JP2008172000A - Exposure method and exposure device - Google Patents
Exposure method and exposure device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008172000A JP2008172000A JP2007003511A JP2007003511A JP2008172000A JP 2008172000 A JP2008172000 A JP 2008172000A JP 2007003511 A JP2007003511 A JP 2007003511A JP 2007003511 A JP2007003511 A JP 2007003511A JP 2008172000 A JP2008172000 A JP 2008172000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposed
- exposure
- micromirror
- transport direction
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、被露光体を搬送しながら、被露光体の基準パターンを撮像し、複数のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、上記基準パターン上に露光パターンを露光する露光方法に関し、詳しくは、撮像位置の調整を容易にして上記基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。 The present invention relates to an exposure method for imaging a reference pattern of an object to be exposed while conveying the object to be exposed, generating an exposure pattern by tilting a plurality of micromirrors, and exposing the exposure pattern on the reference pattern. Specifically, the present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus that facilitate adjustment of the imaging position and improve the overlay accuracy of the reference pattern and the exposure pattern.
従来の露光装置は、搬送手段で被露光体を所定の速度で搬送し、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べて配置されたマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーにそれぞれ対応させて、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べ、且つ搬送方向に先後して並べて配置した撮像手段の複数の受光素子で投影レンズを介して被露光体からの光を受光して、被露光体上の露光位置の搬送方向手前側を撮像し、その画像の画像データに基づいて制御手段でマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを駆動制御し、該マイクロミラーで光源からの露光光を反射して該露光光に強度変調を与えて射出し、投影レンズで該強度変調された露光光を被露光体上に投影し、被露光体上に形成された基準パターン上に露光パターンを露光するようになっていた(例えば、特許文献1参照)。
しかし、このような従来の露光装置においては、撮像手段により被露光体表面を直接撮像するようになっていたので、撮像位置の調整は、撮像手段の取り付け位置を動かして行なうしかなく、撮像位置の調整が困難であった。したがって、撮像手段の取り付け位置がずれた場合には、撮像位置と露光位置との間の距離が変わり、撮像時を基準にした露光パターンの露光タイミングがずれてしまい、基準パターン上に露光パターンを精度良く重ね露光することができないおそれがあった。 However, in such a conventional exposure apparatus, since the surface of the object to be exposed is directly imaged by the imaging means, the adjustment of the imaging position can only be performed by moving the mounting position of the imaging means. It was difficult to adjust. Therefore, when the mounting position of the imaging means is shifted, the distance between the imaging position and the exposure position changes, the exposure timing of the exposure pattern based on the time of imaging shifts, and the exposure pattern is placed on the reference pattern. There was a risk that overlay exposure could not be performed with high accuracy.
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、撮像位置の調整を容易にして被露光体の基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides an exposure method and an exposure apparatus that address such problems and improve the overlay accuracy between the reference pattern and the exposure pattern of the exposure object by facilitating adjustment of the imaging position. For the purpose.
上記目的を達成するために、第1の発明による露光方法は、被露光体を所定方向に搬送しながら、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの所定のマイクロミラーを、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、前記被露光体上に前記露光パターンを投影して露光する露光方法であって、前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光するものである。 In order to achieve the above object, an exposure method according to a first aspect of the present invention comprises a plurality of micromirrors along a transport direction of the object to be exposed and a direction intersecting the transport direction while transporting the object to be exposed in a predetermined direction. Is tilted so that light incident from a light source is reflected in the direction of the object to be exposed to generate an exposure pattern, and the above-mentioned object is formed on the object to be exposed. An exposure method for projecting and exposing an exposure pattern, wherein a plurality of micromirrors of the micromirror device reflect visible light incident from the direction of the object to be exposed in a direction different from an incident direction of light from the light source. Tilted so that the visible light reflected by the micromirror device is received by the imaging means and images a predetermined reference pattern formed in advance on the object to be exposed, Bitmap data of an image corresponding to the exposure pattern is generated based on the image data of the reference pattern imaged by the imaging means and design data stored in advance in a storage unit, and the micro data is generated based on the bitmap data. A plurality of micromirrors of the mirror device are tilted to generate a predetermined exposure pattern, and the predetermined exposure pattern is exposed on a reference pattern formed on the object to be exposed.
このような構成により、被露光体を所定方向に搬送し、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数のマイクロミラーがマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを、被露光体方向から入射する可視光が光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、上記ビットマップデータに基づいてマイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、光源から入射する光が被露光体方向に反射されるように傾動させて所定の露光パターンを生成し、被露光体に形成された基準パターン上に上記所定の露光パターンを露光する。 With such a configuration, the plurality of micromirror devices in which the object to be exposed is transported in a predetermined direction, and a plurality of micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction. The micromirror is tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source, and the visible light reflected by the micromirror device is received by the imaging means. An image bit corresponding to the exposure pattern based on the image data of the reference pattern captured by the imaging unit and the design data stored in advance in the storage unit Map data is generated, and a plurality of micromirrors of the micromirror device are covered with light incident from a light source based on the bitmap data. It is tilted so as to be reflected in the optical member direction to generate a predetermined exposure pattern to expose the predetermined exposure pattern on a reference pattern formed on the object to be exposed.
