JP2008202006A - Fluorine-containing compound, resin composition, photosensitive transfer material, partition wall and its forming method, color filter and its manufacturing method, and display device - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition and a material comprising the same having high water repellency and ink repellency and enhanced adhesiveness to a substrate when forming a film on the substrate. <P>SOLUTION: The fluorine-containing compound has a repeating unit (a) having 7 or more fluorine atoms and a repeating unit (b) having 3 or more ester groups, and the resin composition and the photosensitive transfer material use the fluorine-containing compound. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、含フッ素化合物、並びにこれを用いた樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置に関する。   The present invention relates to a fluorine-containing compound, a resin composition using the same, a photosensitive transfer material, a separation wall and a method for forming the same, a color filter, a method for manufacturing the color filter, and a display device.

近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。 In recent years, the demand for liquid crystal displays for personal computers and liquid crystal color televisions has been increasing, and there has been an increasing demand for improved characteristics and cost reduction of color filters essential for such displays.
Conventionally, as a method for producing a color filter, a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and the like have been performed.

例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法はいずれも、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる点で共通している。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題もある。 For example, in the dyeing method, a water-soluble polymer material layer, which is a dyeing material, is formed on a transparent substrate, patterned into a desired shape by a photolithography process, and then the obtained pattern is immersed in a dyeing bath. To obtain a colored pattern. By repeating this step three times, a colored layer comprising three colored portions of R (red), G (green), and B (blue) is formed.
In addition, the pigment dispersion method has been actively performed in recent years, and a monochromatic pattern is obtained by forming a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed on a transparent substrate and patterning it. By repeating this process three times, a colored layer composed of colored portions of R, G, and B is formed.
In the electrodeposition method, a transparent electrode is patterned on a transparent substrate and immersed in an electrodeposition coating solution containing a pigment, a resin, an electrolytic solution, etc., and the first color is electrodeposited. This process is repeated three times to form a colored layer composed of three colored portions of R, G, and B, and finally fired.
In the printing method, a pigment is dispersed in a thermosetting resin, printing is repeated three times, R, G, and B are separately applied, and then the resin is thermally cured to form a colored layer. .
All of these methods are common in that the same process needs to be repeated three times in order to form red, green, and blue three-color pixels, resulting in high costs. In addition, since the number of processes is large, there is a problem that the yield is likely to decrease.

これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。 In order to overcome these problems, in recent years, a color filter manufacturing method in which a black matrix (separation wall) is formed by a pigment dispersion method and RGB pixels are manufactured by an ink jet method has been studied. In this ink jet method, pixels are formed by sequentially applying R, G, and B colors to the recesses of the black matrix (separation wall). The method using the ink jet method has an advantage that the manufacturing process is simple and the cost is low.
In addition, the inkjet method is not limited to the manufacture of color filters, but can also be applied to the manufacture of other optical elements such as electroluminescence elements.

前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。   In the ink jet method, it is necessary to prevent the occurrence of ink color mixing between adjacent pixel regions and the phenomenon that the ITO solution or the metal solution clumps and sticks to portions other than the predetermined region. Therefore, the partition wall (separation wall) is required to have a property of repelling water or an organic solvent which is an ink-jet coating liquid, so-called water and oil repellency.

上記に関連して、例えば、フルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光性樹脂及び有機溶剤を含有するコーティング用組成物に関する開示がある（例えば、特許文献１参照）。ここでは、ビニル系重合体は、フッ素原子を０．１〜５質量％含有する重合体である。   In relation to the above, for example, a coating composition containing a vinyl polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing a vinyl monomer having a fluoroalkyl group, a photosensitive resin, and an organic solvent (For example, refer to Patent Document 1). Here, the vinyl polymer is a polymer containing 0.1 to 5% by mass of fluorine atoms.

また、ヘキサフルオロプロピレンなどのビニル系単量体とエステル基を３以上持つ他のビニル系単量体との共重合体を含む組成物が開示されており（例えば、特許文献２参照）、共重合体を構成するフッ素を含む繰り返し単位は最大６つのフッ素原子を含んでいる。また、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、及び感光体を含有するレジスト組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。このビニル系重合体は、フッ素原子含有率が７〜３５質量％である。
特開２００４−２７３３号公報 特開平３−２４４６０４号公報 特開２００５−３１５９８４号公報 In addition, a composition containing a copolymer of a vinyl monomer such as hexafluoropropylene and another vinyl monomer having 3 or more ester groups is disclosed (for example, see Patent Document 2). The repeating unit containing fluorine constituting the polymer contains a maximum of 6 fluorine atoms. Also disclosed are a vinyl polymer obtained by polymerizing a monomer composition containing a vinyl monomer having a C 4-6 fluoroalkyl group, and a resist composition containing a photoreceptor. (For example, see Patent Document 3). This vinyl polymer has a fluorine atom content of 7 to 35% by mass.
JP 2004-2733 A JP-A-3-244604 JP 2005-315984 A

しかしながら、特許文献１に記載の重合体の配合割合からなる組成物、特許文献２に記載の共重合体を含む組成物では、撥水・撥油性が不足する。また、特許文献３に記載のビニル系重合体では、現像液耐性及び現像時の密着性が不足する。   However, the composition comprising the blending ratio of the polymer described in Patent Document 1 and the composition containing the copolymer described in Patent Document 2 are insufficient in water and oil repellency. Further, the vinyl polymer described in Patent Document 3 lacks developer resistance and adhesion during development.

本発明は、上記に鑑みなされたものであり、下記目的を達成することを課題とする。
本発明は、高い撥水性及び撥インク性が得られる含フッ素化合物を提供することを目的とする。また、
本発明は、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することを目的とする。また、
本発明は、撥水及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその形成方法を提供することを目的とする。また、
本発明は、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objective.
An object of this invention is to provide the fluorine-containing compound from which high water repellency and ink repellency are obtained. Also,
An object of the present invention is to provide a resin composition and a photosensitive transfer material that have high water repellency and ink repellency and are excellent in substrate adhesion when a film is formed on a substrate. Also,
The present invention relates to a separation wall having high water and ink repellency, good adhesion to a substrate, and capable of suppressing ink running on the separation wall when a colored liquid is applied, and a method for forming the same. The purpose is to provide. Also,
The present invention provides a high-quality color filter in which image failures such as color mixing, color unevenness, and white spots are suppressed, a manufacturing method thereof, and a display device capable of displaying high-quality images with display unevenness suppressed. With the goal.

本発明は、フッ素プラズマ処理等の撥水・撥インク処理を行なわずに離画壁に撥水・インク性を付与するには、加熱前後で表面エネルギーが大きく上昇する組成物を用いることが有効であること、具体的にはフッ素原子及びエステル基を所定数以上持つ含フッ素化合物の使用が加熱による表面エネルギーの上昇に大きく寄与し、これまでのフッ素プラズマ処理等の処理に代替でき、しかも膜形成したときの基板密着性向上にも寄与するとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。   In the present invention, in order to impart water repellency / ink property to the separation wall without performing water / ink repellent treatment such as fluorine plasma treatment, it is effective to use a composition whose surface energy greatly increases before and after heating. Specifically, the use of a fluorine-containing compound having a predetermined number or more of fluorine atoms and ester groups greatly contributes to an increase in surface energy due to heating, and can be substituted for conventional treatments such as fluorine plasma treatment. The knowledge that it contributes also to the improvement of the substrate adhesion when formed is achieved based on this knowledge.

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ （ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位と（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物である。
＜２＞ 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位を側鎖に有することを特徴とする前記＜１＞に記載の含フッ素化合物である。
＜３＞ （ｃ）酸性基を有する繰り返し単位を更に有することを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の含フッ素化合物である。
＜４＞ 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位が酸性基を含むことを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の含フッ素化合物である。
＜５＞ 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位がヘキサノラクトンの開環体であることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の含フッ素化合物である。 Specific means for achieving the above object are as follows.
<1> A fluorine-containing compound having (a) a repeating unit having 7 or more fluorine atoms and (b) a repeating unit having 3 or more ester groups.
<2> The fluorine-containing compound according to <1>, wherein the side chain includes a repeating unit having three or more (b) ester groups.
<3> (c) The fluorine-containing compound according to <1> or <2>, further including a repeating unit having an acidic group.
<4> The fluorine-containing compound according to any one of <1> to <3>, wherein the repeating unit (b) having three or more ester groups contains an acidic group.
<5> The fluorine-containing compound according to any one of <1> to <4>, wherein the repeating unit (b) having 3 or more ester groups is a ring-opened product of hexanolactone. It is.

＜６＞ 前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の含フッ素化合物を含有する樹脂組成物である。
＜７＞ 開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする前記＜６＞に記載の樹脂組成物である。
＜８＞ 仮支持体上に、前記＜７＞に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料である。 <6> A resin composition containing the fluorine-containing compound according to any one of <1> to <5>.
<7> The resin composition according to <6>, further including an initiator and an ethylenically unsaturated compound and having photosensitivity.
<8> A photosensitive transfer material having a photosensitive resin layer using the resin composition according to <7> on a temporary support.

＜９＞ 基板の少なくとも一方の面に、前記＜７＞に記載の樹脂組成物又は前記＜８＞に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を有する離画壁の形成方法である。
＜１０＞ 前記＜９＞に記載の離画壁の形成方法より形成された離画壁である。
＜１１＞ 前記＜１０＞に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法である。
＜１２＞ 前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行なうことを特徴とする前記＜１１＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１３＞ 前記＜１１＞又は＜１２＞に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタである。
＜１４＞ 前記＜１３＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。 <9> a photosensitive resin layer forming step of forming a photosensitive resin layer on at least one surface of the substrate using the resin composition according to <7> or the photosensitive transfer material according to <8>; A separation wall comprising: an exposure step of exposing the photosensitive resin layer; a development step of developing the exposed photosensitive resin layer; and a heat treatment step of heat-treating the pattern image obtained by the development. It is the formation method.
<10> A separation wall formed by the method for forming a separation wall according to <9>.
<11> A method for producing a color filter, wherein a colored liquid composition is applied to a concave portion on a substrate partitioned by the separation wall according to <10> to form a colored region.
<12> The method for producing a color filter according to <11>, wherein the application of the colored liquid composition is performed by discharging a droplet of the colored liquid composition by an inkjet method.
<13> A color filter produced by the method for producing a color filter according to <11> or <12>.
<14> A display device comprising the color filter according to <13>.

本発明によれば、高い撥水性及び撥インク性が得られる含フッ素化合物を提供することができる。また、
本発明によれば、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性に優れる樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することができる。また、
本発明によれば、撥水及び撥インク性が高く、基板との密着も良好であり、着色液体が付与された際の離画壁上へのインク乗り上げを抑えることができる離画壁及びその形成方法を提供することができる。さらに、
本発明によれば、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示ムラが抑制され、高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the fluorine-containing compound from which high water repellency and ink repellency are obtained can be provided. Also,
According to the present invention, it is possible to provide a resin composition and a photosensitive transfer material that have high water repellency and ink repellency and are excellent in substrate adhesion when a film is formed on the substrate. Also,
According to the present invention, a separation wall having high water repellency and ink repellency, good adhesion to a substrate, and capable of suppressing ink running on the separation wall when a colored liquid is applied, and the separation wall A forming method can be provided. further,
According to the present invention, a high-quality color filter in which image failures such as color mixing, color unevenness, and white spots are suppressed, a method for manufacturing the same, and a display device capable of displaying high-quality images with display unevenness suppressed are provided. can do.

以下、本発明の含フッ素化合物、並びにこれを用いた樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the fluorine-containing compound of the present invention, a resin composition using the same, a photosensitive transfer material, a separation wall and a method for forming the same, a color filter, a method for manufacturing the same, and a display device will be described in detail.

＜含フッ素化合物＞
本発明の含フッ素化合物は、（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位の少なくとも一種と、（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位の少なくとも一種と、を少なくとも有する化合物であり、必要に応じて更に、他の繰り返し単位を設けて構成されていてもよい。 <Fluorine-containing compounds>
The fluorine-containing compound of the present invention is a compound having at least one of (a) at least one repeating unit having 7 or more fluorine atoms and (b) at least one repeating unit having three or more ester groups. Depending on the above, another repeating unit may be provided.

〜（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位〜
本発明の含フッ素化合物を構成する（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ａ）」ということがある。）としては、少なくとも７つのフッ素原子を含んでいれば、構造上制限はなく適宜選択することができる。繰り返し単位の少なくとも一つが７つ以上のフッ素原子を有することにより、撥水撥油性・界面活性などのフッ素官能基の機能を充分に発揮することができる。 -(A) Repeating unit having 7 or more fluorine atoms-
The repeating unit (a) having 7 or more fluorine atoms (hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (a)”) constituting the fluorine-containing compound of the present invention includes at least 7 fluorine atoms. The structure is not limited and can be appropriately selected. When at least one of the repeating units has 7 or more fluorine atoms, the functions of the fluorine functional group such as water / oil repellency and surface activity can be sufficiently exhibited.

中でも、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位が好ましく、フッ化アルキル基は、直鎖でも分岐鎖でもよい。より好ましくは、総炭素数４〜７のフッ化アルキル基を含む繰り返し単位である。   Among them, a repeating unit containing a fluorinated alkyl group is preferable, and the fluorinated alkyl group may be linear or branched. More preferably, it is a repeating unit containing a fluorinated alkyl group having 4 to 7 carbon atoms in total.

具体的には、前記フッ化アルキル基として、下記構造式（a）〜（c）のいずれかで表されるフルオロアルキル基より選択される少なくとも一種を含む繰り返し単位が好ましい。   Specifically, the fluorinated alkyl group is preferably a repeating unit containing at least one selected from fluoroalkyl groups represented by any one of the following structural formulas (a) to (c).

前記構造式（a）において、ｍは３〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。
前記構造式（b）において、ｍは４〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。
前記構造式（c）において、ｍは１〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表し、より好ましくは４〜７の整数を表す。 In the structural formula (a), m represents an integer of 3 to 20, preferably an integer of 4 to 12, and more preferably an integer of 4 to 7.
In the structural formula (b), m represents an integer of 4 to 20, preferably an integer of 4 to 12, and more preferably an integer of 4 to 7.
In the structural formula (c), m represents an integer of 1 to 20, preferably represents an integer of 4 to 12, and more preferably represents an integer of 4 to 7.

前記繰り返し単位（ａ）には、７つ以上のフッ素原子を含む（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基を含む）と共に、有機連結基を含むことが好ましい。有機連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びヘテロ環残基よりなる群から選択される１種単独の基、及び２種以上を組み合わせた基が挙げられる。   The repeating unit (a) preferably contains 7 or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group) and an organic linking group. Examples of the organic linking group include a single group selected from the group consisting of an alkylene group, an arylene group, an ester group, an amide group, and a heterocyclic residue, and a group obtained by combining two or more types.

前記アルキレン基としては、総炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘプチレン基、ヘキシレン基、ドデシレン基などが挙げられる。中でも、総炭素数１〜６のアルキレン基がより好ましく、メチレン基、エチレン基、ブチレン基は特に好ましい。   As said alkylene group, a C1-C10 alkylene group is preferable, For example, a methylene group, ethylene group, butylene group, heptylene group, hexylene group, dodecylene group etc. are mentioned. Among them, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a methylene group, an ethylene group, and a butylene group are particularly preferable.

