JP2008170241A - Light-fixing solid-phase carrier and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-fixing solid-phase carrier capable of obtaining proper detection characteristics, with respect to the interaction of the fine matters on the surface of a fixing solid-phase object with other components. <P>SOLUTION: As the light-fixing solid-phase carrier 2, a light responsive layer 4 of which the surface has an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or smaller and which contains a light responsive component is provided. By providing the light responsive layer 4, of which the surface is very much smoothed, proper optical characteristics can be obtained, after the fine matter is fixed on the light responsive layer 4. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、微小物体を光照射により固定化するための光固定化用固相担体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a solid phase carrier for light immobilization for immobilizing a minute object by light irradiation and a method for producing the same.

微小物体を基板などの固相表面に固定化する技術の一つとして、光照射により固定化する技術が知られている。この技術は、タンパク質などの微小物体を、光により変形する光応答性成分を含有する固相の表面に配し、光照射によって固相表面近傍に変形を生じさせタンパク質等を固定（光固定）するものである（特許文献１）。光応答性成分を含有する固相は、スライドガラスなどの基板表面に光応答性成分であるアゾ色素のポリマーをコートして作製されている。このようにして作製されたタンパク質固定化固相体は、タンパク質−タンパク質相互作用のスクリーニングプロテイン用チップ、抗体チップ等として利用することが期待されている。   As one of techniques for immobilizing a micro object on a solid phase surface such as a substrate, a technique for immobilization by light irradiation is known. In this technology, minute objects such as proteins are placed on the surface of a solid phase that contains a light-responsive component that is deformed by light, and light is irradiated to cause deformation near the surface of the solid phase to immobilize proteins (light fixation). (Patent Document 1). A solid phase containing a photoresponsive component is prepared by coating a surface of a substrate such as a slide glass with a polymer of an azo dye that is a photoresponsive component. The thus prepared protein-immobilized solid phase is expected to be used as a protein chip, an antibody chip, etc. for screening protein-protein interactions.

スクリーニングや診断手段に用いられるプロテインチップ等において、固定化されたタンパク質と被験試料中のターゲット成分との相互作用を検出するためのシグナルが必要である。通常こうした検出シグナルとしては蛍光又は発光などの光学的シグナルが利用されている。   In a protein chip or the like used for screening or diagnostic means, a signal for detecting the interaction between the immobilized protein and the target component in the test sample is required. Usually, an optical signal such as fluorescence or luminescence is used as such a detection signal.

一般に、光学的な検出感度や検出精度は、バッググラウンドのシグナルをいかに低下させるかに依存しており、残留不純物あるいは固相表面の凹凸などの固相表面の特性により変動することが知られている。固相表面における凹凸による光の分散・反射は光学的シグナルの検出精度や検出感度の低下を引き起こすため、例えば、共有結合等によりＤＮＡなどの核酸を固相表面に固定化して、光学的シグナルを用いて相互作用を検出する場合、一定以下の表面粗さのガラススライド等の基板等を用いることが開示されている（特許文献２、３等）。   In general, the optical detection sensitivity and detection accuracy depend on how the background signal is reduced and are known to vary depending on the characteristics of the solid phase surface, such as residual impurities or solid surface irregularities. Yes. Light dispersion and reflection due to unevenness on the surface of the solid phase causes a decrease in the detection accuracy and sensitivity of optical signals. For example, nucleic acids such as DNA are immobilized on the solid surface by covalent bonds, etc. In the case of detecting an interaction by using a glass slide, it is disclosed that a substrate such as a glass slide having a surface roughness below a certain level is used (Patent Documents 2, 3, etc.).

また、光学的な検出感度や検出精度の向上には、固相表面に対して微小物体が安定的に固定化されていることも重要である。共有結合などによってタンパク質等を固相担体に結合する場合、表面を一定範囲で粗面化することでプローブ等の固定化量が増大することが開示されている（特許文献４）。
特開２００３−３２９６８２ 特開２００３−１２１４３８ 特開２００３−２４７９７０ 特開２００２−２１１９５４ Further, in order to improve optical detection sensitivity and detection accuracy, it is also important that a minute object is stably fixed to the solid surface. It is disclosed that when a protein or the like is bound to a solid phase carrier by covalent bonding or the like, the amount of immobilized probe or the like is increased by roughening the surface within a certain range (Patent Document 4).
JP2003-329682A JP2003-121438A JP2003-247970 JP2002-211954

微小物体が光固定化された固相体を用いる場合であっても、光学的シグナルを検出手段として用いることが分析上好ましい場合、従来のチップ等と同様に光学的シグナルの検出精度や検出感度等の検出特性が問題となる。   Even when using a solid phase body in which a minute object is light-immobilized, if it is analytically preferable to use an optical signal as a detection means, the detection accuracy and detection sensitivity of the optical signal are the same as in conventional chips. Such a detection characteristic becomes a problem.

しかしながら、光固定に用いる光応答性固相において良好な光学的特性を発揮する表面特性については全く知られていなかった。また、良好な光学的特性を得るための表面特性は固定化方法によっても異なると考えられ、上記した特許文献における開示をそのまま適用できるわけでもない。   However, there is no known surface property that exhibits good optical properties in the photoresponsive solid phase used for light fixation. Further, the surface characteristics for obtaining good optical characteristics are considered to be different depending on the immobilization method, and the disclosure in the above-mentioned patent document cannot be applied as it is.

さらに、光固定化には、溶液中での光照射などの従来の固定化とは異なる特有な処理を伴う。このため、光固定化用固相担体は光固定化前のみならずこうした処理後においても良好な光学的特性を備えている必要がある。さらに、微小物体の固定化までの間において微小物体の固定化量が変化せずに安定的に保持されるようにしなければ分析精度を確保できない。   Furthermore, light immobilization involves a unique process different from conventional immobilization, such as light irradiation in a solution. For this reason, the solid phase carrier for light immobilization needs to have good optical characteristics not only before light immobilization but also after such treatment. Furthermore, the accuracy of analysis cannot be ensured unless the amount of immobilization of the minute object is stably maintained until the immobilization of the minute object.

現状において、光固定化固相体表面上の微小物体と他の成分との相互作用を検出する際の検出精度や検出感度等を向上させることができる固相担体の特性やその製造方法については未だ知られていなかった。   At present, the characteristics of solid-phase carriers that can improve the detection accuracy and detection sensitivity when detecting the interaction between a micro object on the surface of a light-immobilized solid-phase body and other components, and the manufacturing method thereof It was not yet known.

