transport layer in contact with the counter electrode 27 is hole transport. Become a sex layer.

発光層25は、HTL24から輸送された正孔とETL26から輸送された電子を再結合して発光する有機材料を含んでいる。そして、発光素子20の担体輸送層は、HTL24、発光層25、ETL26の三層構造に限らず、例えば、正孔輸送層及び電子輸送性発光層の二層構造でもよく、正孔輸送兼電子輸送性発光層のみでもよく、正孔輸送性発光層及び電子輸送層でもよく、また、間にその他の担体輸送層が介在する等、特に制限はない。HTL24、発光層25、ETL26のような担体輸送層をまとめてEL層20aと呼称する。   The light emitting layer 25 includes an organic material that emits light by recombining holes transported from the HTL 24 and electrons transported from the ETL 26. The carrier transport layer of the light-emitting element 20 is not limited to the three-layer structure of the HTL 24, the light-emitting layer 25, and the ETL 26. There may be only a transporting light emitting layer, a hole transporting light emitting layer and an electron transporting layer, and there is no particular limitation such as interposing another carrier transporting layer. Carrier transport layers such as the HTL 24, the light emitting layer 25, and the ETL 26 are collectively referred to as an EL layer 20a.

そして、前記画素電極23と前記対向電極27との間に、所定の電圧が掛けられることで、前記画素電極23から正孔が、前記対向電極27から電子が、前記発光層25に注入され、前記発光層25にて正孔と電子とが再結合して発光する。この発光によって生じた光29は、前記対向電極27及び前記対向基板28を透過して完全拡散放射する。   Then, by applying a predetermined voltage between the pixel electrode 23 and the counter electrode 27, holes are injected from the pixel electrode 23, and electrons are injected from the counter electrode 27 into the light emitting layer 25. In the light emitting layer 25, holes and electrons recombine to emit light. The light 29 generated by the light emission passes through the counter electrode 27 and the counter substrate 28 and is completely diffused and emitted.

なお、本一実施形態においては、発光素子20はトップエミッション構造に設定されている。   In the present embodiment, the light emitting element 20 is set to a top emission structure.

ところで、発光素子20が透明基板(前記発光素子基板21と前記対向基板28と)間に挟まれている場合、当然ながら基板内部での発光となるので、光取り出し効率を高める為に以下のような工夫が為されている。   By the way, when the light emitting element 20 is sandwiched between the transparent substrates (the light emitting element substrate 21 and the counter substrate 28), the light is naturally emitted inside the substrate. Has been devised.

例えば、前記発光素子基板21上に形成された複数の発光素子毎にファイバ機能を持たせることで、前記発光素子基板21の表面に擬似発光体を形成する。このようにファイバ機能を持たせる為には、例えばフォトニック結晶ファイバと称される公知の技術を用いる。具体的には、クラッドに相当する空気孔が発光素子基板21の厚さ方向に延在するフォトニック結晶ファイバが、発光素子基板21内に設けられている或いは発光素子基板21と一体的に形成されている。このような、光の指向性を制御するファイバを設けたので、発光素子20の光が発光素子基板21から効率的に出射することができる。   For example, by providing a fiber function for each of the plurality of light emitting elements formed on the light emitting element substrate 21, a pseudo light emitter is formed on the surface of the light emitting element substrate 21. In order to provide such a fiber function, a known technique called, for example, a photonic crystal fiber is used. Specifically, a photonic crystal fiber in which an air hole corresponding to a clad extends in the thickness direction of the light emitting element substrate 21 is provided in the light emitting element substrate 21 or formed integrally with the light emitting element substrate 21. Has been. Since such a fiber for controlling the directivity of light is provided, the light of the light emitting element 20 can be efficiently emitted from the light emitting element substrate 21.

ところで、本一実施形態においては、前記ケース部2Aと前記ロッドレンズ部2Bとを有する発光装置2によって、該発光装置2からミリオーダーの距離を隔てた前記感光体ドラム1上に小径の光スポットを形成し、各ドットを解像する光ビームを作る。以下、前記発光装置2について、図3及び図4を参照して説明する。   By the way, in this embodiment, a light spot having a small diameter is formed on the photosensitive drum 1 at a distance of millimeter order from the light emitting device 2 by the light emitting device 2 having the case portion 2A and the rod lens portion 2B. To create a light beam that resolves each dot. Hereinafter, the light emitting device 2 will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

図3は、前記発光装置2の外観を示す図である。前記ケース部2A内には、前記感光体ドラム1への露光走査の主走査方向(前記感光体ドラム1の幅方向つまり前記印刷用紙7の幅方向)に、複数の発光素子20(不図示)が一列に配設された有機ELアレイを形成している。   FIG. 3 is a view showing an appearance of the light emitting device 2. In the case portion 2A, a plurality of light emitting elements 20 (not shown) are arranged in the main scanning direction of exposure scanning on the photosensitive drum 1 (the width direction of the photosensitive drum 1, that is, the width direction of the printing paper 7). Form an organic EL array arranged in a row.

なお、前記発光素子20は、図3に示すように制御ケーブル31A,31Bによって、前記ホスト機器(不図示)と電気的に接続されている。ここで、前記制御ケーブル31A,31Bと、前記発光素子20との接続方法に関しては、発光素子20を駆動させることができる接続方法であればどのような接続方法であってもよい。   The light emitting element 20 is electrically connected to the host device (not shown) by control cables 31A and 31B as shown in FIG. Here, the connection method between the control cables 31A and 31B and the light emitting element 20 may be any connection method as long as the light emitting element 20 can be driven.

