JP2008198561A

JP2008198561A - Organic electroluminescent device, manufacturing method of organic electroluminescent device, printer head, and image forming device

Info

Publication number: JP2008198561A
Application number: JP2007034750A
Authority: JP
Inventors: Tsukasa Ota; 司大田
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2007-02-15
Filing date: 2007-02-15
Publication date: 2008-08-28

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent device equipped with uniformity of brightness between light-emitting elements, a manufacturing method of the organic electroluminescent device, and a printer head and an image forming device superior in electric characteristics. <P>SOLUTION: In the organic EL device 10 equipped with the light-emitting element 2 having an organic layer 4 pinched between a pixel electrode 23 and a cathode 7 on a substrate 1, a pixel region 10 in which these light-emitting elements 2 are arranged in a plurality of numbers, and a common bank 8 to partition this pixel region 10, a liquid reservoir part 9 in which a forming material of the organic layer 4 is housed is formed between the common bank 8 and the pixel region 10. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置製造方法、プリンタヘッド及び画像形成装置に関するものである。 The present invention relates to an organic electroluminescence device, an organic electroluminescence device manufacturing method, a printer head, and an image forming apparatus.

近年、一対の電極間に該機能材料からなる機能層が挟持された構成の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置という）、特に機能材料として有機発光材料を用いた有機ＥＬ装置の開発が行われている。 In recent years, organic electroluminescent devices (hereinafter referred to as organic EL devices) having a structure in which a functional layer made of the functional material is sandwiched between a pair of electrodes, in particular, organic EL devices using organic light-emitting materials as functional materials have been developed. It has been broken.

このような機能材料のパターニング法として、有機蛍光材料等の機能材料をインク化し、該インクを基板上に吐出する液滴吐出法やディスペンサー法等により、機能材料のパターニングを行う方法が知られている（例えば、特許文献１〜６参照）。具体的には、複数のノズルを配列してなるノズル列を有する液滴吐出ヘッドを用い、この液滴吐出ヘッドを表面にバンク（隔壁）を形成した基板に対して走査しつつ、前記ノズルからバンクに囲まれた領域内にインクを吐出することにより、基板上に機能層を形成する方法が採用されている。このような方法は、マイクロオーダーの液滴を所定領域に配することが可能なため、材料の利用効率の点でスピンコート等の方法に比べて有効である。
特開２００５−１３９８６号公報特開２００４−１３０１６１号公報特開２００３−２１７８４２号公報特開２００１−１８９１９２号公報特開２００１−７６８７２号公報特開２０００−３２３２７６号公報 As such a functional material patterning method, there is known a method of patterning a functional material by a droplet discharge method, a dispenser method, or the like in which a functional material such as an organic fluorescent material is made into ink and the ink is discharged onto a substrate. (For example, see Patent Documents 1 to 6). Specifically, a droplet discharge head having a nozzle row in which a plurality of nozzles is arranged is used, and the droplet discharge head is scanned from the nozzle while scanning a substrate having a bank (partition) formed on the surface. A method of forming a functional layer on a substrate by ejecting ink into a region surrounded by a bank is employed. Such a method is more effective than spin coating or the like in terms of material utilization efficiency because micro-order droplets can be arranged in a predetermined region.
JP 2005-13986 A JP 2004-130161 A JP 2003-217842 A JP 2001-189192 A JP 2001-76872 A JP 2000-323276 A

しかしながら、上述のようなパターニング法を用いても、アスペクト比が例えば２以上の短冊形の基板に機能材料を塗布する場合、基板の長辺側から中央部に向かう乾燥速度と短辺側から中央部に向かう乾燥速度との間で乾燥速度の差が生じ、乾燥ムラが生じてしまうという問題がある。その結果、有機機能層の膜厚が不均一となり、発光時の発光ムラとして生じてしまうという問題がある。また、均一な発光が得られず、膜内での負荷の不均一により発光寿命が短くなるという問題が生じる。 However, even when the patterning method as described above is used, when a functional material is applied to a strip-shaped substrate having an aspect ratio of 2 or more, for example, the drying speed from the long side of the substrate toward the center and the center from the short side to the center There is a problem that a difference in drying speed occurs between the drying speed toward the part and drying unevenness occurs. As a result, the film thickness of the organic functional layer becomes non-uniform, and there is a problem that light emission unevenness occurs during light emission. Further, there is a problem that uniform light emission cannot be obtained and the light emission life is shortened due to non-uniform load in the film.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、発光素子間の輝度の均一性を具備した有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法の提供を目的とする。また、電気特性に優れた、プリンタヘッド及び画像形成装置の提供を目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an organic electroluminescence device having a uniform luminance between light emitting elements and a method for manufacturing the organic electroluminescence device. It is another object of the present invention to provide a printer head and an image forming apparatus with excellent electrical characteristics.

上記目的を達成するため、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板上に、一対の電極の間に挟持された有機機能層を有する発光素子と、この発光素子が複数配列されてなる画素領域と、この画素領域を区画するバンクとを備える有機エレクトロルミネッセンス装置において、前記バンクと前記画素領域との間に溝部が形成されていることを特徴とする。
また、前記溝部内に有機機能層の一部が配置されていることが望ましい。
また、前記溝部は前記画素領域の長手方向の周縁に沿って形成されていることが望ましい。
また、前記溝部は前記画素領域の長手方向の両端部に形成されていることが望ましい。
また、前記液溜まり部は前記共通バンクの内壁に沿って形成されていることが望ましい。
この構成によれば、画素領域上に形成される有機機能層の形成材料が溝部にも収容されることとなり、バンク内における画素領域の平面領域内で有機機能層の形成材料塗布時の膜厚が均一化される。これにより、有機機能層の乾燥速度が画素領域の平面領域内で一定となるため、有機機能層の膜厚が均一化される。したがって、画素領域内で均一な発光を得ることができる。また、発光が均一化される結果、画素領域内の有機機能層に局所的な電流負荷が掛かるのを防止することができる。 In order to achieve the above object, an organic electroluminescence device according to the present invention includes a light emitting element having an organic functional layer sandwiched between a pair of electrodes on a substrate, and a pixel region in which a plurality of the light emitting elements are arranged. And an organic electroluminescence device comprising a bank partitioning the pixel region, wherein a groove is formed between the bank and the pixel region.
Moreover, it is desirable that a part of the organic functional layer is disposed in the groove.
In addition, it is preferable that the groove is formed along a peripheral edge in the longitudinal direction of the pixel region.
Further, it is preferable that the groove is formed at both ends in the longitudinal direction of the pixel region.
The liquid reservoir is preferably formed along the inner wall of the common bank.
According to this configuration, the formation material of the organic functional layer formed on the pixel region is also accommodated in the groove portion, and the film thickness when the organic functional layer formation material is applied in the planar region of the pixel region in the bank. Is made uniform. As a result, the drying speed of the organic functional layer becomes constant within the plane region of the pixel region, and the film thickness of the organic functional layer is made uniform. Therefore, uniform light emission can be obtained within the pixel region. Further, as a result of the uniform emission, it is possible to prevent a local current load from being applied to the organic functional layer in the pixel region.