そこで、本発明は、光固定化固相体表面上の微小物体と他の成分との相互作用について良好な検出特性を得ることができる光固定化用固相担体及びその製造方法を提供することを一つの目的とする。また、本発明は、微小物体を安定して保持できる光固定化用固相担体及びその製造方法を提供することを他の一つの目的とする。   Accordingly, the present invention provides a solid phase support for photoimmobilization that can obtain good detection characteristics for the interaction between a minute object on the surface of a photoimmobilized solid phase body and other components, and a method for producing the same. For one purpose. Another object of the present invention is to provide a solid phase support for light immobilization capable of stably holding a minute object and a method for producing the same.

本発明者らは、自ら作製した種々の光固定化用固相担体について、微小物体を固定化し光学的手法で検出することについて検討していたところ、光学的検出特性が、光応答性層表面又はその下にある下地層などの表面の平滑性に予想を超えて依存していることを見出した。また、光学的な検出特性の低下は、光応答性層形成時あるいはその後における環境に依存した平滑性の低下にも影響されることを見出した。これらの知見に基づき、本発明を完成した。本発明によれば以下の手段が提供される。   The inventors of the present invention have been studying the immobilization of minute objects on various solid phase carriers for photofixation prepared by themselves and detecting them with an optical technique. Or it discovered that it depended unexpectedly on the smoothness of the surface of the underlayer etc. which are under it. Further, it has been found that the decrease in optical detection characteristics is also affected by the decrease in smoothness depending on the environment during or after the formation of the photoresponsive layer. Based on these findings, the present invention has been completed. According to the present invention, the following means are provided.

本発明によれば、光固定化用固相担体であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層、を備える、固相担体が提供される。この固相担体は、タンパク質を多数個固定化したアレイ用とすることができる。   According to the present invention, there is provided a solid phase carrier comprising a solid phase carrier for light immobilization, comprising a photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component. The This solid phase carrier can be used for an array in which many proteins are immobilized.

この固相担体においては、支持体と、前記支持体と前記光応答性層との間に介在される下地層と、を備え、前記下地層の前記光応答性層側の表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下とすることができる。前記下地層はシランカップリング剤を含有することができる。さらに、この固相担体においては、リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間浸漬し乾燥後の前記光応答性層の表面の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下とすることもできる。また、前記光応答性層は、前記光応答性層が担持される担体を対照としたときの吸光度が０．０１以下の領域を有することもできる。   In this solid phase carrier, a support and a base layer interposed between the support and the photoresponsive layer are provided, and the arithmetic average roughness of the surface of the base layer on the photoresponsive layer side is provided. The thickness Ra can be 10 nm or less. The underlayer can contain a silane coupling agent. Furthermore, in this solid phase carrier, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer after being dipped in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and dried may be 5 nm or less. In addition, the photoresponsive layer may have a region having an absorbance of 0.01 or less when a carrier on which the photoresponsive layer is carried is used as a control.

また、前記光応答性層は、前記光応答性成分としてアミノ型アゾベンセン系化合物を含有することができる。   The photoresponsive layer may contain an amino azobencene compound as the photoresponsive component.

この固相担体は、前記光応答性層に固定化された微小物体と他の成分との相互作用を光学的シグナルによる検出するための固相担体とすることができる。   This solid phase carrier can be used as a solid phase carrier for detecting the interaction between the minute object immobilized on the photoresponsive layer and other components by an optical signal.

本発明によれば、光応答性層形成用の担体であって、支持体と、光応答性成分を含有する光固固定化層用に前記支持体表面に配される下地層と、を備え、前記下地層表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下である、担体が提供される。   According to the present invention, there is provided a support for forming a photoresponsive layer, comprising: a support; and an underlayer disposed on the surface of the support for a light-fixed layer containing a photoresponsive component. A carrier having an arithmetic average roughness Ra on the surface of the underlayer of 10 nm or less is provided.

本発明によれば、光固定化用固相担体の製造方法であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層を形成する工程、を備える、製造方法も提供される。   According to the present invention, there is provided a method for producing a solid phase support for photofixation, comprising the step of forming a photoresponsive layer containing a photoresponsive component having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less. A manufacturing method is also provided.

この製造方法においては、前記光応答性層形成工程に先立って、表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の下地層を備える担体を準備する工程を備え、前記光応答性層形成工程は、前記下地層の表面に前記光応答性層を形成する工程とすることができる。また、この担体準備工程は、算術平均粗さＲａが１０ｎｍを超える前記下地層の表面を平滑化処理する工程とすることができる。さらに、前記平滑化処理は、前記下地層の表面をワイプ材で擦過する処理を含むことができる。また、前記下地層はシランカップリング剤を含有することができる。 In this manufacturing method, prior to the photoresponsive layer forming step, the method includes a step of preparing a support including a base layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less, and the photoresponsive layer forming step includes: The step of forming the photoresponsive layer on the surface of the underlayer can be performed. Further, the carrier preparation step can be a step of smoothing the surface of the underlayer having an arithmetic average roughness Ra exceeding 10 nm. Further, the smoothing process may include a process of rubbing the surface of the foundation layer with a wipe material. The underlayer can contain a silane coupling agent.

さらに、前記光応答性層形成工程は、湿度５０％以下の雰囲気下で実施する工程とすることができるし、前記光応答性層を形成する表面又はその近傍の水分を低減した後に実施する工程とすることもできる。また、前記光応答性層がポリマーを含有するとき、前記光応答性層を前記ポリマーのガラス転移温度以上の温度で熱処理する工程を備えることもできる。   Further, the photoresponsive layer forming step can be a step performed in an atmosphere having a humidity of 50% or less, and a step performed after reducing moisture on or near the surface on which the photoresponsive layer is formed. It can also be. Moreover, when the said photoresponsive layer contains a polymer, it can also comprise the process of heat-processing the said photoresponsive layer at the temperature more than the glass transition temperature of the said polymer.

この製造方法においては、前記光応答性層は、前記光応答性成分としてアミノ型アゾベンセン系化合物を含有することもできる。 In this production method, the photoresponsive layer may contain an amino-type azobencene compound as the photoresponsive component.

本発明によれば、光応答性層形成用の担体の製造方法であって、支持体上に、表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の前記光応答性層形成用の下地層を形成する工程を備える製造方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a method for producing a carrier for forming a photoresponsive layer, wherein the base layer for forming the photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less is formed on a support. A manufacturing method comprising the steps is provided.

本発明によれば、微小物体が保持された固相体であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、光応答性成分を含有する光応答性層と、前記光応答性層に固定化された前記微小物体と、を備える、固相体が提供される。   According to the present invention, a solid body in which a minute object is held, a surface having an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less, a photoresponsive layer containing a photoresponsive component, and the photoresponsive layer There is provided a solid phase body comprising the micro object immobilized on the solid body.