また、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。 The micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. A predetermined micromirror in the group of micromirrors is tilted to generate the exposure pattern, and at least one row of micromirrors in the micromirror group on the back side in the transport direction is tilted to view visible light from the direction of the object to be exposed. Is reflected to the imaging means. As a result, an exposure pattern is generated by tilting a predetermined micromirror in the micromirror group on the front side in the transport direction divided with the direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. At least one row of micromirrors in the mirror group is tilted to reflect visible light from the direction of the exposed object to the imaging means.
また、第2の発明による露光装置は、載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、前記各構成要素を制御する制御手段と、を備えたものである。 An exposure apparatus according to a second aspect of the invention includes a transport unit that mounts an object to be exposed on a mounting surface and transports it in a predetermined direction, and is disposed above the transport unit, and light incident from a light source is received by the light source. A plurality of tilts so that the visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source while being tilted so as to be reflected in the direction of the exposed body. Micromirror devices in which the micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction, and an exposure pattern generated by the micromirror device on the object to be exposed A projection lens that projects, and an imaging unit that is disposed in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and that images the surface of the object to be exposed; Serial in which and a control means for controlling each component.
このような構成により、制御手段で各構成要素を制御し、搬送手段で載置面に被露光体を載置して所定方向に搬送し、複数のマイクロミラーが被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを傾動させて、被露光体方向から入射する可視光を光源から入射する光の入射方向と異なる方向に反射させ、マイクロミラーデバイスによって被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設された撮像手段で被露光体の表面を撮像し、マイクロミラーデバイスの上記複数のマイクロミラーを光源から入射する露光光が前記被露光体方向に反射されるように傾動させて露光パターンを生成し、マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを投影レンズで被露光体上に投影する。 With such a configuration, each control element is controlled by the control means, and the object to be exposed is placed on the placement surface by the conveying means and conveyed in a predetermined direction. A direction different from the incident direction of the light incident from the light source by tilting the plurality of micromirrors of the micromirror device arranged in a matrix along the direction intersecting the transport direction so that the visible light incident from the direction of the exposure object is incident The surface of the object to be exposed is imaged by an imaging means arranged in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and the plurality of micromirrors of the micromirror device are light sources The exposure pattern is generated by tilting so that the exposure light incident from the head is reflected toward the object to be exposed, and the exposure pattern generated by the micromirror device is projected. It is projected onto the object to be exposed in the lens.
さらに、前記マイクロミラーデバイスは、前記被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群と搬送方向奥側のマイクロミラー群とに分割され、前記搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して前記露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して前記被露光体方向からの可視光を前記撮像手段へ反射するものである。これにより、被露光体の搬送方向と交差する方向を境界として分割された搬送方向手前側のマイクロミラー群のうちの所定のマイクロミラーを傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群のうちの少なくとも一列のマイクロミラーを傾動して被露光体方向からの可視光を撮像手段へ反射する。 Further, the micromirror device is divided into a micromirror group on the front side in the transport direction and a micromirror group on the back side in the transport direction with a direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. A predetermined micromirror in the group of micromirrors is tilted to generate the exposure pattern, and at least one row of micromirrors in the micromirror group on the back side in the transport direction is tilted to view visible light from the direction of the object to be exposed. Is reflected to the imaging means. As a result, an exposure pattern is generated by tilting a predetermined micromirror in the micromirror group on the front side in the transport direction divided with the direction intersecting the transport direction of the object to be exposed as a boundary. At least one row of micromirrors in the mirror group is tilted to reflect visible light from the direction of the exposed object to the imaging means.
さらにまた、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べて備えたものである。被露光体の搬送方向と交差する方向に複数の受光素子を一直線状に並べた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。 Still further, the imaging means includes a plurality of light receiving elements arranged in a straight line in a direction intersecting with the transport direction of the object to be exposed. The surface of the object to be exposed is imaged by an imaging means in which a plurality of light receiving elements are arranged in a straight line in a direction crossing the conveying direction of the object to be exposed.
そして、前記撮像手段は、前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものである。これにより、被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えた撮像手段で被露光体の表面を撮像する。 The image pickup means includes a plurality of light receiving elements in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction. As a result, the surface of the object to be exposed is imaged by the image pickup means provided with a plurality of light receiving elements in a matrix along the conveying direction of the object to be exposed and the direction intersecting the conveying direction.