以下、図4及び図5を参照して、本一実施形態に係る発光装置2の構造について説明する。   Hereinafter, the structure of the light emitting device 2 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

図4は、前記発光装置2の側面断面図である。図5は、前記ロッドレンズ部2B側から見た場合の前記発光素子基板21を示す図である。なお、上述したように本一実施形態において発光素子20は、トップエミッション構造に設定されている。   FIG. 4 is a side sectional view of the light emitting device 2. FIG. 5 is a view showing the light emitting element substrate 21 when viewed from the rod lens portion 2B side. As described above, in the present embodiment, the light emitting element 20 is set to a top emission structure.

まず、前記発光素子基板21は、例えば接着樹脂(不図示)によって前面ケース51に接着されている。さらに、前記前面ケース51には、図4に示すように背面ケース53が嵌め込まれている。   First, the light emitting element substrate 21 is bonded to the front case 51 by, for example, an adhesive resin (not shown). Further, a rear case 53 is fitted into the front case 51 as shown in FIG.

ここで、前記発光素子基板21の前記前面ケース51に対向する面における、前記発光素子20が設けられていない箇所には、図4及び図5に示すように前記発光素子20を駆動する為のドライバーIC55が、前記画素電極23及び前記対向電極27に電気的に接続されて設けられている。より詳しくは、前記ドライバーIC55は、図5に示すように前記発光素子20における前記対向基板28の周囲に複数個(本一実施形態においては4個)設けられている。   Here, on the surface of the light emitting element substrate 21 facing the front case 51 where the light emitting element 20 is not provided, the light emitting element 20 is driven as shown in FIGS. A driver IC 55 is provided so as to be electrically connected to the pixel electrode 23 and the counter electrode 27. More specifically, as shown in FIG. 5, a plurality of driver ICs 55 (four in the present embodiment) are provided around the counter substrate 28 in the light emitting element 20.

そして、前記ドライバーIC55にはヘッドコントローラ(不図示)から同期信号、クロック信号、及び画像信号等が入力され、前記ドライバーIC55は、それらの各信号に基づいて前記画素電極23及び前記対向電極27の制御を行っている。   The driver IC 55 receives a synchronization signal, a clock signal, an image signal, and the like from a head controller (not shown), and the driver IC 55 determines the pixel electrode 23 and the counter electrode 27 based on these signals. Control is in progress.

なお、本一実施形態においては、印刷装置の構造上、前記発光装置2は一個のデバイス装置となる為、組み立て時や交換時には接続配線に力が加わる可能性がある。したがって、前記発光素子基板21と前記ヘッドコントローラ(不図示)との接続配線のケーブルに関しては、前記ケース部2Aの内部と外部とで別ケーブルとして、前記ケース部2Aの外部のケーブルをより強度が高く作業性の優れたケーブルとする為に、図4に示すように前記背面ケース53に中継コネクタ59,59が設けられている。中継コネクタ59,59は、それぞれ配線57,57に接続され、配線57,57は、一方がアノード電圧を印加するために、後述する信号線107、走査線109及び電源線111に供給される信号群のための配線であり、他方が、カソード電圧を印加するために熱伝導性導電層27Aに供給される信号の為の配線である。   In the present embodiment, due to the structure of the printing apparatus, the light emitting device 2 is a single device, and thus there is a possibility that a force is applied to the connection wiring during assembly or replacement. Therefore, regarding the cable of the connection wiring between the light emitting element substrate 21 and the head controller (not shown), the cable outside the case portion 2A has a higher strength as a separate cable inside and outside the case portion 2A. In order to obtain a cable having high workability and excellent workability, relay connectors 59 and 59 are provided on the rear case 53 as shown in FIG. The relay connectors 59 and 59 are connected to wirings 57 and 57, respectively, and one of the wirings 57 and 57 is a signal supplied to a signal line 107, a scanning line 109, and a power supply line 111 to be described later in order to apply an anode voltage. The wiring for the group, and the other wiring for the signal supplied to the heat conductive conductive layer 27A for applying the cathode voltage.

また、前記前面ケース51には凸部71が設けられ、凸部71には、開口部が形成され、各発光素子20と対向するようにロッドレンズ部2Bがこの開口部に嵌め込まれ、開口部とロッドレンズ部2Bとの隙間は接着剤で封止されている。このため、前面ケース51は可視光に対して不透明であっても、前記発光素子20が発する光が凸部71内に形成された密閉空間73を介して前記ロッドレンズ部2Bに入射することになる。   Further, the front case 51 is provided with a convex portion 71, an opening is formed in the convex portion 71, and the rod lens portion 2 </ b> B is fitted into the opening so as to face each light emitting element 20. And the rod lens portion 2B are sealed with an adhesive. For this reason, even if the front case 51 is opaque to visible light, the light emitted from the light emitting element 20 is incident on the rod lens portion 2B through the sealed space 73 formed in the convex portion 71. Become.

なお、図4に示す発光素子20は、対向基板28がロッドレンズ部2Bに対向するように面しているトップエミッション構造である。   The light emitting element 20 shown in FIG. 4 has a top emission structure in which the counter substrate 28 faces the rod lens portion 2B.

ところで、一般に有機EL素子のような発光素子における発光輝度は、当該発光素子の発光層を挟んだ電極間電流の大きさに比例して増加する。したがって、発光素子を光源として利用した発光装置を具備する印刷装置で高速印刷を行う場合、当該高速印刷に要する光量を得る為には相当量のエネルギーを要する。   By the way, in general, light emission luminance in a light emitting element such as an organic EL element increases in proportion to the magnitude of an interelectrode current across the light emitting layer of the light emitting element. Therefore, when high-speed printing is performed by a printing apparatus including a light-emitting device that uses a light-emitting element as a light source, a considerable amount of energy is required to obtain the amount of light required for the high-speed printing.

そして、このような場合、過電流によるジュール熱が発生する。したがって、結果として発光素子の温度は上昇し、それに伴って発光効率が低下し且つ寿命も短くなる。   In such a case, Joule heat is generated due to overcurrent. Therefore, as a result, the temperature of the light emitting element rises, and accordingly, the light emission efficiency is lowered and the lifetime is shortened.

