JP2008221707A - Image forming apparatus and image forming method - Google Patents
Image forming apparatus and image forming method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008221707A JP2008221707A JP2007065204A JP2007065204A JP2008221707A JP 2008221707 A JP2008221707 A JP 2008221707A JP 2007065204 A JP2007065204 A JP 2007065204A JP 2007065204 A JP2007065204 A JP 2007065204A JP 2008221707 A JP2008221707 A JP 2008221707A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- emitting element
- lens
- spot
- pitch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
この発明は、ラインヘッドを用いて感光対等の潜像担持体表面を露光することで、画像を形成する技術に関するものである。 The present invention relates to a technique for forming an image by exposing a surface of a latent image carrier such as a photosensitive pair using a line head.
感光体の表面を副走査方向に搬送しつつ、該感光体表面に光ビームを露光することで静電潜像を形成する技術が知られている。つまり、かかる技術では、感光体表面を副走査方向に搬送しつつ、光ビームを主走査方向に並べて露光することで、感光体表面に対して二次元の静電潜像が形成される。また、特許文献1には、発光素子から射出された光ビームを感光体表面に向けて結像するラインヘッドが記載されるとともに、該ラインヘッドを用いて感光体表面を露光する技術が記載されている。より具体的には、かかるラインヘッドでは、複数の発光素子からなる発光素子グループが、主走査方向に対応する長手方向に複数並べられている。また、これら複数の発光素子グループに一対一で対応して複数のレンズが配置されている。そして、複数のレンズの各々は、対応する発光素子グループの発光素子から射出された光ビームを感光体表面に向けて結像する。そして、このように結像された光ビームにより、感光体表面が露光される。
A technique is known in which an electrostatic latent image is formed by exposing a light beam to the surface of the photoconductor while conveying the surface of the photoconductor in the sub-scanning direction. That is, in such a technique, a two-dimensional electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductor by exposing the photoconductor surface in the sub-scanning direction and aligning and exposing the light beam in the main scanning direction.
詳述すると、特許文献1記載の技術では、発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が長手方向に所定の発光素子ピッチで配置されるている。そして、各発光素子グループから射出された光ビームは、該発光素子グループに対応するレンズにより潜像担持体表面に結像される。これにより、各発光素子グループに対応して、主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが、潜像担持体表面に形成される。
More specifically, in the technique described in
ところで、特許文献1記載の技術では、複数の発光素子グループが長手方向に並ぶのに対応して、複数のレンズは長手方向に直線状に並んでレンズ行を構成している。また、同文献に記載の技術ではレンズ行は1行のみであるが、感光体表面に形成される潜像の解像度を上げる等の理由から、レンズ行を複数行用いることが従来より提案されている。しかしながら、いわゆる感光体ドラムのように、表面の形状が曲率を有している感光体に対して、複数のレンズ行を用いて露光を行なうにあたっては、次のような問題が発生する場合があった。つまり、複数のレンズ行を用いるラインヘッドは、これら複数のレンズ行を、感光体表面の搬送方向である副走査方向に対応する幅方向に並べて、該感光体表面に対向配置する。これに対して、感光体の表面が副走査断面において曲率を有していると、かかる曲率に起因して、複数のレンズ行の間で潜像担持体表面に形成するスポットグループのスポットピッチが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという問題、つまり露光不良が発生する可能性があった。
By the way, in the technique described in
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、複数のレンズ行を用いて感光体等の潜像担持体の表面を露光するにあたって、潜像担持体の表面の曲率形状に依らず露光不良の発生を抑制する技術の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and when exposing the surface of a latent image carrier such as a photoconductor using a plurality of lens rows, exposure failure is caused regardless of the curvature shape of the surface of the latent image carrier. The purpose is to provide technology to suppress the occurrence.
この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、表面が主走査方向と略直交する副走査方向に搬送される潜像担持体と、主走査方向に対応する長手方向に複数のレンズを並べてなるレンズ行を、N行(Nは3以上の整数)副走査方向に対応する幅方向の互いに異なる配置位置に潜像担持体表面に対向して配置したレンズアレイと、複数の発光素子グループを複数のレンズに対応して配置したヘッド基板とを有するラインヘッドとを備え、複数の発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が長手方向に所定の発光素子ピッチで配置されるとともに、該発光素子グループの発光素子はそれぞれ潜像担持体表面の副走査方向の移動に応じたタイミングで光ビームを射出し、該発光素子グループからの光ビームが該発光素子グループに対応するレンズにより潜像担持体表面に向けて結像されて、主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが該発光素子グループに対応して潜像担持体表面に形成され、N行のレンズ行のそれぞれは、潜像担持体表面の副走査方向において互いに異なる対向位置に対向しており、潜像担持体の表面のうちレンズアレイと対向する表面領域は副走査断面において曲率を有しており、複数のレンズそれぞれによる光ビームの結像位置は、潜像担持体表面の曲率形状に応じた位置となるように調整されており、しかも、スポットピッチがスポットグループに依らず一定となるように、複数の発光素子グループのそれぞれでは発光素子の配置が調整されていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, an image forming apparatus according to the present invention has a latent image carrier whose surface is conveyed in a sub-scanning direction substantially perpendicular to the main scanning direction, and a plurality of longitudinal image carriers in the longitudinal direction corresponding to the main scanning direction. A lens array in which lenses are arranged side by side in a width direction corresponding to N rows (N is an integer of 3 or more) in the sub-scanning direction and facing the surface of the latent image carrier, and a plurality of light emission And a line head having a head substrate in which element groups are arranged corresponding to a plurality of lenses, and in each of the plurality of light emitting element groups, a plurality of light emitting elements are arranged at a predetermined light emitting element pitch in the longitudinal direction. The light emitting elements in the light emitting element group each emit a light beam at a timing corresponding to the movement of the surface of the latent image carrier in the sub-scanning direction, and the light beam from the light emitting element group A spot group consisting of a plurality of spots that are imaged toward the surface of the latent image carrier by a lens corresponding to the group and arranged at a predetermined spot pitch in the main scanning direction corresponds to the light emitting element group. Each of the N lens rows formed on the surface is opposed to different positions in the sub-scanning direction of the surface of the latent image carrier, and a surface region of the surface of the latent image carrier that faces the lens array is It has a curvature in the sub-scan section, and the imaging position of the light beam by each of the plurality of lenses is adjusted to be a position corresponding to the curvature shape of the surface of the latent image carrier, and the spot pitch is Each of the plurality of light emitting element groups is characterized in that the arrangement of the light emitting elements is adjusted so as to be constant regardless of the spot group.
また、この発明にかかる画像形成方法は、上記目的を達成するために、表面が主走査方向と略直交する副走査方向に搬送される潜像担持体の表面をラインヘッドにより露光する露光工程を備え、ラインヘッドは、主走査方向に対応する長手方向に複数のレンズを並べてなるレンズ行を、N行(Nは3以上の整数)副走査方向に対応する幅方向の互いに異なる配置位置に潜像担持体表面に対向して配置したレンズアレイと、複数の発光素子グループを複数のレンズに対応して配置したヘッド基板とを有し、複数の発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が長手方向に所定の発光素子ピッチで配置されるとともに、該発光素子グループの発光素子はそれぞれ潜像担持体表面の副走査方向の移動に応じたタイミングで光ビームを射出し、該発光素子グループからの光ビームが該発光素子グループに対応するレンズにより潜像担持体表面に向けて結像されて、主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが該発光素子グループに対応して潜像担持体表面に形成され、N行のレンズ行のそれぞれは、潜像担持体表面の副走査方向において互いに異なる対向位置に対向しており、潜像担持体の表面のうちレンズアレイと対向する表面領域は副走査断面において曲率を有しており、複数のレンズそれぞれによる光ビームの結像位置は、潜像担持体表面の曲率形状に応じた位置となるように調整されており、しかも、スポットピッチがスポットグループに依らず一定となるように、複数の発光素子グループのそれぞれでは発光素子の配置が調整されていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, the image forming method according to the present invention includes an exposure step of exposing the surface of the latent image carrier, whose surface is conveyed in the sub-scanning direction substantially perpendicular to the main scanning direction, with a line head. The line head includes lens rows in which a plurality of lenses are arranged in the longitudinal direction corresponding to the main scanning direction and are arranged in different arrangement positions in the width direction corresponding to the N rows (N is an integer of 3 or more) and the sub-scanning direction. A lens array disposed opposite to the surface of the image carrier, and a head substrate in which a plurality of light emitting element groups are disposed corresponding to the plurality of lenses, and each of the plurality of light emitting element groups includes a plurality of light emitting elements. The light emitting elements of the light emitting element group emit light beams at a timing corresponding to the movement of the surface of the latent image carrier in the sub-scanning direction. A light beam from the light emitting element group is imaged toward the surface of the latent image carrier by a lens corresponding to the light emitting element group, and a spot group including a plurality of spots arranged at a predetermined spot pitch in the main scanning direction emits the light. Each of the N lens rows is formed on the surface of the latent image carrier corresponding to the element group, and is opposed to a different position in the sub-scanning direction of the surface of the latent image carrier. Among these, the surface region facing the lens array has a curvature in the sub-scanning cross section, and the imaging position of the light beam by each of the plurality of lenses is set to a position corresponding to the curvature shape of the latent image carrier surface. The arrangement of the light emitting elements is adjusted in each of the plurality of light emitting element groups so that the spot pitch is constant regardless of the spot group. It is characterized in that there.
このように構成された発明(画像形成装置、画像形成方法)は、潜像担持体の表面の露光をラインヘッドにより行なう。潜像担持体の表面は主走査方向に略直交する副走査方向に搬送されている。そして、このように副走査方向に搬送される潜像担持体表面に対して、ラインヘッドにより露光を行なうことで、静電潜像を形成することが可能となる。このとき、ラインヘッドは、その長手方向が主走査方向に対応するとともに、その幅方向が副走査方向に対応するように、潜像担持体に対して配置されている。 In the invention thus configured (image forming apparatus, image forming method), the surface of the latent image carrier is exposed by the line head. The surface of the latent image carrier is conveyed in the sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction. An electrostatic latent image can be formed by exposing the surface of the latent image carrier conveyed in the sub-scanning direction with a line head. At this time, the line head is arranged with respect to the latent image carrier so that the longitudinal direction thereof corresponds to the main scanning direction and the width direction thereof corresponds to the sub scanning direction.
ラインヘッドは、レンズアレイとヘッド基板とを備える。レンズアレイは、長手方向に複数のレンズを並べてなるレンズ行を、N行(Nは3以上の整数)幅方向の互いに異なる配置位置に潜像担持体表面に対向して配置している。また、ヘッド基板は、複数の発光素子グループを複数のレンズに対応して配置している。そして、複数のレンズのそれぞれは、該レンズが対応する発光素子グループの発光素子から射出された光ビームを、該レンズが対向する潜像担持体表面に向けて結像する。 The line head includes a lens array and a head substrate. In the lens array, lens rows formed by arranging a plurality of lenses in the longitudinal direction are arranged opposite to the surface of the latent image carrier at different arrangement positions in N rows (N is an integer of 3 or more) in the width direction. The head substrate has a plurality of light emitting element groups arranged corresponding to a plurality of lenses. Each of the plurality of lenses forms an image of the light beam emitted from the light emitting element of the light emitting element group corresponding to the lens toward the surface of the latent image carrier facing the lens.
つまり、上述のように構成された発明においては、複数の発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が長手方向において所定の発光素子ピッチで配置されている。また、発光素子グループの発光素子はそれぞれ潜像担持体表面の副走査方向の移動に応じたタイミングで光ビームを射出する。そして、かかるタイミングで発光素子グループの発光素子から射出された光ビームが、該発光素子グループに対応するレンズにより潜像担持体表面に向けて結像される。その結果、主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが、該発光素子グループに対応して潜像担持体表面に形成される。 That is, in the invention configured as described above, in each of the plurality of light emitting element groups, the plurality of light emitting elements are arranged at a predetermined light emitting element pitch in the longitudinal direction. In addition, each light emitting element of the light emitting element group emits a light beam at a timing corresponding to the movement of the surface of the latent image carrier in the sub-scanning direction. Then, the light beam emitted from the light emitting element of the light emitting element group at such timing is imaged toward the surface of the latent image carrier by the lens corresponding to the light emitting element group. As a result, a spot group composed of a plurality of spots arranged at a predetermined spot pitch in the main scanning direction is formed on the surface of the latent image carrier corresponding to the light emitting element group.
ところで、上記ラインヘッドでは、複数のレンズ行のそれぞれは、潜像担持体表面の副走査方向において互いに異なる対向位置に対向する。つまり、異なるレンズ行に属するレンズによって結像された光ビームの結像位置は、副走査方向において互いに異なる。一方、潜像担持体の表面のうちレンズアレイと対向する表面領域は副走査断面において曲率を有している。そこで、潜像担持体表面の曲率形状に対応すべく、上記発明では、複数のレンズそれぞれによる光ビームの結像位置は、潜像担持体表面の曲率形状に応じた位置となるように調整されている。しかしながら、後に詳述するように、かかる潜像担持体表面の曲率に応じて結像位置を調整したことに起因して、複数のレンズ行の間で潜像担持体表面に形成するスポットグループのスポットピッチが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという問題、つまり露光不良が発生する可能性があった。 By the way, in the line head, each of the plurality of lens rows is opposed to different opposing positions in the sub-scanning direction of the surface of the latent image carrier. That is, the imaging positions of the light beams formed by the lenses belonging to different lens rows are different from each other in the sub-scanning direction. On the other hand, the surface area facing the lens array in the surface of the latent image carrier has a curvature in the sub-scanning section. Therefore, in order to correspond to the curvature shape of the surface of the latent image carrier, in the above invention, the imaging position of the light beam by each of the plurality of lenses is adjusted to be a position corresponding to the curvature shape of the surface of the latent image carrier. ing. However, as will be described in detail later, due to the adjustment of the imaging position in accordance with the curvature of the surface of the latent image carrier, the spot group formed on the surface of the latent image carrier between a plurality of lens rows. The spot pitch is different, and as a result, there is a possibility that good exposure cannot be performed, that is, an exposure failure may occur.
これに対して、上記発明では、スポットピッチがスポットグループに依らず一定となるように、複数の発光素子グループのそれぞれでは発光素子の配置が調整されている。よって、スポットグループのスポットピッチが異なるために良好な露光が行なえないという露光不良の発生が抑制されており、上記発明は好適である。 On the other hand, in the said invention, arrangement | positioning of the light emitting element is adjusted in each of several light emitting element groups so that spot pitch may become fixed irrespective of a spot group. Therefore, since the spot pitch of the spot groups is different, the occurrence of exposure failure that prevents good exposure cannot be performed, and the above invention is preferable.
また、スポットピッチがスポットグループに依らず一定となるように、複数の発光素子グループのそれぞれでは複数の発光素子の発光素子ピッチが調整されるように、上記発明を構成していも良い。なんとなれば、発光素子ピッチを調整することで、潜像担持体表面に形成される複数のスポットのスポットピッチを、スポットグループに依らず略一定とすることが可能となり、好適であるからである。 Further, the invention may be configured such that the light emitting element pitch of the plurality of light emitting elements is adjusted in each of the plurality of light emitting element groups so that the spot pitch is constant regardless of the spot group. This is because, by adjusting the light emitting element pitch, the spot pitch of a plurality of spots formed on the surface of the latent image carrier can be made substantially constant regardless of the spot group, which is preferable. .
また、複数の発光素子グループのそれぞれでは、長手方向に所定個数の発光素子を並べてなる発光素子行が幅方向に所定の発光素子行ピッチで複数行配置されるように、複数の発光素子は配置されており、更に、発光素子行ピッチも調整されるように、上記発明を構成していも良い。なんとなれば、このように構成された発明は、潜像担持体表面に形成されるスポットグループの直線性を容易に実現することが可能であり、好適であるからである。 In each of the plurality of light emitting element groups, the plurality of light emitting elements are arranged such that a plurality of light emitting element rows in which a predetermined number of light emitting elements are arranged in the longitudinal direction are arranged at a predetermined light emitting element row pitch in the width direction. In addition, the invention may be configured such that the light emitting element row pitch is also adjusted. This is because the invention configured in this way is preferable because it can easily realize the linearity of the spot group formed on the surface of the latent image carrier.
また、発光素子ピッチは、幅方向の一方方向の上流側の発光素子グループから一方方向の下流側の発光素子グループに向うに連れて、大きくなるように、上記発明を構成しても良い。また、N行のレンズ行は、幅方向に所定のレンズ行ピッチで並ぶとともに、幅方向に略垂直な対称軸に対して幅方向において略対称に配置されており、複数の発光素子グループのうち、N行のレンズ行のうちの対称軸に最も近いレンズ行に属するレンズに対応する発光素子グループを中央発光素子グループと定義し、N行のレンズ行のうちの幅方向の各端部のレンズ行に属するレンズに対応する発光素子グループを端部発光素子グループと定義したとき、発光素子ピッチは、中央発光素子グループから端部発光素子グループに向うに連れて小さくなるように、上記発明を構成しても良い。なんとなれば、後に説明するように、このように構成することで、ヘッド基板における配線の自由度が向上するからである。 Further, the invention may be configured such that the light emitting element pitch increases from the upstream light emitting element group in one direction in the width direction toward the light emitting element group in the downstream in one direction. The N lens rows are arranged at a predetermined lens row pitch in the width direction, and are arranged substantially symmetrically in the width direction with respect to a symmetry axis substantially perpendicular to the width direction. The light emitting element group corresponding to the lens belonging to the lens line closest to the symmetry axis among the N lens lines is defined as a central light emitting element group, and the lens at each end in the width direction of the N lens lines. When the light emitting element group corresponding to the lens belonging to the row is defined as the end light emitting element group, the above invention is configured such that the light emitting element pitch decreases from the central light emitting element group toward the end light emitting element group. You may do it. This is because, as will be described later, this configuration improves the degree of freedom of wiring on the head substrate.