請求項1に係る露光方法によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。 According to the exposure method of the first aspect, since the surface of the object to be exposed is imaged by the imaging means via the micromirror device having a plurality of micromirrors in a matrix, the micromirror array intersecting the transport direction Among them, the imaging position can be easily adjusted by switching at least one micromirror array tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected to the imaging means to another micromirror array. it can. Accordingly, it is possible to improve the overlay accuracy of the exposure pattern with respect to the reference pattern of the object to be exposed by appropriately adjusting the exposure timing based on the time of imaging.
また、請求項3に係る露光装置によれば、複数のマイクロミラーをマトリクス状に備えるマイクロミラーデバイスを介して撮像手段により被露光体表面を撮像するようにしているので、搬送方向と交差するマイクロミラー列のうち、被露光体方向から入射する可視光を撮像手段へ反射するように傾動される少なくとも一列分のマイクロミラー列を他のマイクロミラー列に切り換えることにより、撮像位置を容易に調整することができる。したがって、撮像時を基準にした露光タイミングを適切に合わせて被露光体の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。また、マイクロミラーデバイスを介して撮像するようにしているので、被露光体の搬送方向に先後してマイクロミラーデバイスと並べて撮像手段を配設した従来技術の露光装置に比べて投影レンズの径を小さくすることができ、投影光学系を小型化することができる。 According to the exposure apparatus of the third aspect, since the surface of the object to be exposed is imaged by the imaging means via the micromirror device having a plurality of micromirrors in a matrix, a micro that intersects the transport direction. Of the mirror rows, the imaging position is easily adjusted by switching at least one micro mirror row tilted so as to reflect visible light incident from the direction of the object to be exposed to the imaging means to another micro mirror row. be able to. Accordingly, it is possible to improve the overlay accuracy of the exposure pattern with respect to the reference pattern of the object to be exposed by appropriately adjusting the exposure timing based on the time of imaging. In addition, since the image is taken through the micromirror device, the diameter of the projection lens is smaller than that of the conventional exposure apparatus in which the imaging means is arranged in parallel with the micromirror device prior to the conveying direction of the object to be exposed. The projection optical system can be reduced in size.
さらに、請求項2又は請求項4に係る発明によれば、被露光体を搬送している間、常時、被露光体の表面を撮像することができる。したがって、被露光体表面の撮像画像に欠落部が発生するおそれがなく、欠陥のないパターンを露光することができる。
Furthermore, according to the invention which concerns on
さらにまた、請求項5に係る発明によれば、撮像手段が複数の受光素子を一直線状に並べたものであるので、撮像手段の部品コストを安価にすることができる。 Furthermore, according to the fifth aspect of the present invention, since the image pickup means has a plurality of light receiving elements arranged in a straight line, the component cost of the image pickup means can be reduced.
そして、請求項6に係る発明によれば、被露光体表面の二次元画像の取得と、該二次元画像に基づいて生成された露光パターンの露光とを略リアルタイムに実行することができ、基準パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度をより向上することができる。また、取り付け精度の問題からマイクロミラーデバイスのマイクロミラーと撮像手段の受光素子との間の対応関係がずれた場合にも、上記マイクロミラーにおける反射光を別の受光素子で受光することができ、上記マイクロミラーデバイスに対する撮像手段の取り付け精度の許容範囲を大きくすることができる。これにより、装置の組立てが容易になる。