一方、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法によれば、基板上に、一対の電極の間に挟持された有機機能層を有する発光素子と、この発光素子が複数配列されてなる画素領域と、この画素領域を区画するバンクとを備える有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、前記画素領域を形成する工程は、基板上に第１の電極を形成する工程と、前記画素領域の形成領域を取り囲む前記バンクを形成する工程と、前記画素領域の形成領域と前記バンクとの間に溝部を形成する工程と、前記画素領域上に前記有機機能層を形成する工程とを有し、前記有機機能層の形成工程では、前記有機機能層の形成材料を液相プロセスにて前記溝部に充填しつつ形成することを特徴とする。
また、前記有機機能層の形成工程では、前記有機機能層の形成材料を前記バンクの長手方向の端部から長手方向に沿って充填していくことが望ましい。
この構成によれば、画素領域を区画するバンクが形成されているため、有機機能層の形成材料を所定位置に所定量を容易に塗布することができる。
また、有機機能層の形成材料が溝部にも収容されることとなり、バンク内における画素領域の平面領域内で有機機能層の形成材料の膜厚を均一に塗布することができる。これにより、有機層の乾燥速度が画素領域の平面領域内で一定となるため、有機機能層の膜厚が均一化される。したがって、画素領域内で均一な発光を得ることができる。また、発光が均一化される結果、画素領域内の有機機能層に局所的な電流負荷が掛かるのを防止することができる。 On the other hand, according to the method for manufacturing an organic electroluminescence device according to the present invention, a light emitting element having an organic functional layer sandwiched between a pair of electrodes on a substrate, and a pixel region in which a plurality of the light emitting elements are arranged. And a bank for partitioning the pixel region, wherein the step of forming the pixel region includes the step of forming a first electrode on a substrate, and the formation of the pixel region. Forming the bank surrounding the region, forming a groove between the pixel region forming region and the bank, and forming the organic functional layer on the pixel region, In the step of forming the organic functional layer, the organic functional layer forming material is formed while filling the groove by a liquid phase process.
In the organic functional layer forming step, it is desirable that the material for forming the organic functional layer is filled from the end in the longitudinal direction of the bank along the longitudinal direction.
According to this configuration, since the bank for partitioning the pixel region is formed, a predetermined amount of the organic functional layer forming material can be easily applied to a predetermined position.
In addition, since the organic functional layer forming material is also accommodated in the groove portion, the film thickness of the organic functional layer forming material can be uniformly applied in the plane region of the pixel region in the bank. As a result, the drying speed of the organic layer becomes constant within the plane region of the pixel region, and the film thickness of the organic functional layer is made uniform. Therefore, uniform light emission can be obtained within the pixel region. Further, as a result of the uniform emission, it is possible to prevent a local current load from being applied to the organic functional layer in the pixel region.

また、前記有機機能層の形成材料は、水系インク及び有機系インクからなることが望ましい。
また、前記水系インクは、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを含むことが望ましい。
また、前記有機系インクは、共役系高分子を溶かし込んだ有機溶媒からなることが望ましい。
この構成によれば、良好な発光光を得ることができる。 The material for forming the organic functional layer is preferably composed of water-based ink and organic ink.
The aqueous ink preferably contains PEDOT: PSS.
The organic ink is preferably made of an organic solvent in which a conjugated polymer is dissolved.
According to this configuration, good emission light can be obtained.

また、前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をジェットディスペンサー法により充填することが望ましい。
また、前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をディスペンサー法により充填することが望ましい。
また、前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をインクジェット法により充填することが望ましい。
この構成によれば、有機機能層の形成材料をバンク内の所定領域に確実に配することができる。 In the organic functional layer forming step, the organic functional layer forming material is preferably filled by a jet dispenser method.
In the organic functional layer forming step, the organic functional layer forming material is preferably filled by a dispenser method.
In the organic functional layer forming step, the organic functional layer forming material is preferably filled by an ink jet method.
According to this configuration, the material for forming the organic functional layer can be reliably disposed in a predetermined region in the bank.

一方、本発明に係るプリンタヘッドは、上記有機エレクトロルミネッセンス装置からなることを特徴とする。
また、本発明に係る画像形成装置は、上記プリンタヘッドを備えたことを特徴とする。この構成によれば、上記有機エレクトロルミネッセンス装置をプリンタヘッドに適用することで、均一な発光が得られるとともに、長寿命化されているため、電気的特性に優れた画像形成装置を提供することができる。 On the other hand, a printer head according to the present invention comprises the above organic electroluminescence device.
An image forming apparatus according to the present invention includes the printer head. According to this configuration, by applying the organic electroluminescence device to the printer head, uniform light emission can be obtained and the lifetime can be extended, so that an image forming apparatus having excellent electrical characteristics can be provided. it can.

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、この実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows a part of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in each figure shown below, in order to make each layer and each member the size which can be recognized on drawing, the scale is varied for each layer and each member.

（有機ＥＬ装置の第１実施形態）
まず、本実施形態の有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミセッセンス装置）の配線構造を説明する。図１は、有機ＥＬ装置の等価回路図である。
図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対し交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有している。発光素子領域Ａは、走査線１０１と信号線１０２とに囲まれる領域に対応している。 (First embodiment of organic EL device)
First, the wiring structure of the organic EL device (organic electroluminescence device) of this embodiment will be described. FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an organic EL device.
As shown in FIG. 1, the organic EL device 100 according to the present embodiment includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction intersecting the scanning lines 101, and a plurality of signal lines 102 extending in parallel. Each power supply line 103 is wired. The light emitting element region A corresponds to a region surrounded by the scanning lines 101 and the signal lines 102.

信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。発光素子領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲートに供給されるスイッチング用薄膜トランジスタ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下ＴＦＴという。）１１２と、スイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲートに供給される駆動用ＴＦＴ１１３と、駆動用ＴＦＴ１１３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極（一対の電極）２３と、この画素電極２３と陰極（一対の電極）７との間に挟み込まれた有機層４（有機機能層）とが設けられている。画素電極２３と陰極７と有機層４により構成される素子が発光素子２である。 Connected to the signal line 102 is a data side driving circuit 104 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch. Further, a scanning side driving circuit 105 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101. Each of the light emitting element regions A is supplied from a switching thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) 112 to which a scanning signal is supplied to the gate through the scanning line 101 and from the signal line 102 through the switching TFT 112. A storage capacitor cap that holds the pixel signal to be stored, a driving TFT 113 to which the pixel signal held by the storage capacitor cap is supplied to the gate, and the power supply line 103 via the driving TFT 113 A pixel electrode (a pair of electrodes) 23 into which a drive current flows from the power line 103 and an organic layer 4 (an organic functional layer) sandwiched between the pixel electrode 23 and the cathode (a pair of electrodes) 7 are provided. Yes. The element constituted by the pixel electrode 23, the cathode 7 and the organic layer 4 is the light emitting element 2.

上記回路構成において、走査線１０１から供給される駆動信号によりスイッチング用ＴＦＴ１１２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、この保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１１３のオン・オフ状態が制御される。そして、駆動用ＴＦＴ１１３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極２３に電圧が印加され、陰極７との間に電流が流れる。有機層４は、この電流量に応じて発光する。 In the above circuit configuration, when the switching TFT 112 is turned on by the drive signal supplied from the scanning line 101, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor cap, and driving is performed according to the state of the holding capacitor cap. The on / off state of the TFT 113 is controlled. A voltage is applied from the power supply line 103 to the pixel electrode 23 via the channel of the driving TFT 113, and a current flows between the cathode 7. The organic layer 4 emits light according to this amount of current.

