JP2008172000A - Exposure method and exposure device - Google Patents

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate adjustment of an imaging position and to improve overlap precision of a reference pattern of an object to be exposed and an exposure pattern. <P>SOLUTION: An exposure device includes a conveyance means 1 conveying the object 8 to be exposed to a prescribed direction by placing it on a placing face, DMD 3 which is arranged above the conveyance means 1 and in which a plurality of micro mirrors that slantingly move in such a way that light L<SB>1</SB>which is made incident from a light source 2 is reflected in a direction of the object 8 so as to generate the exposure pattern and that slantingly move in such a way that visible light L<SB>2</SB>which is made incident from the direction of the object 8 is reflected in a direction different from an incident direction of light L<SB>1</SB>from the light source 2 are arranged in a matrix shape in a conveyance direction of the object 8 and a direction crossing the conveyance direction, a projection lens 4 projecting the exposure pattern generated by DMD 3 on the object 8, an image pickup means 5 which is arranged in a direction on which visible light L<SB>2</SB>that is made incident from the direction of the object 8 is reflected by DMD 3 and which image-picks up a surface of the object 8, and a control means 7 controlling respective structure elements. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、被露光体を搬送しながら、被露光体の基準パターンを撮像し、複数のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、上記基準パターン上に露光パターンを露光する露光方法に関し、詳しくは、撮像位置の調整を容易にして上記基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。   The present invention relates to an exposure method for imaging a reference pattern of an object to be exposed while conveying the object to be exposed, generating an exposure pattern by tilting a plurality of micromirrors, and exposing the exposure pattern on the reference pattern. Specifically, the present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus that facilitate adjustment of the imaging position and improve the overlay accuracy of the reference pattern and the exposure pattern.

従来の露光装置は、搬送手段で被露光体を所定の速度で搬送し、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べて配置されたマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーにそれぞれ対応させて、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べ、且つ搬送方向に先後して並べて配置した撮像手段の複数の受光素子で投影レンズを介して被露光体からの光を受光して、被露光体上の露光位置の搬送方向手前側を撮像し、その画像の画像データに基づいて制御手段でマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを駆動制御し、該マイクロミラーで光源からの露光光を反射して該露光光に強度変調を与えて射出し、投影レンズで該強度変調された露光光を被露光体上に投影し、被露光体上に形成された基準パターン上に露光パターンを露光するようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−３３０６２２号公報 A conventional exposure apparatus conveys an object to be exposed at a predetermined speed by a conveying means, and corresponds to each of a plurality of micromirrors of micromirror devices arranged side by side in a direction orthogonal to the conveying direction of the object to be exposed. The light from the object to be exposed is received through the projection lens by the plurality of light receiving elements of the imaging means arranged in the direction orthogonal to the conveyance direction of the exposure object and arranged in advance in the conveyance direction, and then on the object to be exposed. The front side of the exposure position in the transport direction is imaged, and a plurality of micromirrors of the micromirror device are driven and controlled by the control means based on the image data of the image. The exposure light is emitted after being modulated in intensity, and the projection lens projects the intensity-modulated exposure light onto the object to be exposed, and the exposure pattern is exposed on the reference pattern formed on the object to be exposed. Tsu which was (for example, see Patent Document 1).
JP 2006-330622 A

しかし、このような従来の露光装置においては、撮像手段により被露光体表面を直接撮像するようになっていたので、撮像位置の調整は、撮像手段の取り付け位置を動かして行なうしかなく、撮像位置の調整が困難であった。したがって、撮像手段の取り付け位置がずれた場合には、撮像位置と露光位置との間の距離が変わり、撮像時を基準にした露光パターンの露光タイミングがずれてしまい、基準パターン上に露光パターンを精度良く重ね露光することができないおそれがあった。   However, in such a conventional exposure apparatus, since the surface of the object to be exposed is directly imaged by the imaging means, the adjustment of the imaging position can only be performed by moving the mounting position of the imaging means. It was difficult to adjust. Therefore, when the mounting position of the imaging means is shifted, the distance between the imaging position and the exposure position changes, the exposure timing of the exposure pattern based on the time of imaging shifts, and the exposure pattern is placed on the reference pattern. There was a risk that overlay exposure could not be performed with high accuracy.

そこで、本発明は、このような問題点に対処し、撮像位置の調整を容易にして被露光体の基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides an exposure method and an exposure apparatus that address such problems and improve the overlay accuracy between the reference pattern and the exposure pattern of the exposure object by facilitating adjustment of the imaging position. For the purpose.

上記目的を達成するために、第１の発明による露光方法は、被露光体を所定方向に搬送しながら、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの所定のマイクロミラーを、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、前記被露光体上に前記露光パターンを投影して露光する露光方法であって、前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光するものである。   In order to achieve the above object, an exposure method according to a first aspect of the present invention comprises a plurality of micromirrors along a transport direction of the object to be exposed and a direction intersecting the transport direction while transporting the object to be exposed in a predetermined direction. Is tilted so that light incident from a light source is reflected in the direction of the object to be exposed to generate an exposure pattern, and the above-mentioned object is formed on the object to be exposed. An exposure method for projecting and exposing an exposure pattern, wherein a plurality of micromirrors of the micromirror device reflect visible light incident from the direction of the object to be exposed in a direction different from an incident direction of light from the light source. Tilted so that the visible light reflected by the micromirror device is received by the imaging means and images a predetermined reference pattern formed in advance on the object to be exposed, Bitmap data of an image corresponding to the exposure pattern is generated based on the image data of the reference pattern imaged by the imaging means and design data stored in advance in a storage unit, and the micro data is generated based on the bitmap data. A plurality of micromirrors of the mirror device are tilted to generate a predetermined exposure pattern, and the predetermined exposure pattern is exposed on a reference pattern formed on the object to be exposed.

このような構成により、被露光体を所定方向に搬送し、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを、被露光体方向から入射する可視光が光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、上記ビットマップデータに基づいてマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、光源から入射する光が被露光体方向に反射されるように傾動させて所定の露光パターンを生成し、被露光体に形成された基準パターン上に上記所定の露光パターンを露光する。   With such a configuration, the plurality of micromirror devices in which the object to be exposed is transported in a predetermined direction, and a plurality of micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction. The micromirror is tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source, and the visible light reflected by the micromirror device is received by the imaging means. An image bit corresponding to the exposure pattern based on the image data of the reference pattern captured by the imaging unit and the design data stored in advance in the storage unit Map data is generated, and a plurality of micromirrors of the micromirror device are covered with light incident from a light source based on the bitmap data. It is tilted so as to be reflected in the optical member direction to generate a predetermined exposure pattern to expose the predetermined exposure pattern on a reference pattern formed on the object to be exposed.