According to the invention of
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、被露光体を所定方向に搬送しながら、複数のマイクロミラーをマトリクス状に配置したマイクロミラーデバイスで所定の露光パターンを生成して露光するもので、搬送手段1と、光源2と、マイクロミラーデバイス3と、投影レンズ4と、撮像手段5と、照明手段6と、制御手段7とからなる。なお、以下の説明においては、被露光体8が感光材を塗布した透明なガラス基板からなる場合について述べる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention. This exposure apparatus generates and exposes a predetermined exposure pattern with a micromirror device in which a plurality of micromirrors are arranged in a matrix while transporting an object to be exposed in a predetermined direction. And a
上記搬送手段1は、載置面であるステージ9上面に被露光体8を載置して矢印A方向に搬送するものであり、図示省略の搬送用モータが後述の制御手段7により制御されてステージ9を移動するようになっている。また、上記搬送手段1には、図示省略の例えばエンコーダやリニアセンサー等の位置検出センサーや速度センサーが設けられており、その出力を制御手段7にフィードバックして位置検出及び速度制御を可能にしている。なお、上記ステージ9には、被露光体8の全露光領域に対応して開口部が設けられており、ステージ9の下方に配設された後述の照明手段6により被露光体8を下方から照明できるようになっている。
The
上記搬送手段1の上方には、光源2が設けられている。この光源2は、紫外線(UV光)L1を放射するものであり、例えばキセノンランプや紫外線レーザ光源等である。そして、放射されるUV光L1を反射ミラー13a,13bにより反射して後述のマイクロミラーデバイス3を斜め下方から照射するようになっている。
A
上記搬送手段1の上方にて上記光源2から放射されるUV光L1の放射方向前方には、マイクロミラーデバイス3が配設されている。このマイクロミラーデバイス3は、光源2から入射するUV光L1を被露光体8方向に反射するように傾動されて二次元の露光パターンを生成すると共に、被露光体8方向から入射する可視光L2を上記光源2からのUV光L1の入射方向と異なる方向に反射するように傾動される複数のマイクロミラー10が被露光体8の搬送方向及び該搬送方向と直交する方向に沿ってマトリクス状に配置されたものであり、図2に示すように、被露光体8の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群11aと搬送方向奥側のマイクロミラー群11bとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群11aのうちの所定のマイクロミラー10を傾動して露光パターンを生成し、光源2から入射するUV光L1を露光パターン情報を含む露光光L3として被露光体8に向けて反射し、搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうちの少なくとも一列のマイクロミラー10を傾動して被露光体8方向からの可視光L2を撮像手段5へ反射するようになっている。なお、マイクロミラー10が光源2から入射するUV光L1を被露光体8の方向に反射するように傾動している状態を以下「オン状態」といい、被露光体8からの可視光L2を撮像手段8の方向に反射するように傾動している状態を以下「オフ状態」という。
The radial direction in front of the UV light L 1 emitted from the
そして、上記マイクロミラーデバイス3には、例えば、表示用デバイスとして汎用のデジタルマイクロミラーデバイス(DMD:米国テキサス・インスツルメンツ社の商標)を使用することができる。以下、マイクロミラーデバイス3がDMDの場合について説明する。
For the
上記搬送手段1とDMD3との間には、投影レンズ4が配設されている。この投影レンズ4は、DMD3で生成された露光パターンを被露光体8上に投影するものであり、複数のレンズを組み合わせてテレセントリック光学系を構成している。
A
上記DMD3にて、図2に示す搬送方向奥側のマイクロミラー群11bで被露光体8方向から入射する可視光L2が反射される方向には、撮像手段5が配設されている。この撮像手段5は、被露光体8の表面に形成された基準パターンを撮像するものであり、被露光体8の図1に矢印Aで示す搬送方向と直交する方向に対応させて複数の受光素子を一直線状に並べて備えた、例えばラインカメラである。そして、同図に示すように、上記投影レンズ4と結像レンズ12とにより被露光体8上の基準パターンが撮像手段5の受光面上に結像されるようになっている。なお、図1において、符号13cは、反射ミラーを示す。
In the
このように、本発明によれば、DMD3のマイクロミラー10を介して被露光体8表面を撮像するようにしているため、搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうちオフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を変更することができる。即ち、図3に示すように、例えば、DMD3のマイクロミラー10aの列をオフ状態にして、該マイクロミラー10aの列を介して被露光体8上の位置Pが撮像されるようにされているとき(同図中、破線で示す)、マイクロミラー10aの列をオン状態にし、マイクロミラー10bの列をオフ状態とするように切り換えると、該マイクロミラー10bの列を介して被露光体8表面が撮像され、撮像位置が位置Pから位置P′に移る。これにより、例えば、装置の組立て精度等の影響により撮像位置がずれた場合にも、オフ状態にするマイクロミラー列を切り換えることにより、撮像位置を調整して露光タイミングを適切に合わせ、基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。
