JP2008187101A - Semiconductor device and mounting structure of semiconductor device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability of a semiconductor device by suppressing thermal conductivity between two semiconductor chips having different warranty temperatures. <P>SOLUTION: The present invention provides a semiconductor device 1 comprising a plurality of approximately plate-shaped stages 7 and 9 on which semiconductor chips 3 and 5 are mounted on surfaces 7a and 9a one by one, plurality of these semiconductor chips 3 and 5 as well as stages 7 and 9 are sealed with a resin mold part 13, wherein one of these semiconductor chips, semiconductor chip 3 has a heat-generating circuit generating heat higher than a warranty temperature of the other semiconductor chip 5, a back side of one of these stages, the back side 7b of the stage 7 on which the semiconductor chip 3 is mounted is exposed to outward of the resin mold part 13, and the plurality of stages 7 and 9 are arranged in the surface direction and at the same time placed so as to be separated from one another. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置、及び、これを回路基板に実装する実装構造に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a mounting structure for mounting the semiconductor device on a circuit board.

従来の半導体装置には、例えば特許文献1のように、略板状のステージ部の表面に半導体チップを搭載して樹脂モールド部で封止した構成のものがある。この構成の半導体装置においては、半導体チップから発生する熱を効率よく放熱することを目的として、ステージ部の裏面を樹脂モールド部の外方に露出させると共に半田で回路基板に接合させている。
ところで、このような構成の半導体装置には、保証温度が相互に異なる2つの半導体チップが設けられることもあり、従来では、これら2つの半導体チップを同一のステージ部の表面に搭載している。
特開2000−150725号公報
A conventional semiconductor device has a configuration in which a semiconductor chip is mounted on the surface of a substantially plate-like stage portion and sealed with a resin mold portion as disclosed in Patent Document 1, for example. In the semiconductor device having this configuration, the back surface of the stage portion is exposed to the outside of the resin mold portion and bonded to the circuit board with solder for the purpose of efficiently radiating heat generated from the semiconductor chip.
By the way, the semiconductor device having such a configuration may be provided with two semiconductor chips having different guaranteed temperatures, and conventionally, these two semiconductor chips are mounted on the surface of the same stage portion.
JP 2000-150725 A

しかしながら、これら2つの半導体チップの保証温度が相互に異なると、保証温度の高い一の半導体チップにおいて発生した熱がステージ部を介して保証温度の低い他の半導体チップに伝わることで、他の半導体チップの温度がその保証温度を超えてしまい、半導体装置に動作不良が生じることがある。   However, if the guaranteed temperatures of these two semiconductor chips are different from each other, the heat generated in one semiconductor chip having a high guaranteed temperature is transferred to another semiconductor chip having a low guaranteed temperature through the stage portion, so that other semiconductors The temperature of the chip may exceed the guaranteed temperature, and the semiconductor device may malfunction.

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、保証温度が相互に異なる2つの半導体チップ間の熱伝導を抑制して信頼性の向上を図ることができる半導体装置及びこれを回路基板に実装する実装構造を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a semiconductor device capable of suppressing heat conduction between two semiconductor chips having different guaranteed temperatures and improving reliability, and a circuit therefor An object is to provide a mounting structure to be mounted on a substrate.

上記の目的を達するために、この発明は以下の手段を提供している。
本発明の半導体装置は、表面に半導体チップを1つずつ搭載した略板状のステージ部を複数備えると共に、これら複数の半導体チップ及びステージ部を樹脂モールド部によって封止してなり、一の半導体チップが、他の半導体チップの保証温度よりも高い発熱温度を生じる発熱回路を有し、少なくとも前記一の半導体チップを搭載した一のステージ部の裏面が、前記樹脂モールド部の外方に露出し、前記複数のステージ部が、その面方向に並べられると共に相互に離間して配置されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
The semiconductor device of the present invention includes a plurality of substantially plate-like stage portions each having a semiconductor chip mounted on the surface, and the plurality of semiconductor chips and the stage portions are sealed with a resin mold portion. The chip has a heat generation circuit that generates a heat generation temperature higher than the guaranteed temperature of the other semiconductor chip, and the back surface of at least one stage portion on which the one semiconductor chip is mounted is exposed to the outside of the resin mold portion. The plurality of stage portions are arranged in the surface direction and spaced apart from each other.

この発明に係る半導体装置によれば、保証温度が相互に異なる半導体チップを搭載するステージ部が相互に離間して配置されているため、一の半導体チップの発熱回路において発生した熱が他の半導体チップに伝わることを抑制することができる。すなわち、他の半導体チップの温度がその保証温度を超えることを抑制できる。
また、この半導体装置を回路基板に実装する際には、外方に露出する一のステージ部の裏面をはんだ付け等で回路基板に設けられた放熱用のパッドに接合しておくことで、一の半導体チップにおいて発生した熱を効率よく回路基板に逃がすことができる。
According to the semiconductor device of the present invention, since the stage portions on which the semiconductor chips having different guaranteed temperatures are mounted are arranged apart from each other, the heat generated in the heating circuit of one semiconductor chip is transferred to the other semiconductor. Transmission to the chip can be suppressed. That is, it can suppress that the temperature of another semiconductor chip exceeds the guaranteed temperature.
Also, when mounting this semiconductor device on a circuit board, the back surface of the one stage part exposed to the outside is bonded to a heat radiation pad provided on the circuit board by soldering or the like. The heat generated in the semiconductor chip can be efficiently released to the circuit board.

また、前記半導体装置においては、前記発熱回路を前記一の半導体チップのうち前記他の半導体チップから離れた領域に形成するとしてもよい。
この構成の場合には、発熱回路から他の半導体チップまでの距離をより長く設定することができるため、一の半導体チップから他の半導体チップへの熱伝導をさらに抑制することができる。
Further, in the semiconductor device, the heat generating circuit may be formed in a region away from the other semiconductor chip in the one semiconductor chip.
In the case of this configuration, since the distance from the heat generating circuit to the other semiconductor chip can be set longer, heat conduction from one semiconductor chip to another semiconductor chip can be further suppressed.

さらに、前記半導体装置においては、少なくとも相互に隣り合う前記一のステージ部及び前記他のステージ部が、これらの配列方向に直交する各ステージ部の幅寸法よりも幅狭の連結部によって一体に連結されるとしてもよい。
この発明に係る半導体装置の製造において樹脂モールド部を形成する際には、各半導体チップを個別のステージ部に配した状態で金型のキャビティ内に配置すると共に、樹脂モールド部をなす溶融樹脂を金型のキャビティ内に流し込む。
Further, in the semiconductor device, at least the one stage part and the other stage part adjacent to each other are integrally connected by a connecting part narrower than the width dimension of each stage part perpendicular to the arrangement direction. It may be done.
When forming the resin mold part in the manufacture of the semiconductor device according to the present invention, each semiconductor chip is arranged in an individual stage part and placed in the mold cavity, and the molten resin forming the resin mold part is used. Pour into the mold cavity.