図1は本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図である。また、図2は図1の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。なお図1は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリなどを有するメインコントローラMCに与えられると、このメインコントローラMCはエンジンコントローラECに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータVDをヘッドコントローラHCに与える。また、このヘッドコントローラHCは、メインコントローラMCからのビデオデータVDとエンジンコントローラECからの垂直同期信号Vsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド29を制御する。これによって、エンジン部EGが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an image forming apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a diagram showing an electrical configuration of the image forming apparatus of FIG. This apparatus uses a color mode in which four color toners of black (K), cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are superimposed to form a color image, and only black (K) toner. Thus, the image forming apparatus can selectively execute a monochrome mode for forming a monochrome image. FIG. 1 is a diagram corresponding to the execution of the color mode. In this image forming apparatus, when an image formation command is given from an external device such as a host computer to a main controller MC having a CPU, a memory, etc., the main controller MC gives a control signal and the like to the engine controller EC as well as an image formation command. Corresponding video data VD is supplied to the head controller HC. The head controller HC controls the
この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体3内には、電源回路基板、メインコントローラMC、エンジンコントローラECおよびヘッドコントローラHCを内蔵する電装品ボックス5が設けられている。また、画像形成ユニット7、転写ベルトユニット8および給紙ユニット11もハウジング本体3内に配設されている。また、図1においてハウジング本体3内右側には、2次転写ユニット12、定着ユニット13、シート案内部材15が配設されている。なお、給紙ユニット11は、装置本体1に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット11および転写ベルトユニット8については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
In the housing
画像形成ユニット7は、複数の異なる色の画像を形成する4個の画像形成ステーションY(イエロー用)、M(マゼンダ用)、C(シアン用)、K(ブラック用)を備えている。また、各画像形成ステーションY,M,C,Kは、主走査方向MDに所定長さの表面を有する円筒形の感光体ドラム21を設けている。なお、本明細書において、円筒形の周表面の形状を「曲率形状」と定義するとともに、「表面が曲率を有し」と称した場合は表面の形状が曲率形状であることを意味するものとする。また、本明細書において、「曲率形状の曲率中心」と称した場合は、該曲率中心は円筒形の中心軸上の点を意味するものとする。そして、各画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれは、対応する色のトナー像を、感光体ドラム21の表面に形成する。感光体ドラムは、軸方向が主走査方向MDに略平行となるように配置されている。また、各感光体ドラム21はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印D21の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム21の表面が、主走査方向MDに略直交する副走査方向SDに搬送されることとなる。また、感光体ドラム21の周囲には、回転方向に沿って帯電部23、ラインヘッド29、現像部25および感光体クリーナ27が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションY,M,C,Kで形成されたトナー像を転写ベルトユニット8が有する転写ベルト81に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションKで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図1において、画像形成ユニット7の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
The
帯電部23は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム21の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム21の回転動作に伴って感光体ドラム21に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部(図示省略)に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部23と感光体ドラム21が当接する帯電位置で感光体ドラム21の表面を帯電させる。
The charging
ラインヘッド29は、その長手方向が主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向が副走査方向SDに対応するように、感光体ドラム21に対して配置されている。したがって、ラインヘッド29の長手方向は、主走査方向MDと略平行である。そして、ラインヘッドは、長手方向に並べて配置された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム21から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部23により帯電された感光体ドラム21の表面に対して光を照射して(つまり、露光して)該表面に潜像を形成する(露光工程)。なお、この実施形態では、各色のラインヘッド29を制御するためにヘッドコントローラHCが設けられ、メインコントローラMCからのビデオデータVDと、エンジンコントローラECからの信号とに基づき各ラインヘッド29を制御している。すなわち、この実施形態では、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラMCの画像処理部51に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータVDが作成されるとともに、該ビデオデータVDがメイン側通信モジュール52を介してヘッドコントローラHCに与えられる。また、ヘッドコントローラHCでは、ビデオデータVDはヘッド側通信モジュール53を介してヘッド制御モジュール54に与えられる。このヘッド制御モジュール54には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号VsyncがエンジンコントローラECから与えられている。そして、これらの信号およびビデオデータVDなどに基づきヘッドコントローラHCは各色のラインヘッド29に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各ラインヘッド29に出力する。こうすることで、各ラインヘッド29において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
The
そして、この実施形態においては、各画像形成ステーションY,M,C,Kの感光体ドラム21、帯電部23、現像部25および感光体クリーナ27を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラECと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラECに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
In this embodiment, the
現像部25は、その表面にトナーが担持する現像ローラ251を有する。そして、現像ローラ251と電気的に接続された現像バイアス発生部(図示省略)から現像ローラ251に印加される現像バイアスによって、現像ローラ251と感光体ドラム21とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ251から感光体ドラム21に移動してラインヘッド29により形成された静電潜像が顕在化される。
The developing
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム21の回転方向D21に搬送された後、後に詳述する転写ベルト81と各感光体ドラム21が当接する1次転写位置TR1において転写ベルト81に1次転写される。
The toner image that has been made visible at the developing position in this way is conveyed in the rotational direction D21 of the
また、この実施形態では、感光体ドラム21の回転方向D21の1次転写位置TR1の下流側で且つ帯電部23の上流側に、感光体ドラム21の表面に当接して感光体クリーナ27が設けられている。この感光体クリーナ27は、感光体ドラムの表面に当接することで1次転写後に感光体ドラム21の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
In this embodiment, a
転写ベルトユニット8は、駆動ローラ82と、図1において駆動ローラ82の左側に配設される従動ローラ83(ブレード対向ローラ)と、これらのローラに張架され図示矢印D81の方向(搬送方向)へ循環駆動される転写ベルト81とを備えている。また、転写ベルトユニット8は、転写ベルト81の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションY,M,C,Kが有する感光体ドラム21各々に対して一対一で対向配置される、4個の1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを備えている。これらの1次転写ローラ85は、それぞれ1次転写バイアス発生部(図示省略)と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図1に示すように全ての1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを画像形成ステーションY,M,C,K側に位置決めすることで、転写ベルト81を画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれが有する感光体ドラム21に押し遣り当接させて、各感光体ドラム21と転写ベルト81との間に1次転写位置TR1を形成する。そして、適当なタイミングで上記1次転写バイアス発生部から1次転写ローラ85に1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してカラー画像を形成する。
The
一方、モノクロモード実行時は、4個の1次転写ローラ85のうち、カラー1次転写ローラ85Y,85M,85Cをそれぞれが対向する画像形成ステーションY,M,Cから離間させるとともにモノクロ1次転写ローラ85Kのみを画像形成ステーションKに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションKのみを転写ベルト81に当接させる。その結果、モノクロ1次転写ローラ85Kと画像形成ステーションKとの間にのみ1次転写位置TR1が形成される。そして、適当なタイミングで前記1次転写バイアス発生部からモノクロ1次転写ローラ85Kに1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してモノクロ画像を形成する。
On the other hand, when the monochrome mode is executed, among the four
さらに、転写ベルトユニット8は、モノクロ1次転写ローラ85Kの下流側で且つ駆動ローラ82の上流側に配設された下流ガイドローラ86を備える。また、この下流ガイドローラ86は、モノクロ1次転写ローラ85Kが画像形成ステーションKの感光体ドラム21に当接して形成する1次転写位置TR1での1次転写ローラ85Kと感光体ドラム21との共通内接線上において、転写ベルト81に当接するように構成されている。
Further, the
駆動ローラ82は、転写ベルト81を図示矢印D81の方向に循環駆動するとともに、2次転写ローラ121のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ82の周面には、厚さ3mm程度、体積抵抗率が1000kΩ・cm以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する2次転写バイアス発生部から2次転写ローラ121を介して供給される2次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ82に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ82と2次転写ローラ121との当接部分(2次転写位置TR2)へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト81に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
The
給紙ユニット11は、シートを積層保持可能である給紙カセット77と、給紙カセット77からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ79とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ79により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対80において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材15に沿って2次転写位置TR2に給紙される。
The
2次転写ローラ121は、転写ベルト81に対して離当接自在に設けられ、2次転写ローラ駆動機構(図示省略)により離当接駆動される。定着ユニット13は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ131と、この加熱ローラ131を押圧付勢する加圧部132とを有している。そして、その表面に画像が2次転写されたシートは、シート案内部材15により、加熱ローラ131と加圧部132の加圧ベルト1323とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部132は、2つのローラ1321,1322と、これらに張架される加圧ベルト1323とで構成されている。そして、加圧ベルト1323の表面のうち、2つのローラ1321,1322により張られたベルト張面を加熱ローラ131の周面に押し付けることで、加熱ローラ131と加圧ベルト1323とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体3の上面部に設けられた排紙トレイ4に搬送される。
The
また、この装置では、ブレード対向ローラ83に対向してクリーナ部71が配設されている。クリーナ部71は、クリーナブレード711と廃トナーボックス713とを有する。クリーナブレード711は、その先端部を転写ベルト81を介してブレード対向ローラ83に当接することで、2次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス713に回収される。また、クリーナブレード711及び廃トナーボックス713は、ブレード対向ローラ83と一体的に構成されている。したがって、次に説明するようにブレード対向ローラ83が移動する場合は、ブレード対向ローラ83と一緒にクリーナブレード711及び廃トナーボックス713も移動することとなる。
Further, in this apparatus, a
図3は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の概略を示す斜視図である。また、図4は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の幅方向の断面図である。上述の通り、その長手方向LGDが主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向LTDが副走査方向SDに対応するように、ラインヘッド29は感光体ドラム21に対して配置されている。なお、長手方向LGDと幅方向LTDは、互いに略直交する。本実施形態におけるラインヘッド29は、ケース291を備えるとともに、かかるケース291の長手方向LGDの両端には、位置決めピン2911とねじ挿入孔2912が設けられている。そして、かかる位置決めピン2911を、感光体ドラム21を覆うとともに感光体ドラム21に対して位置決めされた感光体カバー(図示省略)に穿設された位置決め孔(図示省略)に嵌め込むことで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔2912を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔(図示省略)にねじ込んで固定することで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決め固定される。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of the line head according to the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view in the width direction of one embodiment of the line head according to the present invention. As described above, the
ケース291は、感光体ドラム21の表面に対向する位置にレンズアレイ299を保持するとともに、その内部に、該レンズアレイ299に近い順番で、遮光部材297及びヘッド基板293を備えている。また、ヘッド基板293の裏面(ヘッド基板293が有する2つの面のうちレンズアレイ299と逆側の面)には、複数の発光素子グループ295が設けられている。即ち、複数の発光素子グループ295は、ヘッド基板293の裏面に、長手方向LGD及び幅方向LTDに互いに所定間隔だけ離れて2次元的に配置されている。ここで、複数の発光素子グループ295の各々は、複数の発光素子を2次元的に配列して構成されるが、これについては後に説明する。また、本実施形態では、発光素子としてボトムエミッション型の有機EL(Electro-Luminescence)素子を用いる。つまり、本実施形態では、ヘッド基板293の裏面に有機EL素子を発光素子として配置している。そして、同ヘッド基板293に形成された駆動回路によって各発光素子が駆動されると、該発光素子から感光体ドラム21の方向に光ビームが射出される。この光ビームは、ヘッド基板293を介して遮光部材297へ向うこととなる。
The
遮光部材297には、複数の発光素子グループ295に対して一対一で複数の導光孔2971が穿設されている。また、かかる導光孔2971は、ヘッド基板293の法線と平行な線を中心軸として遮光部材297を貫通する略円柱状の孔として穿設されている。よって、1つの発光素子グループ295に属する発光素子から出た光は全て同一の導光孔2971を介してレンズアレイ299へ向うとともに、異なる発光素子グループ295からでた光ビーム同士の干渉が遮光部材297により防止される。そして、遮光部材297に穿設された導光孔2971を通過した光ビームは、レンズアレイ299により、感光体ドラム21の表面にスポットとして結像されることとなる。なお、レンズアレイ299の具体的構成、及び、該レンズアレイ299による光ビームの結像状態については、後に詳述する。
A plurality of
図4に示すように、固定器具2914によって、裏蓋2913がヘッド基板293を介してケース291に押圧されている。つまり、固定器具2914は、裏蓋2913をケース291側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース291の内部を光密に(つまり、ケース291内部から光が漏れないように、及び、ケース291の外部から光が侵入しないように)密閉している。なお、固定器具2914は、ケース291の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ295は、封止部材294により覆われている。
As shown in FIG. 4, the
図5は、レンズアレイの概略を示す斜視図である。また、図6は、レンズアレイの長手方向LGDの断面図である。レンズアレイ299は、レンズ基板2991有する。そして、該レンズ基板2991の裏面2991BにレンズLSの第1面LSFfが形成されるとともに、レンズ基板2991の表面2991AにレンズLSの第2面LSFsが形成される。そして、互いに対向するレンズの第1面LSFfと第2面LSFsと、これら2面に挟まれるレンズ基板2991とで、1つのレンズLSとして機能する。なお、レンズLSの第1面LSFfおよび第2面LSFsは、例えば樹脂により形成することができる。
FIG. 5 is a perspective view schematically showing the lens array. FIG. 6 is a cross-sectional view of the lens array in the longitudinal direction LGD. The
そして、レンズアレイ299は、複数のレンズLSをそれぞれの光軸OAが互いに略平行となるように配置している。また、レンズアレイ299は、レンズLSの光軸OAがヘッド基板293の裏面(発光素子2951が配置されている面)に略直交するように配置されている。このとき、これら複数のレンズLSは、複数の発光素子グループ295に一対一で配置されている。つまり、複数のレンズLSは、発光素子グループ295の配置に対応して、長手方向LGD及び幅方向LTDに互いに所定間隔だけ離れて2次元的に配置されている。より具体的に述べると、長手方向LGDに複数のレンズLSを並べてなるレンズ行LSRを、幅方向LTDに複数行並べている。なお、本実施形態では、3行のレンズ行LSR1、LSR2、LSR3が幅方向LTDに並べられている。また、3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、長手方向互いに所定のレンズピッチPlsだけずれて配置されている。
In the
図7はラインヘッドにおける発光素子グループの配置を示す図である。図8は、各発光素子グループにおける発光素子の配置を示す図である。本実施形態では、各発光素子グループ295において、長手方向LGDに8個の発光素子2951が所定の素子ピッチPelで並べられている。また、本実施形態の各発光素子グループ295は、長手方向LGDに4個の発光素子2951を所定間隔(素子ピッチPelの2倍の間隔)で並べてなる発光素子行2951Rを、幅方向LTDに素子行ピッチPelrだけ間隔を空けて2行配置している。そして、複数の発光素子グループ295は次のように配置されている。
FIG. 7 is a diagram showing the arrangement of the light emitting element groups in the line head. FIG. 8 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements in each light emitting element group. In the present embodiment, in each light emitting
つまり、発光素子グループ295を長手方向LGDに所定個数並べて構成される発光素子グループ行295Rが、幅方向LTDに3行並ぶように、複数の発光素子グループ295は配置されている。また、全ての発光素子グループ295は、互いに異なる長手方向位置に配置されている。更に、長手方向位置が隣り合う発光素子グループ(例えば、発光素子グループ295_C1と発光素子グループ295_B1)の幅方向位置が互いに異なるように、複数の発光素子グループ295は配置されている。なお、本明細書において、発光素子2951の幾何重心を発光素子2951の位置とするとともに、同一の発光素子グループ295に属する全ての発光素子位置の幾何重心を発光素子グループ295の位置とする。また、長手方向位置及び幅方向位置とはそれぞれ注目する位置の長手方向成分及び幅方向成分を意味する。
That is, the plurality of light emitting
上記した発光素子グループ295の配置に対応して、遮光部材297に導光孔2971が穿設されるとともに、レンズLSが配置される。つまり、本実施形態においては、発光素子グループ295の重心位置と、導光孔2971の中心軸と、レンズLSの光軸OAとは、略一致するように構成されている。そして、発光素子グループ295の発光素子2951から射出された光ビームは、対応する導光孔2971を介してレンズアレイ299に入射するとともに、該レンズアレイ299により感光体ドラム21の表面にスポットとして結像される。
Corresponding to the arrangement of the light emitting
図9は、長手方向と光軸とを含む断面におけるレンズの結像状態を示す図である。また、同図は、レンズLSの結像状態を示すために、ヘッド基板293の裏面にある仮想物点OM0、OM1、OM2からの光ビームの軌跡を表している。ここで、仮想物点OM0は、光軸OAの上にある。また、仮想物点OM1、OM2は、光軸OAに対して互いに対称な位置に位置する。かかる軌跡が示すように、仮想物点から射出された光ビームは、ヘッド基板293の裏面に入射した後、該ヘッド基板293の表面から射出される。そして、ヘッド基板293の表面から射出された光ビームはレンズLSを介して像面IP(感光体ドラム21の表面)に到達する。ここで、ヘッド基板293及びレンズLSは、それぞれ所定の屈折率を有する。
FIG. 9 is a diagram illustrating an imaging state of the lens in a cross section including the longitudinal direction and the optical axis. In addition, this figure shows the trajectory of the light beam from the virtual object points OM0, OM1, and OM2 on the back surface of the
図9が示すように、仮想物点OM0から射出される光ビームは、像面IPと光軸OAとの交点IM0に結像される。また、仮想物点OM1,OM2から射出される光ビームは、それぞれ像面の位置IM1,IM2に結像される。つまり、仮想物点OM1から射出される光ビームは、長手方向LGDにおいて光軸OAを挟んで逆側の位置IM1に結像されるとともに、仮想物点OM2から射出される光ビームは、長手方向LGDにおいて光軸OAを挟んで逆側の位置I2に結像される。このように、本実施形態における、レンズLSは反転特性を有するいわゆる反転光学系である。また、同図が示すように、仮想物点OM1,OM0の間の距離と比較して、光ビームが結像される位置IM1,IM0の間の距離は短い。即ち、本実施形態におけるヘッド基板293とレンズLSからなる光学系の倍率の絶対値は1未満である。また、ヘッド基板293とレンズLSの第1面LSFfとの間(つまり、物体空間)の前側焦点には、開口絞りDIAが配置されている。その結果、像空間において光ビームの主光線PRM0〜PRM2はいずれも光軸OAに対して平行となっている。即ち、レンズLSの像側がテレセントリックに構成されている。
As shown in FIG. 9, the light beam emitted from the virtual object point OM0 is imaged at an intersection point IM0 between the image plane IP and the optical axis OA. The light beams emitted from the virtual object points OM1 and OM2 are imaged at the image plane positions IM1 and IM2, respectively. That is, the light beam emitted from the virtual object point OM1 is imaged at a position IM1 on the opposite side across the optical axis OA in the longitudinal direction LGD, and the light beam emitted from the virtual object point OM2 is In LGD, an image is formed at a position I2 on the opposite side across the optical axis OA. Thus, the lens LS in the present embodiment is a so-called reversal optical system having reversal characteristics. As shown in the figure, the distance between the positions IM1 and IM0 where the light beam is imaged is shorter than the distance between the virtual object points OM1 and OM0. That is, the absolute value of the magnification of the optical system including the
図10は、幅方向と光軸とを含む断面におけるレンズの結像状態を示す図である。また、同図は、レンズLSの結像状態を示すために、ヘッド基板293の裏面にある仮想物点OS0、OS1、OS2からの光ビームの軌跡を表している。ここで、仮想物点OS0は、光軸OAの上にある。また、仮想物点OS1、OS2は、光軸OAに対して互いに対称な位置に位置する。かかる軌跡が示すように、仮想物点から射出された光ビームは、ヘッド基板293の裏面に入射した後、該ヘッド基板293の表面から射出される。そして、ヘッド基板293の表面から射出された光ビームはレンズLSを介して像面IP(感光体ドラム21の表面)に到達する。上述の通り、ヘッド基板293及びレンズLSは、それぞれ所定の屈折率を有する。
FIG. 10 is a diagram illustrating an imaging state of the lens in a cross section including the width direction and the optical axis. In addition, this figure shows the trajectory of the light beam from the virtual object points OS0, OS1, and OS2 on the back surface of the
図10が示すように、仮想物点OS0から射出される光ビームは、像面IPと光軸OAとの交点IS0に結像される。また、仮想物点OS1,OS2から射出される光ビームは、それぞれ像面の位置IS1,IS2に結像される。つまり、仮想物点OS1から射出される光ビームは、幅方向LTDにおいて光軸OAを挟んで逆側の位置IS1に結像されるとともに、仮想物点OS2から射出される光ビームは、幅方向LTDにおいて光軸OAを挟んで逆側の位置I2に結像される。このように、本実施形態における、レンズLSは反転特性を有するいわゆる反転光学系である。また、同図が示すように、仮想物点OS1,OS0の間の距離と比較して、光ビームが結像される位置IS1,IS0の間の距離は短い。即ち、本実施形態におけるヘッド基板293とレンズLSからなる光学系の倍率の絶対値は1未満である。また、ヘッド基板293とレンズLSの第1面LSFfとの間(つまり、物体空間)の前側焦点には、開口絞りDIAが配置されている。その結果、像空間において光ビームの主光線PRS0〜PRS2はいずれも光軸OAに対して平行となっている。即ち、レンズLSの像側がテレセントリックに構成されている。
As shown in FIG. 10, the light beam emitted from the virtual object point OS0 is imaged at the intersection IS0 between the image plane IP and the optical axis OA. The light beams emitted from the virtual object points OS1 and OS2 are imaged at the image plane positions IS1 and IS2, respectively. That is, the light beam emitted from the virtual object point OS1 is imaged at the opposite position IS1 across the optical axis OA in the width direction LTD, and the light beam emitted from the virtual object point OS2 is In the LTD, an image is formed at a position I2 on the opposite side across the optical axis OA. Thus, the lens LS in the present embodiment is a so-called reversal optical system having reversal characteristics. As shown in the figure, the distance between the positions IS1 and IS0 where the light beam is imaged is shorter than the distance between the virtual object points OS1 and OS0. That is, the absolute value of the magnification of the optical system including the
図11、図12は、本明細書で用いる用語の説明図である。ここで、これらの図を用いて本明細書において用いる用語について整理する。本明細書では、上述の通り、感光体ドラム21の表面(像面IP)の搬送方向を副走査方向SDと定義し、該副走査方向SDに略直交する方向を主走査方向MDと定義している。また、ラインヘッド29は、その長手方向LGDが主走査方向MDに対応し、その幅方向LTDが副走査方向SDに対応するように、感光体ドラム21の表面(像面IP)に対して配置されている。
11 and 12 are explanatory diagrams of terms used in this specification. Here, the terms used in this specification will be organized using these drawings. In the present specification, as described above, the transport direction of the surface (image surface IP) of the
レンズアレイ299が有する複数のレンズLSに一対一の対応関係でヘッド基板293に配置された、複数(図11、12においては8個)の発光素子2951の集合を、発光素子グループ295と定義する。つまり、ヘッド基板293において、複数の発光素子グループ295は複数のレンズLSに対応して配置されている。また、発光素子グループ295からの光ビームを該発光素子グループ295に対応するレンズLSにより像面IPに向けて結像することで、像面IPに形成される複数のスポットSPの集合を、スポットグループSGと定義する。つまり、複数の発光素子グループ295に一対一で対応して、複数のスポットグループSGを形成することができる。また、各スポットグループSGにおいて、主走査方向MDおよび副走査方向SDに最上流のスポットを、特に第1のスポットと定義する。そして、第1のスポットに対応する発光素子2951を、特に第1の発光素子と定義する。
A set of a plurality of (eight in FIG. 11 and FIG. 12)
なお、図11、12は、発光素子グループ295とレンズLSとスポットグループSGとの対応関係が理解しやすいように、像面が静止した状態でスポットSPを形成した場合を表した。したがって、スポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、発光素子グループ295における発光素子2951の配置位置に略相似する。しかしながら、後述するように、実際のスポット形成動作は、像面IP(感光体ドラム21の表面)を副走査方向SDに搬送しつつ実行する。その結果、ヘッド基板293が有する複数の発光素子2951により形成されるスポットSPは、主走査方向MDに略平行な直線上に形成される。
11 and 12 show the case where the spot SP is formed in a state where the image plane is stationary so that the correspondence between the light emitting
また、図12の「像面上」の欄に示すように、スポットグループ行SGR、スポットグループ列SGCを定義する。つまり、主走査方向MDに並ぶ複数のスポットグループSGをスポットグループ行SGRと定義する。そして、複数行のスポットグループ行SGRは、所定のスポットグループ行ピッチPsgrで副走査方向SDに並んで配置される。また、副走査方向SDにスポットグループ行ピッチPsgrで且つ主走査方向MDにスポットグループピッチPsgで並ぶ複数(同図においては3個)のスポットグループSGをスポットグループ列SGCと定義する。なお、スポットグループ行ピッチPsgrは、同ピッチで並ぶ2つのスポットグループ行SGRそれぞれの幾何重心の、副走査方向SDにおける距離である。また、スポットグループピッチPsgは、同ピッチで並ぶ2つのスポットグループSGそれぞれの幾何重心の、主走査方向MDにおける距離である。 Further, as shown in the column “on image plane” in FIG. 12, a spot group row SGR and a spot group column SGC are defined. That is, a plurality of spot groups SG arranged in the main scanning direction MD are defined as spot group rows SGR. The plurality of spot group rows SGR are arranged side by side in the sub-scanning direction SD at a predetermined spot group row pitch Psgr. A plurality (three in the figure) of spot groups SG arranged at the spot group row pitch Psgr in the sub scanning direction SD and at the spot group pitch Psg in the main scanning direction MD are defined as a spot group column SGC. The spot group row pitch Psgr is a distance in the sub-scanning direction SD between the geometric centroids of two spot group rows SGR arranged at the same pitch. The spot group pitch Psg is a distance in the main scanning direction MD between the geometric centroids of two spot groups SG arranged at the same pitch.
同図の「レンズアレイ」の欄に示すように、レンズ行LSR、レンズ列LSCを定義する。つまり、長手方向LGDに並ぶ複数のレンズLSをレンズ行LSRと定義する。そして、複数行のレンズ行LSRは、所定のレンズ行ピッチPlsrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで且つ長手方向LGDにレンズピッチPlsで並ぶ複数(同図においては3個)のレンズLSをレンズ列LSCと定義する。なお、レンズ行ピッチPlsrは、同ピッチで並ぶ2つのレンズ行LSRそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、レンズピッチPlsは、同ピッチで並ぶ2つのレンズLSそれぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。 Lens rows LSR and lens columns LSC are defined as shown in the “lens array” column of FIG. That is, a plurality of lenses LS arranged in the longitudinal direction LGD are defined as a lens row LSR. The plurality of lens rows LSR are arranged side by side in the width direction LTD at a predetermined lens row pitch Plsr. A plurality (three in the figure) of lenses LS arranged at the lens row pitch Plsr in the width direction LTD and at the lens pitch Pls in the longitudinal direction LGD are defined as a lens row LSC. The lens row pitch Plsr is a distance in the width direction LTD of the geometric centroids of the two lens rows LSR arranged at the same pitch. The lens pitch Pls is a distance in the longitudinal direction LGD between the geometric centroids of the two lenses LS arranged at the same pitch.