このような事情に鑑みて、本一実施形態に係る発光装置では、図4及び図5に示すように前記発光素子20に隣接してヒートシンク81を含む冷却構造が設けられている。ヒートシンク81は、銅やアルミ等の熱伝導率の高い放熱板のみでもよく、また放熱板の上に、放熱板と同じ材料によって放熱する表面積を大きくするための放熱用のフィンが設けられていてもよい。なお、この本一実施形態に係る発光装置の主な特徴の一つである冷却構造については、図7乃至図10を参照して後に詳述する。   In view of such circumstances, the light emitting device according to the present embodiment is provided with a cooling structure including a heat sink 81 adjacent to the light emitting element 20 as shown in FIGS. 4 and 5. The heat sink 81 may be only a heat radiating plate such as copper or aluminum having a high thermal conductivity, and a heat radiating fin for increasing the surface area to be radiated by the same material as the heat radiating plate is provided on the heat radiating plate. Also good. The cooling structure, which is one of the main features of the light emitting device according to this embodiment, will be described in detail later with reference to FIGS.

ここで、図6(A),(B)及び図10を参照して、本一実施形態において採用しているアクティブマトリクス駆動の一例として、各画素に2つのトランジスタを設けた信号電圧階調制御にて前記発光素子20の発光制御を行う為の駆動回路部の一構成例を説明する。なお、この駆動回路部に関しては本発明の特徴部ではないので簡単に説明する。   Here, referring to FIGS. 6A, 6B, and 10, as an example of active matrix driving employed in the present embodiment, signal voltage gradation control in which two transistors are provided in each pixel. A configuration example of the drive circuit unit for performing light emission control of the light emitting element 20 will be described. Since this drive circuit section is not a feature of the present invention, it will be briefly described.

図6(A)は、本一実施形態において採用しているアクティブマトリクス駆動として、各画素に2つのトランジスタが設けられ、信号電圧階調制御によって前記発光素子20の発光制御を行う為の駆動回路部の構成を示す図であり、図6(B)は、この駆動回路部の回路図である。図7は、本一実施形態に係る発光装置における一つの発光素子20を前記ロッドレンズ部2B側から観た場合の図(上面図)である。図8は、図7に示すA−A’線における断面図である。図9は、図7に示すB−B’線における断面図である。図10は、図7に示すC−C’線における断面図である。   FIG. 6A shows a drive circuit for performing light emission control of the light emitting element 20 by signal voltage gradation control, in which two transistors are provided in each pixel as active matrix driving employed in the present embodiment. FIG. 6B is a circuit diagram of the drive circuit unit. FIG. 7 is a diagram (top view) when one light emitting element 20 in the light emitting device according to the present embodiment is viewed from the rod lens portion 2B side. FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ shown in FIG. 7. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line B-B ′ shown in FIG. 7. 10 is a cross-sectional view taken along line C-C ′ shown in FIG. 7.

駆動回路部40は、有機ELアレイに沿って発光素子基板21上に設けられている。この駆動回路部40は、図6(A)に示すように、選択トランジスタ101、駆動トランジスタ103及びキャパシタ105を備え、有機ELアレイに沿って発光素子基板21上に設けられている。   The drive circuit unit 40 is provided on the light emitting element substrate 21 along the organic EL array. As shown in FIG. 6A, the drive circuit unit 40 includes a selection transistor 101, a drive transistor 103, and a capacitor 105, and is provided on the light emitting element substrate 21 along the organic EL array.

前記選択トランジスタ101及び前記駆動トランジスタ103は、例えば、共にnチャネルアモルファスシリコンTFTのスイッチング素子である。選択トランジスタ101のドレイン電極は信号線107に接続され、選択トランジスタ101のゲート電極は、走査線109に接続されている。一方、駆動トランジスタ103のドレイン電極42は電源線111に接続され、選択トランジスタ101のソース電極と駆動トランジスタ103のゲート電極43とは、コンタクトホール151を介して接続されている。   The selection transistor 101 and the drive transistor 103 are both n-channel amorphous silicon TFT switching elements, for example. The drain electrode of the selection transistor 101 is connected to the signal line 107, and the gate electrode of the selection transistor 101 is connected to the scanning line 109. On the other hand, the drain electrode 42 of the driving transistor 103 is connected to the power supply line 111, and the source electrode of the selection transistor 101 and the gate electrode 43 of the driving transistor 103 are connected via a contact hole 151.

前記選択トランジスタ101は、図8に示すような構造となっている。すなわち、前記選択トランジスタ101は、ソース電極141と、ドレイン電極142と、ゲート電極143と、半導体144と、ゲート絶縁層45と、絶縁層146とを備える。図9に示すように、駆動トランジスタ103は、ソース電極41と、ドレイン電極42と、ゲート電極43と、半導体44と、ゲート絶縁層45と、絶縁層46とを備える。   The selection transistor 101 has a structure as shown in FIG. That is, the selection transistor 101 includes a source electrode 141, a drain electrode 142, a gate electrode 143, a semiconductor 144, a gate insulating layer 45, and an insulating layer 146. As shown in FIG. 9, the drive transistor 103 includes a source electrode 41, a drain electrode 42, a gate electrode 43, a semiconductor 44, a gate insulating layer 45, and an insulating layer 46.

さらに、図10に示すように、駆動回路部40及び発光素子20を覆うように封止膜61が設けられている。   Furthermore, as illustrated in FIG. 10, a sealing film 61 is provided so as to cover the drive circuit unit 40 and the light emitting element 20.