As described above, according to the present invention, the surface of the object to be exposed 8 is imaged through the
上記搬送手段1のステージ9の下方には、上記投影レンズ4と対向して照明手段6が配設されている。この照明手段6は、可視光L2からなる照明光を放射し、ステージ9上に載置された被露光体8を透過して該被露光体8の表面に形成された基準パターンを照明するものであり、例えばハロゲンランプ等である。そして、照明手段6の照明光の放射方向前方には、図示省略の紫外線カットフィルタが設けられており、照明手段6から放射される可視光L2に含まれる紫外線により被露光体8の感光材が露光されるのを防止している。
An
上記搬送手段1、光源2、DMD3、及び撮像手段5に結線して制御手段7が設けられている。この制御手段7は、DMD3の複数のマイクロミラー10の傾動を制御して、上記露光パターンを生成させると共に撮像手段5による被露光体8表面の撮像を可能とさせるものであり、上記撮像手段5で撮像された被露光体8の基準パターンの画像データと記憶部としてのメモリに予め保存された設計(CAD)データとに基づいて露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてDMD3の複数のマイクロミラー10をオン状態に傾動して所定の露光パターンを生成させるようになっている。そして、図4に示すように、メモリ14と、演算部15と、画像処理部16と、DMD駆動コントローラ17と、光源駆動コントローラ18と、照明手段駆動コントローラ19と、搬送手段駆動コントローラ20と、制御部21とを備えている。
A control means 7 is provided in connection with the conveying
上記メモリ14は、露光パターンの設計データや演算結果等を記憶するものである。また、上記演算部15は、所定の領域の撮像時間や撮像を終了してから露光を実行するまでの経過時間等を演算するものである。さらに、上記画像処理部16は、撮像手段5で撮像された被露光体8表面の一次元の画像に基づいて二次元の画像データを生成して出力するものであり、撮像手段5から出力されるアナログ信号を所定の時間間隔でA/D変換するA/D変換器と、該A/D変換器から所定の時間間隔で出力される一次元の画像データを一時的に記憶するバッファーとを備えている。そして、上記DMD駆動コントローラ17は、上記画像処理部16で生成された被露光体8表面の二次元の画像データと上記メモリ14に保存された設計データとに基づいてビットマップデータを生成し、該ビットマップデータに基づいてDMD3の搬送方向手前側のマイクロミラー群11aのうちの所定のマイクロミラー10をオン状態に傾動させると共に、搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうちの少なくとも一列分のマイクロミラー10をオフ状態に傾動させるものである。また、上記光源駆動コントローラ18は、光源2をオン・オフ駆動するものである。さらに、照明手段駆動コントローラ19は、照明手段6をオン・オフ駆動するものである。さらにまた、上記搬送手段駆動コントローラ20は、ステージ9を矢印A方向に所定速度で移動させるものである。そして、上記制御部21は、装置全体を統合して制御するものである。
The
次に、このように構成された露光装置を使用して行う露光方法について、図5を参照して説明する。
先ず、図示省略の操作手段によって、被露光体8の移動速度V、被露光体8の全移動距離、露光時間、光源2の出力パワー等が初期設定され、制御手段7のメモリ14に記憶される。なお、被露光体8の移動速度Vは、光源2の出力パワー、露光時間及び露光パターンの搬送方向両端縁部の分解能の許容値に基づいて適切に設定される。
Next, an exposure method performed using the thus configured exposure apparatus will be described with reference to FIG.
First, the moving speed V of the object to be exposed 8, the total moving distance of the object to be exposed 8, the exposure time, the output power of the
次に、DMD3の搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうち所定のマイクロミラー列をオフ状態に設定し、搬送手段1のステージ9上に所定の感光材が塗布された被露光体8を載置して搬送し、試し露光が実行される。そして、基準パターンと露光パターンとのずれ量から撮像位置のずれ量を測定して、搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうちオフ状態とするマイクロミラー列を切り換えて撮像位置のずれが補正される。以降、下記のステップに従って、本露光が実行される。
Next, a predetermined micromirror array in the
先ず、ステップS1において、所定の感光材を塗布した被露光体8が搬送手段1のステージ9上に載置される。続いて、露光装置の図示省略の起動スイッチが投入されて被露光体8が図1に示す矢印A方向に所定の速度で連続的に搬送される。
First, in step S <b> 1, the object to be exposed 8 coated with a predetermined photosensitive material is placed on the
ステップS2においては、撮像手段5により被露光体8表面の撮像がDMD3の搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうちオフ状態にされたマイクロミラー列を介して、図6(a)に示す位置Paから開始される。この場合、撮像手段5がラインカメラであるので、被露光体8上の位置Paにおける矢印Aと直交する一次元画像が撮像される。このとき、被露光体8が矢印A方向に連続的に搬送されるので、矢印Aと反対方向に続く被露光体8表面が連続的に撮像されることになる。このようにして撮像手段5により連続的に撮像された一次元画像は、画像処理部16のA/D変換器によって所定の時間間隔でA/D変換され、それぞれ所定の時間だけずれた一次元の画像データが得られる。これら一次元の画像データは、それぞれバッファーに一時的に記憶される。なお、このとき、DMD3の搬送方向手前側のマイクロミラー群11aの全てのマイクロミラー10は、オフ状態とされているので、DMD3に光源2から入射するUV光L1は、図2に破線で示すように被露光体8の方向とは異なる方向に反射されて、図示省略の光吸収体に吸収される。したがって、この場合、露光光L3は、被露光体8には照射されない。
