JP2008246864A - Method and apparatus for manufacture of fine-structure sheet - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、微細構造シート製造方法及び装置に係り、特に表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを連続的に製造する微細構造シート製造方法及び装置に関する。 The present invention relates to a microstructure sheet manufacturing method and apparatus, and more particularly, to a microstructure sheet manufacturing method and apparatus for continuously manufacturing an uneven sheet having a regular fine uneven pattern formed on the surface thereof.
表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された微細構造シートとして、集光シートや拡散シートなどが知られている。 As a fine structure sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface, a light collecting sheet, a diffusion sheet, and the like are known.
このような凹凸状シートは、連続走行される基材シートの表面に紫外線硬化樹脂を塗布し、この基材シートを規則的な凹凸パターンが形成されたパターンローラとニップローラとで挟むことにより、パターンローラの凹凸パターンを樹脂に転写させ、この状態で基材シートに紫外線を照射して樹脂を硬化させた後、基材シートをパターンローラから剥離させることにより製造される（たとえば、特許文献１〜３参照）。
Such a concavo-convex sheet is formed by applying an ultraviolet curable resin to the surface of a continuously running base sheet and sandwiching the base sheet between a pattern roller and a nip roller on which a regular concavo-convex pattern is formed. The uneven pattern of the roller is transferred to a resin, and in this state, the substrate sheet is irradiated with ultraviolet rays to cure the resin, and then the substrate sheet is peeled off from the pattern roller (for example,
このような方法で製造される微細構造シートは、パターンローラの表面に形成する凹凸のパターンによって、その表面に形成される凹凸パターンを種々の形状パターンに変えることができる。たとえば、軸と平行なＶ字状の溝を周方向に一定ピッチで形成すると、シート表面には、幅方向に一様な断面三角形状の凸部がシートの長手方向に沿って一定ピッチで形成される。また、四角錐状（ピラミッド状）の凹部を軸方向及び周方向に一定ピッチで形成すると、シート表面には、図３及び図４に示すように、四角錐状の凸部が幅方向及び長手方向に規則的に形成される。
しかしながら、四角錐状の凹部が軸方向及び周方向に一定ピッチで形成されたパターンローラの場合、ニップ時にパターンローラの各凹部に空気が入り込むと、凹部の形状を樹脂に正確に転写することができないという欠点がある。すなわち、このようなパターンローラの場合、凹部に空気の逃げ場がないため、一度凹部内に空気が入り込むと、空気が凹部内に残存し、この結果、凹部内に樹脂を満たすことができなくなり（空気を樹脂で置換できなくなり）、図１３に示すように、頂部が欠損した形状の凸部が形成されるという問題が生じていた。 However, in the case of a pattern roller in which quadrangular pyramid-shaped concave portions are formed at a constant pitch in the axial direction and the circumferential direction, if air enters each concave portion of the pattern roller during nip, the shape of the concave portion can be accurately transferred to the resin. There is a disadvantage that it can not. That is, in the case of such a pattern roller, since there is no escape space for air in the concave portion, once air enters the concave portion, the air remains in the concave portion, and as a result, the concave portion cannot be filled with resin ( The air cannot be replaced with resin), and as shown in FIG. 13, there is a problem that a convex portion having a shape with a missing top portion is formed.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンを正確に形成することができる微細構造シート製造方法及び装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a situation, and it aims at providing the microstructure structure manufacturing method and apparatus which can form a regular fine uneven | corrugated pattern correctly on the surface.
請求項１に係る発明は、前記目的を達成するために、帯状可撓性の基材シートの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、ニップローラを介して該基材シートの表面をパターンローラに密着させ、該パターンローラに密着された状態の基材シートに放射線を照射して、その表面に塗布された前記放射線硬化樹脂を硬化させた後、剥離ローラを介して前記放射線硬化樹脂が硬化した基材シートを前記パターンローラから剥離して、表面に微細凹凸パターンが形成された微細構造シートを連続的に製造する微細構造シート製造方法であって、前記パターンローラの表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成されている場合において、前記基材シートの表面を前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着させる際、前記基材シートの表面に塗布されている前記放射線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にするとともに、前記パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の接触角を４０°以下にすることを特徴とする微細構造シート製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項１に係る発明によれば、基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂の粘度が１０mPa・s以上、１００mPa・s以下、パターンローラに対する接触角が４０°以下の状態にされて、基材シートがニップローラを介してパターンローラに密着（ニップ）される。これにより、表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成されたパターンローラを用いた場合であっても、ニップ時にパターンローラの各凹部に空気が入り込むのを防止でき、パターンローラの表面に形成された凹凸の形状を正確に基材シートに転写することができる。すなわち、放射線硬化樹脂の粘度を下げて流動性を高くするとともに、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角を小さくして濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラの各凹部に空気が流入するのを有効に防止でき、パターンローラの各凹部に放射線硬化樹脂を満たすことができる（凹部内の空気を樹脂で置換することができる）。これにより、パターンローラの表面に形成された凹凸の形状を基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂に正確に転写することができる。
According to the invention according to
請求項２に係る発明は、前記目的を達成するために、前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される直前の前記基材シートの表面に熱風を吹き付けることにより、前記放射線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にすることを特徴とする請求項１に記載の微細構造シート製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 2 blows hot air onto the surface of the base sheet immediately before being in close contact with the pattern roller via the nip roller, thereby reducing the viscosity of the radiation curable resin. The method for producing a microstructure sheet according to
請求項２に係る発明によれば、ニップローラを介してパターンローラに密着される直前の基材シートの表面に熱風を吹き付けることにより、放射線硬化樹脂の粘度が、１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にされる。 According to the second aspect of the invention, the viscosity of the radiation curable resin is 10 mPa · s or more and 100 mPa · s or less by blowing hot air onto the surface of the base sheet immediately before being closely attached to the pattern roller via the nip roller. To be.
請求項３に係る発明は、前記目的を達成するために、前記パターンローラ及び／又はニップローラを加熱することにより、前記放射線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にすることを特徴とする請求項１に記載の微細構造シート製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項３に係る発明によれば、パターンローラ及び／又はニップローラを加熱することにより、ニップ時における放射線硬化樹脂の粘度が、１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にされる。
According to the invention of
請求項４に係る発明は、前記目的を達成するために、前記パターンローラに親水化処理剤を塗布することにより、前記パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の接触角を４０°以下にすることを特徴とする請求項１、２又は３に記載の微細構造シート製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項４に係る発明によれば、パターンローラに親水化処理剤を塗布することにより、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角が４０°以下にされる。
According to the invention which concerns on
請求項５に係る発明は、前記目的を達成するために、前記パターンローラに放射線を照射することにより、前記パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の接触角を４０°以下にすることを特徴とする請求項１、２、３又は４に記載の微細構造シート製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項５に係る発明によれば、パターンローラに放射線を照射することにより、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角が４０°以下にされる。
According to the invention which concerns on
請求項６に係る発明は、前記目的を達成するために、帯状可撓性の基材シートの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、ニップローラを介して該基材シートの表面をパターンローラに密着させ、該パターンローラに密着された状態の基材シートに放射線を照射して、その表面に塗布された前記放射線硬化樹脂を硬化させ、剥離ローラを介して前記放射線硬化樹脂が硬化した基材シートを前記パターンローラから剥離して、表面に微細凹凸パターンが形成された微細構造シートを連続的に製造する微細構造シート製造装置において、表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成されるとともに、その表面に親水化処理剤が塗布された前記パターンローラと、前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される基材シートを加熱して、該基材シートの表面に塗布された前記放射線硬化樹脂の粘度を低下させる加熱手段と、を備えたことを特徴とする微細構造シート製造装置を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項６に係る発明によれば、パターンローラの表面に親水化処理剤が塗布されるとともに、ニップローラを介してパターンローラに密着される基材シートが加熱手段によって加熱される。このように、パターンローラの表面に親水化処理剤を塗布することにより、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角を小さくして濡れ性を上げることができる。また、ニップローラを介してパターンローラに密着される基材シートを加熱することにより、ニップ時における放射線硬化樹脂の粘度を低くして流動性を高くすることができる。そして、このように放射線硬化樹脂の粘度を低くして流動性を上げ、かつ、ニップロールに対する接触角を小さくして濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラの各凹部に空気が流入するのを有効に防止でき、パターンローラの各凹部に放射線硬化樹脂を満たすことができる。これにより、パターンローラの表面に形成された凹凸の形状を基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂に正確に転写することができる。 According to the sixth aspect of the present invention, the hydrophilic agent is applied to the surface of the pattern roller, and the substrate sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller is heated by the heating means. In this way, by applying the hydrophilic treatment agent to the surface of the pattern roller, the contact angle of the radiation curable resin with respect to the pattern roller can be reduced and wettability can be improved. Further, by heating the substrate sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller, the viscosity of the radiation curable resin at the time of the nip can be lowered and the fluidity can be increased. Thus, by reducing the viscosity of the radiation curable resin to increase the fluidity, and reducing the contact angle with the nip roll to increase the wettability, air flows into each concave portion of the pattern roller at the time of nip. It can prevent effectively and can fill each recessed part of a pattern roller with radiation curing resin. Thereby, the shape of the unevenness formed on the surface of the pattern roller can be accurately transferred to the radiation curable resin applied on the surface of the base sheet.