前記アリーレン基としては、総炭素数６〜１５のアルキレン基が好ましく、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ビフェニレン基、ジアルキルフェニレン基などが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。中でも、総炭素数６〜１０のアルキレン基が好ましく、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基は特に好ましい。   The arylene group is preferably an alkylene group having 6 to 15 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group, a naphthylene group, an anthracenylene group, a biphenylene group, and a dialkylphenylene group, and these include o-, p-, m-. Substitution is also possible. Among them, an alkylene group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and a phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group are particularly preferable.

前記エステル基としては、カルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基などが好適に挙げられ、カルボン酸エステル基がより好ましい。カルボン酸エステル基としては、例えば−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−が挙げられ、中でも−ＣＯＯ−が好ましい。   Preferred examples of the ester group include a carboxylic acid ester group, a sulfonic acid ester group, and a phosphoric acid ester group, and a carboxylic acid ester group is more preferable. Examples of the carboxylic acid ester group include —COO— and —OCOO—, among which —COO— is preferable.

前記アミド基としては、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、リン酸アミド基などが好適に挙げられ、カルボン酸アミド基がより好ましい。カルボン酸アミド基としては、例えば−ＮＲＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＲＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＲＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯＮＨ−が挙げられ、中でも−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−が好ましい。ここで、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基を表す。   Suitable examples of the amide group include a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, and a phosphoric acid amide group, and a carboxylic acid amide group is more preferable. Examples of the carboxylic acid amide group include —NRCO—, —NHCO—, —NHCOO—, —NRCOO—, —NHCONH—, —NRCONR—, and —NRCONH—, among which —NHCO— and —NHCOO— are preferable. Here, R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

前記ヘテロ環残基としては、例えば、窒素原子又は酸素原子を環の構成員として含む５員環又は６員環が好ましく、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環、チアジアゾール環等の残基が好適である。中でも、ピリジン環残基、チアジアゾール環残基がより好ましい。   As the heterocyclic residue, for example, a 5-membered ring or 6-membered ring containing a nitrogen atom or an oxygen atom as a member of the ring is preferable, for example, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, Residues such as an oxazole ring, a benzoxazole ring, an isoxazole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a quinoline ring, and a thiadiazole ring are preferred. Among these, a pyridine ring residue and a thiadiazole ring residue are more preferable.

上記の中でも、繰り返し単位（ａ）としては、前記構造式（a）〜（c）のいずれかで表される繰り返し単位より選択される少なくとも一種と、アルキレン基、アリーレン基、エステル基、アミド基、及びヘテロ環残基よりなる有機連結基群から選択される１種単独の基及び２種以上を組み合わせた基とを含む繰り返し単位が好ましく、更には含まれる構造式（a）〜（c）のいずれかで表される繰り返し単位の少なくとも１つは有機連結基の側鎖に結合されている場合が好ましい。
更には、
（1）カルボン酸エステル基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（2）カルボン酸エステル基とアルキレン基とエーテル基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（3）カルボン酸エステル基とヒドロキシ基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（4）カルボン酸アミド基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（5）フェニレン基とカルボン酸エステル基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（6）カルボン酸エステル基とウレタン基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、
（7）カルボン酸エステル基とウレア基とアルキレン基と７つ以上のフッ素原子（好ましくはフッ化アルキル基、より好ましくはパーフルオロアルキル基）とを含む繰り返し単位、が好ましく、
特に好ましくは、上記の（1）、（3）及び（6）である。 Among the above, as the repeating unit (a), at least one selected from the repeating units represented by any of the structural formulas (a) to (c), an alkylene group, an arylene group, an ester group, an amide group And a repeating unit containing a single type of group selected from the group of organic linking groups consisting of heterocyclic residues, and a group combining two or more types, and further include structural formulas (a) to (c) It is preferable that at least one of the repeating units represented by any of the above is bonded to the side chain of the organic linking group.
Furthermore,
(1) a repeating unit containing a carboxylic acid ester group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group);
(2) a repeating unit containing a carboxylic acid ester group, an alkylene group, an ether group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group);
(3) a repeating unit containing a carboxylic acid ester group, a hydroxy group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group);
(4) a repeating unit containing a carboxylic acid amide group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group),
(5) a repeating unit containing a phenylene group, a carboxylic acid ester group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group);
(6) a repeating unit containing a carboxylic acid ester group, a urethane group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group);
(7) A repeating unit containing a carboxylic acid ester group, a urea group, an alkylene group, and seven or more fluorine atoms (preferably a fluorinated alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group) is preferable,
Particularly preferred are (1), (3) and (6) above.

前記繰り返し単位（ａ）の具体例としては、下記構造の構造単位（ａ−１〜ａ−３４）が挙げられる。但し、本発明においては、これらに限定されるものではない。なお、下記構成単位中、Ｒは総炭素数１〜５のアルキル基を表す。   Specific examples of the repeating unit (a) include structural units (a-1 to a-34) having the following structures. However, the present invention is not limited to these. In the structural units below, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in total.

前記繰り返し単位（ａ）の含フッ素化合物１分子中における割合としては、２０〜８５質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、３５〜７５質量％が最も好ましい。繰り返し単位（ａ）の割合が前記範囲内であると、有機溶媒、組成物への溶解性が良好である点で有効である。   The proportion of the repeating unit (a) in one molecule of the fluorine-containing compound is preferably 20 to 85% by mass, more preferably 30 to 80% by mass, and most preferably 35 to 75% by mass. When the ratio of the repeating unit (a) is within the above range, it is effective in that the solubility in the organic solvent and the composition is good.

〜（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位〜
本発明の含フッ素化合物を構成する（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位（以下、単に「繰り返し単位（ｂ）」ということがある。）としては、少なくとも３つのエステル基を含んでいれば、構造上制限はなく適宜選択することができる。繰り返し単位の少なくとも一つが３つ以上エステル基を有することにより、有機溶媒やその他の有機ポリマー、酸性分などとの相溶性を向上することができる。
繰り返し単位（ｂ）では、エステル基を３つ以上有する官能基を主鎖又は側鎖である部位のいずれに有してもよく、合成の容易さから、側鎖に有することが好ましい。 -(B) Repeating unit having 3 or more ester groups-
The repeating unit (b) having three or more ester groups (hereinafter sometimes simply referred to as “repeating unit (b)”) constituting the fluorine-containing compound of the present invention may contain at least three ester groups. For example, there is no restriction on the structure and it can be appropriately selected. When at least one of the repeating units has three or more ester groups, compatibility with an organic solvent, another organic polymer, an acidic component, or the like can be improved.
In the repeating unit (b), a functional group having three or more ester groups may be present in either the main chain or the side chain, and is preferably present in the side chain from the viewpoint of ease of synthesis.

エステル基を３つ以上有する構造としては、一分子中にヒドロキシ基とカルボン酸類縁体を有する化合物の縮合物や、ジオール及びジカルボン酸類縁体の縮合物、環状エステル化合物の開環体などが挙げられ、特に環状エステル化合物の開環体が好ましい。   Examples of the structure having three or more ester groups include a condensate of a compound having a hydroxy group and a carboxylic acid analog in one molecule, a condensate of a diol and a dicarboxylic acid analog, and a ring-opened product of a cyclic ester compound. In particular, a ring-opened product of a cyclic ester compound is preferred.

前記環状エステル化合物は、環状構造を持ち、環の一部としてエステル結合を含む有機化合物であり、ラクトン類が好ましい。ラクトン類としては、例えば、βプロピオラクトン、γブチロラクトン、アンゲリカラクトン、γ／εヘキサノラクトン、γ／εノナノラクトン、γ／δ／εデカラクトン、γ／δ／εドデカラクトン、γ／δ／εテトラデカラクトンが挙げられ、特にεヘキサノラクトンが好ましい。   The cyclic ester compound is an organic compound having a cyclic structure and containing an ester bond as a part of the ring, and lactones are preferable. Examples of lactones include β-propiolactone, γ-butyrolactone, angelica lactone, γ / ε hexanolactone, γ / ε nonanolactone, γ / δ / ε decalactone, γ / δ / ε dodecalactone, γ / δ / ε. Examples include tetradecalactone, and ε hexanolactone is particularly preferable.

前記エステル基を３つ以上有する繰り返し単位（繰り返し単位（ｂ）は、ビニル化合物を用いて形成することが可能である。該ビニル化合物の市販品としては、ダイセル化学工業（株）製のプラクセルＦシリーズなどが挙げられる。   The repeating unit having three or more ester groups (repeating unit (b) can be formed using a vinyl compound. As a commercially available product of the vinyl compound, Plaxel F manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Series.

前記繰り返し単位（ｂ）は、アルカリ現像性の付与の点で、酸性基を含むものが好ましい。酸性基を含む繰り返し単位（ｂ）は、例えば、カルボキシル基等の酸基を有する繰り返し単位にアルコール化合物を作用させる、あるいは繰り返し単位のヒドロキシ残基に酸無水物を付加する等により得られる基が挙げられる。   The repeating unit (b) preferably contains an acidic group from the viewpoint of imparting alkali developability. The repeating unit (b) containing an acidic group is, for example, a group obtained by allowing an alcohol compound to act on a repeating unit having an acid group such as a carboxyl group, or adding an acid anhydride to a hydroxy residue of the repeating unit. Can be mentioned.

前記繰り返し単位（ｂ）の具体例としては、下記構造の構成単位（ｂ−１〜ｂ−３２）が挙げられる。但し、本発明においては、これらに限定されない。なお、構成単位中、Ｒは総炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ'は総炭素数１〜２０のアルキル基、総炭素数６〜２０のアリール基を表す。   Specific examples of the repeating unit (b) include structural units (b-1 to b-32) having the following structures. However, the present invention is not limited to these. In the structural unit, R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in total, and R ′ represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in total and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in total.

前記繰り返し単位（ｂ）の含フッ素化合物１分子中における割合としては、２０〜８０質量％が好ましく、２０〜７５質量％がより好ましく、４０〜７０質量％が最も好ましい。繰り返し単位（ｂ）の割合が前記範囲内であると、有機溶媒への溶解性が良好であること、また残存モノマーが少なくなる点で有効である。   The proportion of the repeating unit (b) in one molecule of the fluorine-containing compound is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 20 to 75% by mass, and most preferably 40 to 70% by mass. When the ratio of the repeating unit (b) is within the above range, it is effective in that the solubility in an organic solvent is good and the residual monomer is reduced.

本発明における含フッ素化合物の分子量としては、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量で１，０００〜４０，０００が好ましく、２，０００〜２０，０００がより好ましい。   The molecular weight of the fluorine-containing compound in the present invention is preferably 1,000 to 40,000, more preferably 2,000 to 20,000 in terms of polystyrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC).

前記繰り返し単位（ａ）及び（ｂ）の組み合わせとしては、（1）(a-1)と(b-1)との組み合わせ、（2）(a-1)と(b-2)との組み合わせ、（3）(a-1)と(b-3)との組み合わせ、（4）(a-1)と(b-5)との組み合わせ、（5）(a-2)と(b-1)との組み合わせ、（6）(a-2)と(b-2)との組み合わせ、（7）(a-2)と(b-3)との組み合わせ、（8）(a-2)と(b-4)との組み合わせ、（9）(a-2)と(b-5)との組み合わせ、（10）(a-2)と(b-7)との組み合わせ、（11）(a-2)と(b-8)との組み合わせ、（12）(a-2)と(b-9)との組み合わせ、（13）(a-2)と(b-10)との組み合わせ、（14）(a-2)と(b-13)との組み合わせ、（15）(a-2)と(b-17)との組み合わせ、（16）(a-2)と(b-18)との組み合わせ、（17）(a-2)と(b-19)との組み合わせ、（18）(a-2)と(b-20)との組み合わせ、（19）(a-2)と(b-21)との組み合わせ、（20）(a-2)と(b-23)との組み合わせ、（21）(a-2)と(b-25)との組み合わせ、（22）(a-2)と(b-27)との組み合わせ、（23）(a-3)と(b-8)との組み合わせ、（24）(a-3)と(b-18)との組み合わせ、（25）(a-6)と(b-8)との組み合わせ、（26）(a-6)と(b-18)との組み合わせ、（27）(a-9)と(b-8)との組み合わせ、（28）(a-9)と(b-18)との組み合わせ、（29）(a-10)と(b-8)との組み合わせ、（30）(a-10)と(b-18)との組み合わせ、（31）(a-13)と(b-8)との組み合わせ、（32）(a-13)と(b-18)との組み合わせ、（33）(a-14)と(b-8)との組み合わせ、（34）(a-14)と(b-18)との組み合わせ、（35）(a-15)と(b-8)との組み合わせ、（36）(a-15)と(b-18)との組み合わせ、（36）(a-27)と(b-8)との組み合わせ、（37）(a-27)と(b-18)との組み合わせ、（38）(a-29)と(b-8)との組み合わせ、（39）(a-29)と(b-18)との組み合わせ、が好ましい。   The combination of the repeating units (a) and (b) includes (1) a combination of (a-1) and (b-1), and (2) a combination of (a-1) and (b-2). , (3) (a-1) and (b-3) combination, (4) (a-1) and (b-5) combination, (5) (a-2) and (b-1 ), (6) (a-2) and (b-2), (7) (a-2) and (b-3), (8) (a-2) (b-4), (9) (a-2) and (b-5), (10) (a-2) and (b-7), (11) (a -2) and (b-8), (12) (a-2) and (b-9), (13) (a-2) and (b-10), 14) Combination of (a-2) and (b-13), (15) Combination of (a-2) and (b-17), (16) (a-2) and (b-18) (17) (a-2) and (b-19), (18) (a-2) and (b-20), (19) (a-2) and (b -21), (20) (a-2) and (b-23), (21) (a-2) and (b-2) 5), (22) (a-2) and (b-27), (23) (a-3) and (b-8), (24) (a-3) (B-18), (25) (a-6) and (b-8), (26) (a-6) and (b-18), (27) ( a-9) and (b-8), (28) (a-9) and (b-18), (29) (a-10) and (b-8), (30) Combination of (a-10) and (b-18), (31) Combination of (a-13) and (b-8), (32) (a-13) and (b-18) , (33) (a-14) and (b-8), (34) (a-14) and (b-18), (35) (a-15) and ( b-8), (36) (a-15) and (b-18), (36) (a-27) and (b-8), (37) (a- The combination of (27) and (b-18), (38) (a-29) and (b-8), and (39) (a-29) and (b-18) are preferred. .

〜（ｃ）他の繰り返し単位〜
本発明の含フッ素化合物は、前記（ａ）及び（ｂ）以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。他の繰り返し単位としては、（ａ）、（ｂ）と共重合可能なものであればよく、（メタ）アクリレート類、スチレン類、ビニルアルカノエート類などの中から選択することができる。中でも、アルカリ現像性の点で、共重合可能な繰り返し単位として、（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位を有することが好ましい。 ~ (C) Other repeating units ~
The fluorine-containing compound of the present invention may have other repeating units in addition to the above (a) and (b). Any other repeating unit may be used as long as it is copolymerizable with (a) and (b), and can be selected from (meth) acrylates, styrenes, vinylalkanoates and the like. Among these, from the viewpoint of alkali developability, it is preferable to have (c) a repeating unit having an acidic group as a copolymerizable repeating unit.