ここで、ステージ部を樹脂モールド部の外方に露出させるためには、ステージ部をキャビティの内面に配置しておく必要があるが、前記連結部を設けておくことで、前記溶融樹脂の流動によってステージ部がキャビティの内面から浮き上がることも容易に防止でき、ステージ部の裏面を確実に樹脂モールド部の外方に露出させることが可能となる。
なお、この連結部はステージ部の幅寸法よりも幅狭に形成されているため、連結部を介して一の半導体チップから他の半導体チップに伝わる熱を小さくすることができる。
Here, in order to expose the stage part to the outside of the resin mold part, it is necessary to arrange the stage part on the inner surface of the cavity, but by providing the connecting part, the flow of the molten resin Therefore, it is possible to easily prevent the stage portion from being lifted from the inner surface of the cavity, and the back surface of the stage portion can be reliably exposed to the outside of the resin mold portion.
In addition, since this connection part is formed narrower than the width dimension of a stage part, the heat | fever transmitted from one semiconductor chip to another semiconductor chip via a connection part can be made small.

また、前記半導体装置においては、前記連結部が、前記ステージ部の裏面からその厚さ方向に窪む位置に形成されるとしてもよい。
この構成の場合には、連結部によって相互に連結されたステージ部の裏面が樹脂モールド部の外方に露出していても、連結部を樹脂モールド部の内部に埋設させることができる。したがって、半導体装置の回路基板への実装において、はんだを介してステージ部を回路基板の放熱用パッドに接合する際に、一のステージ部及び他のステージ部にわたってはんだが濡れ広がることを確実に防止することができるため、一の半導体チップから発生した熱がはんだを介して他の半導体チップに伝わることを確実に防止することができる。
In the semiconductor device, the connecting portion may be formed at a position recessed from the back surface of the stage portion in the thickness direction.
In the case of this configuration, even if the back surfaces of the stage portions connected to each other by the connecting portion are exposed to the outside of the resin mold portion, the connecting portion can be embedded in the resin mold portion. Therefore, when the semiconductor device is mounted on the circuit board, the solder is surely prevented from spreading over one stage portion and the other stage portion when the stage portion is joined to the heat dissipation pad of the circuit board via the solder. Therefore, it is possible to reliably prevent heat generated from one semiconductor chip from being transmitted to another semiconductor chip via solder.

また、前記半導体装置においては、前記連結部が相互に隣り合うステージ部の幅方向の端部を連結するとしてもよい。
この場合には、一の半導体チップから連結部を介して他の半導体チップに到達する熱伝導の経路をより長く設定することができるため、一の半導体チップから他の半導体チップへの熱伝導をさらに抑制することが可能となる。
In the semiconductor device, the connecting portion may connect end portions in the width direction of adjacent stage portions.
In this case, it is possible to set a longer heat conduction path from one semiconductor chip to the other semiconductor chip via the connecting portion, so that the heat conduction from one semiconductor chip to the other semiconductor chip is reduced. Further suppression is possible.

また、本発明の半導体装置の実装構造は、前記半導体装置を回路基板に実装する実装構造であって、前記回路基板の表面に、前記樹脂モールド部から外方に露出する前記一のステージ部の裏面に接合するための放熱用パッドが形成され、該放熱用パッドが、前記一のステージ部の露出面積よりも大きい面積を有すると共に、前記一のステージ部の裏面に対向する領域を除いてレジスト膜によって覆われていることを特徴とする。   Further, the mounting structure of the semiconductor device of the present invention is a mounting structure for mounting the semiconductor device on a circuit board, wherein the one stage part exposed outward from the resin mold part on the surface of the circuit board. A heat dissipating pad for bonding to the back surface is formed, and the heat dissipating pad has an area larger than the exposed area of the one stage portion and resists except for a region facing the back surface of the one stage portion. It is characterized by being covered with a film.

このように構成することで、一の半導体チップにおいて発生した熱を一のステージ部の露出面積よりも大きい面積の放熱用パッドに拡散させることができるため、一の半導体チップの放熱を効率よく行うことができる。
また、放熱用パッドをレジスト膜で覆うことにより、他のステージ部の裏面が露出して放熱用パッドに対向する位置に配されたとしても、他のステージ部が放熱用パッドにはんだ付けされることを容易に防止できる。そして、このように構成することで、一の半導体チップにおいて発生した熱が放熱用パッドを介して他の半導体チップに伝わることを確実に防止することができる。
With this configuration, heat generated in one semiconductor chip can be diffused to a heat dissipation pad having an area larger than the exposed area of one stage portion, so that heat radiation from one semiconductor chip is efficiently performed. be able to.
Further, by covering the heat dissipation pad with a resist film, the other stage portion is soldered to the heat dissipation pad even if the back surface of the other stage portion is exposed and disposed at a position facing the heat dissipation pad. Can be easily prevented. And it can prevent reliably that the heat | fever generate | occur | produced in one semiconductor chip is transmitted to another semiconductor chip via a heat dissipation pad by comprising in this way.

本発明によれば、各半導体チップが相互に分離して設けられたステージ部にそれぞれ搭載されているため、保証温度の高い半導体チップから保証温度の低い半導体チップへの熱伝導を抑制して半導体装置の信頼性向上を図ることができる。   According to the present invention, since each semiconductor chip is mounted on a stage portion provided separately from each other, it is possible to suppress heat conduction from a semiconductor chip having a high guaranteed temperature to a semiconductor chip having a low guaranteed temperature. The reliability of the apparatus can be improved.

以下、図1から図4を参照し、本発明の第1実施形態に係る半導体装置について説明する。図1,2に示すように、この実施形態に係る半導体装置1は、例えば、スピーカを駆動するための電源やパルス電源(PW電源)等のように回路に電力を供給するものとして使用されるものであり、アナログチップとしての第1の半導体チップ(一の半導体チップ)3及びデジタルチップとしての第2の半導体チップ(他の半導体チップ)5を備えて構成されている。すなわち、この半導体装置1は、アナログ回路及びデジタル回路のいずれにも対応できるように構成されている。   The semiconductor device according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor device 1 according to this embodiment is used to supply power to a circuit such as a power source for driving a speaker or a pulse power source (PW power source). A first semiconductor chip (one semiconductor chip) 3 as an analog chip and a second semiconductor chip (other semiconductor chip) 5 as a digital chip are configured. That is, the semiconductor device 1 is configured to be compatible with both analog circuits and digital circuits.