請求項７に係る発明は、前記目的を達成するために、帯状可撓性の基材シートの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、ニップローラを介して該基材シートの表面をパターンローラに密着させ、該パターンローラに密着された状態の基材シートに放射線を照射して、その表面に塗布された前記放射線硬化樹脂を硬化させ、剥離ローラを介して前記放射線硬化樹脂が硬化した基材シートを前記パターンローラから剥離して、表面に微細凹凸パターンが形成された微細構造シートを連続的に製造する微細構造シート製造装置において、表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成された前記パターンローラと、前記パターンローラの表面に放射線を照射して、該パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の濡れ性を向上させる放射線照射手段と、前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される基材シートを加熱して、該基材シートの表面に塗布された前記放射線硬化樹脂の粘度を低下させる加熱手段と、を備えたことを特徴とする微細構造シート製造装置を提供する。
In order to achieve the above object, the invention according to
請求項７に係る発明によれば、パターンローラの表面に放射線が照射されるとともに、ニップローラを介してパターンローラに密着される基材シートが加熱手段によって加熱される。このように、パターンローラの表面に放射線を照射することにより、パターンローラの表面が活性化され、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角を小さくして濡れ性を上げることができる。また、ニップローラを介してパターンローラに密着される基材シートを加熱することにより、ニップ時における放射線硬化樹脂の粘度を低くして流動性を高くすることができる。そして、このように放射線硬化樹脂の粘度を低くして流動性を上げ、かつ、ニップロールに対する接触角を小さくして濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラの各凹部に空気が流入するのを有効に防止でき、パターンローラの各凹部に放射線硬化樹脂を満たすことができる。これにより、パターンローラの表面に形成された凹凸の形状を基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂に正確に転写することができる。 According to the seventh aspect of the present invention, the surface of the pattern roller is irradiated with radiation, and the substrate sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller is heated by the heating means. In this way, by irradiating the surface of the pattern roller with radiation, the surface of the pattern roller is activated, and the contact angle of the radiation curable resin with respect to the pattern roller can be reduced to increase the wettability. Further, by heating the substrate sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller, the viscosity of the radiation curable resin at the time of the nip can be lowered and the fluidity can be increased. Thus, by reducing the viscosity of the radiation curable resin to increase the fluidity, and reducing the contact angle with the nip roll to increase the wettability, air flows into each concave portion of the pattern roller at the time of nip. It can prevent effectively and can fill each recessed part of a pattern roller with radiation curing resin. Thereby, the shape of the unevenness formed on the surface of the pattern roller can be accurately transferred to the radiation curable resin applied on the surface of the base sheet.
請求項８に係る発明は、前記目的を達成するために、前記加熱手段は、前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される直前の前記基材シートの表面に熱風を吹き付ける手段であることを特徴とする請求項６又は７に記載の微細構造シート製造装置を提供する。
In the invention according to
請求項８に係る発明によれば、ニップローラを介してパターンローラに密着される直前の基材シートの表面に熱風を吹き付けることによって、基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂が加熱され、その粘度が下げられる。
According to the invention according to
請求項９に係る発明は、前記目的を達成するために、前記加熱手段は、前記ニップローラ又は前記パターンローラを加熱する手段であることを特徴とする請求項６又は７に記載の微細構造シート製造装置を提供する。
The invention according to
請求項９に係る発明によれば、ニップローラ又はパターンローラを加熱することによって、基材シートの表面に塗布された放射線硬化樹脂が加熱され、その粘度が下げられる。 According to the ninth aspect of the present invention, by heating the nip roller or the pattern roller, the radiation curable resin applied to the surface of the base sheet is heated and the viscosity thereof is lowered.
本発明に係る微細構造シート製造方法及び装置によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンを正確に形成することができる。 According to the microstructure sheet manufacturing method and apparatus according to the present invention, a regular fine uneven pattern can be accurately formed on the surface.
以下、添付図面に従って本発明に係る微細構造シート製造方法及び装置を実施するための最良の形態について説明する。 The best mode for carrying out the microstructure sheet manufacturing method and apparatus according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
図１は、本発明に係る微細構造シート製造装置の一実施形態の概略構成図である。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a microstructured sheet manufacturing apparatus according to the present invention.