次に、本実施形態の有機ＥＬ装置１００の具体的な態様を説明する。図２は第１実施形態に係る有機ＥＬ装置を示す平面図であり、図３は、図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。なお、図２においては、説明を分かり易くするため、後述する有機層及び陰極は省略する。 Next, a specific aspect of the organic EL device 100 of the present embodiment will be described. FIG. 2 is a plan view showing the organic EL device according to the first embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 2, an organic layer and a cathode described later are omitted for easy understanding.

図２に示すように、有機ＥＬ装置１００は、アスペクト比が２以上の長細い矩形の基板１と、基板１上に設けられた複数の発光素子２と、これら複数の発光素子２を１つの画素領域１０として取り囲む共通バンク８とを備えている。 As shown in FIG. 2, the organic EL device 100 includes a long and thin rectangular substrate 1 with an aspect ratio of 2 or more, a plurality of light emitting elements 2 provided on the substrate 1, and the plurality of light emitting elements 2 as one. A common bank 8 surrounding the pixel region 10 is provided.

図３に示すように、有機ＥＬ装置１００は、発光素子２からの発光を基板１側から装置外部に取り出す形態、いわゆるボトムエミッション型であり、有機層４で射出した光を画素電極２３側から取り出すものである。そのため、基板１としては、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、本実施形態では、ガラス基板が用いられるものとする。 As shown in FIG. 3, the organic EL device 100 is a so-called bottom emission type in which the light emitted from the light emitting element 2 is extracted from the substrate 1 side to the outside of the device, and the light emitted from the organic layer 4 is emitted from the pixel electrode 23 side. It is something to take out. Therefore, a transparent or translucent substrate is used as the substrate 1. For example, glass, quartz, resin (plastic, plastic film), and the like can be cited. In this embodiment, a glass substrate is used.

また、有機層４で射出した光を陰極７側から取り出す、いわゆるトップエミッション型である場合には、この基板１の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。 Further, in the case of a so-called top emission type in which light emitted from the organic layer 4 is extracted from the cathode 7 side, the emitted light is extracted from the sealing substrate side that is the opposite side of the substrate 1. Either an opaque substrate or an opaque substrate can be used. Examples of the opaque substrate include a thermosetting resin and a thermoplastic resin in addition to a ceramic sheet such as alumina and a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation.

基板１上には、画素電極２３に接続される前述した駆動用ＴＦＴ１１３などを含む各種配線が形成されており、この各種配線が形成された基板１上に、窒化珪素等からなる無機絶縁層１４が被覆されている。 Various wirings including the above-described driving TFT 113 connected to the pixel electrode 23 are formed on the substrate 1, and the inorganic insulating layer 14 made of silicon nitride or the like is formed on the substrate 1 on which the various wirings are formed. Is covered.

無機絶縁層１４上の発光素子２の形成領域には、画素電極２３が形成されている。画素電極２３は、印加された電圧によって正孔を正孔輸送層５に注入するものであり、ボトムエミッション型である本実施形態では、例えば、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）などの透明導電膜により形成されている。また、前述した無機絶縁層１４には、コンタクトホール（不図示）が形成されており、画素電極２３は、このコンタクトホールにより駆動用ＴＦＴ１１３等の各種配線に接続されている。 A pixel electrode 23 is formed in the formation region of the light emitting element 2 on the inorganic insulating layer 14. The pixel electrode 23 injects holes into the hole transport layer 5 by an applied voltage. In the present embodiment which is a bottom emission type, for example, ITO (Indium Tin Oxide) or the like is used. It is formed of a transparent conductive film. In addition, a contact hole (not shown) is formed in the inorganic insulating layer 14 described above, and the pixel electrode 23 is connected to various wirings such as the driving TFT 113 through the contact hole.

また、画素電極２３には、画素領域１０の長手方向端部において、コンタクト部２１が形成されている（図２参照）。このコンタクト部２１には、各発光素子２に接続された前述した走査線１０１と信号線１０２とが延設されている。走査線１０１と信号線１０２とは、共通バンク８まで延設され、その先端部で走査側駆動回路１０５とデータ側駆動回路１０４に各々接続されている。 Further, the pixel electrode 23 is formed with a contact portion 21 at an end portion in the longitudinal direction of the pixel region 10 (see FIG. 2). In the contact portion 21, the above-described scanning line 101 and signal line 102 connected to each light emitting element 2 are extended. The scanning line 101 and the signal line 102 extend to the common bank 8 and are connected to the scanning side driving circuit 105 and the data side driving circuit 104 at their leading ends.

図３に示すように、基板１及び画素電極２３上には、無機バンク２０が形成されている。この無機バンク２０は、画素電極２３上に開口部２０ａを有し、複数の発光素子２を独立させて区分するものである。この無機バンク２０を形成する材料として、二酸化珪素等の絶縁性を有する無機物で形成されている。なお、無機バンク２０を形成する材料として、無機物と有機物とを組み合わせたものであってもよい。 As shown in FIG. 3, the inorganic bank 20 is formed on the substrate 1 and the pixel electrode 23. The inorganic bank 20 has an opening 20a on the pixel electrode 23, and separates the plurality of light emitting elements 2 independently. As a material for forming the inorganic bank 20, the inorganic bank 20 is formed of an insulating inorganic material such as silicon dioxide. In addition, as a material for forming the inorganic bank 20, a combination of an inorganic substance and an organic substance may be used.

共通バンク８は、複数の発光素子２が配列された画素領域１０を区画するものであって、画素領域１０を取り囲むように設けられている。本実施形態においては、共通バンク８内は平面視長円形状に設定されている（図２参照）。共通バンク８を形成する材料としては、例えばポリイミド、アクリル等の絶縁性を有する有機物を用いることができる。共通バンク８の厚さ（高さ）は、１μｍ〜４μｍの範囲で形成可能であり、特に２μｍ程度がよい。厚さが１μｍ未満では、正孔輸送層５及び発光層６の合計厚より共通バンク８が薄くなり、塗布時に共通バンク８外に溢れてしまい、有機層４を共通バンク８内に正確に形成できなくなるおそれがある。一方、厚さが４μｍを超えると、陰極７のステップカバレッジを確保できなくなるおそれがある。また、共通バンク８の長手方向の長さは、１０ｍｍ〜１０００ｍｍの範囲で形成可能であり、特に３５０ｍｍ程度が好ましい。バンクの短手方向の長さ（幅）は、０．３ｍｍ〜２ｍｍの範囲で形成可能であり、特に０．５ｍｍ程度が好ましい。 The common bank 8 partitions the pixel region 10 in which the plurality of light emitting elements 2 are arranged, and is provided so as to surround the pixel region 10. In the present embodiment, the common bank 8 is set in an oval shape in plan view (see FIG. 2). As a material for forming the common bank 8, for example, an insulating organic material such as polyimide or acrylic can be used. The thickness (height) of the common bank 8 can be formed in the range of 1 μm to 4 μm, and preferably about 2 μm. If the thickness is less than 1 μm, the common bank 8 becomes thinner than the total thickness of the hole transport layer 5 and the light emitting layer 6 and overflows outside the common bank 8 during coating, so that the organic layer 4 is accurately formed in the common bank 8. There is a risk that it will not be possible. On the other hand, if the thickness exceeds 4 μm, the step coverage of the cathode 7 may not be ensured. Further, the length of the common bank 8 in the longitudinal direction can be formed in the range of 10 mm to 1000 mm, and particularly preferably about 350 mm. The length (width) in the short direction of the bank can be formed in the range of 0.3 mm to 2 mm, and about 0.5 mm is particularly preferable.

