JP2008234989A - Organic electroluminescent device and line head - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent device with an organic thin film with high flatness formed, and a line head. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent device 1 is provided with light-emitting elements 200 having an organic function layer 40 formed between an anode 41 and a cathode 54 inside an opening 51 zoned by a barrier-rib structure fitted on a substrate P. The barrier-rib structure 50 is constituted of a first barrier rib 50A made of an organic material and made by surrounding the anode 41, and a second barrier rib 50B made of an insulating inorganic material, fitted in a state covering at least a part of an inner side face of the first barrier rib 50A passing a substrate face from a top end part of the anode 41. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置、及びラインヘッドに関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence device and a line head.

近年、液晶ディスプレイに代わる自発発光型ディスプレイとして、有機物を用いた有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置と称す）の開発が加速している。有機ＥＬ装置の画素として機能する有機ＥＬ素子（発光素子）は、その発光に寄与する層として有機機能材料からなる薄膜を有しており、その膜厚は通常１００ｎｍ以下である。係る有機薄膜の成膜方法としては、低分子の有機機能材料の場合には蒸着が一般的であるが、蒸着法では大面積に均一に成膜するのが困難であるため、有機薄膜の材料として高分子材料を用い、液相法を用いて基体に塗布することで大面積に均一な膜厚の有機薄膜を形成することが検討されている。このような有機薄膜を液相法で形成する方法として、例えば液体材料を微小液滴の形態で基体上に付着させるインクジェット法が用いられる。   In recent years, development of organic electroluminescence devices using organic substances (hereinafter referred to as organic EL devices) is accelerating as spontaneous emission type displays that replace liquid crystal displays. An organic EL element (light emitting element) that functions as a pixel of an organic EL device has a thin film made of an organic functional material as a layer that contributes to light emission, and the film thickness is usually 100 nm or less. As a method for forming such an organic thin film, vapor deposition is generally used in the case of a low molecular organic functional material, but it is difficult to form a film uniformly over a large area by the vapor deposition method. It has been studied to form an organic thin film having a uniform film thickness over a large area by applying a polymer material to the substrate using a liquid phase method. As a method for forming such an organic thin film by a liquid phase method, for example, an ink jet method in which a liquid material is deposited on a substrate in the form of microdroplets is used.

インクジェット法を用いる際に、基板上に無機材料からなる無機隔壁と有機材料からなる有機隔壁とを積層した積層隔壁（隔壁構造）を形成し、親液処理と撥液処理とを順次行うことで、無機隔壁の表面を親液化するとともに有機隔壁上及びその側面部分を撥液化し、選択的に積層隔壁（隔壁構造）に囲まれた画素領域にインクを充填させ、有機薄膜を形成する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−１４０００３号公報 When using the inkjet method, a laminated partition (partition structure) in which an inorganic partition made of an inorganic material and an organic partition made of an organic material are stacked on a substrate is formed, and a lyophilic treatment and a liquid repellent treatment are sequentially performed. In addition, the technology of forming an organic thin film by making the surface of the inorganic partition lyophilic and making the organic partition and its side portions lyophobic and selectively filling the pixel region surrounded by the stacked partition (partition structure) with ink. It is known (see, for example, Patent Document 1).
JP 2006-140003 A

しかしながら、上記従来技術では、画素領域を構成する積層隔壁の内側面が有機隔壁から構成されているため、該有機隔壁が機能液に対して撥液性を示すことで、隔壁構造の内側面に沿って機能液を良好に濡れ拡がらせることができない。すると、機能液は、隔壁構造の内側面から一部浮き上がった状態となる。このような状態で機能液を乾燥させて有機薄膜を形成すると、その平坦性が低下してしまうといった問題があった。   However, in the above prior art, since the inner side surface of the laminated partition wall constituting the pixel region is composed of organic partition walls, the organic partition wall exhibits liquid repellency with respect to the functional liquid. Along with this, the functional fluid cannot be spread well. Then, the functional liquid is partially lifted from the inner surface of the partition wall structure. When the functional liquid is dried in such a state to form an organic thin film, there is a problem that flatness of the organic thin film is lowered.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、平坦性の高い有機薄膜が形成された、有機エレクトロルミネッセンス装置、及びラインヘッドを提供することを目的としている。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the organic electroluminescent apparatus and line head in which the organic thin film with high flatness was formed.

本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板上に設けられた隔壁構造で区画された開口部内に、陽極と陰極との間に有機機能層が設けられてなる発光素子を備える有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記隔壁構造は、有機材料から構成され前記陽極を囲んで設けられる第１隔壁と、絶縁性無機材料から構成され、前記陽極の上端部から前記基板面を通り、前記第１隔壁の内側面の少なくとも一部を覆った状態に設けられる第２隔壁とから構成されることを特徴とする。 The present invention employs the following configuration in order to solve the above problems.
That is, the organic electroluminescence device of the present invention includes an organic electroluminescence device including a light emitting element in which an organic functional layer is provided between an anode and a cathode in an opening section defined by a partition wall structure provided on a substrate. The partition structure is made of an organic material and is provided to surround the anode, and is made of an insulating inorganic material. The partition wall structure passes through the substrate surface from the upper end of the anode and passes through the first partition wall. It is comprised from the 2nd partition provided in the state which covered at least one part of the inner surface of this.

例えば液相法を用いて有機機能層を形成する場合、有機機能層を構成する機能液に対して第２隔壁を親液性とし、第１隔壁を撥液性とする。そこで、本発明を採用すれば、有機機能層の形成時に隔壁構造に囲まれた開口部内に配置された機能液は、隔壁構造の上面に付与された撥液性によって弾かれ開口部内に流れ込むようになる。このとき、開口部（第１隔壁）の内側面は第２隔壁によって覆われているので、機能液に対して親液性が付与されたものとなる。よって、機能液は開口部内に良好に濡れ拡がるので、この機能液を乾燥させることで成膜された有機機能層は平坦性が高いものとなる。したがって、平坦性の高い有機機能層を備えることで、発光ムラなどが良好に防止された、高信頼性の有機ＥＬ装置が実現される。   For example, when the organic functional layer is formed using a liquid phase method, the second partition is made lyophilic and the first partition is made liquid repellent with respect to the functional liquid constituting the organic functional layer. Therefore, if the present invention is adopted, the functional liquid disposed in the opening surrounded by the partition wall structure when the organic functional layer is formed is repelled by the liquid repellency provided on the upper surface of the partition wall structure and flows into the opening. become. At this time, since the inner surface of the opening (first partition) is covered with the second partition, lyophilicity is imparted to the functional liquid. Therefore, since the functional liquid spreads well in the opening, the organic functional layer formed by drying the functional liquid has high flatness. Therefore, by providing the organic functional layer with high flatness, a highly reliable organic EL device in which unevenness in light emission and the like is prevented well is realized.

また、上記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記有機機能層は液相法を用いて形成されたものであり、前記有機機能層の形成時に、前記第１隔壁の表面は前記有機機能層を構成する機能液に対して撥液性を示し、前記第２隔壁の表面は前記機能液に対して親液性を示すのが好ましい。
このようにすれば、液相法を用いることで、第１隔壁に囲まれる領域に平坦性の高い有機機能層を簡便かつ確実に形成できる。
また、前記有機機能層は、スピンコート法を用いて高分子有機材料を塗布した後、乾燥させることで構成してもよい。
このようにすれば、有機機能層を構成する高分子有機材料を第１隔壁内に簡便且つ均一に塗布することができるので、該高分子有機材料から構成される有機機能膜は平坦性の高く、低コストなものとなる。
あるいは、前記有機機能層は、液滴吐出法を用いて高分子有機材料を含む機能液を吐出した後、乾燥させることで構成してもよい。
このようにすれば、液滴吐出法（インクジェット法）によって選択的に機能液を塗布できるので、材料の無駄等を無くすことができるので、平坦性の高い有機機能膜を低コストで提供できる。 Moreover, in the said organic electroluminescent apparatus, the said organic functional layer is formed using the liquid phase method, The surface of the said 1st partition comprises the said organic functional layer at the time of formation of the said organic functional layer. It is preferable that liquid repellency is exhibited with respect to the functional liquid, and the surface of the second partition wall is lyophilic with respect to the functional liquid.
In this way, by using the liquid phase method, an organic functional layer having high flatness can be easily and reliably formed in a region surrounded by the first partition.
Further, the organic functional layer may be configured by applying a polymer organic material using a spin coating method and then drying.
In this way, since the high molecular organic material constituting the organic functional layer can be easily and uniformly applied in the first partition, the organic functional film made of the high molecular organic material has high flatness. It will be low cost.
Alternatively, the organic functional layer may be configured by discharging a functional liquid containing a polymer organic material using a droplet discharge method and then drying the functional liquid.
In this case, since the functional liquid can be selectively applied by a droplet discharge method (inkjet method), waste of materials and the like can be eliminated, and thus a highly flat organic functional film can be provided at low cost.