同図に示すように本実施の形態の微細構造シート製造装置１０は、基材シートＷを供給する供給部１２、基材シートＷの表面に紫外線硬化樹脂Ｒを塗布する塗布部１４、基材シートＷの表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒを乾燥させる乾燥部１６、基材シートＷの表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒに微細凹凸パターンを転写する転写部１８、基材シートＷの表面に形成された微細凹凸パターンの欠陥検査を行う欠陥検査部２０、基材シートＷの表面に保護フィルムを供給する保護フィルム供給部２２、製造された微細構造シートを巻き取る巻取部２４で構成されている。各部の間には、ガイドローラＧ、Ｇ、…が配置されており、供給部１２から繰り出された基材シートＷは、このガイドローラＧ、Ｇ、…によってガイドされながら各部に搬送され、その搬送過程で各部において連続的に各種処理が施されて、表面に微細凹凸パターンが形成される。
As shown in the figure, the microstructure
基材シートＷは、ロール状に巻回されて供給部１２にセットされ、供給部１２から順次繰り出される。
The base material sheet W is wound in a roll shape, set in the
供給部１２と塗布部１４との間には、第１のサクションドラム２６が設けられている。この第１のサクションドラム２６は、基材シートＷを吸引保持するとともに、所定の周速度で回転駆動することにより、基材シートＷを連続走行させる手段である。なお、基材シートＷの吸引保持は、ドラムの外周面に形成された多数の孔からの吸引による構成でもよく、ドラムの外周面に形成された複数の溝により保持する構成（グルーブドサクションドラム）でもよい。
A
第１のサクションドラム２６の下流には、除塵機２８が設けられており、基材シートＷは、この除塵機２８を通過する過程で、その表面に付着している塵埃等が取り除かれる。なお、除塵機２８には、図示のように、粘着ローラに基材シートＷを巻き掛ける形式のもの他、静電除塵された乾燥エアを吹き付ける形式のもの等、各種公知の形式の除塵機を採用することができる。
A
塗布部１４は、搬送される基材シートＷの表面に連続的に紫外線硬化樹脂Ｒを塗布する。この塗布部１４は、紫外線硬化樹脂Ｒを供給する液供給源（不図示）と、液供給装置（不図示）と、塗布ヘッド１４Ｃと、塗布の際に基材シートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１４Ｄと、液供給源より塗布ヘッド１４Ｃまで紫外線硬化樹脂Ｒを供給するための図示しない配管等により構成される。なお、塗布ヘッド１４Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
The
乾燥部１６は、塗布部１４で塗布された紫外線硬化樹脂Ｒを乾燥させ、溶剤分を蒸発させる。この乾燥部１６は、４つのトンネル状の乾燥装置１６Ａ〜１６Ｄを備えており、この４つの乾燥装置１６Ａ〜１６Ｄを通過する過程で基材シートＷは、その表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが乾燥され、溶剤分が蒸発する。
The drying
なお、乾燥部１６は、基材シートＷに塗布された紫外線硬化樹脂Ｒを均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものを採用することができる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のものや、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等を採用してもよい。
The drying
なお、本実施の形態において、各乾燥装置１６Ａ〜１６Ｄは、個別に温度設定ができるようにされている。
In the present embodiment, the
転写部１８は、紫外線硬化樹脂Ｒが塗布された基材シートの表面にパターンローラを密着させ、その状態で基材シートに紫外線を照射することにより、そのパターンローラの表面に形成された凹凸パターンを紫外線硬化樹脂Ｒに転写させる。この転写部１８は、図２に示すように、パターンローラ３０、ニップローラ３２、硬化用紫外線照射装置３４、剥離ローラ３６、加熱装置３８、活性化用紫外線照射装置４０等で構成される。
The
パターンローラ３０は、その外周面（表面）に規則的な微細凹凸パターンが形成されている。基材シートＷに塗布された紫外線硬化樹脂Ｒには、このパターンローラ３０の表面に形成された微細凹凸パターンが転写される。したがって、このパターンローラ３０の表面に形成される微細構造パターンは、製造する微細構造シートに対応して形成され、その微細構造シートの表面に形成される微細凹凸パターンを反転した形状とされる。
The
ここで、本実施の形態の微細構造シート製造装置１０では、図３、図４に示すように、表面に四角錐状（ピラミッド状）の凸部が幅方向及び長手方向に規則的に配列された微細構造シートを製造するものとする（図３は図４を拡大した図）。このような微細構造シートは、たとえば平板レンズに用いられる。
Here, in the microstructure
この場合、図５に示すように、パターンローラ３０の表面には、これに対応した四角錐状（ピラミッド状）の凹部３０Ａが幅方向及び周方向に一定ピッチで規則的に形成される。
In this case, as shown in FIG. 5, on the surface of the
なお、このようなパターンローラ３０は、表面の微細凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このため、金属製とすることが好ましい。
Such a
また、パターンローラ３０の外周面に形成する微細凹凸パターンの形成方法としては、パターンローラ３０の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法を採用することができる。
In addition, as a method for forming a fine uneven pattern formed on the outer peripheral surface of the
また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付けて固定することにより、パターンローラ３０を形成することもできる。 In addition, pattern rollers are formed by forming irregularities on the surface of a thin metal plate by photoetching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc., and winding and fixing the plate around the roller. 30 can also be formed.
この他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付けて固定することにより、パターンローラ３０を形成することもできる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
In addition, a thin metal plate is formed by forming irregularities on the surface of a material that is easier to process than metal by photoetching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc., and forming an inverted mold of this shape by electroforming, etc. The
また、パターンローラ３０は、基材シートＷの走行に同期して回転駆動することが好ましい。本実施の形態では、図示しない回転駆動手段に駆動されて、パターンローラ３０は、図示の矢印方向（時計方向（ＣＷ））に回転する。
The
ニップローラ３２は、パターンローラ３０と対になって基材シートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。このニップローラ３２は、その表面の縦弾性係数（ヤング率）が小さ過ぎると、ローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎると、ゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点が生じやすくなることから、表面の縦弾性係数を適宜な値にすることが好ましい。
The
なお、ニップローラ３２は、基材シートＷの走行に同期して回転駆動することが好ましい。本実施の形態では、図示しない回転駆動手段に駆動されて、ニップローラ３２は、図示の矢印方向（反時計方向（ＣＣＷ））に回転する。
The
また、パターンローラ３０とニップローラ３２との間に所定の挟圧力を付与するべく、パターンローラ３０とニップローラ３２のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。
In order to apply a predetermined clamping pressure between the
同様にパターンローラ３０とニップローラ３２との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、パターンローラ３０とニップローラ３２のいずれかに設けることが好ましい。
Similarly, it is preferable to provide fine adjustment means on either the
硬化用紫外線照射装置３４は、ニップローラ３２の下流側においてパターンローラ３０に対向して設けられ、パターンローラ３０に密着された状態の基材シートＷに対して紫外線を照射する。この硬化用紫外線照射装置３４から照射された紫外線は、基材シートＷを透過して、その表面に塗布された樹脂層を硬化させる。
The curing
このような硬化用紫外線照射装置３４としては、たとえば、基材シートＷの幅と略同一長さの円柱状の紫外線ランプを採用することができる。また、この円柱状の紫外線ランプを複数本平行に設けることもでき、この紫外線ランプの背面に反射板を設けることもできる。
As such a curing
なお、硬化用紫外線照射装置３４は、基材シートＷの表面に塗布された樹脂の硬化特性に応じた波長の紫外線を照射できるものとし、基材シートＷの搬送速度に応じた量の紫外線を照射できるようにすることが好ましい。
Note that the curing
また、パターンローラ３０の表面の微細凹凸パターンが基材シートＷの表面に転写形成される前の塗布層に紫外線が照射されないようにすることが好ましい。
Further, it is preferable that ultraviolet rays are not irradiated to the coating layer before the fine uneven pattern on the surface of the
剥離ローラ３６は、パターンローラ３０と対になってパターンローラ３０から基材シートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、パターンローラ３０の周面上に巻き掛けられた基材シートＷを回転するパターンローラ３０と剥離ローラ３６とで挟みながら、基材シートＷをパターンローラ３０から剥離させて剥離ローラ３６に巻き掛ける。この動作を確実に行うため、剥離ローラ３６を回転駆動することが好ましい。本実施の形態では、図示しない回転駆動手段に駆動されて、剥離ローラ３６は、図示の矢印方向（反時計方向（ＣＣＷ））に回転する。
The peeling
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時に剥離ローラ３６に冷却手段を設け、基材シートＷを冷却させて剥離する構成としてもよい。
In addition, when the temperature of resin etc. rises by hardening, it is good also as a structure which provides a cooling means in the peeling
また、図示は省略したが、パターンローラ３０のニップ点（本実施の形態では３時の位置）から剥離点（本実施の形態では９時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとパターンローラ３０とで基材シートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成としてもよい。
Although not shown, a plurality of backup rollers face each other between the nip point of the pattern roller 30 (position at 3 o'clock in this embodiment) and the peeling point (position at 9 o'clock in this embodiment). It is good also as a structure which performs a hardening process, pressing the base material sheet W with this some backup roller and the