前記酸性基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、中でもカルボン酸基が好ましい。前記（ｃ）酸性基を有する繰り返し単位の中でも、共重合性やコストの点で、カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位が好ましい。   Examples of the acidic group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group, and among them, a carboxylic acid group is preferable. Among the repeating units having the acidic group (c), a repeating unit having a carboxylic acid group in the side chain is preferable from the viewpoint of copolymerizability and cost.

前記（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位（以下、単に「繰り返し単位（ｃ）」ということがある。）としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリヘキサノラクトンモノ（メタ）アクリレート、等が挙げられる。これらは適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。   The (c) repeating unit having a carboxylic acid group in the side chain (hereinafter sometimes simply referred to as “repeating unit (c)”) is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones. . For example, (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, α-cyanocinnamic acid, acrylic acid dimer, monomer having hydroxyl group An addition reaction product of a monomer and a cyclic acid anhydride, ω-carboxy-polyhexanolactone mono (meth) acrylate, and the like. These may be used as appropriate, or commercially available products may be used.

前記「水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物」において、水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられ、また、前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。   In the “addition reaction product of a monomer having a hydroxyl group and a cyclic acid anhydride”, examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and the cyclic acid. Examples of the anhydride include maleic anhydride, phthalic anhydride, and cyclohexanedicarboxylic anhydride.

繰り返し単位（ｃ）の市販品としては、東亜合成化学工業（株）製のアロニックスＭ−５３００、アロニックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロニックスＭ−５６００等、新中村化学工業（株）製のＮＫエステルＣＢ−１、ＮＫエステルＣＢＸ−１等、共栄社油脂化学工業（株）製のＨＯＡ−ＭＰ、ＨＯＡ−ＭＳ等、大阪有機化学工業（株）製のビスコート＃２１００等が挙げられる。これらの中でも、現像性に優れ、低コストである点で、（メタ）アクリル酸等が好ましい。   Examples of commercially available repeating units (c) include Aronix M-5300, Aronix M-5400, Aronix M-5500, and Aronix M-5600 manufactured by Toa Synthetic Chemical Industry, Inc., manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK ester CB-1, NK ester CBX-1, etc., Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd. HOA-MP, HOA-MS etc., Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. biscoat # 2100 etc. are mentioned. Among these, (meth) acrylic acid and the like are preferable in terms of excellent developability and low cost.

本発明においては、アルカリ現像性付与の点で、前記繰り返し単位（ａ）及び（ｂ）の組み合わせに、更に（メタ）アクリル酸を組み合わせた含フッ素化合物を用いるのが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use a fluorine-containing compound in which (meth) acrylic acid is further combined with the combination of the repeating units (a) and (b) in terms of imparting alkali developability.

本発明の含フッ素化合物が、繰り返し単位（ｃ）を含む場合、該繰り返し単位（ｃ）の含フッ素樹脂１分子中における割合は、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が最も好ましい。含まれる繰り返し単位（ｃ）の割合が前記範囲内であると、有機溶剤への溶解性、アルカリ現像した際の現像性が良好である点で有効である。   When the fluorine-containing compound of the present invention contains the repeating unit (c), the proportion of the repeating unit (c) in one molecule of the fluorine-containing resin is preferably 0.1 to 50% by mass, and 1 to 40% by mass. More preferred is 1 to 30% by mass. When the ratio of the repeating unit (c) contained is within the above range, it is effective in that the solubility in an organic solvent and the developability upon alkali development are good.

以下、本発明の含フッ素化合物の具体例〔例示化合物（１）〜（２４）〕を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。   Specific examples of the fluorine-containing compound of the present invention [Exemplary compounds (1) to (24)] are shown below. However, the present invention is not limited to these.

＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素化合物の少なくとも１種を用いて構成されるものであり、必要に応じて更に、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、顔料等の色材などの他の成分を用いて好適に構成することができる。
例えば、既述の本発明の含フッ素化合物と共に、開始剤及びエチレン性不飽和化合物を含有することによって、感光性の樹脂組成物を構成することができる。 <Resin composition>
The resin composition of the present invention is constituted by using at least one of the above-described fluorine-containing compounds of the present invention. If necessary, an initiator, a binder, an ethylenically unsaturated compound, a pigment, and the like It can be suitably configured using other components such as a coloring material.
For example, a photosensitive resin composition can be comprised by containing an initiator and an ethylenically unsaturated compound with the fluorine-containing compound of the present invention described above.

本発明の（感光性）樹脂組成物は、既述の本発明の含フッ素化合物を含有するので、例えば膜形成後に加熱処理すると、良好な撥水・撥インク性と基板密着性が得られる。これより、ブラックマトリクス等の離隔壁でのインク乗り上げや基板面からの剥離や欠け等の欠陥の発生が抑制され、ひいては離隔壁で隔離された凹状領域にインクを例えば液滴付与（例えばインクジェット法による打滴など）した際の混色、白抜け、色ムラ等の画像故障の発生を防止され、高品位なカラーフィルタ及び表示装置を提供できる。   Since the (photosensitive) resin composition of the present invention contains the above-described fluorine-containing compound of the present invention, for example, when heat treatment is performed after film formation, good water and ink repellency and substrate adhesion can be obtained. As a result, it is possible to suppress the occurrence of defects such as ink running on the separating partition such as a black matrix and peeling or chipping from the substrate surface. As a result, ink is applied, for example, to the concave region isolated by the separating partition (for example, an ink jet method). The occurrence of image failures such as mixed colors, white spots, and color unevenness when the ink droplets are ejected is prevented, and a high-quality color filter and display device can be provided.

本発明の樹脂組成物を構成する含フッ素化合物については、既述した通りであり、好ましい態様も同様である。
含フッ素化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜２０質量％であり、最も好ましくは０．１〜１０質量％である。含フッ素化合物の含有量が前記範囲内であると、より良好な撥水・撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの基板密着性も高めることができる。例えば、黒色顔料等の着色剤を含んでブラックマトリクス等の離隔壁を形成する場合は、インクジェット法により液滴付与して着色領域を形成するときのインクの離画壁上への乗り上げを抑制でき、混色を防止できると共に、基板密着性及び色濃度の高い離画壁を作製することができる。 About the fluorine-containing compound which comprises the resin composition of this invention, it is as having stated already, and its preferable aspect is also the same.
As content in the resin composition of a fluorine-containing compound, 0.01-30 mass% is preferable with respect to the total solid of a resin composition, More preferably, it is 0.05-20 mass%, Most preferably Is 0.1 to 10% by mass. When the content of the fluorine-containing compound is within the above range, better water repellency and ink repellency can be obtained, and the substrate adhesion when a film is formed on the substrate can also be improved. For example, when forming a separation partition such as a black matrix containing a colorant such as a black pigment, it is possible to suppress the ink from running on the separation wall when forming a colored region by applying droplets by the inkjet method. Color separation can be prevented, and a separation wall with high substrate adhesion and color density can be produced.

以下、含フッ素化合物以外の各成分について詳細に説明する。
１）開始剤
本発明の樹脂組成物は、開始剤の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。
樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。 Hereinafter, each component other than the fluorine-containing compound will be described in detail.
1) Initiator The resin composition of this invention can be set as the structure which has photosensitivity by using at least 1 sort (s) of an initiator.
As a method for curing the resin composition, a thermal initiation system using a thermal initiator and a photoinitiation system using a photoinitiator are common, but in the present invention, the separation wall after curing has a shape as described later. It is important to use a photoinitiating system.

光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述のエチレン性不飽和化合物の重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤もしくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。   A photopolymerization initiator is a compound capable of generating an active species that initiates polymerization of an ethylenically unsaturated compound described later upon irradiation (also referred to as exposure) of radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, or X-ray. It can be appropriately selected from known photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems.

光重合開始剤もしくは光重合開始剤系としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。   Examples of the photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system include trihalomethyl group-containing compounds, acridine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone systems. Compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds, and the like.

具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；   Specifically, a trihalomethyl group-substituted trihalomethyloxazole derivative or s-triazine derivative described in JP-A No. 2001-117230, a trihalomethyl-s-triazine compound described in US Pat. No. 4,239,850, A trihalomethyl group-containing compound such as the trihalomethyloxadiazole compound described in Japanese Patent No. 4221976;

９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物； 9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 9-pyrazinylacridine, 1,2-bis (9-acridinyl) ethane, 1,3-bis (9-acridinyl) propane, 1,4-bis (9-acridinyl) ) Butane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,6-bis (9-acridinyl) hexane, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,8-bis (9-acridinyl) octane 1,9-bis (9-acridinyl) nonane, 1,10-bis (9-acridinyl) decane, 1,11-bis (9-acridinyl) undecane, 1,12-bis (9-acridinyl) dodecane, etc. Acridine compounds such as bis (9-acridinyl) alkane;

６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、などが挙げられる。 6- (p-methoxyphenyl) -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis ( Triazine compounds such as trichloromethyl) -s-triazine; 9,10-dimethylbenzphenazine, Michler's ketone, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyldimethyl ketal, thioxanthone / amine, 2,2 ′ -Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, and the like.

上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特にトリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。   Among the above, at least one selected from a trihalomethyl group-containing compound, an acridine compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, and a triazine compound is preferable, and at least selected from a trihalomethyl group-containing compound and an acridine compound. It is preferable to contain one kind. Trihalomethyl group-containing compounds and acridine compounds are also useful in that they are versatile and inexpensive.

特に好ましくは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールであり、前記トリアジン系化合物としては、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンであり、前記アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、前記アセトフェノン系化合物としては、ミヒラーズケトンであり、前記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。   Particularly preferably, the trihalomethyl group-containing compound is 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl. -1,3,4-oxadiazole, and the triazine compound is 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis (trichloromethyl). -S-triazine, the acridine compound is 9-phenylacridine, the acetophenone compound is Michler's ketone, and the biimidazole compound is 2,2'-bis (2,4 -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole.

前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
開始剤（特に光重合開始剤）の樹脂組成物における総量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が前記範囲内であると、樹脂組成物の光硬化を効率良く行なえ、現像の際に欠落や表面荒れの発生のない画像パターンを得ることができる。 The said photoinitiator may be used independently and may use 2 or more types together.
The total amount of the initiator (particularly the photopolymerization initiator) in the resin composition is preferably 0.1 to 20% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content (mass) of the resin composition. When the total amount is within the above range, the resin composition can be efficiently photocured, and an image pattern can be obtained in which no omission or surface roughness occurs during development.

なお、本発明において、樹脂組成物の全固形分（質量）とは、樹脂組成物中の溶剤を除いた全成分を意味する。   In the present invention, the total solid content (mass) of the resin composition means all components excluding the solvent in the resin composition.

前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、下記メルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。   The photopolymerization initiator may be configured using a hydrogen donor in combination. As the hydrogen donor, the following mercaptan compounds, amine compounds and the like are preferable in that sensitivity can be further improved. The “hydrogen donor” herein refers to a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from the photopolymerization initiator by exposure.

前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。   The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ A mercaptan-based hydrogen donor). The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “the amine compound”). , Referred to as “amine-based hydrogen donor”). These hydrogen donors may have a mercapto group and an amino group at the same time.

上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。   Specific examples of the mercaptan hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-2. , 5-dimethylaminopyridine, and the like. Of these, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。   Specific examples of the amine-based hydrogen donor include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl. Examples include -4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like. Of these, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.

前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。   The hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more, and the formed image is less likely to fall off from the permanent support during development, and can be improved in strength and sensitivity. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors.

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。   Specific examples of the combination of the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-. Examples thereof include bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone. More preferred combinations are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzobenzone. Thiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone.

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。   When the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor are combined, the mass ratio (M: A) of the mercaptan hydrogen donor (M) to the amine hydrogen donor (A) is usually 1: 1-1: 4 is preferable, and 1: 1-1: 3 is more preferable. As a total amount in the photosensitive resin composition of the said hydrogen donor, 0.1-20 mass% of the total solid (mass) of the photosensitive resin composition is preferable, and 0.5-10 mass% is especially preferable.

２）バインダー
本発明の樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を用いて好適に構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。また、このほかに水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。 2) Binder The resin composition of the present invention can be suitably configured using at least one binder.
As the binder, a polymer having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain is preferable. Examples thereof include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-53836. A methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer, etc. described in JP-A-59-71048. Can be mentioned. Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned. In addition, a polymer having a hydroxyl group added to a polymer having a hydroxyl group can also be preferably used.

また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。   Further, as particularly preferred examples, copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4,139,391, benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers And a multi-component copolymer. These binder polymers having a polar group may be used alone or in the form of a composition used in combination with a normal film-forming polymer.

バインダーの樹脂組成物中における含有量は、樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。   As for content in the resin composition of a binder, 20-50 mass% is common with respect to the total solid of a resin composition, and 25-45 mass% is preferable.

３）エチレン性不飽和化合物
本発明の樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。 3) Ethylenically unsaturated compound The resin composition of this invention can be set as the structure which has photosensitivity by using at least 1 sort (s) of an ethylenically unsaturated compound. As the ethylenically unsaturated compound, the following compounds may be used alone or in combination with other monomers.

具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。   Specifically, t-butyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 2- Ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, polyoxy Ethylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-dihydroxy Nzenji (meth) acrylate, decamethylene glycol di (meth) acrylate, styrene, diallyl fumarate, triallyl trimellitate, lauryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) acrylamide, and the like.

また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。 Moreover, reaction of a compound having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and polyethylene glycol mono (meth) acrylate with a diisocyanate such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate and xylene diisocyanate. Things can also be used.
Of these, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate are particularly preferable.

エチレン性不飽和化合物の樹脂組成物中における含有量としては、樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。エチレン性不飽和化合物の含有量が前記範囲内であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性を確保でき、樹脂組成物としたときのタッキネスが増加するのを抑えて取り扱い性を保つことができる。   As content in the resin composition of an ethylenically unsaturated compound, 5-80 mass% is preferable with respect to the total solid (mass) of a resin composition, and 10-70 mass% is especially preferable. When the content of the ethylenically unsaturated compound is within the above range, it is possible to ensure resistance to an alkaline developer at the exposed portion of the composition, and to suppress the increase in tackiness when used as a resin composition, thereby making it easy to handle. Can keep.

４）色材
本発明の感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を用いて構成することができる。
色材としては、公知の着色剤（染料、顔料など）を使用することができ、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを好適に用いることができる。 4) Colorant The photosensitive resin composition of the present invention can be constituted using at least one colorant.
Known colorants (dyes, pigments, etc.) can be used as the colorant. Specifically, pigments and dyes described in JP-A-2005-17716 [0038]-[0054] The pigments described in JP-A-2004-361447 [0068] to [0072] and the colorants described in JP-A-2005-17521 [0080] to [0088] can be suitably used.

本発明の樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができる。特に本発明の樹脂組成物を遮光性の離隔壁形成用に構成するときには、炭素材料（カーボンブラックなど）、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光材料、及び赤色、青色、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
顔料を用いる場合は、樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。 For the resin composition of the present invention, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be suitably used. In particular, when the resin composition of the present invention is configured to form a light-shielding separation partition, light shielding such as carbon materials (carbon black, etc.), metal oxide powders such as titanium oxide and iron oxide, metal sulfide powders, and metal powders. Mixtures of materials and pigments such as red, blue, and green can be used. Among these, carbon black is preferable.
When using a pigment, it is preferable that it is uniformly dispersed in the resin composition.