また、上記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記第１隔壁が前記陽極を複数囲んで形成されるのが好ましい。
このようにすれば、陽極毎に第１隔壁を形成する必要が無いので、製造工程を簡略化することができ、複数の発光部を備えるラインヘッドに好適に採用することができる。 In the organic electroluminescence device, it is preferable that the first partition wall is formed so as to surround the anode.
In this way, since it is not necessary to form the first partition for each anode, the manufacturing process can be simplified, and it can be suitably employed for a line head including a plurality of light emitting units.

また、上記有機エレクトロルミネッセンス装置においては、前記第１隔壁の内側面が、断面視した状態でテーパー形状をなすのが好ましい。
このようにすれば、前記第１隔壁の内側面がテーパー形状をなすため、該第１隔壁の内側面を覆う第２隔壁は陽極の上面に対してテーパー状となる。よって、第１隔壁内に配置された機能液はテーパー面に沿って良好に濡れ広がり、結果的に有機機能層の平坦性を向上させることができる。 Moreover, in the said organic electroluminescent apparatus, it is preferable that the inner surface of the said 1st partition forms a taper shape in the state seen in cross section.
In this case, since the inner surface of the first partition wall is tapered, the second partition wall covering the inner surface of the first partition wall is tapered with respect to the upper surface of the anode. Therefore, the functional liquid disposed in the first partition wall spreads well along the tapered surface, and as a result, the flatness of the organic functional layer can be improved.

本発明のラインヘッドは、上記の有機エレクトロルミネッセンス装置から構成されることを特徴とする。   The line head of the present invention is characterized by comprising the above-mentioned organic electroluminescence device.

本発明のラインヘッドによれば、発光ムラが少ないので、例えば感光体として用いられる感光体ドラムを良好に感光させることができ、信頼性の高いものとなる。   According to the line head of the present invention, since there is little light emission unevenness, for example, a photosensitive drum used as a photosensitive member can be satisfactorily exposed, and the reliability becomes high.

（有機エレクトロルミネッセンス装置）
以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置と称す）実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
図１は本実施形態の有機ＥＬ装置の回路構成図、図２は、同有機ＥＬ装置に備えられた各画素の平面構造を示す図であって陰極や有機機能層を取り除いた状態を示す図である。また図３は、図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。本実施形態の有機ＥＬ装置は、例えば後述するような画像形成装置におけるラインヘッド、或いは電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。 (Organic electroluminescence device)
Hereinafter, an organic electroluminescence device (hereinafter referred to as an organic EL device) according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of an organic EL device according to the present embodiment, and FIG. 2 is a diagram illustrating a planar structure of each pixel provided in the organic EL device, in which a cathode and an organic functional layer are removed. It is. FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional configuration along the line AA of FIG. The organic EL device of the present embodiment can be suitably used as a display unit for a line head or an electronic device in an image forming apparatus as will be described later, for example.

図１に示すように、有機ＥＬ装置１は、透明の基板上に、複数の走査線３１と、これら走査線３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線３２と、これら信号線３２に並列に延びる複数の共通給電線３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線３１及び信号線３２の各交点に画素領域７１が設けられて構成されたものである。   As shown in FIG. 1, the organic EL device 1 includes a plurality of scanning lines 31, a plurality of signal lines 32 extending in a direction intersecting with the scanning lines 31, and the signal lines 32 on a transparent substrate. A plurality of common power supply lines 33 extending in parallel are respectively wired, and each pixel node 71 is provided at each intersection of the scanning lines 31 and the signal lines 32.

信号線３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素領域７１の各々には、走査線３１を介して走査信号（電力）がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４２と、このスイッチング用ＴＦＴ４２を介して信号線３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ４３と、この駆動用ＴＦＴ４３を介して共通給電線３３に電気的に接続したときに共通給電線３３から駆動電流が流れ込む画素電極（陽極）１４１と、この画素電極４１と陰極５４との間に挟み込まれる有機層（有機機能層）４０と、が設けられている。そして、前記画素電極４１と陰極５４と、有機層４０とによって構成される素子が有機ＥＬ発光素子（発光素子）である。   For the signal line 32, a data side driving circuit 72 including a shift register, a level shifter, a video line, an analog switch, and the like is provided. On the other hand, a scanning side driving circuit 73 including a shift register, a level shifter, and the like is provided for the scanning line 31. Each pixel region 71 is supplied with a switching TFT (thin film transistor) 42 to which a scanning signal (power) is supplied to the gate electrode via the scanning line 31 and from the signal line 32 via the switching TFT 42. A storage capacitor cap that holds the image signal, a drive TFT 43 to which the image signal held by the storage capacitor cap is supplied to the gate electrode, and the common power supply line 33 via the drive TFT 43 A pixel electrode (anode) 141 into which a drive current flows from the common power supply line 33 and an organic layer (organic functional layer) 40 sandwiched between the pixel electrode 41 and the cathode 54 are provided. An element composed of the pixel electrode 41, the cathode 54, and the organic layer 40 is an organic EL light emitting element (light emitting element).

このような構成のもとに、走査線３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ４２がオンとなると、そのときの信号線３２の電位（電力）が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ４３のチャネルを介して共通給電線３３から画素電極４１に電流（電力）が流れ、さらに有機層４０を通じて陰極５４に電流が流れることにより、有機層４０は、これを流れる電流量に応じて発光する。   Under such a configuration, when the scanning line 31 is driven and the switching TFT 42 is turned on, the potential (power) of the signal line 32 at that time is held in the holding capacitor cap, and the state of the holding capacitor cap is reached. Accordingly, the on / off state of the driving TFT 43 is determined. Then, current (power) flows from the common power supply line 33 to the pixel electrode 41 through the channel of the driving TFT 43 and further flows to the cathode 54 through the organic layer 40, so that the organic layer 40 has an amount of current flowing therethrough. Emits light in response to.

次に、図２に示す画素７１の平面構造をみると、画素７１は、平面視略矩形状の画素電極４１の四辺が、信号線３２、共通給電線３３、走査線３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。   Next, looking at the planar structure of the pixel 71 shown in FIG. 2, the pixel 71 has four sides of the pixel electrode 41 having a substantially rectangular shape in plan view. The arrangement is surrounded by scanning lines for pixel electrodes.

（断面構造）
また図３に示す画素７１の断面構造をみると、基板（基体）Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介し、基板Ｐ上に有機ＥＬ発光素子２００が形成されている。有機ＥＬ発光素子２００は、基板Ｐ上に立設されたバンク（隔壁部材）５０に囲まれた開口部５１内に設けられており、画素電極４１と陰極５４との間に有機層４０が挟持された構成となっている。 (Cross-section structure)
Further, in the cross-sectional structure of the pixel 71 shown in FIG. 3, the driving TFT 43 is provided on the substrate (base) P, and the substrate P is disposed on the substrate P through a plurality of insulating films formed to cover the driving TFT 43. An organic EL light emitting device 200 is formed on the substrate. The organic EL light emitting device 200 is provided in an opening 51 surrounded by a bank (partition wall member) 50 erected on the substrate P, and the organic layer 40 is sandwiched between the pixel electrode 41 and the cathode 54. It has been configured.

前記基板Ｐとしては、本実施形態のようなトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、有機ＥＬ発光素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化等の絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）等が挙げられる。
画素電極４１は、金属材料等の適宜な導電材料によって形成でき、例えばＣｒ膜、Ａｕ膜、Ｔｉ／ＩＴＯの積層膜等を好適に用いることができる。 In the case of the top emission type organic EL device as in the present embodiment, the substrate P is configured to extract light from the side on which the organic EL light emitting element 200 is disposed. In addition to a transparent substrate such as glass, An opaque substrate can also be used. Examples of opaque substrates include ceramics such as alumina, metal sheets such as stainless steel that have been subjected to insulation treatment such as surface oxidation, thermosetting resins and thermoplastic resins, and films thereof (plastic films). It is done.
The pixel electrode 41 can be formed of an appropriate conductive material such as a metal material. For example, a Cr film, an Au film, a Ti / ITO laminated film, or the like can be suitably used.

前記陰極５４は、前記バンク構造５０の上面、さらにはバンク構造５０の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板Ｐ上に形成される。この陰極５４を形成するための材料としては透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。また、透明導電膜からなる陰極５４と発光層４０Ｂとの間に、バソクプロイン（ＢＣＰ）とＣｓの共蒸着膜等からなる電子注入層を設けてもよい。
なお、本発明に係る有機ＥＬ装置は、トップエミッション型に限定されず、ボトムエミッション型についても適用可能である。この場合には、前記画素電極４１はＩＴＯ膜等の透明導電膜により形成され、前記陰極５４としてＡｌ等の反射性を有する金属膜が用いられる。なお、陰極５４と発光層４０Ｂとの間に、Ｃａ，Ｂａ等からなる電子注入層を設けてもよい。 The cathode 54 is formed on the substrate P in a state of covering the upper surface of the bank structure 50 and the wall surface forming the side surface portion of the bank structure 50. A transparent conductive material is used as a material for forming the cathode 54. ITO is suitable as the transparent conductive material, but other translucent conductive materials may be used. Further, an electron injection layer made of a co-deposited film of bathocuproine (BCP) and Cs may be provided between the cathode 54 made of a transparent conductive film and the light emitting layer 40B.
The organic EL device according to the present invention is not limited to the top emission type, and can be applied to a bottom emission type. In this case, the pixel electrode 41 is formed of a transparent conductive film such as an ITO film, and a reflective metal film such as Al is used as the cathode 54. An electron injection layer made of Ca, Ba or the like may be provided between the cathode 54 and the light emitting layer 40B.