加熱装置３８は、熱風を噴射する手段によって構成されており、パターンローラ３０に密着される直前の基材シートＷの表面に熱風を吹き付けて、ニップ点（パターンローラ３０とニップローラ３２とで挟圧される地点）における紫外線硬化樹脂Ｒを加熱する。この加熱装置３８は、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの粘度を低下させる目的で設置されており、加熱により粘度を低下させて、基材シートＷの表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高めている。
The
このようにニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高めることにより、ニップ時にパターンローラ３０の各凹部３０Ａ、３０Ａ、…に空気が入り込むのを防止でき、パターンローラ３０の微細凹凸パターンを正確に紫外線硬化樹脂Ｒに転写することができる（凹部３０Ａ、３０Ａ、…内の空気を紫外線硬化樹脂Ｒで置換することができる。）。そして、このような効果を奏させるためには、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にする。したがって、加熱装置３８は、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの粘度が、１０mPa・s以上、１００mPa・s以下になるように、その熱風の噴射が制御される。
Thus, by improving the fluidity of the ultraviolet curable resin R at the nip point, air can be prevented from entering the
活性化用紫外線照射装置４０は、剥離ローラ３６の下流側においてパターンローラ３０に対向して設けられ、パターンローラ３０の表面（外周面）に紫外線を照射する。この活性化用紫外線照射装置４０は、パターンローラ３０の表面を活性化させることにより、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角を小さくして、濡れ性を上げる目的で設置される。
The activation
このようにパターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラ３０の各凹部３０Ａ、３０Ａ、…に空気が入り込むのを防止でき、パターンローラ３０の微細凹凸パターンを正確に紫外線硬化樹脂Ｒに転写することができる。そして、このような効果を奏させるためには、ニップ点において、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角が４０°以下になるようにする。なお、ここでの接触角は、パターンローラ３０と同じ構造、処理の板の上に紫外線硬化樹脂Ｒを滴下して測定したときの値として定義される。
By increasing the wettability of the ultraviolet curable resin R to the
なお、このような活性化用紫外線照射装置４０としては、上記硬化用紫外線照射装置３４と同様に、たとえば、基材シートＷの幅と略同一長さの円柱状の紫外線ランプを採用することができる。また、この円柱状の紫外線ランプを複数本平行に設けることもでき、この紫外線ランプの背面に反射板を設けることもできる。
As such an activation
また、活性化用紫外線照射装置４０は、パターンローラ３０の活性化に必要な波長の紫外線を照射できるものとし、パターンローラ３０の回転速度に応じた量の紫外線を照射できるようにすることが好ましい。
In addition, it is preferable that the activating
また、パターンローラ３０の表面の微細凹凸パターンが基材シートＷの表面に転写形成される前の塗布層に紫外線が照射されないようにすることが好ましい。
Further, it is preferable that ultraviolet rays are not irradiated to the coating layer before the fine uneven pattern on the surface of the
転写部１８は以上のように構成される。基材シートＷは、この転写部１８を搬送される過程で、その表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒに微細凹凸パターンが連続的に転写形成される。この作用は次のとおりである。
The
乾燥部１６を通過した基材シートＷは、ニップローラ３２を介してパターンローラ３０に密着される。
The substrate sheet W that has passed through the drying
この際、基材シートＷは、加熱装置３８から熱風が吹き付けられ、表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが加熱される。これにより、紫外線硬化樹脂Ｒの粘度が下げられ、流動性が高める。
At this time, the base sheet W is sprayed with hot air from the
一方、この基材シートＷが密着されるパターンローラ３０は、活性化用紫外線照射装置４０から紫外線が照射されて、その表面が活性化される。これにより、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角が下げられ、濡れ性が上げられる。
On the other hand, the surface of the
このように、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高め、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラ３０の各凹部３０Ａに空気が流入するのを防止できる。
In this way, by increasing the fluidity of the ultraviolet curable resin R at the nip point and increasing the wettability of the ultraviolet curable resin R with respect to the
ニップローラ３２を介してパターンローラ３０に密着された基材シートＷは、そのパターンローラ３０に密着された状態のまま搬送され、硬化用紫外線照射装置３４から紫外線が照射される。これにより、表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが硬化する。
The substrate sheet W in close contact with the
紫外線硬化樹脂Ｒが硬化した基材シートＷは、剥離ローラ３６を介してパターンローラ３０から剥離され、次工程へと搬送される。
The base material sheet W cured with the ultraviolet curable resin R is peeled off from the
このように本実施の形態の微細構造シート製造装置の転写部１８では、空気の流入を防止して基材シートＷをパターンローラに密着させるので、パターンローラ表面の微細凹凸パターンを正確に紫外線硬化樹脂Ｒに転写することができる。
As described above, in the
転写部１８で表面に微細凹凸パターンが形成された基材シートＷは、欠陥検査部２０に搬送される。
The substrate sheet W having a fine uneven pattern formed on the surface by the
欠陥検査部２０は、基材シートＷの表面に形成された微細凹凸パターンの欠陥を検査する。この欠陥検査部２０は、各種公知の検査装置を用いることができる。たとえば、基材シートＷの表面を電子カメラで撮像し、得られた画像を解析することにより、欠陥を検査する装置を用いることができる。
The
欠陥検査部２０の下流側には、基材シートＷの張力を制御するためのダンサーローラユニット５０が設けられている。このダンサーローラユニット５０は、一対の固定ローラ５０Ａ、５０Ａと、その一対の固定ローラ５０Ａ、５０Ａの間に設けられた移動ローラ５０Ｂとによって構成されている。そして、移動ローラ５０Ｂの昇降動作により基材シートＷの張力が制御されるようになっている。
A
ダンサーローラユニット５０の下流側には、第２のサクションドラム５２が設けられている。この第２のサクションドラム５２は、前記第１のサクションドラム２６と同様に、基材シートＷを吸引保持するとともに、所定の周速度で回転駆動することにより、基材シートＷを連続走行させる。
A
第２のサクションドラム５２の下流側には、エッジ位置制御装置（エッジポジションコントローラ）５４が設けられている。このエッジ位置制御装置５４は、連続走行している基材シートＷの幅方向の端部位置を検出して基材シートＷの幅方向位置を制御する。
At the downstream side of the
このエッジ位置制御装置５４は、一対の固定ローラ５４Ａ、５４Ｂと、その一対の固定ローラ５４Ａ、５４Ｂの間に設けられた一対の傾斜ローラ５４Ｃ、５４Ｄによって構成され、図示しないエッジ位置センサ（たとえば、レーザ方式の位置センサ）の検出結果に基づいて、基材シートＷの幅方向位置が正規の位置になるように、傾斜ローラ５４Ｃ、５４Ｄを傾斜させることにより、基材シートＷの幅方向位置を制御する。
The edge position control device 54 includes a pair of fixed
エッジ位置制御装置５４の下流側には巻取部２４が設けられており、製造された微細構造シートは、この巻取部２４でロール状に巻き取られて回収される。
A winding
保護フィルム供給部２２は、この巻取部２４に隣接して設けられており、巻取部２４に巻き取られる微細構造シートの表面に保護フィルムＨを供給する。微細構造シートは、この保護フィルム供給部２２から供給される保護フィルムＨが、表面に重ねられた状態でロール状に巻き取られる。
The protective
本実施の形態の微細構造シート製造装置１０は以上のように構成される。
The microstructure
次に、本発明に適用される各材料について説明する。基材シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。 Next, each material applied to the present invention will be described. As the base sheet W, a resin film, paper (resin coated paper, synthetic paper, etc.), metal foil (aluminum web, etc.) and the like can be used. As the material of the resin film, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyester, polyolefin, acrylic, polystyrene, polycarbonate, polyamide, PET (polyethylene terephthalate), biaxially stretched polyethylene terephthalate, Known materials such as polyethylene naphthalate, polyamideimide, polyimide, aromatic polyamide, cellulose acylate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose diacetate can be used. Of these, polyester, cellulose acylate, acrylic, polycarbonate, and polyolefin can be preferably used.
基材シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、基材シートＷの長さとしては、１００〜１００００ｍが、基材シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。 The base sheet W has a width of 0.1 to 3 m, the base sheet W has a length of 100 to 10,000 m, and the base sheet W has a thickness of 1 to 300 μm. Adopted. However, application of other sizes is not impeded.
これらの基材シートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。基材シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。 These substrate sheets W may be subjected to corona discharge, plasma treatment, easy adhesion treatment, heat treatment, dust removal treatment and the like in advance. The surface roughness Ra of the base sheet W is preferably 3 to 10 nm at a cutoff value of 0.25 mm.