色材の樹脂組成物中における含有量としては、現像時間を短縮する観点から、樹脂組成物の全固形分に対して、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。   As content in the resin composition of a coloring material, it is preferable that it is 30-70 mass% with respect to the total solid of a resin composition from a viewpoint of shortening development time, and is 40-60 mass%. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 50-55 mass%.

顔料は分散液として使用されることが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁）に記載のニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、同文献の３１０頁に記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。   The pigment is preferably used as a dispersion. This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing a pigment and a pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle). The vehicle refers to a portion of a medium in which the pigment is dispersed when the paint is in a liquid state, a portion that is liquid and binds to the pigment to harden the coating film (binder), and a component that dissolves and dilutes the portion. (Organic solvent). The disperser used for dispersing the pigment is not particularly limited. For example, a kneader, a roll mill, an atomizer described in “Encyclopedia of Pigments” (written by Asakura Kunizo, 1st edition, Asakura Shoten, 2000, page 438). Known dispersers such as a rider, a super mill, a dissolver, a homomixer, and a sand mill can be used. Further, the material may be finely pulverized using frictional force by mechanical grinding described on page 310 of the same document.

色材（顔料）の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒子径で０．００１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０８μｍがより好ましい。なお、「粒子径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から求めた粒子面積をこれと同面積の円で表したときの直径をいい、「数平均粒子径」とは、１００個の粒子の粒子径を求めて平均した平均値をいう。   The particle diameter of the color material (pigment) is preferably 0.001 to 0.1 μm, more preferably 0.01 to 0.08 μm in terms of the number average particle diameter from the viewpoint of dispersion stability. The “particle diameter” refers to the diameter when the particle area determined from the electron micrograph image of the particle is represented by a circle having the same area, and the “number average particle diameter” refers to 100 particles. The average value obtained by obtaining the particle diameter and averaging.

５）その他
樹脂組成物には、前記１）〜４）の成分の他に、下記の溶剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等、及び特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」その他の添加剤等の他の成分を添加してもよい。 5) Others In addition to the components 1) to 4), the resin composition includes the following solvents, surfactants, thermal polymerization inhibitors, ultraviolet absorbers, and the like, and JP-A No. 11-133600. Other components such as “adhesion aid” and other additives may be added.

−溶剤−
本発明における樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に溶剤を用いてもよい。溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。 -Solvent-
In the resin composition in the present invention, a solvent may be further used in addition to the above components. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like.

−界面活性剤−
本発明の樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止する観点から、該樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。 -Surfactant-
In the resin composition of the present invention, it is preferable to contain an appropriate surfactant in the resin composition from the viewpoint of being able to control a uniform film thickness and effectively preventing coating unevenness.
Suitable surfactants include those disclosed in JP2003-337424A and JP11-133600A.

−熱重合防止剤−
本発明における樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。 -Thermal polymerization inhibitor-
The resin composition in the present invention preferably contains a thermal polymerization inhibitor.
Examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl- 6-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine and the like.

−紫外線吸収剤−
本発明における樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。 -UV absorber-
The resin composition in the present invention may contain an ultraviolet absorber as necessary. Examples of the ultraviolet absorber include compounds described in JP-A-5-72724, salicylate series, benzophenone series, benzotriazole series, cyanoacrylate series, nickel chelate series, hindered amine series, and the like.

具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。   Specifically, phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3 ′, 5′-di-t-4′-hydroxybenzoate, 4-t-butylphenyl salicylate 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2,2'-hydroxy-4-methoxybenzophenone, nickel Dibutyldithiocarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-pyridine Sebacate, 4-tert-butylphenyl salicylate, phenyl salicylate, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine condensate, succinic acid-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4 -Piperenyl) -ester, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 7-{[4-chloro-6- (diethylamino) -5 And triazin-2-yl] amino} -3-phenylcoumarin.

＜感光性転写材料＞
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を設けて構成されたものである。感光性転写材料を用いることで、離画壁を容易かつ低コストに形成することができる。また、必要に応じて更に、仮支持体と感光性樹脂層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう）や熱可塑性樹脂層などの他の層を設けてもよい。 <Photosensitive transfer material>
The photosensitive transfer material of the present invention is constituted by providing a photosensitive resin layer formed using the resin composition of the present invention having the above-described photosensitivity on a temporary support. By using the photosensitive transfer material, the separation wall can be formed easily and at low cost. Further, if necessary, another layer such as a protective layer capable of blocking oxygen (hereinafter also referred to as “oxygen blocking layer”) or a thermoplastic resin layer is provided between the temporary support and the photosensitive resin layer. May be.

酸素遮断層を用いた場合、感光性樹脂層は酸素遮断層に大気から保護されるため、自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため、露光を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用し、高感度化、高硬度化できる利点がある。後述するように、仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよく、この場合は酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数削減に寄与する。   When the oxygen blocking layer is used, the photosensitive resin layer is protected from the atmosphere by the oxygen blocking layer, so that it automatically becomes an oxygen-poor atmosphere. For this reason, there is no need to perform exposure under an inert gas or under reduced pressure, and there is an advantage that the current process can be used as it is and the sensitivity and hardness can be increased. As will be described later, the temporary support may be used as a “protective layer capable of blocking oxygen”. In this case, it is not necessary to provide an oxygen blocking layer, which contributes to a reduction in the number of steps.

感光性転写材料には、仮支持体と感光性樹脂層との間、あるいは酸素遮断層を有する場合は仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層を設けてもよい。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有し、少なくとも実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂成分を含み、クッション性を備えた層である。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を得ることができる。   The photosensitive transfer material may be provided with a thermoplastic resin layer between the temporary support and the photosensitive resin layer, or in the case of having an oxygen barrier layer, between the temporary support and the oxygen barrier layer. The thermoplastic resin layer is a layer that has alkali solubility, includes a resin component having at least a substantial softening point of 80 ° C. or less, and has cushioning properties. By providing such a thermoplastic resin layer, good adhesion to a permanent support can be obtained.

軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。   Examples of alkali-soluble thermoplastic resins having a softening point of 80 ° C. or lower include saponified products of ethylene and acrylate copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylate copolymers, vinyltoluene and (meth) acrylic. Examples thereof include saponification products of acid ester copolymers, saponification products such as poly (meth) acrylic acid esters, and (meth) acrylic acid ester copolymers such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate.

熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。   For the thermoplastic resin layer, at least one of the above-mentioned thermoplastic resins can be appropriately selected and used. Further, “Plastic Performance Handbook” (edited by the Japan Plastics Industry Federation, All Japan Plastics Molding Industry Federation, published by the Industrial Research Council, Of those organic polymers having a softening point of about 80 ° C. or lower, issued on October 25, 1968), those soluble in an alkaline aqueous solution can be used.

また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。   In addition, for an organic polymer substance having a softening point of 80 ° C. or higher, by adding various plasticizers compatible with the polymer substance to the organic polymer substance, the substantial softening point is 80 ° C. or lower. It can also be used by lowering. In addition, these organic polymer substances include various polymers, supercooling substances, adhesion improvers or interfaces within the range where the substantial softening point does not exceed 80 ° C. for the purpose of adjusting the adhesive force with the temporary support. Activators, mold release agents, etc. can also be added.

好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。   Specific examples of preferable plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, and biphenyl diphenyl phosphate.

感光性転写材料を構成する仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが前記範囲内であると、仮支持体を破れないように容易に剥離でき、仮支持体を介しても解像度の良い露光が行なえる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。 The temporary support constituting the photosensitive transfer material can be appropriately selected from those that are chemically and thermally stable and composed of a flexible substance. Specifically, a thin sheet such as Teflon (registered trademark), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyester, or a laminate thereof is preferable. The thickness of the temporary support is suitably 5 to 300 μm, preferably 20 to 150 μm. When the thickness is within the above range, the temporary support can be easily peeled so as not to be broken, and exposure with good resolution can be performed through the temporary support.
Among the above specific examples, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.

感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。   A thin cover sheet is preferably provided on the photosensitive resin layer in order to protect it from contamination and damage during storage. The cover sheet may be made of the same or similar material as the temporary support, but it must be easily separated from the photosensitive resin layer. As the cover sheet material, for example, silicone paper, polyolefin or polytetrafluoroethylene sheet is suitable. The thickness of the cover sheet is generally 4 to 40 μm, preferably 5 to 30 μm, particularly preferably 10 to 25 μm.

−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。 -Board-
In the present invention, as the substrate (permanent support), glass, ceramic, synthetic resin film or the like can be used. Particularly preferred are transparent glass and synthetic resin film having good dimensional stability.

＜離画壁及びその形成方法＞
本発明の離画壁の形成方法は、基板の少なくとも一方の面に、既述の感光性を有する本発明の樹脂組成物、又は本発明の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像する現像工程と、現像により得られ、前記感光性樹脂層からなるパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、を少なくとも設けて構成される。 <Separation wall and its formation method>
In the method for forming a separation wall according to the present invention, a photosensitive resin layer is formed on at least one surface of a substrate using the above-described photosensitive resin composition of the present invention or the photosensitive transfer material of the present invention. A photosensitive resin layer forming step, an exposure step of exposing the formed photosensitive resin layer, a developing step of developing the exposed photosensitive resin layer, and a pattern obtained by development and made of the photosensitive resin layer A heat treatment process for heat-treating the image.

本発明における離画壁は、２以上の画素群（例えば色相の異なる複数色の画素群）の各画素間を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色剤としては、有機物（染料、顔料などの各種色素、炭素材料）、無機物が好ましい。   The separation wall in the present invention separates each pixel of two or more pixel groups (for example, pixel groups of a plurality of colors having different hues), and is generally black (dark color) in many cases. It is not limited to black. As the colorant for dark color, organic substances (various dyes such as dyes and pigments, carbon materials) and inorganic substances are preferable.

（感光性樹脂層形成工程）
感光性樹脂層形成工程は、基板の少なくとも一方の面（以下、単に「基板上」ともいう）に、既述の本発明の樹脂組成物のうち感光性を有する感光性樹脂組成物を用いることにより、又は既述の本発明の感光性転写材料を用いることにより感光性樹脂層を形成する。 (Photosensitive resin layer forming step)
The photosensitive resin layer forming step uses a photosensitive resin composition having photosensitivity among the resin compositions of the present invention described above on at least one surface of the substrate (hereinafter also simply referred to as “on the substrate”). By using the photosensitive transfer material of the present invention described above, the photosensitive resin layer is formed.

感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより形成することができる。また、必要に応じて、塗布後にプリベークを行なってもよい。   The method for forming the photosensitive resin layer using the photosensitive resin composition is not particularly limited. For example, by applying the photosensitive resin composition on the substrate by a known coating method such as slit coating. Can be formed. Moreover, you may pre-bake after application | coating as needed.

感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、
仮支持体上に該仮支持体側から順に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上を保護するカバーシートとが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体である基板上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層を酸素遮断層と共に転写形成することができる。 The method for forming the photosensitive resin layer using the photosensitive transfer material is not particularly limited, and for example, it can be formed as follows. That is,
A photosensitive transfer material is prepared in which an oxygen blocking layer, a photosensitive resin layer, and a cover sheet for protecting the photosensitive resin layer are provided on the temporary support in order from the temporary support side. First, after removing and removing the cover sheet, the exposed surface of the photosensitive resin layer is bonded onto a substrate which is a permanent support, and is laminated by heating and pressing through a laminator or the like (laminate). As the laminator, those appropriately selected from conventionally known laminators, vacuum laminators and the like can be used, and an auto-cut laminator can also be used in order to further increase the productivity.
Next, the photosensitive resin layer can be transferred and formed on the substrate together with the oxygen blocking layer by peeling between the temporary support and the oxygen blocking layer and removing the temporary support from the laminate.

（露光工程及び現像工程）
露光工程では、前記積層体の仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、該積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、フォトマスク面と該酸素遮断層との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。 (Exposure process and development process)
In the exposure step, the removal surface (oxygen blocking layer surface) after removal of the temporary support of the laminate is arranged so that a desired photomask (for example, a quartz exposure mask) faces each other, and the laminate and the photomask are arranged. In the state of being set up vertically, the distance between the photomask surface and the oxygen blocking layer is appropriately set (for example, 200 μm) and exposed.

露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）等を用いて行なえ、露光量は適宜（例えば３００ｍＪ／ｃｍ^２）選択すればよい。
露光に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。 The exposure can be performed using, for example, a proximity type exposure machine having an ultrahigh pressure mercury lamp (for example, manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.), and the exposure amount may be appropriately selected (for example, 300 mJ / cm ² ).
Examples of the light source used for exposure include medium to ultra high pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and the like.

離画壁は、光感度、すなわち硬化度を高める点で、感光性樹脂層を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像して形成されることが好ましい。ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう。）下にあることを指し、詳しくは以下の通りである。   The separation wall is preferably formed by exposing the photosensitive resin layer in an oxygen-poor atmosphere and then developing it in order to increase the photosensitivity, that is, the degree of curing. Here, under an oxygen-poor atmosphere means under an inert gas, under reduced pressure, and under a protective layer capable of blocking oxygen (hereinafter also referred to as “oxygen blocking layer”). is there.

前記不活性ガス下とは、Ｎ_２、Ｈ_２、ＣＯ_２などの不活性気体やＨｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類などのガス雰囲気に曝されていることをいう。中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、不活性ガスはＮ_２が好適である。 “Under inert gas” means being exposed to a gas atmosphere such as an inert gas such as N ₂ , H ₂ , or CO ₂ or a rare gas such as He, Ne, or Ar. Among these, N ₂ is preferable as the inert gas because of safety, availability, and cost.

前記減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態をいう。   The term “under reduced pressure” refers to a state of 500 hPa or less, preferably 100 hPa or less.

前記酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。
また、ポリビニルアルコールは、鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は、アルカリ可溶な感光性樹脂層の固形分に対し、１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。 Examples of the protective layer (oxygen blocking layer) capable of blocking oxygen include, for example, polyvinyl ether / maleic anhydride polymers and carboxyalkyl described in JP-A Nos. 46-2121 and 56-40824. Water-soluble salts of cellulose, water-soluble cellulose ethers, water-soluble salts of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, various polyacrylamides, various water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide Examples include polymers, water-soluble salts of the group consisting of various starches and the like, styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and combinations of two or more thereof. Among these, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.
The polyvinyl alcohol preferably has a saponification rate of 80% or more, and the content of polyvinyl pyrrolidone is preferably 1 to 75% by mass, more preferably based on the solid content of the alkali-soluble photosensitive resin layer. It is 1-50 mass%, More preferably, it is 10-40 mass%.

また、酸素遮断層には、各種フィルムを用いることもできる。例えば、ＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは、必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
特に感光性転写材料を用いて離隔壁を形成する場合には、仮支持体を酸素を遮断しうる保護層として好適に用いることが可能である。 Various films can also be used for the oxygen barrier layer. For example, polyesters including PET, polyamides including nylon, and ethylene-vinyl acetate copolymers (EVAs) can be suitably used. These films may be stretched as necessary, and the thickness is suitably 5 to 300 μm, preferably 20 to 150 μm.
In particular, when the separation partition is formed using a photosensitive transfer material, the temporary support can be suitably used as a protective layer capable of blocking oxygen.