駆動用ＴＦＴ４３は、半導体層２１に形成されたソース領域４３、ドレイン領域４３ｂ、及びチャネル領域４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２を介してチャネル領域４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体層２１及びゲート絶縁膜２２を覆う第１層間絶縁膜２３が形成されており、この第１層間絶縁膜２３を貫通して半導体層２１に達するコンタクトホール３４，３５内に、それぞれドレイン電極３６、ソース電極３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域４３ｂ、ソース領域４３に導電接続されている。第１層間絶縁膜２３の上層には、第２層間絶縁膜２４が形成されており、この第２層間絶縁膜２４に貫設されたコンタクトホールに画素電極４１の一部が埋設されている。そして画素電極４１とドレイン電極３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ４３と画素電極４１（有機ＥＬ発光素子２００）とが電気的に接続されている。   The driving TFT 43 includes a source region 43, a drain region 43b, and a channel region 43c formed in the semiconductor layer 21, and a gate electrode 143A facing the channel region 43c via the gate insulating film 22 formed on the surface of the semiconductor layer. Is the main constituent. A first interlayer insulating film 23 covering the semiconductor layer 21 and the gate insulating film 22 is formed, and drain electrodes 36 are respectively formed in contact holes 34 and 35 that penetrate the first interlayer insulating film 23 and reach the semiconductor layer 21. The source electrode 38 is buried, and each electrode is conductively connected to the drain region 43 b and the source region 43. A second interlayer insulating film 24 is formed on the first interlayer insulating film 23, and a part of the pixel electrode 41 is buried in a contact hole penetrating the second interlayer insulating film 24. The pixel electrode 41 and the drain electrode 36 are conductively connected, so that the driving TFT 43 and the pixel electrode 41 (organic EL light emitting element 200) are electrically connected.

前記バンク構造は、アクリル等の有機材料からなる有機バンク５０Ａ（第１隔壁）と、ＳｉＯ_２、ＳｉＮ等の絶縁性無機材料（本実施形態では、ＳｉＯ_２を用いた）からなる無機バンク（第２隔壁）５０Ｂとから構成される。具体的には、有機バンク５０Ａが前記画素電極４１を囲むように前記第２層間絶縁膜２４上に形成されている。そして、無機バンク（第２隔壁）５０Ｂが、前記画素電極４１の周辺部に一部乗り上げ、前記画素電極４１の一部（上面）を露出させた状態に形成されている。すなわち、前記有機バンク５０Ａの内側面（開口部５１の内側面）は、無機バンク５０Ｂによって覆われた構成となっている。 The bank structure includes an organic bank 50A (first partition) made of an organic material such as acrylic and an inorganic bank (first SiO ₂ used in the present embodiment) made of an insulating inorganic material such as SiO ₂ or SiN. 2 partition walls) 50B. Specifically, the organic bank 50 </ b> A is formed on the second interlayer insulating film 24 so as to surround the pixel electrode 41. An inorganic bank (second partition) 50B is formed in a state where a part of the inorganic bank (second partition wall) 50B runs on the periphery of the pixel electrode 41 and a part (upper surface) of the pixel electrode 41 is exposed. That is, the inner side surface of the organic bank 50A (the inner side surface of the opening 51) is covered with the inorganic bank 50B.

また、前記有機バンク５０Ａの内側面は、断面視した状態でテーパー形状をなす傾斜面となっている。前記バンク構造５０の底面部には、画素電極４１が露出し、このバンク構造５０により区画されることで形成された開口部５１内に有機層４０が配置されている。   In addition, the inner side surface of the organic bank 50A is an inclined surface having a tapered shape in a sectional view. The pixel electrode 41 is exposed on the bottom surface of the bank structure 50, and the organic layer 40 is disposed in the opening 51 formed by being partitioned by the bank structure 50.

図４は、前記バンク構造５０の概略構成を示す平面図である。なお、図４中では、バンク構造５０を構成する有機バンク５０Ａ、及び無機バンク５０Ｂ以外の構成の図示を省略している。図４に示すように、前記バンク構造５０によって構成される前記開口部５１は、平面視略円形状となっている。すなわち、前記有機バンク５０Ａに区画される領域は円形をなし、この有機バンク５０Ａ内に形成される無機バンク５０Ｂには、前記有機バンク５０Ａと同心状の開口部が形成されており、この開口部内に画素電極４１が臨まれている。このように無機バンク５０Ｂから露出した画素電極４１の面積が発光領域に対応している。
本実施形態に係る有機ＥＬ装置１は、上述したような円形状の発光領域を複数備えており、後述するようなラインヘッドとして好適に採用される。 FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of the bank structure 50. In FIG. 4, illustrations of components other than the organic bank 50A and the inorganic bank 50B constituting the bank structure 50 are omitted. As shown in FIG. 4, the opening 51 constituted by the bank structure 50 has a substantially circular shape in plan view. That is, the region partitioned by the organic bank 50A is circular, and the inorganic bank 50B formed in the organic bank 50A has an opening concentric with the organic bank 50A. The pixel electrode 41 is faced. Thus, the area of the pixel electrode 41 exposed from the inorganic bank 50B corresponds to the light emitting region.
The organic EL device 1 according to the present embodiment includes a plurality of circular light emitting regions as described above, and is suitably employed as a line head as described later.

上記有機層４０はインクジェット法（液相法）により形成されたものである。詳細については後述するが、前記バンク構造５０の開口部５１内に有機層４０を構成する機能液が吐出されると、前記バンク構造５０の内側面に沿って前記機能液が良好に塗れ拡がる。そのため、前記有機層４０は非常に平坦性が高いものとなる。   The organic layer 40 is formed by an ink jet method (liquid phase method). As will be described in detail later, when the functional liquid constituting the organic layer 40 is discharged into the opening 51 of the bank structure 50, the functional liquid spreads well along the inner surface of the bank structure 50. Therefore, the organic layer 40 has very high flatness.

前記有機層４０は、正孔注入層４０Ａと、発光層４０Ｂとを積層した構成の有機機能層である。正孔注入層４０Ａは、発光層４０Ｂへの電荷輸送性を高め、発光効率を高めることを目的として設けられる層であり、その形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体等、またはそれらのドーピング体等が用いられる。具体的には、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液等が用いられる。この分散液に用いる溶媒には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブチルアルコール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のグリコール類等の極性溶媒を挙げることができる。   The organic layer 40 is an organic functional layer having a structure in which a hole injection layer 40A and a light emitting layer 40B are stacked. The hole injection layer 40A is a layer provided for the purpose of improving the charge transport property to the light emitting layer 40B and enhancing the light emission efficiency. As a material for forming the hole injection layer 40A, for example, a polythiophene derivative, a polypyrrole derivative or the like, or a doping thereof The body is used. Specifically, a dispersion of 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like is used. Examples of the solvent used in this dispersion include isopropyl alcohol (IPA), n-butyl alcohol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and derivatives thereof. And polar solvents such as glycols such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate.

前記発光層４０Ｂの形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。発光層４０Ｂの形成に際しては、上記に挙げた形成材料を溶媒に溶解して調製した液体材料を、正孔注入層４０Ａ上に配し、溶媒を蒸発させて機能層を得る方法が適用される。前記溶媒としては、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の非極性溶媒を例示できる。   As a material for forming the light emitting layer 40B, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence can be used. In forming the light emitting layer 40B, a method is applied in which a liquid material prepared by dissolving the above-described forming materials in a solvent is disposed on the hole injection layer 40A and the solvent is evaporated to obtain a functional layer. . Examples of the solvent include nonpolar solvents such as cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, and tetramethylbenzene.

発光層４０Ｂの形成材料の具体例としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等を好適なものとして挙げることができる。
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
尚、上述した高分子材料に代えて、従来公知の低分子材料を用いることもできる。また、必要に応じて発光層４０Ｂ上に、フッ化リチウムとカルシウムの積層膜等の電子注入層を設けてもよい。 Specific examples of the material for forming the light emitting layer 40B include (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), and polyvinylcarbazole (PVK). ), Polythiophene derivatives, polymethylphenylsilane (PMPS), and the like.
Further, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, nile red, coumarin 6, quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.
In addition, it replaces with the polymeric material mentioned above, a conventionally well-known low molecular material can also be used. Moreover, you may provide electron injection layers, such as a laminated film of lithium fluoride and calcium, on the light emitting layer 40B as needed.

ところで、陰極５４の上層側には、保護層を形成してもよい。係る保護層を設けることで、製造プロセス時に陰極５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。陰極５４を無機化合物からなる保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる陰極５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、保護層は、基板Ｐの外周部の絶縁層上まで、１０ｎｍから３００ｎｍ程度の厚みに形成される。   Incidentally, a protective layer may be formed on the upper layer side of the cathode 54. By providing such a protective layer, the effect of preventing the cathode 54 from being corroded during the manufacturing process can be obtained, and it can be formed of an inorganic compound, for example, a silicon compound such as silicon oxide, silicon nitride, or silicon nitride oxide. . By covering the cathode 54 with a protective layer made of an inorganic compound, entry of oxygen or the like into the cathode 54 made of an inorganic oxide can be satisfactorily prevented. The protective layer is formed to a thickness of about 10 nm to 300 nm up to the insulating layer on the outer peripheral portion of the substrate P.