また、基材シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、基材シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、基材シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。 In addition, as the base sheet W, a base layer such as an adhesive layer provided in advance and dried and hardened, or a back surface on which another functional layer is formed in advance may be used. Similarly, the substrate sheet W can be not only one layer configuration but also two or more layers. Moreover, it is preferable that the base material sheet W is a transparent body and translucent body which can permeate | transmit light.
本発明に使用可能な樹脂は、（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの紫外線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。 Resins that can be used in the present invention include, for example, radicals and cations that can react with a reactive group-containing compound such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an epoxy group, and the reactive group-containing compound by irradiation with ultraviolet rays such as ultraviolet rays. Those containing a compound that generates the active species can be used.
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。 In particular, from the viewpoint of curing speed, a combination of a reactive group-containing compound (monomer) containing an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and a radical photopolymerization initiator that generates a radical by light is preferable. . Of these, (meth) acryloyl group-containing compounds such as (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are preferable.
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。 As the (meth) acryloyl group-containing compound, a compound containing one or more (meth) acryloyl groups can be used. Moreover, the reactive group containing compound (monomer) containing unsaturated groups, such as said acryloyl group and a vinyl group, may be used independently or may be used in mixture of multiple types as needed.
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。 Examples of such (meth) acryloyl group-containing compounds include, for example, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl as monofunctional monomers containing only one (meth) acryloyl group-containing compound. (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, Propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate , Heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate , Dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate , Butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol ( Examples include meth) acrylate and methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate.
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Furthermore, as a monofunctional monomer having an aromatic ring, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and p-cumylphenol reacted with ethylene oxide ( (Meth) acrylate, 2-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 4-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,6-dibromophenoxyethyl (meth) ) Acrylate, 2,4,6-bromophenyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate.
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。 Examples of such commercially available aromatic monocyclic monocyclic monomers include Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 192, # 193, # 220, 3BM (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK Ester AMP-10G, AMP-20G (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Epoxy Ester M-600A, light ester PO (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, Daiichi Kogyo) Pharmaceutical Co., Ltd.).
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。 Examples of unsaturated monomers having two (meth) acryloyl groups in the molecule include alkyl diols such as 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and 1,9-nonanediol diacrylate. Examples include polyalkylene glycol diacrylates such as diacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane methanol diacrylate.
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 As unsaturated monomers having a bisphenol skeleton, ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added Tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meth) Tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylate, bisphenol F diglycidyl ether and (meth) obtained by epoxy ring-opening reaction with acrylic acid Bisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction with crylic acid, tetrabromobisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of tetrabromobisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Etc.
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。 Commercially available unsaturated monomers having such a structure include Biscote # 700 and # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Aronix M-208, M-210 (above, Toagosei Co., Ltd.) ), NK ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4 (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester BP-4EA, BP-4PA, epoxy ester 3002M, 3002A 3000M, 3000A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD R-551, R-712 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), BPE-4, BPE-10, BR-42M (above, No. 1) Manufactured by Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP 1563 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。 Furthermore, as a trifunctional or higher functional (meth) acrylate unsaturated monomer, a trihydric or higher polyhydric alcohol (meth) acrylate such as trimethylolpropane litho (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate or trimethylol. Propane trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, etc. are listed, and commercially available products are Aronix M305, M309, M310, M315, M320, M350, M360, M408 (and above, Toagosei) Made by Co., Ltd., Biscoat # 295, # 300, # 360, GPT, 3PA, # 400 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK ester TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A- TMM-3L, A-TMMT (above, Shinnaka Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., KAYARAD PET-30, GPO-303, TMPTA) , TPA-320, DPHA, D-310, DPCA-20, DPCA-60 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。 In addition, a urethane (meth) acrylate oligomer may be blended. Examples of urethane (meth) acrylates include polyether polyols such as polyethylene glycol and polytetramethyl glycol; succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, tetrahydro (anhydrous) phthalic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid Obtained by reaction of a dibasic acid such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, etc. Polyester polyol, polyε-caprolactone-modified polyol; polymethylvalerolactone-modified polyol; ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, Alkyl polyols such as 1,6-hexanediol and neopentyl glycol; bisphenol A skeleton alkylene oxide modified polyols such as ethylene oxide-added bisphenol A and propylene oxide-added bisphenol A; bisphenol F skeleton alkylene such as ethylene oxide-added bisphenol F and propylene oxide-added bisphenol F Oxide-modified polyols or mixtures thereof and organic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. Manufactured from hydroxy group-containing (meth) acrylate And urethane (meth) acrylate oligomers. A urethane (meth) acrylate oligomer is preferable for maintaining the viscosity of the curable composition of the present invention moderately.
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。 As commercially available monomers of these urethane (meth) acrylates, for example, Aronix M120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270 ( As mentioned above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AIB, TBA, LA, LTA, STA, Viscoat # 155, IBXA, Viscoat # 158, # 190, # 150, # 320, HEA, HPA, Viscoat # 2000, # 2100, DMA, biscort # 195, # 230, # 260, # 215, # 335HP, # 310HP, # 310HG, # 312 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Light Acrylate IAA, LA, SA , BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-M L, HOA-MPE, light acrylate 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARADTC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), FA-511A, 512A, 513A (Hitachi Chemical Co., Ltd.), VP (BASF) ACMO, DMAA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) and the like.
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。 The urethane (meth) acrylate oligomer is obtained as a reaction product of (a) hydroxy group-containing (meth) acrylate, (b) organic polyisocyanate and (c) polyol, but (a) hydroxy group-containing (meth). A reaction product obtained by reacting an acrylate with (b) an organic polyisocyanate and then (c) a polyol is preferable.
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。 The above unsaturated monomers may be used alone, or a plurality of types may be mixed as necessary.
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。 Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethyl Oxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples thereof include bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, and the like.
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
Commercially available radical photopolymerization initiators include, for example,
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。 The radical photopolymerization initiator is preferably blended in the total composition in an amount of 0.01 to 10% by weight, particularly 0.5 to 7% by weight. The upper limit of the blending amount is preferably in this range from the viewpoints of the curing characteristics of the composition, the mechanical properties and optical characteristics of the cured product, handling, and the like, and the lower limit of the blending amount is preferably in the range of preventing a decrease in the curing rate.
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。 The composition of the present invention may further contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethyl Examples include methyl aminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate and the like, and examples of commercially available products include Ubekryl P102, 103, 104, 105 (manufactured by UCB). .
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。 Further, in addition to the above components, various additives as necessary include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants. Colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, solvents, fillers, anti-aging agents, wettability improvers, mold release agents, and the like can be blended as necessary.
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。 Here, examples of the antioxidant include Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Antigen P, 3C, FR, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Examples of the ultraviolet absorber include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Seesorb 102, 103, 110, 501; 202, 712, 704 (above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.) and the like. Examples of the light stabilizer include Tinuvin 292, 144, 622LD (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Sanol LS770 ( Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-0 1 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, commercially available Examples of the product include SH6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE903, 603, 403 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples include silicone additives such as dimethylsiloxane polyether and nonionic fluorosurfactants, and commercially available silicone additives include DC-57, DC-190 (above, manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH-190 (above, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KF351, KF352, KF353, KF354 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (above, Nihon Unicar Co., Ltd.) )), And commercially available non-ionic fluorosurfactants include FC-430, FC-171 (above 3M), Megafac F-176, F-177, R-08, F780 (above Dainippon Ink Co., Ltd.) and the like, and the release agent includes Prisurf A208F (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。 The organic solvent for adjusting the viscosity of the resin liquid of the present invention may be any organic solvent that can be mixed without unevenness such as precipitates, phase separation, and cloudiness when mixed with the resin liquid. For example, acetone, methyl ethyl ketone, Examples thereof include methyl isobutyl ketone, ethanol, propanol, butanol, 2-methoxyethanol, cyclohexanol, cyclohexane, cyclohexanone, toluene, and the like.