また、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。   The micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. A predetermined micromirror in the group of micromirrors is tilted to generate the exposure pattern, and at least one row of micromirrors in the micromirror group on the back side in the transport direction is tilted to view visible light from the direction of the object to be exposed. Is reflected to the imaging means. As a result, an exposure pattern is generated by tilting a predetermined micromirror in the micromirror group on the front side in the transport direction divided with the direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. At least one row of micromirrors in the mirror group is tilted to reflect visible light from the direction of the exposed object to the imaging means.

また、第２の発明による露光装置は、載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、前記各構成要素を制御する制御手段と、を備えたものである。   An exposure apparatus according to a second aspect of the invention includes a transport unit that mounts an object to be exposed on a mounting surface and transports it in a predetermined direction, and is disposed above the transport unit, and light incident from a light source is received by the light source. A plurality of tilts so that the visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source while being tilted so as to be reflected in the direction of the exposed body. Micromirror devices in which the micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction, and an exposure pattern generated by the micromirror device on the object to be exposed A projection lens that projects, and an imaging unit that is disposed in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and that images the surface of the object to be exposed; Serial in which and a control means for controlling each component.

このような構成により、制御手段で各構成要素を制御し、搬送手段で載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送し、複数のマイクロミラーが被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを傾動させて、被露光体方向から入射する可視光を光源から入射する光の入射方向と異なる方向に反射させ、マイクロミラーデバイスによって被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設された撮像手段で被露光体の表面を撮像し、マイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを光源から入射する露光光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを投影レンズで被露光体上に投影する。   With such a configuration, each control element is controlled by the control means, and the object to be exposed is placed on the placement surface by the conveying means and conveyed in a predetermined direction. A direction different from the incident direction of the light incident from the light source by tilting the plurality of micromirrors of the micromirror device arranged in a matrix along the direction intersecting the transport direction so that the visible light incident from the direction of the exposure object is incident The surface of the object to be exposed is imaged by an imaging means arranged in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and the plurality of micromirrors of the micromirror device are light sources The exposure pattern is generated by tilting so that the exposure light incident from the head is reflected toward the object to be exposed, and the exposure pattern generated by the micromirror device is projected. It is projected onto the object to be exposed in the lens.

さらに、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。   Further, the micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. A predetermined micromirror in the group of micromirrors is tilted to generate the exposure pattern, and at least one row of micromirrors in the micromirror group on the back side in the transport direction is tilted to view visible light from the direction of the object to be exposed. Is reflected to the imaging means. As a result, an exposure pattern is generated by tilting a predetermined micromirror in the micromirror group on the front side in the transport direction divided with the direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. At least one row of micromirrors in the mirror group is tilted to reflect visible light from the direction of the exposed object to the imaging means.

さらにまた、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて備えたものである。被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。   Still further, the imaging means includes a plurality of light receiving elements arranged in a straight line in a direction intersecting with the transport direction of the object to be exposed. The surface of the object to be exposed is imaged by an imaging means in which a plurality of light receiving elements are arranged in a straight line in a direction crossing the conveying direction of the object to be exposed.

そして、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものである。これにより、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。   The image pickup means includes a plurality of light receiving elements in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction. As a result, the surface of the object to be exposed is imaged by the image pickup means provided with a plurality of light receiving elements in a matrix along the conveying direction of the object to be exposed and the direction intersecting the conveying direction.

請求項１に係る露光方法によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。   According to the exposure method of the first aspect, since the surface of the object to be exposed is imaged by the imaging means via the micromirror device having a plurality of micromirrors in a matrix, the micromirror array intersecting the transport direction Among them, the imaging position can be easily adjusted by switching at least one micromirror array tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected to the imaging means to another micromirror array. it can. Accordingly, it is possible to improve the overlay accuracy of the exposure pattern with respect to the reference pattern of the object to be exposed by appropriately adjusting the exposure timing based on the time of imaging.

また、請求項３に係る露光装置によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。また、マイクロミラーデバイスを介して撮像するようにしているので、被露光体の搬送方向に先後してマイクロミラーデバイスと並べて撮像手段を配設した従来技術の露光装置に比べて投影レンズの径を小さくすることができ、投影光学系を小型化することができる。   According to the exposure apparatus of the third aspect, since the surface of the object to be exposed is imaged by the imaging means via the micromirror device having a plurality of micromirrors in a matrix, a micro that intersects the transport direction. Of the mirror rows, the imaging position is easily adjusted by switching at least one micro mirror row tilted so as to reflect visible light incident from the direction of the object to be exposed to the imaging means to another micro mirror row. be able to. Accordingly, it is possible to improve the overlay accuracy of the exposure pattern with respect to the reference pattern of the object to be exposed by appropriately adjusting the exposure timing based on the time of imaging. In addition, since the image is taken through the micromirror device, the diameter of the projection lens is smaller than that of the conventional exposure apparatus in which the imaging means is arranged in parallel with the micromirror device prior to the conveying direction of the object to be exposed. The projection optical system can be reduced in size.

さらに、請求項２又は請求項４に係る発明によれば、被露光体を搬送している間、常時、被露光体の表面を撮像することができる。したがって、被露光体表面の撮像画像に欠落部が発生するおそれがなく、欠陥のないパターンを露光することができる。   Furthermore, according to the invention which concerns on Claim 2 or Claim 4, while conveying a to-be-exposed body, the surface of to-be-exposed body can always be imaged. Therefore, there is no possibility that a missing portion is generated in the captured image on the surface of the object to be exposed, and a pattern having no defect can be exposed.

さらにまた、請求項５に係る発明によれば、撮像手段が複数の受光素子を一直線状に並べたものであるので、撮像手段の部品コストを安価にすることができる。   Furthermore, according to the fifth aspect of the present invention, since the image pickup means has a plurality of light receiving elements arranged in a straight line, the component cost of the image pickup means can be reduced.

