JP2008180880A - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示装置の製造方法は、基板上に形成される層のうちパターン配置の基準となる層を定め、基準となる層のパターン配置のばらつきから求められる値を用いて、基準となる層より上層のパターン配置を決定する。
【選択図】 図3
Description
基板にこれから形成しようとする層のパターンについて、基準となるパターン配置を取得する基準パターン配置取得ステップと、
前記基板に既に形成されている層であってパターン配置の基準となる層のパターン配置と、前記基準パターン配置取得ステップで取得した基準となるパターン配置とのズレを求めるズレ算出ステップと、
当該ズレを最少にするために、前記基準となるパターン配置に施すべき補正パラメータを求める補正パラメータ算出ステップと、
前記補正パラメータの補正に用いる補正量を求める補正量算出ステップと、
前記補正量算出ステップにより算出した補正量を用いて前記補正パラメータを補正する補正パラメータ補正ステップと、
補正した補正パラメータが所定の許容範囲か否か判定する許容判定ステップと、
前記許容判定ステップで許容範囲と判定された場合、補正した補正パラメータを用いて、前記基準となるパターン配置を補正し、補正したパターン配置を用いて、前記これから形成しようとする層のパターンを形成するパターン形成ステップとを有する。
また、ΔCは、S104で求めた、倍率に関するアライメント補正パラメータに相当する。
ここで、
Δm=K・ΔC 式2
として、補正量Δmを求める。Kは
−1≦K≦1 式3
の範囲で値を振って実験的の求められたパラメータである。
次に、基準値の求め方について説明する。図8は、工程Cにおける倍率の分布を例にとって、基準値の算出の仕方を模式的にあらわしたものである。図8の横軸は、この場合、倍率であって、縦軸は、頻度である。αは倍率の値である。δは、露光機の倍率誤差などからなる誤差要因である。この倍率の頻度を表す関数をt(x)とする。t(x)のα−δからα+δまでの積分値をTとする。
制御部104は、かかる式4を用いて、Tの最大値Tmaxを与える倍率αを基準値とする。この基準値の導出の方法は、他の工程でも同じである。
図5に戻って説明する。次に、制御部104は、S104で求めたアライメント補正パラメータを、S105において求めた補正量Δmにより補正し、さらに、許容範囲か否か判定する(S106)。
距離の漸近量Δdは、オリジナルの描画用パターンの大きさに、倍率の補正量Δmを乗じた値に相当する。
PM:製品個別に規定されるアライメント許容値
MM:露光部101自体のアライメントのばらつき幅
制御部104は、上記式を満たす場合、アライメント補正パラメータは、適切であると判定する。一方、満たさない場合は、不適であると判定する。そして、合算値eA=PMとして、置き換える。そして、制御部104は、かかる合算値eAに基づき、アライメント補正パラメータの倍率を修正する。具体的には、下層層320のアライメントマーク311のバラツキ中心314から基板中心に向かって合算値eAだけ離れた位置に、上層316のアライメントマーク317が配されるように倍率を修正する。例えば、基板中心からバラツキ中心314までの距離Lxとすると、アライメント補正パラメータの倍率を、(Lx−eA)/Lx とする。
次に、CF基板の製造工程に、漸次的合わせ法を適用する実施例について説明する。CF基板の製造における描画用パターンの修正の考え方は、図5に示したTFT基板の製造工程の描画用パターンの修正の仕方と同じである。
また、露光方式として、マスクを使う方式でも、漸近的合わせ法を適用することができる。
101 露光部
102 アライメント計測部
103 ステージ部
104 制御部
105 データベース
106 筐体
108 基板番号認識装置
109 CADシステム
Claims (8)
- 表示装置の製造方法であって、
基板上に形成される層のうちパターン配置の基準となる層を定め、
前記基準となる層のパターン配置のばらつきから求められる値を用いて、前記基準となる層より上層のパターン配置を決定する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 表示装置の製造方法であって、
基板上に形成される層のうちパターン配置の基準となる層を定め、
前記基準となる層より上層ほど、そのパターン配置が、前記基準となる層のパターン配置に近づくようにする
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項2において、
前記基準となる層のパターンのばらつきから求められる値を用いて、前記基準となる層より上層のパターンの配置を決定する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項3において、
複数の基板に関する前記基準となる層のパターン配置に関する情報を記録し、記録した情報に基づいて、前記基準となる層のパターン配置のばらつきを求め、
当該ばらつきから、予め定めた方法により、前記値を求める
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項4において、
前記値は、最も頻度が高いパターン配置から求まる値である
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 表示装置の製造方法であって、
基板にこれから形成しようとする層のパターンについて、基準となるパターン配置を取得する基準パターン配置取得ステップと、
前記基板に既に形成されている層であってパターン配置の基準となる層のパターン配置と、前記基準パターン配置取得ステップで取得した基準となるパターン配置とのズレを求めるズレ算出ステップと、
当該ズレを最少にするために、前記基準となるパターン配置に施すべき補正パラメータを求める補正パラメータ算出ステップと、
前記補正パラメータの補正に用いる補正量を求める補正量算出ステップと、
前記補正量算出ステップにより算出した補正量を用いて前記補正パラメータを補正する補正パラメータ補正ステップと、
補正した補正パラメータが所定の許容範囲か否か判定する許容判定ステップと、
前記許容判定ステップで許容範囲と判定された場合、補正した補正パラメータを用いて、前記基準となるパターン配置を補正し、補正したパターン配置を用いて、前記これから形成しようとする層のパターンを形成するパターン形成ステップと
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 第1の基板と第2の基板とを貼り合わせてなる表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板の製造工程で形成される層のパターン配置に関する情報を用いて、前記第2の基板の製造工程で形成されるパターン配置を決定する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項7に記載の表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板上に形成される層のうちパターン配置の基準となる層を定め、
前記基準となる層のパターン配置のばらつきから求められる値を用いて、前記第2の基板の層のパターン配置を決定する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。
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