本発明によれば、微小物体が保持された固相体の製造方法であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層を備える光固定化用固相担体の前記光応答性層表面に、微小物体を光固定化する工程、を備える、方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a method for producing a solid phase in which a micro object is held, wherein the surface has an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and includes a photoresponsive layer containing a photoresponsive component. There is provided a method comprising the step of optically immobilizing a micro object on the surface of the photoresponsive layer of a solid support for use.

本発明によれば、微小物体と他の成分との相互作用の検出方法であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層と、前記光応答性層に固定化された前記微小物体と、を備える固相体を用いる、方法が提供される。この検出方法においては、前記微小物体は生体成分としてもよいし、前記相互作用を光学的シグナルで検出するものとしてもよい。   According to the present invention, there is provided a method for detecting an interaction between a minute object and another component, the arithmetic average roughness Ra of the surface being 2 nm or less, a photoresponsive layer containing a photoresponsive component, and the light There is provided a method using a solid body comprising the micro object immobilized on a responsive layer. In this detection method, the minute object may be a biological component, or the interaction may be detected by an optical signal.

本発明の光固定化用固相担体は、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層、を備えることができる。このような平滑性の光応答性層を備えることで、良好な光学的検出特性を得ることができる。すなわち、良好な光学的な検出感度、検出精度を得ることができる。この結果、良好な分析精度及び再現性を得ることができる。また、こうした平滑性を備えることで、結果として、微小物体を安定的に光応答性層に保持することができる。微小物体の光固定化は、光応答性層の変形を伴う点において、通常の化学結合あるいは単なる表面への物理的吸着による固定化とは相違している。しかしながら、光固定化のための固相表面の平滑性が、微小物体を光固定化した固相体の光学的特性に大きな影響を及ぼすことは従来知られていなかった。本発明者らは、光固定化用固相担体の光学的特性向上や微小物体の安定保持性のための新たな指標を見出したといえる。   The solid phase support for light immobilization of the present invention can include a photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component. By providing such a smooth photoresponsive layer, good optical detection characteristics can be obtained. That is, good optical detection sensitivity and detection accuracy can be obtained. As a result, good analysis accuracy and reproducibility can be obtained. Moreover, by providing such smoothness, as a result, a micro object can be stably hold | maintained in a photoresponsive layer. Light immobilization of a micro object is different from immobilization by ordinary chemical bonding or simple physical adsorption on the surface in that it involves deformation of the photoresponsive layer. However, it has not been known in the past that the smoothness of the surface of the solid phase for light immobilization has a great influence on the optical properties of the solid phase body on which a micro object is light-immobilized. It can be said that the present inventors have found a new index for improving the optical characteristics of the solid phase support for light immobilization and for the stable retention of a minute object.

また、本発明の光固定化用固相担体は、リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間浸漬し乾燥後の表面の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下である光応答性層を備えることもできる。こうした光応答性層であれば、良好な光学的検出特性を得ることができ、この結果、良好な分析精度及び再現性を得ることができる。また、こうした平滑性を備えることで、結果として、微小物体を安定的に光応答性層に保持することができる。   In addition, the solid phase carrier for photofixation of the present invention may include a photoresponsive layer having an arithmetic average roughness Ra of 5 nm or less after being dipped in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and dried. it can. With such a photoresponsive layer, good optical detection characteristics can be obtained, and as a result, good analysis accuracy and reproducibility can be obtained. Moreover, by providing such smoothness, as a result, a micro object can be stably hold | maintained in a photoresponsive layer.

本発明の光固定化用固相担体は、光応答性層が担持された担体を対照として測定したとき、表面（光応答性層）の吸光度が０．０１以下の領域を有することができる。こうした領域は空隙（ボイド）のない平滑な光応答性層となっており、光学的検出特性及び微小物体の保持安定性に優れる固相担体を提供できる。   The solid phase carrier for light immobilization of the present invention can have a region where the absorbance of the surface (photoresponsive layer) is 0.01 or less when measured using a carrier carrying a photoresponsive layer as a control. Such a region is a smooth photoresponsive layer having no voids, and can provide a solid phase carrier excellent in optical detection characteristics and microobject retention stability.

また、本発明の光固定化用固相担体は、アミノ型アゾベンセン系化合物を含有する光応答性層を備えることができる。こうした光応答性成分を含有することで、光固定化のための光応答性能を確保しつつ光応答性層に由来するバックグラウンドを効果的に低減することができる。結果として、光学的検出特性に優れた固相担体を得ることができる。   The solid phase carrier for photofixation of the present invention can comprise a photoresponsive layer containing an amino-type azobencene compound. By including such a photoresponsive component, it is possible to effectively reduce the background derived from the photoresponsive layer while ensuring photoresponsive performance for photofixation. As a result, a solid support having excellent optical detection characteristics can be obtained.

本発明は、こうした特徴を備えることができる光固定化用固相担体、光応答性層形成用担体、微小物体固定化固相体及びこれらの製造方法並びにこれらの利用等に関している。以下、本発明の実施の形態について適宜図面を参照しながら詳細に説明する。図１には、本発明の光固定化用固相担体の一例が示され、図２には、本発明の光固定化固相担体の製造工程の一例が示され、図３には、本発明の微小物体保持固相体の製造工程の一例が示されている。   The present invention relates to a solid phase support for light immobilization, a support for forming a photoresponsive layer, a solid phase immobilization of a micro object, a production method thereof, use thereof, and the like that can have such characteristics. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. FIG. 1 shows an example of the solid phase carrier for light immobilization of the present invention, FIG. 2 shows an example of the production process of the solid phase carrier for light immobilization of the present invention, and FIG. An example of the manufacturing process of the solid object holding solid object of the invention is shown.

（光固定化用固相担体）
光固定化用固相担体２は、光応答性層４それ自体によって構成されていてもよいし、図１に示すように、適当な担体１２上に担持されていてもよい。担体１２は、適当な支持体８を備えており、支持体８のみから構成されていてもよいし、光応答性層４を形成するための適当な下地層１０などの層を備えていてもよい。 (Solid phase support for light immobilization)
The photofixation solid phase carrier 2 may be constituted by the photoresponsive layer 4 itself, or may be carried on a suitable carrier 12 as shown in FIG. The carrier 12 includes an appropriate support 8 and may be composed only of the support 8 or may include a layer such as an appropriate underlayer 10 for forming the photoresponsive layer 4. Good.

（光応答性層）
本固相担体２は、光応答性成分を含有する光応答性層４を備えることができる。光応答性層４は、微小物体２０を光固定化により固定化するために用いる層である。ここで光固定とは、光応答性成分を含有する光応答性層４の表面に配した微小な物体１０に光照射して光応答性層４の表面において光異性化ないしは光変形を生じさせて固定することをいう。 (Photoresponsive layer)
The solid phase carrier 2 can include a photoresponsive layer 4 containing a photoresponsive component. The photoresponsive layer 4 is a layer used for immobilizing the minute object 20 by light immobilization. Here, light fixation means that light irradiation is applied to a minute object 10 disposed on the surface of the photoresponsive layer 4 containing a photoresponsive component to cause photoisomerization or photodeformation on the surface of the photoresponsive layer 4. To fix.