そして、請求項６に係る発明によれば、被露光体表面の二次元画像の取得と、該二次元画像に基づいて生成された露光パターンの露光とを略リアルタイムに実行することができ、基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度をより向上することができる。また、取り付け精度の問題からマイクロミラーデバイスのマイクロミラーと撮像手段の受光素子との間の対応関係がずれた場合にも、上記マイクロミラーにおける反射光を別の受光素子で受光することができ、上記マイクロミラーデバイスに対する撮像手段の取り付け精度の許容範囲を大きくすることができる。これにより、装置の組立てが容易になる。   According to the invention of claim 6, the acquisition of the two-dimensional image of the surface of the object to be exposed and the exposure of the exposure pattern generated based on the two-dimensional image can be executed in substantially real time. The overlay accuracy between the pattern and the exposure pattern can be further improved. In addition, even if the correspondence between the micromirror of the micromirror device and the light receiving element of the imaging means is shifted due to the problem of mounting accuracy, the reflected light in the micromirror can be received by another light receiving element, The allowable range of the accuracy of attaching the imaging means to the micromirror device can be increased. This facilitates assembly of the device.

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、被露光体を所定方向に搬送しながら、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配置したマイクロミラーデバイスで所定の露光パターンを生成して露光するもので、搬送手段１と、光源２と、マイクロミラーデバイス３と、投影レンズ４と、撮像手段５と、照明手段６と、制御手段７とからなる。なお、以下の説明においては、被露光体８が感光材を塗布した透明なガラス基板からなる場合について述べる。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention. This exposure apparatus generates and exposes a predetermined exposure pattern with a micromirror device in which a plurality of micromirrors are arranged in a matrix while transporting an object to be exposed in a predetermined direction. And a micromirror device 3, a projection lens 4, an imaging unit 5, an illumination unit 6, and a control unit 7. In the following description, the case where the object to be exposed 8 is made of a transparent glass substrate coated with a photosensitive material will be described.

上記搬送手段１は、載置面であるステージ９上面に被露光体８を載置して矢印Ａ方向に搬送するものであり、図示省略の搬送用モータが後述の制御手段７により制御されてステージ９を移動するようになっている。また、上記搬送手段１には、図示省略の例えばエンコーダやリニアセンサー等の位置検出センサーや速度センサーが設けられており、その出力を制御手段７にフィードバックして位置検出及び速度制御を可能にしている。なお、上記ステージ９には、被露光体８の全露光領域に対応して開口部が設けられており、ステージ９の下方に配設された後述の照明手段６により被露光体８を下方から照明できるようになっている。   The transport means 1 is configured to place the object to be exposed 8 on the upper surface of the stage 9 as a placement surface and transport it in the direction of arrow A. A transport motor (not shown) is controlled by the control means 7 described later. The stage 9 is moved. The transport means 1 is provided with a position detection sensor and a speed sensor (not shown) such as an encoder and a linear sensor, and the output is fed back to the control means 7 to enable position detection and speed control. Yes. The stage 9 is provided with an opening corresponding to the entire exposure area of the object 8 to be exposed, and the object 8 is moved from below by the illumination means 6 provided below the stage 9. It can be illuminated.

上記搬送手段１の上方には、光源２が設けられている。この光源２は、紫外線（ＵＶ光）Ｌ１を放射するものであり、例えばキセノンランプや紫外線レーザ光源等である。そして、放射されるＵＶ光Ｌ１を反射ミラー１３ａ，１３ｂにより反射して後述のマイクロミラーデバイス３を斜め下方から照射するようになっている。 A light source 2 is provided above the conveying means 1. The light source 2, ultraviolet is intended to emit (UV light) L 1, for example, a xenon lamp or ultraviolet laser light source or the like. Then, the reflected UV light L 1 emitted mirrors 13a, adapted to illuminate the micro-mirror device 3 below the obliquely downwardly reflected by 13b.

上記搬送手段１の上方にて上記光源２から放射されるＵＶ光Ｌ１の放射方向前方には、マイクロミラーデバイス３が配設されている。このマイクロミラーデバイス３は、光源２から入射するＵＶ光Ｌ１を被露光体８方向に反射するように傾動されて二次元の露光パターンを生成すると共に、被露光体８方向から入射する可視光Ｌ２を上記光源２からのＵＶ光Ｌ１の入射方向と異なる方向に反射するように傾動される複数のマイクロミラー１０が被露光体８の搬送方向及び該搬送方向と直交する方向に沿ってマトリクス状に配置されたものであり、図２に示すように、被露光体８の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａと搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０を傾動して露光パターンを生成し、光源２から入射するＵＶ光Ｌ１を露光パターン情報を含む露光光Ｌ３として被露光体８に向けて反射し、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちの少なくとも一列のマイクロミラー１０を傾動して被露光体８方向からの可視光Ｌ２を撮像手段５へ反射するようになっている。なお、マイクロミラー１０が光源２から入射するＵＶ光Ｌ１を被露光体８の方向に反射するように傾動している状態を以下「オン状態」といい、被露光体８からの可視光Ｌ２を撮像手段８の方向に反射するように傾動している状態を以下「オフ状態」という。 The radial direction in front of the UV light L 1 emitted from the light source 2 at above the conveying means 1, micro-mirror device 3 is arranged. The micromirror device 3 is tilted so as to reflect the UV light L 1 incident from the light source 2 in the direction of the object to be exposed 8 to generate a two-dimensional exposure pattern, and visible light incident from the direction of the object to be exposed 8. the L 2 along a direction in which the plurality of micro-mirrors 10 are perpendicular to the conveying direction and the conveying direction of the subject to be exposed 8 is tilted so as to reflect in a direction different from the incident direction of UV light L 1 from the light source 2 As shown in FIG. 2, the micromirror group 11a on the front side in the transport direction and the micromirror group 11b on the back side in the transport direction with the direction intersecting the transport direction of the object 8 as a boundary. is divided into bets, it tilts the predetermined micro mirror 10 of the micro-mirrors 11a in the transport direction front side to generate an exposure pattern, exposure to UV light L 1 incident from the light source 2 pattern Reflected toward the subject to be exposed 8 as the exposure light L 3 containing over emissions information, visible from the tilted micromirrors 10 of at least one row exposed object 8 directions of the micromirrors group 11b in the transport direction rear side The light L 2 is reflected to the imaging means 5. A state in which the micromirror 10 is tilted so as to reflect the UV light L 1 incident from the light source 2 in the direction of the object to be exposed 8 is hereinafter referred to as an “on state”, and the visible light L from the object to be exposed 8 is expressed. The state in which 2 is tilted so as to be reflected in the direction of the imaging means 8 is hereinafter referred to as an “off state”.