また、この半導体装置1は、表面7a,9aに前述の半導体チップ3,5を1つずつ搭載する2つのステージ部7,9と、これら2つのステージ部7,9の周囲に配されて各半導体チップ3,5に電気接続される複数のリード11,11,・・・と、これら半導体チップ3,5、ステージ部7,9及びリード11を封止する樹脂モールド部13とを備えている。なお、この実施形態における半導体装置は、リード11の一部が樹脂モールド部13の側部13bから突出するQFP(Quad Flat Package)として構成されている。
各リード11は、ステージ部7,9に向けて延びる細幅帯状に形成されており、各リード11のうち樹脂モールド部13に埋設された一端部11aは、ワイヤー15によって各半導体チップ3,5に電気接続されている。また、各リード11のうち樹脂モールド部13の外方に突出する他端部11bは、樹脂モールド部13の下面13aに向けて折り曲げられており、半導体装置1を実装する回路基板31に電気接続されるようになっている。
In addition, the semiconductor device 1 includes two stage portions 7 and 9 on which the semiconductor chips 3 and 5 are mounted on the surfaces 7a and 9a one by one, and are disposed around the two stage portions 7 and 9, respectively. Are electrically connected to the semiconductor chips 3, 5, and the semiconductor chip 3, 5, the stage portions 7, 9, and the resin mold portion 13 that seals the leads 11. . Note that the semiconductor device in this embodiment is configured as a QFP (Quad Flat Package) in which a part of the lead 11 protrudes from the side portion 13b of the resin mold portion 13.
Each lead 11 is formed in a narrow strip shape extending toward the stage portions 7 and 9, and one end portion 11 a embedded in the resin mold portion 13 of each lead 11 is connected to each semiconductor chip 3, 5 by a wire 15. Is electrically connected. The other end portion 11 b of each lead 11 protruding outward from the resin mold portion 13 is bent toward the lower surface 13 a of the resin mold portion 13 and is electrically connected to the circuit board 31 on which the semiconductor device 1 is mounted. It has come to be.

2つのステージ部7,9は、それぞれ平面視略矩形の板状に形成されており、その面方向に並べられると共に相互に離間して配置されている。また、各ステージ部7,9は、その各辺が樹脂モールド部13の側部13bに沿うように配されている。
そして、各ステージ部7,9の裏面7b,9bは、樹脂モールド部13の下面13aと略同一平面をなしている、すなわち、樹脂モールド部13の外方に露出している。また、各ステージ部7,9の周縁には、その裏面7b,9bから厚さ方向に窪む環状の溝部7c,9cが形成されている。そして、この溝部7c,9cには樹脂モールド部13が入り込んでいるため、ステージ部7,9が樹脂モールド部13から剥離してしまうことを防止できる。
The two stage portions 7 and 9 are each formed in a substantially rectangular plate shape in plan view, and are arranged in the surface direction and spaced apart from each other. Further, the stage portions 7 and 9 are arranged so that each side thereof is along the side portion 13 b of the resin mold portion 13.
The back surfaces 7 b and 9 b of the stage portions 7 and 9 are substantially flush with the lower surface 13 a of the resin mold portion 13, that is, are exposed to the outside of the resin mold portion 13. In addition, annular grooves 7c and 9c that are recessed in the thickness direction from the rear surfaces 7b and 9b are formed on the peripheral edges of the stage portions 7 and 9, respectively. And since the resin mold part 13 has entered into these groove parts 7c and 9c, it can prevent that the stage parts 7 and 9 peel from the resin mold part 13. FIG.

そして、第1のステージ部(一のステージ部)7には、第2のステージ部(他のステージ部)9に搭載される第2の半導体チップ5よりも高い保証温度を有する第1の半導体チップ3が搭載されている。すなわち、この第1の半導体チップ3には、第2の半導体チップ5の保証温度よりも高い発熱温度を生じるPWM(Pulse Width Modulation)回路等の発熱回路が形成されている。
この発熱回路は、図3に示すように、第1の半導体チップ3のうち第2の半導体チップ5から離れた平面視領域S1(以下、形成領域S1と呼ぶ。)に形成されている、すなわち、2つの半導体チップ3,5の配列方向に関して第2の半導体チップ5から遠い側に寄せて配置されている。また、この実施形態における発熱回路は、2つの半導体チップ3,5の配列方向に沿う第1の半導体チップ3の長さ寸法の略半分の領域に形成されると共に、配列方向に直交する第1の半導体チップ3の幅方向の全体にわたって形成されている。
そして、これら2つの半導体チップ3,5は、図1,2に示すように、ワイヤー17によって相互に電気接続されている。
The first stage portion (one stage portion) 7 includes a first semiconductor having a guaranteed temperature higher than that of the second semiconductor chip 5 mounted on the second stage portion (other stage portion) 9. Chip 3 is mounted. That is, the first semiconductor chip 3 is formed with a heat generation circuit such as a PWM (Pulse Width Modulation) circuit that generates a heat generation temperature higher than the guaranteed temperature of the second semiconductor chip 5.
As shown in FIG. 3, the heat generating circuit is formed in a planar view region S <b> 1 (hereinafter referred to as a formation region S <b> 1) away from the second semiconductor chip 5 in the first semiconductor chip 3. The two semiconductor chips 3 and 5 are arranged close to the second semiconductor chip 5 with respect to the arrangement direction of the two semiconductor chips 3 and 5. In addition, the heat generating circuit in this embodiment is formed in a region approximately half the length of the first semiconductor chip 3 along the arrangement direction of the two semiconductor chips 3 and 5, and is also perpendicular to the arrangement direction. The semiconductor chip 3 is formed over the entire width direction.
The two semiconductor chips 3 and 5 are electrically connected to each other by a wire 17 as shown in FIGS.

以上のように構成された半導体装置1を製造する際には、はじめに、薄板状の銅材等からなる金属製薄板にプレス加工やエッチング加工を施して形成されるリードフレーム(不図示)を用意する。このリードフレームには、前述したステージ部7,9及びリード11の他に、リード11の他端部11b側に形成されて全てのリード11を一体に連結する環状のフレーム枠(不図示)と、フレーム枠にステージ部7,9を連結する吊りリード19,21とが形成されている。すなわち、このリードフレームは、ステージ部7,9及びリード11を一体に形成した構成をなしている。そして、吊りリード19,21は、2つのステージ部7,9の配列方向の外側に位置する各ステージ部7,9の一端部7d,9dに連結されている。
なお、リード11の折り曲げ加工はリードフレームの形成と同時に行われるとしても良いし、別途行われるとしても良い。
When manufacturing the semiconductor device 1 configured as described above, first, a lead frame (not shown) formed by pressing or etching a thin metal plate made of a thin copper material or the like is prepared. To do. In addition to the stage portions 7 and 9 and the lead 11, the lead frame includes an annular frame (not shown) formed on the other end 11b side of the lead 11 and integrally connecting all the leads 11. Suspension leads 19 and 21 for connecting the stage portions 7 and 9 to the frame are formed. That is, this lead frame has a configuration in which the stage portions 7 and 9 and the lead 11 are integrally formed. The suspension leads 19, 21 are connected to one end portions 7 d, 9 d of the stage portions 7, 9 positioned on the outer side in the arrangement direction of the two stage portions 7, 9.
Note that the bending of the lead 11 may be performed simultaneously with the formation of the lead frame, or may be performed separately.