ここで、前記有機ＥＬ装置１の製造方法を説明し、この有機ＥＬ装置１が平坦性の高い有機層４０を備える理由を述べる。   Here, a method for manufacturing the organic EL device 1 will be described, and the reason why the organic EL device 1 includes the organic layer 40 having high flatness will be described.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、上記有機ＥＬ装置１の製造方法について図５、図６を参照して説明する。本実施形態では、トップエミッション型の有機ＥＬ装置を製造する場合について説明する。 (Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a case of manufacturing a top emission type organic EL device will be described.

まず、図５（ａ）に示すように、ガラス基板等の基板Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ４３、第１層間絶縁膜２３、第２層間絶縁膜２４を順に形成し、該第２層間絶縁膜２４に形成したコンタクトホールを介して、前記駆動用ＴＦＴ４３に対して電気的に接続された画素電極４１を形成した後、画素電極４１を囲むようにしてアクリルからなる有機バンク５０Ａを形成する。具体的には、有機材料を塗布し、該有機材料を乾燥（仮乾燥）する。続いて、有機材料に対してパターニングを行うことで有機バンク５０Ａを形成する。なお、前記有機材料の塗布方法として、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等の各種方法を適用することが可能である。
また、有機材料には、それぞれ感光性材料からなるものが用いられ、後述するインクジェット工程により吐出される液体材料に対し親液性を備えたものを採用し、例えばアクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料を用いている。 First, as shown in FIG. 5A, a driving TFT 43, a first interlayer insulating film 23, and a second interlayer insulating film 24 are sequentially formed on a substrate P such as a glass substrate, and the second interlayer insulating film 24 is formed. After the pixel electrode 41 electrically connected to the driving TFT 43 is formed through the contact hole formed in, an organic bank 50A made of acrylic is formed so as to surround the pixel electrode 41. Specifically, an organic material is applied and the organic material is dried (temporary drying). Subsequently, the organic bank 50A is formed by patterning the organic material. Various methods such as spray coating, roll coating, die coating, and dip coating can be applied as the method for applying the organic material.
In addition, organic materials that are each made of a photosensitive material are used, and those that are lyophilic with respect to the liquid material discharged by the inkjet process described later are used, for example, organic insulating materials such as acrylic and polyimide Is used.

そして、この有機バンク５０Ａによって形成された開口部の内面に、例えばＣＶＤ法によって無機材料としてＳｉＯ_２を成膜する。そして、この無機材料のうち、前記画素電極４１を覆っている部分を、例えばフォトリソグラフ法により選択的に除去し、前記画素電極４１の上面を露出させる。この工程により、図５（ａ）に示すように、前記有機バンク５０Ａの内側面を覆う無機バンク５０Ｂが形成される。以上の工程により、有機バンク５０Ａ及び無機バンク５０Ｂからなるバンク構造５０を前記第２層間絶縁膜２４上に形成できる。このバンク構造５０には、後工程において有機層４０を形成するための開口部５１が形成されている。 Then, SiO ₂ is formed as an inorganic material on the inner surface of the opening formed by the organic bank 50A, for example, by a CVD method. And the part which covers the said pixel electrode 41 among this inorganic material is selectively removed, for example with the photolithographic method, and the upper surface of the said pixel electrode 41 is exposed. By this step, as shown in FIG. 5A, an inorganic bank 50B that covers the inner surface of the organic bank 50A is formed. Through the above steps, the bank structure 50 including the organic bank 50A and the inorganic bank 50B can be formed on the second interlayer insulating film 24. The bank structure 50 has an opening 51 for forming the organic layer 40 in a later step.

次に、図５（ｂ）に示すように、基板Ｐ上のバンク構造５０に対し、親液処理としての酸素プラズマ処理を行う。具体的に本実施形態では、プラズマパワー３００Ｋｗ、酸素ガス流量５０〜１００ｃｃ／ｍｉｎ、基板搬送速度１０ｍｍ／ｓｅｃの条件で行う。続けて、前記バンク構造５０の表面に撥液処理を施す。係る撥液処理として、例えばバンク構造５０の表面をフッ素系化合物等で表面処理するといった方法を採用できる。フッ素化合物としては、例えばＣＦ_４、ＳＦ_６、Ｃ_３Ｆ_８、Ｃ_２Ｆ_６等があり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理等が挙げられる。具体的に本実施形態では、プラズマパワー５５０Ｋｗ、ＣＦ_４ガス流量５０〜１００ＳＣＣＭ、基板搬送速度２０ｍｍ／ｓｅｃの条件で行う。このとき、上記親液処理により、前記バンク構造５０のうち、前記無機バンク５０Ｂの表面（同図中、破線で示す）は親液性を有するようになる。また、撥液処理により、前記バンク構造５０のうち、前記有機バンク５０Ａの表面は撥液性を有するようになる。撥液処理時に、ＩＴＯ膜からなる画素電極４１や、無機バンク５０Ｂの表面は有機バンク５０Ａの表面よりも撥液化されにくいことから有機バンク５０Ａの表面（同図中、２点鎖線で示す）のみが選択的に撥液化される。すなわち、本実施形態では、図５（ｂ）に示されるように、有機バンク５０Ａのみで構成されるバンク構造５０の上面が撥液化され、無機バンク５０Ｂで覆われるバンク構造５０の内壁面は撥液化される。このように、バンク構造５０に囲まれる領域内に液体材料に対する親和性の異なる領域が形成される。 Next, as shown in FIG. 5B, an oxygen plasma process as a lyophilic process is performed on the bank structure 50 on the substrate P. Specifically, in this embodiment, the plasma power is 300 Kw, the oxygen gas flow rate is 50 to 100 cc / min, and the substrate transfer speed is 10 mm / sec. Subsequently, a liquid repellent treatment is performed on the surface of the bank structure 50. As such liquid repellent treatment, for example, a method of treating the surface of the bank structure 50 with a fluorine compound or the like can be employed. Examples of the fluorine compound include CF ₄ , SF ₆ , C ₃ F ₈ , and C ₂ F _6. Examples of the surface treatment include plasma treatment and UV irradiation treatment. Specifically, in this embodiment, the plasma power is 550 Kw, the CF ₄ gas flow rate is 50 to 100 SCCM, and the substrate transport speed is 20 mm / sec. At this time, the surface of the inorganic bank 50B (shown by a broken line in the figure) of the bank structure 50 has lyophilicity by the lyophilic treatment. Further, the surface of the organic bank 50A in the bank structure 50 has liquid repellency by the liquid repellency treatment. Only the surface of the organic bank 50A (indicated by a two-dot chain line in the figure) since the surface of the pixel electrode 41 made of an ITO film or the surface of the inorganic bank 50B is less liable to be liquid repellent than the surface of the organic bank 50A during the liquid repellent treatment. Is selectively lyophobic. That is, in the present embodiment, as shown in FIG. 5B, the upper surface of the bank structure 50 composed only of the organic bank 50A is lyophobic and the inner wall surface of the bank structure 50 covered with the inorganic bank 50B is repellent. Liquefied. In this way, regions having different affinity for the liquid material are formed in the region surrounded by the bank structure 50.

次に、機能液として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を用意し、例えばインクジェット法等の液相法を用い、図６（ｃ）に示すようにインクジェットヘッドＨから前記バンク構造５０の開口部５１に機能液Ｓを滴下する。このとき、前記バンク構造５０の上面を構成する有機バンク５０Ａは機能液に対して撥液性を有したものとなっている。そのため、有機バンク５０Ａの上面に前記機能液が滴下された場合に、機能液Ｓは撥液処理によって弾かれる。一方、前記バンク構造５０の内側面側には、前記機能液Ｓに対して親液性を示す、無機バンク５０Ｂおよび画素電極４１が設けられている。そのため、バンク構造５０の上面で弾かれ、開口部５１内に流れ込んだ機能液Ｓは内側面に沿って良好に濡れ拡がる。具体的には、液溜りＳ１（機能液Ｓ）は、親液性を示す無機バンク５０Ｂと撥液性を示す有機バンク５０Ａとの界面部分まで濡れ拡がり、バンク構造５０の上面に対して突出した状態となる。   Next, as a functional liquid, a dispersion of 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is prepared, for example, using a liquid phase method such as an inkjet method, as shown in FIG. The functional liquid S is dropped from the inkjet head H to the opening 51 of the bank structure 50. At this time, the organic bank 50A constituting the upper surface of the bank structure 50 has liquid repellency with respect to the functional liquid. Therefore, when the functional liquid is dropped on the upper surface of the organic bank 50A, the functional liquid S is repelled by the liquid repellent treatment. On the other hand, an inorganic bank 50 </ b> B and a pixel electrode 41 that are lyophilic with respect to the functional liquid S are provided on the inner surface side of the bank structure 50. Therefore, the functional liquid S that is repelled on the upper surface of the bank structure 50 and flows into the opening 51 spreads well along the inner surface. Specifically, the liquid reservoir S1 (functional liquid S) wets and spreads to the interface between the inorganic bank 50B showing lyophilicity and the organic bank 50A showing liquid repellency, and protrudes from the upper surface of the bank structure 50. It becomes a state.

次に、上記機能液Ｓを乾燥する。乾燥方法は、自然乾燥や加温乾燥、減圧乾燥等、公知の方法で行うことが可能である。ここで、機能液Ｓは開口部５１内部（バンク構造５０の内側面）に沿って良好に濡れ拡がっているため、この状態で機能液Ｓを乾燥させることで、図６（ｄ）に示すように画素電極４１上に平坦性の高い正孔注入層４０Ａを形成できる。   Next, the functional liquid S is dried. The drying method can be performed by a known method such as natural drying, warm drying, or reduced pressure drying. Here, since the functional liquid S is well spread along the inside of the opening 51 (inner side surface of the bank structure 50), the functional liquid S is dried in this state as shown in FIG. In addition, the hole injection layer 40A having high flatness can be formed on the pixel electrode 41.

次に、正孔注入層４０Ａ上に発光層４０Ｂを形成する。具体的には、上述の正孔注入層４０Ａと同様に、インクジェット法を用い、バンク構造５０内に発光層４０Ｂを構成する機能液を配置し、乾燥させて形成する。このとき、上述の正孔注入層４０Ａが均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層４０Ｂも膜厚が均一化され、正孔注入層４０Ａと発光層４０Ｂとから構成される有機層４０は全体として均一な膜厚となる（図３参照）。   Next, the light emitting layer 40B is formed on the hole injection layer 40A. Specifically, similarly to the above-described hole injection layer 40A, the functional liquid that constitutes the light emitting layer 40B is disposed in the bank structure 50 by using an ink jet method and is formed by drying. At this time, since the above-described hole injection layer 40A is formed with a uniform film thickness, the light-emitting layer 40B formed thereon is also made uniform, and the hole injection layer 40A and the light-emitting layer 40B are separated from each other. The configured organic layer 40 has a uniform film thickness as a whole (see FIG. 3).

そして、有機層４０上に陰極５４を形成する。具体的には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することができる。特に蒸着法で形成することが、熱による発光層４０Ｂの損傷を防止できる点で好ましい。   Then, a cathode 54 is formed on the organic layer 40. Specifically, it can be formed by vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In particular, the vapor deposition method is preferable in that damage to the light emitting layer 40B due to heat can be prevented.

そして、バンク構造５０を含む基板Ｐ上の領域に保護層を形成し、さらに封止部材を用いて有機ＥＬ素子及び保護層を封止する。この封止工程については、公知の工程を適用することができるので、詳細は省略することとする。なお、封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５４にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５４に侵入して陰極５４が酸化されるおそれがあるので好ましくない。
以上の工程により、図３に示した有機ＥＬ装置１を製造できる。 And a protective layer is formed in the area | region on the board | substrate P containing the bank structure 50, and also an organic EL element and a protective layer are sealed using a sealing member. About this sealing process, since a well-known process can be applied, the details are omitted. Note that the sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium. It is not preferable to perform in the atmosphere because when there is a defect such as a pinhole in the cathode 54, water or oxygen may enter the cathode 54 from the defective portion and the cathode 54 may be oxidized.
Through the above steps, the organic EL device 1 shown in FIG. 3 can be manufactured.

上述した実施形態に係る有機ＥＬ装置１によれば、有機層４０が形成されるバンク構造５０において、その上面を機能液に対して撥液性を示す有機バンク５０Ａから構成し、その内側面が機能液に対して親液性を示す無機バンク５０Ｂで覆われた構成とした。この構成により、開口部５１内に配置された機能液を上面に付与された撥液性によって開口部５１内に流れ込ませる。このとき、機能液は開口部５１内に良好に濡れ拡がるので、この機能液を乾燥させることで成膜される有機層４０は画素電極４１上にて平坦性が高いものとなる。
したがって、均一な発光を得ることができ、優れた表示品質をもつ有機ＥＬ装置１を実現することができる。 According to the organic EL device 1 according to the above-described embodiment, in the bank structure 50 in which the organic layer 40 is formed, the upper surface is configured from the organic bank 50A that exhibits liquid repellency with respect to the functional liquid, and the inner side surface thereof is It was set as the structure covered with the inorganic bank 50B which shows lyophilicity with respect to a functional liquid. With this configuration, the functional liquid disposed in the opening 51 is caused to flow into the opening 51 due to the liquid repellency provided on the upper surface. At this time, the functional liquid satisfactorily wets and spreads in the opening 51, so that the organic layer 40 formed by drying the functional liquid has high flatness on the pixel electrode 41.
Therefore, uniform light emission can be obtained, and the organic EL device 1 having excellent display quality can be realized.

（変形例）
なお、上記実施形態に係る有機ＥＬ装置１では、前記無機バンク５０Ｂが有機バンク５０Ａの内側面を完全に覆った構成としたが、本発明はこれに限定されない。以下、上記有機ＥＬ装置１の変形例について説明する。図７は本変形例に係る有機ＥＬ装置の概略構成断面図であり、上記第１実施形態における図３に相当する図である。本変形例に係る有機ＥＬ装置は、前記無機バンク５０Ｂが有機バンク５０Ａの内側面の一部を覆う点で第１実施形態と相違している。 (Modification)
In the organic EL device 1 according to the above embodiment, the inorganic bank 50B completely covers the inner surface of the organic bank 50A. However, the present invention is not limited to this. Hereinafter, modified examples of the organic EL device 1 will be described. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device according to this modification, and corresponds to FIG. 3 in the first embodiment. The organic EL device according to this modification is different from the first embodiment in that the inorganic bank 50B covers a part of the inner surface of the organic bank 50A.

図８（ａ），（ｂ）は、本変形例に係る有機ＥＬ装置にて開口部５１に機能液を配置し、バンク構造５０に有機層４０を形成する工程を示し、上記第１実施形態における図６（ｃ），（ｄ）に相当する図である。なお、それ以外の工程については上記実施形態と共通であることから、その詳細な説明については省略する。   FIGS. 8A and 8B show a process of disposing a functional liquid in the opening 51 and forming the organic layer 40 in the bank structure 50 in the organic EL device according to this modification, and the first embodiment. FIG. 7 corresponds to FIGS. 6 (c) and 6 (d). Since other steps are the same as those in the above embodiment, detailed description thereof is omitted.

まず、上記隔壁構造５０に対して親液処理および撥液処理を行った後、図８（ａ）に示すように、インクジェット法により３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液（機能液）を開口部５１に吐出する。すると、液溜りＳ１は無機バンク５０Ｂと有機バンク５０Ａとの境界部分で弾かれた状態で、開口部５１内に保持される。ここで、開口部５１は有機バンク５０Ａの内側面の一部が無機バンク５０Ｂで覆われているので、本変形例に係る有機ＥＬ装置は、無機バンク５０Ｂが有機バンク５０Ａの内側面を全く覆っていない従来構成に比べ、開口部５１の機能液に対する親液性が相対的に高められたものとなる。なお、有機バンク５０Ａの内側面は、下端部（すなわち、前記第２層間絶縁膜２４と前記有機バンク５０Ａとの界面部分）から５０％以上の高さまで無機バンク５０Ｂで覆うのが好ましい。このようにすれば、バンク構造５０によって形成される開口部５１内に機能液を吐出した際に平坦性の高い有機層４０を得ることができる。   First, after the lyophilic treatment and the liquid repellent treatment were performed on the partition wall structure 50, as shown in FIG. 8A, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was formed by an inkjet method. ) Dispersion liquid (functional liquid) is discharged into the opening 51. Then, the liquid reservoir S1 is held in the opening 51 while being repelled at the boundary between the inorganic bank 50B and the organic bank 50A. Here, since the opening 51 is partially covered with the inorganic bank 50B on the inner side surface of the organic bank 50A, in the organic EL device according to this modification, the inorganic bank 50B completely covers the inner side surface of the organic bank 50A. The lyophilicity with respect to the functional liquid of the opening 51 is relatively enhanced as compared with the conventional configuration which is not. The inner side surface of the organic bank 50A is preferably covered with the inorganic bank 50B from the lower end (that is, the interface portion between the second interlayer insulating film 24 and the organic bank 50A) to a height of 50% or more. In this way, the organic layer 40 with high flatness can be obtained when the functional liquid is discharged into the opening 51 formed by the bank structure 50.

続けて、上記機能層を乾燥させる。よって、図８（ｂ）に示すように画素電極４１上に平坦性の高い正孔注入層４０Ａを形成できる。正孔注入層４０Ａは、無機バンク５０Ｂ上の一部（図８（ｂ）中、Ａで示される領域）に正孔注入層４０Ａの一部が形成されるが、この領域は発光に寄与しないことから実使用上問題はない。
続けて、正孔注入層４０Ａ上に上記実施形態と同様に発光層４０Ｂを形成する。このとき、上述の正孔注入層４０Ａが均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層４０Ｂも膜厚が均一化され、正孔注入層４０Ａと発光層４０Ｂとから構成される有機層４０は、全体として均一な膜厚を有するものとなる。以下、上記実施形態と同様の工程により、有機ＥＬ装置を製造できる（図７参照）。 Subsequently, the functional layer is dried. Therefore, as shown in FIG. 8B, a highly flat hole injection layer 40A can be formed on the pixel electrode 41. In the hole injection layer 40A, a part of the hole injection layer 40A is formed in a part on the inorganic bank 50B (a region indicated by A in FIG. 8B), but this region does not contribute to light emission. Therefore, there is no problem in actual use.
Subsequently, the light emitting layer 40B is formed on the hole injection layer 40A in the same manner as in the above embodiment. At this time, since the above-described hole injection layer 40A is formed with a uniform film thickness, the light-emitting layer 40B formed thereon is also made uniform, and the hole injection layer 40A and the light-emitting layer 40B are separated from each other. The configured organic layer 40 has a uniform film thickness as a whole. Hereinafter, an organic EL device can be manufactured by the same steps as those in the above embodiment (see FIG. 7).

（第２実施形態）
次に、第２実施形態に係る有機ＥＬ装置について説明する。図９は本実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示し、上記第１実施形態の図３に相当する図である。なお、第１実施形態と同様となる部分については、その詳細な説明を省略する。また、図９中では、画素電極４１に電気的に接続される駆動用ＴＦＴ４３等の図示を省略している。
第２実施形態に係る有機ＥＬ装置は、前記有機バンク５０Ａが前記画素電極４１を複数囲んで形成されている点で第１実施形態と相違している。 (Second Embodiment)
Next, an organic EL device according to the second embodiment will be described. FIG. 9 shows a schematic configuration of the organic EL device according to the present embodiment, and corresponds to FIG. 3 of the first embodiment. Detailed description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted. Further, in FIG. 9, illustration of the driving TFT 43 and the like electrically connected to the pixel electrode 41 is omitted.
The organic EL device according to the second embodiment is different from the first embodiment in that the organic bank 50A is formed so as to surround a plurality of the pixel electrodes 41.

図９に示すように、本実施形態では有機バンク５０Ａが複数の有機ＥＬ発光素子２００を取り囲むように形成されている。すなわち、本実施形態では前記有機バンク５０Ａが複数の画素領域を区画する共通バンクを兼ねている。前記有機バンク５０Ａの内側面は、無機バンク５０Ｂによって覆われた構成となっている。前記無機バンク５０Ｂは、第２層間絶縁膜２４の表面及び有機バンク５０Ａの内側面を覆った状態に形成されている。前記無機バンク５０Ｂは各画素電極４１の上端部から前記基板Ｐ面を通り、有機バンク５０Ａの内側面を覆うように形成されている。ここで、前記有機バンク５０Ａの内側面は、断面視した状態でテーパー形状をなす傾斜面となっている。前記第２層間絶縁膜２４上には、前記無機バンク５０Ｂおよび前記有機バンク５０Ａからなるバンク構造５０が形成されている。このバンク構造５０によって規定される開口部５１内に前記有機層４０が配設されている。   As shown in FIG. 9, in this embodiment, the organic bank 50 </ b> A is formed so as to surround the plurality of organic EL light emitting elements 200. That is, in this embodiment, the organic bank 50A also serves as a common bank that partitions a plurality of pixel regions. The inner surface of the organic bank 50A is covered with an inorganic bank 50B. The inorganic bank 50B is formed so as to cover the surface of the second interlayer insulating film 24 and the inner surface of the organic bank 50A. The inorganic bank 50B is formed so as to cover the inner side surface of the organic bank 50A through the substrate P surface from the upper end of each pixel electrode 41. Here, the inner side surface of the organic bank 50A is an inclined surface having a tapered shape in a sectional view. On the second interlayer insulating film 24, a bank structure 50 including the inorganic bank 50B and the organic bank 50A is formed. The organic layer 40 is disposed in the opening 51 defined by the bank structure 50.

図１０は、本実施形態におけるバンク構造５０の概略構成を示す平面図である。なお、図１０中では、無機バンク５０Ａ及び無機バンク５０Ｂのみを図示しており、その他の部材については図示を省略している。図１０に示すように、前記バンク構造５０によって構成される前記開口部５２は、平面視略長円形状となっている。すなわち、前記有機バンク５０Ａにより囲まれる領域は長円形状をなし、この有機バンク５０Ａ内に形成される無機バンク５０Ｂには、平面視略円形状の開口部５３が形成されており、この開口部５３内に画素電極４１が臨まれるようになっている。このように開口部５３内に臨まれる画素電極４１の面積が発光領域に対応している。   FIG. 10 is a plan view showing a schematic configuration of the bank structure 50 in the present embodiment. In FIG. 10, only the inorganic bank 50A and the inorganic bank 50B are illustrated, and the other members are not illustrated. As shown in FIG. 10, the opening 52 constituted by the bank structure 50 has a substantially oval shape in plan view. That is, the region surrounded by the organic bank 50A has an oval shape, and the inorganic bank 50B formed in the organic bank 50A has a substantially circular opening 53 in plan view. The pixel electrode 41 faces the inside 53. Thus, the area of the pixel electrode 41 facing the opening 53 corresponds to the light emitting region.

本実施形態に係る有機ＥＬ装置は、図９に示したようにバンク構造５０の開口部５２内に複数の画素電極４１が配置されている。前記開口部５２内には、正孔注入層４０Ａ及び発光層４０Ｂが順に積層され、有機層４０が形成される。そして、有機層４０上に陰極５４、及び保護層（図示せず）が設けられる。本実施形態に係る有機ＥＬ装置は、上述したように有機バンク５０Ａが発光領域毎に形成されていないため、インクジェット法を用いた場合に発光層４０Ｂの塗り分けができない。そのため、本実施形態に係る有機ＥＬ装置は、１つの発光色（例えば、赤色）を備えるラインヘッドとして用いるのが好適である。   In the organic EL device according to the present embodiment, a plurality of pixel electrodes 41 are arranged in the openings 52 of the bank structure 50 as shown in FIG. In the opening 52, the hole injection layer 40 </ b> A and the light emitting layer 40 </ b> B are sequentially stacked to form the organic layer 40. A cathode 54 and a protective layer (not shown) are provided on the organic layer 40. In the organic EL device according to this embodiment, since the organic bank 50A is not formed for each light emitting region as described above, the light emitting layer 40B cannot be separately applied when the ink jet method is used. Therefore, the organic EL device according to this embodiment is preferably used as a line head having one emission color (for example, red).

上記有機層４０は上記実施形態と同様にインクジェット法（液相法）により形成される。前記バンク構造５０の開口部５２内に前記有機層４０を構成する機能液が吐出されると、前記バンク構造５０の内側面に沿って前記機能液が良好に塗れ拡がる。そのため、前記有機層４０は非常に平坦性が高いものとなっている。   The organic layer 40 is formed by an inkjet method (liquid phase method) as in the above embodiment. When the functional liquid constituting the organic layer 40 is discharged into the opening 52 of the bank structure 50, the functional liquid is satisfactorily spread along the inner surface of the bank structure 50. Therefore, the organic layer 40 has very high flatness.

次に、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法について図１１を参照して説明する。本実施形態では、トップエミッション型の有機ＥＬ装置を製造する場合について説明する。図１１（ａ），（ｂ）は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置にて開口部５２に機能液を配置し、バンク構造５０に有機層４０を形成する工程を示し、上記第１実施形態における図６（ｃ），（ｄ）に相当する図である。なお、それ以外の工程については上記実施形態と共通であることから、その詳細な説明については省略する。   Next, a method for manufacturing the organic EL device according to this embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, a case of manufacturing a top emission type organic EL device will be described. FIGS. 11A and 11B show a process of disposing a functional liquid in the opening 52 and forming the organic layer 40 in the bank structure 50 in the organic EL device according to the present embodiment. FIG. 7 corresponds to FIGS. 6 (c) and 6 (d). Since other steps are the same as those in the above embodiment, detailed description thereof is omitted.

まず、上記隔壁構造５０に対して親液処理および撥液処理を行った後、図１１（ａ）に示すように、インクジェット法により３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液（機能液）を開口部５１に吐出する。このとき、液溜りＳ１（機能液）は無機バンク５０Ｂと有機バンク５０Ａとの境界部分で弾かれた状態で保持される。機能液は開口部５２内部（バンク構造５０の内側面）に沿って良好に濡れ拡がっているので、この状態で機能液を乾燥させることで、図１１（ｂ）に示すように画素電極４１上に平坦性の高い正孔注入層４０Ａを形成できる。また、上述の正孔注入層４０Ａが均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層４０Ｂも膜厚が均一化され、正孔注入層４０Ａと発光層４０Ｂとから構成される有機層４０は全体として均一な膜厚となる（図９参照）。
したがって、本実施形態に係る有機ＥＬ装置によれば、上記実施形態と同様に、均一な発光を得ることができ、優れた表示品質をもつ有機ＥＬ装置１を実現することができる。 First, after the lyophilic treatment and the liquid repellent treatment were performed on the partition wall structure 50, as shown in FIG. 11A, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was formed by an inkjet method. ) Dispersion liquid (functional liquid) is discharged into the opening 51. At this time, the liquid reservoir S1 (functional liquid) is held in a state where it is repelled at the boundary between the inorganic bank 50B and the organic bank 50A. Since the functional liquid is well wetted and spread along the inside of the opening 52 (inner side surface of the bank structure 50), by drying the functional liquid in this state, as shown in FIG. In addition, the hole injection layer 40A having high flatness can be formed. Further, since the hole injection layer 40A described above is formed with a uniform film thickness, the light emitting layer 40B formed thereon is also made uniform, and is composed of the hole injection layer 40A and the light emitting layer 40B. The organic layer 40 to be formed has a uniform film thickness as a whole (see FIG. 9).
Therefore, according to the organic EL device according to the present embodiment, uniform light emission can be obtained and the organic EL device 1 having excellent display quality can be realized as in the above-described embodiment.

（参考例）
次に、図１２に基づいて、有機ＥＬ装置の参考例について説明する。図１２は有機ＥＬ装置の拡大断面図である。本参考例に係る有機ＥＬ装置は、図１２に示すように、画素電極４１の周辺部に一部乗り上げ、前記画素電極４１の上面を露出させた状態に、ＳｉＯ_２からなる無機バンク８０が形成されている。そして、この無機バンク８０上にアクリルから構成される有機バンク８１が形成されている。この有機バンク８１は上記第２実施形態と同様に、複数の画素電極（発光領域）４１を囲む共通バンクを兼ねている。前記有機バンク８１の内側面は、平面視テーパー形状となっている。そして、前記無機バンク８０上から前記有機バンク８１の内側面を覆うように他の無機バンク８３が形成されている。他の無機バンク８３の形成材料としては、絶縁性無機材料が好ましく、例えばＳｉＯ_２、ＳｉＮを例示できる。すなわち、本参考例に係る有機ＥＬ装置は、有機バンク８１、無機バンク８０、及び他の無機バンク８３によってバンク構造８４が構成されたものとなっている。 (Reference example)
Next, a reference example of the organic EL device will be described with reference to FIG. FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of the organic EL device. In the organic EL device according to this reference example, as shown in FIG. 12, an inorganic bank 80 made of SiO ₂ is formed in a state where a part of the organic EL device is placed on the periphery of the pixel electrode 41 and the upper surface of the pixel electrode 41 is exposed. Has been. An organic bank 81 made of acrylic is formed on the inorganic bank 80. Similar to the second embodiment, the organic bank 81 also serves as a common bank that surrounds the plurality of pixel electrodes (light emitting regions) 41. The inner surface of the organic bank 81 has a tapered shape in plan view. Another inorganic bank 83 is formed so as to cover the inner surface of the organic bank 81 from above the inorganic bank 80. As a material for forming the other inorganic bank 83, an insulating inorganic material is preferable, and examples thereof include SiO ₂ and SiN. That is, in the organic EL device according to this reference example, the bank structure 84 is configured by the organic bank 81, the inorganic bank 80, and the other inorganic bank 83.

図１３は、上記参考例に係る有機ＥＬ装置を製造する一工程（正孔注入層４０Ａを形成する工程）を示す断面図である。まず、上記バンク構造８４に対して親液処理および撥液処理を行った後、図１３（ａ）に示すように、インクジェット法により３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液（機能液）をバンク構造８４内に吐出する。このとき、液溜りＳ１（機能液）は他の無機バンク８３と有機バンク８１との境界部分で弾かれ、開口部８５内に保持される。ここで、有機バンク８１の内側面の一部が他の無機バンク８３で覆われているので、他の無機バンク８３が設けられない従来構成に比べ、開口部８５の機能液に対する親液性が相対的に高められたものとなる。なお、前記他の無機バンク８３は、有機バンク８１の内側面における下端部（無機バンク８０と有機バンク８１との界面）から５０％以上の高さまで覆うのが好ましく、これによれば、平坦性の高い正孔注入層４０Ａを得ることができる。   FIG. 13 is a cross-sectional view showing one step of manufacturing the organic EL device according to the reference example (step of forming hole injection layer 40A). First, after the lyophilic treatment and the lyophobic treatment were performed on the bank structure 84, as shown in FIG. 13A, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was formed by an inkjet method. ) Dispersion liquid (functional liquid) is discharged into the bank structure 84. At this time, the liquid reservoir S <b> 1 (functional liquid) is repelled at the boundary portion between the other inorganic bank 83 and the organic bank 81 and held in the opening 85. Here, since a part of the inner surface of the organic bank 81 is covered with another inorganic bank 83, the lyophilicity of the opening 85 with respect to the functional liquid is higher than in the conventional configuration in which the other inorganic bank 83 is not provided. It will be relatively enhanced. The other inorganic bank 83 is preferably covered to a height of 50% or more from the lower end portion (interface between the inorganic bank 80 and the organic bank 81) on the inner side surface of the organic bank 81. High hole injection layer 40A can be obtained.

続けて、上記液溜りＳ１を乾燥させ、図１３（ｂ）に示すように画素電極４１上に平坦性の高い正孔注入層４０Ａが形成される。正孔注入層４０Ａは、他の無機バンク８３上の一部（図１３（ｂ）中、Ｂで示される領域）に正孔注入層４０Ａの一部が形成されるが、この領域は発光に寄与しないことから実使用上問題はない。
続けて、正孔注入層４０Ａ上に上記実施形態と同様に発光層４０Ｂを形成する。このとき、上述の正孔注入層４０Ａが均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層４０Ｂも膜厚が均一化され、正孔注入層４０Ａと発光層４０Ｂとから構成される有機層４０は、全体として均一な膜厚を有するものとなる（図１２参照）。以下同様の工程により、有機ＥＬ装置が製造される。 Subsequently, the liquid reservoir S1 is dried, and a hole injection layer 40A having high flatness is formed on the pixel electrode 41 as shown in FIG. In the hole injection layer 40A, a part of the hole injection layer 40A is formed on a part of the other inorganic bank 83 (a region indicated by B in FIG. 13B). There is no problem in actual use because it does not contribute.
Subsequently, the light emitting layer 40B is formed on the hole injection layer 40A in the same manner as in the above embodiment. At this time, since the above-described hole injection layer 40A is formed with a uniform film thickness, the light-emitting layer 40B formed thereon is also made uniform, and the hole injection layer 40A and the light-emitting layer 40B are separated from each other. The configured organic layer 40 has a uniform film thickness as a whole (see FIG. 12). Thereafter, the organic EL device is manufactured by the same process.

（画像形成装置）
次に、本発明の有機ＥＬ装置から構成されるラインヘッドを備えた画像形成装置について説明する。図１４は、画像形成装置１００を示す概略構成図である。 (Image forming device)
Next, an image forming apparatus provided with a line head composed of the organic EL device of the present invention will be described. FIG. 14 is a schematic configuration diagram illustrating the image forming apparatus 100.

画像形成装置１００は、転写媒体１２２の走行経路の近傍に、像担持体としての感光体ドラム１１６を備えている。感光体ドラム１１６の周囲には、感光体ドラム１１６の回転方向（図中に矢印で示す）に沿って、露光装置１１５、現像装置１１８及び転写ローラ１２１が順次配設されている。感光体ドラム１１６は、回転軸１１７の周りに回転可能に設けられており、その外周面には、回転軸方向中央部に感光面１１６Ａが形成されている。露光装置１１５及び現像装置１１８は感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って長軸状に配置されており、その長軸方向の幅は、感光面１１６Ａの幅と概ね一致している。   The image forming apparatus 100 includes a photosensitive drum 116 as an image carrier in the vicinity of the travel path of the transfer medium 122. Around the photosensitive drum 116, an exposure device 115, a developing device 118, and a transfer roller 121 are sequentially disposed along the rotation direction of the photosensitive drum 116 (indicated by an arrow in the drawing). The photosensitive drum 116 is rotatably provided around the rotation shaft 117, and a photosensitive surface 116A is formed on the outer peripheral surface of the photosensitive drum 116 at the central portion in the rotation axis direction. The exposure device 115 and the developing device 118 are arranged in a long axis shape along the rotation axis 117 of the photosensitive drum 116, and the width in the long axis direction substantially coincides with the width of the photosensitive surface 116A.

この画像形成装置１００では、まず、感光体ドラム１１６が回転する過程において、露光装置１１５の上流側に設けられた図示略の帯電装置により感光体ドラム１１６の表面（感光面１１６Ａ）が例えば正（＋）に帯電され、次いで露光装置１１５により感光体ドラム１１６の表面が露光されて表面に静電潜像ＬＡが形成される。さらに、現像装置１１８の現像ローラ１１９により、トナー（現像剤）１３０が感光体ドラム１１６の表面に付与され、静電潜像ＬＡの電気的吸着力によって静電潜像ＬＡに対応したトナー像が形成される。なお、トナー粒子は正（＋）に帯電されている。   In the image forming apparatus 100, first, in the process of rotating the photosensitive drum 116, the surface of the photosensitive drum 116 (photosensitive surface 116 </ b> A) is positive (for example, positive) by a charging device (not shown) provided upstream of the exposure device 115. Then, the surface of the photosensitive drum 116 is exposed by the exposure device 115, and an electrostatic latent image LA is formed on the surface. Further, a toner (developer) 130 is applied to the surface of the photosensitive drum 116 by the developing roller 119 of the developing device 118, and a toner image corresponding to the electrostatic latent image LA is formed by the electric adsorption force of the electrostatic latent image LA. It is formed. The toner particles are positively (+) charged.

現像装置１１８によるトナー像の形成後は、感光体ドラム１１６の更なる回転によりトナー像が転写媒体１２２に接触し、転写ローラ１２１により転写媒体１２２の背面からトナー像のトナー粒子とは逆極性の電荷（ここでは負（−）の電荷）が付与され、これに応じて、トナー像を形成するトナー粒子が感光体ドラム１１６の表面から転写媒体１２２に吸引され、トナー像が転写媒体１２２の表面に転写される。   After the toner image is formed by the developing device 118, the toner image comes into contact with the transfer medium 122 by further rotation of the photosensitive drum 116, and the transfer roller 121 has a polarity opposite to the toner particles of the toner image from the back surface of the transfer medium 122. Charge (here, negative (−) charge) is applied, and accordingly, toner particles forming the toner image are attracted from the surface of the photosensitive drum 116 to the transfer medium 122, and the toner image is transferred to the surface of the transfer medium 122. Is transcribed.

露光装置１１５は、複数の有機ＥＬ素子２００を有するラインヘッド１１０と、該ラインヘッド１１０から放射された光Ｌを正立等倍結像させる複数のレンズ素子１１３を有する結像光学素子１１２とを備えている。ラインヘッド１１０と結像光学素子１１２とは、互いにアライメントされた状態で図示略のヘッドケースによって保持され、感光体ドラム１１６上に固定されている。   The exposure apparatus 115 includes a line head 110 having a plurality of organic EL elements 200, and an imaging optical element 112 having a plurality of lens elements 113 for imaging the light L emitted from the line head 110 at an erecting equal magnification. I have. The line head 110 and the imaging optical element 112 are held by a head case (not shown) while being aligned with each other, and are fixed on the photosensitive drum 116.

ラインヘッド１１０は、複数の有機ＥＬ素子２００を感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って配列してなる発光素子列１２０と、有機ＥＬ素子２００を駆動させる図示略の駆動素子からなる駆動素子群と、これら駆動素子（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群１１１とを備えている。有機ＥＬ素子２００、駆動素子群及び制御回路群１１１は長細い矩形の素子基板（基体）２上に一体形成されている。   The line head 110 includes a light emitting element array 120 in which a plurality of organic EL elements 200 are arranged along the rotation axis 117 of the photosensitive drum 116 and a drive element group including a drive element (not shown) that drives the organic EL elements 200. And a control circuit group 111 for controlling the driving of these driving elements (driving element group). The organic EL element 200, the drive element group, and the control circuit group 111 are integrally formed on a long and thin element substrate (base) 2.

結像光学素子１１２は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるレンズ素子１１３を感光体ドラム１１６の回転軸１１７に沿って千鳥状に２列配列（配置）してなるレンズ素子列１１４を備えている。   The imaging optical elements 112 are arranged (arranged) in a staggered manner along the rotation axis 117 of the photosensitive drum 116 with lens elements 113 having the same configuration as a SELFOC (registered trademark) lens element manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. A lens element array 114 is provided.

この画像形成装置１００は、ラインヘッド１１０が上記第２実施形態に係る有機ＥＬ装置で構成されている。したがって、発光ムラが少ないので、感光体ドラムを良好に感光させることができ、露光不良の生じない信頼性の高い画像形成装置となる。   In this image forming apparatus 100, the line head 110 is configured by the organic EL device according to the second embodiment. Therefore, since there is little light emission unevenness, the photosensitive drum can be satisfactorily exposed and a highly reliable image forming apparatus in which no exposure failure occurs.

（電子機器）
次に、本発明の有機ＥＬ装置に係る他の応用例として、有機ＥＬ装置を備えた電子機器について説明する。図１５は、携帯電話の表示部に上記第１実施形態に係る有機ＥＬ装置を適用した例についての概略構成図である。同図に示す携帯電話３００は、上記実施形態の有機ＥＬ装置を小サイズの表示部３０１として備え、複数の操作ボタン３０２、受話口３０３、及び送話口３０４を備えて構成されている。上記各実施の形態の有機ＥＬ装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、光ムラが少なく高い表示品位を得る表示部を備えた電子機器を提供できる。 (Electronics)
Next, as another application example related to the organic EL device of the present invention, an electronic apparatus including the organic EL device will be described. FIG. 15 is a schematic configuration diagram of an example in which the organic EL device according to the first embodiment is applied to a display unit of a mobile phone. A mobile phone 300 shown in the figure includes the organic EL device of the above embodiment as a small-sized display unit 301 and includes a plurality of operation buttons 302, an earpiece 303, and a mouthpiece 304. The organic EL device of each of the above embodiments is not limited to the mobile phone, but is an electronic book, a projector, a personal computer, a digital still camera, a television receiver, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, and a car navigation device. , Pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, POS terminals, devices equipped with touch panels, etc., and can be suitably used as an image display means. An electronic device provided with a display portion for obtaining quality can be provided.

有機ＥＬ装置の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure of an organic electroluminescent apparatus. 有機ＥＬ装置に備えられた各画素の平面構造を示す図である。It is a figure which shows the planar structure of each pixel with which the organic EL device was equipped. 図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure which follows the AA line of FIG. 前記バンク構造の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the said bank structure. 有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of an organic electroluminescent apparatus. 図５に続く有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus following FIG. 有機ＥＬ装置の変形例に係る概略構成断面図である。It is a schematic structure sectional view concerning the modification of an organic EL device. 変形例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on a modification. 第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the organic EL apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第２実施形態に係るバンク構造の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the bank structure which concerns on 2nd Embodiment. 第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus concerning 2nd Embodiment. 参考例に係る有機ＥＬ装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the organic electroluminescent apparatus concerning a reference example. 参考例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus concerning a reference example. 画像形成装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an image forming apparatus. 電子機器の一実施形態に係る携帯電話の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the mobile telephone which concerns on one Embodiment of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

１…有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）、４０…有機層（有機機能層）、５０…バンク構造（隔壁構造）、５０Ａ…有機バンク（第１隔壁）、５０Ｂ…無機隔壁（第２隔壁）、５１…開口部、１１０…ラインヘッド、２００…有機ＥＬ発光素子（発光素子） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL device (organic electroluminescence device), 40 ... Organic layer (organic functional layer), 50 ... Bank structure (partition wall structure), 50A ... Organic bank (first partition wall), 50B ... Inorganic partition wall (second partition wall) , 51 ... opening, 110 ... line head, 200 ... organic EL light emitting element (light emitting element)

Claims (7)

基板上に設けられた隔壁構造で区画された開口部内に、陽極と陰極との間に有機機能層が設けられてなる発光素子を備える有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記隔壁構造は、有機材料から構成され前記陽極を囲んで設けられる第１隔壁と、絶縁性無機材料から構成され、前記陽極の上端部から前記基板面を通り、前記第１隔壁の内側面の少なくとも一部を覆った状態に設けられる第２隔壁とから構成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 An organic electroluminescence device including a light emitting element in which an organic functional layer is provided between an anode and a cathode in an opening sectioned by a partition wall structure provided on a substrate,
The barrier rib structure is made of an organic material and is provided to surround the anode. The barrier rib structure is made of an insulating inorganic material, passes through the substrate surface from the upper end of the anode, and is formed on the inner surface of the first barrier rib. An organic electroluminescence device comprising: a second partition wall provided in a state of covering at least a part thereof. 前記有機機能層は液相法を用いて形成されたものであり、前記有機機能層の形成時に、前記第１隔壁の表面は前記有機機能層を構成する機能液に対して撥液性を示し、前記第２隔壁の表面は前記機能液に対して親液性を示すことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic functional layer is formed using a liquid phase method, and when the organic functional layer is formed, the surface of the first partition wall exhibits liquid repellency with respect to the functional liquid constituting the organic functional layer. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the surface of the second partition wall is lyophilic with respect to the functional liquid. 前記有機機能層は、スピンコート法を用いて高分子有機材料を塗布した後、乾燥させることで構成されていることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   3. The organic electroluminescence device according to claim 2, wherein the organic functional layer is configured by applying a polymer organic material using a spin coating method and then drying the organic organic layer. 前記有機機能層は、液滴吐出法を用いて高分子有機材料を含む機能液を吐出した後、乾燥させることで構成されていることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the organic functional layer is configured by discharging a functional liquid containing a polymer organic material using a droplet discharge method and then drying the functional liquid. 前記第１隔壁が前記陽極を複数囲んで形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the first partition wall is formed so as to surround the anode. 前記第１隔壁の内側面が、断面視した状態でテーパー形状をなすことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein an inner surface of the first partition wall has a tapered shape in a cross-sectional view. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置から構成されることを特徴とするラインヘッド。   A line head comprising the organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 6.

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