すなわち、駆動回路部40においては、ソース電極41と、ドレイン電極42と、ゲート電極43とから成るTFTトランジスタのON/OFFによって信号を送信して、前記発光素子20を発光させる。つまり、TFTトランジスタのスイッチングによって、前記発光素子20の発光制御を行う。   That is, in the drive circuit unit 40, a signal is transmitted by turning on / off the TFT transistor including the source electrode 41, the drain electrode 42, and the gate electrode 43, thereby causing the light emitting element 20 to emit light. That is, light emission control of the light emitting element 20 is performed by switching of the TFT transistor.

ここで、ITOから成りカソードとして機能する前記対向電極27は接地電位(0(V))に固定され、前記画素電極23は前記TFTトランジスタに電気的に接続される。   Here, the counter electrode 27 made of ITO and functioning as a cathode is fixed to a ground potential (0 (V)), and the pixel electrode 23 is electrically connected to the TFT transistor.

また、図6(A),(B)に示すように、前記対向電極27は、複数の発光素子20に共通した単一のコモン電極である。また、前記画素電極23と電気的に接続されている駆動回路部40は、有機ELアレイに沿って発光素子基板21上に設けられている。   Further, as shown in FIGS. 6A and 6B, the counter electrode 27 is a single common electrode common to the plurality of light emitting elements 20. The drive circuit unit 40 electrically connected to the pixel electrode 23 is provided on the light emitting element substrate 21 along the organic EL array.

ここで、上述したように前記対向電極27は例えば0(V)に固定され、前記画素電極23は駆動トランジスタ103のソース電極41に電気的に接続される。キャパシタ105は、駆動トランジスタ103のゲート電極43−ソース電極41間に設けられている。信号線107、走査線109、電源線111は、制御ケーブル31A,31Bまで引き回され外部回路にそれぞれ接続されている。   Here, as described above, the counter electrode 27 is fixed at, for example, 0 (V), and the pixel electrode 23 is electrically connected to the source electrode 41 of the drive transistor 103. The capacitor 105 is provided between the gate electrode 43 and the source electrode 41 of the driving transistor 103. The signal line 107, the scanning line 109, and the power supply line 111 are routed to the control cables 31A and 31B and connected to external circuits, respectively.

一般に発光素子は駆動の為の電流を要するので、発光画素を選択する信号線107、走査線109の他に、前記駆動トランジスタ103に電流を供給する為の電源線111を要する。   In general, since a light emitting element requires a current for driving, a power line 111 for supplying a current to the driving transistor 103 is required in addition to a signal line 107 and a scanning line 109 for selecting a light emitting pixel.

このような構造にて、前記対向電極27と前記画素電極23との間に挟まれた領域における薄膜層である前記発光素子20が、電圧印加(電流供給)を受けて発光する。   With such a structure, the light emitting element 20 which is a thin film layer in a region sandwiched between the counter electrode 27 and the pixel electrode 23 emits light upon receiving voltage application (current supply).

続いて、本一実施形態に係る発光装置が具備する冷却構造について、図7乃至図10を参照して詳細に説明する。なお、図2を参照して説明した前記発光素子20から成る発光部80、及び図6(A),(B)を参照して説明した駆動回路部40に関しては、上述した通りであるので適宜説明を省略する。   Subsequently, a cooling structure included in the light emitting device according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 7 to 10. Note that the light emitting unit 80 including the light emitting element 20 described with reference to FIG. 2 and the drive circuit unit 40 described with reference to FIGS. Description is omitted.

まず、前記ゲート絶縁層45は、図10に示すように前記駆動回路部40及び前記発光部80における前記発光素子基板21上、及び後述する熱伝導層30上に渡って形成されている。つまり、このゲート絶縁層45の下面には、ゲートメタル層をパターニングして一括して形成されたゲート電極43及び熱伝導層30が設けられている。   First, as shown in FIG. 10, the gate insulating layer 45 is formed over the light emitting element substrate 21 in the drive circuit unit 40 and the light emitting unit 80 and over a heat conductive layer 30 described later. That is, on the lower surface of the gate insulating layer 45, the gate electrode 43 and the heat conductive layer 30 formed together by patterning the gate metal layer are provided.

この熱伝導層30は、前記発光素子20で生じた熱を当該発光装置の外部へ放熱させる為に設けられた熱伝導層である。従って、前記熱伝導層30は、発光素子20の配列方向に沿って且つ各前記EL層20aにおける下面全体に渡って平面視して重なるように配置されるように成膜されている。   The heat conductive layer 30 is a heat conductive layer provided to dissipate heat generated in the light emitting element 20 to the outside of the light emitting device. Therefore, the heat conductive layer 30 is formed so as to be arranged along the arrangement direction of the light emitting elements 20 and over the entire lower surface of each EL layer 20a so as to overlap in plan view.

ここで、ゲート電極43及び前記熱伝導層30を形成するゲートメタル層の材料としては、純粋アルミニウムの熱伝導率が240w/m・kと非常に高い値であることを鑑みて、例えばアルミニウム系合金(AlNdTi)等を挙げることができる。   Here, as a material of the gate electrode 43 and the gate metal layer forming the heat conductive layer 30, in view of the fact that the thermal conductivity of pure aluminum is as high as 240 w / m · k, for example, an aluminum-based material is used. An alloy (AlNdTi) can be used.

このように、前記熱伝導層30を熱伝導性に優れているアルミニウム系合金により形成することで、前記熱伝導層30は効率の良い熱伝導の為の部材として機能する。   Thus, by forming the heat conductive layer 30 with an aluminum-based alloy having excellent heat conductivity, the heat conductive layer 30 functions as a member for efficient heat conduction.