このリードフレームの形成後には、2つの半導体チップ3,5をそれぞれ個別のステージ部7,9に搭載し、ワイヤー15により半導体チップ3,5をリード11の一端部11aに電気接続すると共にワイヤー17により半導体チップ3,5同士を相互に電気接続する。
そして、これら半導体チップ3,5、ステージ部7,9、リード11及びワイヤー15,17を封止する樹脂モールド部13を形成する。この際には、樹脂モールド部13の外形をなす不図示の金型のキャビティ内に、半導体チップ3,5、ステージ部7,9、リード11及びワイヤー15,17を配置する。ここで、樹脂モールド部13から外方に露出させるステージ部7,9の裏面7b,9bはキャビティの内面に配され、リード11の他端部11b及びフレーム枠はキャビティの外側に配される。そして、この状態においてキャビティ内に溶融樹脂を流し込むことによって樹脂モールド部13が形成されることになる。
最後に、樹脂モールド部13を形成したリードフレームを金型から取り出し、樹脂モールド部13の外側に位置するフレーム枠及び吊りリード19,21を切り落とすことで半導体装置1の製造が完了する。
After the formation of the lead frame, the two semiconductor chips 3 and 5 are mounted on the individual stage portions 7 and 9, respectively, and the semiconductor chips 3 and 5 are electrically connected to the one end portion 11a of the lead 11 by the wire 15 and the wire 17 Thus, the semiconductor chips 3 and 5 are electrically connected to each other.
And the resin mold part 13 which seals these semiconductor chips 3 and 5, the stage parts 7 and 9, the lead 11, and the wires 15 and 17 is formed. At this time, the semiconductor chips 3 and 5, the stage portions 7 and 9, the leads 11, and the wires 15 and 17 are arranged in a cavity of a mold (not shown) that forms the outer shape of the resin mold portion 13. Here, the back surfaces 7b and 9b of the stage portions 7 and 9 exposed outward from the resin mold portion 13 are disposed on the inner surface of the cavity, and the other end portion 11b of the lead 11 and the frame frame are disposed on the outer side of the cavity. In this state, the resin mold portion 13 is formed by pouring molten resin into the cavity.
Finally, the lead frame on which the resin mold portion 13 is formed is taken out of the mold, and the frame frame and the suspension leads 19 and 21 located outside the resin mold portion 13 are cut off, whereby the manufacture of the semiconductor device 1 is completed.

また、この半導体装置1を回路基板31に実装する場合には、例えば図2に示すように、複数の電極パッド33及び放熱用パッド34,35を形成した回路基板31の表面31aに樹脂モールド部13の下面13aを対向させた状態で、はんだ36を介してリード11の他端部11bを電極パッド33に接合すればよい。また、はんだ37を介して2つのステージ部7,9の裏面7b,9bをそれぞれ別個の放熱用パッド34,35に接合すればよい。
このように、2つのステージ部7,9を相互に離間して配された放熱用パッド34,35にそれぞれ接合することで、2つのステージ部7,9を接合するはんだ37,37が相互にくっついてしまうことを防止できる。
When the semiconductor device 1 is mounted on the circuit board 31, for example, as shown in FIG. 2, a resin mold portion is formed on the surface 31a of the circuit board 31 on which a plurality of electrode pads 33 and heat radiation pads 34 and 35 are formed. The other end portion 11b of the lead 11 may be joined to the electrode pad 33 via the solder 36 with the lower surface 13a of the 13 facing each other. Further, the back surfaces 7b and 9b of the two stage portions 7 and 9 may be joined to the separate heat radiation pads 34 and 35 through the solder 37, respectively.
In this way, by joining the two stage portions 7 and 9 to the heat dissipating pads 34 and 35 arranged apart from each other, the solders 37 and 37 for joining the two stage portions 7 and 9 are mutually connected. It can prevent sticking.

次に、この半導体装置1について、2つの半導体チップ3,5の動作時における各半導体チップ3,5の温度をシミュレーションした結果について述べる。
このシミュレーションでは、2つの半導体チップ3,5間の距離を1.2mmとし、また、第1の半導体チップ3の保証温度を150℃、第2の半導体チップ5の保証温度を125℃としている。また、ステージ部7,9の熱伝導率を342W/mKとし、樹脂モールド部13の熱伝導率を0.95W/mKとしている。
Next, the result of simulating the temperatures of the semiconductor chips 3 and 5 during the operation of the two semiconductor chips 3 and 5 will be described.
In this simulation, the distance between the two semiconductor chips 3 and 5 is 1.2 mm, the guaranteed temperature of the first semiconductor chip 3 is 150 ° C., and the guaranteed temperature of the second semiconductor chip 5 is 125 ° C. Moreover, the thermal conductivity of the stage parts 7 and 9 is 342 W / mK, and the thermal conductivity of the resin mold part 13 is 0.95 W / mK.

そして、図3に示すように、各半導体チップ3,5における温度は、各半導体チップ3,5の表面に均等に配置された6つの測定点P1〜P6,P7〜P12において測定することとし、これら6つの測定点P1〜P6,P7〜P12は、2つの半導体チップ3,5の配列方向に2つ並べて配置されると共に、配列方向に直交する各半導体チップ3,5の幅方向に3つ並べて配置されている。
なお、このシミュレーションでは、上記構成の半導体装置1の比較例として、1つのステージ部に2つの半導体チップ3,5を搭載した構成についても同様の温度測定を実施し、その結果を表1及び表2に示す。
And as shown in FIG. 3, the temperature in each semiconductor chip 3 and 5 shall be measured at six measurement points P1 to P6 and P7 to P12 that are evenly arranged on the surface of each semiconductor chip 3 and 5, Two of these six measurement points P1 to P6 and P7 to P12 are arranged side by side in the arrangement direction of the two semiconductor chips 3 and 5, and three in the width direction of each semiconductor chip 3 and 5 orthogonal to the arrangement direction. They are arranged side by side.
In this simulation, as a comparative example of the semiconductor device 1 having the above-described configuration, the same temperature measurement is performed for a configuration in which two semiconductor chips 3 and 5 are mounted on one stage portion, and the results are shown in Table 1 and Table 1. It is shown in 2.

Figure 2008187101
Figure 2008187101

Figure 2008187101
Figure 2008187101

表1に示すように、第1の半導体チップ3のうち発熱回路の形成領域S1に配置された3つの測定点P1〜P3においては、実施例及び比較例の温度がほぼ等しい値(約150℃)を示している。また、第1の半導体チップ3のうち発熱回路の形成領域S1よりも第2の半導体チップ5に近い側に配置された3つの測定点P4〜P6においても、実施例及び比較例の温度はほぼ等しく、発熱回路の形成領域S1における温度よりも若干小さい値(約147℃)を示している。   As shown in Table 1, at the three measurement points P1 to P3 arranged in the heat generating circuit formation region S1 in the first semiconductor chip 3, the temperatures of the example and the comparative example are substantially equal (about 150 ° C.). ). In addition, at the three measurement points P4 to P6 arranged on the first semiconductor chip 3 closer to the second semiconductor chip 5 than the heating circuit forming region S1, the temperatures of the example and the comparative example are almost the same. Equally, a value (about 147 ° C.) slightly smaller than the temperature in the heat generating circuit formation region S1 is shown.