そして、上記マイクロミラーデバイス３には、例えば、表示用デバイスとして汎用のデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ：米国テキサス・インスツルメンツ社の商標）を使用することができる。以下、マイクロミラーデバイス３がＤＭＤの場合について説明する。   For the micromirror device 3, for example, a general-purpose digital micromirror device (DMD: trademark of Texas Instruments Inc., USA) can be used as a display device. Hereinafter, a case where the micromirror device 3 is a DMD will be described.

上記搬送手段１とＤＭＤ３との間には、投影レンズ４が配設されている。この投影レンズ４は、ＤＭＤ３で生成された露光パターンを被露光体８上に投影するものであり、複数のレンズを組み合わせてテレセントリック光学系を構成している。   A projection lens 4 is disposed between the conveying means 1 and the DMD 3. The projection lens 4 projects the exposure pattern generated by the DMD 3 onto the object 8 to be exposed, and constitutes a telecentric optical system by combining a plurality of lenses.

上記ＤＭＤ３にて、図２に示す搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂで被露光体８方向から入射する可視光Ｌ２が反射される方向には、撮像手段５が配設されている。この撮像手段５は、被露光体８の表面に形成された基準パターンを撮像するものであり、被露光体８の図１に矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に対応させて複数の受光素子を一直線状に並べて備えた、例えばラインカメラである。そして、同図に示すように、上記投影レンズ４と結像レンズ１２とにより被露光体８上の基準パターンが撮像手段５の受光面上に結像されるようになっている。なお、図１において、符号１３ｃは、反射ミラーを示す。 In the DMD 3, the imaging means 5 is arranged in a direction in which the visible light L 2 incident from the direction of the object to be exposed 8 is reflected by the micromirror group 11 b on the back side in the transport direction shown in FIG. The image pickup means 5 picks up an image of a reference pattern formed on the surface of the object to be exposed 8, and a plurality of light receiving elements corresponding to a direction orthogonal to the conveying direction indicated by an arrow A in FIG. For example, a line camera having the elements arranged in a straight line. As shown in the figure, a reference pattern on the object to be exposed 8 is imaged on the light receiving surface of the imaging means 5 by the projection lens 4 and the imaging lens 12. In FIG. 1, reference numeral 13c denotes a reflecting mirror.

このように、本発明によれば、ＤＭＤ３のマイクロミラー１０を介して被露光体８表面を撮像するようにしているため、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を変更することができる。即ち、図３に示すように、例えば、ＤＭＤ３のマイクロミラー１０ａの列をオフ状態にして、該マイクロミラー１０ａの列を介して被露光体８上の位置Ｐが撮像されるようにされているとき（同図中、破線で示す）、マイクロミラー１０ａの列をオン状態にし、マイクロミラー１０ｂの列をオフ状態とするように切り換えると、該マイクロミラー１０ｂの列を介して被露光体８表面が撮像され、撮像位置が位置Ｐから位置Ｐ′に移る。これにより、例えば、装置の組立て精度等の影響により撮像位置がずれた場合にも、オフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を調整して露光タイミングを適切に合わせ、基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。   As described above, according to the present invention, the surface of the object to be exposed 8 is imaged through the micromirror 10 of the DMD 3, so that the micromirror array to be turned off in the micromirror group 11b on the back side in the transport direction. By switching, the imaging position can be changed. That is, as shown in FIG. 3, for example, the row of the micromirrors 10a of the DMD 3 is turned off, and the position P on the object to be exposed 8 is imaged through the row of the micromirrors 10a. When the line of micromirrors 10a is turned on and the row of micromirrors 10b is switched to the off state, the surface of the object 8 is exposed via the row of micromirrors 10b. Is picked up, and the image pickup position moves from position P to position P ′. As a result, for example, even when the imaging position is shifted due to the influence of the assembly accuracy of the apparatus, by switching the micromirror array to be turned off, the imaging position is adjusted and the exposure timing is appropriately adjusted to The overlay accuracy of the exposure pattern can be improved.

上記搬送手段１のステージ９の下方には、上記投影レンズ４と対向して照明手段６が配設されている。この照明手段６は、可視光Ｌ２からなる照明光を放射し、ステージ９上に載置された被露光体８を透過して該被露光体８の表面に形成された基準パターンを照明するものであり、例えばハロゲンランプ等である。そして、照明手段６の照明光の放射方向前方には、図示省略の紫外線カットフィルタが設けられており、照明手段６から放射される可視光Ｌ２に含まれる紫外線により被露光体８の感光材が露光されるのを防止している。 An illumination unit 6 is disposed below the stage 9 of the transport unit 1 so as to face the projection lens 4. The illuminating means 6 emits illumination light composed of visible light L 2 , illuminates the reference pattern formed on the surface of the object to be exposed 8 through the object to be exposed 8 placed on the stage 9. For example, a halogen lamp or the like. Then, in the radial direction in front of the illumination light of the illumination unit 6, and the ultraviolet cut filter (not shown) is provided, the photosensitive material of the object to be exposed 8 by ultraviolet rays contained in the visible light L 2 emitted from the lighting means 6 Is prevented from being exposed.

上記搬送手段１、光源２、ＤＭＤ３、及び撮像手段５に結線して制御手段７が設けられている。この制御手段７は、ＤＭＤ３の複数のマイクロミラー１０の傾動を制御して、上記露光パターンを生成させると共に撮像手段５による被露光体８表面の撮像を可能とさせるものであり、上記撮像手段５で撮像された被露光体８の基準パターンの画像データと記憶部としてのメモリに予め保存された設計（ＣＡＤ）データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の複数のマイクロミラー１０をオン状態に傾動して所定の露光パターンを生成させるようになっている。そして、図４に示すように、メモリ１４と、演算部１５と、画像処理部１６と、ＤＭＤ駆動コントローラ１７と、光源駆動コントローラ１８と、照明手段駆動コントローラ１９と、搬送手段駆動コントローラ２０と、制御部２１とを備えている。   A control means 7 is provided in connection with the conveying means 1, light source 2, DMD 3, and imaging means 5. The control means 7 controls the tilting of the plurality of micromirrors 10 of the DMD 3 to generate the exposure pattern and enable the imaging means 5 to image the surface of the object 8 to be exposed. Bitmap data of an image corresponding to the exposure pattern is generated based on the image data of the reference pattern of the exposure object 8 imaged in step 1 and design (CAD) data stored in advance in a memory as a storage unit, Based on the map data, the plurality of micromirrors 10 of the DMD 3 are tilted to the on state to generate a predetermined exposure pattern. And as shown in FIG. 4, the memory 14, the calculating part 15, the image process part 16, the DMD drive controller 17, the light source drive controller 18, the illumination means drive controller 19, the conveyance means drive controller 20, And a control unit 21.