また、前記熱伝導層30は、図10に示すように前記発光素子基板21上において、前記ヒートシンク81の下面の領域にまで渡って形成されている。そして、このヒートシンク81の下面の領域であって、前記熱伝導層30上には、シール材83(ガラス基板である前記発光素子基板21と封止ガラスである対向基板28とを封止するシール材)に隣接して、シール材83の外側周縁の一辺に沿うようにシリコーングリース(熱伝導率4.5w/m・k)等の熱伝導性に優れた材料から成る熱伝導絶縁層85が設けられている。   Further, as shown in FIG. 10, the heat conductive layer 30 is formed on the light emitting element substrate 21 so as to extend to the region of the lower surface of the heat sink 81. A seal material 83 (a seal that seals the light-emitting element substrate 21 that is a glass substrate and the counter substrate 28 that is a sealing glass) is a region on the lower surface of the heat sink 81 and on the heat conductive layer 30. A thermal conductive insulating layer 85 made of a material having excellent thermal conductivity such as silicone grease (thermal conductivity 4.5 w / m · k) along one side of the outer peripheral edge of the sealing material 83. Is provided.

すなわち、図10に示すように前記シール材83により封止された領域の外側の領域においては、前記発光素子基板21上に形成された前記熱伝導層30上には、前記熱伝導絶縁層85を介して前記ヒートシンク81が設けられている。ここで、前記ヒートシンク81は、前記対向基板28の側面39に接着されて設けられている。   That is, as shown in FIG. 10, in the region outside the region sealed by the sealing material 83, the heat conductive insulating layer 85 is formed on the heat conductive layer 30 formed on the light emitting element substrate 21. The heat sink 81 is provided via the. Here, the heat sink 81 is attached to the side surface 39 of the counter substrate 28.

上述した冷却構造により、前記発光素子20において生じた熱は、ゲート絶縁45を介して熱伝導率の高い前記熱伝導層30を伝導し、同様に熱伝導率の高い前記熱伝導絶縁層85を経由して、前記ヒートシンク81によって当該発光装置の外部へ放熱される。熱伝導層30は、走査線109、信号線107、電源線111のような発光素子20を発光させるための信号を出力する配線より幅広で且つ発光素子20と平面視して重なっているので、発光素子20で生じる熱を他の構成部材よりも効率的に伝搬することができる。 Due to the cooling structure described above, heat generated in the light emitting element 20 is conducted through the heat conductive layer 30 having high thermal conductivity through the gate insulating layer 45, and similarly, the heat conductive insulating layer 85 having high thermal conductivity. The heat sink 81 radiates heat to the outside of the light emitting device. Since the heat conductive layer 30 is wider than the wiring for outputting a signal for causing the light emitting element 20 to emit light, such as the scanning line 109, the signal line 107, and the power supply line 111, and overlaps the light emitting element 20 in plan view. The heat generated in the light emitting element 20 can be propagated more efficiently than other components.

なお、熱伝導率を下げるため、伝導熱抵抗Rcondの値を小さな値とする為に、前記熱伝導層30の面積は大きい方が好ましく、また厚みは厚いほうが好ましい。   In order to reduce the thermal conductivity, in order to reduce the value of the conductive thermal resistance Rcond, the area of the heat conductive layer 30 is preferably large and the thickness is preferably thick.

ここで、伝導熱抵抗Rcondの値は、次式により求められる。   Here, the value of the conduction thermal resistance Rcond is obtained by the following equation.

Rcond=L/λ・A …(式1)
なお、Lは伝導経路の長さ、λは熱伝導率、Aは伝熱面積を示している。効率の良い放熱の為には、前記熱量を効率良く当該発光装置の外部へ伝導させなければならない。そのためには、伝導熱抵抗Rcondの値を小さくすることが重要となる。
Rcond = L / λ · A (Formula 1)
L represents the length of the conduction path, λ represents the thermal conductivity, and A represents the heat transfer area. For efficient heat dissipation, the amount of heat must be efficiently conducted to the outside of the light emitting device. For that purpose, it is important to reduce the value of the conduction thermal resistance Rcond.

ところで、本一実施形態においては、アノードとして機能する前記画素電極23は、詳細には図9に示すような二層構造となっている。すなわち、二層構造を採る前記画素電極23のうち上側の層はITOで形成されたITO層23aとなっており、下側の層は光反射性メタルで形成された光反射性メタル層23bとなっている。   Incidentally, in the present embodiment, the pixel electrode 23 functioning as an anode has a two-layer structure as shown in detail in FIG. That is, the upper layer of the pixel electrode 23 having a two-layer structure is an ITO layer 23a formed of ITO, and the lower layer is a light reflective metal layer 23b formed of a light reflective metal. It has become.

このように、前記画素電極23をITO層23aと光反射性メタル層23bとから成る二層構造とし、且つ前記対向電極27をITOにより形成することで、当該発光素子20をトップエミッションの構造としている。   As described above, the pixel electrode 23 has a two-layer structure including the ITO layer 23a and the light-reflecting metal layer 23b, and the counter electrode 27 is formed of ITO, so that the light-emitting element 20 has a top emission structure. Yes.

以下、発光装置に冷却構造を設けることによって生じる効果について説明する。ここでは、有機EL素子を高輝度発光させた場合の発熱に起因する当該有機EL素子の劣化に関して、当該有機EL素子に冷却構造を設けた場合と設けない場合とで実験した結果を、図12に示す実験結果表を参照して説明する。なお、当該実験は、図11に示すテスト用基板を用いて行った。   Hereinafter, effects produced by providing the light emitting device with the cooling structure will be described. Here, regarding the deterioration of the organic EL element caused by the heat generated when the organic EL element emits light with high luminance, the results of an experiment with and without the cooling structure provided in the organic EL element are shown in FIG. This will be described with reference to the experimental result table. Note that this experiment was performed using the test substrate shown in FIG.