ここで、共通バンク８と、画素領域１０との間には、液溜まり部９（溝部）が形成されている。この液溜まり部９は、共通バンク８の内壁８ａに沿って形成された溝であり、画素領域１０のコンタクト部２１を除く、共通バンク８の内縁に亘って形成されている。液溜まり部９は、有機層４の形成時に、その形成材料の一部を受け入れるものである。 Here, a liquid reservoir 9 (groove) is formed between the common bank 8 and the pixel region 10. The liquid reservoir 9 is a groove formed along the inner wall 8 a of the common bank 8, and is formed across the inner edge of the common bank 8 excluding the contact portion 21 in the pixel region 10. The liquid reservoir 9 receives a part of the forming material when the organic layer 4 is formed.

液溜まり部９の深さは、無機バンク２０の上面から５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で形成することが可能であり、無機バンク２０を貫通して、無機絶縁層１４内が露出する位置まで形成され、特に２００ｎｍ程度が好ましい。また、液溜まり部９の長手方向の端部の長さ（幅）は、０．３ｍｍ〜１０ｍｍの範囲で形成可能であり、特に１ｍｍ程度が好ましい。液溜まり部９の短手方向の端部の長さ（幅）は、１０μｍ〜２５０μｍの範囲で形成可能であり、特に５０μｍ程度が好ましい。 The depth of the liquid reservoir 9 can be formed in the range of 50 nm to 500 nm from the upper surface of the inorganic bank 20, is formed to a position that penetrates the inorganic bank 20 and exposes the inside of the inorganic insulating layer 14. In particular, about 200 nm is preferable. Further, the length (width) of the end portion in the longitudinal direction of the liquid reservoir portion 9 can be formed in the range of 0.3 mm to 10 mm, and particularly preferably about 1 mm. The length (width) of the end portion in the short direction of the liquid reservoir 9 can be formed in the range of 10 μm to 250 μm, and particularly preferably about 50 μm.

無機バンク２０上には、有機層４を備えている。有機層４は、正孔輸送層５と発光層６とを備えている。正孔輸送層５は、画素電極２３の正孔を発光層６に輸送・注入するためのものである。この正孔輸送層５は、無機バンク２０の開口部２０ａ内に位置して画素電極２３上に形成されるとともに、その一部が画素領域１０を取り囲む液溜まり部９を埋めるようにして形成されている。正孔輸送層５の形成する材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の水分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層５の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。 An organic layer 4 is provided on the inorganic bank 20. The organic layer 4 includes a hole transport layer 5 and a light emitting layer 6. The hole transport layer 5 is for transporting and injecting holes of the pixel electrode 23 to the light emitting layer 6. The hole transport layer 5 is formed on the pixel electrode 23 so as to be located in the opening 20 a of the inorganic bank 20, and a part of the hole transport layer 5 is formed so as to fill the liquid reservoir 9 surrounding the pixel region 10. ing. As a material for forming the hole transport layer 5, an aqueous dispersion of 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is particularly preferably used.
In addition, as a forming material of the positive hole transport layer 5, various things can be used, without being limited to the said thing. For example, a material obtained by dispersing polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene or a derivative thereof in an appropriate dispersion medium such as the aforementioned polystyrene sulfonic acid can be used.

発光層６は、画素電極２３から正孔輸送層５を経て注入された正孔と、陰極７から注入された電子とを結合して蛍光を発生させるものである。この発光層６は、前述した正孔輸送層５と同様に、その一部が画素領域１０を取り囲む液溜まり部９を埋めるようにして形成されている。つまり、液溜まり部９内にも有機層４が配置されることとなる。発光層６を形成する材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の有機系発光材料を用いることができる。
具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。 The light emitting layer 6 generates fluorescence by combining holes injected from the pixel electrode 23 through the hole transport layer 5 and electrons injected from the cathode 7. Similar to the hole transport layer 5 described above, the light emitting layer 6 is formed so that a part thereof fills the liquid reservoir 9 surrounding the pixel region 10. That is, the organic layer 4 is also disposed in the liquid reservoir 9. As a material for forming the light emitting layer 6, a known organic light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence can be used.
Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used. In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.

なお、発光層６と陰極７との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層は、発光層６に電子を注入する役割を果たすものである。電子輸送層を形成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体などを用いることができる。 An electron transport layer may be provided between the light emitting layer 6 and the cathode 7. The electron transport layer serves to inject electrons into the light emitting layer 6. Materials for forming the electron transport layer include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane and its derivatives, benzoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane and its derivatives, fluorenone derivatives , Diphenyldicyanoethylene and derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, metal complexes of 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof, and the like can be used.

陰極７は、発光層６を覆うように形成されたもので、発光層６へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）又はカルシウム（Ｃａ）等の金属材料から形成されている。この陰極７上には、図示しないシール層（接着剤層）を介して封止基板が貼着される。 The cathode 7 is formed so as to cover the light emitting layer 6, and is a metal having a low work function that can efficiently inject electrons into the light emitting layer 6, such as aluminum (Al), magnesium (Mg), gold ( Au), silver (Ag), or calcium (Ca). On this cathode 7, a sealing substrate is stuck via a seal layer (adhesive layer) (not shown).

このような構成のもとに有機ＥＬ装置１００は、データ側駆動回路１０４より発光素子２に駆動信号が供給されると、画素電極２３と陰極７との間に電流が流れ、正孔輸送層５から注入された正孔と陰極７からの電子とが発光層６で結合することにより、発光をするようになっている。 In the organic EL device 100 having such a configuration, when a drive signal is supplied from the data side drive circuit 104 to the light emitting element 2, a current flows between the pixel electrode 23 and the cathode 7, and a hole transport layer is formed. The holes injected from 5 and the electrons from the cathode 7 are combined in the light emitting layer 6 to emit light.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、図４〜６を参照して本実施形態における有機ＥＬ装置の製造方法を説明する。ここで、図４，５は、有機ＥＬ装置の工程図であり、図３に相当する部分を示している。図６は、有機層の形成工程を示す工程図であり、図２に相当する部分を示している。なお、以下の説明においては、画素電極２３を形成する工程までは従来と同様であるため説明を省略する。 (Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing an organic EL device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. Here, FIGS. 4 and 5 are process diagrams of the organic EL device, and show portions corresponding to FIG. FIG. 6 is a process diagram showing a process of forming an organic layer, and shows a portion corresponding to FIG. In the following description, the process up to the step of forming the pixel electrode 23 is the same as in the prior art, and thus the description thereof is omitted.

まず、図４（ａ）に示すように、基板１上及びパターニングされた画素電極２３上に無機バンク２０を形成する。具体的には、ＥＣＲスパッタ法やイオンプレーティング法、真空蒸着法等の高密度プラズマ成膜法により成膜する。
無機バンク２０の形成材料を成膜後、レジストマスクを介してエッチングを行い、画素電極２３上に開口部２０ａを形成する。 First, as shown in FIG. 4A, the inorganic bank 20 is formed on the substrate 1 and the patterned pixel electrode 23. Specifically, the film is formed by a high-density plasma film forming method such as an ECR sputtering method, an ion plating method, or a vacuum evaporation method.
After forming the material for forming the inorganic bank 20, etching is performed through a resist mask to form an opening 20 a on the pixel electrode 23.

次に、図４（ｂ）に示すように、共通バンク８を形成する。具体的には、無機バンク２０の形成材料が成膜された基板１上に、スピンコート法やインクジェット法、ジェットディスペンサー法、ニードルディスペンサー法等により共通バンク８の形成材料を塗布する。そして、図４（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィ技術を利用して、露光、現像することにより、画素領域１０を取り囲むように共通バンク８の形成材料をパターニングする。 Next, as shown in FIG. 4B, the common bank 8 is formed. Specifically, the material for forming the common bank 8 is applied to the substrate 1 on which the material for forming the inorganic bank 20 is formed by a spin coating method, an ink jet method, a jet dispenser method, a needle dispenser method, or the like. Then, as shown in FIG. 4C, the formation material of the common bank 8 is patterned so as to surround the pixel region 10 by exposing and developing using a photolithography technique.

続いて、図４（ｄ）に示すように、画素領域１０と共通バンク８との間に液溜まり部９を形成する。具体的には、レジストマスクを介して液溜まり部９の形成領域の無機バンク２０及び無機絶縁層１４のエッチングを行う。無機バンク２０及び無機絶縁層１４は、二酸化珪素等からなる絶縁膜であるので、上記プラズマエッチングには、４フッ化炭素（テトラフルオロカーボン）等のフルオロカーボンガスを用いたエッチング処理を好適に用いることができる。
なお、前述した無機バンク２０の形成工程で開口部２０ａのエッチングを行わず、液溜まり部９の形成工程において、液溜まり部９と無機バンク２０の開口部２０ａとを同時にエッチングしてもよい。 Subsequently, as shown in FIG. 4D, a liquid pool portion 9 is formed between the pixel region 10 and the common bank 8. Specifically, the inorganic bank 20 and the inorganic insulating layer 14 in the formation region of the liquid reservoir 9 are etched through a resist mask. Since the inorganic bank 20 and the inorganic insulating layer 14 are insulating films made of silicon dioxide or the like, an etching process using a fluorocarbon gas such as carbon tetrafluoride (tetrafluorocarbon) is preferably used for the plasma etching. it can.
The opening 20a may not be etched in the formation process of the inorganic bank 20 described above, and the liquid pool 9 and the opening 20a of the inorganic bank 20 may be simultaneously etched in the formation process of the liquid pool 9.

なお、有機ＥＬ装置１００を、親液性を示す領域と、撥液性を示す領域とに区画形成してもよい。具体的には、親液性を示す領域は、画素電極２３の表面、無機バンク２０、液溜まり部９であり、これらの領域に、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって表面に親液性を付与する。また、撥液性を示す領域は、共通バンク８の上面であり、例えば４フッ化メタン（テトラフルオロメタン）を処理ガスとするプラズマ処理によって表面に撥液性を付与してもよい。また、共通バンク８を含フッ素系の樹脂材料により形成した場合は撥液性付与のためのプラズマ処理は不要である。 Note that the organic EL device 100 may be partitioned into a region showing lyophilicity and a region showing liquid repellency. Specifically, the regions showing lyophilicity are the surface of the pixel electrode 23, the inorganic bank 20, and the liquid reservoir 9, and these regions are made lyophilic on the surface by plasma treatment using, for example, oxygen as a processing gas. Is granted. The region exhibiting liquid repellency is the upper surface of the common bank 8, and for example, the surface may be provided with liquid repellency by plasma treatment using tetrafluoromethane (tetrafluoromethane) as a processing gas. Further, when the common bank 8 is formed of a fluorine-containing resin material, plasma treatment for imparting liquid repellency is not necessary.

次に、共通バンク８内に有機層４を形成する。
まず、図５（ａ）に示すように、有機層４のうち、正孔輸送層５をジェットディスペンサー法により形成する。この時の塗布条件として、ディスペンサー５０（図６参照）のノズル内径は、０．０５〜０．３５ｍｍの範囲で可能であり、特に、０．２５ｍｍ程度のノズルで行うことが好ましい。また、形成材料の電磁弁の開放時間（塗布時間）は、１．０〜３．０ｍｓｅｃの範囲で行うことが可能であり、特に１．２ｍｓｅｃ程度で行うことが好ましい。また、電磁弁の開閉ストロークは、１００〜３５０μｍの範囲で行うことが可能であり、特に２００μｍ程度で行うことが好ましい。塗布ピッチとして、０．１〜３ｍｍの範囲で行うことが可能であり、特に１．０ｍｍ程度で行うことが好ましい。また、液圧は０．００２〜０．０２ＭＰａの範囲で行うことが好ましく、特に０．０１ＭＰａ程度で行うことが好ましい。 Next, the organic layer 4 is formed in the common bank 8.
First, as shown in FIG. 5A, the hole transport layer 5 of the organic layer 4 is formed by a jet dispenser method. As an application condition at this time, the nozzle inner diameter of the dispenser 50 (see FIG. 6) can be in the range of 0.05 to 0.35 mm, and it is particularly preferable to use a nozzle of about 0.25 mm. In addition, the opening time (application time) of the electromagnetic valve of the forming material can be performed in the range of 1.0 to 3.0 msec, particularly preferably about 1.2 msec. Further, the opening / closing stroke of the solenoid valve can be performed in the range of 100 to 350 μm, and particularly preferably about 200 μm. The coating pitch can be in the range of 0.1 to 3 mm, and is preferably about 1.0 mm. The liquid pressure is preferably in the range of 0.002 to 0.02 MPa, particularly preferably about 0.01 MPa.

ここで、図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、ディスペンサー５０を共通バンク８の長手方向の一端から他端に向けて走査する。つまり、液溜まり部９内にも正孔輸送層５の形成材料を充填しつつ、液滴Ｆが互いに重なるように一定量ずつ吐出していく。これにより、塗布された正孔輸送層５の形成材料は、共通バンク８に囲まれた画素領域１０及び液溜まり部９全体に充填される。 Here, as shown in FIGS. 6A to 6C, the dispenser 50 is scanned from one end to the other end in the longitudinal direction of the common bank 8. That is, while the liquid reservoir 9 is filled with the material for forming the hole transport layer 5, the liquid droplets F are discharged by a certain amount so as to overlap each other. Thereby, the applied material for forming the hole transport layer 5 is filled in the entire pixel region 10 and the liquid reservoir 9 surrounded by the common bank 8.