一方、表2に示すように、比較例では第2の半導体チップ5における温度が約135℃となっており、第2の半導体チップ5の保証温度を10℃以上も上回っている。これは、第1の半導体チップ3の発熱回路において生じた熱が熱伝導率の高いステージ部を介して第2の半導体チップ5に伝わっているためである。
これに対し、実施例では第2の半導体チップ5における温度が約115℃となっており、第2の半導体チップ5の保証温度よりも約10℃程度下回っている。これは、各半導体チップ3,5を搭載するステージ部7,9が分離され、2つの半導体チップ3,5の間には熱伝導率の低い樹脂モールド部13のみが介在しているためであり、第1の半導体チップ3から第2の半導体チップ5への伝熱が抑制されていることを示している。
On the other hand, as shown in Table 2, in the comparative example, the temperature of the second semiconductor chip 5 is about 135 ° C., which is 10 ° C. or more higher than the guaranteed temperature of the second semiconductor chip 5. This is because the heat generated in the heat generation circuit of the first semiconductor chip 3 is transmitted to the second semiconductor chip 5 through the stage portion having high thermal conductivity.
On the other hand, in the embodiment, the temperature of the second semiconductor chip 5 is about 115 ° C., which is about 10 ° C. lower than the guaranteed temperature of the second semiconductor chip 5. This is because the stage portions 7 and 9 for mounting the semiconductor chips 3 and 5 are separated, and only the resin mold portion 13 having a low thermal conductivity is interposed between the two semiconductor chips 3 and 5. This shows that heat transfer from the first semiconductor chip 3 to the second semiconductor chip 5 is suppressed.

上述したように、この実施形態に係る半導体装置1によれば、保証温度が相互に異なる2つの半導体チップ3,5を搭載するステージ部7,9が相互に離間して配置されているため、第1の半導体チップ3の発熱回路において発生した熱が第2の半導体チップ5に伝わることを抑制することができる。すなわち、第2の半導体チップ5の温度がその保証温度を超えることを防止できる。したがって、保証温度の高い第1の半導体チップ3から保証温度の低い第2の半導体チップ5への熱伝導を抑制して半導体装置1の信頼性向上を図ることができる。
また、この半導体装置1を回路基板31に実装する際には、外方に露出する第1のステージ部7の裏面7bをはんだ37により回路基板31の放熱用パッド34に接合しておくことで、第1の半導体チップ3において発生した熱を効率よく回路基板31に逃がすことができる。
As described above, according to the semiconductor device 1 according to this embodiment, the stage portions 7 and 9 on which the two semiconductor chips 3 and 5 having different guaranteed temperatures are mounted are spaced apart from each other. It is possible to suppress the heat generated in the heat generating circuit of the first semiconductor chip 3 from being transmitted to the second semiconductor chip 5. That is, the temperature of the second semiconductor chip 5 can be prevented from exceeding the guaranteed temperature. Therefore, it is possible to improve the reliability of the semiconductor device 1 by suppressing the heat conduction from the first semiconductor chip 3 having a high guaranteed temperature to the second semiconductor chip 5 having a low guaranteed temperature.
When the semiconductor device 1 is mounted on the circuit board 31, the back surface 7 b of the first stage portion 7 exposed to the outside is bonded to the heat radiation pad 34 of the circuit board 31 by the solder 37. The heat generated in the first semiconductor chip 3 can be efficiently released to the circuit board 31.

さらに、第1の半導体チップ3の発熱回路を2つの半導体チップ3,5の配列方向に関して第2の半導体チップ5から遠い側に寄せて配置することにより、発熱回路から第2の半導体チップ5までの距離をより長く設定することができるため、第1の半導体チップ3から第2の半導体チップ5への熱伝導をさらに抑制することができる。
また、この実施形態に係る半導体装置1の実装構造によれば、2つのステージ部7,9を接合する放熱用パッド34,35を相互に離間して配することで、2つのステージ部7,9を接合するはんだ37,37が相互にくっついてしまうことも防止できるため、第1の半導体チップ3から発生した熱がはんだ37を介して第2の半導体チップ5に伝わることも確実に防止できる。
Further, by arranging the heat generating circuit of the first semiconductor chip 3 closer to the side farther from the second semiconductor chip 5 in the arrangement direction of the two semiconductor chips 3, 5, from the heat generating circuit to the second semiconductor chip 5. Therefore, the heat conduction from the first semiconductor chip 3 to the second semiconductor chip 5 can be further suppressed.
Further, according to the mounting structure of the semiconductor device 1 according to this embodiment, the heat radiation pads 34 and 35 for joining the two stage portions 7 and 9 are arranged apart from each other, thereby providing the two stage portions 7 and 7. Therefore, it is possible to reliably prevent the heat generated from the first semiconductor chip 3 from being transmitted to the second semiconductor chip 5 via the solder 37. .

なお、上述した第1実施形態において、第2のステージ部9は放熱用パッド35に接合されるとしたが、第2の半導体チップ5の発熱が十分に小さい場合には特に接合しなくてもよい。この場合、回路基板31は、例えば第2のステージ部9を接合する放熱用パッド35を除いて構成されるとしても良い。また、半導体装置1は、上記実施形態の回路基板31に実装されることに限らず、例えば図4に示す構成の回路基板41に実装されるとしても構わない。
この回路基板41の表面41aには、第1のステージ部7の露出面積よりも大きい面積を有する放熱用パッド42が形成されている。すなわち、この放熱用パッド42は、第1のステージ部7の裏面7bに接合するためのものであり、例えば樹脂モールド部13の下面13a全体にわたって形成されている。
In the first embodiment described above, the second stage portion 9 is bonded to the heat dissipation pad 35. However, when the heat generation of the second semiconductor chip 5 is sufficiently small, the second stage portion 9 may not be bonded. Good. In this case, the circuit board 31 may be configured by excluding, for example, the heat radiation pad 35 that joins the second stage unit 9. Further, the semiconductor device 1 is not limited to being mounted on the circuit board 31 of the above embodiment, and may be mounted on the circuit board 41 having the configuration shown in FIG. 4, for example.
On the surface 41 a of the circuit board 41, a heat radiation pad 42 having an area larger than the exposed area of the first stage portion 7 is formed. That is, the heat radiation pad 42 is for bonding to the back surface 7 b of the first stage portion 7, and is formed, for example, over the entire lower surface 13 a of the resin mold portion 13.

また、この放熱用パッド42は、第1のステージ部7の裏面7bに対向する領域を除いてレジスト膜43によって覆われている。なお、レジスト膜43は、リード11の他端部11bに対向する領域を除く電極パッド44も覆っている。
さらに、この回路基板41の内部及び裏面41bには、回路基板41の面方向に延びる銅箔等の熱伝導率の高い熱伝導層45A〜45Cが複数形成されており、これら複数の熱伝導層45A〜45Cは、放熱用パッド42から回路基板41の裏面41bに向けて延びる複数のスルーホール46,46,・・・を介して放熱用パッド42に連結されている。
Further, the heat dissipation pad 42 is covered with a resist film 43 except for a region facing the back surface 7 b of the first stage portion 7. Note that the resist film 43 also covers the electrode pads 44 except for the region facing the other end portion 11 b of the lead 11.
Further, a plurality of heat conductive layers 45A to 45C having a high thermal conductivity such as copper foil extending in the surface direction of the circuit board 41 are formed in the circuit board 41 and the back surface 41b. 45A to 45C are connected to the heat dissipation pad 42 via a plurality of through holes 46, 46,... Extending from the heat dissipation pad 42 toward the back surface 41b of the circuit board 41.