上記メモリ１４は、露光パターンの設計データや演算結果等を記憶するものである。また、上記演算部１５は、所定の領域の撮像時間や撮像を終了してから露光を実行するまでの経過時間等を演算するものである。さらに、上記画像処理部１６は、撮像手段５で撮像された被露光体８表面の一次元の画像に基づいて二次元の画像データを生成して出力するものであり、撮像手段５から出力されるアナログ信号を所定の時間間隔でＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器と、該Ａ／Ｄ変換器から所定の時間間隔で出力される一次元の画像データを一時的に記憶するバッファーとを備えている。そして、上記ＤＭＤ駆動コントローラ１７は、上記画像処理部１６で生成された被露光体８表面の二次元の画像データと上記メモリ１４に保存された設計データとに基づいてビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動させると共に、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちの少なくとも一列分のマイクロミラー１０をオフ状態に傾動させるものである。また、上記光源駆動コントローラ１８は、光源２をオン・オフ駆動するものである。さらに、照明手段駆動コントローラ１９は、照明手段６をオン・オフ駆動するものである。さらにまた、上記搬送手段駆動コントローラ２０は、ステージ９を矢印Ａ方向に所定速度で移動させるものである。そして、上記制御部２１は、装置全体を統合して制御するものである。   The memory 14 stores exposure pattern design data, calculation results, and the like. The computing unit 15 computes the imaging time of a predetermined area, the elapsed time from the end of imaging to the execution of exposure, and the like. Further, the image processing unit 16 generates and outputs two-dimensional image data based on the one-dimensional image of the surface of the object 8 to be exposed imaged by the imaging unit 5, and is output from the imaging unit 5. An A / D converter for A / D converting an analog signal to be output at predetermined time intervals, and a buffer for temporarily storing one-dimensional image data output from the A / D converter at predetermined time intervals I have. The DMD drive controller 17 generates bitmap data based on the two-dimensional image data of the surface of the object 8 generated by the image processing unit 16 and the design data stored in the memory 14, Based on the bitmap data, the predetermined micromirror 10 of the micromirror group 11a on the front side in the transport direction of the DMD 3 is tilted to the ON state, and at least one column of the micromirror group 11b on the back side in the transport direction The micromirror 10 is tilted to the off state. The light source drive controller 18 drives the light source 2 on and off. Furthermore, the illumination means drive controller 19 drives the illumination means 6 on and off. Furthermore, the transfer means drive controller 20 moves the stage 9 in the direction of arrow A at a predetermined speed. And the said control part 21 integrates and controls the whole apparatus.

次に、このように構成された露光装置を使用して行う露光方法について、図５を参照して説明する。
先ず、図示省略の操作手段によって、被露光体８の移動速度Ｖ、被露光体８の全移動距離、露光時間、光源２の出力パワー等が初期設定され、制御手段７のメモリ１４に記憶される。なお、被露光体８の移動速度Ｖは、光源２の出力パワー、露光時間及び露光パターンの搬送方向両端縁部の分解能の許容値に基づいて適切に設定される。 Next, an exposure method performed using the thus configured exposure apparatus will be described with reference to FIG.
First, the moving speed V of the object to be exposed 8, the total moving distance of the object to be exposed 8, the exposure time, the output power of the light source 2, and the like are initially set by operating means (not shown) and stored in the memory 14 of the control means 7. The The moving speed V of the object to be exposed 8 is appropriately set based on the output power of the light source 2, the exposure time, and the allowable values of the resolution at both edges in the conveyance direction of the exposure pattern.

次に、ＤＭＤ３の搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうち所定のマイクロミラー列をオフ状態に設定し、搬送手段１のステージ９上に所定の感光材が塗布された被露光体８を載置して搬送し、試し露光が実行される。そして、基準パターンと露光パターンとのずれ量から撮像位置のずれ量を測定して、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態とするマイクロミラー列を切り換えて撮像位置のずれが補正される。以降、下記のステップに従って、本露光が実行される。   Next, a predetermined micromirror array in the micromirror group 11b on the back side in the transport direction of the DMD 3 is set to an OFF state, and the object to be exposed 8 coated with a predetermined photosensitive material is placed on the stage 9 of the transport means 1. Then, test exposure is performed. Then, the deviation amount of the imaging position is measured from the deviation amount between the reference pattern and the exposure pattern, and the deviation of the imaging position is corrected by switching the micromirror row to be turned off in the micromirror group 11b on the back side in the transport direction. The Thereafter, the main exposure is performed according to the following steps.

先ず、ステップＳ１において、所定の感光材を塗布した被露光体８が搬送手段１のステージ９上に載置される。続いて、露光装置の図示省略の起動スイッチが投入されて被露光体８が図１に示す矢印Ａ方向に所定の速度で連続的に搬送される。   First, in step S <b> 1, the object to be exposed 8 coated with a predetermined photosensitive material is placed on the stage 9 of the transport unit 1. Subsequently, a start switch (not shown) of the exposure apparatus is turned on, and the object to be exposed 8 is continuously conveyed at a predetermined speed in the direction of arrow A shown in FIG.