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。 When an organic solvent is added, it is necessary to dry and evaporate the organic solvent during the manufacturing process of the product. However, if a large amount of residual solvent remains in the product, the mechanical properties of crystallization deteriorate. There is also a concern that the organic solvent evaporates and diffuses during use as a product, causing bad odor and adverse health effects. For this reason, organic solvents having a high boiling point are not preferable because the amount of residual solvent increases.
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。 However, if the boiling point is too low, it will evaporate violently, resulting in rough surface, condensation water adhering to the surface of the composition due to the heat of vaporization during drying, resulting in surface defects and vapor concentration. It becomes higher and the risk of ignition etc. increases.
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。 Therefore, the boiling point of the organic solvent is preferably 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and more preferably 70 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. From the viewpoint of the solubility of the material and the boiling point, the organic solvent is preferably methyl ethyl ketone (bp. 79.6 ° C), 1-propanol (bp. 97.2 ° C) or the like.
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。 The amount of the organic solvent added to the resin liquid of the present invention depends on the type of solvent and the viscosity of the resin before addition of the solvent, but in order to sufficiently improve the coatability, it is 10% by weight or more, The range is 40% by weight or less, preferably 15% by weight or more and 30% by weight or less. If the amount of the organic solvent added is too small, the effect of reducing the viscosity and the effect of increasing the coating amount are small, and the coating property is not sufficiently improved.
しかし、樹脂を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎて基材シートの上で液が流動してムラが発生したり、基材シートの裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。 However, if the resin is diluted too much, the viscosity is too low and the liquid flows on the base sheet to cause unevenness, or the liquid turns around on the back surface of the base sheet. In addition, the drying process may not be sufficient, and a large amount of organic solvent may remain in the product, resulting in deterioration of product function, volatilization during product use, generation of bad odors, and adverse health effects. Occurs.
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。 The resin liquid of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components by a conventional method, and can be produced by heating and dissolving as necessary. The viscosity of the resin liquid thus prepared is usually 10 to 50000 mPa · s / 25 ° C.
次に、図１に戻って、本実施の形態の微細構造シート製造装置１０の作用について説明する。
Next, returning to FIG. 1, the operation of the microstructure
供給部１２から繰り出された基材シートＷは、第１のサクションドラム２６を介して除塵機２８に搬送され、その表面に付着した塵埃が取り除かれる。
The base material sheet W fed out from the
除塵機２８で塵埃が取り除かれた基材シートＷは、次に塗布部１４に搬送され、その塗布部１４で表面に紫外線硬化樹脂Ｒが塗布される。
The substrate sheet W from which dust has been removed by the
紫外線硬化樹脂Ｒが塗布された基材シートＷは、次に乾燥部１６に搬送され、その乾燥部１６で表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが乾燥され、溶剤分が蒸発する。
The base sheet W coated with the ultraviolet curable resin R is then transported to the drying
乾燥部１６を通過した基材シートＷは、次に転写部１８に搬送され、その転写部１８で表面に微細凹凸パターンが転写形成される。
The substrate sheet W that has passed through the drying
ここで、転写部１８は、次のように、基材シートＷの表面に微細凹凸パターンを転写形成する。
Here, the
乾燥部１６を通過した基材シートＷは、ニップローラ３２を介してパターンローラ３０に密着される。
The substrate sheet W that has passed through the drying
この際、基材シートＷは、加熱手段３８から熱風が吹き付けられ、表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが加熱される。これにより、紫外線硬化樹脂Ｒの粘度が下げられ、流動性が高める。 At this time, the base sheet W is sprayed with hot air from the heating means 38, and the ultraviolet curable resin R applied on the surface is heated. Thereby, the viscosity of the ultraviolet curable resin R is lowered and the fluidity is increased.
一方、この基材シートＷが密着されるパターンローラ３０は、活性化用紫外線照射装置４０から紫外線が照射されて、その表面が活性化される。これにより、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角が下げられ、濡れ性が上げられる。
On the other hand, the surface of the
このように、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高め、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの濡れ性を上げることにより、ニップ時にパターンローラ３０の各凹部３０Ａに空気が流入するのを防止できる。
In this way, by increasing the fluidity of the ultraviolet curable resin R at the nip point and increasing the wettability of the ultraviolet curable resin R with respect to the
ニップローラ３２を介してパターンローラ３０に密着された基材シートＷは、そのパターンローラ３０に密着された状態のまま搬送され、硬化用紫外線照射装置３４から紫外線が照射される。これにより、表面に塗布された紫外線硬化樹脂Ｒが硬化する。
The substrate sheet W in close contact with the
紫外線硬化樹脂Ｒが硬化した基材シートＷは、剥離ローラ３６を介してパターンローラ３０から剥離される。
The base material sheet W cured with the ultraviolet curable resin R is peeled off from the
このように、転写部１８は、紫外線硬化樹脂Ｒが塗布された基材シートＷの表面にパターンローラ３０を密着させ、その状態で紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂Ｒを硬化させて、基材シートＷの表面に微細凹凸パターンを転写形成する。
Thus, the
パターンローラ３０から剥離された基材シートＷは、次に欠陥検査部２０に搬送され、その表面に転写形成された微細凹凸パターンの欠陥が検査される。これにより、欠陥部分の排除が容易となる。
The base material sheet W peeled off from the
欠陥検査が行われた基材シートＷは、ダンサーローラユニット５０、第２のサクションドラム５２、エッジ位置制御装置５４を介して巻取部２４に搬送される。そして、その表面に保護フィルム供給部２２から供給される保護フィルムＨが重ねられて、ロール状に巻き取られる。
The base sheet W subjected to the defect inspection is conveyed to the winding
以上説明したように、本実施の形態の微細構造シート製造装置１０によれば、転写部１８において、基材シートＷをニップする際、紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高めるとともに、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂Ｒの濡れ性を上げているので、パターンローラ３０の各凹部３０Ａに空気が入り込むのを防止することができ、パターンローラ３０の微細凹凸パターンを正確に基材シートＷの表面に転写形成することができる。
As described above, according to the microstructure
なお、本実施の形態では、ニップ点において、紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高める方法として、パターンローラ３０に密着される直前の基材シートＷの表面に加熱装置３８から熱風を吹き付けることにより、紫外線硬化樹脂Ｒを加熱し、その流動性を高める方法を用いているが、紫外線硬化樹脂Ｒの流動性を高める方法は、これに限定されるものではない。
In the present embodiment, as a method for improving the fluidity of the ultraviolet curable resin R at the nip point, by blowing hot air from the
この他、たとえば、パターンローラ３０とニップローラ３２の少なくとも一方を加熱することにより、紫外線硬化樹脂Ｒを加熱して、その流動性を高める方法を用いることができる。
In addition, for example, by heating at least one of the
この場合、パターンローラ３０とニップローラ３２を加熱する方法としては、たとえば、図６に示すようにパターンローラ３０とニップローラ３２を外部からヒータ６０、６２で加熱する方法を用いることができる。また、図示しないが、この他、パターンローラ３０とニップローラ３２とにヒータを埋め込み、このヒータによってパターンローラ３０とニップローラを加熱する方法や、パターンローラ３０とニップローラ３２とをジャケット構造とし、恒温槽によって一定温度に制御された温水をパターンローラ３０内とニップローラ３２内とに循環させることにより、パターンローラ３０とニップローラ３２を加熱する方法などを用いることができる。
In this case, as a method of heating the
なお、この場合も基材シートＷの表面に塗布されている放射線硬化樹脂の粘度が、１０mPa・s以上、１００mPa・s以下になるように、パターンローラ３０とニップローラ３２のローラ温度を制御するものとする。
In this case as well, the roller temperature of the
また、本実施の形態では、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法として、パターンローラ３０の表面に活性化用紫外線照射装置４０から紫外線を照射し、パターンローラ３０の表面を活性化させる方法を用いているが、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法は、これに限定されるものではない。
In the present embodiment, as a method for increasing the wettability of the radiation curable resin to the
この他、たとえば、パターンローラ３０の表面をコロナ処理やプラズマ処理等することにより、パターンローラ３０の表面を活性化させて、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法を用いてもよい。
In addition, for example, a method of activating the surface of the
また、パターンローラ３０の表面に親水化処理剤を塗布して親水化を施すことにより、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法を用いてもよい。この場合、たとえば、図７に示すように、親水化処理剤７０が貯留された槽７２の中にパターンローラ３０を浸漬し、回転させて全面を濡らした後、引き上げて、５０〜７０℃程度の恒温室で乾燥させることにより、パターンローラ３０の表面を親水化することができる。
Alternatively, a method may be used in which the wettability of the radiation curable resin to the
さらに、放射線硬化樹脂に親水化処理剤を添加して、親水化を施すことにより、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法を用いてもよい。この場合、たとえば、紫外線放射樹脂の入った容器の中にプロペラ羽根のついた攪拌機を設置し、回転させながら親水化処理剤を添加する。
Furthermore, a method of increasing the wettability of the radiation curable resin with respect to the
なお、本発明では、親水性を付与することのできる表面活性剤を親水化処理剤というものとする。この場合、たとえば、ｎ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの如きアニオン性界面活性剤、ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライドの如きカチオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリエチレングリコールモノ−パラ−ノニルフェニルエーテルの如き非イオン性界面活性剤、ポリエチレングリコール、エチレングリコール、及びグリセリン等を親水化処理剤として用いることができる。 In the present invention, a surfactant capable of imparting hydrophilicity is referred to as a hydrophilic treatment agent. In this case, for example, an anionic surfactant such as sodium n-dodecylbenzenesulfonate, a cationic surfactant such as n-dodecyltrimethylammonium chloride, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyethylene glycol mono-para-nonylphenyl Nonionic surfactants such as ether, polyethylene glycol, ethylene glycol, glycerin and the like can be used as the hydrophilic treatment agent.