上記構成の回路基板41に半導体装置1を実装する際には、例えばスクリーン印刷により回路基板41の表面41aにはんだを塗布すればよい。この際、はんだ47は、電極パッド44や放熱用パッド42のうち外方に露出する部分のみに残存し、レジスト膜43を形成した部分には残存しない。
そして、この状態において半導体装置1を回路基板41の表面41aに載せてはんだリフローを実施することにより、リード11の他端部11bが電極パッド44に接合されると共に、第1のステージ部7が放熱用パッド42に接合されることになる。
When the semiconductor device 1 is mounted on the circuit board 41 having the above configuration, solder may be applied to the surface 41a of the circuit board 41, for example, by screen printing. At this time, the solder 47 remains only in the portion exposed to the outside of the electrode pad 44 and the heat radiation pad 42 and does not remain in the portion where the resist film 43 is formed.
In this state, the semiconductor device 1 is placed on the surface 41a of the circuit board 41 and solder reflow is performed, whereby the other end portion 11b of the lead 11 is joined to the electrode pad 44 and the first stage portion 7 is The heat dissipation pad 42 is joined.

上記構成の回路基板41に実装する半導体装置1の実装構造によれば、第1の半導体チップ3において発生した熱を第1のステージ部7の露出面積よりも大きい面積の放熱用パッド42に拡散させることができる、また、放熱用パッド42からスルーホール46を介してさらに複数の熱伝導層45A〜45Cに伝えることができるため、第1の半導体チップ3の放熱を効率よく行うことができる。
また、放熱用パッド42をレジスト膜43で覆うことにより、回路基板41に対向して露出する第2のステージ部9の裏面9bが放熱用パッド42にはんだ付けされることを防止して、第1の半導体チップ3において発生した熱が放熱用パッド42を介して第2の半導体チップ5に伝わることを確実に防止することができる。
According to the mounting structure of the semiconductor device 1 mounted on the circuit board 41 having the above configuration, the heat generated in the first semiconductor chip 3 is diffused to the heat radiation pad 42 having an area larger than the exposed area of the first stage portion 7. In addition, since heat can be transmitted from the heat radiation pad 42 to the plurality of heat conductive layers 45A to 45C through the through holes 46, the heat radiation of the first semiconductor chip 3 can be efficiently performed.
Further, by covering the heat dissipation pad 42 with the resist film 43, the back surface 9b of the second stage portion 9 exposed to face the circuit board 41 is prevented from being soldered to the heat dissipation pad 42. It is possible to reliably prevent the heat generated in one semiconductor chip 3 from being transmitted to the second semiconductor chip 5 via the heat radiation pad 42.

次に、本発明による第2実施形態について図5,6を参照して説明する。なお、この第2実施形態の半導体装置のうち、第1実施形態の半導体装置1の構成要素と同一の部分については同一符号を付し、その説明を省略する。   Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. Note that, in the semiconductor device of the second embodiment, the same components as those of the semiconductor device 1 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図5,6に示すように、この実施形態に係る半導体装置51を構成する2つのステージ部7,9は、これらの配列方向に直交する各ステージ部7,9の幅寸法よりも幅狭の連結部53によって一体に連結されている。なお、連結部53は、相互に対向する2つのステージ部7,9の他端部7e,9eのうち幅方向の両側部(端部)を連結するように一対形成されている。
また、各連結部53には、各ステージ部7,9の裏面7b,9bから厚さ方向に窪む凹部53aが形成され、その厚さ寸法が各ステージ部7,9の略半分となっている。このように構成することで、連結部53は樹脂モールド部13の内部に埋設され、2つのステージ部7,9の裏面7b,9bは相互に分離した状態で樹脂モールド部13の下面13aから外方に露出することになる。
As shown in FIGS. 5 and 6, the two stage portions 7 and 9 constituting the semiconductor device 51 according to this embodiment are narrower than the width dimension of each of the stage portions 7 and 9 perpendicular to the arrangement direction. They are integrally connected by a connecting portion 53. Note that a pair of connecting portions 53 are formed so as to connect both side portions (end portions) in the width direction of the other end portions 7e and 9e of the two stage portions 7 and 9 facing each other.
Further, each connecting portion 53 is formed with a recess 53a that is recessed in the thickness direction from the back surface 7b, 9b of each stage portion 7, 9, and the thickness dimension is substantially half that of each stage portion 7, 9. Yes. With this configuration, the connecting portion 53 is embedded in the resin mold portion 13, and the back surfaces 7 b and 9 b of the two stage portions 7 and 9 are separated from each other from the lower surface 13 a of the resin mold portion 13. Will be exposed.

以上のように構成された半導体装置51を製造する際には、はじめに、第1実施形態の構成に連結部53を加えたリードフレームを用意する。なお、連結部53の凹部53aは、例えばリードフレームを形成すると同時に、プレス加工により連結部53の裏面側を押し潰して形成されるとしてもよいし、エッチング加工により連結部53の裏面部分を除去して形成されるとしても構わない。また、この凹部53aの形成は、例えばリードフレームの形成後に実施されるとしても構わない。
上記リードフレームを形成した後には、第1実施形態と同様に、半導体チップ3,5をステージ部7,9に搭載し、半導体チップ3,5とリード11との間及び2つの半導体チップ3,5間にワイヤー15,17を配する。また、これら半導体チップ3,5、ステージ部7,9、リード11、ワイヤー15,17及び連結部53を封止する樹脂モールド部13を形成する。
When manufacturing the semiconductor device 51 configured as described above, first, a lead frame in which the connecting portion 53 is added to the configuration of the first embodiment is prepared. The concave portion 53a of the connecting portion 53 may be formed by, for example, pressing the back side of the connecting portion 53 by pressing at the same time as forming the lead frame, or removing the back surface portion of the connecting portion 53 by etching. May be formed. The formation of the recess 53a may be performed after the formation of the lead frame, for example.
After the lead frame is formed, the semiconductor chips 3 and 5 are mounted on the stage portions 7 and 9 as in the first embodiment, and between the semiconductor chips 3 and 5 and the lead 11 and between the two semiconductor chips 3 and 3. Wires 15 and 17 are arranged between the five. Further, the resin mold part 13 for sealing the semiconductor chips 3 and 5, the stage parts 7 and 9, the leads 11, the wires 15 and 17, and the connecting part 53 is formed.

この際には、第1実施形態と同様にして、ステージ部7,9の裏面7b,9bをキャビティの内面に配した状態でキャビティ内に溶融樹脂を流し込むことで、ステージ部7,9の裏面7b,9bが樹脂モールド部13の下面13aから外方に露出することになる。ここで、各ステージ部7,9の一端部7d,9dが吊りリード19,21によって支持されると共に他端部7e,9eが連結部53によって支持されるため、前述の溶融樹脂の流動によってステージ部7,9がキャビティの内面から浮き上がることを容易に防止できる。なお、この実施形態においては、一対の連結部53,53が2つのステージ部7,9の他端部7e,9eの両側部を連結しているため、ステージ部7,9の幅方向にわたってその他端部7e,9eが浮き上がることを確実に防止することができる。
なお、この樹脂モールド部13の形成後には、第1実施形態と同様に、樹脂モールド部13の外側に位置するフレーム枠及び吊りリード19,21を切り落とすことで半導体装置51の製造が完了する。
At this time, in the same manner as in the first embodiment, the molten resin is poured into the cavity with the back surfaces 7b and 9b of the stage portions 7 and 9 being arranged on the inner surface of the cavity, whereby the back surfaces of the stage portions 7 and 9 are obtained. 7b and 9b are exposed from the lower surface 13a of the resin mold part 13 to the outside. Here, since the one end portions 7d and 9d of the stage portions 7 and 9 are supported by the suspension leads 19 and 21 and the other end portions 7e and 9e are supported by the connecting portion 53, the stage is caused by the flow of the molten resin. It is possible to easily prevent the portions 7 and 9 from floating from the inner surface of the cavity. In this embodiment, since the pair of connecting portions 53 and 53 connect both side portions of the other end portions 7e and 9e of the two stage portions 7 and 9, the other portions extend in the width direction of the stage portions 7 and 9. It is possible to reliably prevent the end portions 7e and 9e from floating.
After the formation of the resin mold portion 13, the manufacturing of the semiconductor device 51 is completed by cutting off the frame frame and the suspension leads 19 and 21 located outside the resin mold portion 13, as in the first embodiment.

以上のように製造される半導体装置51を回路基板31に実装する場合には、第1実施形態と同様に、はんだ36を介してリード11の他端部11bを電極パッド33に接合すると共に、はんだ37を介して2つのステージ部7,9の裏面7b,9bをそれぞれ別個の放熱用パッド34,35に接合すればよい。
ここで、2つのステージ部7,9は、連結部53によって相互に連結されているものの、これらの裏面7b,9bは相互に分離した状態で樹脂モールド部13の下面13aから外方に露出しているため、はんだ37が2つのステージ部7,9にわたって濡れ広がることを確実に防止することができる。
When the semiconductor device 51 manufactured as described above is mounted on the circuit board 31, the other end portion 11 b of the lead 11 is joined to the electrode pad 33 via the solder 36, as in the first embodiment. What is necessary is just to join the back surfaces 7b and 9b of the two stage portions 7 and 9 to separate heat radiation pads 34 and 35 through the solder 37, respectively.
Here, although the two stage parts 7 and 9 are mutually connected by the connection part 53, these back surfaces 7b and 9b are exposed outside from the lower surface 13a of the resin mold part 13 in a state of being separated from each other. Therefore, it is possible to reliably prevent the solder 37 from spreading over the two stage portions 7 and 9.

この実施形態に係る半導体装置51によれば、第1実施形態と同様の効果を奏する。なお、この半導体装置51においては、第1の半導体チップ3において発生した熱が連結部53を介して第2の半導体チップ5に伝わることもあるが、この連結部53はステージ部7,9の幅寸法よりも十分に幅狭に形成されているため、連結部53を介して第1の半導体チップ3から第2の半導体チップ5に伝わる熱を小さくすることができる。
また、連結部53を設けることで、樹脂モールド部13の形成時にステージ部7,9がキャビティの内面から浮き上がることを防止できるため、ステージ部7,9の裏面7b,9bを確実に樹脂モールド部13の下面13aから外方に露出させることができる。
The semiconductor device 51 according to this embodiment has the same effects as those of the first embodiment. In this semiconductor device 51, heat generated in the first semiconductor chip 3 may be transferred to the second semiconductor chip 5 through the connecting portion 53, but this connecting portion 53 is connected to the stage portions 7 and 9. Since the width is formed sufficiently narrower than the width dimension, the heat transmitted from the first semiconductor chip 3 to the second semiconductor chip 5 through the connecting portion 53 can be reduced.
Further, by providing the connecting portion 53, it is possible to prevent the stage portions 7 and 9 from being lifted from the inner surface of the cavity when the resin mold portion 13 is formed, so that the back surfaces 7b and 9b of the stage portions 7 and 9 are securely attached to the resin mold portion. 13 can be exposed outwardly from the lower surface 13a.

さらに、連結部53を樹脂モールド部13の内部に埋設しておくことで、回路基板31に接合するはんだ37が2つのステージ部7,9にわたって濡れ広がることを確実に防止できるため、第1の半導体チップ3において発生した熱がはんだ37を介して第2の半導体チップ5に伝わることも確実に防止できる。
また、連結部53は、2つのステージ部7,9の他端部7e,9eのうちステージ部7,9の幅方向の端部を連結しているため、第1の半導体チップ3から連結部53を介して第2の半導体チップ5に到達する熱伝導の経路をより長く設定することができ、第1の半導体チップ3から第2の半導体チップ5への熱伝導をさらに抑制することが可能となる。
Furthermore, by burying the connecting portion 53 in the resin mold portion 13, it is possible to reliably prevent the solder 37 bonded to the circuit board 31 from spreading over the two stage portions 7 and 9. It is possible to reliably prevent heat generated in the semiconductor chip 3 from being transmitted to the second semiconductor chip 5 through the solder 37.
Further, since the connecting portion 53 connects the end portions in the width direction of the stage portions 7 and 9 among the other end portions 7e and 9e of the two stage portions 7 and 9, the connecting portion 53 is connected to the connecting portion from the first semiconductor chip 3. The heat conduction path reaching the second semiconductor chip 5 via 53 can be set longer, and the heat conduction from the first semiconductor chip 3 to the second semiconductor chip 5 can be further suppressed. It becomes.

なお、上述した第2実施形態において、連結部53は、その厚さ寸法がステージ部7,9の略半分となるように形成されるとしたが、これに限ることはなく、樹脂モールド部13の内部に埋設さればよいため、少なくともステージ部7,9の裏面7b,9bから窪む位置に形成されていればよい。したがって、連結部53は、例えばステージ部7,9の表面7a,9a側から突出するように屈曲して形成されるとしても構わない。   In the second embodiment described above, the connecting portion 53 is formed so that its thickness dimension is substantially half that of the stage portions 7 and 9, but the present invention is not limited to this, and the resin mold portion 13 is not limited thereto. Therefore, it is only necessary to be formed at a position recessed from at least the back surfaces 7b and 9b of the stage portions 7 and 9. Therefore, the connecting portion 53 may be formed to be bent so as to protrude from the surfaces 7a, 9a side of the stage portions 7, 9, for example.