ステップＳ２においては、撮像手段５により被露光体８表面の撮像がＤＭＤ３の搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうちオフ状態にされたマイクロミラー列を介して、図６（ａ）に示す位置Ｐａから開始される。この場合、撮像手段５がラインカメラであるので、被露光体８上の位置Ｐａにおける矢印Ａと直交する一次元画像が撮像される。このとき、被露光体８が矢印Ａ方向に連続的に搬送されるので、矢印Ａと反対方向に続く被露光体８表面が連続的に撮像されることになる。このようにして撮像手段５により連続的に撮像された一次元画像は、画像処理部１６のＡ／Ｄ変換器によって所定の時間間隔でＡ／Ｄ変換され、それぞれ所定の時間だけずれた一次元の画像データが得られる。これら一次元の画像データは、それぞれバッファーに一時的に記憶される。なお、このとき、ＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａの全てのマイクロミラー１０は、オフ状態とされているので、ＤＭＤ３に光源２から入射するＵＶ光Ｌ１は、図２に破線で示すように被露光体８の方向とは異なる方向に反射されて、図示省略の光吸収体に吸収される。したがって、この場合、露光光Ｌ３は、被露光体８には照射されない。 In step S2, the position of the surface of the object 8 to be exposed by the image pickup means 5 is shown in FIG. 6A via the micromirror array turned off in the micromirror group 11b on the back side in the transport direction of the DMD 3. Starting from Pa. In this case, since the imaging unit 5 is a line camera, a one-dimensional image orthogonal to the arrow A at the position Pa on the object to be exposed 8 is captured. At this time, the object to be exposed 8 is continuously conveyed in the direction of the arrow A, so that the surface of the object to be exposed 8 continuing in the direction opposite to the arrow A is continuously imaged. The one-dimensional images continuously picked up by the image pickup means 5 in this way are A / D converted at predetermined time intervals by the A / D converter of the image processing unit 16, and each one-dimensional image shifted by a predetermined time. Image data is obtained. Each of these one-dimensional image data is temporarily stored in a buffer. At this time, the conveying direction front side all the micromirrors 10 of micromirror group 11a of the DMD 3, because it is turned off, UV light L 1 incident from the light source 2 to the DMD 3 is a broken line in FIG. 2 As shown, the light is reflected in a direction different from the direction of the object to be exposed 8 and absorbed by a light absorber (not shown). Therefore, in this case, the exposure light L 3 is not irradiated to the subject to be exposed 8.

ステップＳ３においては、所定領域の撮像が終了したか否かが制御部２１で判定される。この場合、図６（ａ）に示す被露光体８上の位置Ｐａが同図（ｂ）に示すように矢印Ａ方向に距離Ｄ１だけ移動して位置Ｐｂに達し、露光パターンの投影領域Ｓ０に相当する領域Ｓ１の撮像が終了すれば、ステップＳ３は“ＹＥＳ”判定となってステップＳ４に進む。ここで、上記判定は、被露光体８の移動速度Ｖに基づいて被露光体８が距離Ｄ１だけ移動する時間ｔ１（図７（ａ）参照）を演算部１５で演算し、制御部２１で該時間ｔ１の経過を監視して行なわれる。また、ステップＳ３において、“ＹＥＳ”判定となると同時に、図７（ａ）に示すように、上記領域Ｓ１に続く領域Ｓ２の撮像が開始される。なお、被露光体８の上記移動距離Ｄ１は、露光パターンの投影領域Ｓ０の搬送方向の幅Ｄ１に一致するもので、後述の領域Ｓ１，Ｓ２…の撮像が終了してから露光を実行するまでに被露光体８が移動する距離Ｄ２（図６（ｃ）参照）と共に露光装置の仕様として予め定められており、メモリ１４に記憶されている。 In step S <b> 3, the control unit 21 determines whether or not imaging of a predetermined area has been completed. In this case, it reaches the position Pb by moving in the direction of arrow A by a distance D 1 as shown in position Pa is drawing on the object to be exposed 8 (b) shown in FIG. 6 (a), the exposure pattern projected area S if imaging is terminated corresponding region S 1 to 0, step S3 advances to step S4 becomes "YES" determination. Here, in the above determination, the calculation unit 15 calculates the time t 1 (see FIG. 7A) for the object 8 to move by the distance D 1 based on the moving speed V of the object 8 to be controlled. In step 21, the progress of the time t 1 is monitored. Further, in step S3, "YES" determination when it comes to the same time, as shown in FIG. 7 (a), the imaging area S 2 subsequent to the area S 1 is being started. Incidentally, the moving distance D 1 of the subject to be exposed 8 is intended to match the width D 1 of the conveying direction of the projection area S 0 of the exposure pattern, from the end of the area S 1, S 2 ... imaging below Along with the distance D 2 (see FIG. 6C) by which the object 8 moves before exposure is performed, it is predetermined as the specification of the exposure apparatus and stored in the memory 14.

ステップＳ４においては、画像処理部１６により生成された被露光体８の領域Ｓ１の二次元画像データとメモリ１４に保存された設計データとに基づいて、領域Ｓ１の基準パターンに対応する露光パターンのビットマップデータがＤＭＤ駆動コントローラ１７で作成される。 In step S4, based on the stored design data into a two-dimensional image data and the memory 14 of the area S 1 of the subject to be exposed 8 generated by the image processing unit 16, an exposure corresponding to the reference pattern of the area S 1 Pattern bitmap data is created by the DMD drive controller 17.

ステップＳ５においては、被露光体８が所定距離だけ移動したか否かが制御部２１で判定される。ここでは、先ず、図６（ｂ）に示すように、領域Ｓ１の撮像が終了してから領域Ｓ１の搬送方向先頭端部が位置Ｐｂから同図（ｃ）に示すようにＰｃに達するまで、即ち領域Ｓ１が露光パターンの投影領域Ｓ０に一致するまでに被露光体８が移動する距離Ｄ２が監視される。具体的には、上記判定は、被露光体８の移動速度Ｖと上記被露光体８の移動距離Ｄ２とに基づいて、被露光体８が距離Ｄ２だけ移動する時間ｔ２を演算部１５で演算し、制御部２１で該時間ｔ２を監視して行なう。そして、同図（ｃ）に示すように領域Ｓ１が露光パターンの投影領域Ｓ０に一致して、ステップＳ５において“ＹＥＳ”判定となるとステップＳ６に進む。なお、同図（ｃ）において、領域Ｓ２の一部に斜線を付して示しているが、この斜線部は撮像が行なわれた部分であることを表している。 In step S5, the control unit 21 determines whether or not the object to be exposed 8 has moved by a predetermined distance. Here, first, as shown in FIG. 6 (b), the conveying direction leading end portion of the region S 1 from the end of the imaging area S 1 is reached Pc as shown from the position Pb in FIG. (C) The distance D 2 by which the object to be exposed 8 moves is monitored until the area S 1 coincides with the projection area S 0 of the exposure pattern. Specifically, the determination is based on the moving distance D 2 of the moving speed V and the subject to be exposed 8 of the object to be exposed 8, the time t 2 to move the subject to be exposed 8 by a distance D 2 calculating unit calculated in 15, performed to monitor the said time t 2 the control unit 21. Then, coincident with the projection area S 0 of the region S 1 as shown in FIG. (C) the exposure pattern, the process proceeds to step S6 if the "YES" decision in step S5. In the figure (c), are shown by hatching in a portion of the region S 2, the hatched portion indicates that it is a part of the imaging is performed.