仮支持体を酸素遮断層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。   When using the temporary support as an oxygen blocking layer, the temporary support is left (without peeling), and the temporary support and a desired photomask (for example, a quartz exposure mask) face each other. In a state where the laminated body and the photomask are set up vertically, the distance between the exposure mask surface and the temporary support is appropriately set (for example, 200 μm) and exposed.

酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）の酸素透過係数は、２０００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、最も好ましくは５０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が前記範囲内であると、酸素遮断により光硬化が良好に進行し、離画壁を所望の形状に形成するのに有効である。 The oxygen permeability coefficient of the protective layer (oxygen barrier layer) capable of blocking oxygen is preferably 2000 cm ³ / (m ² · day · atm) or less, but 100 cm ³ / (m ² · day · atm) or less. More preferably, it is 50 cm ³ / (m ² · day · atm) or less.
When the oxygen permeability is within the above range, photocuring proceeds favorably by blocking oxygen, and it is effective for forming the separation wall into a desired shape.

次いで、現像工程が施され、露光後の感光性樹脂層を所定の現像液を用いて現像処理する。引き続き、必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。なお、現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。   Next, a development step is performed, and the exposed photosensitive resin layer is developed using a predetermined developer. Subsequently, a washing process is performed as necessary to obtain a pattern image (separated wall pattern). Prior to development, pure water is preferably sprayed with a shower nozzle or the like to uniformly wet the surface of the photosensitive resin layer or the oxygen blocking layer.

現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。   As the developer used in the development process, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is used, but a solution obtained by adding a small amount of an organic solvent miscible with water may be used.

前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の希薄水溶液は、アルカリ性物質の濃度としては０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。   Examples of the alkaline substance include alkali metal hydroxides (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (for example, sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (for example, sodium bicarbonate, Potassium bicarbonate), alkali metal silicates (for example, sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (for example, sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine Tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like. The dilute aqueous solution of the alkaline substance preferably has an alkaline substance concentration of 0.01 to 30% by mass, and preferably has a pH of 8 to 14.

前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。
更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。 Examples of the “water-miscible organic solvent” include, for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether. Benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like are preferable. . The concentration of the organic solvent miscible with water is preferably 0.1 to 30% by mass.
Furthermore, a known surfactant can be added, and the concentration of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by mass.

現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像時間が前記範囲内であると、非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像進行が良好であり、硬化部（ネガ型の場合は露光部）がエッチングされることもなく、良好な形状の離画壁を得る点で有効である。
また、現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。 The developer can be used as a bath solution or a spray solution.
When removing the uncured portion of the photosensitive resin layer, methods such as rubbing with a rotating brush or wet sponge in the developer can be combined. The liquid temperature of the developer is usually preferably from about room temperature (20 ° C.) to 40 ° C. The development time is usually about 10 seconds to 2 minutes, depending on the composition of the photosensitive resin layer, the alkalinity and temperature of the developer, and the type and concentration when an organic solvent is added. When the development time is within the above range, the development progress of the non-cured portion (non-exposed portion in the case of negative type) is good, and the cured portion (exposed portion in the case of negative type) is not etched, This is effective in obtaining a well-shaped separation wall.
It is also possible to place a water washing step after the development processing.

（加熱処理工程）
前記現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、撥水・撥インク性に優れた離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱することで、硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、含フッ素化合物による撥水・撥インク性をより発揮させることができる。 (Heat treatment process)
By performing heat treatment (also referred to as baking treatment) on the pattern image (separation wall pattern) made of the photosensitive resin layer obtained by the development step, a separation wall excellent in water repellency and ink repellency can be obtained. it can.
In the heat treatment, the pattern image (separation wall pattern) formed by exposure and development is heated to be cured and the fluorine functional groups are arranged on the surface by heat. Can be exhibited more.

加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。   As a heat treatment method, various conventionally known methods can be used. That is, for example, a method of storing a plurality of substrates in a cassette and processing them with a convection oven, a method of processing one by one with a hot plate, a method of processing with an infrared heater, and the like.

また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度により適宜選択できるが、例えばベーク温度を２４０℃とした場合は１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。   Moreover, as baking temperature (heating temperature), it is 150-280 degreeC normally, Preferably it is 180-250 degreeC. The heating time can be appropriately selected depending on the baking temperature. For example, when the baking temperature is 240 ° C., 10 to 120 minutes is preferable, and 30 to 90 minutes is more preferable.

また、離画壁の形成方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。   Further, in the heat treatment step in the method for forming the separation wall, the separation wall pattern formed by the exposure and development steps can be prevented from uneven film loss, UV absorbers contained in the photosensitive resin layer, etc. From the viewpoint of preventing the deposition of these components, post-exposure may be performed before the heat treatment. When post-exposure is performed before the heat treatment, it is possible to effectively prevent the minute foreign matter swelled during lamination from causing defects.

ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²である。 Here, the post-exposure will be briefly described.
As the light source used for the post-exposure, any light source capable of irradiating light in a wavelength region capable of curing the photosensitive resin layer (for example, 365 nm, 405 nm) can be appropriately selected and used.
Specifically, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are mentioned.
The exposure may be an exposure to compensate for the exposure, is usually in the 50 to 5000 mJ / cm ^2, preferably not 200~2000mJ / cm ^2, more preferably a 500~1000mJ / cm ^2.

本発明の離画壁の形成方法によって作製できる離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましい。特に離隔壁としてカラーフィルタを構成するブラックマトリクスを形成するときには、遮光性を付与しより鮮明でくっきりとした多色画像を表示する観点から、光学濃度２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、感光性樹脂層は好ましくは光開始系にて硬化されるため、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、所望形状の離画壁を形成することができる。 The separation wall that can be produced by the method for forming a separation wall of the present invention preferably has a high optical density at 555 nm. In particular, when forming a black matrix constituting a color filter as a separating partition, an optical density of 2.5 or more is preferable from the viewpoint of providing a light shielding property and displaying a clearer and clearer multicolor image. 0.0 is more preferable, 2.5 to 6.0 is still more preferable, and 3.0 to 5.0 is particularly preferable.
Further, since the photosensitive resin layer is preferably cured by a photoinitiating system, the optical density with respect to the exposure wavelength (generally the ultraviolet region) is also important. That is, the value is preferably 2.0 to 10.0, more preferably 2.5 to 6.0, and particularly preferably 3.0 to 5.0. If it is in the preferred range, a separation wall having a desired shape can be formed.

また、離画壁の幅及び高さについては、幅（すなわちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）としては１５〜１００μｍが好ましく、高さ（すなわち基板法線方向における基板面から離画壁の頂点までの距離）としては１．０〜５．０μｍが好ましい。
離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。 As for the width and height of the separation wall, the width (that is, the interval between the pixels when the color filter is formed) is preferably 15 to 100 μm, and the height (that is, from the substrate surface in the substrate normal direction). The distance to the top of the image separation wall is preferably 1.0 to 5.0 μm.
As the shape of the separation wall, the shapes described in paragraph numbers [0054] to [0055] of JP-A-2006-154804 are also suitable in the present invention.

〜離画壁の接触角測定〜
加熱処理（ベーク処理）前後での離画壁（例えばブラックマトリクス）のインク接触角及び水接触角の変化が重要である。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法、具体的にはＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさのインク滴、水滴をつくり、針先からインク滴、水滴を出して、パターン状に形成された離隔壁上面に接触させてインク滴、水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴からインク滴、水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。また、ここでの「加熱処理後」とは、２４０℃で５０分間加熱した後、１時間室温にて放冷した後のことをさす。 -Measurement of contact angle of separation wall-
Changes in the ink contact angle and water contact angle of the separation wall (for example, black matrix) before and after the heat treatment (baking treatment) are important. The contact angle measurement method here is a method in accordance with the JIS standard by the Japan Standards Association, specifically, “6. Still-drop method” in JIS R3257 “Wetting test method for substrate glass surface”. The described method applies.
More specifically, using a contact angle measuring device (contact angle meter CA-A manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), ink droplets and water droplets having a size of 20 memories are produced, and ink droplets and water droplets are collected from the tip of the needle. The ink droplets and water droplets are formed by bringing them into contact with the upper surface of the partition wall formed in a pattern, and after standing for 10 seconds, the shapes of the ink droplets and water droplets are observed from the viewing hole of the contact angle meter. The contact angle θ is obtained. The term “after heat treatment” as used herein refers to after heating at 240 ° C. for 50 minutes and then allowing to cool at room temperature for 1 hour.

ここで、離隔壁の上面について図１を参照して説明する。
離画壁の上面とは、離画壁の表面のうち基板と接する面と反対側の露出面をいう（図１の上面４）。なお、離画壁の側面とは、離画壁の露出する表面のうち、離画壁の上面以外の表面をいう（図１の側面５）。また、基板上の凹部とは、離隔壁で取り囲まれ、離画壁側面と基板の離画壁が形成されていない基板面とからなる凹状領域をいう（図１の凹部３）。 Here, the upper surface of the separation wall will be described with reference to FIG.
The upper surface of the separation wall refers to the exposed surface on the opposite side of the surface of the separation wall that contacts the substrate (upper surface 4 in FIG. 1). The side surface of the separation wall refers to a surface other than the top surface of the separation wall among the exposed surfaces of the separation wall (side surface 5 in FIG. 1). Further, the concave portion on the substrate refers to a concave region that is surrounded by a separation wall and includes a separation wall side surface and a substrate surface on which the separation wall of the substrate is not formed (recess 3 in FIG. 1).

＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の離画壁の形成方法により形成された離隔壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（着色領域形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物を付与し、（好ましくは２色以上の）複数の着色領域（例えば、赤、緑、青、白、紫等の着色画素など）を形成するものである。 <Color filter and manufacturing method thereof>
The method for producing a color filter of the present invention uses a substrate having a separation wall formed by the method for forming a separation wall of the present invention, and a concave portion (area for forming a colored region) on the substrate partitioned by the separation wall. ) Is provided with a colored liquid composition (preferably of two or more colors) to form a plurality of colored regions (preferably of two or more colors) (for example, colored pixels of red, green, blue, white, purple, etc.) To do.

本発明のカラーフィルタの製造方法においては、既述の本発明の含フッ素化合物を用いた離隔壁（例えばブラックマトリクス）を有する基板上に着色液体組成物を付与し、着色領域を形成するので、インクの離隔壁上への乗り上げ等に伴なう混色が回避でき、離隔壁の剥がれや欠け欠陥等の発生も抑えられるので、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタを作製することができる。
本発明のカラーフィルタもまた、既述の本発明の含フッ素化合物を用いた離隔壁を備えるので、色ムラがなく色純度が高く、白抜け等の画像故障が抑制されており、鮮やかでくっきりとした表示特性を有する。 In the method for producing a color filter of the present invention, a colored liquid composition is applied on a substrate having a partition wall (for example, a black matrix) using the above-described fluorine-containing compound of the present invention to form a colored region. Color mixing due to ink running on the partition wall can be avoided, and separation of the partition wall and chipping defects can be suppressed, so image quality such as color mixing, color unevenness, and white spots is suppressed. A simple color filter can be produced.
The color filter of the present invention also includes a separation partition using the above-described fluorine-containing compound of the present invention, so that there is no color unevenness, high color purity, image defects such as white spots are suppressed, and vivid and clear. Display characteristics.

着色液体組成物を付与する方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スリットコート法やトライプギーサー法等の塗布法など、公知の方法を適宜用いることができる。ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。
本発明においては、特にインクジェット法を好適に用いることができる。 The method for applying the colored liquid composition is not particularly limited, and a known method such as an inkjet method, a coating method such as a slit coating method or a tripe gysar method can be appropriately used. The stripe Geyser coating method is a method in which droplets are applied onto a substrate using a Geyser with fine droplet ejection holes formed to form stripe-like pixels.
In the present invention, the ink jet method can be particularly preferably used.

〜インクジェット法〜
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。
インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。 ~ Inkjet method ~
As an ink jet method, a method in which charged ink is continuously ejected and controlled by an electric field, a method in which ink is ejected intermittently using a piezoelectric element, and a method in which ink is heated and ejected intermittently using its foaming Various methods can be employed.
The ink can be either oily or water-based. Further, the colorant contained in the ink can be used for both dyes and pigments, and the use of pigments is more preferable from the viewpoint of durability. In addition, a colored ink (for example, a colored resin composition described in paragraphs [0034] to [0063] of JP-A-2005-3861) used for application in the production of a known color filter, or JP-A-2004-2004 Known inks such as the color ink described in Japanese Patent No. 325736 and the ink described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-372613 can also be used.
In consideration of the steps after application, a component that is cured by heating or that is cured by energy rays such as ultraviolet rays can be added to the ink used in the ink jet method. Various thermosetting resins are widely used as components that are cured by heating, and examples of components that are cured by energy rays include those obtained by adding a photoinitiator to an acrylate derivative or a methacrylate derivative. In particular, in view of heat resistance, those having a plurality of acryloyl groups and methacryloyl groups in the molecule are more preferable. These acrylate derivatives and methacrylate derivatives are preferably water-soluble, and even those that are sparingly soluble in water can be used after being emulsified.
In this case, the photosensitive resin composition containing a colorant such as a pigment described in the above-described photosensitive resin composition can be preferably used.

本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により基板上に吐出して着色領域（例えば画素）が形成されたカラーフィルタである場合が好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクをインクジェット法により吐出して少なくとも３色の着色画素を有するカラーフィルタが好ましい。
カラーフィルタのパターン形状は、特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であってもよいし、格子状、デルタ配列状であってもよい。 The color filter of the present invention is preferably a color filter in which colored regions (for example, pixels) are formed by discharging droplets of a colored liquid composition onto a substrate by an inkjet method, and at least RGB three-color inks are inkjet method. A color filter having at least three colored pixels ejected by the above is preferable.
The pattern shape of the color filter is not particularly limited, and may be a stripe shape that is a general black matrix shape, a lattice shape, or a delta array shape.

作製されたカラーフィルタには、耐性向上のため、全面にオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、着色領域（例えばＲＧＢ画素）を保護すると共に、表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える観点からは設けないことが好ましい。   The produced color filter may be provided with an overcoat layer on the entire surface in order to improve resistance. The overcoat layer can protect the colored region (for example, RGB pixels) and flatten the surface. However, it is preferably not provided from the viewpoint of increasing the number of steps.

オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性に優れ、カラーフィルタを構成する硬化性組成物の樹脂成分が一般にアクリル系樹脂を主成分として含み、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品としてＪＳＲ社製の「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」が挙げられる。   Examples of the resin (OC agent) that forms the overcoat layer include an acrylic resin composition, an epoxy resin composition, and a polyimide resin composition. Among them, an acrylic resin composition is desirable because it is excellent in transparency in the visible light region, and the resin component of the curable composition constituting the color filter generally contains an acrylic resin as a main component and has excellent adhesion. Examples of the overcoat layer include those described in paragraphs [0018] to [0028] of JP-A No. 2003-287618, and “Optomer SS6699G” manufactured by JSR as a commercially available overcoat agent.

また、着色領域（例えばＲＧＢ画素）上には、必要に応じて、透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、ＩＴＯ膜が挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。   In addition, a transparent electrode, an alignment film, or the like may be provided on the colored region (for example, RGB pixel) as necessary. A specific example of the transparent electrode is an ITO film. A specific example of the alignment film is polyimide.

＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを設けて構成されたものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いることができる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。 <Display device>
The display device of the present invention is configured by providing the above-described color filter of the present invention.
The color filter obtained by the method for producing a color filter of the present invention can be used as a display element in combination with a liquid crystal display element, an electrophoretic display element, an electrochromic display element, PLZT, or the like. It can also be used for applications using color cameras and other color filters.

表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。   Examples of the display device include display devices such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, and a CRT display device. For the definition of display devices and explanation of each display device, refer to, for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, published by Kogyo Kenkyukai 1990)”, “Display Device (written by Junaki Ibuki, Industrial Books Co., Ltd.) Issued in the first year).

本発明のカラーフィルタを設けて構成される表示装置としては、液晶表示装置が好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。
本発明が適用できる液晶表示装置には特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門 ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。 A liquid crystal display device is preferable as the display device provided with the color filter of the present invention. The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Investigative Research Institute, Inc., 1994)”.
The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next-generation liquid crystal display technology”. Especially, it is effective for a color TFT type liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”. Furthermore, the present invention can also be applied to a liquid crystal display device with a wide viewing angle, such as a horizontal electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA. These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends-(issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)".

液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表 良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。   In addition to the color filter, the liquid crystal display device includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle compensation film. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members. For example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials / Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC Co., Ltd., 1994)”, “2003 Current Status and Future Prospects for Liquid Crystal Related Markets (Volume 2)” , Fuji Chimera Research Institute, Ltd., published in 2003).

用途としては、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。   As applications, it can be applied to applications such as televisions, personal computers, liquid crystal projectors, game machines, mobile terminals such as mobile phones, digital cameras, car navigation systems, and the like.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量を表し、また、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. The molecular weight represents a weight-average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC), and “part” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

（実施例１）
上記した本発明の含フッ素化合物である下記含フッ素化合物（１）〜（１０）を下記のように合成した。なお、ここで合成した例示化合物以外の他の本発明の含フッ素化合物についても類似の方法により合成することが可能である。 (Example 1)
The following fluorine-containing compounds (1) to (10), which are the above-described fluorine-containing compounds of the present invention, were synthesized as follows. In addition, it is possible to synthesize the fluorine-containing compound of the present invention other than the exemplified compound synthesized here by a similar method.

−含フッ素化合物（１）の合成−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕５０ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバス中で内温７０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ８０ｇにアクリル酸〔ＡＡ、東京化成工業（株）製〕５．０ｇと２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕５０ｇとポリヘキサノラクトンモノマー〔ＦＡ５、ダイセル化学工業（株）製、ポリヘキサノラクトンの繰り返し数５、エステル基数６〕４５．０ｇと２−エチルヘキシルメルカプトプロピオン酸〔ＥＨＭＰ、東京化成工業（株）製〕１．６９ｇとを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０ｇに２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔Ｖ６５、和光純薬工業（株）製〕０．６３２ｇを溶解させた溶液をそれぞれプランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間攪拌し、^１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。 -Synthesis of fluorine-containing compound (1)-
Under a nitrogen stream, 50 g of propylene glycol monomethyl ether acetate [MMPG-Ac, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.] is placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a condenser, and the internal temperature is 70 ° C. in a water bath containing paraffin. Until heated. Further, 80 g of MMPG-Ac, 5.0 g of acrylic acid [AA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.], 50 g of 2- (perfluorohexyl) -ethyl acrylate [FAAC6, manufactured by NOK Co., Ltd.], and polyhexanolactone Monomer [FA5, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., polyhexanolactone repeat number 5, ester group number 6] 45.0 g and 2-ethylhexyl mercaptopropionic acid [EHMP, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] 1.69 g A solution in which 0.62 g of 2,2′-azobis (isovaleronitrile) [V65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was dissolved in 20 g of MMPG-Ac and 2 g of MMPG-Ac for 2 hours with a plunger pump. It was dripped over. After completion of dropping, the mixture was stirred for 5 hours, and disappearance of the residual monomer was confirmed by ¹ H-NMR.

以上のようにして、２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６〕、アクリル酸〔ＡＡ〕、及びポリヘキサノラクトンモノマー〔ＦＡ５〕を共重合させて、ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ５＝５０／５／４５（質量比）の本発明の含フッ素化合物（１）を合成した。含フッ素化合物（１）の分子量は、１．６万であった。
また、モノマーが消失しており、フッ素原子数≧７のＦＡＡＣ６由来の構成単位を有し、かつ高分子量成分の生成から、エステル鎖を６つ持つ側鎖を有する含フッ素樹脂の合成を確認した。 As described above, 2- (perfluorohexyl) -ethyl acrylate [FAAC6], acrylic acid [AA], and polyhexanolactone monomer [FA5] are copolymerized, and FAAC6 / AA / FA5 = 50/5. / 45 (mass ratio) of the fluorine-containing compound (1) of the present invention was synthesized. The molecular weight of the fluorine-containing compound (1) was 16,000.
In addition, the synthesis of a fluorine-containing resin having a side chain having six ester chains was confirmed from the generation of a high molecular weight component having monomers disappeared, having a structural unit derived from FAAC6 having a fluorine atom number ≧ 7. .

−含フッ素化合物（２）〜（７）並びに（１０）の合成−
前記含フッ素化合物（１）の合成において、ＦＡＡＣ６、ＡＡ、及びＦＡ５の共重合比あるいは共重合成分（モノマー）を変更することにより、前記含フッ素化合物（１）の合成例に従って、本発明の含フッ素化合物（２）〜（７）並びに（１０）を合成した。
なお、それぞれの共重合成分及び組成比は、以下に示す通りである。いずれにおいても、モノマーが消失しており、フッ素原子数≧７の構成単位を有し、かつ高分子量成分の生成から、エステル鎖を３つ以上持つ側鎖を有する含フッ素樹脂の合成を確認した。
含フッ素化合物（２） ：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ５＝７０／５／２５（質量比）
含フッ素化合物（３） ：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ５＝３５／５／６０（質量比）
含フッ素化合物（４） ：ＦＡＭＡＣ６／ＭＡＡ／ＦＭ５＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（５） ：Ｒ１４２０／ＡＡ／ＦＡ５＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（６） ：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ３＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（７） ：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ１０＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（１０）：ＦＡＡＣ６／Ａ−ＳＡ／ＦＡ５＝５０／１０／４０（質量比） -Synthesis of fluorine-containing compounds (2) to (7) and (10)-
In the synthesis of the fluorine-containing compound (1), by changing the copolymerization ratio of FAAC6, AA, and FA5 or the copolymerization component (monomer), the inclusion of the present invention is carried out according to the synthesis example of the fluorine-containing compound (1). Fluorine compounds (2) to (7) and (10) were synthesized.
In addition, each copolymerization component and composition ratio are as showing below. In any case, the synthesis of a fluorine-containing resin having a side chain having three or more ester chains was confirmed from the generation of a high molecular weight component, in which the monomer had disappeared, the number of fluorine atoms was ≧ 7. .
Fluorine-containing compound (2): FAAC6 / AA / FA5 = 70/5/25 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (3): FAAC6 / AA / FA5 = 35/5/60 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (4): FAMAC6 / MAA / FM5 = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (5): R1420 / AA / FA5 = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (6): FAAC6 / AA / FA3 = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (7): FAAC6 / AA / FA10 = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (10): FAAC6 / A-SA / FA5 = 50/10/40 (mass ratio)

−含フッ素化合物（８）の合成−
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル化学工業（株）製〕１２．５ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバスで内温７０℃まで加熱した。これに更に、ＭＭＰＧ−Ａｃ２０ｇに２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕１３．３ｇとポリヘキサノラクトンモノマー〔ＦＡ５、ダイセル化学工業（株）製、ポリヘキサノラクトンの繰り返し数５、エステル基数６〕１１．８ｇと２−エチルヘキシルメルカプトプロピオン酸〔ＥＨＭＰ、東京化成工業（株）製〕０．３２ｇとを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ５ｇに２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔Ｖ６５、和光純薬工業（株）製〕０．１２ｇを溶解させた溶液をそれぞれプランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間攪拌し、^１Ｈ−ＮＭＲにより残存モノマーの消失を確認した。 -Synthesis of fluorine-containing compound (8)-
In a nitrogen stream, 12.5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate [MMPG-Ac, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.] is placed in a 300 ml three-necked flask equipped with a condenser, and the internal temperature is 70 in a water bath containing paraffin. Heated to ° C. Further, 20 g of MMPG-Ac, 13.3 g of 2- (perfluorohexyl) -ethyl acrylate [FAAC6, manufactured by NOK Co., Ltd.] and polyhexanolactone monomer [FA5, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., polyhexano Lactone repeat number 5, ester group number 6] 11.8 g and 2-ethylhexyl mercaptopropionic acid [EHMP, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] 0.32 g were dissolved in MMPG-Ac 5 g and 2,2 ′ -A solution in which 0.12 g of azobis (isovaleronitrile) [V65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was dissolved was dropped with a plunger pump over 2 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred for 5 hours, and disappearance of the residual monomer was confirmed by ¹ H-NMR.

以上のように、２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６〕及びポリヘキサノラクトンモノマー〔ＦＡ５〕を共重合させて、ＦＡＡＣ６／ＦＡ５＝５３／４７（質量比）の樹脂（Ａ）を合成した。樹脂（Ａ）の分子量は１．４万であった。得られた樹脂（Ａ）にコハク酸無水物〔和光純薬工業（株）製〕１．７ｇ、及びベンジルトリエチルアンモニウムブロミド〔和光純薬工業（株）製〕０．１ｇを加え、１１０℃にて１２時間加熱した。そして、ＮＭＲによりコハク酸無水物の消失、及び０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液による滴定により反応の終了を確認した。
以上のようにして、ＦＡＡＣ６／ＦＡ５（＝５３／４７[質量比]）共重合樹脂のコハク酸縮合物である本発明の含フッ素化合物（８）を合成した。含フッ素化合物（８）の分子量は、１．５万であった。含フッ素化合物（８）は、フッ素原子数≧７のＦＡＡＣ６由来の構成単位と、エステル鎖を６つ持つ側鎖と、酸性基を持つ構成単位とを有している。 As described above, 2- (perfluorohexyl) -ethyl acrylate [FAAC6] and polyhexanolactone monomer [FA5] are copolymerized to obtain a resin (A) of FAAC6 / FA5 = 53/47 (mass ratio). Synthesized. The molecular weight of the resin (A) was 14,000. 1.7 g of succinic anhydride [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] and 0.1 g of benzyltriethylammonium bromide [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] are added to the obtained resin (A), and For 12 hours. Then, the completion of the reaction was confirmed by NMR by disappearance of succinic anhydride and titration with a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution.
As described above, the fluorine-containing compound (8) of the present invention, which is a succinic acid condensate of FAAC6 / FA5 (= 53/47 [mass ratio]) copolymer resin, was synthesized. The molecular weight of the fluorine-containing compound (8) was 15,000. The fluorine-containing compound (8) has a structural unit derived from FAAC6 having the number of fluorine atoms ≧ 7, a side chain having six ester chains, and a structural unit having an acidic group.

−含フッ素化合物（９）の合成−
前記含フッ素化合物（８）の合成において、ＦＡ５をＦＡ３に変えると共に共重合比を変更することにより、前記含フッ素化合物（８）の合成例に従って、ＦＡＡＣ６／ＦＡ３（＝５５／４５[質量比]）共重合樹脂のコハク酸無水物付加物である本発明の含フッ素化合物（９）を合成した。含フッ素化合物（９）は、フッ素原子数≧７のＦＡＡＣ６由来の構成単位と、エステル鎖を３つ持つ側鎖と、酸性基を持つ構成単位とを有している。 -Synthesis of fluorine-containing compound (9)-
In the synthesis of the fluorine-containing compound (8), FAAC6 / FA3 (= 55/45 [mass ratio]) according to the synthesis example of the fluorine-containing compound (8) by changing FA5 to FA3 and changing the copolymerization ratio. ) A fluorinated compound (9) of the present invention which is a succinic anhydride adduct of a copolymer resin was synthesized. The fluorine-containing compound (9) has a structural unit derived from FAAC 6 having the number of fluorine atoms ≧ 7, a side chain having three ester chains, and a structural unit having an acidic group.

上記で合成した各含フッ素化合物の固形分濃度は、２５％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して調整した。
なお、前記含フッ素化合物を構成する各共重合成分（モノマー）の記号は下記の通りである。
〜含フッ素モノマー〜
・ＦＡＡＣ６：２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・ＦＡＭＡＣ６：２−（パーフルオロヘキシル）−エチルメタクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・Ｒ１４２０：２−（パーフルオロブチル）−エチルアクリレート〔ダイキン工業（株）製〕
〜カプロラクトンモノマー〜
・ＦＡ３：ヘキサノラクトンの繰返し数３、エステル基数４〔ダイセル化学工業（株）製〕
・ＦＡ５：ヘキサノラクトンの繰返し数５、エステル基数６〔ダイセル化学工業（株）製〕
・ＦＡ１０：ヘキサノラクトンの繰返し数１０、エステル基数１１〔ダイセル化学工業（株）製〕
・ＦＭ５：ヘキサノラクトンの繰返し数５、エステル基数６〔ダイセル化学工業（株）製〕
〜他のモノマー〜
・ＡＡ：アクリル酸〔東京化成工業（株）製〕
・ＭＡＡ：メタクリル酸〔東京化成工業（株）製〕
・Ａ−ＳＡ：２−アクリロイルオキシエチルコハク酸 The solid content concentration of each fluorine-containing compound synthesized above was adjusted by adding propylene glycol monomethyl ether acetate so as to be 25%.
In addition, the symbol of each copolymerization component (monomer) which comprises the said fluorine-containing compound is as follows.
~ Fluorine-containing monomer ~
FAAC6: 2- (perfluorohexyl) -ethyl acrylate [manufactured by NOK Corporation]
FAMAC6: 2- (perfluorohexyl) -ethyl methacrylate [manufactured by NOK Corporation]
R1420: 2- (perfluorobutyl) -ethyl acrylate [manufactured by Daikin Industries, Ltd.]
~ Caprolactone monomer ~
FA3: Hexanolactone repeat number 3 and ester group number 4 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
FA5: Hexanolactone repeat number 5 and ester group number 6 [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]
FA10: Hexanolactone repeat number 10 and ester group number 11 [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]
FM5: Hexanolactone repeat number 5 and ester group number 6 [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]
~ Other monomers ~
AA: acrylic acid [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
MAA: Methacrylic acid [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]
A-SA: 2-acryloyloxyethyl succinic acid

（実施例２）
−感光性樹脂組成物の調製−
まず、下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍにて１０分間攪拌し、次いで表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１、及び上記で得た含フッ素化合物（１）をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍにて３０分間攪拌することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
このとき、含フッ素化合物（１）の感光性樹脂組成物Ｋ１中における固形分質量に対する割合は５％であった。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。 (Example 2)
-Preparation of photosensitive resin composition-
First, K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 1 below are weighed, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 150 rpm for 10 minutes, and then listed in Table 1. Methyl ethyl ketone, binder 2, hydroquinone monomethyl ether, DPHA solution, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-bisethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl]- s-Triazine, surfactant 1, and fluorine-containing compound (1) obtained above are weighed out and added in this order at a temperature of 25 ° C. (± 2 ° C.) and adjusted to 150 rpm at a temperature of 40 ° C. (± 2 ° C.). The mixture was stirred for 30 minutes to prepare a photosensitive resin composition K1.
At this time, the ratio of the fluorine-containing compound (1) to the solid content mass in the photosensitive resin composition K1 was 5%. In addition, the quantity of Table 1 is a mass part, and has the following composition in detail.

＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） ・・・１３．１％
・下記分散剤１ ・・・ ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ・・・ ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・７９．５３％ <K pigment dispersion 1>
・ Carbon black (Nexex 35 manufactured by Degussa) ... 13.1%
・ The following dispersant 1 ... 0.65%
-Polymer (Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, molecular weight 37,000) ... 6.72%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate: 79.53%

＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合物、分子量３．８万） ・・・ ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ７３％ <Binder 2>
・ Random copolymer of polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid (= 78/22 [molar ratio]), molecular weight 38,000) 27%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 73%

＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ・・・ ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ２４％ <DPHA solution>
-Dipentaerythritol hexaacrylate (containing 500 ppm of polymerization inhibitor MEHQ, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA) 76%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 24%

＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ・・・ ３０％
・メチルエチルケトン ・・・ ７０％ <Surfactant 1>
・ The following structure 1 ・ ・ ・ 30%
・ Methyl ethyl ketone 70%

−離画壁の形成−
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
このガラス基板を冷却し２３℃に温調した後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た（感光性樹脂層形成工程）。
次に、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２でパターン露光した（露光工程）。 -Formation of separation wall-
The alkali-free glass substrate was cleaned with a UV cleaning apparatus, then brush-cleaned with a cleaning agent, and further ultrasonically cleaned with ultrapure water. The substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state.
After cooling this glass substrate and adjusting the temperature to 23 ° C., the photosensitive resin composition was coated with a glass substrate coater (manufactured by FS Asia Co., Ltd., trade name: MH-1600) having a slit-like nozzle. Material K1 was applied. Subsequently, a portion of the solvent was dried with a VCD (vacuum drying apparatus, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) for 30 seconds to eliminate the fluidity of the coating layer, and then pre-baked at 120 ° C. for 3 minutes to give a film thickness of 2.3 μm. Photosensitive resin composition layer K1 was obtained (photosensitive resin layer forming step).
Next, with a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, with the substrate and mask (quartz exposure mask having an image pattern) standing vertically, The distance between the photosensitive resin composition layers K1 was set to 200 μm, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 300 mJ / cm ² in a nitrogen atmosphere (exposure process).

次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た（現像工程）。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ^２にてポスト露光した。続いて、２４０℃で５０分間ポストベーク処理を行ない（加熱処理工程）、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。
なお、離画壁の基板密着性及び離隔壁の撥水・撥インク性については後述する。 Next, pure water is sprayed with a shower nozzle to uniformly wet the surface of the photosensitive resin composition layer K1, and then a KOH developer (KOH, containing a nonionic surfactant, product name: CDK-1). , Manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) was diluted 100 times, and shower development was performed at 23 ° C. for 80 seconds with a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to obtain a patterning image (development process). Subsequently, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultra-high pressure cleaning nozzle to remove the residue, and post-exposure was performed at an exposure amount of 2000 mJ / cm ^{2 in the} atmosphere. Subsequently, post-baking is performed at 240 ° C. for 50 minutes (heat treatment step), and striped separation walls having a film thickness of 2.0 μm, an optical density of 4.0, and a width of 100 μm (a substrate with a separation wall) )
The substrate adhesion of the separation wall and the water / ink repellency of the separation wall will be described later.

−カラーフィルタの作製−
（１）画素用着色インク組成物の調製
下記の組成のうち、まず顔料、高分子分散剤、及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〈赤色画素用着色インク組成物の組成〉
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４） ・・・ ５部
・ソルスパース２４０００（ＡＶＥＣＩＡ社製；高分子分散剤） ・・・ １部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（分子量：３．７万、バインダー） ・・・ ３部
・エピコート１５４（油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂、）・・・ ２部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（エポキシ樹脂） ・・・ ５部
・トリメリット酸（硬化剤） ・・・ ４部
・３−エトキシプロピオン酸エチル（溶剤） ・・・８０部 -Fabrication of color filter-
(1) Preparation of Colored Ink Composition for Pixel Among the following compositions, first, a pigment, a polymer dispersant, and a solvent were mixed, and a pigment dispersion was obtained using a three roll and bead mill. While sufficiently stirring the pigment dispersion with a dissolver or the like, other materials were added little by little to prepare a colored ink composition for red (R) pixels.
<Composition of colored ink composition for red pixel>
Pigment (CI Pigment Red 254) 5 parts Solsperse 24000 (manufactured by AVECIA; polymer dispersant) 1 part benzyl methacrylate / methacrylic acid (72/28 [molar ratio]) Random copolymer (molecular weight: 37,000, binder) 3 parts Epicote 154 (manufactured by Yuka Shell; novolak epoxy resin) 2 parts Neopentyl glycol diglycidyl ether (epoxy Resin) 5 parts Trimellitic acid (curing agent) 4 parts Ethyl 3-ethoxypropionate (solvent) 80 parts

さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。また、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。   Further, C.I. I. Pigment Red 254 instead of C.I. I. A green (G) pixel colored ink composition was prepared in the same manner as in the R pixel colored ink composition except that the same amount of Pigment Green 36 was used. In the above composition, C.I. I. Pigment Red 254 instead of C.I. I. A blue (B) pixel colored ink composition was prepared in the same manner as in the R pixel colored ink composition except that the same amount of Pigment Blue 15: 6 was used.

（２）着色画素の形成
次に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁で取り囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行ない、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターン（着色画素）からなるカラーフィルタを作製した。続いて、このカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分間ベークし、離画壁及び各画素がともに完全に硬化されたカラーフィルタ基板を得た。 (2) Formation of Colored Pixels Next, using the colored ink composition for each of the R, G, and B pixels, the region (separated by the separation wall of the substrate with the separation wall obtained above). The ink composition was discharged into the concave portion surrounded by the image wall using an ink jet recording apparatus until a desired density was obtained, and a color filter composed of R, G, and B patterns (colored pixels) was produced. . Subsequently, this color filter was baked in an oven at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a color filter substrate in which both the separation wall and each pixel were completely cured.

−カラーフィルタの混色評価−
得られたカラーフィルタ基板を下記のように評価した。評価結果は下記表２に示す。
カラーフィルタの画素が形成された側と反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察し、画素間の混色の有無を観察した。評価は、１０００画素を観察して下記ランクに分けて行なった。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。
・Ａランク：混色は全くなかった。
・Ｂランク：混色は１〜２箇所であった。
・Ｃランク：混色は３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：混色は１１箇所以上であった。 -Color mixing evaluation of color filters-
The obtained color filter substrate was evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 2 below.
Visual observation was performed with a 200 × optical microscope from the side opposite to the side where the pixels of the color filter were formed, and the presence or absence of color mixing between the pixels was observed. The evaluation was performed by observing 1000 pixels and dividing them into the following ranks. The allowable ranges are A rank and B rank.
-Rank A: There was no color mixing.
-B rank: The color mixture was 1-2 places.
-C rank: The color mixture was 3-10 places.
-D rank: The color mixture was 11 or more places.

−液晶表示装置の作製−
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ１２Ω／□であり、非常に低い値を示した。 -Production of liquid crystal display device-
A transparent electrode of ITO (Indium Tin Oxide) was further formed by sputtering on the R pixel, G pixel, B pixel and separation wall of the color filter substrate obtained above. When the resistance of this ITO was measured (sheet resistance was measured by a four-probe method using “Loresta” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), it was 12Ω / □, indicating a very low value.

−柱状スペーサパターンの形成−
スペーサパターン形成用の下記感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
〈感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１〉
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、分子量４００００；高分子物質） ・・・１０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ６４．７部
（重合性モノマー）
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン・・・ ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ・・・ ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製） ・・・ ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤） ・・・ ０．８５６部
・メチルエチルケトン ・・・３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・４７５部
・メタノール ・・・ １６．６部 -Formation of columnar spacer pattern-
The following photosensitive resin layer coating solution for forming a spacer pattern was applied onto the ITO of the color filter by a slit coater similar to the above, and dried to form a photosensitive resin layer SP1.
<Prescription SP1 of coating solution for photosensitive resin layer>
・ Methacrylic acid / allyl methacrylate copolymer (molar ratio = 20/80, molecular weight 40000; high molecular weight substance) 108 parts ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 64.7 parts (polymerizable monomer)
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-bisethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl] -s-triazine ... 6.24 parts hydroquinone monomethyl ether・ ・ ・ 0.0336 parts ・ Victoria Pure Blue BOHM (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) ・ ・ ・ 0.874 parts ・ Megafac F780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .; surfactant) ・ ・ ・ 0.856 Methyl ethyl ketone 328 parts 1-methoxy-2-propyl acetate 475 parts Methanol 16.6 parts

次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ^２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。 Next, proximity exposure was performed at 300 mJ / cm ² with an ultrahigh pressure mercury lamp through a predetermined photomask. After the exposure, the unexposed portion of the photosensitive resin layer was dissolved and removed using a KOH developer [CDK-1 (trade name) 100-fold diluted solution (pH = 11.8), manufactured by Fuji Film Co., Ltd.].
Subsequently, baking was performed at 230 ° C. for 30 minutes, and a columnar spacer pattern having a diameter of 16 μm and an average height of 3.7 μm was formed on a portion located on the upper part of the separation wall on the ITO film on the glass substrate. An alignment film made of polyimide was further provided thereon.

−液晶配向分割用突起の形成−
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１から中間層用塗布液を塗布し、乾燥膜厚１．６μｍの中間層を設けた。 -Formation of liquid crystal alignment split projections-
The following coating liquid for photosensitive resin layer for protrusions was applied onto the ITO of the color filter substrate by a slit coater similar to the above, and dried to form a photosensitive resin layer for protrusions. Next, an intermediate layer coating solution was applied from the following formulation P1 on the protrusion photosensitive resin layer to provide an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm.

〈突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａ〉
・ポジ型レジスト液 ・・・ ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン ・・・ ４６．７部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．０４部 <Prescription A of coating liquid for photosensitive resin layer for protrusion>
-Positive resist solution 53.3 parts (FH-2413F, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.)
-Methyl ethyl ketone-46.7 parts-Surfactant 1-0.04 parts

〈中間層用塗布液の処方Ｐ１〉
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、鹸化度＝８８％、重合度５５０） ・・・ ３２．２部
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・５２４部
・メタノール ・・・４２９部 <Prescription P1 of coating solution for intermediate layer>
・ PVA205 (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification = 88%, polymerization degree 550)... 32.2 parts ・ Polyvinylpyrrolidone ・ ・ ・ 14.9 parts (manufactured by IPS Japan Ltd., K) -30)
・ Distilled water: 524 parts ・ Methanol: 429 parts

次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ^２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成した。 Next, a proximity exposure machine is arranged so that the photomask is at a distance of 100 μm from the surface of the photosensitive resin layer for protrusions, and the proximity exposure is performed through the photomask with an irradiation energy of 150 mJ / cm ² by an ultrahigh pressure mercury lamp. did. Thereafter, a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was developed while spraying on the substrate at 33 ° C. for 30 seconds with a shower type developing device, and unnecessary portions (exposed portions) of the photosensitive resin layer for protrusion were developed and removed. . As a result, a protrusion made of a photosensitive resin layer patterned in a desired shape was formed on a portion of the color filter substrate on the ITO film located above the R, G, and B pixels. Next, the color filter substrate on which the protrusions were formed was baked at 240 ° C. for 50 minutes to form alignment dividing protrusions having a height of 1.5 μm and a vertical cross-sectional shape on the color filter substrate.

更に、得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。具体的には、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、このＴＦＴ基板及び上記より得たカラーフィルタ基板を、ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向分割用突起等が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサ分の間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入することにより画像表示を担う液晶層を設け、液晶セルを得た。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、これを液晶セルの偏光板が設けられた側と反対側（背面側）に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。   Further, an alignment-divided vertical alignment type liquid crystal display element was manufactured by combining the obtained color filter substrate with a driving side substrate and a liquid crystal material. Specifically, a TFT substrate on which TFTs and pixel electrodes (conductive layers) are arrayed is prepared as a driving side substrate, and the TFT substrate pixel electrode and the like are provided on the TFT substrate and the color filter substrate obtained from the above. The surface on the side and the surface on the side of the color filter substrate on which the alignment dividing projections and the like are formed are arranged to face each other, and are fixed with a gap corresponding to the spacer. A liquid crystal layer responsible for image display was provided by enclosing a liquid crystal material in the gap to obtain a liquid crystal cell. A polarizing plate HLC2-2518 manufactured by Sanlitz Co., Ltd. was attached to both surfaces of the liquid crystal cell thus obtained. Next, a backlight of a cold cathode tube was constructed, and this was disposed on the side (back side) opposite to the side where the polarizing plate of the liquid crystal cell was provided, thereby obtaining an alignment-divided vertical alignment type liquid crystal display device.

−評価−
（１）離画壁の撥水・撥インク性
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、前記Ｒ画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角θ^１を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順で水接触角θ^２を測定した。
ポストベーク後の値を撥水・撥インク性を評価する指標とし、下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
〈評価基準〉
・Ａランク：インク接触角≧５０°、水接触角≧１００°
・Ｂランク：インク接触角≧４０°、水接触角≧９０°
・Ｃランク：インク接触角≧３５°、水接触角≧８０°
・Ｄランク：インク接触角＜３５°、水接触角＜８０ -Evaluation-
(1) Water-repellent / ink-repellent property of separation wall The photosensitive resin composition layer K1 formed in the same manner as described above is exposed by the same method as described above except that a mask is not used, and then post-baked ( The operation up to the heat treatment step) was performed under the same conditions to obtain a photosensitive resin composition layer for testing. And after leaving this photosensitive resin composition layer for a test to cool at room temperature for 1 hour after the post-baking treatment, using a contact angle measuring device (contact angle meter CA-A manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) The colored ink composition for R pixel is taken out from the needle tip as a liquid sample (ink sample) having a size of 20 memories, and is brought into contact with the photosensitive resin composition layer for testing. A droplet (ink droplet) of a colored ink composition for an R pixel was formed on. Then, the shape of the ink droplet was observed from the viewing hole of the contact angle meter, and the ink contact angle θ ¹ of the ink droplet after standing for 10 seconds after landing at 25 ° C. was determined.
Further, the ink droplet whose contact angle was measured was changed to a water droplet, and the water contact angle θ ² was measured in the same procedure.
The value after post-baking was used as an index for evaluating water repellency and ink repellency, and evaluated according to the following evaluation criteria. The allowable ranges are A rank and B rank. The evaluation results are shown in Table 2 below.
<Evaluation criteria>
Rank A: ink contact angle ≧ 50 °, water contact angle ≧ 100 °
Rank B: Ink contact angle ≧ 40 °, water contact angle ≧ 90 °
C rank: ink contact angle ≧ 35 °, water contact angle ≧ 80 °
D rank: ink contact angle <35 °, water contact angle <80

（２）離画壁の基板密着性
上記「離画壁の形成」において同条件で露光工程までを終了したガラス基板３枚を用意し、現像時間を９０秒、１００秒、１１０秒と長くして処理を行なったこと以外は同様の現像条件にて現像処理し、それぞれの現像時間での離画壁の欠けの発生の有無を、１０００画素分目視により下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
〈評価基準〉
・Ａランク：離画壁欠けは全くなかった。
・Ｂランク：離画壁欠けは１〜２箇所であった。
・Ｃランク：離画壁欠けは３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：離画壁欠けは１１箇所以上であった。 (2) Substrate Adhesion of Separation Wall Prepare three glass substrates that have been subjected to the exposure process under the same conditions in “Formation of Separation Wall”, and increase the development time to 90 seconds, 100 seconds, and 110 seconds. Except for the above processing, development was performed under the same development conditions, and the presence or absence of chipping of the separation wall at each development time was evaluated according to the following evaluation criteria by visual observation for 1000 pixels. The allowable ranges are A rank and B rank. The evaluation results are shown in Table 2 below.
<Evaluation criteria>
-Rank A: No separation wall was missing.
-B rank: The image separation wall chip was 1-2 places.
-C rank: The image separation wall chip was 3-10 places.
-D rank: There were 11 or more image separation wall defects.