光応答性層４は、光応答性成分を含有すること及び光による分子構造の変化等により結果として形状変形（以下、光変形ともいう。）を生じるように構成されている（光変形材料ともいう。）ことが好ましい。本明細書において光変形とは、通常のマクロな意味での形状変化のほか、分子レベルでの運動による微小物体と光固定化材料表面との絡み合いになどによる変形も含む。このような変形の中には、変形量や変形形態の問題から通常の観察手段によっては明瞭に観察できないものもある。光変形は、光応答性成分が光固定化材料中に存在することにより、光照射時に、例えば、光応答性層４のマトリックス６若しくは光応答性成分の体積、密度、自由体積などが変化することにより誘起されることにより生じると考えられる。   The photoresponsive layer 4 contains a photoresponsive component and is configured to cause shape deformation (hereinafter also referred to as photodeformation) as a result of a change in molecular structure caused by light (also referred to as photodeformable material). Say). In this specification, the optical deformation includes deformation due to entanglement between a minute object and the surface of the light-immobilizing material due to movement at a molecular level, in addition to a change in shape in a normal macro sense. Some of these deformations cannot be clearly observed by ordinary observation means due to problems of deformation amount and deformation form. In the photo-deformation, the photo-responsive component is present in the photo-fixing material, so that, for example, the matrix 6 of the photo-responsive layer 4 or the volume, density, free volume, etc. of the photo-responsive component changes during light irradiation. It is thought that it is caused by being induced by this.

（光応答性成分）
光応答性層４に含まれる光応答性応答性成分は、光により分子構造の変化又は分子配列の変化を生じる成分である。光により分子構造の変化が生じる現象は、フォトクロミズムと一般にいわれている。本発明で用いる光応答性成分としては、一般にフォトクロミック化合物といわれる化合物を用いることができるが、なかでも、光異性化を生じる化合物を用いることが好ましい。なお、光異性化等の分子構造変化を伴って又は光異性化等の分子構造変化を伴わないで光誘起配向、光会合等の分子配列の変化（特に異方的な変化）を生じる化合物も、光応答性層４を構成することができる限り本発明の光応答性成分として用いることができる。 (Photo-responsive component)
The photoresponsive responsive component contained in the photoresponsive layer 4 is a component that causes a change in molecular structure or molecular arrangement by light. The phenomenon in which the molecular structure is changed by light is generally referred to as photochromism. As the photoresponsive component used in the present invention, a compound generally referred to as a photochromic compound can be used. Among them, a compound that causes photoisomerization is preferably used. In addition, there are compounds that cause changes in molecular arrangement (especially anisotropic changes) such as photo-induced orientation and photoassociation with or without molecular structure changes such as photoisomerization. As long as the photoresponsive layer 4 can be formed, it can be used as the photoresponsive component of the present invention.

光応答性成分としては、こうした光固定にこれまで用いられてきている各種成分を用いることができる。光応答性成分のフォトクロミック材料としては、アゾ系化合物、スピロピラン系化合物、スピロオキサジン系化合物、ジアリールエテン系化合物、フルギド系化合物などを用いることができる。光応答性成分としては、例えば、トランス−シス光異性化を生じる光異性化化合物等があり、例えば、アゾ系化合物、スチルベン系化合物、アゾメチン系化合物などを例示できる。 As the light-responsive component, various components that have been used for such light fixation can be used. As a photochromic material of a photoresponsive component, an azo compound, a spiropyran compound, a spirooxazine compound, a diarylethene compound, a fulgide compound, or the like can be used. Examples of the photoresponsive component include photoisomerized compounds that cause trans-cis photoisomerization, and examples thereof include azo compounds, stilbene compounds, and azomethine compounds.

光応答性成分としては、アゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）を有する色素構造を有する化合物（アゾ化合物）であることが好ましい。アゾ化合物は、光照射等によりシス−トランス異性化を起こし、この異性化による分子レベルの運動が光応答性層４を可塑化させて変形を容易にする。なかでも、アミノアゾベンゼンやその誘導体の構造を持つアミノ型アゾベンゼン化合物が好ましい。アミノ型アゾベンゼン化合物は、典型的には、式（１）で表すことができる。式（１）中、Ｘは、水素原子又は電子吸引性置換基などの各種置換基を表し、好ましくは水素原子を表す。
The photoresponsive component is preferably a compound (azo compound) having a dye structure having an azo group (—N═N—). The azo compound undergoes cis-trans isomerization by light irradiation or the like, and the movement at the molecular level by this isomerization plasticizes the photoresponsive layer 4 to facilitate deformation. Of these, amino-type azobenzene compounds having a structure of aminoazobenzene or a derivative thereof are preferable. The amino-type azobenzene compound can typically be represented by the formula (1). In formula (1), X represents a hydrogen atom or various substituents such as an electron-withdrawing substituent, and preferably represents a hydrogen atom.

Ｘ部分が水素であるアミノ型アゾベンゼンは、電子吸引性置換基を備えるものよりも吸収スペクトルが短波長側にシフトする傾向があるため、効果的に自家蛍光を抑制でき、より短波長での蛍光検出における感度を上昇できる。このため、特に蛍光検出を目的とするプロテインチップ用等の光固定化基板材料として有用である。また、これにより、特にＣｙ３などの短波長での蛍光標識についての検出感度を向上させることができる。この結果、より広い波長範囲で高感度に蛍光標識を検出することができ、複数の蛍光標識を同等の感度で検出できる蛍光検出用チップを提供できる。また、例えば、式（２）及び式（３）に示すように、アゾベンゼン骨格の一方のベンゼン環に電子吸引性置換基（−ＣＮ、−ＮＯ２）が、他方に電子供与性置換基（−ＮＲ１Ｒ２）が結合したものも、光照射中にシス−トランスの異性化を繰り返し大きな光応答性層４の可塑化作用を有すると考えられるため好ましい。
The amino-type azobenzene, in which the X moiety is hydrogen, tends to shift the absorption spectrum to a shorter wavelength side than those having an electron-withdrawing substituent, so that autofluorescence can be effectively suppressed and fluorescence at a shorter wavelength can be suppressed. Sensitivity in detection can be increased. For this reason, it is particularly useful as a light-immobilized substrate material for protein chips and the like for the purpose of fluorescence detection. This can also improve the detection sensitivity for fluorescent labels particularly at short wavelengths such as Cy3. As a result, the fluorescent label can be detected with high sensitivity in a wider wavelength range, and a plurality of fluorescent labels can be detected with the same sensitivity. For example, as shown in Formula (2) and Formula (3), an electron-withdrawing substituent (—CN, —NO 2 ) is present on one benzene ring of the azobenzene skeleton, and an electron-donating substituent (— Those in which NR 1 R 2 ) are bonded are preferred because they are thought to have a large plasticizing action of the photoresponsive layer 4 by repeating cis-trans isomerization during light irradiation.