ここで、本実験において用いられたテスト用基板は、図8に示すように、厚さ0.7mmのガラス基板201上に、ITOから成り厚さ200Åのアノード203と、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)から成る第1正孔輸送層205と、インターレイヤとしての第2正孔輸送層207と、有機EL発光層209と、Mg,Li,Ba等の低仕事関数金属から成る電子輸送層211と、AL合金から成り厚さ500Åのカソード213とがこの順で積層されている。   Here, as shown in FIG. 8, the test substrate used in this experiment is a glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm, an anode 203 made of ITO and having a thickness of 200 mm, and PEDOT (polyethylenedioxythiophene). ), A second hole transport layer 207 as an interlayer, an organic EL light emitting layer 209, and an electron transport layer 211 made of a low work function metal such as Mg, Li, Ba, etc. A cathode 213 made of an AL alloy and having a thickness of 500 mm is laminated in this order.

そして、前記アノード203、前記第1正孔輸送層205、前記第2正孔輸送層207、前記有機EL発光層209、前記電子輸送層211、及び前記カソード213は、エポキシ層215によって封止されている。   The anode 203, the first hole transport layer 205, the second hole transport layer 207, the organic EL light emitting layer 209, the electron transport layer 211, and the cathode 213 are sealed with an epoxy layer 215. ing.

さらに、前記エポキシ層215上には、厚さ0.7mmの封止ガラス217が積層されており、この封止ガラス217上には、ペルチェ素子219及びヒートシンク221から成る冷却部材223が設けられている。   Further, a sealing glass 217 having a thickness of 0.7 mm is laminated on the epoxy layer 215, and a cooling member 223 including a Peltier element 219 and a heat sink 221 is provided on the sealing glass 217. Yes.

ここで、前記エポキシ層215の厚さは、前記カソード213の上面から、前記封止ガラス217の下面までで0.02mmとなっている。   Here, the thickness of the epoxy layer 215 is 0.02 mm from the upper surface of the cathode 213 to the lower surface of the sealing glass 217.

なお、前記アノード203における上面の寸法は2mm×2mmとしており、この面積が、当該テスト基板における発光面積となる。また、実験の都合上ボトムエミッションの構造としてテスト基板を作製したが、冷却構造の評価においてはトップエミッションの構造の場合と差異は無い。   The dimension of the upper surface of the anode 203 is 2 mm × 2 mm, and this area is the light emission area on the test substrate. In addition, although a test substrate was manufactured as a bottom emission structure for the convenience of experiments, the evaluation of the cooling structure is not different from the case of the top emission structure.

そして、前記ガラス基板201の下面には、当該テスト基板の温度を測定する為の温度センサ225が設けられている。ここで、前記温度センサ225としては、具体的には例えば熱電対を挙げることができる。   A temperature sensor 225 for measuring the temperature of the test substrate is provided on the lower surface of the glass substrate 201. Here, as the temperature sensor 225, specifically, for example, a thermocouple can be cited.

このようなテスト基板を用いて、次のような設定にて実験を行った。すなわち、前記テスト用基板を、その発光輝度が約10,000cd/mとなるような定電圧を有機EL素子に印加し(duty50%)、その発光輝度の値が1/2の値となるまでに要する時間である半減期を測定した。なお、当該実験を行った雰囲気の温度は30℃である。 Using such a test substrate, an experiment was performed with the following settings. That is, a constant voltage is applied to the organic EL element so that the light emission luminance of the test substrate is about 10,000 cd / m 2 (duty 50%), and the value of the light emission luminance becomes a half value. The half-life, which is the time required until, was measured. The temperature of the atmosphere in which the experiment was performed is 30 ° C.

実験結果は、図12に示す結果となった。すなわち、前記ペルチェ素子219及びヒートシンク221から成る冷却部材223の何れも当該テスト基板に設けない場合には、前記テスト基板の温度は約50℃となり、半減期は0.9時間となった。   The experimental results were as shown in FIG. That is, when neither the Peltier element 219 nor the cooling member 223 composed of the heat sink 221 is provided on the test board, the temperature of the test board is about 50 ° C. and the half-life is 0.9 hours.

これに対して、前記ヒートシンク221を前記封止ガラス217上に設けた場合には、前記テスト基板の温度は約35℃となり、半減期は4.5時間となった。つまり、上述したテスト基板単体の場合の半減期を100%とすると、前記ヒートシンク221のみを前記封止ガラス217上に設けた場合には、前期半減期は500%となった。   On the other hand, when the heat sink 221 was provided on the sealing glass 217, the temperature of the test substrate was about 35 ° C. and the half-life was 4.5 hours. That is, assuming that the half life in the case of the above-described test substrate alone is 100%, when only the heat sink 221 is provided on the sealing glass 217, the half life in the previous period was 500%.

さらに、図11に示すように、前記ペルチェ素子219及び前記ヒートシンク221から成る冷却部材223を、前記封止ガラス217上に設けた場合には、前記テスト基板の温度は約25℃となり、半減期は6.0時間となった。つまり、上述したテスト基板単体の場合の半減期を100%とすると、前記ペルチェ素子219及び前記ヒートシンク221から成る冷却部材223を前記封止ガラス217上に設けた場合には、前記半減期は660%となった。   Furthermore, as shown in FIG. 11, when the cooling member 223 including the Peltier element 219 and the heat sink 221 is provided on the sealing glass 217, the temperature of the test substrate is about 25 ° C., and the half-life Became 6.0 hours. That is, assuming that the half life in the case of the test substrate alone is 100%, when the cooling member 223 including the Peltier element 219 and the heat sink 221 is provided on the sealing glass 217, the half life is 660. %.

このような実験結果から分かるように、冷却構造を設けることで有機EL素子が急激に温度上昇することを防止すれば、当該有機EL素子の輝度特性及び寿命特性は、大幅に改善することが判明した。   As can be seen from these experimental results, it has been found that if the organic EL element is prevented from abruptly rising in temperature by providing a cooling structure, the luminance characteristics and lifetime characteristics of the organic EL element are greatly improved. did.