In step S2, the position of the surface of the
ステップS3においては、所定領域の撮像が終了したか否かが制御部21で判定される。この場合、図6(a)に示す被露光体8上の位置Paが同図(b)に示すように矢印A方向に距離D1だけ移動して位置Pbに達し、露光パターンの投影領域S0に相当する領域S1の撮像が終了すれば、ステップS3は“YES”判定となってステップS4に進む。ここで、上記判定は、被露光体8の移動速度Vに基づいて被露光体8が距離D1だけ移動する時間t1(図7(a)参照)を演算部15で演算し、制御部21で該時間t1の経過を監視して行なわれる。また、ステップS3において、“YES”判定となると同時に、図7(a)に示すように、上記領域S1に続く領域S2の撮像が開始される。なお、被露光体8の上記移動距離D1は、露光パターンの投影領域S0の搬送方向の幅D1に一致するもので、後述の領域S1,S2…の撮像が終了してから露光を実行するまでに被露光体8が移動する距離D2(図6(c)参照)と共に露光装置の仕様として予め定められており、メモリ14に記憶されている。
In step S <b> 3, the
ステップS4においては、画像処理部16により生成された被露光体8の領域S1の二次元画像データとメモリ14に保存された設計データとに基づいて、領域S1の基準パターンに対応する露光パターンのビットマップデータがDMD駆動コントローラ17で作成される。
In step S4, based on the stored design data into a two-dimensional image data and the
ステップS5においては、被露光体8が所定距離だけ移動したか否かが制御部21で判定される。ここでは、先ず、図6(b)に示すように、領域S1の撮像が終了してから領域S1の搬送方向先頭端部が位置Pbから同図(c)に示すようにPcに達するまで、即ち領域S1が露光パターンの投影領域S0に一致するまでに被露光体8が移動する距離D2が監視される。具体的には、上記判定は、被露光体8の移動速度Vと上記被露光体8の移動距離D2とに基づいて、被露光体8が距離D2だけ移動する時間t2を演算部15で演算し、制御部21で該時間t2を監視して行なう。そして、同図(c)に示すように領域S1が露光パターンの投影領域S0に一致して、ステップS5において“YES”判定となるとステップS6に進む。なお、同図(c)において、領域S2の一部に斜線を付して示しているが、この斜線部は撮像が行なわれた部分であることを表している。
In step S5, the
ステップS6においては、ステップS4で生成されたビットマップデータに基づいてDMD3の搬送方向手前側のマイクロミラー群11aのうち、所定のマイクロミラー10がオン状態に傾動されて所定の露光パターンが生成され、図6(c)に示すように、露光パターン情報を含む露光光L3が領域S1に所定時間だけ照射される(図7(b)参照)。これにより、領域S1に対応した被露光体8の基準パターン上に所定の露光パターンが露光されることになる。
In step S6, based on the bitmap data generated in step S4, among the
ステップS7においては、被露光体8への全ての露光が終了したか否かが制御部21で判定される。この判定は、被露光体8が予め入力して設定された全移動距離だけ移動したか否かを搬送手段1に備える位置検出センサーによって検出して行なわれる。ここで、“NO”判定となるとステップS3に戻って、図7(a)に示す次の領域S2の撮像が終了したか否かが判定される。以後、ステップS7において、被露光体8への全ての露光が終了して“YES”判定となるまで、ステップS3〜S7が実行される。
In step S <b> 7, the
なお、上記実施形態においては、露光が間欠的に実行される場合について説明したが、本発明はこれに限られず、露光を連続的に実行してもよい。このためには、例えば図8に示すように、所定の領域S1の撮像が終了してから所定時間t2が経過した後に露光を開始し、以後被露光体8の移動に伴って随時変化する被露光体8表面の二次元画像データに基づいて露光パターンを変更しながら連続して露光を実行すればよい。この場合、露光パターンが重ね露光されるため露光光量を下げることができる。または、露光光量を維持すれば被露光体8の移動速度を上げることができ、露光工程の時間を短縮することができる。
In the above embodiment, the case where the exposure is performed intermittently has been described. However, the present invention is not limited to this, and the exposure may be performed continuously. For this purpose, for example, as shown in FIG. 8, exposure is started after a predetermined time t 2 has elapsed since the imaging of the predetermined region S 1 has been completed, and thereafter changes with time as the object to be exposed 8 moves. What is necessary is just to perform exposure continuously, changing an exposure pattern based on the two-dimensional image data of the to-
また、上記実施形態においては、DMD3が被露光体8の搬送方向と交差する方向を境界として搬送方向手前側のマイクロミラー群11aと搬送方向奥側のマイクロミラー群11bとに分割され、搬送方向手前側のマイクロミラー群11aのうちの所定のマイクロミラー10をオン状態に傾動して露光パターンを生成し、搬送方向奥側のマイクロミラー群11bのうち少なくとも一列分のマイクロミラー10をオフ状態に傾動して被露光体8方向からの可視光L2を撮像手段5へ反射する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、DMD3を二つのマイクロミラー群11a,11bに分割することなく使用して、撮像時には全マイクロミラー10をオフ状態に傾動させて基準パターンの撮像を可能とさせ、露光時には全マイクロミラー10のうち所定のマイクロミラー10をオン状態に傾動させて露光パターンを生成させるようにしてもよい。この場合、撮像と露光とは交互に行なわれることになる。