同図の「ヘッド基板」の欄に示すように、発光素子グループ行295R、発光素子グループ列295Cを定義する。つまり、長手方向LGDに並ぶ複数の発光素子グループ295を発光素子グループ行295Rと定義する。そして、複数行の発光素子グループ行295Rは、所定の発光素子グループ行ピッチPegrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDに発光素子グループ行ピッチPegrで且つ長手方向LGDに発光素子グループピッチPegで並ぶ複数(同図においては3個)の発光素子グループ295を発光素子グループ列295Cと定義する。なお、発光素子グループ行ピッチPegrは、同ピッチで並ぶ2つの発光素子グループ行295Rそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、発光素子グループピッチPegは、同ピッチで並ぶ2つの発光素子グループ295それぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。
As shown in the “head substrate” column of the same figure, a light emitting
同図の「発光素子グループ」の欄に示すように、発光素子行2951R、発光素子列2951Cを定義する。つまり、各発光素子グループ295において、長手方向LGDに並ぶ複数の発光素子2951を発光素子行2951Rと定義する。そして、複数行の発光素子行2951Rは、所定の発光素子行ピッチPelrで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDに発光素子行ピッチPelrで且つ長手方向LGDに発光素子ピッチPelで並ぶ複数(同図においては2個)の発光素子2951を発光素子列2951Cと定義する。なお、発光素子行ピッチPelrは、同ピッチで並ぶ2つの発光素子行2951Rそれぞれの幾何重心の、幅方向LTDにおける距離である。また、発光素子ピッチPelは、同ピッチで並ぶ2つの発光素子2951それぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。
As shown in the column of “light emitting element group” in the drawing, a light emitting
同図の「スポットグループ」の欄に示すように、スポット行SPR、スポット列SPCを定義する。つまり、各スポットグループSGにおいて、長手方向LGDに並ぶ複数のスポットSPをスポット行SPRと定義する。そして、複数行のスポット行SPRは、所定のスポット行ピッチPsprで幅方向LTDに並んで配置される。また、幅方向LTDにスポット行ピッチPsprで且つ長手方向LGDにスポットピッチPspで並ぶ複数(同図においては2個)のスポットをスポット列SPCと定義する。なお、スポット行ピッチPsprは、同ピッチで並ぶ2つのスポット行SPRそれぞれの幾何重心の、副走査方向SDにおける距離である。また、スポットピッチPspは、同ピッチで並ぶ2つのスポットSPそれぞれの幾何重心の、長手方向LGDにおける距離である。 As shown in the column “Spot Group” in the figure, a spot row SPR and a spot column SPC are defined. That is, in each spot group SG, a plurality of spots SP arranged in the longitudinal direction LGD are defined as spot rows SPR. The plurality of spot rows SPR are arranged side by side in the width direction LTD at a predetermined spot row pitch Pspr. A plurality of (two in the figure) spots arranged in the width direction LTD at the spot row pitch Pspr and in the longitudinal direction LGD at the spot pitch Psp are defined as a spot row SPC. The spot row pitch Pspr is the distance in the sub-scanning direction SD between the geometric centroids of two spot rows SPR arranged at the same pitch. The spot pitch Psp is the distance in the longitudinal direction LGD between the geometric centroids of two spots SP arranged at the same pitch.
また、ここで、本明細書において用いる、レンズLSのレンズ構成およびレンズ位置について定義しておく。まず、「レンズ構成」は、レンズLSのレンズ形状・レンズLSのレンズ厚さ・レンズLSのレンズ材質等を含む概念である。そして、レンズLSのレンズ位置、レンズ厚さ、およびレンズ形状は、それぞれ次のとおりである。 Here, the lens configuration and lens position of the lens LS used in this specification will be defined. First, the “lens configuration” is a concept including the lens shape of the lens LS, the lens thickness of the lens LS, the lens material of the lens LS, and the like. The lens position, lens thickness, and lens shape of the lens LS are as follows.
図13は、レンズの位置等についての説明図である。まず、レンズLSのレンズ位置は、該レンズLSが対応する発光素子グループ295の配置平面(本実施形態においては、ヘッド基板293の裏面)と光軸OAとの交点を原点とした場合における、レンズLSの第1面LSFfの頂点VTfの位置である。ここで、頂点VTfは、レンズLSの第1面LSFfと光軸OAとの交点である。また、レンズLSのレンズ厚さTHKは、レンズLSの第1面LSFfと第2面LSFsとの面間距離である、つまり、同図が示すように、レンズ厚さTHKは、レンズLSの第1面LSFfの頂点VTfと、レンズLSの第2面LSFsの頂点VTsとの距離である。なお、頂点VTsは、レンズLSの第2面LSFsと光軸OAとの交点である。また、レンズLSのレンズ形状は、レンズLSの第1面LSFf・第2面LSFsの形状である。よって、第1面LSFfおよび第2面LSFsのいずれかが異なるレンズ同士は、互いにレンズ形状が異なることとなる。さらに、本明細書は、像面対向距離ld及びレンズ対向距離edを次のように定義する。すなわち、像面対向距離ldは、レンズLSの第2面LSFs、つまり感光体ドラム側のレンズ面LSFs(潜像担持体側のレンズ面)の頂点VTsと、該レンズLSが対向する感光体ドラム21の表面(潜像担持体表面)との該レンズの光軸方向(つまり、光軸上)における距離である。また、レンズ対向距離edは、発光素子グループ295の配置平面APLと発光素子グループ295に対応するレンズLSの該発光素子グループ側のレンズ面LSFfの頂点VTfとの該レンズLSの光軸方向(つまり、光軸上)における距離である。ここで、発光素子グループ295の配置平面APLは、ヘッド基板293の基板面のうち該発光素子グループ295が配置されている平面領域である。
FIG. 13 is an explanatory diagram of lens positions and the like. First, the lens position of the lens LS is the lens position when the origin is the intersection of the arrangement plane of the light emitting
図14は、上述のラインヘッドによるスポット形成動作を示す図である。以下に、図2、図7、図14を用いて本実施形態におけるラインヘッドによるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、感光体ドラム21(潜像担持体)の表面を副走査方向SDに搬送しながら、ヘッド制御モジュール54により複数の発光素子を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
FIG. 14 is a diagram showing a spot forming operation by the above-described line head. Hereinafter, the spot forming operation by the line head in this embodiment will be described with reference to FIGS. 2, 7, and 14. In order to facilitate understanding of the invention, here, a case where a plurality of spots are formed side by side on a straight line extending in the main scanning direction MD will be described. In the present embodiment, the
つまり、本実施形態のラインヘッドでは、幅方向位置LTD1〜LTD6の各位置に対応して、幅方向LTDに6個の発光素子行2951Rが並べて配置されている(図7)。そこで、本実施形態では、同一の幅方向位置にある発光素子行2951Rは、略同一のタイミングで発光させるとともに、異なる副幅方向位置にある発光素子行2951Rは、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、幅方向位置LTD1〜LTD6の順番で、発光素子行2951Rを発光させる。そして、感光体ドラム21の表面を幅方向LTDに対応する副走査方向SDに搬送しながら、上述の順番で発光素子行2951Rを発光させることで、該表面の主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
That is, in the line head of this embodiment, six light emitting
かかる動作を、図7、14を用いて説明する。まず最初に、副走査方向SDに対応する幅方向LTDに最上流の発光素子グループ295_C1,295_C2,295_C3…に属する幅方向位置LTD1の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図14の「1回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号295_C1,295_B1,295_A1,295_C2でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ295により形成されるスポットであることを示す。
Such an operation will be described with reference to FIGS. First, the
次に、同発光素子グループ295_C1,295_C2,295_C3…に属する幅方向位置LTD2の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図14の「2回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、感光体ドラム21の表面の搬送方向が副走査方向SDであるのに対して、副走査方向SDに対応する幅方向LTDの下流側の発光素子行2951Rから順番に(つまり、幅方向位置LTD1,LTD2の順番に)発光させたのは、レンズLSが反転特性を有することに対応するためである。
Next, the
次に、幅方向上流側から2番目の発光素子グループ295_B1,295_B2,295_B3…に属する幅方向位置LTD3の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図13の「3回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, the
次に、同発光素子グループ295_B1,295_B2,295_B3…に属する幅方向位置LTD4の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図14の「4回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, the
次に、幅方向最下流の発光素子グループ295_A1,295_A2,295_A3…に属する幅方向位置LTD5の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図14の「5回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
Next, the
そして最後に、同発光素子グループ295_A1,295_A2,295_A3…に属する幅方向位置LTD6の発光素子行2951Rの発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するレンズLSにより、反転されて感光体表面に結像される。つまり、図14の「6回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、1〜6回目までの発光動作を実行することで、主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
Finally, the
以上のように、本実施形態では、発光素子グループ内において、複数の発光素子2951を長手方向LGDにおいて互いに異なる位置に配置するとともに、互いに隣接するスポットを形成するために発光する2つの発光素子を幅方向LTDにおいて互いに異なる位置に配置している。そして、発光素子2951をそれぞれ感光体ドラム21の副走査方向SDの移動に応じたタイミングで発光させて発光素子2951から射出される光ビームを主走査方向MDにおいて互いに異なる位置で感光体表面に結像してスポットSPを主走査方向MDに並んで形成している。
As described above, in the present embodiment, in the light emitting element group, a plurality of
図15は、ラインヘッドが有するレンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。つまり、図15は、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、幅方向LTDの互いに異なる配置位置AP1〜AP3に配置されている。より具体的には、3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで並ぶとともに、対称軸SAに対して幅方向LTDに略対称に配置されている。また、レンズ行LSR1〜LSR3は、それぞれに属するレンズLS1〜LS3の光軸OA1〜OA3が互いに平行となるように配置されている。なお、同図において、レンズLS2の光軸OAは、対称軸SAと一致する。そして、レンズアレイ299は、対称軸SAが感光体ドラム21の表面形状の曲率中心CC21を通るように配置されている。よって、対称軸SAは、感光体ドラム21の回転軸を通ることとなる。このとき、レンズ行LSR1〜LSR3は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。したがって、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。
FIG. 15 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array of the line head and the photosensitive drum. That is, FIG. 15 shows a case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD. The three lens rows LSR1 to LSR3 are arranged at different arrangement positions AP1 to AP3 in the width direction LTD. More specifically, the three lens rows LSR1 to LSR3 are arranged at the lens row pitch Plsr in the width direction LTD, and are arranged substantially symmetrically in the width direction LTD with respect to the symmetry axis SA. The lens rows LSR1 to LSR3 are arranged such that the optical axes OA1 to OA3 of the lenses LS1 to LS3 belonging to each of them are parallel to each other. In the figure, the optical axis OA of the lens LS2 coincides with the symmetry axis SA. The
また、同図に示すように、各レンズLS1〜LS3に一対一の対応関係で発光素子グループ295が配置されている。つまり、レンズLS1に対向する配置平面APL1に発光素子グループ295が配置されている。また、レンズLS2に対向する配置平面APL2に発光素子グループ295が配置されている。また、レンズLS3に対向する配置平面APL3に発光素子グループ295が配置されている。このとき、配置平面APL1に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed1であり、配置平面APL2に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed2であり、配置平面APL3に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed3である。そして、発光素子グループ295のそれぞれから射出された光ビームは、該発光素子グループ295が対向するレンズLSにより結像される。
Further, as shown in the figure, a light emitting
ここで、中央発光素子グループおよち端部発光素子グループを次のように定義する。つまり、中央発光素子グループは、N行(Nは3以上の整数)のレンズ行LSRのうちの対称軸SAに最も近いレンズ行LSRに属するレンズLSに対応する発光素子グループ295である。また、端部発光素子グループは、N行のレンズ行LSRのうちの幅方向LTDの各端部のレンズ行LSRに属するレンズLSに対応する発光素子グループ295である。
Here, the central light emitting element group and the end light emitting element group are defined as follows. That is, the central light emitting element group is the light emitting
図15においては、上述の通りレンズ行の行数は3行である(つまり、図15はNが3の場合に対応する)。そして、対称軸SAに最も近いレンズ行LSRはレンズ行LSR2であるので、図15においては中央発光素子グループはレンズLS2に対応する発光素子グループ295(つまり、配置平面APL2に配置された発光素子グループ)である。一方、図15においては、端部発光素子グループはレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295(つまり、配置平面APL1、APL3に配置された発光素子グループ295)である。
In FIG. 15, the number of lens rows is 3 as described above (that is, FIG. 15 corresponds to the case where N is 3). Since the lens row LSR closest to the symmetry axis SA is the lens row LSR2, in FIG. 15, the central light emitting element group is the light emitting
以上が、本発明にかかる画像形成装置の一実施形態の構成および動作の概要である。次に、本発明にかかる画像形成装置の詳細について説明するが、以下においては、発明の理解を容易にするために、より具体的なシミュレーション結果を用いながら、説明を行なう。 The above is the outline of the configuration and operation of the embodiment of the image forming apparatus according to the present invention. Next, details of the image forming apparatus according to the present invention will be described. In the following, in order to facilitate understanding of the invention, description will be made using more specific simulation results.
実施例1
図16は、実施例1における発光素子の配置およびスポットの形成位置の説明図である。上述の通り、ラインヘッド29は、発光素子グループ295に対してレンズLSを対向して配置している。そして、発光素子グループ295の複数の発光素子2951から射出された光ビームは、レンズLSにより感光体ドラム21の表面に向けて結像される。その結果、感光体ドラム21の表面に複数のスポットSPからなるスポットグループSGが形成される。
Example 1
FIG. 16 is an explanatory diagram of the arrangement of light emitting elements and spot formation positions in Example 1. FIG. As described above, in the
同図の「発光素子グループ」の欄は、発光素子グループ295における発光素子2951の配置を示している。同図の「スポットグループ」の欄は、かかる発光素子グループ295に対応して形成されるスポットグループSGを示している。なお、「発光素子グループ」の欄は、同図の「観察方向」の欄に示す発光素子グループ観察方向Dob_295から発光素子グループ295を見た場合における、発光素子2951の配置を示す。「スポットグループ」の欄は、同図の「観察方向」の欄に示すスポットグループ観察方向Dob_sgからスポットグループSGを見た場合における、スポットSPの形成位置を示す。
The column of “light emitting element group” in the drawing shows the arrangement of the
「発光素子グループ」の欄において、座標軸X_lgdは長手方向LGDに対応するとともに、座標軸Y_ltdは幅方向LTDに対応する。座標軸X_lgd、Y_ltdは、各発光素子グループ295に対して設けられる。また、発光素子グループ295が対向するレンズLSの光軸OAは、該発光素子グループ295に対する座標軸X_lgdと座標軸Y_ltdの交点(つまり、原点)を通る。
In the “light emitting element group” column, the coordinate axis X_lgd corresponds to the longitudinal direction LGD, and the coordinate axis Y_ltd corresponds to the width direction LTD. Coordinate axes X_lgd and Y_ltd are provided for each light emitting
「スポットグループ」の欄において、座標軸X_mdは主走査方向MDに対応するとともに、座標軸Y_sdは副走査方向SDに対応する。また、スポットグループSGを形成するレンズLSの光軸OAは、該スポットグループSGに対する座標軸X_mdと座標軸Y_sdの交点(つまり、原点)を通る。 In the “spot group” column, the coordinate axis X_md corresponds to the main scanning direction MD, and the coordinate axis Y_sd corresponds to the sub-scanning direction SD. Further, the optical axis OA of the lens LS forming the spot group SG passes through the intersection (that is, the origin) of the coordinate axis X_md and the coordinate axis Y_sd with respect to the spot group SG.
同図の「発光素子グループ」の欄に示すように、座標軸X_lgdの方向(つまり、長手方向LGD)に並ぶ7個の発光素子2951が発光素子行2951Rを構成する。そして、座標軸Y_ltdの方向(つまり、幅方向LTD)に2行の発光素子行2951Rが並ぶ。つまり、発光素子グループ295は、14個の発光素子2951からなる。また、14個の発光素子2951は発光素子ピッチPelで配置されるとともに、2行の発光素子行2951Rは発光素子行ピッチPelrで配置される。また、同図に示すように、14個の発光素子2951のそれぞれに発光素子番号e1〜e14を付した。
As shown in the column of “light emitting element group” in FIG. 7, seven
同図の「スポットグループ」の欄に示すように、14個の発光素子2951に対応して14個のスポットSPからなるスポットグループSGが形成される。実施例1は、感光体ドラム21の表面が静止した状態でスポット形成を行った場合に対応する。なお、以後の説明で示す実施例1〜11は、いずれも感光体ドラム21の表面が静止した状態でスポット形成を行った場合に対応する。したがって、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットグループSGの形状は、発光素子グループ295の形状と略相似である。具体的には、座標軸X_mdの方向(つまり、主走査方向MD)に並ぶ7個のスポットSPがスポット行SPRを構成する。そして、座標軸Y_sdの方向(つまり、副走査方向SD)に2行のスポット行SPRが並ぶ。つまり、スポットグループSGは、14個のスポットSPからなる。また、14個のスポットSPはスポットピッチPspで形成されるとともに、2行のスポット行SPRはスポット行ピッチPsprで形成される。また、同図に示すように、14個の発光素子e1〜e14に対応して形成される14個のスポットSPのそれぞれにスポット番号s1〜s14を付した。
As shown in the column “Spot Group” in the figure, a spot group SG composed of 14 spots SP is formed corresponding to 14
このように、発光素子ピッチPelの発光素子グループ295から射出される光ビームを該発光素子グループ295に対応するレンズLSにより結像することで、スポットピッチPspのスポットグループSGが形成される。そこで、本明細書において、スポットピッチPspと発光素子ピッチPelとの比(つまり、スポットピッチPsp/発光素子ピッチPel)を、レンズLSのピッチ倍率と定義する。
In this manner, the light beam emitted from the light emitting
図17は、本発明の実施例1における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS3は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズである。3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、幅方向LTDの互いに異なる配置位置AP1〜AP3に配置されている(図15参照)。より具体的には、3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで並ぶとともに、対称軸SAに対して幅方向LTDに略対称に配置されている。また、レンズ行LSR1〜LSR3は、それぞれに属するレンズLS1〜LS3の光軸OA1〜OA3が互いに平行となるように配置されている。なお、同図において、レンズLS2の光軸OAは、対称軸SAと一致する。そして、レンズアレイ299は、対称軸SAが感光体ドラム21の表面形状の曲率中心CC21を通るように配置されている。よって、対称軸SAは、感光体ドラム21の回転軸を通ることとなる。
FIG. 17 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in
レンズ行LSR1〜LSR3は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。このとき、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。したがって、レンズ行LSR1に属するレンズLS1は、該レンズLS1が対向する発光素子グループ295から射出された光ビームLB1を、対向位置FCP1に向けて結像する。その結果、光ビームLB1は、結像位置FP1に結像される。また、レンズ行LSR2に属するレンズLS2は、該レンズLS2が対向する発光素子グループ295から射出された光ビームLB2を、対向位置FCP2に向けて結像する。その結果、光ビームLB2は、結像位置FP2に結像される。また、レンズ行LSR3に属するレンズLS3は、該レンズLS3が対向する発光素子グループ295から射出された光ビームLB3を、対向位置FCP3に向けて結像する。その結果、光ビームLB3は、結像位置FP3に結像される。このように、異なるレンズ行LSRに属するレンズLSによって結像された光ビームの結像位置FPは、副走査方向SDにおいて互いに異なる。ここで、結像位置FPとは、レンズLSを通過した光ビームLBが、最も小さいスポット径で像を形成する位置とその近傍である。なお、実施例1および後に説明する実施例2〜4においては、複数の発光素子グループ295は同一平面上に配置されている。
The lens rows LSR1 to LSR3 are all disposed so as to face the surface of the
表1は、実施例1におけるシミュレーションにおいて用いた光学系諸元である。ここで、波長は、発光素子から射出される光ビームの波長である。レンズ径は、レンズLSの射出面、即ち第2面LSFsの直径である。また、光源径は、発光素子2951の直径である。また、同諸元において物体高0.6mmとあるのは、シミュレーションを物体高0.6mmにある仮想発光素子から光ビームが射出されたとの条件で行なったことを意味する。
Table 1 shows optical system specifications used in the simulation in the first embodiment. Here, the wavelength is the wavelength of the light beam emitted from the light emitting element. The lens diameter is the diameter of the exit surface of the lens LS, that is, the second surface LSFs. The light source diameter is the diameter of the
表2はレンズLS2のレンズデータであり、表3はレンズLS2の非球面係数である。一方、表4は、レンズLS1、LS3のレンズデータであり、表5は、レンズLS1、LS3の非球面係数である。また、数1は、非球面の形状を与える式である。つまり、非球面S4、S5の形状(換言すれば、レンズLSのレンズ形状)は、表3、5および数1で決まる。
Table 2 shows lens data of the lens LS2, and Table 3 shows aspheric coefficients of the lens LS2. On the other hand, Table 4 shows lens data of the lenses LS1 and LS3, and Table 5 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS3.