式（１）〜（３）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、置換基を表す。式（１）〜（３）において、置換基は、アルキル基、水酸基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、アリール基、アリル基、アルキルエステル基、アルキルエーテル基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、イソシアネート基、エポキシ基等を例示することができる。特に、Ｒ１及びＲ２における前記置換基の一方が、末端に重合性の二重結合等を有するアクリル酸やメタクリル酸等のアクリル系化合物及びその他の二重結合性成分であるときには、式（１）〜（３）は、二重結合性モノマーを表すことができるほか、前記二重結合性成分に由来する重合基を備える光応答性ポリマーを表す。また、Ｒ１及びＲ２における前記置換基の一方が、イソシアネート基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基等の重縮合あるいは重付加性の重合性成分であるときは、式（１）〜（３）は、重合性モノマーを表すほか、前記重合性成分に由来する重合基を備える光応答性モノマーを表す。アゾ化合物である光応答性成分は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。 In formulas (1) to (3), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. In the formulas (1) to (3), the substituent is an alkyl group, hydroxyl group, hydroxyalkyl group, halogen atom, nitro group, amino group, carboxyl group, aryl group, allyl group, alkyl ester group, alkyl ether group, alkyl group. An amino group, an alkylamide group, an isocyanate group, an epoxy group, etc. can be illustrated. In particular, when one of the substituents in R 1 and R 2 is an acrylic compound such as acrylic acid or methacrylic acid having a polymerizable double bond at the terminal or the like and other double bond components, 1) to (3) can represent a double bond monomer, and also represent a photoresponsive polymer provided with a polymer group derived from the double bond component. When one of the substituents in R 1 and R 2 is a polycondensation or polyaddition polymerizable component such as an isocyanate group, an amino group, a carboxyl group, or a hydroxyl group, the formulas (1) to (3) Represents a polymerizable monomer and also represents a photoresponsive monomer having a polymerizable group derived from the polymerizable component. The photoresponsive component which is an azo compound can be used alone or in combination of two or more.

その他、本発明において使用可能な光応答性成分又は光応答性成分を含有する光応答性層４としては、特開２００３−３２９６８２号公報、特開２００４−９３９９６号公報及び特開２００４−２５１８０１号公報に記載の担体や光固定化材料を用いることができる。また、本明細書には、特開２００３−３２９６８２号公報、特開２００４−９３９９６号公報、特開２００４−２５１８０１号公報、特開２００６−２３３００４号及び特開２００６−３２１７１９号に記載されるすべての事項が引用により取り込まれるものとする。   In addition, as the photoresponsive component or the photoresponsive layer 4 containing the photoresponsive component that can be used in the present invention, JP-A No. 2003-329682, JP-A No. 2004-93996, and JP-A No. 2004-251801. The carrier and the light immobilization material described in the publication can be used. Further, in this specification, all described in JP-A No. 2003-329682, JP-A No. 2004-93996, JP-A No. 2004-251801, JP-A No. 2006-233004, and JP-A No. 2006-321719 are described. Shall be incorporated by reference.

光応答性層４は、光応答性成分を保持するマトリックス６を有することができる。光応答性成分は、光応答性層４のマトリックス６に分散される別個の成分として光応答性層４に含まれていてもよいし、光応答性層４のマトリックス６を構成する１種又は２種以上のマトリックス材料に共有結合などの化学的結合を介して連結されてその一部となっていてもよい。   The photoresponsive layer 4 can have a matrix 6 that holds a photoresponsive component. The photoresponsive component may be contained in the photoresponsive layer 4 as a separate component dispersed in the matrix 6 of the photoresponsive layer 4, or may be one kind of the matrix 6 of the photoresponsive layer 4 or It may be connected to two or more kinds of matrix materials through a chemical bond such as a covalent bond to be a part thereof.

光応答性層４の加工性、可塑性を確保する観点からは、マトリックス６は、単量体ユニット中に光応答性成分を含有する高分子材料であるほか、光応答性成分を分散保持する高分子材料であることが好ましい。マトリックス６が高分子材料を含む場合には、式（１）等において、Ｒ１又はＲ２が重合基への連結基である場合などのように、光応答性成分は、高分子材料の一部（主鎖、側鎖あるいは修飾基）に含まれて存在することが好ましい。 From the viewpoint of ensuring the workability and plasticity of the photoresponsive layer 4, the matrix 6 is a polymer material containing a photoresponsive component in the monomer unit, and also has a high dispersion and retention of the photoresponsive component. It is preferably a molecular material. When the matrix 6 includes a polymer material, in the formula (1) and the like, as in the case where R 1 or R 2 is a linking group to a polymer group, the photoresponsive component is one of the polymer materials. It is preferable to be contained in a part (main chain, side chain or modifying group).

マトリックス６を構成する高分子材料としては、特に限定しないで、各種の熱可塑性又は熱硬化性ポリマーを用いることができる。こうした高分子材料は、光応答性成分等の共重合による導入性を考慮して使用されることが好ましい。したがって、例えば、（１）エチレン性モノマーなど二重結合を含有する重合性体の重合体であるアクリル系ポリマー、メタクリル系モノマー、ビニル系ポリマー、スチレン系ポリマー、（２）重合性官能基の重縮合により得られるアミド系ポリマー、エステル系ポリマー、（３）ウレタン系ポリマー、ウレア系ポリマーなど付加重合性ポリマーが挙げられる。これらのなかでも、アクリル系ポリマー、メタクリル系ポリマー及びアクリル−メタクリル系コポリマーを好ましく用いることができる。これらのポリマーは、抗体等のタンパク質を固定化する際の比特異的吸着が少ないため、抗体チップなどにおいてバックグラウンドシグナルを抑制できるため、高感度測定が可能となる。   The polymer material constituting the matrix 6 is not particularly limited, and various thermoplastic or thermosetting polymers can be used. Such a polymer material is preferably used in consideration of introduction by copolymerization of a photoresponsive component or the like. Therefore, for example, (1) an acrylic polymer, a methacrylic monomer, a vinyl polymer, a styrene polymer, which is a polymer of a polymer containing a double bond such as an ethylenic monomer, and (2) the weight of a polymerizable functional group Examples thereof include addition-polymerizable polymers such as amide polymers, ester polymers, (3) urethane polymers, and urea polymers obtained by condensation. Among these, acrylic polymers, methacrylic polymers, and acrylic-methacrylic copolymers can be preferably used. Since these polymers have less specific adsorption at the time of immobilizing proteins such as antibodies, background signals can be suppressed in antibody chips and the like, so that highly sensitive measurement is possible.