ステップＳ６においては、ステップＳ４で生成されたビットマップデータに基づいてＤＭＤ３の搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうち、所定のマイクロミラー１０がオン状態に傾動されて所定の露光パターンが生成され、図６（ｃ）に示すように、露光パターン情報を含む露光光Ｌ３が領域Ｓ１に所定時間だけ照射される（図７（ｂ）参照）。これにより、領域Ｓ１に対応した被露光体８の基準パターン上に所定の露光パターンが露光されることになる。 In step S6, based on the bitmap data generated in step S4, among the micromirror group 11a on the front side in the transport direction of the DMD 3, the predetermined micromirror 10 is tilted to the on state to generate a predetermined exposure pattern. as shown in FIG. 6 (c), the exposure light L 3 including an exposure pattern information is irradiated for a predetermined time in the area S 1 (see FIG. 7 (b)). Thus, a predetermined exposure pattern onto the reference pattern of the subject to be exposed 8 corresponding to the area S 1 is made to be exposed.

ステップＳ７においては、被露光体８への全ての露光が終了したか否かが制御部２１で判定される。この判定は、被露光体８が予め入力して設定された全移動距離だけ移動したか否かを搬送手段１に備える位置検出センサーによって検出して行なわれる。ここで、“ＮＯ”判定となるとステップＳ３に戻って、図７（ａ）に示す次の領域Ｓ２の撮像が終了したか否かが判定される。以後、ステップＳ７において、被露光体８への全ての露光が終了して“ＹＥＳ”判定となるまで、ステップＳ３〜Ｓ７が実行される。 In step S <b> 7, the control unit 21 determines whether or not all exposure to the exposure object 8 has been completed. This determination is performed by detecting whether or not the object to be exposed 8 has moved by the entire movement distance set in advance by the position detection sensor provided in the conveying means 1. Here, "NO" I Am returning to decision when it comes to the step S3, whether or not imaging of the next area S 2 shown in FIG. 7 (a) has been finished is determined. Thereafter, in step S7, steps S3 to S7 are executed until all exposure to the object 8 to be exposed is completed and “YES” is determined.

なお、上記実施形態においては、露光が間欠的に実行される場合について説明したが、本発明はこれに限られず、露光を連続的に実行してもよい。このためには、例えば図８に示すように、所定の領域Ｓ１の撮像が終了してから所定時間ｔ２が経過した後に露光を開始し、以後被露光体８の移動に伴って随時変化する被露光体８表面の二次元画像データに基づいて露光パターンを変更しながら連続して露光を実行すればよい。この場合、露光パターンが重ね露光されるため露光光量を下げることができる。または、露光光量を維持すれば被露光体８の移動速度を上げることができ、露光工程の時間を短縮することができる。 In the above embodiment, the case where the exposure is performed intermittently has been described. However, the present invention is not limited to this, and the exposure may be performed continuously. For this purpose, for example, as shown in FIG. 8, exposure is started after a predetermined time t 2 has elapsed since the imaging of the predetermined region S 1 has been completed, and thereafter changes with time as the object to be exposed 8 moves. What is necessary is just to perform exposure continuously, changing an exposure pattern based on the two-dimensional image data of the to-be-exposed body 8 to be exposed. In this case, the exposure light amount can be reduced because the exposure pattern is overexposed. Or if the exposure light quantity is maintained, the moving speed of the to-be-exposed body 8 can be raised, and the time of an exposure process can be shortened.

また、上記実施形態においては、ＤＭＤ３が被露光体８の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａと搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群１１ａのうちの所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群１１ｂのうち少なくとも一列分のマイクロミラー１０をオフ状態に傾動して被露光体８方向からの可視光Ｌ２を撮像手段５へ反射する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、ＤＭＤ３を二つのマイクロミラー群１１ａ，１１ｂに分割することなく使用して、撮像時には全マイクロミラー１０をオフ状態に傾動させて基準パターンの撮像を可能とさせ、露光時には全マイクロミラー１０のうち所定のマイクロミラー１０をオン状態に傾動させて露光パターンを生成させるようにしてもよい。この場合、撮像と露光とは交互に行なわれることになる。 Further, in the above embodiment, the DMD 3 is divided into the micromirror group 11a on the front side in the transport direction and the micromirror group 11b on the back side in the transport direction with the direction intersecting the transport direction of the object 8 as a boundary. An exposure pattern is generated by tilting a predetermined micromirror 10 in the front side micromirror group 11a to an on state, and at least one row of micromirrors 10 in the transport direction back side micromirror group 11b is in an off state. tilting to the case has been described where the reflecting visible light L 2 from the subject to be exposed 8 direction to the imaging unit 5, the present invention is not limited thereto, without dividing the DMD3 two micro mirrors 11a, 11b, In use, all micromirrors 10 are tilted to the OFF state during imaging to enable reference pattern imaging, and all micromirrors are exposed during exposure. An exposure pattern may be generated by tilting a predetermined micromirror 10 of the mirror 10 to an ON state. In this case, imaging and exposure are performed alternately.

さらに、上記実施形態においては、撮像手段５が被露光体８の搬送方向と交差する方向に一直線状に並べて複数の受光素子を備えたラインカメラである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、撮像手段５は被露光体８の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものであってもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the imaging unit 5 is a line camera that includes a plurality of light receiving elements arranged in a straight line in a direction intersecting the conveyance direction of the object to be exposed 8 has been described. Without being limited thereto, the imaging means 5 may be provided with a plurality of light receiving elements in a matrix form along the transport direction of the object to be exposed 8 and the direction intersecting the transport direction.

さらにまた、上記実施形態においては、照明手段６をステージ９の下方に配設した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、照明手段６をステージ９の上方に配設して落射照明としてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the illumination unit 6 is disposed below the stage 9 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the illumination unit 6 is disposed above the stage 9 to perform epi-illumination. It is good.