続いて、図５（ｂ）に示すように、塗布した正孔輸送層５の形成材料を乾燥する。正孔輸送層５の形成材料の乾燥方法は、自然乾燥や加温乾燥、減圧乾燥等、公知の方法で行うことが可能である。
ここで、アスペクト比が２以上の細長い基板１に正孔輸送層５を形成する際、正孔輸送層５の乾燥は、形成材料が塗布された膜厚の薄い画素領域１０の長手方向の端部から乾燥され始めるため、共通バンク８内における画素領域１０の平面領域内で乾燥速度に差が生じてしまう。 Subsequently, as shown in FIG. 5B, the applied material for forming the hole transport layer 5 is dried. The material for forming the hole transport layer 5 can be dried by a known method such as natural drying, warm drying, or reduced pressure drying.
Here, when the hole transport layer 5 is formed on the elongated substrate 1 having an aspect ratio of 2 or more, the hole transport layer 5 is dried at the end in the longitudinal direction of the thin pixel region 10 coated with the forming material. Since the drying starts from the part, a difference in drying speed occurs in the plane area of the pixel area 10 in the common bank 8.

この時、正孔輸送層５の形成材料は、有機層４の形成材料を塗布する際に共通バンク８内の液溜まり部９にも正孔輸送層５の形成材料が収容されることとなるため、共通バンク８内に塗布された正孔輸送層５の形成材料の膜厚が均一化される。これにより、共通バンク８内において正孔輸送層５の形成材料の乾燥速度が一定となる。よって、画素領域１０上での乾燥ムラの発生を抑え、正孔輸送層５の膜厚が均一に形成される。 At this time, the material for forming the hole transport layer 5 is also contained in the liquid reservoir 9 in the common bank 8 when the material for forming the organic layer 4 is applied. Therefore, the film thickness of the material for forming the hole transport layer 5 applied in the common bank 8 is made uniform. As a result, the drying speed of the material for forming the hole transport layer 5 in the common bank 8 is constant. Therefore, the occurrence of uneven drying on the pixel region 10 is suppressed, and the film thickness of the hole transport layer 5 is formed uniformly.

なお、１回当たりの吐出量が少ない場合、液溜まり部９上と画素領域１０上との間で吐出量を異ならせて吐出してもよい。この時の単位面積当たりの吐出量比として、例えば液溜まり部吐出量／画素領域吐出量を２〜２０の範囲で行うことで、画素領域１０上の膜厚が薄くなりすぎず均一に形成することができる。 When the discharge amount per one time is small, the discharge amount may be different between the liquid reservoir 9 and the pixel region 10. As the discharge amount ratio per unit area at this time, for example, by performing the liquid pool discharge amount / pixel region discharge amount in the range of 2 to 20, the film thickness on the pixel region 10 is uniformly formed without being too thin. be able to.

続いて、正孔輸送層５上に有機層４のうち発光層６を形成する。具体的には、上述の正孔輸送層５と同様の形成方法で共通バンク８内に発光層６を形成する。この時、上述の正孔輸送層５が画素領域１０で均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層６も液溜まり部９により画素領域１０で膜厚が均一化され、正孔輸送層５と発光層６から構成される有機層４は、全体として画素領域１０上で均一な膜厚を有するものとなっている。また、上述のように画素領域１０を区画する共通バンク８が形成されているため、有機層４の形成材料を所定位置に所定量を容易に塗布することができる。
なお、有機層４の形成は、ニードルディスペンサー法で形成することも可能である。この時の塗布条件として、ノズル内径は、０．０５〜０．３５ｍｍの範囲で可能であり、特に、０．２５ｍｍ程度のノズルで行うことが好ましい。また、基板ギャップは、２０〜１００μｍの範囲で行うことが可能であり、特に５０μｍ程度で行うことが好ましい。また、描画速度は、１０〜２００ｍｍ／ｓｅｃの範囲で行うこと可能であり、特に１０ｍｍ／ｓｅｃで行うことが好ましい。また、吐出流量は、０．０１〜３μｌ／ｓｅｃの範囲で行うことが望ましく特に、０．１μｌ／ｓｅｃ程度で行うことが好ましい。また、上記ジェットディスペンサー法、ディスペンサー法の他にインクジェット法等の非接触塗布法で行うことが可能である。 Subsequently, the light emitting layer 6 of the organic layer 4 is formed on the hole transport layer 5. Specifically, the light emitting layer 6 is formed in the common bank 8 by the same formation method as the hole transport layer 5 described above. At this time, since the above-described hole transport layer 5 is formed in a uniform film thickness in the pixel region 10, the light emitting layer 6 formed thereon is also made uniform in the pixel region 10 by the liquid reservoir 9. The organic layer 4 composed of the hole transport layer 5 and the light emitting layer 6 has a uniform film thickness on the pixel region 10 as a whole. Further, since the common bank 8 that partitions the pixel region 10 is formed as described above, a predetermined amount of the material for forming the organic layer 4 can be easily applied to a predetermined position.
The organic layer 4 can also be formed by a needle dispenser method. As an application condition at this time, the inner diameter of the nozzle can be in the range of 0.05 to 0.35 mm, and it is particularly preferable to carry out with a nozzle of about 0.25 mm. The substrate gap can be in the range of 20 to 100 μm, and preferably about 50 μm. The drawing speed can be 10 to 200 mm / sec, and preferably 10 mm / sec. The discharge flow rate is preferably in the range of 0.01 to 3 μl / sec, and particularly preferably about 0.1 μl / sec. In addition to the above-described jet dispenser method and dispenser method, non-contact coating methods such as an ink jet method can be used.

そして、有機層４上に陰極７を形成する。具体的には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することができる。特に蒸着法で形成することが、熱による発光層６の損傷を防止できる点で好ましい。 Then, a cathode 7 is formed on the organic layer 4. Specifically, it can be formed by vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In particular, the vapor deposition method is preferable because damage to the light emitting layer 6 due to heat can be prevented.

そして、共通バンク８を含む基板１上の領域に保護層を形成し、さらに封止部材を用いて発光素子及び保護層を封止する。この封止工程については、公知の工程を適用することができるので、詳細は省略することとする。なお、封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極７にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極７に侵入して陰極７が酸化される畏れがあるので好ましくない。 And a protective layer is formed in the area | region on the board | substrate 1 containing the common bank 8, and also a light emitting element and a protective layer are sealed using a sealing member. About this sealing process, since a well-known process can be applied, the details are omitted. Note that the sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium. If it is carried out in the air, when a defect such as a pinhole has occurred in the cathode 7, water, oxygen or the like may enter the cathode 7 from the defective portion and the cathode 7 may be oxidized, which is not preferable.