なお、図10に示す冷却構造と図11に示す冷却構造とを比較すれば分かるように、図11を参照して説明した実験に使用した冷却構造は、本一実施形態に係る発光装置が具備する冷却構造とは異なる構造である。しかしながら、図11に示すようにただ単純に前記封止ガラス217上に前記冷却部材223を設けただけの構造であっても、図12に示すような多大な冷却効果を奏することから分かるように、本一実施形態に係る発光装置が具備する上述した冷却構造の奏する効果が非常に大きい(図12の実験結果で示される冷却効果よりも多大な冷却効果を有する)ということは明らかである。   As can be seen by comparing the cooling structure shown in FIG. 10 with the cooling structure shown in FIG. 11, the cooling structure used in the experiment described with reference to FIG. 11 is provided in the light emitting device according to this embodiment. This is a different structure from the cooling structure. However, as shown in FIG. 11, even if the cooling member 223 is simply provided on the sealing glass 217, the cooling effect as shown in FIG. It is clear that the above-described cooling structure provided in the light emitting device according to the present embodiment has a very large effect (having a cooling effect much greater than the cooling effect shown in the experimental results of FIG. 12).

以上説明したように、本一実施形態によれば、効率よく発光素子を冷却する発光装置及び該発光装置を具備する印刷装置を提供することができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a light emitting device that efficiently cools a light emitting element and a printing apparatus including the light emitting device.

具体的には、本一実施形態に係る発光装置及び該発光装置を具備する印刷装置によれば、発光素子で生じた熱の吸熱から放熱までの熱の移動がスムーズに行われ、発光素子で生じた熱の効率的な放熱が実現する。また、図11を参照して説明した簡易な冷却構造であっても、十分な冷却効果を得ることができる。   Specifically, according to the light-emitting device and the printing apparatus including the light-emitting device according to the present embodiment, the heat transfer from heat absorption to heat dissipation generated in the light-emitting element is smoothly performed. Efficient heat dissipation of the generated heat is realized. Further, even with the simple cooling structure described with reference to FIG. 11, a sufficient cooling effect can be obtained.

すなわち、本一実施形態に係る発光装置及び該発光装置を具備する印刷装置によれば、発光素子20の高輝度発光に起因する発熱による熱量を、熱伝導層30及び熱伝導絶縁層85を介してヒートシンク81によって当該発光装置の外部へ効率的に放熱する。   That is, according to the light-emitting device and the printing apparatus including the light-emitting device according to the present embodiment, the amount of heat generated by the light-emitting element 20 due to high-luminance light emission is transmitted via the heat conductive layer 30 and the heat conductive insulating layer 85. The heat sink 81 efficiently dissipates heat to the outside of the light emitting device.

また、上述したように発光素子20における下部領域に渡って熱伝導層30を配置することで、発光素子20の高輝度発光に起因する発熱による熱的影響を、各発光素子間相互で平均化出来るため、印字率による濃度差が少なく且つ光量の安定供給が可能な印刷装置を提供することができる。   Further, as described above, by disposing the heat conductive layer 30 over the lower region of the light emitting element 20, the thermal influence due to heat generated by the high luminance light emission of the light emitting element 20 is averaged between the light emitting elements. Therefore, it is possible to provide a printing apparatus in which the density difference due to the printing rate is small and the light quantity can be stably supplied.

以上、一実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形及び応用が可能なことは勿論である。   As mentioned above, although this invention was demonstrated based on one Embodiment, this invention is not limited to embodiment mentioned above, Of course, a various deformation | transformation and application are possible within the range of the summary of this invention. is there.

例えば、駆動回路部40は、選択トランジスタ101、駆動トランジスタ103を備えていたが、各種アクティブマトリクス駆動できるスイッチング素子を備えた回路であればこれに限らない。   For example, the drive circuit unit 40 includes the selection transistor 101 and the drive transistor 103. However, the drive circuit unit 40 is not limited to this as long as the circuit includes switching elements that can be driven in various active matrices.

また熱伝導層30は、駆動回路部40におけるトランジスタのゲートメタル層をパターニングすることによって得られていたが、トランジスタや発光素子20の構造によっては、ソース、ドレインメタルをパターニングすることによって得られてもよい。   The heat conductive layer 30 is obtained by patterning the gate metal layer of the transistor in the drive circuit unit 40. However, depending on the structure of the transistor and the light emitting element 20, the heat conductive layer 30 can be obtained by patterning the source and drain metals. Also good.

さらに、上述した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件の適当な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成も発明として抽出され得る。   Further, the above-described embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if some constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the embodiment, the problem described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and the effect described in the column of the effect of the invention Can be extracted as an invention.

本発明の一実施形態に係る発光装置を用いた印刷装置の構成の一例を示す図。1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a printing apparatus using a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 有機EL発光素子の基本構造を説明する図。The figure explaining the basic structure of an organic electroluminescent light emitting element. 本発明の一実施形態に係る発光装置の外観を示す図。The figure which shows the external appearance of the light-emitting device which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る発光装置の露光部の側面断面図。1 is a side sectional view of an exposure unit of a light emitting device according to an embodiment of the present invention. ロッドレンズ部側から見た場合の発光素子基板を示す図。The figure which shows the light emitting element substrate at the time of seeing from the rod lens part side. (A)は、駆動回路部の構成を示す図であり、(B)は、(A)に示す駆動回路部の回路図。(A) is a figure which shows the structure of a drive circuit part, (B) is a circuit diagram of the drive circuit part shown to (A). 本発明の一実施形態に係る発光装置における一つの発光素子をロッドレンズ部側から観た場合の当該発光素子を示す図(上面図)。The figure (top view) which shows the said light emitting element at the time of seeing one light emitting element in the light-emitting device which concerns on one Embodiment of this invention from the rod lens part side. 図7に示すA−A’線における断面図。Sectional drawing in the A-A 'line | wire shown in FIG. 図7に示すB−B’線における断面図。Sectional drawing in the B-B 'line shown in FIG. 図7に示すC−C’線における断面図。Sectional drawing in the C-C 'line shown in FIG. 有機EL素子を高輝度発光させた場合の発熱に起因する当該有機EL素子の劣化の実験に用いたテスト基板の構成を示す図。The figure which shows the structure of the test board | substrate used for the experiment of deterioration of the said organic EL element resulting from the heat_generation | fever at the time of making organic EL element light-emit light. 有機EL素子を高輝度発光させた場合の発熱に起因する当該有機EL素子の劣化の実験結果表を示す図。The figure which shows the experimental result table | surface of the deterioration of the said organic EL element resulting from the heat_generation | fever at the time of making an organic EL element light-emit high brightness.