そして、以上の説明においては、制御手段７が被露光体８を連続的に搬送するように搬送手段１の駆動を制御する場合について述べたが、本発明はこれに限られず、制御手段７は、被露光体８を間欠的に搬送するように搬送手段１の駆動を制御してもよい。この場合、撮像手段５がラインカメラのときには、被露光体８を一定速度で搬送しながら所定領域を撮像し、その後、被露光体８の搬送を一時的に停止して前記撮像された領域に対して露光を実行するようにするとよい。また、撮像手段５が二次元カメラの場合には、被露光体８を一時的に停止させた状態でＤＭＤ３の全マイクロミラーをオフ状態に傾動させて所定領域を撮像し、その後、ＤＭＤ３により所定の露光パターンを生成して前記撮像領域に対して露光を実行し、それから被露光体８を所定の距離だけステップ移動して上記と同様にして撮像及び露光を実行するようにするとよい。   In the above description, the case where the control unit 7 controls the driving of the conveying unit 1 so as to continuously convey the object to be exposed 8 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the control unit 7 includes: The driving of the conveying means 1 may be controlled so that the object to be exposed 8 is intermittently conveyed. In this case, when the image pickup means 5 is a line camera, the predetermined area is imaged while the object to be exposed 8 is conveyed at a constant speed, and then the conveyance of the object to be exposed 8 is temporarily stopped to the imaged area. It is advisable to perform exposure on the image. If the imaging means 5 is a two-dimensional camera, all the micromirrors of the DMD 3 are tilted to the off state while the object to be exposed 8 is temporarily stopped, and then a predetermined area is imaged. It is preferable that the exposure pattern is generated and exposure is performed on the imaging region, and then the object to be exposed 8 is stepped by a predetermined distance to perform imaging and exposure in the same manner as described above.

本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows embodiment of the exposure apparatus by this invention. 上記露光装置に使用されるＤＭＤの複数のマイクロミラーの傾動を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows tilting of the several micromirror of DMD used for the said exposure apparatus. 上記露光装置における撮像位置の調整について示した説明図である。It is explanatory drawing shown about adjustment of the imaging position in the said exposure apparatus. 上記露光装置の制御手段の一構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of 1 structure of the control means of the said exposure apparatus. 上記露光装置を使用して行なう露光方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the exposure method performed using the said exposure apparatus. 上記露光装置の撮像開始から露光実施までの動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement from the imaging start of the said exposure apparatus to exposure implementation. 上記露光装置による間欠露光動作を説明する撮像及び露光のタイミングチャートである。It is an imaging and exposure timing chart explaining the intermittent exposure operation by the exposure apparatus. 上記露光装置による連続露光動作を説明する撮像及び露光のタイミングチャートである。It is an imaging and exposure timing chart explaining the continuous exposure operation by the exposure apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

１…搬送手段
２…光源
３…ＤＭＤ（マイクロミラーデバイス）
４…投影レンズ
５…撮像手段
７…制御手段
８…被露光体
１０…マイクロミラー
１１ａ，１１ｂ…マイクロミラー群
Ｌ１…光源からの光
Ｌ２…可視光
Ｌ３…露光光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conveyance means 2 ... Light source 3 ... DMD (micromirror device)
4 ... projection lens 5 ... imaging unit 7 ... control unit 8 ... object to be exposed 10 ... micromirror 11a, 11b ... optical L 2 ... visible light L 3 ... exposure light from the micromirror group L 1 ... light source

Claims (6)

被露光体を所定方向に搬送しながら、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの所定のマイクロミラーを、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、前記被露光体上に前記露光パターンを投影して露光する露光方法であって、
前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、
前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、
前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、
前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光する、
ことを特徴とする露光方法。 While transporting the object to be exposed in a predetermined direction, a predetermined micromirror of a micromirror device in which a plurality of micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction, An exposure method that generates an exposure pattern by tilting so that light incident from a light source is reflected toward the object to be exposed, and projects and exposes the exposure pattern on the object to be exposed.
The plurality of micromirrors of the micromirror device are tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source, and reflected by the micromirror device. The visible light is received by the imaging means, and a predetermined reference pattern previously formed on the object to be exposed is imaged.
Generating bitmap data of an image corresponding to the exposure pattern based on image data of the reference pattern imaged by the imaging means and design data stored in advance in a storage unit;
A predetermined exposure pattern is generated by tilting a plurality of micromirrors of the micromirror device based on the bitmap data,
Exposing the predetermined exposure pattern on a reference pattern formed on the object to be exposed;
An exposure method characterized by the above. 前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射することを特徴とする請求項１記載の露光方法。   The micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary, and the micromirror on the front side in the transport direction Tilt a predetermined micromirror of the group to generate the exposure pattern, tilt at least one row of micromirrors of the micromirror group on the back side in the transport direction to emit visible light from the direction of the object to be exposed 2. The exposure method according to claim 1, wherein the exposure is reflected to the image pickup means. 載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、
前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、
前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、
前記各構成要素を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 A conveying means for placing the object to be exposed on the placement surface and conveying it in a predetermined direction;
An exposure pattern is generated by being tilted so that light incident from the light source is reflected in the direction of the object to be exposed, and visible light incident from the direction of the object to be exposed is the light source. A micromirror device in which a plurality of micromirrors tilted so as to be reflected in a direction different from the light incident direction are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction; ,
A projection lens that projects an exposure pattern generated by the micromirror device onto the object to be exposed;
An imaging means that is arranged in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and images the surface of the object to be exposed;
Control means for controlling each of the components;
An exposure apparatus comprising: 前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射することを特徴とする請求項３記載の露光装置。   The micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary, and the micromirror on the front side in the transport direction Tilt a predetermined micromirror of the group to generate the exposure pattern, tilt at least one row of micromirrors of the micromirror group on the back side in the transport direction to emit visible light from the direction of the object to be exposed 4. An exposure apparatus according to claim 3, wherein the exposure apparatus reflects the image pickup means. 前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて備えたことを特徴とする請求項３又は４記載の露光装置。   5. The exposure apparatus according to claim 3, wherein the image pickup unit includes a plurality of light receiving elements arranged in a straight line in a direction intersecting a transport direction of the object to be exposed. 前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたことを特徴とする請求項３又は４記載の露光装置。   5. The exposure apparatus according to claim 3, wherein the imaging unit includes a plurality of light receiving elements in a matrix shape along a transport direction of the object to be exposed and a direction intersecting the transport direction.
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