式（１）〜（３）などのアゾ化合物系の光応答性成分は二重結合性のモノマーとして、ホモポリマー又はＭＭＡ等の二重結合性モノマーとのコポリマーとして使用することが好ましい。   The azo compound-based photoresponsive component such as the formulas (1) to (3) is preferably used as a double bond monomer as a homopolymer or a copolymer with a double bond monomer such as MMA.

光応答性層４の三次元形態は特に限定しない。フィルム状体、シート状体、板状体の他、球状、不定形状、針状、棒状、薄片状等の各種の粒子形態を取ることもできる。さらに、光応答性層４は、図１に示すように、基板や粒子などの適当な担体１２の一部又はその表面に対して固定されていてもよい。担体１２又はその一部である支持体８としては、ガラス、シリコン、金などの無機材料、高分子材料などの有機材料であってもよい。   The three-dimensional form of the photoresponsive layer 4 is not particularly limited. In addition to a film-like body, a sheet-like body, and a plate-like body, various particle forms such as a spherical shape, an indefinite shape, a needle shape, a rod shape, and a flake shape can also be taken. Furthermore, as shown in FIG. 1, the photoresponsive layer 4 may be fixed to a part of an appropriate carrier 12 such as a substrate or particles or the surface thereof. The support 8 that is the carrier 12 or a part thereof may be an inorganic material such as glass, silicon, or gold, or an organic material such as a polymer material.

光応答性層４は、それ自体適度な剛性を持って分析に適した固相に構成されていてもよいが、適当な支持体８の表面に直接又は支持体８上の適当な下地層１０を介して備えられていてもよい。下地層１０は、支持体８と光応答性層４との密着性を向上させるものであることが好ましい。下地層１０は、例えば、支持体８がスライドガラス等である場合には、各種のシランカップリング剤層とすることができる。シランカップリング剤としては、ハロゲン、アミノ基、水酸基、エポキシ基等の反応基を備えるものが挙げられる。保存安定性の観点から、例えば、シランカップリング剤としてアミノ基を有するもの、例えば、アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノアルキル基を有するトリアルコキシシラン及びその誘導体等を用いることができる。 The photoresponsive layer 4 may itself be configured in a solid phase suitable for analysis with appropriate rigidity. However, the photoresponsive layer 4 may be formed directly on the surface of an appropriate support 8 or an appropriate underlayer 10 on the support 8. It may be provided via. The underlayer 10 is preferably one that improves the adhesion between the support 8 and the photoresponsive layer 4. For example, when the support 8 is a slide glass or the like, the underlayer 10 can be various silane coupling agent layers. Examples of the silane coupling agent include those having reactive groups such as halogen, amino group, hydroxyl group, and epoxy group. From the viewpoint of storage stability, for example, a silane coupling agent having an amino group, for example, a trialkoxysilane having an aminoalkyl group such as aminopropyltriethoxysilane and a derivative thereof can be used.

光応答性層４の厚み及び固相担体２の厚みは特に限定しない。基板状の支持体８上に光応答性層４が備えられる場合には、少なくとも１０ｎｍ以上であることが好ましい。１０ｎｍ以上であれば、所望の部分に欠陥なく光固定化材料薄膜を作製することが容易になる。支持体８や下地層１０上への薄膜状の光応答性層４の作製は、スピンコート、ディップコート、インクジェット、ロールを用いた方法など既存の方法を使用することができる。   The thickness of the photoresponsive layer 4 and the thickness of the solid phase carrier 2 are not particularly limited. When the photoresponsive layer 4 is provided on the substrate-like support 8, it is preferably at least 10 nm. If it is 10 nm or more, it becomes easy to produce a photofixation material thin film without a defect in a desired portion. The thin film-like photoresponsive layer 4 on the support 8 or the underlayer 10 can be prepared by an existing method such as a method using spin coating, dip coating, ink jet, or roll.

次に、こうした固相担体２における光応答性層４が有することができる特徴について説明する。   Next, features that the photoresponsive layer 4 in the solid phase carrier 2 can have will be described.

（１．光応答性層の平滑性）
光応答性層４は、その表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であることが好ましい。算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であると、良好な光学的検出精度や検出感度を得ることができ、結果として良好な分析精度及び再現性を得ることができる。また、この範囲であると、後述するように、リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間浸漬し乾燥後においても、光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａを５ｎｍ以下に容易に維持することができる。より好ましくは算術平均粗さＲａが１ｎｍ以下である。 (1. Smoothness of photoresponsive layer)
The photoresponsive layer 4 preferably has an arithmetic average roughness Ra of the surface of 2 nm or less. When the arithmetic average roughness Ra is 2 nm or less, good optical detection accuracy and detection sensitivity can be obtained, and as a result, good analysis accuracy and reproducibility can be obtained. Further, within this range, as will be described later, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 can be easily reduced to 5 nm or less even after being dipped in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and dried. Can be maintained. More preferably, the arithmetic average roughness Ra is 1 nm or less.

（２．所定処理後の光応答性層の平滑性）
リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間に浸漬し乾燥後の光応答性層４の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であることも好ましい。こうした処理後の光応答性層４の算術平均粗さＲａは、光応答性層４が下地層１０等によって支持体８表面に良好に密着されている場合に生じる傾向にある。光応答性層４に内部応力を有しやすいからである。算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であれば、良好な光学的検出精度や検出感度を得ることができる。より好ましくは、２ｎｍ以下である。 (2. Smoothness of photoresponsive layer after predetermined treatment)
It is also preferable that the arithmetic average roughness Ra of the photoresponsive layer 4 after being dipped in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and dried is 5 nm or less. The arithmetic average roughness Ra of the photoresponsive layer 4 after such treatment tends to occur when the photoresponsive layer 4 is well adhered to the surface of the support 8 by the underlayer 10 or the like. This is because the photoresponsive layer 4 tends to have internal stress. If the arithmetic average roughness Ra is 5 nm or less, good optical detection accuracy and detection sensitivity can be obtained. More preferably, it is 2 nm or less.

例えば、室温のＰＢＳ緩衝液を滴下し、ギャップカバーガラスで覆うことでリン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）への浸漬状態を形成してこの状態を２４時間維持し、乾燥後の光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であることがより好ましい。この条件はより光固定化工程における反応条件に近いからである。より好ましくは、この条件下で２ｎｍ以下である。   For example, a room temperature PBS buffer solution is dropped and covered with a gap cover glass to form an immersion state in phosphate buffered saline (PBS), and this state is maintained for 24 hours. The photoresponsive layer 4 after drying The arithmetic average roughness Ra of the surface is more preferably 5 nm or less. This is because these conditions are closer to the reaction conditions in the photofixation step. More preferably, it is 2 nm or less under these conditions.