上述の実施形態によれば、複数の発光素子２が形成された画素領域１０と画素領域１０を取り囲む共通バンク８との間に液溜まり部９が設けられている構成とした。このように構成することで、有機層４の形成工程において、有機層４の形成材料を塗布する際に形成材料が液溜まり部９にも収容されることとなるので、共通バンク８内における画素領域１０の平面領域内に有機層４の塗布時の膜厚が均一化される。これにより、有機層４の乾燥速度が画素領域１０の平面領域内で一定となるため、有機層４の膜厚が均一化される。
したがって、画素領域１０内で均一な発光を得ることができ、優れた表示品質をもつ有機ＥＬ装置１００を実現することができる。また、発光が均一化される結果、画素領域１０内の有機層４に局所的な電流負荷が掛かるのを防止することができ、長寿命の発光素子を備えた有機ＥＬ装置１００を実現することができる。 According to the above-described embodiment, the liquid reservoir 9 is provided between the pixel region 10 in which the plurality of light emitting elements 2 are formed and the common bank 8 surrounding the pixel region 10. With this configuration, when the organic layer 4 forming material is applied in the organic layer 4 forming step, the forming material is also accommodated in the liquid reservoir 9. The film thickness at the time of application of the organic layer 4 is made uniform in the planar region of the region 10. As a result, the drying speed of the organic layer 4 is constant in the plane region of the pixel region 10, so that the film thickness of the organic layer 4 is made uniform.
Therefore, uniform light emission can be obtained in the pixel region 10, and the organic EL device 100 having excellent display quality can be realized. Further, as a result of the uniform light emission, it is possible to prevent a local current load from being applied to the organic layer 4 in the pixel region 10 and to realize the organic EL device 100 having a long-life light emitting element. Can do.

（第２実施形態）
次に、図７に基づいて、第２実施形態に係る有機ＥＬ装置について説明する。なお、第１実施形態と同様となる部分については、その詳細な説明を省略する。図７は有機ＥＬ装置の拡大断面図であり、図２のＢ部に相当する部分を示している。
第２実施形態に係る有機ＥＬ装置は、液溜まり部が２段形成されている点で第１実施形態と相違している。 (Second Embodiment)
Next, an organic EL device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. Detailed description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the organic EL device, and shows a portion corresponding to part B of FIG.
The organic EL device according to the second embodiment is different from the first embodiment in that the liquid reservoir is formed in two stages.

図７に示すように、液溜まり部９０は、段差上面９０ａと段差下面９０ｂとが形成されている。無機バンク２０を貫通して無機絶縁層１４の上面が露出している面が段差上面９０ａとなっている。さらに、この段差上面９０ａからさらに深く形成され、無機絶縁層１４内が露出している面が段差下面９０ｂとなっている。 As shown in FIG. 7, the liquid reservoir 90 has a step upper surface 90a and a step lower surface 90b. A surface of the inorganic insulating layer 14 that is exposed through the inorganic bank 20 is a stepped upper surface 90a. Further, the surface formed deeper from the step upper surface 90a and exposing the inside of the inorganic insulating layer 14 is a step lower surface 90b.

このような構成の場合、まず、液溜まり部９０の段差上面９０ａが露出する深さ、つまり無機バンク２０のみをレジストマスクを介してエッチングする。続いて、段差下面９０ｂの深さまでエッチングを行って形成する。なお、段差下面９０ｂまでを先に形成した後、段差上面９０ａを形成するようにしてもよい。
本実施形態においても、共通バンク部８と画素領域１０との間に形成された液溜まり部９０の作用により、正孔輸送層５が画素領域１０で均一な膜厚に形成されているので、その上に形成される発光層６も画素領域１０上で均一な膜厚を有するものとなり、有機層４は全体として画素領域１０上で均一な膜厚を有するものとなっている。特に、形成材料の違い等によって無機バンク２０と無機絶縁層１４との間で第１実施形態のような液溜まり部９が形成し難い場合等において、液溜まり部９０を段差上面９０ａと段差下面９０ｂとを２段形成することで、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。 In the case of such a configuration, first, the depth at which the step upper surface 90a of the liquid reservoir 90 is exposed, that is, only the inorganic bank 20 is etched through the resist mask. Subsequently, etching is performed to the depth of the step lower surface 90b. The step upper surface 90a may be formed after the step lower surface 90b is formed first.
Also in the present embodiment, the hole transport layer 5 is formed in a uniform film thickness in the pixel region 10 by the action of the liquid reservoir 90 formed between the common bank unit 8 and the pixel region 10. The light emitting layer 6 formed thereon also has a uniform film thickness on the pixel region 10, and the organic layer 4 has a uniform film thickness on the pixel region 10 as a whole. In particular, in the case where it is difficult to form the liquid pool portion 9 as in the first embodiment between the inorganic bank 20 and the inorganic insulating layer 14 due to the difference in the forming material or the like, the liquid pool portion 90 is made to have the step upper surface 90a and the step lower surface By forming two stages 90b, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

（第３実施形態）
次に、図８に基づいて、第３実施形態に係る有機ＥＬ装置について説明する。なお、第１実施形態と同様となる部分については、その詳細な説明を省略する。図８は有機ＥＬ装置の平面図であり、図２に相当する部分を示している。
第３実施形態に係る有機ＥＬ装置は、液溜まり部を画素領域の周囲に部分的に形成している点で第１，２実施形態と相違している。 (Third embodiment)
Next, an organic EL device according to the third embodiment will be described with reference to FIG. Detailed description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted. FIG. 8 is a plan view of the organic EL device, and shows a portion corresponding to FIG.
The organic EL device according to the third embodiment is different from the first and second embodiments in that the liquid reservoir is partially formed around the pixel region.

図８に示すように、液溜まり部９１は、画素領域１０の長手方向両端部のみに平面視半長円状に形成されている。つまり、画素領域１０の中央部では、共通バンク８０が画素領域１０まで延設されているため、有機層４の形成材料は、画素領域１０の両端部に形成された液溜まり部９１に収容されることとなる。
したがって、上述の実施形態によれば、有機層４の形成材料の塗布時において、膜厚が薄く乾燥速度が速くなってしまう画素領域１０の長手方向の端部に、液溜まり部９１が形成されているため、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。 As shown in FIG. 8, the liquid reservoir 91 is formed in a semi-oval shape in plan view only at both ends in the longitudinal direction of the pixel region 10. That is, since the common bank 80 extends to the pixel region 10 in the central portion of the pixel region 10, the material for forming the organic layer 4 is accommodated in the liquid reservoirs 91 formed at both ends of the pixel region 10. The Rukoto.
Therefore, according to the above-described embodiment, the liquid reservoir 91 is formed at the end in the longitudinal direction of the pixel region 10 where the film thickness is thin and the drying speed is high when the material for forming the organic layer 4 is applied. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

（画像形成装置）
図９は、上述の有機ＥＬ装置を、電子写真方式プリンタのプリンタヘッドとして画像形成装置に適用した場合の一例を示す図である。図９において、有機ＥＬ装置１００の基板１の上方には光学系６０が設けられており、光学系６０の上方には感光ドラム（感光体）６１が設けられている。有機ＥＬ装置１００は、光学系６０を介して、感光ドラム６１に対して光を照射する。有機ＥＬ装置１００の基板１から射出された光は、光学系６０を通って感光ドラム６１上に集光されるようになっている。有機ＥＬ装置１００は均一な発光が得られるとともに、長寿命化されているため、感光ドラム６１を良好に感光させることができ、その感光ドラム６１を用いて良好に画像形成することができる。 (Image forming device)
FIG. 9 is a diagram illustrating an example in which the above-described organic EL device is applied to an image forming apparatus as a printer head of an electrophotographic printer. In FIG. 9, an optical system 60 is provided above the substrate 1 of the organic EL device 100, and a photosensitive drum (photosensitive member) 61 is provided above the optical system 60. The organic EL device 100 irradiates the photosensitive drum 61 with light via the optical system 60. The light emitted from the substrate 1 of the organic EL device 100 is condensed on the photosensitive drum 61 through the optical system 60. Since the organic EL device 100 can obtain uniform light emission and has a long lifetime, the photosensitive drum 61 can be favorably exposed, and an image can be favorably formed using the photosensitive drum 61.

なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。例えば、液溜まり部の形状は、適宜設計の変更が可能である。 It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. For example, the design of the shape of the liquid reservoir can be changed as appropriate.

また、上述の各実施形態の有機ＥＬ装置は、モノクロームのディスプレイに適用することができる。また、上述の各実施形態の有機ＥＬ装置の発光層（有機層）を、例えば白色発光材料で構成し、各画素領域のそれぞれから射出される光（白色光）を、カラーフィルタを用いて、赤色光、緑色光、及び青色光のそれぞれに変換することによって、フルカラーのディスプレイを形成することも可能である。 In addition, the organic EL device of each of the embodiments described above can be applied to a monochrome display. Moreover, the light emitting layer (organic layer) of the organic EL device of each of the above-described embodiments is made of, for example, a white light emitting material, and light (white light) emitted from each of the pixel regions is used with a color filter. It is also possible to form a full color display by converting each of red light, green light and blue light.

本発明の本実施形態の有機ＥＬ装置の配線構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the wiring structure of the organic electroluminescent apparatus of this embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態における有機ＥＬ装置の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態における有機ＥＬ装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態における有機ＥＬ装置の工程図である。It is process drawing of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態における有機ＥＬ装置の工程図である。It is process drawing of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態における有機ＥＬ装置の工程図である。It is process drawing of the organic electroluminescent apparatus in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態における図２のＢ部に相当する拡大断面図である。It is an expanded sectional view equivalent to the B section of Drawing 2 in a 2nd embodiment of the present invention. 本発明の第３実施形態における有機ＥＬ装置の図２に相当する平面図である。It is a top view equivalent to FIG. 2 of the organic electroluminescent apparatus in 3rd Embodiment of this invention. 有機ＥＬ装置をプリンタヘッドに適用した画像形成装置を説明するための図である。It is a diagram for explaining an image forming apparatus in which an organic EL device is applied to a printer head.

符号の説明Explanation of symbols

１‥基板２…発光素子４…有機層（有機機能層）５…正孔輸送層６…発光層７…陰極（一対の電極）８…共通バンク（バンク）８ａ…内壁９，９０，９１…液溜まり部（溝部）１０…画素領域９１ａ…段差上面（溝部）９１ｂ…段差下面（溝部）１００…有機ＥＬ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2 ... Light emitting element 4 ... Organic layer (organic functional layer) 5 ... Hole transport layer 6 ... Light emitting layer 7 ... Cathode (a pair of electrodes) 8 ... Common bank (bank) 8a ... Inner wall 9, 90, 91 ... Liquid reservoir portion (groove portion) 10... Pixel region 91 a. Upper surface of step (groove portion) 91 b. Lower surface of step (groove portion) 100. Organic EL device

Claims

基板上に、一対の電極の間に挟持された有機機能層を有する発光素子と、
この発光素子が複数配列されてなる画素領域と、
この画素領域を区画するバンクとを備える有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記バンクと前記画素領域との間に溝部が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 A light emitting device having an organic functional layer sandwiched between a pair of electrodes on a substrate;
A pixel region in which a plurality of the light emitting elements are arranged;
In an organic electroluminescence device comprising a bank that partitions this pixel region,
An organic electroluminescence device, wherein a groove is formed between the bank and the pixel region.

前記溝部内に有機機能層の一部が配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a part of the organic functional layer is disposed in the groove.

前記溝部は前記画素領域の長手方向の周縁に沿って形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the groove is formed along a peripheral edge in a longitudinal direction of the pixel region.

前記溝部は前記画素領域の長手方向の両端部に形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 4. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the groove is formed at both ends in the longitudinal direction of the pixel region. 5.

前記溝部は前記バンクの内壁に沿って形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 4, wherein the groove is formed along an inner wall of the bank.

基板上に、一対の電極の間に挟持された有機機能層を有する発光素子と、
この発光素子が複数配列されてなる画素領域と、
この画素領域を区画するバンクとを備える有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
前記画素領域を形成する工程は、基板上に第１の電極を形成する工程と、
前記画素領域の形成領域を取り囲む前記バンクを形成する工程と、
前記画素領域の形成領域と前記バンクとの間に溝部を形成する工程と、
前記画素領域上に前記有機機能層を形成する工程とを有し、
前記有機機能層の形成工程では、前記有機機能層の形成材料を液相プロセスにて前記溝部に充填しつつ形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 A light emitting device having an organic functional layer sandwiched between a pair of electrodes on a substrate;
A pixel region in which a plurality of the light emitting elements are arranged;
A method of manufacturing an organic electroluminescence device comprising a bank that partitions the pixel region,
Forming the pixel region includes forming a first electrode on a substrate;
Forming the bank surrounding the formation region of the pixel region;
Forming a groove between the formation region of the pixel region and the bank;
Forming the organic functional layer on the pixel region,
In the organic functional layer forming step, the organic functional layer is formed while filling the groove with a material for forming the organic functional layer by a liquid phase process.

前記有機機能層の形成工程では、前記有機機能層の形成材料を前記バンクの長手方向の端部から長手方向に沿って充填していくことを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 7. The organic electroluminescent device according to claim 6, wherein in the step of forming the organic functional layer, a material for forming the organic functional layer is filled from the end in the longitudinal direction of the bank along the longitudinal direction. Production method.

前記有機機能層の形成材料は、水系インク又は有機系インクからなることを特徴とする請求項６または７記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 8. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 6, wherein the material for forming the organic functional layer is made of water-based ink or organic ink.

前記水系インクは、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを含むことを特徴とする請求項１または請求項８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the water-based ink includes PEDOT: PSS.

前記有機系インクは、共役系高分子を溶かし込んだ有機溶媒からなることを特徴とする請求項８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 9. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 8, wherein the organic ink is made of an organic solvent in which a conjugated polymer is dissolved.

前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をジェットディスペンサー法により充填することを特徴とする請求項６から請求項１０の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 11. The method of manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 6, wherein in the organic functional layer forming step, a material for forming the organic functional layer is filled by a jet dispenser method. .

前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をディスペンサー法により充填することを特徴とする請求項６から請求項１０の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 11. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 6, wherein in the organic functional layer forming step, a material for forming the organic functional layer is filled by a dispenser method.

前記有機機能層の形成工程は、前記有機機能層の形成材料をインクジェット法により充填することを特徴とする請求項６から請求項１０の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 11. The method of manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 6, wherein in the step of forming the organic functional layer, a material for forming the organic functional layer is filled by an inkjet method.

請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置からなることを特徴とするプリンタヘッド。 A printer head comprising the organic electroluminescence device according to claim 1.

請求項１４に記載のプリンタヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。 An image forming apparatus comprising the printer head according to claim 14.