また、パターンローラ３０を一定温度に保温することにより、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法を用いてもよい。
Alternatively, a method of increasing the wettability of the radiation curable resin to the
さらに、これらの各方法を複合的に組み合わせて使用することにより、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げる方法を用いてもよい。たとえば、放射線硬化樹脂に親水化処理剤を添加するとともに、パターンローラ３０に紫外線を照射して活性化させることにより、パターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の濡れ性を上げるようにしてもよい。
Furthermore, a method of increasing the wettability of the radiation curable resin to the
なお、この場合もパターンローラ３０に対する放射線硬化樹脂の接触角が４０°以下になるように、上記各処理を行うものとする。
In this case as well, each of the above processes is performed so that the contact angle of the radiation curable resin with respect to the
また、本実施の形態では、四角錐状の凸部が基材シートＷの幅方法及び長手方向に一定ピッチで規則的に配列された微細凹凸パターンを転写形成する場合を例に説明したが、転写形成する微細凹凸パターンは、これに限定されるものではない。たとえば、図８に示すように、頂部に稜線を有する寄棟形状の凸部が基材シートＷの幅方法及び長手方向に一定ピッチで規則的に配列された微細凹凸パターンを転写形成する場合や、図９に示すように、円錐状の凸部が基材シートＷの幅方法及び長手方向に一定ピッチで規則的に配列された微細凹凸パターンを転写形成する場合にも同様に本発明を適用することができる。すなわち、本発明は、凸部が基材シートＷの幅方法及び長手方向に一定ピッチで規則的に配列された微細凹凸パターンを転写形成する場合すべてに適用することができる。この場合、パターンローラ３０の表面には、基材シートＷに転写形成する凸部を反転した形状の凹部が、幅方向及び周方向に一定ピッチで形成される。
Further, in the present embodiment, the description has been given by taking as an example the case where the convex and concave portions of the quadrangular pyramid are transferred and formed by the width method of the base sheet W and the fine concavo-convex pattern regularly arranged at a constant pitch in the longitudinal direction. The fine concavo-convex pattern to be transferred and formed is not limited to this. For example, as shown in FIG. 8, when a concavo-convex convex portion having a ridge line at the top is transferred and formed with a fine uneven pattern in which the base sheet W is regularly arranged at a constant pitch in the width direction and the longitudinal direction, As shown in FIG. 9, the present invention is similarly applied to a case where a conical convex portion is transferred and formed by a width method of the base sheet W and a fine uneven pattern regularly arranged at a constant pitch in the longitudinal direction. can do. That is, the present invention can be applied to all cases where the convex and concave portions are transferred and formed by the width method of the base sheet W and the fine concavo-convex pattern regularly arranged at a constant pitch in the longitudinal direction. In this case, concave portions having a shape obtained by inverting the convex portions to be transferred and formed on the base sheet W are formed on the surface of the
また、本実施の形態では、基材シートＷの表面に塗布する樹脂として、紫外線硬化樹脂を用いているが、本発明で使用可能な樹脂は、放射線を照射して硬化する樹脂であれば、これに限定されるものではない。 Further, in the present embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the resin applied to the surface of the base sheet W, but the resin that can be used in the present invention is a resin that is cured by irradiation with radiation. It is not limited to this.
以上、本発明に係る微細構造シート製造装置の一実施形態ついて説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様を採り得る。たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のパターンローラ３０を使用して、基材シートＷの表面に微細凹凸パターンを転写する態様について説明したが、エンドレスベルト等の表面に微細凹凸パターンが形成されたものを使用して、基材シートＷの表面に微細凹凸パターンを転写する態様とすることもできる。このようなベルトであっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
As mentioned above, although one Embodiment of the microstructure sheet manufacturing apparatus concerning this invention was described, this invention is not limited to the example of the said embodiment, Various aspects can be taken. For example, in the example of the present embodiment, the mode in which the fine uneven pattern is transferred to the surface of the base sheet W using the roller-shaped
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
図１に示した微細構造シート製造装置１０を使用して、ニップ点における紫外線硬化樹脂Ｒの粘度及びパターンローラに対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角を変えて微細構造シートの製造を行った。
The microstructure
ここで、ニップローラには、図５に示すように、四角錐状の凹部が幅方向及び周方向に規則的に配列されたものを使用し、図３及び図４に示すように、四角錐状の凸部（縦横比１．０、頂角９０°、高さ２５μｍ、幅５０μｍ）が幅方向及び長手方向に規則的に配列された微細構造シートを製造した。 Here, as the nip roller, as shown in FIG. 5, a rectangular pyramid-shaped concave portion is regularly arranged in the width direction and the circumferential direction. As shown in FIG. 3 and FIG. In this way, a microstructure sheet in which convex portions (aspect ratio: 1.0, apex angle: 90 °, height: 25 μm, width: 50 μm) are regularly arranged in the width direction and the longitudinal direction was manufactured.
また、紫外線硬化樹脂Ｒの粘度及びパターンローラに対する紫外線硬化樹脂Ｒの接触角を変える方法として、図１０の表に示すように、(1)パターンローラの温度、(2)基材シートの表面に吹き付ける熱風の吸気量、(3)パターンローラへの親水化処理の有無、(4)活性化用の紫外線照射の有無の各種条件を変えることにより行った。 Further, as a method of changing the viscosity of the ultraviolet curable resin R and the contact angle of the ultraviolet curable resin R with respect to the pattern roller, as shown in the table of FIG. 10, (1) the temperature of the pattern roller, and (2) the surface of the substrate sheet It was performed by changing various conditions such as the amount of hot air to be blown, (3) presence / absence of hydrophilic treatment on the pattern roller, and (4) presence / absence of ultraviolet irradiation for activation.