以上のことから、例えば、微小物体２０の上記処理前の光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、かつ上記処理後の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であってもよい。すなわち、上記処理前後の光応答性層４の表面の好ましい算術平均粗さＲａをそれぞれ組み合わせて光応答性層４を特徴付けることもできる。例えば、上記処理前の光応答性層４の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、処理後に同２ｎｍ以下であってもよいし、上記処理前に同１ｎｍ以下であり、処理後に同５ｎｍ以下であってもよいし、上記処理前に同１ｎｍ以下であり、処理後に同２ｎｍ以下であってもよい。   From the above, for example, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 before the treatment of the micro object 20 is 2 nm or less, and the arithmetic average roughness Ra after the treatment is 5 nm or less. Also good. That is, the photoresponsive layer 4 can also be characterized by combining preferable arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 before and after the treatment. For example, the arithmetic average roughness Ra of the photoresponsive layer 4 before the treatment may be 2 nm or less, may be 2 nm or less after the treatment, may be 1 nm or less before the treatment, and may be 5 nm or less after the treatment. It may be 1 nm or less before the above treatment and 2 nm or less after the treatment.

光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａは、以下のようにして求めることができる。すなわち、光応答性層４の表面上の２μｍ×２μｍ領域（２μｍ方形状領域）で原子間力顕微鏡（NanoScope III）（商品名である。）を用いて測定した画像を使用し、当該原子間力顕微鏡 NanoScope III付属のソフトウエアにおいて，Roughnessコマンドによる解析を行った。Raの算出式は以下（数式１）のとおりとした。なお、算術平均粗さRaの計測対象領域は、計測対象領域から、１０μｍ×１０μｍの大きさの領域（１０μｍ方形状領域）を選択し、さらに、この領域から５個の上記２μｍ方形状領域をランダムに選択し、それぞれについて算術平均粗さRaを算出しこれらの平均値とするか、あるいは原子間力顕微鏡下の観察においてもっとも標準的であると認められる上記方形状領域を適数個選択し、それぞれについて算術平均粗さRa算出し、これらの平均値とすることが好ましい。より好ましくは、計測対象領域から、５個の１０μｍ方形状領域をランダムに選択し、さらに個々の１０μｍ方形状領域について２μｍ方形状領域を５個ランダムに選択して得られた結果の平均値とする。なお、下記式においてデータポイント数は６５５５３６（２５６×２５６）以上であることが好ましく、より好ましくは２６２１４４（５１２×５１２)である。
The arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 can be obtained as follows. That is, using an image measured with an atomic force microscope (NanoScope III) (trade name) in a 2 μm × 2 μm region (2 μm square region) on the surface of the photoresponsive layer 4, Analysis using the Roughness command was performed in the software included with the force microscope NanoScope III. The calculation formula of Ra was as follows (Formula 1). As the measurement target area of the arithmetic average roughness Ra, an area having a size of 10 μm × 10 μm (10 μm square area) is selected from the measurement target area, and further, the five 2 μm square areas are selected from this area. Randomly select and calculate the arithmetic average roughness Ra for each of them, or select these average values, or select an appropriate number of the above rectangular areas that are recognized as the most standard in observation under an atomic force microscope. The arithmetic average roughness Ra is preferably calculated for each, and the average value thereof is preferably used. More preferably, an average value of the results obtained by randomly selecting five 10 μm square regions from the measurement target region and further randomly selecting five 2 μm square regions for each 10 μm square region To do. In the following formula, the number of data points is preferably 655536 (256 × 256) or more, and more preferably 262144 (512 × 512).

なお、本発明における算術平均粗さＲａは、上記測定方法と同等あるいはそれ以上の精度及び正確性を有する他の測定方法によって測定することもできる。   In addition, arithmetic mean roughness Ra in this invention can also be measured with the other measuring method which has a precision and accuracy equivalent to or more than the said measuring method.

（３．光応答性層を担持する担体表面の平滑性）
こうした光応答性層４の表面平滑性は、支持体８又は支持体８上に備えられた下地層１０など担体１２の表面平滑性にも依存する。すなわち、支持体８又は支持体８上に備えられた下地層１０の表面（これらの表面を一括して担体表面という。）の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることが好ましい。担体表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍを超えていると、こうした担体表面に形成される光応答性層４の算術平均粗さＲａが２ｎｍを超えることになりやすいからである。より好ましくは、５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１ｎｍ以下である。なお、これらの下地表面の算術平均粗さＲａは、支持体８又は下地層１０の表面上の一定領域を測定対象とする以外は、光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａと同様にして測定することができる。 (3. Smoothness of the surface of the carrier carrying the photoresponsive layer)
The surface smoothness of the photoresponsive layer 4 also depends on the surface smoothness of the carrier 12 such as the support 8 or the underlayer 10 provided on the support 8. That is, the arithmetic average roughness Ra of the support 8 or the surface of the base layer 10 provided on the support 8 (these surfaces are collectively referred to as the carrier surface) is preferably 10 nm or less. This is because if the arithmetic average roughness Ra of the support surface exceeds 10 nm, the arithmetic average roughness Ra of the photoresponsive layer 4 formed on the support surface tends to exceed 2 nm. More preferably, it is 5 nm or less, More preferably, it is 1 nm or less. The arithmetic average roughness Ra of the base surface is the same as the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 except that a certain region on the surface of the support 8 or the base layer 10 is a measurement target. Can be measured.

（４．光応答性層の吸光度）
光応答性層４にボイドなどの空隙がある場合には、光応答性層４自体の非吸収領域であって可視領域における吸光度が０．０１以下であることが好ましい。この場合、対照として光応答性層４が固定化されている担体１２（例えば、固光応答性層４が支持される支持体８又は支持体８と下地層１０とからなる担体）を用いる。こうした吸光度が０．０１以下であると、ボイドが少なく散乱因子が少ないことを意味している。こうした光応答性層４によれば、光学的シグナルの検出時にも光学的シグナルに干渉せず、良好な検出感度及び精度を得ることができる。また、ボイドが少ないことから、安定的に微小物体２０を保持することができる。なお、通常、こうした吸光度は、光応答性層４を備えない担体１２をリファレンス側に配置し、光応答性層４を備える担体１２をサンプル側に配置して測定される。 (4. Absorbance of photoresponsive layer)
When the photoresponsive layer 4 has voids such as voids, it is preferable that the absorbance in the visible region, which is a non-absorbing region of the photoresponsive layer 4 itself, is 0.01 or less. In this case, a carrier 12 on which the photoresponsive layer 4 is immobilized (for example, a support 8 on which the solid photoresponsive layer 4 is supported or a carrier comprising the support 8 and the underlayer 10) is used as a control. When the absorbance is 0.01 or less, it means that there are few voids and there are few scattering factors. According to such a photoresponsive layer 4, it is possible to obtain good detection sensitivity and accuracy without interfering with the optical signal even when detecting the optical signal. Moreover, since there are few voids, the micro object 20 can be stably hold | maintained. In general, such absorbance is measured by arranging the carrier 12 not provided with the photoresponsive layer 4 on the reference side and arranging the carrier 12 provided with the photoresponsive layer 4 on the sample side.