Further, in the above embodiment, the
さらに、上記実施形態においては、撮像手段5が被露光体8の搬送方向と交差する方向に一直線状に並べて複数の受光素子を備えたラインカメラである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、撮像手段5は被露光体8の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿って複数の受光素子をマトリクス状に備えたものであってもよい。
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the
さらにまた、上記実施形態においては、照明手段6をステージ9の下方に配設した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、照明手段6をステージ9の上方に配設して落射照明としてもよい。
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the
そして、以上の説明においては、制御手段7が被露光体8を連続的に搬送するように搬送手段1の駆動を制御する場合について述べたが、本発明はこれに限られず、制御手段7は、被露光体8を間欠的に搬送するように搬送手段1の駆動を制御してもよい。この場合、撮像手段5がラインカメラのときには、被露光体8を一定速度で搬送しながら所定領域を撮像し、その後、被露光体8の搬送を一時的に停止して前記撮像された領域に対して露光を実行するようにするとよい。また、撮像手段5が二次元カメラの場合には、被露光体8を一時的に停止させた状態でDMD3の全マイクロミラーをオフ状態に傾動させて所定領域を撮像し、その後、DMD3により所定の露光パターンを生成して前記撮像領域に対して露光を実行し、それから被露光体8を所定の距離だけステップ移動して上記と同様にして撮像及び露光を実行するようにするとよい。
In the above description, the case where the
1…搬送手段
2…光源
3…DMD(マイクロミラーデバイス)
4…投影レンズ
5…撮像手段
7…制御手段
8…被露光体
10…マイクロミラー
11a,11b…マイクロミラー群
L1…光源からの光
L2…可視光
L3…露光光
DESCRIPTION OF
4 ...
Claims (6)
前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源からの光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動させ、該マイクロミラーデバイスで反射された可視光を撮像手段により受光して被露光体に予め形成された所定の基準パターンを撮像し、
前記撮像手段により撮像された基準パターンの画像データと記憶部に予め保存された設計データとに基づいて前記露光パターンに対応した画像のビットマップデータを生成し、
前記ビットマップデータに基づいて前記マイクロミラーデバイスの複数のマイクロミラーを傾動させて所定の露光パターンを生成し、
前記被露光体に形成された基準パターン上に前記所定の露光パターンを露光する、
ことを特徴とする露光方法。 While transporting the object to be exposed in a predetermined direction, a predetermined micromirror of a micromirror device in which a plurality of micromirrors are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction, An exposure method that generates an exposure pattern by tilting so that light incident from a light source is reflected toward the object to be exposed, and projects and exposes the exposure pattern on the object to be exposed.
The plurality of micromirrors of the micromirror device are tilted so that visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected in a direction different from the incident direction of light from the light source, and reflected by the micromirror device. The visible light is received by the imaging means, and a predetermined reference pattern previously formed on the object to be exposed is imaged.
Generating bitmap data of an image corresponding to the exposure pattern based on image data of the reference pattern imaged by the imaging means and design data stored in advance in a storage unit;
A predetermined exposure pattern is generated by tilting a plurality of micromirrors of the micromirror device based on the bitmap data,
Exposing the predetermined exposure pattern on a reference pattern formed on the object to be exposed;
An exposure method characterized by the above.