なお、基材シートには、幅４００ｍｍ、厚さ１８０μｍのＰＥＴフィルムを使用し、５ｍ／ｍｉｎの搬送速度（ライン速度）で搬送して、連続的に微細構造シートを製造した。また、硬化用の紫外線の照射量は、１０００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、パターンローラには、外径３５０ｍｍ、幅４００ｍｍのパターンローラを使用し、ニップローラには、外径８０ｍｍ、幅４００ｍｍのニップローラを使用した。 Note that a PET film having a width of 400 mm and a thickness of 180 μm was used as the base sheet, and the substrate sheet was conveyed at a conveyance speed (line speed) of 5 m / min to continuously produce a microstructure sheet. Moreover, the irradiation amount of the ultraviolet rays for curing was set to 1000 mJ / cm 2 . A pattern roller having an outer diameter of 350 mm and a width of 400 mm was used as the pattern roller, and a nip roller having an outer diameter of 80 mm and a width of 400 mm was used as the nip roller.
以上のような条件で製造した各微細構造シートの面状を検査した。検査結果を図１１の表に示す。 The surface shape of each microstructured sheet manufactured under the above conditions was inspected. The inspection results are shown in the table of FIG.
この表から明らかなように、ニップ点における放射線硬化樹脂の粘度が、１００mPa・s以下、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角が、４０°以下の条件においては、欠陥を生じることなく微細構造シートを製造することができることが確認できた（ニップ点における放射線硬化樹脂の粘度が１００mPa・s、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角が４０°の条件では、一部に頂点の欠損が確認されたが、製品としては問題のないレベルである。）。 As is apparent from this table, the microstructure sheet is free from defects when the viscosity of the radiation curable resin at the nip point is 100 mPa · s or less and the contact angle of the radiation curable resin to the pattern roller is 40 ° or less. It was confirmed that the defect of the apex was partially observed under the conditions that the viscosity of the radiation curable resin at the nip point was 100 mPa · s and the contact angle of the radiation curable resin to the pattern roller was 40 °. However, it is a level with no problem as a product.)
上記と同じ製造条件で図８に示すような寄棟状の凸部（縦横比１．５、頂角９０°、高さ２５μｍ、幅５０μｍ）が幅方向及び長手方向に規則的に配列された微細構造シートを製造し、その面状を検査した。検査結果を図１２の表に示す。
In the same manufacturing conditions as above, the ridge-shaped convex portions (aspect ratio 1.5, apex angle 90 °,
この表から明らかなように、寄棟状の微細凹凸パターンを形成する場合においても、ニップ点における放射線硬化樹脂の粘度を１００mPa・s以下、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角を４０°以下とすることにより、欠陥を生じることなく微細構造シートを製造することができることが確認できる（ニップ点における放射線硬化樹脂の粘度が１００mPa・s、パターンローラに対する放射線硬化樹脂の接触角が４０°の条件では、一部に頂点の欠損が確認されたが、製品としては問題のないレベルである。）。 As is apparent from this table, even when forming a ridge-like fine uneven pattern, the viscosity of the radiation curable resin at the nip point is 100 mPa · s or less, and the contact angle of the radiation curable resin to the pattern roller is 40 ° or less. It can be confirmed that the microstructure sheet can be manufactured without causing defects (under the condition that the viscosity of the radiation curable resin at the nip point is 100 mPa · s and the contact angle of the radiation curable resin with respect to the pattern roller is 40 °). , Some missing vertices were confirmed, but the level is not a problem for the product.)
また、このことから形成する微細凹凸パターンの形状に関わらず本発明を適用することが確認できた。 Further, it was confirmed that the present invention was applied regardless of the shape of the fine uneven pattern formed.
１０…微細構造シート製造装置、１２…供給部、１４…塗布部、１６…乾燥部、１８…転写部、２０…欠陥検査部、２２…保護フィルム供給部、２４…巻取部、３０…パターンローラ、３２…ニップローラ、３４…硬化用紫外線照射装置、３６…剥離ローラ、３８…加熱装置、４０…活性化用紫外線照射装置、Ｗ…基材シート、Ｒ…紫外線硬化樹脂
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記パターンローラの表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成されている場合において、
前記基材シートの表面を前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着させる際、前記基材シートの表面に塗布されている前記放射線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にするとともに、前記パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の接触角を４０°以下にすることを特徴とする微細構造シート製造方法。 A radiation curable resin is applied to the surface of the belt-like flexible substrate sheet, the surface of the substrate sheet is brought into close contact with the pattern roller via a nip roller, and radiation is applied to the substrate sheet in close contact with the pattern roller. After irradiation and curing the radiation curable resin applied to the surface, the substrate sheet cured with the radiation curable resin is peeled off from the pattern roller via a peeling roller, and a fine uneven pattern is formed on the surface. A microstructured sheet manufacturing method for continuously manufacturing a formed microstructured sheet,
In the case where concave portions having a predetermined shape are formed at a constant pitch in the width direction and the circumferential direction on the surface of the pattern roller,
When the surface of the base sheet is brought into close contact with the pattern roller via the nip roller, the viscosity of the radiation curable resin applied to the surface of the base sheet is set to 10 mPa · s or more and 100 mPa · s or less. A method for producing a microstructure sheet, wherein a contact angle of the radiation curable resin with respect to the pattern roller is set to 40 ° or less.
表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成されるとともに、その表面に親水化処理剤が塗布された前記パターンローラと、
前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される基材シートを加熱して、該基材シートの表面に塗布された前記放射線硬化樹脂の粘度を低下させる加熱手段と、
を備えたことを特徴とする微細構造シート製造装置。 A radiation curable resin is applied to the surface of the belt-like flexible substrate sheet, the surface of the substrate sheet is brought into close contact with the pattern roller via a nip roller, and radiation is applied to the substrate sheet in close contact with the pattern roller. Irradiation is performed to cure the radiation curable resin applied to the surface, and the substrate sheet on which the radiation curable resin is cured is peeled off from the pattern roller via a peeling roller to form a fine uneven pattern on the surface. In the microstructure sheet manufacturing apparatus for continuously manufacturing the microstructured sheet,
The pattern roller in which concave portions of a predetermined shape are formed on the surface at a constant pitch in the width direction and the circumferential direction, and the hydrophilic treatment agent is applied to the surface,
Heating means for heating the base sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller to reduce the viscosity of the radiation curable resin applied to the surface of the base sheet;
A fine-structure sheet manufacturing apparatus comprising:
表面に所定形状の凹部が幅方向及び周方向に一定ピッチで形成された前記パターンローラと、
前記パターンローラの表面に放射線を照射して、該パターンローラに対する前記放射線硬化樹脂の濡れ性を向上させる放射線照射手段と、
前記ニップローラを介して前記パターンローラに密着される基材シートを加熱して、該基材シートの表面に塗布された前記放射線硬化樹脂の粘度を低下させる加熱手段と、
を備えたことを特徴とする微細構造シート製造装置。 A radiation curable resin is applied to the surface of the belt-like flexible substrate sheet, the surface of the substrate sheet is brought into close contact with the pattern roller via a nip roller, and radiation is applied to the substrate sheet in close contact with the pattern roller. Irradiation is performed to cure the radiation curable resin applied to the surface, and the substrate sheet on which the radiation curable resin is cured is peeled off from the pattern roller via a peeling roller to form a fine uneven pattern on the surface. In the microstructure sheet manufacturing apparatus for continuously manufacturing the microstructured sheet,
The pattern roller having concave portions of a predetermined shape formed on the surface at a constant pitch in the width direction and the circumferential direction;
Radiation irradiating means for irradiating the surface of the pattern roller with radiation to improve the wettability of the radiation curable resin with respect to the pattern roller;
Heating means for heating the base sheet that is in close contact with the pattern roller via the nip roller to reduce the viscosity of the radiation curable resin applied to the surface of the base sheet;
A fine-structure sheet manufacturing apparatus comprising:
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