ここで、面番号S1〜S6について、図9、図10を用いて説明する。面番号S1は、物体面、即ち発光素子2951が配置されるヘッド基板293の裏面(配置平面APL)に対応する。面番号S2は、ヘッド基板293の表面に対応する。面番号S3は、開口絞りDIAが配置された面(絞り面)に対応する。上述の通り、開口絞りDIAはレンズLSの前側焦点に配置されており、像側テレセントリックが実現されている。面番号S4は、レンズLSの第1面LSFfに対応する。面番号S5は、レンズLSの第2面LSFsに対応する。面番号S6は、像面IP、即ち感光体ドラム(潜像担持体)の表面に対応する。ここで、面番号S1〜S3までの面間隔の和がレンズ位置を与える。面番号S4の面間隔がレンズ厚さを与える。面番号S1〜S3までの面間隔の和がレンズ対向距離edを与える。なお、以下に複数のレンズデータを適宜示すが、いずれのレンズデータにおいても、面番号に対応する面は同様である。
Here, the surface numbers S1 to S6 will be described with reference to FIGS. The surface number S1 corresponds to the object surface, that is, the back surface (arrangement plane APL) of the
これらの表から判るように、実施例1は、レンズLS2とレンズLS1、LS3とで、非球面係数を変えている(つまり、レンズ形状を変えている)。つまり、本発明の実施例1では、レンズLS1とレンズLS3とは同一である。一方、レンズLS1、LS3とレンズLS2とは、レンズ形状において異なる。このように、実施例1において、レンズLSによってレンズ形状を調整している理由について説明する。 As can be seen from these tables, in Example 1, the aspheric coefficient is changed between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3 (that is, the lens shape is changed). That is, in Example 1 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1, LS3 and the lens LS2 differ in lens shape. Thus, the reason why the lens shape is adjusted by the lens LS in the first embodiment will be described.
図18は、全てのレンズのレンズ構成・レンズ位置を同一とした場合における、ラインヘッドおよび感光体ドラムの副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。つまり、図18は、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。また、図示は省略するが、全ての発光素子部ループ295のレンズ対向距離edは、同一とする。
FIG. 18 is a sub-scan sectional view of the line head and the photosensitive drum when the lens configuration and the lens position of all the lenses are the same. The upper part of the figure shows an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. That is, FIG. 18 shows a case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD. Although not shown, the lens facing distance ed of all the light emitting
このようにラインヘッド29を構成した場合における、光ビームLB1〜LB3それぞれの結像位置FP1〜FP3について考える。この場合、光ビームLB1〜LB3それぞれの結像位置FP1〜FP3は、副走査断面において副走査方向SD(幅方向LTD)に略平行な同一平面SPL_fpに位置することとなる。一方、図18が示すように、感光体ドラム21(潜像担持体)の表面のうちレンズアレイ299と対向する表面領域FCRは、副走査断面において曲率を有している。したがって、結像位置FP1〜FP3のそれぞれと感光体ドラム21の表面との距離を像感光体距離fd1〜fd3としたとき、像感光体距離fd1〜fd3の間で差異が発生する。ここで、像感光体距離fd1〜fd3のそれぞれは、対応するレンズLSの光軸OAの方向における、結像位置FPと感光体ドラム表面との距離とした。
Consider the imaging positions FP1 to FP3 of the light beams LB1 to LB3 when the
このように、図18に示すように構成した場合、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間で、結像位置FPと感光体表面との像感光体距離に差異が発生する。そして、このような像感光体距離の差異のため、感光体ドラム21の表面に形成するスポットの径がレンズ行LSRによって異なり、結果として、良好な露光が行なえない可能性がある。そこで、実施例1では、レンズLSのレンズ形状を調整することで、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例1においては、図17が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整している。
In this way, when configured as shown in FIG. 18, a difference occurs in the image photosensitive member distance between the imaging position FP and the photosensitive member surface among the plurality of lens rows LSR1 to LSR3. Due to such a difference in image photoreceptor distance, the diameter of the spot formed on the surface of the
表6は、実施例1におけるシミュレーションの結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsrおよび発光素子グループ行ピッチPegrは、1.65mmとした。また、感光体ドラム21の径は80mmとした。表6が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例1では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図18に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例1においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例1では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表9の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0.4μに抑制されている。具体的には、実施例1におけるレンズLS2により形成されるスポットの径は29.1μmである一方、レンズLS1、LS3により形成されるスポットの径は28.7μmである。つまり、実施例1におけるレンズLS2によるスポットの径とレンズLS1、LS3によるスポットの径との差異は、0.4μm(=29.1μm−28.7μm)である。
Table 6 shows the results of the simulation in Example 1. In the simulation, the lens row pitch Plsr and the light emitting element group row pitch Pegr were 1.65 mm. The diameter of the
ところで、表6のピッチ倍率が示すように、レンズLS2のピッチ倍率と、レンズLS1、LS3のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS3のピッチ倍率は−0.5033である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3においてレンズ形状を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ形状を調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。そして、各レンズLS1〜LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelが一定であるような場合において、ピッチ倍率にこのような差異があると、各レンズLS1〜LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspが、スポットグループSGによって異なるという問題が引き起こされる場合がある。つまり、ピッチ倍率の絶対値が大きいレンズLSにより形成されたスポットグループSGのスポットピッチPspは比較的大きくなる一方、ピッチ倍率の絶対値が小さいレンズLSにより形成されたスポットピッチは比較的小さくなる。すなわち、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。
By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 6, the pitch magnification of the lens LS2 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Specifically, the lens LS2 has a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS3 have a pitch magnification of -0.5033. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens shape is adjusted in each of the lenses LS1 to LS3. That is, the lens magnification is adjusted among the lenses LS1 to LS3 by adjusting the lens shape so as to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS3 are different. In the case where the light emitting element pitch Pel of the light emitting
このような問題に対応すべく、実施例1は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to deal with such a problem, in the first embodiment, in each of the light emitting
図19は、実施例1における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図19における、発光素子番号e1〜e14は、図16において発光素子グループ295を構成する各発光素子2951に対して付した番号である。また、座標軸X_lgd、Y_ltdは、図16において、各発光素子グループ295に対して設けられた座標軸である。つまり、「素子位置1−1」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置1−2」と付された表はレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置1−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置1−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。
FIG. 19 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the spot formation positions in Example 1. FIG. In FIG. 19, the light emitting element numbers e1 to e14 are numbers assigned to the respective
また、図19における、スポット番号s1〜s14は、図16においてスポットグループSGを構成する各スポットSPに対して付した番号である。また、座標軸X_md、Y_sdは、図17において、各スポットグループSGに対して設けられた座標軸である。つまり、「スポット位置1−1」「スポット位置1−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。 Further, spot numbers s1 to s14 in FIG. 19 are numbers assigned to the spots SP constituting the spot group SG in FIG. Further, coordinate axes X_md and Y_sd are coordinate axes provided for each spot group SG in FIG. That is, the tables labeled “spot position 1-1” and “spot position 1-2” indicate the positions of the spots s1 to s14 in the spot group SG formed on the surface of the photosensitive drum.
図19に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。なお、発光素子ピッチPelは、X_lgd座標方向に互いに隣り合う発光素子(例えば発光素子e1と発光素子e2)それぞれのX_lgd座標位置の差から求められる。また、発光素子行ピッチPelrは、Y_ltd座標方向に互いに隣り合う発光素子(例えば発光素子e1と発光素子e2)それぞれのY_ltd座標位置の差から求められる。 From these tables shown in FIG. 19, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. The light emitting element pitch Pel is obtained from the difference between the X_lgd coordinate positions of the light emitting elements adjacent to each other in the X_lgd coordinate direction (for example, the light emitting element e1 and the light emitting element e2). Further, the light emitting element row pitch Pelr is obtained from the difference in Y_ltd coordinate positions of the light emitting elements adjacent to each other in the Y_ltd coordinate direction (for example, the light emitting element e1 and the light emitting element e2).
レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.1μmであり、発光素子行ピッチPelrは198.7μmである。このように、実施例1では、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
In the light emitting
つまり、表6に示したとおり、レンズLS2のピッチ倍率は、レンズLS1、LS3のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 6, the pitch magnification of the lens LS2 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Therefore, in all the light emitting
このように、光ビームLBの結像位置FPを感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整すべくレンズLSのレンズ形状(レンズ構成)を調整したことで、ピッチ倍率がレンズLSによって異なり、その結果、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLSによって異なる可能性があった。つまり、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。
As described above, the pitch magnification varies depending on the lens LS by adjusting the lens shape (lens configuration) of the lens LS so as to adjust the imaging position FP of the light beam LB to a position corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum. As a result, the spot pitch Psp of the spot group SG formed on the surface of the photosensitive drum may be different depending on the lens LS. That is, in all the light emitting
これに対して、実施例1では、レンズLS2のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS3のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
On the other hand, in Example 1, the light emitting element pitch of the light emitting
図19の「スポット位置1−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図19の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例1では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。なお、スポットピッチPspは、X_md座標方向に互いに隣り合うスポット(例えばスポットs1とスポットs2)それぞれのX_md座標位置の差から求められる。また、スポット行ピッチPsprは、Y_sd座標方向に互いに隣り合うスポット(例えばスポットs1とスポットs2)それぞれのY_sd座標位置の差から求められる。
The table labeled “Spot Position 1-1” in FIG. 19 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図19の「スポット位置1−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置1−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置1−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは42.61μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは100.66μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 1-2” in FIG. 19 shows the lens when the
このように、実施例1は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、感光体ドラム21の曲率形状に起因して、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間で、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良の発生が抑制されており、好適である。
Thus, in Example 1, the arrangement of the
ところで、実施例1は、レンズ形状を調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例2に示すように、レンズLSのレンズ位置を調整しても良い。
Incidentally, in the first embodiment, the lens shape is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 correspond to the curvature shape of the surface of the
実施例2
図20は、本発明の実施例2における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS3は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズである。
Example 2
FIG. 20 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the second embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS3 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR3, respectively.
また、実施例2における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例1と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズLS1〜LS3によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP3は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the positional relationship between the
表7はレンズLS2のレンズデータであり、表8はレンズLS2の非球面係数である。一方、表9は、レンズLS1、LS3のレンズデータであり、表10は、レンズLS1、LS3の非球面係数である。面番号S1〜S3までの面間隔の和が表7と表9とで異なっていることから判るように、実施例2は、レンズLS2とレンズLS1、LS3とでレンズ位置を変えている。なお、実施例2におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例2では、レンズLS1とレンズLS3とは同一である。一方、レンズLS1、LS3とレンズLS2とは、レンズ位置において異なる。このように、実施例2においてレンズLSによってレンズ位置を調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図20に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 7 shows lens data of the lens LS2, and Table 8 shows aspheric coefficients of the lens LS2. On the other hand, Table 9 shows lens data of the lenses LS1 and LS3, and Table 10 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS3. As can be seen from the fact that the sum of the surface intervals from surface numbers S1 to S3 is different between Table 7 and Table 9, in Example 2, the lens position is changed between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3. The optical system specifications used in the simulation in Example 2 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 2 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1, LS3 and the lens LS2 are different in lens position. As described above, the reason for adjusting the lens position by the lens LS in the second embodiment is similar to that in the first embodiment, as shown in FIG. Thus, the imaging positions FP1 to FP3 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum.
表11は、上述の表7〜10で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS3を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例1と同様である。表11における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS3が対応する像高(同表によると、レンズLS2が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS3が対応する像高は−0.297mmである)の位置までの光路長である。 Table 11 shows simulation results when the lenses LS1 to LS3 are configured based on the data given in Tables 7 to 10 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the first embodiment. The optical path length in Table 11 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS3 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lens LS2 is -0. 3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS3 is -0.297 mm).
表11が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例2では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図20に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例2においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例2では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表11の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0.4μmに抑制されている。具体的には、実施例2におけるレンズLS2により形成されるスポットの径は29.1μmである一方、レンズLS1、LS3により形成されるスポットの径は28.7μmである。つまり、実施例2におけるレンズLS2によるスポットの径とレンズLS1、LS3によるスポットの径との差異は、0.4μm(=29.1μm−28.7μm)である。
The difference Δfd shown in Table 11 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd3 corresponding to the lenses LS1 to LS3 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd3 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, the difference Δfd is 0 in the second embodiment. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd3 are equal to each other. As shown in FIG. 20, the positions FP1 to FP3 of the light beams by the lenses LS1 to LS3 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the second embodiment, as shown in FIG. This is because it is adjusted to the substantially surface) of the
ところで、表11のピッチ倍率が示すように、レンズLS2のピッチ倍率と、レンズLS1、LS3のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS3のピッチ倍率は−0.4952である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3においてレンズ位置を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ位置を調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 11, the pitch magnification of the lens LS2 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Specifically, the pitch magnification of the lens LS2 is −0.5, while the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3 is −0.4952. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens position is adjusted in each of the lenses LS1 to LS3. In other words, the pitch magnification is different among the lenses LS1 to LS3 by adjusting the lens position to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS3 are different. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例2は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in the second embodiment, in each of the light emitting
図21は、実施例2における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図21において、「素子位置2−1」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置2−2」と付された表はレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置2−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置2−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置2−1」「スポット位置2−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 21 is a diagram showing the arrangement of the light emitting elements and the spot formation positions in Example 2. In FIG. 21, a table labeled “element position 2-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図21に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは85.48μmであり、発光素子行ピッチPelrは201.94μmである。このように、実施例2では、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも小さい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは大きくなる。
From these tables shown in FIG. 21, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表11に示したとおり、レンズLS2のピッチ倍率は、レンズLS1、LS3のピッチ倍率よりも、絶対値において大きい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも大きくなるとともに、レンズLS2によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも大きくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 11, the pitch magnification of the lens LS2 is larger in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例2では、レンズLS2のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS3のピッチ倍率の絶対値よりも大きいことに応じて、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも小さくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 2, the light emitting element pitch Pel and the light emission of the light emitting
図21の「スポット位置2−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図21の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例2では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 2-1” in FIG. 21 indicates the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図21の「スポット位置2−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置2−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置2−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは41.92μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは99.04μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 2-2” in FIG. 21 shows the lens when the
このように、実施例2では、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ位置を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 2, the arrangement of the
ところで、実施例2は、レンズ位置を調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例3に示すように、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)を調整しても良い。
In the second embodiment, the lens position is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 correspond to the curvature shape of the surface of the
実施例3
図22は、本発明の実施例3における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS3は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズである。
Example 3
FIG. 22 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the third embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS3 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR3, respectively.
また、実施例3における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例1と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズLS1〜LS3によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP3は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the positional relationship between the
表12はレンズLS2のレンズデータであり、表13はレンズLS2の非球面係数である。一方、表14は、レンズLS1、LS3のレンズデータであり、表15は、レンズLS1、LS3の非球面係数である。面番号S4の面間隔が表12と表14とで異なっていることから判るように、実施例3は、レンズLS2とレンズLS1、LS3とでレンズ厚さを変えている。なお、実施例3におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例3では、レンズLS1とレンズLS3とは同一である。一方、レンズLS1、LS3とレンズLS2とは、レンズ厚さにおいて異なる。このように、実施例2においてレンズLSによってレンズ厚さを調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図22に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 12 shows lens data of the lens LS2, and Table 13 shows aspheric coefficients of the lens LS2. On the other hand, Table 14 shows lens data of the lenses LS1 and LS3, and Table 15 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS3. As can be seen from the fact that the surface spacing of the surface number S4 differs between Table 12 and Table 14, in Example 3, the lens thickness is changed between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3. The optical system specifications used in the simulation in Example 3 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 3 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1, LS3 and the lens LS2 differ in lens thickness. In this way, the reason for adjusting the lens thickness by the lens LS in the second embodiment is that, as in the first embodiment, the occurrence of the difference in the image photosensitive member distance fd between the lenses LS1 to LS3 is suppressed, as shown in FIG. As shown, the imaging positions FP1 to FP3 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the photosensitive drum surface.
表16は、上述の表12〜15で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS3を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例1と同様である。表16における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS3が対応する像高(同表によると、レンズLS2が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS3が対応する像高は−0.303mmである)の位置までの光路長である。 Table 16 shows simulation results when the lenses LS1 to LS3 are configured based on the data given in Tables 12 to 15 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the first embodiment. The optical path length in Table 16 indicates the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS3 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lens LS2 is -0. 3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS3 is -0.303 mm).
表16が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例3では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図22に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例3においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例3では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表16の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0μmに抑制されていることがわかる。具体的には、実施例3におけるレンズLS2により形成されるスポットの径は29.1μmであるとともに、レンズLS1、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmである。つまり、実施例3におけるレンズLS2によるスポットの径とレンズLS1、LS3によるスポットの径との差異は、0μm(=29.1μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 16 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd3 corresponding to the lenses LS1 to LS3 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd3 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, the difference Δfd is 0 in the third embodiment. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd3 are equal to each other. As shown in FIG. 22, this is because the positions FP1 to FP3 of the light beams by the lenses LS1 to LS3 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the third embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表16のピッチ倍率が示すように、レンズLS2のピッチ倍率と、レンズLS1、LS3のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS3のピッチ倍率は−0.5055である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3においてレンズ厚さを調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ厚さを調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 16, the pitch magnification of the lens LS2 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Specifically, the lens LS2 has a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS3 have a pitch magnification of -0.5055. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens thickness is adjusted in each of the lenses LS1 to LS3. That is, by adjusting the lens thickness to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS3 are different, the pitch magnification is different among the lenses LS1 to LS3. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例3は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in the third embodiment, in each of the light emitting
図23は、実施例3における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図23において、「素子位置3−1」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置3−2」と付された表はレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置3−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置3−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置3−1」「スポット位置3−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 23 is a diagram illustrating the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 3. In FIG. 23, a table labeled “element position 3-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図23に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは83.74μmであり、発光素子行ピッチPelrは197.82μmである。このように、実施例3では、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 23, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表16に示したとおり、レンズLS2のピッチ倍率は、レンズLS1、LS3のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 16, the pitch magnification of the lens LS2 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例3では、レンズLS2のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS3のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 3, the light emitting element pitch Pel and the light emission of the light emitting
図23の「スポット位置3−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図23の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例3では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 3-1” in FIG. 23 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図23の「スポット位置3−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置3−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置3−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは42.80μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは101.1μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 3-2” in FIG. 23 shows the lens when the
このように、実施例3では、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 3, the arrangement of the
ところで、実施例3は、レンズ厚さを調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例4に示すように、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)のみならずレンズ形状(レンズ構成)およびレンズ位置の全てを調整しても良い。
Incidentally, in the third embodiment, the lens thickness is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 correspond to the curvature shape of the surface of the
実施例4
図24は、本発明の実施例4における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS3は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズである。
Example 4
FIG. 24 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the fourth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS3 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR3, respectively.
また、実施例4における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例1と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズLS1〜LS3によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP3は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the positional relationship between the
表17はレンズLS2のレンズデータであり、表18はレンズLS2の非球面係数である。一方、表19は、レンズLS1、LS3のレンズデータであり、表20は、レンズLS1、LS3の非球面係数である。レンズLS2とレンズLS1、LS3とで、第2面LSFsの非球面係数(つまり、レンズ形状)が異なる。また、面番号S1〜S3までの面間隔の和が表20と表22で異なることから判るように、実施例4では、レンズLS2とレンズLS1、LS3とでレンズ位置が異なる。また、面番号S4の面間隔が表20と表22で異なることから判るように、実施例4では、レンズLS2とレンズLS1、LS3とで、レンズ厚さが異なる。なお、実施例4におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例4では、レンズLS1とレンズLS3とは同一である。一方、レンズLS1、LS3とレンズLS2とは異なる。このように、実施例4においてレンズLSによって、レンズ構成・レンズ位置を調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図24に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 17 shows lens data of the lens LS2, and Table 18 shows aspheric coefficients of the lens LS2. On the other hand, Table 19 shows lens data of the lenses LS1 and LS3, and Table 20 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS3. The aspherical coefficient (that is, the lens shape) of the second surface LSFs is different between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3. Further, as can be seen from the fact that the sum of the surface intervals of the surface numbers S1 to S3 is different between Table 20 and Table 22, in Example 4, the lens position is different between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3. Further, as can be seen from the fact that the surface spacing of the surface number S4 is different between Table 20 and Table 22, in Example 4, the lens thickness is different between the lens LS2 and the lenses LS1 and LS3. The optical system specifications used in the simulation in Example 4 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 4 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1, LS3 and the lens LS2 are different. As described above, the reason for adjusting the lens configuration / lens position by the lens LS in the fourth embodiment is to suppress the occurrence of the difference in the image photosensitive member distance fd between the lenses LS1 to LS3 as in the first embodiment. As shown in FIG. 24, the imaging positions FP1 to FP3 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum.
表21は、上述の表17〜20で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS3を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例1と同様である。表21における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS3が対応する像高(同表によると、レンズLS2が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS3が対応する像高は−0.303mmである)の位置までの光路長である。 Table 21 shows simulation results when the lenses LS1 to LS3 are configured based on the data given in Tables 17 to 20 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the first embodiment. The optical path length in Table 21 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS3 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lens LS2 is -0. 3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS3 is -0.303 mm).
表21が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例4では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図24に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例4においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例4では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の差異が抑制されている。そして、表24の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0μmに抑制されている。具体的には、実施例4におけるレンズLS2により形成されるスポットの径は29.1μmであるとともに、レンズLS1、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmである。つまり、実施例4におけるレンズLS2によるスポットの径とレンズLS1、LS3によるスポットの径との差異は、0μm(=29.1μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 21 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd3 corresponding to the lenses LS1 to LS3 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd3 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, the difference Δfd is 0 in the fourth embodiment. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd3 are equal to each other. As shown in FIG. 24, this is because the positions FP1 to FP3 of the light beams by the lenses LS1 to LS3 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the fourth embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表21のピッチ倍率が示すように、レンズLS2のピッチ倍率と、レンズLS1、LS3のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS3のピッチ倍率は−0.5055である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3においてレンズ形状、レンズ厚さおよびレンズ位置を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ形状、レンズ厚さおよびレンズ位置を調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 21, the pitch magnification of the lens LS2 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Specifically, the lens LS2 has a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS3 have a pitch magnification of -0.5055. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens shape, the lens thickness, and the lens position are adjusted in each of the lenses LS1 to LS3. In other words, the lens magnification, the lens thickness, and the lens position are adjusted to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS3 are different, so that the pitch magnification differs among the lenses LS1 to LS3. ing. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例4は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in Example 4, in each of the light emitting
図25は、実施例4における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図25において、「素子位置4−1」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置4−2」と付された表はレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置4−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置4−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置4−1」「スポット位置4−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 25 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 4. In FIG. 25, a table labeled “element position 4-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図25に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは83.74μmであり、発光素子行ピッチPelrは197.82μmである。このように、実施例4では、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 25, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表21に示したとおり、レンズLS2のピッチ倍率は、レンズLS1、LS3のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 21, the pitch magnification of the lens LS2 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例4では、レンズLS2のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS3のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 4, in response to the fact that the absolute value of the pitch magnification of the lens LS2 is smaller than the absolute value of the pitch magnification of the lenses LS1, LS3, the light emitting element pitch Pel and the light emission of the light emitting
図25の「スポット位置4−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図25の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例4では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 4-1” in FIG. 25 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図25の「スポット位置4−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置4−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置4−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは42.80μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは101.1μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 4-2” in FIG. 25 shows the lens when the
このように、実施例4は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ形状(レンズ構成)・レンズ厚さ(レンズ構成)およびレンズ位置を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 4, the arrangement of the
ところで、実施例1〜4は、レンズ構成・レンズ位置を調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例5に示すように、発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整しても良い。
In the first to fourth embodiments, the lens configuration and the lens position are adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 become positions corresponding to the curvature shape of the surface of the
実施例5
図26は、本発明の実施例5における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。図27は、ラインヘッドが有するレンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。つまり、図26、図27ともに、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。
Example 5
FIG. 26 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the fifth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. FIG. 27 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array of the line head and the photosensitive drum. That is, both FIG. 26 and FIG. 27 show a case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD.