（３）液晶表示装置の表示ムラ
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
〈評価基準〉
・Ａランク：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
・Ｂランク：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
・Ｃランク：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
・Ｄランク：表示部にムラがみられた。 (3) Display unevenness of liquid crystal display device For the liquid crystal display device produced above, the gray display when a gray test signal is inputted is visually observed, and the presence or absence of display unevenness is evaluated according to the following evaluation criteria. did.
<Evaluation criteria>
A rank: There was no display unevenness and a very good display image was obtained.
Rank B: Although the edge of the glass substrate was slightly uneven, there was no effect on the display part and the display image was good.
-C rank: Although the display portion was slightly uneven, it was within a practically acceptable range.
-D rank: The display part was uneven.

（実施例３〜４）
実施例２において、含フッ素化合物（１）の含有量を５．０％から１．０％、０．１％にそれぞれ変更したこと以外、実施例２と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。 (Examples 3 to 4)
In the same manner as in Example 2 except that the content of the fluorine-containing compound (1) was changed from 5.0% to 1.0% and 0.1% in Example 2, the photosensitive resin composition K1 Were prepared, and a color filter and a liquid crystal display device were produced, and the same evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below.

（実施例５〜１３）
実施例３において、含フッ素化合物（１）を、上記より得た本発明の含フッ素化合物（２）〜（１０）〔本発明の含フッ素化合物〕に代えたこと以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。 (Examples 5 to 13)
Example 3 was the same as Example 3 except that the fluorine-containing compound (1) was replaced with the fluorine-containing compounds (2) to (10) of the present invention obtained above (the fluorine-containing compound of the present invention). Then, a photosensitive resin composition K1 was prepared to produce a color filter and a liquid crystal display device, and the same evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below.

（比較例１〜３）
実施例３において、含フッ素化合物（１）を、以下に示す比較用の含フッ素化合物（１１）〜（１３）に代えたこと以外、実施例３と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。 (Comparative Examples 1-3)
In Example 3, the photosensitive resin composition K1 was prepared in the same manner as in Example 3, except that the fluorine-containing compound (1) was replaced with the following fluorine-containing compounds (11) to (13) for comparison. A color filter and a liquid crystal display device were prepared, and the same evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below.

−比較用の含フッ素化合物（１１）〜（１３）の合成−
前記含フッ素化合物（１）において、ＦＡＡＣ６、ＡＡ、及びＦＡ５の共重合比あるいは共重合成分（モノマー）を変更することにより、前記含フッ素化合物（１）の合成例にしたがって、比較用の含フッ素化合物（１１）〜（１３）を合成した。それぞれの共重合成分及び組成比は、以下に示す通りである。
含フッ素化合物（１１）：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＦＡ１＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（１２）：ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＳｔＡ＝５０／５／４５（質量比）
含フッ素化合物（１３）：ＨＦＰ／ＡＡ／ＦＭ５＝５０／５／４５（質量比） -Synthesis of comparative fluorine-containing compounds (11) to (13)-
In the fluorine-containing compound (1), by changing the copolymerization ratio or copolymerization component (monomer) of FAAC6, AA, and FA5, the fluorine-containing compound for comparison according to the synthesis example of the fluorine-containing compound (1) Compounds (11) to (13) were synthesized. Each copolymerization component and composition ratio are as shown below.
Fluorine-containing compound (11): FAAC6 / AA / FA1 = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (12): FAAC6 / AA / StA = 50/5/45 (mass ratio)
Fluorine-containing compound (13): HFP / AA / FM5 = 50/5/45 (mass ratio)

比較用の含フッ素化合物を構成する各共重合成分（モノマー）の記号について説明する。なお、ＦＡＡＣ６、ＦＡ５、及びＦＭ５については既述の通りである。
〜含フッ素モノマー〜
・ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロパン〔アルドリッチ（株）製〕
〜カプロラクトンモノマー〜
・ＦＡ１：ヘキサノラクトンの繰返し数１、エステル基数２〔ダイセル化学工業（株）製〕
〜他のモノマー〜
・ＳｔＡ：ステアリルアクリレート〔東京化成工業（株）製〕 The symbols of the respective copolymerization components (monomers) constituting the comparative fluorine-containing compound will be described. FAAC6, FA5, and FM5 are as described above.
~ Fluorine-containing monomer ~
・ HFP: Hexafluoropropane [manufactured by Aldrich Co., Ltd.]
~ Caprolactone monomer ~
-FA1: Hexanolactone repeat number 1 and ester group number 2 [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]
~ Other monomers ~
StA: stearyl acrylate [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.]

前記表２に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
これに対し、比較例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に劣り、混色防止効果が不充分であり、また、基板密着性にも劣っていた。そのため、液晶表示装置では、表示ムラの発生のない画像表示が困難であった。 As shown in Table 2, in the examples, the water and ink repellency on the partition walls after the heat treatment was excellent, no color mixing occurred, and the substrate adhesion was good. In addition, the occurrence of display unevenness when a liquid crystal display device was produced and displayed was effectively suppressed, and an image having excellent display characteristics was obtained.
On the other hand, the comparative example was inferior in water and ink repellency on the partition wall after the heat treatment, had insufficient color mixing prevention effect, and inferior in substrate adhesion. For this reason, it has been difficult for the liquid crystal display device to display an image without display unevenness.

（実施例１４）
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という。）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、さらに純水シャワーにより洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。 (Example 14)
An alkali-free glass substrate (hereinafter, simply referred to as “glass substrate”) was washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds with a shower. Coupling solution (N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.3% aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower, and further washed with a pure water shower. did. After cleaning, the glass substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes by a substrate preheating device.

シランカップリング処理後のガラス基板に、下記の感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去して露出した感光性樹脂組成物層の表面を、該ガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネータ（ＬａｍｉｃII型、株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ^２でパターン露光した。 On the glass substrate after the silane coupling treatment, the surface of the photosensitive resin composition layer exposed by removing the cover film from the photosensitive transfer material K1 described below is superposed so as to be in contact with the surface of the glass substrate, and a laminator ( Using a Lamic II type (manufactured by Hitachi Industries, Ltd.), lamination was performed at a rubber roller temperature of 130 ° C., a linear pressure of 100 N / cm, and a conveyance speed of 2.2 m / min. Subsequently, the PET temporary support was peeled and removed at the interface with the thermoplastic resin layer. After peeling off the temporary support, the glass substrate and the mask (quartz exposure mask having an image pattern) are set up vertically using a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp. Then, the distance between the exposure mask surface and the photosensitive resin composition layer was set to 200 μm, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 70 mJ / cm ² .

次いで、ＫＯＨ現像液〔富士フイルム（株）製のＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）〕にて現像して、感光性樹脂組成物層の未露光部分及びその下の中間層、熱可塑性樹脂層を除去し、ガラス基板上にパターンを形成した。続いて、大気下アライナーにてガラス基板のパターン形成面側からガラス基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ^２でポスト露光し、２４０℃で５０分間ポストベークを行なった。以上により、光学濃度４．０の離画壁（ブラックマトリックス）を得た。 Subsequently, development was performed with a KOH developer (100-fold diluted solution (pH = 11.8) of CDK-1 (trade name) manufactured by FUJIFILM Corporation), and unexposed portions of the photosensitive resin composition layer and The underlying intermediate layer and the thermoplastic resin layer were removed, and a pattern was formed on the glass substrate. Subsequently, the entire surface of the glass substrate was post-exposed at 2000 mJ / cm ² from the pattern forming surface side of the glass substrate with an aligner in the atmosphere, and post-baked at 240 ° C. for 50 minutes. Thus, a separation wall (black matrix) having an optical density of 4.0 was obtained.

その後、実施例２と同様にして、カラーフィルタ、液晶表示装置を作製すると共に、実施例２と同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。   Thereafter, a color filter and a liquid crystal display device were produced in the same manner as in Example 2, and the same evaluation as in Example 2 was performed. The evaluation results are shown in Table 3 below.

＜感光性転写材料Ｋ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ仮支持体）上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、形成された熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層（酸素遮断膜）を積層した。更に、この中間層上に実施例２で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層Ｋ１を積層した。このとき、感光性樹脂組成物Ｋ１中における含フッ素化合物（１）の固形分質量に対する割合は５％である。
このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層とを積層し、さらに感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層Ｋ１とが一体となった感光性転写材料Ｋ１を作製した。 <Preparation of photosensitive transfer material K1>
On a polyethylene terephthalate film (PET temporary support) having a thickness of 75 μm, using a slit nozzle, a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried to form a thermoplastic resin layer. Next, on the formed thermoplastic resin layer, an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried to laminate an intermediate layer (oxygen barrier film). Further, on this intermediate layer, the photosensitive resin composition K1 prepared in Example 2 was applied and dried to laminate a black (K) photosensitive resin composition layer K1. At this time, the ratio with respect to solid content mass of the fluorine-containing compound (1) in the photosensitive resin composition K1 is 5%.
Thus, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a photosensitive resin having a dry film thickness of 2.3 μm on the PET temporary support. A temporary support / thermoplastic resin layer / intermediate layer / photosensitive resin composition is laminated by laminating the composition layer and further pressure-bonding a protective film (thickness 12 μm polypropylene film) to the surface of the photosensitive resin composition layer. A photosensitive transfer material K1 integrated with the layer K1 was produced.

<熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１>
・メタノール ・・・ １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ６．３６部
・メチルエチルケトン ・・・ ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ・・・ ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ・・・ １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製） ・・・ ９．１部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．５４部 <Prescription H1 of coating solution for thermoplastic resin layer>
Methanol: 11.1 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts Methyl ethyl ketone: 52.4 parts Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (co-polymer) Polymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.) 5.83 parts styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization) Composition ratio (molar ratio) = 63/37, average molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.) 13.6 parts · 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (Shin Nakamura) Chemical Industry Co., Ltd.) 9.1 parts / surfactant 1 0.54 parts

<中間層用塗布液の処方Ｐ１>
・ＰＶＡ２０５ ・・・ ３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ・・・ １４．９部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水 ・・・５２４部
・メタノール ・・・４２９部 <Prescription P1 of coating solution for intermediate layer>
-PVA205 ... 32.2 parts (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree = 88%, polymerization degree 550)
Polyvinylpyrrolidone: 14.9 parts (APS Japan, K-30)
・ Distilled water: 524 partsMethanol: 429 parts

（実施例１５）
実施例１４において、含フッ素化合物（１）を、上記より得た本発明の含フッ素化合物（８）〔本発明の含フッ素化合物〕に代えたこと以外、実施例１４と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ、液晶表示装置を作製した。また、実施例２と同様の評価を行ない、評価結果を下記表３に示す。 (Example 15)
In Example 14, photosensitivity was obtained in the same manner as in Example 14 except that the fluorine-containing compound (1) was replaced with the fluorine-containing compound (8) of the present invention obtained above (the fluorine-containing compound of the present invention). A resin composition K1 was prepared, a photosensitive transfer material K1 was produced, and a color filter and a liquid crystal display device were further produced. Further, the same evaluation as in Example 2 was performed, and the evaluation results are shown in Table 3 below.

前記表３に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
As shown in Table 3, in the examples, the water and ink repellency on the partition walls after the heat treatment was excellent, no color mixing occurred, and the substrate adhesion was good. In addition, the occurrence of display unevenness when a liquid crystal display device was produced and displayed was effectively suppressed, and an image having excellent display characteristics was obtained.

離画壁の上面、側面並びに基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。It is sectional drawing of the color filter for demonstrating the upper surface of the image separation wall, a side surface, and the recessed part on a board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

１…離画壁
２…着色画素（着色領域）
３…凹部
４…離画壁上面
５…離画壁側面
６…基板 1 ... Image separation wall 2 ... Colored pixels (colored areas)
3 ... Recess 4 ... Isolation wall upper surface 5 ... Isolation wall side surface 6 ... Substrate

Claims (14)

（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位と（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物。   (A) A fluorine-containing compound having a repeating unit having 7 or more fluorine atoms and (b) a repeating unit having 3 or more ester groups. 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位を側鎖に有することを特徴とする請求項１に記載の含フッ素化合物。   The fluorine-containing compound according to claim 1, wherein (b) a repeating unit having three or more ester groups is present in a side chain. （ｃ）酸性基を有する繰り返し単位を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の含フッ素化合物。   (C) The fluorine-containing compound according to claim 1 or 2, further comprising a repeating unit having an acidic group. 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位が酸性基を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の含フッ素化合物。   The fluorine-containing compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the repeating unit (b) having three or more ester groups contains an acidic group. 前記（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位がヘキサノラクトンの開環体であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の含フッ素化合物。   The fluorine-containing compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the repeating unit (b) having 3 or more ester groups is a ring-opened product of hexanolactone. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の含フッ素化合物を含有する樹脂組成物。   The resin composition containing the fluorine-containing compound of any one of Claims 1-5. 開始剤及びエチレン性不飽和化合物を更に含有し、感光性を有することを特徴とする請求項６に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 6, further comprising an initiator and an ethylenically unsaturated compound and having photosensitivity. 仮支持体上に、請求項７に記載の樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する感光性転写材料。   The photosensitive transfer material which has the photosensitive resin layer which uses the resin composition of Claim 7 on a temporary support body. 基板の少なくとも一方の面に、請求項７に記載の樹脂組成物又は請求項８に記載の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、
前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程と、
を有する離画壁の形成方法。 A photosensitive resin layer forming step of forming a photosensitive resin layer on at least one surface of the substrate using the resin composition according to claim 7 or the photosensitive transfer material according to claim 8;
An exposure step of exposing the photosensitive resin layer;
A development step of developing the exposed photosensitive resin layer;
A heat treatment step of heat-treating the pattern image obtained by the development;
A method for forming a separation wall. 請求項９に記載の離画壁の形成方法より形成された離画壁。   A separation wall formed by the method for forming a separation wall according to claim 9. 請求項１０に記載の離画壁により区画された基板上の凹部に着色液体組成物を付与して着色領域を形成するカラーフィルタの製造方法。   The manufacturing method of the color filter which provides a colored liquid composition to the recessed part on the board | substrate divided by the separation wall of Claim 10, and forms a colored area | region. 前記着色液体組成物の付与は、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して行なうことを特徴とする請求項１１に記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 11, wherein the application of the colored liquid composition is performed by discharging droplets of the colored liquid composition by an inkjet method. 請求項１１又は１２に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタ。   The color filter produced by the manufacturing method of the color filter of Claim 11 or 12. 請求項１３に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。   A display device comprising the color filter according to claim 13.

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