前記搬送手段の上方に配設され、光源から入射する光が前記被露光体方向に反射されるように傾動されて露光パターンを生成すると共に、前記被露光体方向から入射する可視光が前記光源から光の入射方向と異なる方向に反射されるように傾動される複数のマイクロミラーが前記被露光体の搬送方向及び該搬送方向と交差する方向に沿ってマトリクス状に配置されたマイクロミラーデバイスと、
前記マイクロミラーデバイスで生成された露光パターンを前記被露光体上に投影する投影レンズと、
前記マイクロミラーデバイスによって前記被露光体方向から入射する可視光が反射される方向に配設され、被露光体の表面を撮像する撮像手段と、
前記各構成要素を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 A conveying means for placing the object to be exposed on the placement surface and conveying it in a predetermined direction;
An exposure pattern is generated by being tilted so that light incident from the light source is reflected in the direction of the object to be exposed, and visible light incident from the direction of the object to be exposed is the light source. A micromirror device in which a plurality of micromirrors tilted so as to be reflected in a direction different from the light incident direction are arranged in a matrix along the transport direction of the object to be exposed and the direction intersecting the transport direction; ,
A projection lens that projects an exposure pattern generated by the micromirror device onto the object to be exposed;
An imaging means that is arranged in a direction in which visible light incident from the direction of the object to be exposed is reflected by the micromirror device, and images the surface of the object to be exposed;
Control means for controlling each of the components;
An exposure apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007003511A JP4871145B2 (en) | 2007-01-11 | 2007-01-11 | Exposure method and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007003511A JP4871145B2 (en) | 2007-01-11 | 2007-01-11 | Exposure method and exposure apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008172000A true JP2008172000A (en) | 2008-07-24 |
JP4871145B2 JP4871145B2 (en) | 2012-02-08 |
Family
ID=39699821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007003511A Active JP4871145B2 (en) | 2007-01-11 | 2007-01-11 | Exposure method and exposure apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4871145B2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104345579A (en) * | 2013-08-09 | 2015-02-11 | 上海微电子装备有限公司 | Maskless exposure equipment and signal feedback control method thereof |
CN104777715A (en) * | 2014-01-10 | 2015-07-15 | 上海微电子装备有限公司 | Method used for measuring photoetching machine vertical measuring system reflector surface shape |
CN106647045A (en) * | 2017-01-23 | 2017-05-10 | 南京先进激光技术研究院 | Liquid crystal zone light-control orientation device and method |
KR20190133798A (en) * | 2017-06-26 | 2019-12-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Image enhancement for alignment through incoherent lighting blending |
WO2022153793A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Photomask correction device and method for correcting photomask |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5235062B2 (en) * | 2007-08-31 | 2013-07-10 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Exposure equipment |
KR102463923B1 (en) * | 2017-09-18 | 2022-11-07 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Method of forming imprinted patterns and imprinting apparatus |
-
2007
- 2007-01-11 JP JP2007003511A patent/JP4871145B2/en active Active
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104345579A (en) * | 2013-08-09 | 2015-02-11 | 上海微电子装备有限公司 | Maskless exposure equipment and signal feedback control method thereof |
CN104777715A (en) * | 2014-01-10 | 2015-07-15 | 上海微电子装备有限公司 | Method used for measuring photoetching machine vertical measuring system reflector surface shape |
CN106647045A (en) * | 2017-01-23 | 2017-05-10 | 南京先进激光技术研究院 | Liquid crystal zone light-control orientation device and method |
KR20190133798A (en) * | 2017-06-26 | 2019-12-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Image enhancement for alignment through incoherent lighting blending |
CN110603491A (en) * | 2017-06-26 | 2019-12-20 | 应用材料公司 | Image improvement for alignment by incoherent illumination mixing |
JP2020525828A (en) * | 2017-06-26 | 2020-08-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Image improvement for registration through mixing of incoherent illumination |
CN110603491B (en) * | 2017-06-26 | 2022-02-22 | 应用材料公司 | Image improvement for alignment by incoherent illumination mixing |
KR102385453B1 (en) * | 2017-06-26 | 2022-04-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Image enhancement for alignment with incoherent light blending |
WO2022153793A1 (en) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Photomask correction device and method for correcting photomask |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4871145B2 (en) | 2012-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4871145B2 (en) | Exposure method and exposure apparatus | |
KR101149089B1 (en) | Exposure equipment | |
TWI467345B (en) | Exposure apparatus and photomask | |
JP4309874B2 (en) | Exposure equipment | |
JP5235062B2 (en) | Exposure equipment | |
KR20180037590A (en) | Assist exposure apparatus and method of obtaining exposure distribution | |
WO2005106591A1 (en) | Exposure pattern forming method | |
JP4679999B2 (en) | Exposure equipment | |
JP6547609B2 (en) | Device forming apparatus and pattern forming apparatus | |
JP2006337874A (en) | Exposure device and exposure method | |
JP4613098B2 (en) | Exposure equipment | |
JP4338628B2 (en) | Exposure equipment | |
JP2007057791A (en) | Aligner | |
JP4951036B2 (en) | Exposure equipment | |
JP6879484B2 (en) | Image acquisition device, exposure device, and image acquisition method | |
US20240027898A1 (en) | Exposure apparatus, method for manufacturing device, method for manufacturing flat panel display, and exposure method | |
JP4235584B2 (en) | Exposure apparatus and pattern forming method | |
JP7489913B2 (en) | Drawing device and drawing method | |
JP2006235448A (en) | Image recording system, image recording method, program, and image forming apparatus | |
JP2006173215A (en) | Exposure method and exposure apparatus | |
JP4914043B2 (en) | Exposure equipment | |
JPWO2022215692A5 (en) | ||
TWI490657B (en) | Exposure apparatus and photomask to be used for same | |
JP2005017609A (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JPH1131653A (en) | Plane position detector and projection aligner |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4871145 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |