JP2008224930A - Display device and manufacturing method therefor, and electronic equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置とその製造方法、及び電子機器に関する。 The present invention relates to a display device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.
近年、複数の視点で異なる画像を見ることができる表示装置（マルチビューディスプレイ）が注目されており、例えば、両眼視差を利用した立体画像表示装置や、運転席と助手席で異なる情報を見ることができるカーナビゲーションシステム等への応用が期待されている。 In recent years, a display device (multi-view display) that can see different images from a plurality of viewpoints has attracted attention. For example, a stereoscopic image display device that uses binocular parallax, or information that is different between a driver seat and a passenger seat is viewed. It is expected to be applied to car navigation systems.
上記のような表示装置として、例えば２視点に対応したものには、各視点用の画素電極が交互に配置されている。それぞれの画素電極上の液晶や有機ＥＬ素子等の電気光学物質は、ＴＦＴ回路等によって個別に駆動され、偏光あるいは発光を行い、２つの視点の一方の視点用と他方の視点用の光を出力する。これらの光は、対向電極側に配置された視差バリアと呼ばれるフィルタを通ることによって、一方の視点からは、他方の視点用の光が遮られ、一方の視点用の光のみが視認されるようになる。このような表示装置の例としては、特許文献１に開示されているものがある。
ところで、上記のような表示装置は、特許文献１のように、透明基板上に視差バリア、スペーサ、カラーフィルタ、対向電極を順次形成してカラーフィルタ基板（対向基板）とし、これと画素電極を有するＴＦＴ基板とを各電極が内側となるように貼り合わせ、その間に液晶等の電気光学物質を封止することで形成されている。ここで、上記の視差バリア形成する一般的な方法として、透明基板上に黒色に着色されたアクリル樹脂等を配し、フォトリソグラフィ法等でパターニングして透光部となる部分を除去する方法が挙げられる。
By the way, as described in
しかしながら、上記の方法によって形成された視差バリアは、透明基板上に凸部として形成されてしまい、透明基板との間に段差を生じてしまう。そのため、視差バリアと透明基板の露出部とを覆ってスペーサを形成すると、先述の段差の隅に十分にスペーサ材料を配することができず、スペーサと透明基板と間の密着性が損なわれてしまう。そのため、スペーサと透明基板とが剥離してしまうことがあり、このような剥離部分を生じると、この部分を通って水分等が浸入し、電気光学物質等が劣化してしまう。 However, the parallax barrier formed by the above method is formed as a convex portion on the transparent substrate, and a step is generated between the transparent substrate and the transparent substrate. For this reason, if the spacer is formed to cover the parallax barrier and the exposed portion of the transparent substrate, the spacer material cannot be sufficiently disposed in the corner of the step, and the adhesion between the spacer and the transparent substrate is impaired. End up. For this reason, the spacer and the transparent substrate may be peeled off. When such a peeled portion is generated, moisture or the like enters through this portion, and the electro-optical material or the like deteriorates.
また、スペーサ上には、先述の段差に対応した凹凸を生じることもあった。この凹凸を平坦化するには新たな工程が必要となり、生産性が低下してしまう。また、この凹凸を残したままスペーサ上にカラーフィルタと対向電極を形成すると、これらにも凹凸が生じてしまう。このような凹凸や、先述のスペーサと透明基板とが剥離した部分を光が通ると、光が散乱されることによる表示不良を生じてしまう。 In addition, irregularities corresponding to the above-described steps may be formed on the spacers. In order to flatten the unevenness, a new process is required, and productivity is lowered. Further, if the color filter and the counter electrode are formed on the spacer while leaving the unevenness, the unevenness is also generated in these. When light passes through such irregularities or a portion where the above-described spacer and the transparent substrate are peeled off, display failure occurs due to light scattering.
また、視差バリアをフォトリソグラフィ法等によってパターニングし形成すると、その工程が複雑になり、製造コストが高くなってしまうという課題もあった。 Further, when the parallax barrier is patterned and formed by a photolithography method or the like, there is a problem that the process becomes complicated and the manufacturing cost increases.
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、透明基板と視差バリアとの間の段差に起因する表示不良を防止した表示装置と、これを効率的に製造できる製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and has a display device that prevents display defects caused by a step between the transparent substrate and the parallax barrier, and a manufacturing that can efficiently manufacture the display device. It aims to provide a method.
本発明の表示装置は、第１電極を有する第１基板と、この第１基板に対向して配置された第２基板と、これら基板間に挟持された電気光学物質層と、を備えた表示装置であって、
前記第２基板は、透明基板と、この透明基板の内面側に形成された視差バリア層と、この視差バリア層の内面側に形成された透光性のスペーサ層と、このスペーサ層の内面側に形成された第２電極と、前記視差バリア層の外面側に設けられた紫外線バリア層と、を有し、
前記視差バリア層は、紫外線感光性のフォトクロミック材料からなり、所定の位置に遮光部と透光部とを有していることを特徴とする。
A display device according to the present invention includes a first substrate having a first electrode, a second substrate disposed opposite to the first substrate, and an electro-optic material layer sandwiched between the substrates. A device,
The second substrate includes a transparent substrate, a parallax barrier layer formed on the inner surface side of the transparent substrate, a translucent spacer layer formed on the inner surface side of the parallax barrier layer, and an inner surface side of the spacer layer A second electrode formed on the outer surface of the parallax barrier layer, and an ultraviolet barrier layer provided on the outer surface of the parallax barrier layer,
The parallax barrier layer is made of an ultraviolet-sensitive photochromic material and has a light shielding part and a light transmitting part at predetermined positions.
このようにすれば、フォトクロミック材料は紫外線を照射されると、材料自体が特定の波長帯域の可視光を吸収するようになるので、前記視差バリア層は、例えば紫外線を選択的に照射されることにより、紫外線を照射されてなる遮光部と、紫外線を照射されずに透光性を保持したままの透光部とを有する視差バリア層となる。従来の視差バリアは、透明基板上に遮光性材料膜を形成した後、透光部となる部分を除去して形成されたものであり、遮光部と透光部とに段差を有しているが、本発明の視差バリア層は、透光部となる位置を除去することなく透光部を備えたものとすることができるので、段差がなく平坦になっている。したがって、前記透明基板と前記視差バリア層との接着面積を十分に大きくすることができ、透明基板と視差バリア層との間の密着力を十分に確保することができる。よって、視差バリア層と透明基板とが剥離することが防止される。また、同様に、視差バリア層とスペーサ層との間の密着力も十分に確保することができ、視差バリア層とスペーサ層とが剥離することも防止される。このように層間の剥離が防止されているので、剥離部分で光が散乱されることが防止され、表示不良が防止される。また、剥離部分を通って水分等が浸入し、電気光学物質層等が劣化されることが防止される。 In this way, when the photochromic material is irradiated with ultraviolet rays, the material itself absorbs visible light in a specific wavelength band, so that the parallax barrier layer is selectively irradiated with, for example, ultraviolet rays. Thus, a parallax barrier layer having a light-shielding portion that is irradiated with ultraviolet rays and a light-transmitting portion that remains transparent without being irradiated with ultraviolet rays is obtained. The conventional parallax barrier is formed by forming a light-shielding material film on a transparent substrate and then removing a portion that becomes a light-transmitting portion, and has a step between the light-shielding portion and the light-transmitting portion. However, since the parallax barrier layer of the present invention can be provided with a light-transmitting part without removing the position to be the light-transmitting part, it is flat without a step. Therefore, the adhesion area between the transparent substrate and the parallax barrier layer can be sufficiently increased, and sufficient adhesion between the transparent substrate and the parallax barrier layer can be ensured. Therefore, the parallax barrier layer and the transparent substrate are prevented from peeling off. Similarly, sufficient adhesion between the parallax barrier layer and the spacer layer can be ensured, and separation of the parallax barrier layer and the spacer layer is prevented. Thus, since peeling between layers is prevented, it is prevented that light is scattered by a peeling part and a display defect is prevented. Further, it is possible to prevent moisture and the like from entering through the peeled portion and deteriorating the electro-optical material layer and the like.
また、前記視差バリア層は段差がなく平坦になっているので、この上に形成されたスペーサ層や第２電極は、凹凸がなく平坦なものとなる。したがって、スペーサ層や第２電極を通る光が前記凹凸によって散乱されることがなく、表示不良が防止される。 Further, since the parallax barrier layer is flat without a step, the spacer layer and the second electrode formed thereon are flat without unevenness. Therefore, light passing through the spacer layer and the second electrode is not scattered by the unevenness, and display defects are prevented.
また、前記電気光学物質層と前記視差バリア層との間にはカラーフィルタ層が設けられていることが好ましい。
このようにすれば、フルカラー表示が可能となり、表現力豊かな表示が可能な表示装置とすることができる。
In addition, it is preferable that a color filter layer is provided between the electro-optic material layer and the parallax barrier layer.
In this way, full color display is possible, and a display device capable of display with rich expressiveness can be obtained.
また、前記視差バリア層は、光吸収部を有する複数層の機能膜からなり、前記機能膜の光吸収部は、吸収する可視光の波長帯域が互いに異なっており、前記遮光部は前記光吸収部を積層されてなる構成とすることもできる。
このようにすれば、可視光の波長帯域を各光吸収部で分担させて遮光することができ、フォトクロミック材料についての材料選択の自由度を高めることができる。
In addition, the parallax barrier layer includes a plurality of functional films having a light absorbing portion, the light absorbing portions of the functional film have different visible light wavelength bands, and the light shielding portion has the light absorbing portion. It can also be set as the structure by which a part is laminated | stacked.
If it does in this way, the wavelength band of visible light can be shared by each light absorption part, and can be shielded, and the freedom degree of material selection about a photochromic material can be raised.
また、本発明の電子機器は、上記の表示装置を備えたことを特徴とする。
このようにすれば、表示不良が防止され、かつ電気光学物質層等の劣化が防止された表示装置を備えているので、高品位の表示ができ、かつ長寿命の電子機器となる。
In addition, an electronic apparatus according to the present invention includes the above display device.
In this way, since the display device in which display failure is prevented and deterioration of the electro-optical material layer or the like is provided, high-quality display can be performed and a long-life electronic device can be obtained.
本発明の表示装置の製造方法は、第１電極を有する第１基板と、この第１基板に対向して配置された第２基板と、これら基板間に挟持された電気光学物質層と、を備えた表示装置の製造方法であって、
前記第２基板を形成する工程は、透明基板上に紫外線感光性のフォトクロミック材料を成膜し、視差バリア層の材料膜を形成する工程と、前記材料膜に紫外線を選択的に照射して遮光部と透光部とをパターニングし、視差バリア層を形成する工程と、前記視差バリア層上もしくはその材料膜上に透光性のスペーサ層を形成する工程と、前記スペーサ層上に第２電極を形成する工程と、前記視差バリア層もしくはその材料膜上の透明基板側に紫外線バリア層を設ける工程と、を有することを特徴とする。
The display device manufacturing method of the present invention includes a first substrate having a first electrode, a second substrate disposed opposite to the first substrate, and an electro-optic material layer sandwiched between the substrates. A method for manufacturing a display device comprising:
The step of forming the second substrate includes a step of forming an ultraviolet-sensitive photochromic material on a transparent substrate and forming a material film of a parallax barrier layer, and selectively irradiating the material film with ultraviolet rays to block light. Forming a parallax barrier layer by patterning the portion and the translucent portion, forming a translucent spacer layer on the parallax barrier layer or its material film, and a second electrode on the spacer layer And a step of providing an ultraviolet barrier layer on the parallax barrier layer or on the transparent substrate side of the material film.
このようにすれば、視差バリア層はフォトクロミック材料で形成しているので、材料膜に紫外線を選択的に照射することで遮光部と透光部とをパターニングすることができ、この工程は材料膜と非接触に行えるので、この工程を行う順序の自由度を高めることができる。一般的な材料で視差バリア層を形成するには、例えばフォトリソグラフィ法等を用いて、透明基板上に配された遮光性の視差バリア層材料膜のうち透光部となる部分をエッチングし、除去することによって遮光部を形成する。本発明の製造方法によれば、透光部となる部分を除去しないため、この工程が省略される。また、透光部となる部分を除去しないので、材料膜あるいは視差バリア層の平坦性を保持しつつ、この上にスペーサ層を形成することができ、このスペーサ層を平坦化処理しなくとも十分平坦に形成することができる。同様にスペーサ層上のカラーフィルタ層や、カラーフィルタ層上の第２電極も同様に、平坦化処理することなく平坦に形成することができる。よって、これらの層上を平坦化処理する工程を省略もしくは低減することができ、表示装置を効率的に製造できる。 In this case, since the parallax barrier layer is formed of a photochromic material, the light shielding portion and the light transmitting portion can be patterned by selectively irradiating the material film with ultraviolet rays. Therefore, the degree of freedom in the order in which these steps are performed can be increased. In order to form the parallax barrier layer with a general material, for example, using a photolithography method or the like, the portion of the light-shielding parallax barrier layer material film disposed on the transparent substrate is etched, By removing the light shielding portion, a light shielding portion is formed. According to the manufacturing method of the present invention, this step is omitted because the portion that becomes the translucent portion is not removed. In addition, since the portion that becomes the light transmitting portion is not removed, a spacer layer can be formed on the material film or the parallax barrier layer while maintaining the flatness of the material film or the parallax barrier layer. It can be formed flat. Similarly, the color filter layer on the spacer layer and the second electrode on the color filter layer can also be formed flat without being flattened. Therefore, the step of planarizing these layers can be omitted or reduced, and the display device can be manufactured efficiently.
また、第１基板を形成する工程と、第１基板と、前記紫外線バリア層を形成する前の第２基板の前駆体とを貼り合わせる工程と、第１基板と第２基板との間となる領域に電気光学物質層を形成する工程と、を有し、
これらの工程の後に前記材料膜に選択的に紫外線を照射して遮光部と透光部とをパターニングする工程と、その後に前記紫外線バリア層を形成する工程とを有することが好ましい。
このように遮光部と透光部とをパターニングした直後に前記紫外線バリア層を形成すれば、遮光部と透光部とに紫外線が照射されることが防止される。したがって、前記遮光部がフォトクロミズムの可逆反応によりその遮光性を損なう不都合を回避することができる。また、万一、遮光部と透光部とをパターニングする以前に、材料膜に紫外線が照射されてしまい透光部となる部分にも遮光性が付与されてしまった場合でも、フォトクロミズムの可逆反応を利用することで、一旦材料膜を透光性のものとし、その後に遮光部と透光部とを再度パターニングすることができる。このようにして、遮光部と透光部とを高精度でパターニングすることができ、視差バリア層を十分に機能させることができるようになる。
Moreover, it becomes between the 1st board | substrate and the 2nd board | substrate, the process of bonding the process of forming a 1st board | substrate, the 1st board | substrate, and the precursor of the 2nd board | substrate before forming the said ultraviolet barrier layer. Forming an electro-optic material layer in the region,
It is preferable that after these steps, there is a step of selectively irradiating the material film with ultraviolet rays to pattern the light shielding portion and the light transmitting portion, and a step of forming the ultraviolet barrier layer thereafter.
If the ultraviolet barrier layer is formed immediately after patterning the light shielding portion and the light transmitting portion in this manner, the light shielding portion and the light transmitting portion are prevented from being irradiated with ultraviolet rays. Accordingly, it is possible to avoid the disadvantage that the light shielding part impairs the light shielding property due to the reversible reaction of photochromism. In addition, even if the material film is irradiated with ultraviolet rays before the light-shielding part and the light-transmitting part are patterned, the light-transmitting part is also provided with light-shielding properties. By using this, the material film can be once made translucent, and then the light shielding portion and the light transmitting portion can be patterned again. In this way, the light shielding part and the light transmitting part can be patterned with high accuracy, and the parallax barrier layer can be sufficiently functioned.
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。また、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the technical scope of the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings used for the following description, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.
図１は、本発明の一実施形態である表示装置（液晶装置）１のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。
図１に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極（第１電極）１２と当該画素電極１２への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子１１５がそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ素子１１５のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of switching elements and signal lines in a plurality of pixels arranged in a matrix of a display device (liquid crystal device) 1 according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, a plurality of pixels arranged in a matrix form a pixel electrode (first electrode) 12 and a
また、走査線３ａがＴＦＴ素子１１５のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極１２はＴＦＴ素子１１５のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子１１５を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
Further, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the
画素電極１２を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する対向電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極１２と対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。
A predetermined level of image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the
図２（ａ）は、表示装置１（液晶装置）の要部断面を示す概略図である。図２（ａ）に示すように、液晶装置１は、第１基板１０と、これに対向して配置された第２基板２０と、これらの基板間に挟持された液晶層（電気光学物質層）３０を備えて構成されている。
FIG. 2A is a schematic diagram showing a cross-section of the main part of the display device 1 (liquid crystal device). As shown in FIG. 2A, the
前記第１基板１０は、ＴＦＴ基板１１と、このＴＦＴ基板１１の液晶層３０側（内面側）に形成されたＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等からなる画素電極（第１電極）１２と、この内面側に形成されたポリイミド等からなる配向膜１３と、を備えて構成されている。また、前記ＴＦＴ基板１１は、図１に示したＴＦＴ素子３０やデータ線６ａ、走査線３ａ、配線（図示せず）、平坦化層（図示せず）等を備えている。
The
また、前記第２基板２０は、ガラス等の透明材料からなる透明基板２１と、この透明基板２１の液晶層３０側（内面側）に順次形成された、視差バリア層２２と、ポリマー層（スペーサ層）２３と、カラーフィルタ層２４と、ＩＴＯ等の透明導電体からなる対向電極（第２電極）２５と、ポリイミド等からなる配向膜２６と、前記透明基板２１の液晶層３０と反対面（外面側）に設けられた紫外線バリア層２７と、を備えて構成されている。
The
前記ポリマー層２３は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂等からなるもので、可視光に対して例えば５０％程度の透過率を示す透光性のものである。また、前記カラーフィルタ層は、赤色部２４１、緑色部２４２、青色部２４３、及びこれらの間の非透過部（ブラックマトリックス）２４４からなるもので、これらを透過した各色光を混合することによってフルカラー表示が可能となり、これを備えた表示装置は表現力豊かな表示が可能なものとなる。
The
本発明に係る前記視差バリア層２２は、紫外線感光性のフォトクロミック材料からなっている。フォトクロミック材料としては、スピロピランやスピロオキサジン、ジアリールエテン、フルギド等の低分子材料や、これらを重合させた高分子材料、ハロゲン化銀等の無機材料等がある。前記フォトクロミック材料は、紫外線を照射されると特定の波長帯域光を吸収するようになるものである。視差バリア層２２は、可視光の波長帯域全域に対応する単一材料からなるものや、対応した波長帯域が異なる材料を混合し、可視光の波長帯域全域に対応する混合物材料からなるもの、対応した波長帯域が異なる複数の機能膜を積層し、積層体が可視光の波長帯域全域に対応するもの、を用いることができる。本実施形態では、混合物材料からなるもの、詳しくは、赤色光の波長帯域以外の光を吸収する材料と、黄色光の波長帯域以外の光を吸収する材料と、青色光の波長帯域以外の光を吸収する材料との混合物からなる視差バリア層２２を用いている。
The
前記視差バリア層２２には、紫外線を照射されてなる遮光部２２１と、紫外線を照射されずに透光性を保持した透光部２２２とを有している。また、前記紫外線バリア層２７は、前記視差バリア層２２に紫外線が照射されることを防止するようになっている。
The
図２（ｂ）は、表示装置１において、異なる２つの視点ＶＲ、ＶＬから、それぞれの視点に対応した光４１Ｒ、４１Ｌを視認できる仕組みを説明する模式図である。ＴＦＴ基板１１上の画素電極１２Ｒ、１２Ｌのそれぞれに対応した液晶層（電気光学物質層）３１Ｒ、３１Ｌからの光４１Ｒ、４１Ｌは、カラーフィルタ層２４により、例えば赤色光、緑色光、青色光のうちいずれかに対応した波長帯域光をとなる。この光４１Ｒ、４１Ｌは、前記遮光バリア層２２の遮光部２２１と透光部２２２とにより進路を限定され、前記異なる視点のうち、一方の視点からは片方の光のみが視認されるようになる。より詳しくは、光４１Ｒは、透光部２２２を通って視点ＶＲからは視認されるが、遮光部２２１に遮られ視点ＶＬからは視認されないものとなる。逆に光４１Ｌは、透光部２２２を通って視点ＶＬからは視認されるが、遮光部２２１に遮られ視点ＶＲからは視認されないものとなる。このとき、ポリマー層（スペーサ層）２３の厚さを調整することによって、視点ＶＲ、ＶＬの位置を調整できるようになっている。
FIG. 2B is a schematic diagram for explaining a mechanism that allows the
次に本発明に係る表示装置の製造方法の一実施形態を、上記液晶装置１の製造方法を例にして説明する。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a display device according to the present invention will be described using the method for manufacturing the
図３と図４は、液晶装置１の製造方法を説明する図である。まず、図３（ａ）に示すように、後述するフォトクロミック材料の混合物を、透明基板２１上にスピンコート法で塗布し、後述する視差バリア層の材料膜２２ａを形成する。なお、材料膜２２ａはスピンコート法で形成されているので、当然ながら平坦化処理する必要がなく、十分平坦なものとなる。前記フォトクロミック材料としては［化合物１］〜［化合物９］に示すようなものがあり、紫外線を照射されると、［化合物１］〜［化合物３］は赤色光の波長帯域以外の光を、［化合物４］〜［化合物６］は黄色光の波長帯域以外の光を、［化合物７］〜［化合物９］は青色光の波長帯域以外の光を、それぞれ吸収する物質となる。本実施形態では、［化合物１］、［化合物４］、［化合物７］に示したスピロオキサジン系のフォトクロミック材料の混合物を用いて前記材料膜２２ａを形成する。このように材料膜２２ａは、フォトクロミック材料を用いて形成しているので、詳しくは後述するが、材料膜２２ａに紫外線を選択的に照射することで視差バリア層を形成することができる。この紫外線を照射する工程は材料膜２２ａと非接触に行うことができるので、材料膜２２ａをこのまま保持しつつ、すなわち材料膜２２ａ上の平坦性を保持しつつ次の工程を行うことができる。
3 and 4 are diagrams for explaining a method of manufacturing the
次に、図３（ｂ）に示すように、前記材料膜２２ａ上にアクリル樹脂フィルムを加熱しながらラミネートし、ポリマー層（スペーサ層）２３を形成する。ポリマー層２３の厚さとしては例えば５０μｍとする。このとき、前記材料膜２２ａは平坦に形成しているので、前記ポリマー層２３は、この上を平坦化処理しなくとも、平坦に形成される。そして、このポリマー層２３上にカラーフィルタ層２４を形成する。カラーフィルタ層２４としては、例えば赤色部２４１、緑色部２４２、青色部２４３、及びこれらの間に非透過部（ブラックマトリックス）２４４を形成する。このとき、カラーフィルタ層２４は、前記ポリマー層２３を平坦に形成しているので、この上を平坦化処理しなくとも平坦に形成することができる。そして、前記カラーフィルタ層２４上に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電体を用いて、例えば蒸着法で対向電極（第２電極）２５を形成し、この対向電極２５上にポリイミド（ＰＩ）等からなる配向膜２６を形成する。このとき、前記カラーフィルタ層２４は平坦に形成しているので、対向電極２５や配向膜２６は、平坦化処理しなくとも平坦に形成される。これらの形成は公知の方法を用いて形成することができる。また、以上のようにして、紫外線バリア層を形成する前の第２基板の前駆体２０Ａを形成する。
Next, as shown in FIG. 3B, an acrylic resin film is laminated on the
また、前記前駆体２０Ａとは別に、図３（ｃ）に示すように、第１基板１０を形成する。まず、ガラス等からなる透明基板上に、図１に示したＴＦＴ素子３０やデータ線６ａ、走査線３ａ等を形成しＴＦＴ基板１１を形成する。次に、前記ＴＦＴ基板１１上にＩＴＯ等の透明導電体を用いて画素電極（第１電極）１２を形成し、この画素電極１２上にポリイミド等からなる配向膜１３を形成して、第１基板１０を形成する。これらは公知の方法を用いて形成することができる。
Separately from the
次に、図３（ｄ）に示すように、前記第１基板１０と前記前駆体２０Ａとを配向膜１３と２６とが内側となるように張り合わせ、これら基板間に液晶（電気光学物質）を注入し封止することで液晶層（電気光学物質層）３０を形成し、紫外線バリア層を形成する前の液晶装置の前駆体１Ａを形成する。
Next, as shown in FIG. 3D, the
次に、図４（ａ）に示すように、前記液晶の前駆体１Ａの透明基板２１側から紫外線レーザを選択的に照射する。このようにして、図４（ｂ）に示すように前記材料膜２２ａの紫外線を照射された部分を遮光部２２１、紫外線を照射されない部分を透光部２２２として形成し、遮光部２２１と透光部２２２とを有する視差バリア層２２を形成する。このように紫外線レーザを選択的に照射する方法によれば、レジストパターン等を用いることなく遮光部２２１と透光部２２２とをパターニングすることができ、製造コストを低減することができる。
Next, as shown in FIG. 4A, an ultraviolet laser is selectively irradiated from the
次に、図４（ｃ）に示すように、前記視差バリア層２２の透明基板２１側、特に本実施形態では、透明基板２１の液晶層３０と反対側の面に紫外線バリア層２７を形成して第２基板２０を形成し、液晶装置１を形成する。紫外線バリア層２７は、公知の紫外線吸収フィルム等を張着すること等で形成することができる。このように紫外線バリア層２７を形成したことにより、液晶装置１の紫外線バリア層２７側から視差バリア層２２に紫外線が照射されることが防止され、フォトクロミズムの可逆反応によって遮光部２２１の遮光性が損なわれることや、透光部２２２の透光性が損なわれることが防止され、視差バリア層２２を十分に機能させることができる。また、本実施形態では、最終工程で紫外線バリア層２７を形成しているので、この工程以前に視差バリア層２２に紫外線が照射されてしまい、遮光部２２１や透光部２２２の機能が損なわれた場合でも、フォトクロミズムの可逆反応を利用して遮光部２２１や透光部２２２を再形成することができ、確実に機能する視差バリア２２を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 4C, an
以上のようにして形成された本発明の表示装置１にあっては、フォトクロミック材料からなる視差バリア層２２は、透光部２２２となる部分が除去されずに形成されているので、十分に平坦なものになっている。したがって、透明基板２１と視差バリア層２２と、及び視差バリア層２２とポリマー層（スペーサ層）２３との接着面積を十分に大きなものとすることができ、これら層間の密着性を十分に確保することができる。よって、層間に剥離部分を生じることが防止され、この剥離部分を通過する光が散乱されて表示不良が生じることが防止される。また、前記剥離部分を通って水分等が浸入し、電気光学物質層（液晶層）３０等が劣化されることが防止される。また、視差バリア層２２が平坦になっているので、この上に形成されたポリマー層２３やカラーフィルタ層２４、対向電極２５は、凹凸がない平坦なものになっている。したがって、前記凹凸を通る光が散乱されることが防止され、表示不良が防止されたものとなる。
In the
以上のような本発明の製造方法によれば、視差バリア層２２は、材料膜２２ａの透光部２２１形成部分を除去することなく形成できるので、前記透光部２２１形成部を除去する工程が省略できる。また、材料膜２２ａの平坦性を保持しつつ、この上にポリマー層（スペーサ層）２３やカラーフィルタ層２４、第２電極（対向電極）２５及び配向膜２６等を形成することができ、これらの層を平坦化処理しなくとも平坦に形成することができ、平坦化処理を省略することができる。このようにして、液晶装置（表示装置）１を効率的に製造することができる。
According to the manufacturing method of the present invention as described above, since the
なお、紫外線バリア層２７は、視差バリア層２２の外側であればよく、例えば、透明基板２１上に紫外線バリア層２７を形成し、この紫外線バリア層２７上に視差バリア層２２の材料膜２２ａを形成した後、ポリマー層２３を形成する前に、材料膜２２ａの紫外線バリア層２７と反対の面側から紫外線を照射して、視差バリア層２２を形成してもよいし、必要に応じて複数形成しても良い。
The
また、電気光学物質層３０としては、液晶以外にも、有機ＥＬ材料や電気泳動材料等を用いてもよい。また、カラーフィルタ層２４を設けず、白黒画像を表示するようにしてもよいし、例えばカラー表示機能を有する有機ＥＬ素子を用いてフルカラー表示するようにしてもよい。また、２つ以上の視点から２つ以上の異なる画像が視認されるようにしてもよい。
In addition to the liquid crystal, the electro-
［電子機器］
上記実施形態の液晶装置（表示装置）を備えた電子機器の例について説明する。
図５（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記実施形態の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。図５（ｂ）は、本例の携帯電話によって立体画像Ｖを表示できる仕組みを説明する図である。図５（ｂ）が示すように、液晶表示部５０１からは、画像ＶＬ、ＶＲが異なる方向に向けて出力されており、ユーザーＵは画像ＶＬを左目視点で、画像ＶＲを右目視点で、それぞれ視認できるようになっている。これら画像ＶＬ、ＶＲが同時に視認されることにより、ユーザーＵは両眼視差によって遠近感のある立体画像Ｖを視認することができる。
また、図６（ａ）は、カーナビゲーションシステムの一例を示した斜視図である。図６（ａ）において、符号６００はカーナビゲーションシステム本体を示し、符号６０１は上記実施形態の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。図６（ｂ）は、本例のカーナビゲーションシステムによって、運転者ＤＲと助手席乗員ＰＡとが、異なる画像を視認できる仕組みを説明する図である。図６（ｂ）が示すように、液晶表示部６０１からは、画像ＶＬ、ＶＲが異なる方向に向けて出力されており、運転者ＤＲは画像ＶＲのみが、画像Ｖ助手席乗員ＰＡには画像ＶＬのみが、それぞれ視認される。このようにして、例えば運転者ＤＲが地図等の画像を視認しつつ、同時に助手席乗員ＰＡが映画等の画像を視認することができる。
このように図５と図６に例示した電子機器は、表示部に上述の本発明の一例たる表示装置（液晶装置）１を適用したものであるので、表示品質が高く、かつ長寿命の電子機器となる。
[Electronics]
An example of an electronic apparatus including the liquid crystal device (display device) according to the above embodiment will be described.