実施例5における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例1と同様である。つまり、図15を用いて説明したとおり、3行のレンズ行LSR1〜LSR3は、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで並ぶとともに、対称軸SAに対して幅方向LTDに略対称に配置されている。また、レンズ行LSR1〜LSR3は、それぞれに属するレンズLS1〜LS3の光軸OA1〜OA3が互いに平行となるように配置されている。そして、レンズアレイ299は、対称軸SAが感光体ドラム21の曲率中心CC21(つまり、感光体ドラム21の回転軸)を通るように配置されている。
The arrangement relationship between the
また、実施例5および後に説明する実施例6では、レンズアレイ299は次のように構成されている。つまり、図15を用いつつ説明すると、レンズアレイ299が有する複数のレンズLSは、互いに同一のレンズ構成を有する。さらに、レンズアレイ299が有する複数のレンズLSは、それぞれの第1面LSFfの頂点VTfが同一平面上にくるように、且つ、それぞれの第2面LSFsの頂点VTsが同一平面上にくるように配置されている。つまり、図15に示すように、レンズLS1の第1面LSFf1の頂点VTf1と、レンズLS2の第1面LSFf2の頂点VTf2と、レンズLS3の第1面LSFf3の頂点VTf3とは、同一平面SPL_vtfに在る。また、レンズLS1の第2面LSFs1の頂点VTs1と、レンズLS2の第2面LSFs2の頂点VTs2と、レンズLS3の第2面LSFs3の頂点VTs3とは、同一平面SPL_vtsに在る。したがって、レンズLS1の像面対向距離ldは距離ld1であり、レンズLS2の像面対向距離ldは距離ld2であり、レンズLS3の像面対向距離ldは距離ld3である。
In Example 5 and Example 6 described later, the
また、レンズ行LSR1〜LSR3は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。このとき、レンズ行LSR1〜LSR3それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP3に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR3に属するレンズLS1〜LS3によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP3は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the lens rows LSR1 to LSR3 are all arranged to face the surface of the
表22はレンズLS2のレンズデータであり、表23はレンズLS2の非球面係数である。一方、表24は、レンズLS1、LS3のレンズデータであり、表25は、レンズLS1、LS3の非球面係数である。これらの表から判るように、実施例5は、レンズLS2とレンズLS1、LS3とで、対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを変えている。つまり、レンズLS2に対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed2は、表5の面S1〜S3の和から求められるように、3.562mmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1、ed3は、表7の面S1〜S3の和から求められるように、3.43mmである。このように、実施例5において、レンズLSによって対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図26に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。
Table 22 shows lens data of the lens LS2, and Table 23 shows aspherical coefficients of the lens LS2. On the other hand, Table 24 shows lens data of the lenses LS1 and LS3, and Table 25 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS3. As can be seen from these tables, in Example 5, the lens facing distance ed of the corresponding light emitting
表26は、上述の表22〜25で与えられるデータに基づいて実行されたシミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例1と同様である。表26における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS3が対応する像高(同表によると、レンズLS2が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS3が対応する像高は−0.3182mmである)の位置までの光路長である。 Table 26 shows simulation results executed based on the data given in Tables 22 to 25 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the first embodiment. The optical path length in Table 26 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS3 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lens LS2 is -0. 3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS3 is -0.3182 mm).
表26が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例5では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図26に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例5においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例5では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表26の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0.4μmに抑制されている。具体的には、実施例5におけるレンズLS2により形成されるスポットの径は29.1μmである一方、レンズLS1、LS3により形成されるスポットの径は29.5μmである。したがって、実施例5におけるレンズLS2によるスポットの径とレンズLS1、LS3によるスポットの径との差異は、0.4μm(=29.5μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 26 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd3 corresponding to the lenses LS1 to LS3 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd3 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, the difference Δfd is 0 in the fifth embodiment. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd3 are equal to each other. As shown in FIG. 26, this is because the positions FP1 to FP3 of the light beams by the lenses LS1 to LS3 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the fifth embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表26のピッチ倍率が示すように、レンズLS2のピッチ倍率と、レンズLS1、LS3のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS3のピッチ倍率は−0.5303である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべく、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。
By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 26, the pitch magnification of the lens LS2 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Specifically, the lens LS2 has a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS3 have a pitch magnification of -0.5303. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens facing distances ed1 to ed3 of the light emitting
このような問題に対応すべく、実施例1は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to deal with such a problem, in the first embodiment, in each of the light emitting
図28は、実施例5における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図28における、発光素子番号e1〜e14は、図16において発光素子グループ295を構成する各発光素子2951に対して付した番号である。また、座標軸X_lgd、Y_ltdは、図16において、各発光素子グループ295に対して設けられた座標軸である。つまり、「素子位置5−1」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置5−2」と付された表はレンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置5−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置5−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。
FIG. 28 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 5. 28, the light emitting element numbers e1 to e14 are numbers given to the respective
また、図28における、スポット番号s1〜s14は、図16においてスポットグループSGを構成する各スポットSPに対して付した番号である。また、座標軸X_md、Y_sdは、図16において、各スポットグループSGに対して設けられた座標軸である。つまり、「スポット位置5−1」「スポット位置5−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。 Further, spot numbers s1 to s14 in FIG. 28 are numbers given to the spots SP constituting the spot group SG in FIG. The coordinate axes X_md and Y_sd are coordinate axes provided for each spot group SG in FIG. That is, the tables labeled “spot position 5-1” and “spot position 5-2” indicate the positions of the spots s1 to s14 in the spot group SG formed on the surface of the photosensitive drum.
図28に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは79.82μmであり、発光素子行ピッチPelrは188.58μmである。このように、実施例5では、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 28, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表26に示したとおり、レンズLS2のピッチ倍率は、レンズLS1、LS3のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 26, the pitch magnification of the lens LS2 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS3. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例5では、レンズLS2のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS3のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 5, the light emitting element pitch Pel and the light emission of the light emitting
図28の「スポット位置5−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図28の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例5では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 5-1” in FIG. 28 shows the positions where the spots SP are formed when the arrangement of the
ちなみに、図28の「スポット位置5−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置5−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置5−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは44.9μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは100.06μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 5-2” in FIG. 28 shows the lens when the
このように、実施例5は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 5, in each of the light emitting
ところで、実施例5は、ヘッド基板293の基板面に段差を設けて、各発光素子グループ295の配置平面APLの位置を発光素子グループ295が対応するレンズLSの光軸方向に調整することで、該発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整している。しかしながら、ラインヘッド29と感光体ドラム29(潜像担持体)との配置関係が次の実施例6に示すような場合においては、発光素子グループ295のレンズ対向距離edの調整は、発光素子グループ295が配置されているヘッド基板293の基板面をレンズアレイ299に対して傾斜させることによってもできる。
By the way, in Example 5, a step is provided on the substrate surface of the
実施例6
図29は、本発明の実施例6における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。図30は、ラインヘッドが有するレンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。つまり、図29、図30ともに、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。これらの図を用いて、ラインヘッド29(および、ラインヘッド29が有するレンズアレイ299)と感光体ドラム21の配置関係について説明する。
Example 6
FIG. 29 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the sixth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. FIG. 30 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array of the line head and the photosensitive drum. That is, both FIG. 29 and FIG. 30 represent the case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD. The arrangement relationship between the line head 29 (and the
ラインヘッド29は感光体ドラム21の表面に対向して配置される。そして、感光体ドラム21の表面は、ラインヘッドに対して凸面となっている。さらに、ラインヘッド29は、幅方向LTDの一方端部(図29、図30において右方端部)の端部レンズ行LSR3に属するレンズLS3の像面対向距離ld3が、該一方端部の端部レンズ行LSR3以外のレンズ行LSR1、LSR2に属するレンズLS1、LS2の像面対向距離ld1、ld2より小さくなるように、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に対して配置されている。したがって、各レンズLS1〜LS3の像面対向距離ld1〜ld3の大小関係は、
ld3<ld2<ld1
となっている。ここで、端部レンズ行は、複数のレンズ行LSRのうち幅方向LTDの各端部のレンズ行LSR1、LSR3である。
The
ld3 <ld2 <ld1
It has become. Here, the end lens rows are the lens rows LSR1 and LSR3 at each end in the width direction LTD among the plurality of lens rows LSR.
また、図29、図30に示すように、発光素子グループ295が配置されたヘッド基板293の基板面(つまり、ヘッド基板293の裏面293b)は、レンズアレイ299に対して傾斜している。このとき、レンズアレイ299が有する各レンズLSの第1面LSFfの頂点VTfが存在する平面SPL_vtfに対して、ヘッド基板裏面293bは傾斜する(つまり、平行でない)。また、ヘッド基板裏面293bの形状は平面である。その結果、図30が示すように、各発光素子グループ295の配置平面APL1〜APL3の位置は、該発光素子グループ295が対応するレンズLS1〜LS3の光軸方向に調整される。したがって、レンズLS1〜LS3に対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3は互いに異なる。つまり、レンズ対向距離ed1〜ed3の大小関係は、
ed1<ed2<ed3
を満たす。このように、実施例6において、レンズLSによって対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図29に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。
29 and 30, the substrate surface of the
ed1 <ed2 <ed3
Meet. As described above, in the sixth embodiment, the reason why the lens facing distance ed of the corresponding light emitting
表27はレンズLS1のレンズデータであり、表28はレンズLS2のレンズデータであり、表29はレンズLS3のレンズデータである。また、表30はレンズLS1〜LS3の非球面係数である。これらの表から判るように、実施例6は、レンズLS1〜LS3のレンズ対向距離ed1〜ed3が互いに異なる。つまり、レンズLS1に対応する発光素子グループ295の対向距離ed1は、表27の面S1〜S3の和から求められるように、3.43mmである。また、レンズLS2に対応する発光素子グループ295の対向距離ed2は、表28の面S1〜S3の和から求められるように、3.9mmである。また、レンズLS3に対応する発光素子グループ295の対向距離ed3は、表29の面S1〜S3の和から求められるように、4.3712mmである。このように、実施例6において、レンズLSによって対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図26に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。
Table 27 shows lens data of the lens LS1, Table 28 shows lens data of the lens LS2, and Table 29 shows lens data of the lens LS3. Table 30 shows aspherical coefficients of the lenses LS1 to LS3. As can be seen from these tables, in Example 6, the lens facing distances ed1 to ed3 of the lenses LS1 to LS3 are different from each other. That is, the facing distance ed1 of the light emitting
表31は、上述の表27〜30で与えられるデータに基づいて実行されたシミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例1と同様である。表31における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS3が対応する像高(同表によると、レンズLS1に対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS2に対応する像高は−0.2836mmであり、レンズLS3に対応する像高は−0.2567mmである)の位置までの光路長である。 Table 31 shows the simulation results executed based on the data given in Tables 27-30 above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the first embodiment. The optical path length in Table 31 indicates the image height corresponding to each lens LS1 to LS3 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lens LS1 is -0. 3 mm, the image height corresponding to the lens LS2 is -0.2836 mm, and the image height corresponding to the lens LS3 is -0.2567 mm).
表31が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS3に対応する像感光体距離fd1〜fd3と、像感光体距離fd3との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd3の間における差異Δfdを、像感光体距離fd3を基準として求めている。同表が示すように、実施例6では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd3は、互いに等しい。これは、図29に示すように、レンズLS1〜LS3による光ビームの結像位置FP1〜FP3が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例6においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例6では、複数のレンズ行LSR1〜LSR3の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表31の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd3の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、最大4.0μmに抑制されている。具体的には、レンズLS1により形成されるスポットの径は29.1μmである。また、レンズLS2により形成されるスポットの径は28.3μmである。また、レンズLS3により形成されるスポットの径は25.1μmである。つまり、実施例6においては、レンズLS1〜LS3の間におけるスポット径の差異は、最大でも4.0μm(=29.1μm−25.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 31 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd3 corresponding to the lenses LS1 to LS3 and the image photoreceptor distance fd3. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd3 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd3. As shown in the table, in Example 6, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd3 are equal to each other. As shown in FIG. 29, this is because the positions FP1 to FP3 of the light beams by the lenses LS1 to LS3 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the sixth embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表31のピッチ倍率が示すように、レンズLS1〜LS3でピッチ倍率がそれぞれ異なる。具体的には、レンズLS1のピッチ倍率は−0.5であり、レンズLS2のピッチ倍率は−0.4727であり、レンズLS3のピッチ倍率は−0.4278である。このように、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS3により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべく、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことで、レンズLS1〜LS3の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。
By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 31, the pitch magnifications of the lenses LS1 to LS3 are different. Specifically, the pitch magnification of the lens LS1 is −0.5, the pitch magnification of the lens LS2 is −0.4727, and the pitch magnification of the lens LS3 is −0.4278. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS3 is that the lens facing distances ed1 to ed3 of the light emitting
このような問題に対応すべく、実施例6は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in Example 6, in each of the light emitting
図31は、実施例6における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図31における、発光素子番号e1〜e14は、図16において発光素子グループ295を構成する各発光素子2951に対して付した番号である。また、座標軸X_lgd、Y_ltdは、図16において、各発光素子グループ295に対して設けられた座標軸である。つまり、「素子位置6−1」と付された表はレンズLS1に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示し、「素子位置6−2」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示し、「素子位置6−3」と付された表はレンズLS2に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置6−2」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置6−1」「素子位置6−3」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。
FIG. 31 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 6. In FIG. 31, the light emitting element numbers e1 to e14 are numbers given to the respective
また、図31における、スポット番号s1〜s14は、図16においてスポットグループSGを構成する各スポットSPに対して付した番号である。また、座標軸X_md、Y_sdは、図16において、各スポットグループSGに対して設けられた座標軸である。つまり、「スポット位置6−1」「スポット位置6−2」「スポット位置6−3」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。 Further, spot numbers s1 to s14 in FIG. 31 are numbers assigned to the spots SP constituting the spot group SG in FIG. The coordinate axes X_md and Y_sd are coordinate axes provided for each spot group SG in FIG. That is, the tables labeled “spot position 6-1”, “spot position 6-2”, and “spot position 6-3” indicate the positions of the spots s1 to s14 in the spot group SG formed on the surface of the photosensitive drum. Indicates.
図31に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS1に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。また、レンズLS2に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは89.54μmであり、発光素子行ピッチPelrは211.56μmである。また、レンズLS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは98.94μmであり、発光素子行ピッチPelrは233.76μmである。このように、実施例6では、レンズLS1〜LS3の順番で、各レンズに対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrが大きくなっている。換言すれば、発光素子ピッチPelは、幅方向LTDの一方方向(図30における幅方向LTDの矢印方向)の上流側の発光素子グループ(レンズLS1に対応する発光素子グループ295)から一方方向の下流側の発光素子グループ(レンズLS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、大きくなる。
From these tables shown in FIG. 31, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表31に示したとおり、各レンズLSのピッチ倍率の絶対値は、レンズLS1〜LS3の順番で小さくなっている。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズレンズLS1〜LS3の順番で各レンズLSによるスポットグループSGのスポットピッチPspが小さくなるとともに、レンズレンズLS1〜LS3の順番で各レンズLSによるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprが小さくなる。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 31, the absolute value of the pitch magnification of each lens LS decreases in the order of the lenses LS1 to LS3. Therefore, when the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are made equal in all the light emitting
そこで、実施例6では、各レンズLSのピッチ倍率の絶対値がレンズLS1〜LS3の順番で小さくなっているのに応じて、各レンズLSが対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrをレンズLS1〜LS3の順番で大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 6, as the absolute value of the pitch magnification of each lens LS decreases in the order of the lenses LS1 to LS3, the light emitting element pitch Pel and light emission of the light emitting
図31の「スポット位置6−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図31の同表は、レンズLS1〜LS3のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例6では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 6-1” in FIG. 31 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図31の「スポット位置6−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置6−1」に示すように配置した場合の、レンズLS2により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。また、同図の「スポット位置6−3」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置6−1」に示すように配置した場合の、レンズLS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS1により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置6−1」に示すとおりである。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 6-2” in FIG. 31 shows the lens when the
つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置6−1」に示すように配置した場合、レンズLS1により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは42.34μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは40.02μmであり、レンズLS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは36.22μmであり、各レンズLSによって形成するスポットグループのスポットピッチPspが異なる。また、レンズLS1により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは100μmであり、レンズLS2により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは95.94μmであり、レンズLS3により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは85.56μmであり、各レンズLSによって形成するスポットグループのスポットピッチPsprが異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
That is, when the
このように、実施例6は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、各レンズLS1〜LS3が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed3を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
As described above, in Example 6, the arrangement of the
ところで、上述の実施例1〜6では、レンズ行LSRが幅方向LTDに3行並ぶラインヘッド29を用いて、本発明についての説明を行なった。しかしながら、レンズ行の行数はこれに限られず、4行以上であっても良い。そこで、レンズ行が4行であるラインヘッド29を用いた場合について説明する。
In the first to sixth embodiments, the present invention has been described using the
実施例7
図32は、ラインヘッドが有するレンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。つまり、図32は、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。4行のレンズ行LSR1〜LSR4は、幅方向LTDの互いに異なる配置位置AP1〜AP4に配置されている。より具体的には、4行のレンズ行LSR1〜LSR4は、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで並ぶとともに、対称軸SAに対して幅方向LTDに略対称に配置されている。また、レンズ行LSR1〜LSR4は、それぞれに属するレンズLS1〜LS4の光軸OA1〜OA4が互いに平行となるように配置されている。そして、レンズアレイ299は、対称軸SAが感光体ドラム21の表面形状の曲率中心CC21を通るように配置されている。よって、対称軸SAは、感光体ドラム21の回転軸を通ることとなる。このとき、レンズ行LSR1〜LSR4は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。したがって、レンズ行LSR1〜LSR4それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。
Example 7
FIG. 32 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array of the line head and the photosensitive drum. That is, FIG. 32 shows a case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD. The four lens rows LSR1 to LSR4 are arranged at different arrangement positions AP1 to AP4 in the width direction LTD. More specifically, the four lens rows LSR1 to LSR4 are arranged at the lens row pitch Plsr in the width direction LTD, and are arranged substantially symmetrically in the width direction LTD with respect to the symmetry axis SA. The lens rows LSR1 to LSR4 are arranged such that the optical axes OA1 to OA4 of the lenses LS1 to LS4 belonging to each of them are parallel to each other. The
また、各レンズLS1〜LS4に一対一の対応関係で発光素子グループ295が配置されている。つまり、レンズLS1に対向する配置平面APL1に発光素子グループ295が配置されている。また、レンズLS2に対向する配置平面APL2に発光素子グループ295が配置されている。また、レンズLS3に対向する配置平面APL3に発光素子グループ295が配置されている。また、レンズLS4に対向する配置平面APL4に発光素子グループ295が配置されている。このとき、配置平面APL1に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed1であり、配置平面APL2に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed2であり、配置平面APL3に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed3で、配置平面APL4に配置された発光素子グループ295のレンズ対向距離edは距離ed4である。そして、発光素子グループ295のそれぞれから射出された光ビームは、該発光素子グループ295が対向するレンズLSにより結像される。なお、実施例7および後に説明する実施例8〜10においては、複数の発光素子グループ295は同一平面上に配置されている。
In addition, the light emitting
また、図32においては、上述の通りレンズ行の行数は4行である(つまり、図32はNが4の場合に対応する)。そして、対称軸SAに最も近いレンズ行LSRはレンズ行LSR2、LSR3であるので、図32においては中央発光素子グループはレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295(つまり、配置平面APL2、APL3に配置された発光素子グループ)である。一方、図32においては、端部発光素子グループはレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295(つまり、配置平面APL1、APL4に配置された発光素子グループ295)である。
In FIG. 32, the number of lens rows is 4 as described above (that is, FIG. 32 corresponds to the case where N is 4). Since the lens rows LSR closest to the symmetry axis SA are the lens rows LSR2 and LSR3, the central light emitting element group in FIG. Arranged light emitting element groups). On the other hand, in FIG. 32, the end light emitting element groups are the light emitting
図33は、本発明の実施例7における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS4は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズである。 FIG. 33 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the seventh embodiment of the present invention. The upper part of the figure shows an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS4 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR4, respectively.
同図が示すように、レンズ行LSR1〜LSR4は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。このとき、レンズ行LSR1〜LSR4のそれぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズLS1〜LS4によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP4は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
As shown in the figure, the lens rows LSR1 to LSR4 are all arranged to face the surface of the
表32はレンズLS2、LS3のレンズデータであり、表33はレンズLS2、LS3の非球面係数である。一方、表34は、レンズLS1、LS4のレンズデータであり、表35は、レンズLS1、LS4の非球面係数である。これらの表から判るように、実施例7は、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とで、非球面係数を変えている(つまり、レンズ形状を変えている)。なお、実施例7におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例7では、レンズLS1とレンズLS4とが同一であるとともに、レンズLS2とレンズLS3とが同一である。一方、レンズLS1、LS4とレンズLS2、LS3とは、レンズ形状において異なる。このように、実施例7においてレンズLSによってレンズ形状を調整する理由は、実施例1と同様、レンズLS1〜LS4の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図33に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 32 shows lens data of the lenses LS2 and LS3, and Table 33 shows aspheric coefficients of the lenses LS2 and LS3. On the other hand, Table 34 shows lens data of the lenses LS1 and LS4, and Table 35 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS4. As can be seen from these tables, in Example 7, the aspheric coefficient is changed between the lenses LS2 and LS3 and the lenses LS1 and LS4 (that is, the lens shape is changed). The optical system specifications used in the simulation in Example 7 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 7 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS4 are the same, and the lens LS2 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1 and LS4 and the lenses LS2 and LS3 are different in lens shape. In this way, the reason for adjusting the lens shape by the lens LS in Example 7 is shown in FIG. 33 by suppressing the occurrence of the difference in the image photoreceptor distance fd between the lenses LS1 to LS4 as in Example 1. Thus, the image forming positions FP1 to FP3 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum.
つまり、全てのレンズLSのレンズ構成・レンズ位置を同一とするとともに、全ての発光素子部ループ295のレンズ対向距離edを同一とした場合、光ビームLB1〜LB4それぞれの結像位置FP1〜FP4は、副走査断面において副走査方向SD(幅方向LTD)に略平行な同一平面SPL_fpに位置することとなる。一方、感光体ドラム21(潜像担持体)の表面のうちレンズアレイ299と対向する表面領域FCRは、副走査断面において曲率を有している。したがって、実施例1において図18を用いて説明したのと同様に、結像位置FP1〜FP4のそれぞれと感光体ドラム21の表面との距離を像感光体距離fd1〜fd4としたとき、像感光体距離fd1〜fd4の間で差異が発生し、良好な露光が行なえない可能性がある。そこで、実施例7においては、レンズLSのレンズ形状を調整することで、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例7においては、図33に示すように感光体ドラム21の略表面)に調整している。
That is, when the lens configurations and lens positions of all the lenses LS are the same, and the lens facing distances ed of all the light emitting
表36は、上述の表32〜35で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS4を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsrおよび発光素子グループ行ピッチPegrは、1.65mmとした。また、感光体ドラム21の径は80mmとした。表35における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS4が対応する像高(同表によると、レンズLS2、LS3が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS4が対応する像高は−0.3048mmである)の位置までの光路長である。
Table 36 shows simulation results in the case where the lenses LS1 to LS4 are configured based on the data given in Tables 32 to 35 described above. In the simulation, the lens row pitch Plsr and the light emitting element group row pitch Pegr were 1.65 mm. The diameter of the
表36が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS4に対応する像感光体距離fd1〜fd4と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd4の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例7では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd4は、互いに等しい。これは、図33に示すように、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例7においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例7では、複数のレンズ行LSR1〜LSR4の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表36の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd4の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、2.8μmに抑制されている。具体的には、実施例7におけるレンズLS2、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmである一方、レンズLS1、LS4により形成されるスポットの径は31.9μmである。つまり、実施例7におけるレンズLS2、LS3によるスポットの径とレンズLS1、LS4によるスポットの径との差異は、2.8μm(=31.9μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 36 is the difference between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 corresponding to the lenses LS1 to LS4 and the image photosensitive member distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, in Example 7, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd4 are equal to each other. As shown in FIG. 33, the positions FP1 to FP4 of the light beams by the lenses LS1 to LS4 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the seventh embodiment, as shown in FIG. 33). This is because the surface of the
ところで、表30のピッチ倍率が示すように、レンズLS2、LS3のピッチ倍率と、レンズLS1、LS4のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS4のピッチ倍率は−0.508である。このように、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS4においてレンズ形状を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS4により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ形状を調整したことで、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、上述してきたような4行のレンズ行LSRを有するラインヘッド29による露光動作においても、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。
Incidentally, as indicated by the pitch magnification in Table 30, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Specifically, the lens LS2 and LS3 have a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS4 have a pitch magnification of -0.508. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS4 is that the lens shape is adjusted in each of the lenses LS1 to LS4. That is, the lens magnification is different among the lenses LS1 to LS4 by adjusting the lens shape so as to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS4 are different. Therefore, also in the exposure operation by the
このような問題に対応すべく、実施例7は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in Example 7, in each of the light emitting
図34は、実施例7における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図34において、「素子位置7−1」と付された表はレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置7−2」と付された表はレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置7−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置7−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、図34において、「スポット位置7−1」「スポット位置7−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 34 is a diagram illustrating the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 7. In FIG. 34, a table labeled “element position 7-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図34に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは83.32μmであり、発光素子行ピッチPelrは196.86μmである。このように、実施例7では、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 34, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表36に示したとおり、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は、レンズLS1、LS4のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 36, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例7では、レンズLS2、LS3のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS4のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 7, the light emitting elements of the light emitting
図34の「スポット位置7−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図34の同表は、レンズLS1〜LS4のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例7では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table attached with “spot position 7-1” in FIG. 34 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図34の「スポット位置7−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置7−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置7−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは43.01μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは101.6μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 7-2” in FIG. 34 shows the lens when the
このように、実施例7は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ形状(レンズ構成)を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
As described above, in Example 7, the arrangement of the
ところで、実施例7は、レンズ形状を調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例8に示すように、レンズLSのレンズ位置を調整しても良い。
Incidentally, in the seventh embodiment, the lens shape is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 become positions corresponding to the curvature shape of the surface of the
実施例8
図35は、本発明の実施例8における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS4は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズである。
Example 8
FIG. 35 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the eighth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS4 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR4, respectively.
また、実施例8における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例7と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR4それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズLS1〜LS4によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP4は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
In addition, the positional relationship between the
表37はレンズLS2、LS3のレンズデータであり、表38はレンズLS2、LS3の非球面係数である。一方、表39は、レンズLS1、LS4のレンズデータであり、表40は、レンズLS1、LS4の非球面係数である。面番号S1〜S3までの面間隔の和が表37と表39とで異なっていることから判るように、実施例6は、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とでレンズ位置を変えている。なお、実施例8におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例8では、レンズLS1とレンズLS4とが同一であるとともに、レンズLS2とレンズLS3とが同一である。一方、レンズLS1、LS4とレンズLS2、LS3とは、レンズ位置において異なる。このように、実施例8においてレンズLSによってレンズ位置を調整する理由は、実施例7と同様、レンズLS1〜LS4の間における像感光体距離fdの際の発生を抑制して、図35に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 37 shows lens data of the lenses LS2 and LS3, and Table 38 shows aspheric coefficients of the lenses LS2 and LS3. On the other hand, Table 39 shows lens data of the lenses LS1 and LS4, and Table 40 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS4. As can be seen from the fact that the sum of the surface intervals from surface numbers S1 to S3 is different between Table 37 and Table 39, in Example 6, the lens position is changed between the lenses LS2 and LS3 and the lenses LS1 and LS4. . The optical system specifications used in the simulation in Example 8 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 8 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS4 are the same, and the lens LS2 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1, LS4 and the lenses LS2, LS3 are different in lens position. As described above, the reason for adjusting the lens position by the lens LS in the eighth embodiment is the same as in the seventh embodiment, in which the occurrence of the image photosensitive member distance fd between the lenses LS1 to LS4 is suppressed, as shown in FIG. Thus, the image forming positions FP1 to FP4 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum.
表41は、上述の表37〜40で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS4を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例7と同様である。表41における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS4が対応する像高(同表によると、レンズLS2、LS3が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS4が対応する像高は−0.2922mmである)の位置までの光路長である。 Table 41 shows simulation results when the lenses LS1 to LS4 are configured based on the data given in Tables 37 to 40 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the seventh embodiment. The optical path length in Table 41 indicates the image height corresponding to each lens LS1 to LS4 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lenses LS2 and LS3 is − 0.3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS4 is -0.2922 mm).
表41が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS4に対応する像感光体距離fd1〜fd4と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd4の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例8では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd4は、互いに等しい。これは、図35に示すように、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例8においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例8では、複数のレンズ行LSR1〜LSR4の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表41の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd4の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0μmに抑制されている。具体的には、実施例8におけるレンズLS2、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmであり、レンズLS1、LS4により形成されるスポットの径は29.1μmである。つまり、実施例8におけるレンズLS2、LS3によるスポットの径とレンズLS1、LS4によるスポットの径との差異は、0μm(=29.1μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 41 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd4 corresponding to the lenses LS1 to LS4 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, in Example 8, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd4 are equal to each other. As shown in FIG. 35, the positions FP1 to FP4 of the light beams by the lenses LS1 to LS4 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the eighth embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表41のピッチ倍率が示すように、レンズLS2、LS3のピッチ倍率と、レンズLS1、LS4のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS4のピッチ倍率は−0.487である。このように、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS4においてレンズ位置を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS4により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ位置を調整したことで、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 As shown in Table 41, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Specifically, the lens LS2 and LS3 have a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS4 have a pitch magnification of -0.487. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS4 is that the lens position is adjusted in each of the lenses LS1 to LS4. In other words, the pitch magnification is different among the lenses LS1 to LS4 by adjusting the lens position to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS4 are different. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例8は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in Example 8, in each of the light emitting
図36は、実施例8における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図36において、「素子位置8−1」と付された表はレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置8−2」と付された表はレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置8−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置8−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置8−1」「スポット位置8−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 36 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 8. In FIG. 36, a table labeled “element position 8-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図36に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは86.92μmであり、発光素子行ピッチPelrは205.34μmである。このように、実施例8では、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも小さい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは大きくなる。
From these tables shown in FIG. 36, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表41に示したとおり、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は、レンズLS1、LS4のピッチ倍率よりも、絶対値において大きい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも大きくなるとともに、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも大きくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 41, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is larger in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例8では、レンズLS2、LS3のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS4のピッチ倍率の絶対値よりも大きいことに応じて、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも小さくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 8, the light emitting elements of the light emitting
図36の「スポット位置8−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図36の同表は、レンズLS1〜LS4のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例8では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table attached with “Spot Position 8-1” in FIG. 36 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図36の「スポット位置8−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置8−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置8−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは41.22μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは97.4μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “spot position 8-2” in FIG. 36 shows the lens when the
このように、実施例8は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ位置を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
As described above, in Example 8, the arrangement of the
ところで、実施例8は、レンズ位置を調整して、結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例9に示すように、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)を調整しても良い。
Incidentally, in the eighth embodiment, the lens position is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP4 correspond to the curvature shape of the surface of the
実施例9
図37は、本発明の実施例9における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS4は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズである。
Example 9
FIG. 37 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the ninth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS4 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR4, respectively.
また、実施例9における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例7と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR4それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズLS1〜LS4によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP4は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the positional relationship between the
表42はレンズLS2、LS3のレンズデータであり、表43はレンズLS2、LS3の非球面係数である。一方、表44は、レンズLS1、LS4のレンズデータであり、表45は、レンズLS1、LS4の非球面係数である。面番号S4の面間隔が表42と表44とで異なっていることから判るように、実施例9は、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とでレンズ厚さを変えている。なお、実施例9におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例9では、レンズLS1とレンズLS4とが同一であるとともに、レンズLS2とレンズLS3とが同一である。一方、レンズLS1、LS4とレンズLS2、LS3とは、レンズ厚さにおいて異なる。このように、実施例9においてレンズLSによってレンズ厚さを調整する理由は、実施例7と同様、レンズLS1〜LS4の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図37に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 42 shows lens data of the lenses LS2 and LS3, and Table 43 shows aspheric coefficients of the lenses LS2 and LS3. On the other hand, Table 44 shows lens data of the lenses LS1 and LS4, and Table 45 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS4. As can be seen from the fact that the surface spacing of the surface number S4 is different between Table 42 and Table 44, in Example 9, the lens thickness is changed between the lenses LS2, LS3 and the lenses LS1, LS4. The optical system specifications used in the simulation in Example 9 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 9 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS4 are the same, and the lens LS2 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1 and LS4 and the lenses LS2 and LS3 differ in lens thickness. In this way, the reason why the lens thickness is adjusted by the lens LS in Example 9 is that, as in Example 7, the occurrence of the difference in the image photoreceptor distance fd between the lenses LS1 to LS4 is suppressed, and FIG. As shown, the imaging positions FP1 to FP4 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the photosensitive drum surface.
表46は、上述の表42〜45で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS4を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例7と同様である。表46における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS4が対応する像高(同表によると、レンズLS2、LS3が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS4が対応する像高は−0.3056mmである)の位置までの光路長である。 Table 46 shows simulation results when the lenses LS1 to LS4 are configured based on the data given in Tables 42 to 45 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the seventh embodiment. The optical path length in Table 46 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS4 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lenses LS2 and LS3 is − 0.3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS4 is -0.3056 mm).
表46が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS4に対応する像感光体距離fd1〜fd4と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd4の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例9では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd4は、互いに等しい。これは、図37に示すように、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例9においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例9では、複数のレンズ行LSR1〜LSR4の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表46の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd4の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0μmに抑制されている。具体的には、実施例9におけるレンズLS2、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmであるとともに、レンズLS1、LS4により形成されるスポットの径は29.1μmである。つまり、実施例9におけるレンズLS2、LS3によるスポットの径とレンズLS1、LS4によるスポットの径との差異は、0μm(=29.1μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 46 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd4 corresponding to the lenses LS1 to LS4 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, in Example 9, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd4 are equal to each other. As shown in FIG. 37, the positions FP1 to FP4 of the light beams by the lenses LS1 to LS4 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the ninth embodiment, as shown in FIG. This is because the surface of the
ところで、表46のピッチ倍率が示すように、レンズLS2、LS3のピッチ倍率と、レンズLS1、LS4のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS4のピッチ倍率は−0.509である。このように、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS4においてレンズ厚さを調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS4により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ厚さを調整したことで、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 46, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Specifically, the lens LS2 and LS3 have a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS4 have a pitch magnification of -0.509. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS4 is that the lens thickness is adjusted in each of the lenses LS1 to LS4. That is, by adjusting the lens thickness so as to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS4 are different, the pitch magnification is different among the lenses LS1 to LS4. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例9は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to cope with such a problem, in Example 9, in each of the light emitting
図38は、実施例9における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図38において、「素子位置9−1」と付された表はレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置9−2」と付された表はレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置9−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置9−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置9−1」「スポット位置9−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 38 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 9. In FIG. 38, a table labeled “element position 9-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図38に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは83.16μmであり、発光素子行ピッチPelrは196.46μmである。このように、実施例9では、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 38, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表46に示したとおり、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は、レンズLS1、LS4のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 46, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例9では、レンズLS2、LS3のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS4のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Thus, in Example 9, the light emitting elements of the light emitting
図38の「スポット位置9−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図38の同表は、レンズLS1〜LS4のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例9では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table attached with “Spot Position 9-1” in FIG. 38 shows the formation position of the spot SP when the arrangement of the
ちなみに、図38の「スポット位置9−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置9−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置9−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは43.1μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは101.8μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 9-2” in FIG. 38 shows the lens in the case where the
このように、実施例9は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 9, in each of the light emitting
ところで、実施例9は、レンズ厚さを調整して、結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例10に示すように、レンズLSのレンズ厚さ(レンズ構成)のみならずレンズ形状(レンズ構成)およびレンズ位置の全てを調整しても良い。
Incidentally, in the ninth embodiment, the lens thickness is adjusted so that the imaging positions FP1 to FP4 correspond to the curvature shape of the surface of the
実施例10
図39は、本発明の実施例10における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。同図下段における、レンズLS1〜LS4は、それぞれ互いに異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズである。
Example 10
FIG. 39 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the tenth embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. Lenses LS1 to LS4 in the lower part of the figure are lenses belonging to different lens rows LSR1 to LSR4, respectively.
また、実施例10における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例7と同様である。つまり、レンズ行LSR1〜LSR4それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズLS1〜LS4によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP4は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
Further, the positional relationship between the
表47はレンズLS2、LS3のレンズデータであり、表48はレンズLS2、LS3の非球面係数である。一方、表49は、レンズLS1、LS4のレンズデータであり、表50は、レンズLS1、LS4の非球面係数である。レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とで、第2面LSFsの非球面係数(つまり、レンズ形状)が異なる。また、面番号S1〜S3までの面間隔の和が表47と表49で異なることから判るように、実施例10では、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とでレンズ位置が異なる。また、面番号S4の面間隔が表47と表49で異なることから判るように、実施例10では、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とで、レンズ厚さが異なる。なお、実施例10におけるシミュレーションで用いた光学系諸元は、実施例1における表1で示した内容と同様であるである。このように、本発明の実施例10では、レンズLS1とレンズLS4とが同一であるとともに、レンズLS2とレンズLS3とが同一である。一方、レンズLS1、LS4とレンズLS2、LS3とは異なる。このように、実施例10においてレンズLSによってレンズ構成・レンズ位置を調整する理由は、実施例7と同様、レンズLS1〜LS4の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図39に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。 Table 47 shows lens data of the lenses LS2 and LS3, and Table 48 shows aspheric coefficients of the lenses LS2 and LS3. On the other hand, Table 49 shows lens data of the lenses LS1 and LS4, and Table 50 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS4. The lenses LS2 and LS3 and the lenses LS1 and LS4 have different aspherical coefficients (that is, lens shapes) of the second surface LSFs. Further, as can be seen from the fact that the sum of the surface intervals from surface numbers S1 to S3 is different between Table 47 and Table 49, in Example 10, the lens positions of the lenses LS2 and LS3 and the lenses LS1 and LS4 are different. Further, as can be seen from the fact that the surface spacing of the surface number S4 is different between Table 47 and Table 49, in Example 10, the lenses LS2, LS3 and the lenses LS1, LS4 have different lens thicknesses. The optical system specifications used in the simulation in Example 10 are the same as the contents shown in Table 1 in Example 1. Thus, in Example 10 of the present invention, the lens LS1 and the lens LS4 are the same, and the lens LS2 and the lens LS3 are the same. On the other hand, the lenses LS1 and LS4 are different from the lenses LS2 and LS3. As described above, the reason why the lens configuration and the lens position are adjusted by the lens LS in the tenth embodiment is the same as in the seventh embodiment. 39, the image forming positions FP1 to FP4 of the light beam are adjusted to positions corresponding to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum.
表51は、上述の表47〜50で与えられるデータに基づいて、レンズLS1〜LS4を構成した場合における、シミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例7と同様である。表51における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS4が対応する像高(同表によると、レンズLS2、LS3が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS4が対応する像高は−0.304mmである)の位置までの光路長である。 Table 51 shows simulation results when the lenses LS1 to LS4 are configured based on the data given in Tables 47 to 50 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the seventh embodiment. The optical path length in Table 51 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS4 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lenses LS2 and LS3 is − 0.3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS4 is -0.304 mm).
表51が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS4に対応する像感光体距離fd1〜fd4と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd4の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例10では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd4は、互いに等しい。これは、図39に示すように、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例10においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例10では、複数のレンズ行LSR1〜LSR4の間での像換骨愛距離fdの差異が抑制されている。そして、表51の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd4の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異は、0μmに抑制されている。具体的には、実施例10におけるレンズLS2、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmであるとともに、レンズLS1、LS4により形成されるスポットの径は29.1μmである。つまり、実施例10におけるレンズLS2、LS3によるスポットの径とレンズLS1、LS4によるスポットの径との差異は、0μm(=29.1μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 51 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd4 corresponding to the lenses LS1 to LS4 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, in Example 10, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd4 are equal to each other. As shown in FIG. 39, the positions FP1 to FP4 of the light beams by the lenses LS1 to LS4 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in the tenth embodiment, as shown in FIG. 39). This is because the surface of the
ところで、表51のピッチ倍率が示すように、レンズLS2、LS3のピッチ倍率と、レンズLS1、LS4のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS4のピッチ倍率は−0.5067である。このように、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS4においてレンズ形状、レンズ厚さおよびレンズ位置を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS4により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべくレンズ形状、レンズ厚さおよびレンズ位置を調整したことで、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。 By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 51, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 and the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4 are different. Specifically, the lens LS2 and LS3 have a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS4 have a pitch magnification of -0.5067. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS4 is that the lens shape, lens thickness, and lens position are adjusted in each of the lenses LS1 to LS4. In other words, the lens magnification, the lens thickness, and the lens position are adjusted to suppress the occurrence of exposure failure that the diameters of the spots formed by the lenses LS1 to LS4 are different, so that the pitch magnification differs among the lenses LS1 to LS4. ing. Therefore, as described in the first embodiment, there is a possibility that an exposure failure such as a difference in the spot pitch Psp occurs due to the difference in pitch magnification of the lens LS. That is, by adjusting the imaging position FP of the light beam LB according to the curvature shape of the surface of the photosensitive drum, the surface of the photosensitive drum (latent image carrier surface) between the plurality of lenses LS (lens row LSR). The spot pitch Psp of the spot group SG to be formed is different, and as a result, there is a possibility that an exposure failure that good exposure cannot be performed may occur.
このような問題に対応すべく、実施例10は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to deal with such a problem, in Example 10, the pitch of the lens LS to which the light emitting
図40は、実施例10における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図40において、「素子位置10−1」と付された表はレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置10−2」と付された表はレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置10−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置10−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。また、「スポット位置10−1」「スポット位置10−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。
FIG. 40 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 10. In FIG. 40, a table labeled “element position 10-1” indicates the positions of the light emitting elements e1 to e14 in the light emitting
図40に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは83.54μmであり、発光素子行ピッチPelrは197.36μmである。このように、実施例8では、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 40, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表51に示したとおり、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は、レンズLS1、LS4のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 51, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例10では、レンズLS2、LS3のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS4のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Therefore, in Example 10, the light emitting elements of the light emitting
図40の「スポット位置10−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図40の同表は、レンズLS1〜LS4のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例10では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 10-1” in FIG. 40 shows the position where the spot SP is formed when the arrangement of the
ちなみに、図40の「スポット位置10−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置10−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置10−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは42.90μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは101.34μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 10-2” in FIG. 40 shows the lens when the
このように、実施例10は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、レンズLSのレンズ形状(レンズ構成)・レンズ厚さ(レンズ構成)およびレンズ位置を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 10, in each of the light emitting
ところで、実施例7〜10は、レンズ構成・レンズ位置を調整して、結像位置FP1〜FP3を感光体ドラム21の表面の曲率形状に対応する位置となるようにしている。しかしながら、例えば、次の実施例11に示すように、発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整しても良い。
By the way, in Examples 7 to 10, the lens configuration and the lens position are adjusted so that the imaging positions FP1 to FP3 become positions corresponding to the curvature shape of the surface of the
実施例11
図41は、本発明の実施例11における、レンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。同図上段は、同図下段の破線四角部分を拡大して表示したものである。図42は、ラインヘッドが有するレンズアレイと感光体ドラムとの配置関係を示す副走査断面図である。つまり、図41、図42ともに、ラインヘッドと感光体ドラムとの配置関係を長手方向LGDから見た場合を表している。
Example 11
FIG. 41 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array and the photosensitive drum in the eleventh embodiment of the present invention. The upper part of the figure is an enlarged view of the broken-line square part in the lower part of the figure. FIG. 42 is a sub-scan sectional view showing the positional relationship between the lens array of the line head and the photosensitive drum. That is, both FIG. 41 and FIG. 42 show a case where the arrangement relationship between the line head and the photosensitive drum is viewed from the longitudinal direction LGD.
実施例11における、レンズアレイ299と感光体ドラム21との配置関係は、実施例7と同様である。つまり、4行のレンズ行LSR1〜LSR4は、幅方向LTDにレンズ行ピッチPlsrで並ぶとともに、対称軸SAに対して幅方向LTDに略対称に配置されている。また、レンズ行LSR1〜LSR4は、それぞれに属するレンズLS1〜LS4の光軸OA1〜OA4が互いに平行となるように配置されている。そして、レンズアレイ299は、対称軸SAが感光体ドラム21の曲率中心CC21(つまり、感光体ドラム21の回転軸)を通るように配置されている。
The arrangement relationship between the
また、実施例11では、レンズアレイ299は次のように構成されている。つまり、レンズアレイ299が有する複数のレンズLSは、互いに同一の構成を有する。さらに、レンズアレイ299が有する複数のレンズLSは、それぞれの第1面LSFfの頂点VTfが同一平面上にくるように、且つ、それぞれの第2面LSFsの頂点VTsが同一平面上にくるように配置されている。つまり、図42に示すように、レンズLS1の第1面LSFf1の頂点VTf1と、レンズLS2の第1面LSFf2の頂点VTf2と、レンズLS3の第1面LSFf3の頂点VTf3と、レンズLS4の第1面LSFf4の頂点VTf4とは、同一平面SPL_vtfに在る。また、レンズLS1の第2面LSFs1の頂点VTs1と、レンズLS2の第2面LSFs2の頂点VTs2と、レンズLS3の第2面LSFs3の頂点VTs3と、レンズLS4の第2面LSFs4の頂点VTs4とは、同一平面SPL_vtsに在る。したがって、レンズLS1の像面対向距離ldは距離ld1であり、レンズLS2の像面対向距離ldは距離ld2であり、レンズLS3の像面対向距離ldは距離ld3で、レンズLS4の像面対向距離ldは距離ld4である。
In Example 11, the
また、レンズ行LSR1〜LSR4は、いずれも感光体ドラム21の表面に対向して配置されている。このとき、レンズ行LSR1〜LSR4それぞれは、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)の副走査方向SDにおいて互いに異なる対向位置FCP1〜FCP4に対向する。したがって、異なるレンズ行LSR1〜LSR4に属するレンズLS1〜LS4によって結像された光ビームの結像位置FP1〜FP4は、副走査方向SDにおいて互いに異なる。
The lens rows LSR1 to LSR4 are all disposed so as to face the surface of the
表52はレンズLS2、LS3のレンズデータであり、表53はレンズLS2、LS3の非球面係数である。一方、表54は、レンズLS1、LS4のレンズデータであり、表55は、レンズLS1、LS4の非球面係数である。これらの表から判るように、実施例11は、レンズLS2、LS3とレンズLS1、LS4とで、対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを変えている。つまり、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の対向距離ed2、ed3は、表52の面S1〜S3の和から求められるように、3.43mmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の対向距離ed1、ed4は、表54の面S1〜S3の和から求められるように、3.3055mmである。このように、実施例11において、レンズLSによって対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離edを調整する理由は、実施例7と同様、レンズLS1〜LS3の間における像感光体距離fdの差異の発生を抑制して、図41に示すように光ビームの結像位置FP1〜FP4を感光体ドラム表面の曲率形状に応じた位置に調整することにある。
Table 52 shows lens data of the lenses LS2 and LS3, and Table 53 shows aspheric coefficients of the lenses LS2 and LS3. On the other hand, Table 54 shows lens data of the lenses LS1 and LS4, and Table 55 shows aspheric coefficients of the lenses LS1 and LS4. As can be seen from these tables, in Example 11, the lens facing distance ed of the corresponding light emitting
表56は、上述の表52〜55で与えられるデータに基づいて実行されたシミュレーション結果である。なお、同シミュレーションにおいて、レンズ行ピッチPlsr、発光素子グループ行ピッチPegrおよび感光体ドラム径等のその他の条件は、実施例7と同様である。表56における光路長は、0.6mmの物体高(表1参照)の位置から、それぞれのレンズLS1〜LS4が対応する像高(同表によると、レンズLS2、LS3が対応する像高は−0.3mmであり、レンズLS1、LS4が対応する像高は−0.3323mmである)の位置までの光路長である。 Table 56 shows simulation results executed based on the data given in Tables 52 to 55 described above. In the simulation, other conditions such as the lens row pitch Plsr, the light emitting element group row pitch Pegr, and the photosensitive drum diameter are the same as those in the seventh embodiment. The optical path length in Table 56 is the image height corresponding to each of the lenses LS1 to LS4 from the position of the object height (see Table 1) of 0.6 mm (according to the table, the image height corresponding to the lenses LS2 and LS3 is − 0.3 mm, and the image height corresponding to the lenses LS1 and LS4 is -0.3323 mm).
表56が示す、差異Δfdは、レンズLS1〜LS4に対応する像感光体距離fd1〜fd4と、像感光体距離fd2との差である。つまり、像感光体距離fd1〜fd4の間における差異Δfdを、像感光体距離fd2を基準として求めている。同表が示すように、実施例11では差異Δfdは0となっている。つまり、像感光体距離fd1〜fd4は、互いに等しい。これは、図41に示すように、レンズLS1〜LS4による光ビームの結像位置FP1〜FP4が、感光体ドラム21の曲率形状に応じた位置(実施例11においては、同図が示すように感光体ドラム21の略表面)に調整されていることによる。このように、実施例11では、複数のレンズ行LSR1〜LSR4の間での像感光体距離fdの差異が抑制されている。そして、表56の「スポット径」の欄が示すように、像感光体距離fd1〜fd4の差異を抑制することで、感光体ドラム21の表面に形成されるスポットのスポット径の差異が、0.4μmに抑制されていることがわかる。具体的には、実施例11におけるレンズLS2、LS3により形成されるスポットの径は29.1μmである一方、レンズLS1、LS4により形成されるスポットの径は29.5μmである。つまり、実施例11おけるレンズLS2、LS3によるスポットの径とレンズLS1、LS4によるスポットの径との差異は、0.4μm(=29.5μm−29.1μm)である。
The difference Δfd shown in Table 56 is the difference between the image photoreceptor distances fd1 to fd4 corresponding to the lenses LS1 to LS4 and the image photoreceptor distance fd2. That is, the difference Δfd between the image photosensitive member distances fd1 to fd4 is obtained on the basis of the image photosensitive member distance fd2. As shown in the table, in Example 11, the difference Δfd is 0. That is, the image photosensitive member distances fd1 to fd4 are equal to each other. As shown in FIG. 41, this is because the positions FP1 to FP4 of the light beams by the lenses LS1 to LS4 correspond to the curvature shape of the photosensitive drum 21 (in Example 11, as shown in FIG. 41). This is because it is adjusted to the substantially surface) of the
ところで、表56のピッチ倍率が示すように、レンズLS2、LS3のピッチ倍率と、レンズLS1、LS4のピッチ倍率とが異なる。具体的には、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は−0.5である一方、レンズLS1、LS4のピッチ倍率は−0.5338である。このように、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率に差が生じる原因は、各レンズLS1〜LS4が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed4を調整したことによる。つまり、各レンズLS1〜LS4により形成するスポットの径が異なるという露光不良の発生を抑制すべく、各レンズLS1〜LS4が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed4を調整したことで、レンズLS1〜LS4の間でピッチ倍率が異なっている。したがって、実施例1で述べたように、レンズLSのピッチ倍率の差に起因して、スポットピッチPspに差が発生するという露光不良が発生する可能性がある。つまり、感光体ドラム表面の曲率形状に応じて光ビームLBの結像位置FPを調整することで、複数のレンズLS(レンズ行LSR)の間において感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成するスポットグループSGのスポットピッチPspが異なり、結果として、良好な露光が行なえないという露光不良が発生する可能性があった。
By the way, as indicated by the pitch magnification in Table 56, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is different from the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Specifically, the lens LS2 and LS3 have a pitch magnification of -0.5, while the lenses LS1 and LS4 have a pitch magnification of -0.5338. As described above, the cause of the difference in pitch magnification between the lenses LS1 to LS4 is that the lens facing distances ed1 to ed4 of the light emitting
このような問題に対応すべく、実施例11は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。具体的には、次に示すように、各発光素子グループ295において、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを調整している。
In order to deal with such a problem, in Example 11, in each of the light emitting
図43は、実施例11における発光素子の配置およびスポットの形成位置を示す図である。図43における、発光素子番号e1〜e14は、図16において発光素子グループ295を構成する各発光素子2951に対して付した番号である。また、座標軸X_lgd、Y_ltdは、図16において、各発光素子グループ295に対して設けられた座標軸である。つまり、「素子位置11−1」と付された表はレンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示すとともに、「素子位置11−2」と付された表はレンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295における発光素子e1〜e14の位置を示す。つまり、「素子位置11−1」と付された表は中央発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示すとともに、「素子位置11−2」と付された表は端部発光素子グループにおける発光素子2951の位置を示す。
FIG. 43 is a diagram showing the arrangement of light emitting elements and the formation positions of spots in Example 11. 43, the light emitting element numbers e1 to e14 are numbers assigned to the respective
また、図43における、スポット番号s1〜s14は、図16においてスポットグループSGを構成する各スポットSPに対して付した番号である。また、座標軸X_md、Y_sdは、図16において、各スポットグループSGに対して設けられた座標軸である。つまり、「スポット位置11−1」「スポット位置11−2」と付されたそれぞれの表は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループSGにおけるスポットs1〜s14の位置を示す。 Further, spot numbers s1 to s14 in FIG. 43 are numbers given to the respective spots SP constituting the spot group SG in FIG. The coordinate axes X_md and Y_sd are coordinate axes provided for each spot group SG in FIG. In other words, the tables labeled “spot position 11-1” and “spot position 11-2” indicate the positions of the spots s1 to s14 in the spot group SG formed on the surface of the photosensitive drum.
図43に示すこれらの表から、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを求める。レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは84.66μmであり、発光素子行ピッチPelrは200μmである。一方、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelは76.44μmであり、発光素子行ピッチPelrは180.58μmである。このように、実施例3では、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きい。換言すれば、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrは小さくなる。
From these tables shown in FIG. 43, the light emitting element pitch Pel and the light emitting element row pitch Pelr are obtained. In the light emitting
つまり、表56に示したとおり、レンズLS2、LS3のピッチ倍率は、レンズLS1、LS4のピッチ倍率よりも、絶対値において小さい。したがって、全ての発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを等しくした場合、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポットピッチPspがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチPspよりも小さくなるとともに、レンズLS2、LS3によるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがレンズLS1、LS4によるスポットグループSGのスポットピッチ行Psprよりも小さくなってしまう。よって、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprが異なってしまう。
That is, as shown in Table 56, the pitch magnification of the lenses LS2 and LS3 is smaller in absolute value than the pitch magnification of the lenses LS1 and LS4. Therefore, in all the light emitting
そこで、実施例11では、レンズLS2、LS3のピッチ倍率の絶対値がレンズLS1、LS4のピッチ倍率の絶対値よりも小さいことに応じて、レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrを、レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295の発光素子ピッチPelおよび発光素子行ピッチPelrよりも大きくしている。具体的には、各発光素子グループ295において、発光素子ピッチPelと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポットピッチPspと略等しくなるとともに、発光素子行ピッチPelrと該発光素子グループ295に対応するレンズLSのピッチ倍率との積が所定のスポット行ピッチPsprと略等しくなるように、発光素子2951の配置を調整している。
Accordingly, in Example 11, the light emitting elements of the light emitting
図43の「スポット位置11−1」と付された表は、上述したように、レンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子2951の配置を調整した場合における、スポットSPの形成位置を示している。つまり、図43の同表は、レンズLS1〜LS4のそれぞれによって形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの位置を示している。このように、実施例11では、各スポットグループSGにおいて、スポットピッチPspは42.34μmであり、スポット行ピッチPsprは100μmである。つまり、スポットグループSGに依らず、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsprは一定である。
The table labeled “Spot Position 11-1” in FIG. 43 shows the formation positions of the spots SP when the arrangement of the
ちなみに、図43の「スポット位置11−2」と付された表は、全ての発光素子グループ295において発光素子2951を同図の「素子位置11−1」に示すように配置した場合の、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置である。このとき、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGにおけるスポットSPの形成位置は、「スポット位置11−1」に示すとおりである。同表から、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポットピッチPspは46.88μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ42.34μmと異なる。また、レンズLS1、LS4により形成されるスポットグループSGのスポット行ピッチPsprは110.76μmであり、レンズLS2、LS3により形成されるスポットグループSGのスポットピッチ100μmと異なる。つまり、全ての発光素子グループ295において発光素子2951の配置を同じとしたことで、スポットグループSGによって、スポットピッチPspおよびスポット行ピッチPsgrが異なるという露光不良が発生している。
Incidentally, the table labeled “Spot Position 11-2” in FIG. 43 shows the lens when the
このように、実施例11は、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、複数の発光素子グループ295のそれぞれでは発光素子2951の配置が調整されている。より具体的には、スポットピッチPspがスポットグループSGに依らず一定となるように、発光素子グループ295のそれぞれにおいて、該発光素子グループ295が対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて、複数の発光素子2951の配置が調整されている。したがって、各レンズLS1〜LS4が対応する発光素子グループ295のレンズ対向距離ed1〜ed4を調整したことに起因して、ピッチ倍率がレンズLSによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面(潜像担持体表面)に形成される複数のスポットSPのスポットピッチPspは、スポットグループSGに依らず略一定となる。よって、良好なスポット形成が可能となっており、好適である。
Thus, in Example 11, the arrangement of the
その他
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上述の実施例では、発光素子行ピッチPelrが、レンズLSのピッチ倍率に応じて調整されている。しかしながら、発光素子行ピッチPelrをレンズLSのピッチ倍率に応じて変化させるとの構成は、本発明に必須の要件ではない。なんとなれば、図14を用いて説明したとおり、ラインヘッド29は、副走査方向SDに搬送される感光体ドラム表面に対して露光を行なう。このとき、ラインヘッド29は、発光素子2951をそれぞれ感光体ドラム21の副走査方向SDの移動に応じたタイミングで発光させて発光素子2951から射出される光ビームを主走査方向MDにおいて互いに異なる位置で感光体表面に結像してスポットSPを主走査方向MDに並んで形成している。
Others The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the light emitting element row pitch Pelr is adjusted according to the pitch magnification of the lens LS. However, the configuration in which the light emitting element row pitch Pelr is changed according to the pitch magnification of the lens LS is not an essential requirement for the present invention. In any case, as described with reference to FIG. 14, the
つまり、異なる発光素子行2951Rに属する発光素子2951は、互いに異なるタイミングで発光する。その結果、各スポットグループSGにおいて、複数のスポットSPは、主走査方向MDに略一直線状に並ぶ。よって、上記実施例に示したように、対応するレンズLSのピッチ倍率の差異に起因して、感光体ドラム表面が静止した状態で形成されたスポットグループSGのスポット行ピッチPsprがスポットグループSGによって異なる場合であっても、感光体ドラム表面の搬送に対する発光素子2951の発光タイミングを制御することで、主走査方向MDに並ぶスポットSPの直線性を実現することができる。しかしながら、対応するレンズLSのピッチ倍率に応じて発光素子行ピッチPelrを調整しておくことで、発光素子2951の発光タイミングの制御は、レンズLSのピッチ倍率の違いを考慮することなく実行可能である。よって、発光素子行ピッチPelrをレンズLSのピッチ倍率に応じて調整した構成は、感光体ドラム表面に形成されるスポットグループの直線性を容易に実現することができ、好適である。
That is, the
また、図9、図10を用いて説明したとおり、上述の実施形態では、開口絞りDIAがレンズLSの前側焦点に配置されており、レンズLSの像側がテレセントリックに構成されている。しかしながら、レンズLSの像側をテレセントリックに構成することは、本発明に必須の要件ではない。しかしながら、感光体ドラム21の偏心等に起因してレンズLSと感光体ドラム表面との距離とが、変動する場合がある。そして、このような変動は、感光体ドラム表面に形成されるスポットの位置の副走査方向SDへの変動を引き起こす可能性がある。これに対して、レンズLSのテレセントリックに構成した場合、かかるスポット位置の副走査方向SDへの変動を抑制するという効果を奏することができ、良好な露光が実現され、好適である。これについて詳述する。
As described with reference to FIGS. 9 and 10, in the above-described embodiment, the aperture stop DIA is disposed at the front focal point of the lens LS, and the image side of the lens LS is configured to be telecentric. However, it is not an essential requirement for the present invention that the image side of the lens LS is configured to be telecentric. However, the distance between the lens LS and the surface of the photosensitive drum may vary due to the eccentricity of the
図44は、レンズの像側をテレセントリックに構成した場合における効果を示す副走査断面図である。表面DSFは、偏心が無い場合の感光体ドラム21の表面を表す。表面DSFeは、感光体ドラム21に偏心が存在して、レンズLSの光軸OAの方向に距離CHoaだけずれた該感光体ドラム21の表面である。また、主光線PRMtは、像側テレセントリックが実現されている場合において、感光体ドラム表面の位置IMにスポットを形成する光ビームの主光線である。一方、主光線PRMntは、像側テレセントリックが実現されていない場合において、感光体ドラム表面の位置IMにスポットを形成する光ビームの主光線である。つまり、感光体ドラム21に偏心が無い場合は、主光線PRMtと主光線PRMntの感光体ドラム21の表面における位置は同じである。
FIG. 44 is a sub-scan sectional view showing an effect when the image side of the lens is configured to be telecentric. The surface DSF represents the surface of the
ここで、感光体ドラム21に偏心が存在して、感光体ドラム21の表面がレンズLSの光軸OAの方向に距離CHoaだけずれた場合について考える。このとき、主光線PRMtの光ビームによるスポットの位置は位置IMeである。一方、主光線PRMntの光ビームによるスポットの位置は位置IMechである。同図が示すように、像側テレセントリックが実現されている場合は、光ビームの主光線PRMtはレンズLSの光軸OAに対して平行である。したがって、感光体ドラム21の表面が光軸OAの方向に変動した場合であっても、形成されるスポットの位置は光軸OAの方向に変動するのみであって、副走査方向SDには略変動しない。一方、像側テレセントリックが実現されていない場合は、光ビームの主光線PRMntはレンズLSの光軸OAに対して平行では無い。したがって、感光体ドラム21の表面が光軸OAの方向に変動した場合、形成されるスポットの位置は副走査方向SDに距離CHsだけ変動する。このように、レンズLSのテレセントリックに構成した場合、かかるスポット位置の副走査方向SDへの変動を抑制するという効果を奏することができ、良好な露光が実現され、好適である。
Here, consider a case where the
また、上記実施形態では、レンズ行LSRの行数が3行或いは4行の場合について説明した。しかしながら、レンズ行LSRの行数はこれに限られず、N行(Nは3以上の整数)のレンズ行LSRを有するラインヘッド29に対して、本発明は適用可能である。
In the above embodiment, the case where the number of lens rows LSR is 3 or 4 has been described. However, the number of lens rows LSR is not limited to this, and the present invention is applicable to the
また、上述の実施形態は、潜像担持体として感光体ドラム21を用いた。しかしながら、本発明が適用可能である潜像担持体は、感光体ドラム21に限られない。要は、レンズアレイ299と対向する表面領域が副走査断面において曲率を有する潜像担持体全般に対して本発明を適用可能である。
In the above-described embodiment, the
図45は、本発明にかかるラインヘッドを装備した画像形成装置を示す副走査断面図である。この実施形態が図1の実施形態と大きく相違する点は、感光体の態様である。すなわち、この実施形態では、感光体ドラム21の代わりに感光体ベルト21Bが用いられている。なお、その他の構成は上記実施形態と同様であるため、同一構成については同一または相当符号を付して構成説明を省略する。
FIG. 45 is a sub-scan sectional view showing an image forming apparatus equipped with a line head according to the present invention. The point that this embodiment differs greatly from the embodiment of FIG. 1 is the mode of the photoreceptor. That is, in this embodiment, a
この実施形態では、主走査方向MDに伸びる2本のローラ28に感光体ベルト21Bが張架されている。この感光体ベルト21Bは図示を省略する駆動モータによって所定の回転方向D21に回転移動される。また、この感光体ベルト21Bの周囲には、回転方向D21に沿って帯電部23、ラインヘッド29、現像部25および感光体クリーナ27が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。
In this embodiment, the
この実施形態では、ラインヘッド29は、感光体ベルト21Bのローラ28への巻き掛け部に対して対向配置されている。ローラ28は円筒形である。したがって、感光体ベルト21Bの巻き掛け部は曲率形状を有する。このようにラインヘッド29を巻き掛け分に対して対向配置する理由は、次の通りである。つまり、感光体ベルト21Bの張り面は、ローラ28への巻き掛け部と比較してばたつきが大きい。そこで、感光体ベルト21Bの表面のうち比較的ばたつきが少ないローラ28への巻き掛け部にラインヘッド29を対向配置することで、ラインヘッド29と感光体ベルト21Bの表面との距離を安定化させている。
In this embodiment, the
しかしながら、ローラ28への巻き掛け部における感光体ベルト21Bの表面形状は、副走査断面において曲率を有している。したがって、複数の発光素子から射出された光ビームの結像位置をかかる曲率形状に応じて調整した場合、上述してきたような露光不良(スポットピッチPspがスポットグループSGによって異なるという露光不良)が発生する可能性がある。そこで、図45のような構成を備える画像形成装置においては、本発明を適用して、光ビームの結像位置を、感光体ベルト21Bの表面の曲率形状に応じた位置とすることで、良好な露光を実現可能であり好適である。
However, the surface shape of the
ところで、上述の実施例1、3〜5では、中央発光素子グループ(レンズLS2に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelは小さくなる。したがって、実施例1、3〜5における構成は、次のような効果を奏する。
In Examples 1 and 3 to 5 described above, the direction from the central light emitting element group (the light emitting
図46は、実施例1、3〜5における発光素子グループの構成が奏する効果の説明図である。同図では、発光素子グループ295_C1、295_C2、295_C3、…発光素子グループ295_A1、295_A2、295_A3、…が端部発光素子グループに対応し、発光素子グループ295_B1、295_B2、295_B3、…が中央発光素子グループに対応する。同図に示すように、幅方向LTDにおいて、各発光素子グループ295が配置される領域の外側に駆動回路D295が配置されている。駆動回路D295は、TFT(Thin Film Transistor)を備えるとともに、配線WLを介して発光素子グループ295の発光素子2951を駆動する。つまり、各発光素子グループ295からは配線WLが引き出されるとともに、配線WLは駆動回路D295に接続される。そして、発光素子2951は、駆動回路D295により駆動されて光ビームを射出する。
FIG. 46 is an explanatory diagram of the effects produced by the configurations of the light emitting element groups in Examples 1 and 3 to 5. In the figure, light emitting element groups 295_C1, 295_C2, 295_C3,..., Light emitting element groups 295_A1, 295_A2, 295_A3,... Correspond to end light emitting element groups, and light emitting element groups 295_B1, 295_B2, 295_B3,. Correspond. As shown in the drawing, in the width direction LTD, the drive circuit D295 is disposed outside the region where each light emitting
ところで、同図が示すように、中央発光素子グループ295_B1、295_B2、…から引き出される配線WLは、端部発光素子グループ295_C1、295_C2、…の間を通過する。例えば、中央発光素子グループ295_B1から引き出される配線WLは、長手方向LGDに互いに隣り合う端部発光素子グループ295C1と端部発光素子グループ295C2との間の領域を通過する。したがって、中央発光素子グループ295_B1、…に対する配線の自由度を向上するとの観点から、端部発光素子グループ間のスペースの幅WD2は広いことが望ましい。 As shown in the figure, the wiring WL drawn from the central light emitting element groups 295_B1, 295_B2,... Passes between the end light emitting element groups 295_C1, 295_C2,. For example, the wiring WL drawn from the central light emitting element group 295_B1 passes through a region between the end light emitting element group 295C1 and the end light emitting element group 295C2 that are adjacent to each other in the longitudinal direction LGD. Therefore, it is desirable that the width WD2 of the space between the end light emitting element groups is wide from the viewpoint of improving the degree of freedom of wiring with respect to the central light emitting element groups 295_B1,.
これに対して実施例1、3〜5では、同図に示すように、中央発光素子グループから端部発光素子グループに向うに連れて、発光素子ピッチPelは小さくなっている。したがって、端部発光素子グループのグループ幅WD1は狭くなる。その結果、端部発光素子グループ間のスペース(例えば、発光素子グループ295_C1と発光素子グループ295_C2との間のスペース)の幅WD2は広くなる。よって、実施例1、3〜5における画像形成装置は、中央発光素子グループ295_B1、…に対する配線の自由度を向上させることが可能となっており、好適である。 On the other hand, in Examples 1 and 3 to 5, as shown in the figure, the light emitting element pitch Pel decreases from the central light emitting element group toward the end light emitting element group. Accordingly, the group width WD1 of the end light emitting element group becomes narrow. As a result, the width WD2 of the space between the end light emitting element groups (for example, the space between the light emitting element group 295_C1 and the light emitting element group 295_C2) becomes wide. Therefore, the image forming apparatuses in Examples 1 and 3 to 5 can improve the degree of freedom of wiring with respect to the central light emitting element groups 295_B1,.
また、上述の実施7、9〜11では、中央発光素子グループ(レンズLS2、LS3に対応する発光素子グループ295)から端部発光素子グループ(レンズLS1、LS4に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、発光素子ピッチPelは小さくなる。したがって、実施例7、9〜11における構成は、次のような効果を奏する。
In the seventh and ninth to eleventh embodiments, the central light emitting element group (the light emitting
図47は、実施例7、9〜11における発光素子グループの構成が奏する効果の説明図である。同図では、発光素子グループ295_D1、295_D2、295_D3、…発光素子グループ295_A1、295_A2、295_A3、…が端部発光素子グループに対応し、発光素子グループ295_B1、295_B2、295_B3、…発光素子グループ295_C1、295_C2、295_C3、…が中央発光素子グループに対応する。図47においても図46と示したのと同様に、幅方向LTDにおいて、各発光素子グループ295が配置される領域の外側に駆動回路D295が配置されている。
FIG. 47 is an explanatory diagram of the effects produced by the configurations of the light emitting element groups in Examples 7 and 9 to 11. In this figure, the light emitting element groups 295_D1, 295_D2, 295_D3,..., The light emitting element groups 295_A1, 295_A2, 295_A3,. 295_C3,... Correspond to the central light emitting element group. In FIG. 47, as shown in FIG. 46, the drive circuit D295 is arranged outside the region where each light emitting
ところで、同図が示すように、中央発光素子グループ295_C1、295_C2、…から引き出される配線WLは、端部発光素子グループ295_D1、295_D2、…の間を通過するとともに、中央発光素子グループ295_B1、295_B2、…から引き出される配線WLは、端部発光素子グループ295_A1、295_A2、…の間を通過する。例えば、中央発光素子グループ295_C1から引き出される配線WLは、長手方向LGDに互いに隣り合う端部発光素子グループ295D1と端部発光素子グループ295D2との間の領域を通過する。また、中央発光素子グループ295_B1から引き出される配線WLは、長手方向LGDに互いに隣り合う端部発光素子グループ295A1と端部発光素子グループ295A2との間の領域を通過する。したがって、中央発光素子グループ295_B1、…、295_C1、…に対する配線の自由度を向上するとの観点から、端部発光素子グループ間のスペースの幅WD2は広いことが望ましい。 By the way, as shown in the figure, the wiring WL led out from the central light emitting element groups 295_C1, 295_C2,... Passes between the end light emitting element groups 295_D1, 295_D2, ... and the central light emitting element groups 295_B1, 295_B2,. The wiring WL led out from ... passes between the end light emitting element groups 295_A1, 295_A2, .... For example, the wiring WL drawn from the central light emitting element group 295_C1 passes through a region between the end light emitting element group 295D1 and the end light emitting element group 295D2 that are adjacent to each other in the longitudinal direction LGD. The wiring WL drawn from the central light emitting element group 295_B1 passes through a region between the end light emitting element group 295A1 and the end light emitting element group 295A2 that are adjacent to each other in the longitudinal direction LGD. Therefore, it is desirable that the width WD2 of the space between the end light emitting element groups is wide from the viewpoint of improving the degree of freedom of wiring with respect to the central light emitting element groups 295_B1,.
これに対して実施例7、9〜11では、同図に示すように、中央発光素子グループから端部発光素子グループに向うに連れて、発光素子ピッチPelは小さくなっている。したがって、端部発光素子グループのグループ幅WD1は狭くなる。その結果、端部発光素子グループ間のスペース(例えば、発光素子グループ295_D1と発光素子グループ295_D2との間のスペース、或いは、発光素子グループ295_A1と発光素子グループ295_A2との間のスペース)の幅WD2は広くなる。よって、実施例7、9〜11における画像形成装置は、中央発光素子グループ295_B1、…、295_C1、…に対する配線の自由度を向上させることが可能となっており、好適である。
On the other hand, in Examples 7 and 9 to 11, as shown in the figure, the light emitting element pitch Pel decreases from the central light emitting element group toward the end light emitting element group. Accordingly, the group width WD1 of the end light emitting element group becomes narrow. As a result, the width WD2 of the space between the end light emitting element groups (for example, the space between the light emitting element group 295_D1 and the light emitting element group 295_D2 or the space between the light emitting element group 295_A1 and the light emitting element group 295_A2) is Become wider. Therefore, the image forming apparatuses according to
また、上記実施例6では、発光素子ピッチPelは、幅方向LTDの一方方向(図30における幅方向LTDの矢印方向)の上流側の発光素子グループ(レンズLS1に対応する発光素子グループ295)から一方方向の下流側の発光素子グループ(レンズLS3に対応する発光素子グループ295)に向うに連れて、大きくなる。したがって、実施例6における構成は、次のような効果を奏する。
In Example 6, the light emitting element pitch Pel is determined from the upstream light emitting element group (the light emitting
図48は、実施例6における発光素子グループの構成が奏する効果の説明図である。幅方向LTDの一方方向(図48における幅方向LTDの矢印方向)の上流側の発光素子グループ295_C1、295_C2、295_C3、…から一方方向の下流側の発光素子グループ295_A1、295_A2、295_A3、…に向うに連れて、発光素子ピッチPelは大きくなる。また、同図に示すように、幅方向LTDにおいて、各発光素子グループ295が配置される領域の外側に駆動回路D295が配置されている。
FIG. 48 is an explanatory diagram of the effect produced by the configuration of the light emitting element group in Example 6. From the upstream side light emitting element groups 295_C1, 295_C2, 295_C3,... In one direction in the width direction LTD (arrow direction in the width direction LTD in FIG. 48), the light emitting element groups 295_A1, 295_A2, 295_A3,. Accordingly, the light emitting element pitch Pel increases. Further, as shown in the figure, in the width direction LTD, the drive circuit D295 is disposed outside the region where each light emitting
ところで、発光素子グループ295_B1、295_B2、…に接続される配線WLは、発光素子グループ295_A1、295_A2、…の間のスペース、或いは、発光素子グループ295_C1、295_C2、…の間のスペースを通過して引き出すこととなる。したがって、発光素子グループ295_B1、…に対する配線の自由度を向上するとの観点から、発光素子グループ295_A1、295_A2、…の間のスペース、或いは、発光素子グループ295_C1、295_C2、…の間のスペースの少なくとも一方は広いことが望ましい。 Incidentally, the wiring WL connected to the light emitting element groups 295_B1, 295_B2,... Passes through the space between the light emitting element groups 295_A1, 295_A2,... Or the space between the light emitting element groups 295_C1, 295_C2,. It will be. Therefore, from the viewpoint of improving the degree of freedom of wiring for the light emitting element groups 295_B1,..., At least one of the space between the light emitting element groups 295_A1, 295_A2,..., Or the space between the light emitting element groups 295_C1, 295_C2,. Is desirable to be wide.
これに対して実施例6では、同図に示すように、幅方向LTDの一方方向(図48における幅方向LTDの矢印方向)の上流側の発光素子グループ295_C1、295_C2、295_C3、…から一方方向の下流側の発光素子グループ295_A1、295_A2、295_A3、…に向うに連れて、発光素子ピッチPelは大きくなる。したがって、発光素子グループ295_C1、…のグループ幅WD1は狭くなる。その結果、発光素子グループ295_C1、…の間のスペース(例えば、発光素子グループ295_C1と発光素子グループ295_C2との間のスペース)の幅WD2は広くなる。よって、実施例6における画像形成装置は、発光素子グループ295_B1、…に接続される配線WLを、光素子グループ295_C1、…の間のスペースを通過して引き出すことで、配線の自由度を向上させることが可能となっており、好適である。
On the other hand, in Example 6, as shown in the figure, one direction from the light emitting element groups 295_C1, 295_C2, 295_C3,... Upstream of one direction in the width direction LTD (arrow direction in the width direction LTD in FIG. 48). The light emitting element pitch Pel becomes larger toward the light emitting element groups 295_A1, 295_A2, 295_A3,. Therefore, the group width WD1 of the light emitting element groups 295_C1,. As a result, the width WD2 of the space between the light emitting element groups 295_C1,... (For example, the space between the light emitting element groups 295_C1 and 295_C2) becomes wide. Therefore, the image forming apparatus in
21…感光体ドラム(潜像担持体)、 MD…主走査方向、 SD…副走査方向、 29…ラインヘッド、 293…ヘッド基板、 295…発光素子グループ、 2951…発光素子、 299…レンズアレイ、 LS,LS1,LS2,LS3,LS4…レンズ、 LSR…レンズ行、 LGD…長手方向、 LTD…幅方向
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記主走査方向に対応する長手方向に複数のレンズを並べてなるレンズ行を、N行(Nは3以上の整数)前記副走査方向に対応する幅方向の互いに異なる配置位置に前記潜像担持体表面に対向して配置したレンズアレイと、複数の発光素子グループを前記複数のレンズに対応して配置したヘッド基板とを有するラインヘッドと
を備え、
前記複数の発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が前記長手方向に所定の発光素子ピッチで配置されるとともに、該発光素子グループの前記発光素子はそれぞれ前記潜像担持体表面の前記副走査方向の移動に応じたタイミングで光ビームを射出し、該発光素子グループからの光ビームが該発光素子グループに対応する前記レンズにより前記潜像担持体表面に向けて結像されて、前記主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが該発光素子グループに対応して前記潜像担持体表面に形成され、
前記N行のレンズ行のそれぞれは、前記潜像担持体表面の前記副走査方向において互いに異なる対向位置に対向しており、
前記潜像担持体の表面のうち前記レンズアレイと対向する表面領域は副走査断面において曲率を有しており、
前記複数のレンズそれぞれによる光ビームの結像位置は、前記潜像担持体表面の曲率形状に応じた位置となるように調整されており、しかも、
前記スポットピッチが前記スポットグループに依らず一定となるように、前記複数の発光素子グループのそれぞれでは前記発光素子の配置が調整されていることを特徴とする画像形成装置。 A latent image carrier whose surface is conveyed in a sub-scanning direction substantially perpendicular to the main scanning direction;
The latent image carrier has lens rows formed by arranging a plurality of lenses in a longitudinal direction corresponding to the main scanning direction, and N rows (N is an integer of 3 or more) at different arrangement positions in the width direction corresponding to the sub-scanning direction. A line head having a lens array arranged to face the surface, and a head substrate in which a plurality of light emitting element groups are arranged corresponding to the plurality of lenses,
In each of the plurality of light emitting element groups, a plurality of light emitting elements are arranged at a predetermined light emitting element pitch in the longitudinal direction, and each of the light emitting elements of the light emitting element group is sub-scanned on the surface of the latent image carrier. A light beam is emitted at a timing according to the movement of the direction, and the light beam from the light emitting element group is imaged toward the surface of the latent image carrier by the lens corresponding to the light emitting element group, and the main scanning is performed. A spot group consisting of a plurality of spots arranged in a direction at a predetermined spot pitch is formed on the surface of the latent image carrier corresponding to the light emitting element group,
Each of the N lens rows faces opposite positions on the surface of the latent image carrier in the sub-scanning direction,
Of the surface of the latent image carrier, the surface region facing the lens array has a curvature in the sub-scan section,
The imaging position of the light beam by each of the plurality of lenses is adjusted to be a position corresponding to the curvature shape of the surface of the latent image carrier, and
An image forming apparatus, wherein the arrangement of the light emitting elements is adjusted in each of the plurality of light emitting element groups so that the spot pitch is constant regardless of the spot group.
前記複数の発光素子グループのうち、前記N行のレンズ行のうちの前記対称軸に最も近い前記レンズ行に属する前記レンズに対応する前記発光素子グループを中央発光素子グループと定義し、前記N行のレンズ行のうちの前記幅方向の各端部のレンズ行に属するレンズに対応する前記発光素子グループを端部発光素子グループと定義したとき、
前記発光素子ピッチは、前記中央発光素子グループから前記端部発光素子グループに向うに連れて小さくなる請求項2または3記載の画像形成装置。 The N lens rows are arranged at a predetermined lens row pitch in the width direction, and are arranged substantially symmetrically in the width direction with respect to a symmetry axis substantially perpendicular to the width direction.
Among the plurality of light emitting element groups, the light emitting element group corresponding to the lens belonging to the lens row closest to the symmetry axis among the N lens rows is defined as a central light emitting element group, and the N rows When the light emitting element group corresponding to the lens belonging to the lens row at each end in the width direction of the lens rows is defined as an end light emitting element group,
4. The image forming apparatus according to claim 2, wherein the light emitting element pitch decreases from the central light emitting element group toward the end light emitting element group. 5.
前記ラインヘッドは、前記主走査方向に対応する長手方向に複数のレンズを並べてなるレンズ行を、N行(Nは3以上の整数)前記副走査方向に対応する幅方向の互いに異なる配置位置に前記潜像担持体表面に対向して配置したレンズアレイと、複数の発光素子グループを前記複数のレンズに対応して配置したヘッド基板とを有し、
前記複数の発光素子グループのそれぞれでは、複数の発光素子が前記長手方向に所定の発光素子ピッチで配置されるとともに、該発光素子グループの前記発光素子はそれぞれ前記潜像担持体表面の前記副走査方向の移動に応じたタイミングで光ビームを射出し、該発光素子グループからの光ビームが該発光素子グループに対応する前記レンズにより前記潜像担持体表面に向けて結像されて、前記主走査方向に所定のスポットピッチで並ぶ複数のスポットからなるスポットグループが該発光素子グループに対応して前記潜像担持体表面に形成され、
前記N行のレンズ行のそれぞれは、前記潜像担持体表面の前記副走査方向において互いに異なる対向位置に対向しており、
前記潜像担持体の表面のうち前記レンズアレイと対向する表面領域は副走査断面において曲率を有しており、
前記複数のレンズそれぞれによる光ビームの結像位置は、前記潜像担持体表面の曲率形状に応じた位置となるように調整されており、しかも、
前記スポットピッチが前記スポットグループに依らず一定となるように、前記複数の発光素子グループのそれぞれでは前記発光素子の配置が調整されていることを特徴とする画像形成方法。 An exposure step of exposing the surface of the latent image carrier carried by the surface in a sub-scanning direction substantially perpendicular to the main scanning direction by a line head;
The line head has N rows (N is an integer of 3 or more) arranged in a longitudinal direction corresponding to the main scanning direction at different arrangement positions in the width direction corresponding to the sub-scanning direction. A lens array disposed facing the surface of the latent image carrier, and a head substrate in which a plurality of light emitting element groups are disposed corresponding to the plurality of lenses,
In each of the plurality of light emitting element groups, a plurality of light emitting elements are arranged at a predetermined light emitting element pitch in the longitudinal direction, and each of the light emitting elements of the light emitting element group is sub-scanned on the surface of the latent image carrier. A light beam is emitted at a timing according to the movement of the direction, and the light beam from the light emitting element group is imaged toward the surface of the latent image carrier by the lens corresponding to the light emitting element group, and the main scanning is performed. A spot group consisting of a plurality of spots arranged in a direction at a predetermined spot pitch is formed on the surface of the latent image carrier corresponding to the light emitting element group,
Each of the N lens rows faces opposite positions on the surface of the latent image carrier in the sub-scanning direction,
Of the surface of the latent image carrier, the surface region facing the lens array has a curvature in the sub-scan section,
The imaging position of the light beam by each of the plurality of lenses is adjusted to be a position corresponding to the curvature shape of the surface of the latent image carrier, and
An image forming method, wherein the arrangement of the light emitting elements is adjusted in each of the plurality of light emitting element groups so that the spot pitch is constant regardless of the spot group.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007065204A JP2008221707A (en) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | Image forming apparatus and image forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007065204A JP2008221707A (en) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | Image forming apparatus and image forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008221707A true JP2008221707A (en) | 2008-09-25 |
Family
ID=39840862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007065204A Withdrawn JP2008221707A (en) | 2007-03-14 | 2007-03-14 | Image forming apparatus and image forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008221707A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020062777A (en) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | コニカミノルタ株式会社 | Image formation apparatus |
JP2020097149A (en) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | コニカミノルタ株式会社 | Image formation apparatus |
JP2020179529A (en) * | 2019-04-23 | 2020-11-05 | コニカミノルタ株式会社 | Image forming device |
-
2007
- 2007-03-14 JP JP2007065204A patent/JP2008221707A/en not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020062777A (en) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | コニカミノルタ株式会社 | Image formation apparatus |
US10768547B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-09-08 | Konica Minolta, Inc. | Image forming apparatus |
JP7125010B2 (en) | 2018-10-16 | 2022-08-24 | コニカミノルタ株式会社 | image forming device |
JP2020097149A (en) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | コニカミノルタ株式会社 | Image formation apparatus |
JP7087980B2 (en) | 2018-12-18 | 2022-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | Image forming device |
JP2020179529A (en) * | 2019-04-23 | 2020-11-05 | コニカミノルタ株式会社 | Image forming device |
JP7161145B2 (en) | 2019-04-23 | 2022-10-26 | コニカミノルタ株式会社 | image forming device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008036937A (en) | Line head and image forming apparatus using the same | |
JP2010076388A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2009190397A (en) | Exposure head and image forming apparatus | |
JP2008254418A (en) | Line head, and image formation apparatus and image formation method using the line head | |
US7952601B2 (en) | Lens array, exposure head, and image forming apparatus | |
US20080225108A1 (en) | Line Head and an Image Forming Apparatus Using the Line Head | |
JP2009196346A (en) | Lens array, exposure head, and image formation device | |
JP5256792B2 (en) | Line head and image forming apparatus using the line head | |
JP2008224957A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2008221707A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
EP2085228B1 (en) | Image forming apparatus having a lens array. | |
JP2009173005A (en) | Exposure head, and image formation device | |
JP2008221570A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2010076390A (en) | Exposure head and image forming apparatus | |
JP2008221571A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2009193060A (en) | Lens array, exposure head, and image forming apparatus | |
JP2008093882A (en) | Line head and image forming apparatus employing it | |
US8174548B2 (en) | Exposure head and an image forming apparatus | |
JP2008201121A (en) | Line head and image forming apparatus using the line head | |
JP2008221790A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2008221646A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2008221789A (en) | Image forming apparatus and image forming method | |
JP2008074052A (en) | Line head and image forming apparatus using line head | |
JP2009083416A (en) | Line head and image forming apparatus using line head | |
JP2008049692A (en) | Line head and image forming device using this line head |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091021 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20091105 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091109 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20120302 |