また、連結部53は樹脂モールド部13の内部に埋設されるとしたが、樹脂モールド部13の形成時におけるステージ部7,9の浮き上がり防止のみを考慮する場合には、ステージ部7,9の裏面7b,9bと共に樹脂モールド部13の下面13aに露出するとしてもよい。
さらに、連結部53は一対形成されるとしたが、これに限ることはなく、例えば1つだけ形成されるとしてもよいし、3つ以上形成されるとしてもよい。
In addition, the connecting portion 53 is embedded in the resin mold portion 13. However, when only the prevention of the lifting of the stage portions 7 and 9 when the resin mold portion 13 is formed is considered, You may expose to the lower surface 13a of the resin mold part 13 with the back surfaces 7b and 9b.
Furthermore, although the pair of connecting portions 53 are formed, the present invention is not limited to this, and for example, only one may be formed, or three or more may be formed.

なお、上述した全ての実施形態においては、2つのステージ部7,9の裏面7b,9bが樹脂モールド部13の外方に露出するとしたが、これに限ることはなく、少なくとも保証温度の高い第1の半導体チップ3を搭載した第1のステージ部7の裏面7bのみが樹脂モールド部13の外方に露出していればよい。
また、2つのステージ部7,9及び半導体チップ3,5を備える構成の半導体装置1,51について述べたが、これに限ることはなく、3つ以上のステージ部及び半導体チップを備える半導体装置についても同様に適用することができる。
さらに、リード11が樹脂モールド部13の外方に突出するQFPとしての半導体装置1,51について説明したが、これに限ることはなく、例えば、リード11が樹脂モールド部13の側部13b及び下面13aの両方に露出するQFN(Quad Flat Non-leaded package)としての半導体装置にも適用することができる。
In all the embodiments described above, the back surfaces 7b and 9b of the two stage portions 7 and 9 are exposed to the outside of the resin mold portion 13, but the present invention is not limited to this. Only the back surface 7 b of the first stage portion 7 on which the single semiconductor chip 3 is mounted needs to be exposed to the outside of the resin mold portion 13.
Moreover, although the semiconductor devices 1 and 51 having the configuration including the two stage portions 7 and 9 and the semiconductor chips 3 and 5 have been described, the present invention is not limited to this, and the semiconductor device including three or more stage portions and the semiconductor chip Can be applied similarly.
Further, the semiconductor devices 1 and 51 as the QFP in which the lead 11 protrudes outward from the resin mold portion 13 has been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, the lead 11 includes the side portion 13b and the lower surface of the resin mold portion 13. The present invention can also be applied to a semiconductor device as a QFN (Quad Flat Non-leaded package) exposed on both sides 13a.

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was explained in full detail with reference to drawings, the concrete structure is not restricted to this embodiment, The design change etc. of the range which does not deviate from the summary of this invention are included.

本発明の第1実施形態に係る半導体装置を示す概略平面図である。1 is a schematic plan view showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 図1の半導体装置を回路基板に実装した状態を示す側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing a state where the semiconductor device of FIG. 1 is mounted on a circuit board. 図1の半導体装置において、発熱回路の形成領域及び半導体チップにおける温度の測定点を示す概略平面図である。In the semiconductor device of FIG. 1, it is a schematic top view which shows the formation area of a heat generating circuit, and the temperature measurement point in a semiconductor chip. 図1の半導体装置を回路基板に実装した状態を示す側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing a state where the semiconductor device of FIG. 1 is mounted on a circuit board. 本発明の第2実施形態に係る半導体装置を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図1の半導体装置を回路基板に実装した状態を示す側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing a state where the semiconductor device of FIG. 1 is mounted on a circuit board.

符号の説明Explanation of symbols

1,51・・・半導体装置、3・・・第1の半導体チップ(一の半導体チップ)、5・・・半導体チップ(他の半導体チップ)、7・・・第1のステージ部(一のステージ部)、7a,9a・・・表面、7b,9b・・・裏面、9・・・第2のステージ部(他のステージ部)、13・・・樹脂モールド部、41・・・回路基板、41a・・・表面、42・・・放熱用パッド、43・・・レジスト膜、53・・・連結部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,51 ... Semiconductor device, 3 ... 1st semiconductor chip (one semiconductor chip), 5 ... Semiconductor chip (other semiconductor chip), 7 ... 1st stage part (1 Stage portion), 7a, 9a ... front surface, 7b, 9b ... back surface, 9 ... second stage portion (other stage portion), 13 ... resin mold portion, 41 ... circuit board 41a ... surface, 42 ... heat dissipation pad, 43 ... resist film, 53 ... connecting part

Claims (6)

表面に半導体チップを1つずつ搭載した略板状のステージ部を複数備えると共に、これら複数の半導体チップ及びステージ部を樹脂モールド部によって封止してなり、
一の半導体チップが、他の半導体チップの保証温度よりも高い発熱温度を生じる発熱回路を有し、
少なくとも前記一の半導体チップを搭載した一のステージ部の裏面が、前記樹脂モールド部の外方に露出し、
前記複数のステージ部が、その面方向に並べられると共に相互に離間して配置されていることを特徴とする半導体装置。
A plurality of substantially plate-like stage portions each having one semiconductor chip mounted on the surface, and the plurality of semiconductor chips and stage portions are sealed by a resin mold portion,
One semiconductor chip has a heat generation circuit that generates a heat generation temperature higher than the guaranteed temperature of the other semiconductor chip,
At least the back surface of one stage portion on which the one semiconductor chip is mounted is exposed to the outside of the resin mold portion,
The semiconductor device, wherein the plurality of stage portions are arranged in a plane direction and are spaced apart from each other.
前記発熱回路が、前記一の半導体チップのうち前記他の半導体チップから離れた領域に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat generating circuit is formed in a region separated from the other semiconductor chip in the one semiconductor chip. 少なくとも相互に隣り合う前記一のステージ部及び前記他のステージ部が、これらの配列方向に直交する各ステージ部の幅寸法よりも幅狭の連結部によって一体に連結されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。   At least the one stage part and the other stage part adjacent to each other are integrally connected by a connecting part narrower than the width dimension of each stage part orthogonal to the arrangement direction. The semiconductor device according to claim 1 or 2. 前記連結部が、前記ステージ部の裏面からその厚さ方向に窪む位置に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 3, wherein the connecting portion is formed at a position that is recessed in a thickness direction from a back surface of the stage portion. 前記連結部が、相互に隣り合うステージ部の幅方向の端部を連結していることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の半導体装置。   5. The semiconductor device according to claim 3, wherein the connecting portion connects end portions in the width direction of adjacent stage portions. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体装置を回路基板に実装する実装構造であって、
前記回路基板の表面に、前記樹脂モールド部から外方に露出する前記一のステージ部の裏面に接合するための放熱用パッドが形成され、
該放熱用パッドが、前記一のステージ部の露出面積よりも大きい面積を有すると共に、前記一のステージ部の裏面に対向する領域を除いてレジスト膜によって覆われていることを特徴とする半導体装置の実装構造。
A mounting structure for mounting the semiconductor device according to any one of claims 1 to 5 on a circuit board,
On the surface of the circuit board, a heat dissipating pad for bonding to the back surface of the one stage part exposed outward from the resin mold part is formed,
The semiconductor device characterized in that the heat dissipating pad has an area larger than the exposed area of the one stage portion and is covered with a resist film except for a region facing the back surface of the one stage portion. Implementation structure.
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