FIG. 5A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 5A,
FIG. 6A is a perspective view showing an example of a car navigation system. In FIG. 6A,
As described above, the electronic devices illustrated in FIGS. 5 and 6 are obtained by applying the above-described display device (liquid crystal device) 1 as an example of the present invention to the display unit. Therefore, the display device has high display quality and long life. It becomes equipment.
１・・・表示装置（液晶装置）、１０・・・第１基板、１１・・・ＴＦＴ基板、１２・・・第１電極（画素電極）、２０・・・第２基板、２１・・・透明基板、２２・・・視差バリア層、２２ａ・・・材料膜、２２１・・・遮光部、２２２・・・透光部、２３・・・スペーサ層（ポリマー層）、２４・・・カラーフィルタ層、２５・・・第２電極（対向電極）、２７・・・紫外線バリア層、３０・・・電気光学物質層（液晶層）、ＵＶ・・・紫外線。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記第２基板は、透明基板と、この透明基板の内面側に形成された視差バリア層と、この視差バリア層の内面側に形成された透光性のスペーサ層と、このスペーサ層の内面側に形成された第２電極と、前記視差バリア層の外面側に設けられた紫外線バリア層と、を有し、
前記視差バリア層は、紫外線感光性のフォトクロミック材料からなり、所定の位置に遮光部と透光部とを有していることを特徴とする表示装置。 A display device comprising: a first substrate having a first electrode; a second substrate disposed opposite to the first substrate; and an electro-optic material layer sandwiched between the substrates,
The second substrate includes a transparent substrate, a parallax barrier layer formed on the inner surface side of the transparent substrate, a translucent spacer layer formed on the inner surface side of the parallax barrier layer, and an inner surface side of the spacer layer A second electrode formed on the outer surface of the parallax barrier layer, and an ultraviolet barrier layer provided on the outer surface side of the parallax barrier layer,
The display device, wherein the parallax barrier layer is made of an ultraviolet photosensitive photochromic material, and has a light shielding portion and a light transmitting portion at predetermined positions.
前記第２基板を形成する工程は、透明基板上に紫外線感光性のフォトクロミック材料を成膜し、視差バリア層の材料膜を形成する工程と、前記材料膜に紫外線を選択的に照射して遮光部と透光部とをパターニングし、視差バリア層を形成する工程と、前記視差バリア層上もしくはその材料膜上に透光性のスペーサ層を形成する工程と、前記スペーサ層上に第２電極を形成する工程と、前記視差バリア層もしくはその材料膜上の透明基板側に紫外線バリア層を設ける工程と、を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 A method for manufacturing a display device, comprising: a first substrate having a first electrode; a second substrate disposed opposite to the first substrate; and an electro-optic material layer sandwiched between the substrates. ,
The step of forming the second substrate includes a step of forming an ultraviolet-sensitive photochromic material on a transparent substrate and forming a material film of a parallax barrier layer, and selectively irradiating the material film with ultraviolet rays to block light. Forming a parallax barrier layer by patterning the portion and the translucent portion, forming a translucent spacer layer on the parallax barrier layer or its material film, and a second electrode on the spacer layer And a step of providing an ultraviolet barrier layer on the transparent substrate side of the parallax barrier layer or its material film.
これらの工程の後に前記材料膜に選択的に紫外線を照射して遮光部と透光部とをパターニングする工程と、その後に前記紫外線バリア層を形成する工程とを有することを特徴とする請求項５に記載の表示装置の製造方法。 A step of forming the first substrate, a step of bonding the first substrate and the precursor of the second substrate before forming the ultraviolet barrier layer, and a region between the first substrate and the second substrate; Forming an electro-optic material layer,
The method further comprises: after these steps, selectively irradiating the material film with ultraviolet rays to pattern the light-shielding portion and the light-transmitting portion; and thereafter forming the ultraviolet barrier layer. 6. A method for manufacturing the display device according to 5.
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