符号の説明Explanation of symbols

1…感光体ドラム、 2…発光装置、 2A…ケース部、 2B…ロッドレンズ部、 3…帯電ローラ、 4…イレーサ光源感光体、 5…クリーニング部材、 6…現像器、 6a…現像ローラ、 7…印刷用紙、 8…転写ローラ、 9…定着ローラ、 11…搬送ベルト、 20…発光素子、 20a…EL層、 21…発光素子基板、 23…画素電極、 23a…ITO層、 23b…光反射性メタル層、 24…正孔輸送層、 25…発光層、 26…電子輸送層、 27…対向電極、 27A…熱伝導性導電層、 28…対向基板、 29…光、 30…熱伝導層、 31A,31B…制御ケーブル、 34…封止膜、 39…側面、 40…駆動回路部、 41…ソース電極、 42…ドレイン電極、 43…ゲート電極、 44…半導体、 45…ゲート絶縁層、 46…絶縁層、 51…前面ケース、 53…背面ケース、 55…ドライバーIC、 57…配線、 59…中継コネクタ、 61…封止膜、 71…凸部、 73…密閉空間、 80…発光部、 81…ヒートシンク、 83…シール材、 85…熱伝導絶縁層、 101…選択トランジスタ、 103…駆動トランジスタ、 105…キャパシタ、 107…信号線、 109…走査線、 111…電源線、 141…ソース電極、 142…ドレイン電極、 143…ゲート電極、 144…半導体、 146…絶縁層、 151…コンタクトホール、 201…ガラス基板、 203…アノード、 205…正孔輸送層、 207…正孔輸送層、 209…EL発光層、 211…電子輸送層、 213…カソード、 215…エポキシ層、 217…封止ガラス、 219…ペルチェ素子、 221…ヒートシンク、 223…冷却部材、 225…温度センサ。     DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Photosensitive drum, 2 ... Light-emitting device, 2A ... Case part, 2B ... Rod lens part, 3 ... Charging roller, 4 ... Eraser light source photoconductor, 5 ... Cleaning member, 6 ... Developing device, 6a ... Developing roller, 7 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Printing paper, 8 ... Transfer roller, 9 ... Fixing roller, 11 ... Conveyor belt, 20 ... Light emitting element, 20a ... EL layer, 21 ... Light emitting element substrate, 23 ... Pixel electrode, 23a ... ITO layer, 23b ... Light reflectivity Metal layer, 24 ... hole transport layer, 25 ... light emitting layer, 26 ... electron transport layer, 27 ... counter electrode, 27A ... heat conductive conductive layer, 28 ... counter substrate, 29 ... light, 30 ... heat conductive layer, 31A , 31B ... control cable, 34 ... sealing film, 39 ... side face, 40 ... drive circuit section, 41 ... source electrode, 42 ... drain electrode, 43 ... gate electrode, 44 ... semiconductor, 45 ... Gate insulating layer 46 ... Insulating layer 51 ... Front case 53 ... Rear case 55 ... Driver IC 57 ... Wiring 59 ... Relay connector 61 ... Sealing film 71 ... Convex part 73 ... Sealed space 80 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Light-emitting part 81 ... Heat sink 83 ... Sealing material 85 ... Thermal conductive insulating layer 101 ... Selection transistor 103 ... Drive transistor 105 ... Capacitor 107 ... Signal line 109 ... Scanning line 111 ... Power supply line 141 ...... Source electrode, 142 ... Drain electrode, 143 ... Gate electrode, 144 ... Semiconductor, 146 ... Insulating layer, 151 ... Contact hole, 201 ... Glass substrate, 203 ... Anode, 205 ... Hole transport layer, 207 ... Hole transport layer 209 ... EL light emitting layer, 211 ... electron transport layer, 213 ... cathode, 215 ... epoxy , 217 ... sealing glass, 219 ... Peltier element 221 ... heat sink 223 ... cooling member, 225 ... temperature sensor.

Claims (5)

複数の発光素子がアレイ状に構築された基板と、
電極を備えたスイッチング素子と、
前記電極とともに一括して形成された熱伝導層と、
を具備することを特徴とする発光装置。
A substrate in which a plurality of light emitting elements are constructed in an array;
A switching element comprising an electrode;
A heat conductive layer formed together with the electrodes;
A light-emitting device comprising:
前記熱伝導層は、金属から成る金属層を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein the heat conductive layer includes a metal layer made of metal. 前記熱伝導層は、前記発光素子の下方に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein the heat conductive layer is provided below the light emitting element. 前記熱伝導層に接触して設けられたヒートシンクを、さらに備えることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。   The light-emitting device according to claim 1, further comprising a heat sink provided in contact with the heat conductive layer. 請求項1に記載の発光装置を具備することを特徴とする印刷装置。   A printing apparatus comprising the light emitting device according to claim 1.
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