なお、吸光度を測定する波長については、光応答性層４の非吸収領域、すなわち、ベースラインと認められる波長領域にありかつ可視領域における任意の波長であればよい。例えば、アゾポリマーを用いる場合には６６０ｎｍ以上７４０ｎｍ以下程度における任意の波長が好ましく、より好ましくは６８０ｎｍ以上７２０ｎｍ以下における任意の波長であり、さらに好ましくは約７００ｎｍである。 The wavelength at which the absorbance is measured may be any wavelength in the non-absorbing region of the photoresponsive layer 4, that is, the wavelength region recognized as the baseline and in the visible region. For example, when using an azo polymer, an arbitrary wavelength in the range of about 660 nm to 740 nm is preferable, an arbitrary wavelength in the range of 680 nm to 720 nm is more preferable, and about 700 nm is more preferable.

（５．光応答性層の光応答性成分）
光応答性層４は、式（１）に示す光応答性成分を含有することが好ましい。この光応答性成分は、光固定化のための光変形能及び固定化能を備えるとともに、光応答性層４のバックグラウンド値を低下させかつ検出感度を向上させることができる。このアゾベンゼン化合物は、例えば、式（４）に示す二重結合性のモノマーとして用いるとき、式（５）に示すアゾポリマーを構成することができる。ただし、式（５）において、０＜ｍ≦１００及び０≦ｎ＜１００である。
(5. Photoresponsive component of photoresponsive layer)
The photoresponsive layer 4 preferably contains a photoresponsive component represented by the formula (1). This photoresponsive component has a light deformability and an immobilization capability for light immobilization, and can reduce the background value of the photoresponsive layer 4 and improve the detection sensitivity. For example, when this azobenzene compound is used as a double-bonding monomer represented by the formula (4), it can constitute an azo polymer represented by the formula (5). However, in the formula (5), 0 <m ≦ 100 and 0 ≦ n <100.

式（５）に示すような式（１）においてＸが水素原子であるアゾベンゼンモノマーユニットを有するアゾポリマーの場合、極大吸収波長は４１０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下（４１５ｎｍ前後）であり、蛍光色素であるＣｙ３の極大吸収波長粋においてほとんど吸収を示さなくなる。   In the case of an azopolymer having an azobenzene monomer unit in which X is a hydrogen atom in formula (1) as shown in formula (5), the maximum absorption wavelength is 410 nm or more and 420 nm or less (around 415 nm), and the maximum of Cy3 which is a fluorescent dye Almost no absorption is shown in the absorption wavelength.

式（１）に示すアゾ化合物を含むモノマーユニットを用いる場合、特にＸが水素原子の場合など、アゾポリマーとしては、こうしたモノマーユニットのみからなるホモポリマーのほか、上記した一般的なモノマーと組み合わせてコポリマーとすることができる。コポリマーとする場合、式（１）に示すアゾ化合物モノマーのモノマー比率は５モル％以上１００モル％未満であることが好ましい。この範囲であると良好な固定化能とバックグランドを得ることができる。より好ましくは８モル％以上６０モル％以下である。また、コポリマーとするときの、好ましいモノマーとしてはメチルメタクリレート（ＭＭＡ）などのアクリル酸系の二重結合性モノマーを用いることができる。   When using a monomer unit containing an azo compound represented by the formula (1), particularly when X is a hydrogen atom, the azo polymer is not only a homopolymer consisting of only such a monomer unit, but also a copolymer in combination with the above-mentioned general monomers. It can be. When a copolymer is used, the monomer ratio of the azo compound monomer represented by the formula (1) is preferably 5 mol% or more and less than 100 mol%. Within this range, good immobilization ability and background can be obtained. More preferably, it is 8 mol% or more and 60 mol% or less. In addition, an acrylic acid double bond monomer such as methyl methacrylate (MMA) can be used as a preferable monomer for the copolymer.

本発明の光固定化用固相担体は、光応答性層４における上記１．〜５．の５つの特性のいずれかを備えることにより、良好な光学的検出特性及び分析特性を得ることができる。また、これらの有利な特性のうち、２種類以上の特徴を有していてもよいし、３つ以上であってもよいし、４つ以上であってもよいし、全てを備えていてもよい。例えば、上記１．の光応答性層４の表面平滑性とともに、３．の担体表面の面平滑性を備えることが好ましい。また、４．の吸光度は、良好な光学的検出特性を得るため他の観点からの有利な特性であり、単独でこの特性を有していても良好な光学的検出特性等を得ることができる。５．の特性は、表面平滑性や吸光度特性とさらに別の観点からの有利な特性であり、単独でこの特性を備えることで、光学的検出特性を改善することができる。したがって、これら５つの有利な特性を２以上組み合わせて備える光応答性層４は、一層光学的検出特性が改善され、又は確実に光学的特性等が改善されたものとなっている。 The solid phase carrier for photofixation of the present invention is the above-mentioned 1. in the photoresponsive layer 4. ~ 5. By providing any of the following five characteristics, good optical detection characteristics and analysis characteristics can be obtained. Further, among these advantageous characteristics, it may have two or more kinds of characteristics, may be three or more, may be four or more, or may have all of them. Good. For example, the above 1. 2. With the surface smoothness of the photoresponsive layer 4 of It is preferable to provide the surface smoothness of the carrier. 4. Is an advantageous characteristic from other viewpoints in order to obtain a good optical detection characteristic, and even if it has this characteristic alone, a good optical detection characteristic or the like can be obtained. 5. These characteristics are advantageous characteristics from a different point of view, such as surface smoothness and absorbance characteristics, and the optical detection characteristics can be improved by providing these characteristics independently. Therefore, the photoresponsive layer 4 having a combination of two or more of these five advantageous characteristics has further improved optical detection characteristics or improved optical characteristics.

こうした光固定化用固相担体２は、図２に示すように、微小物体２０を光照射して光固定化するのに適しており、特に、微小物体２０と他の成分との相互作用を光学的シグナルを用いて検出するのに適したものとなっている。ここで、光学的シグナルとしては特に限定されない。蛍光、発光、消光、発色等、光のシグナル変化であればよい。例えば、Ｃｙ３やＣｙ５のような蛍光標識試薬、インターカレーション等による発光又は消光のための試薬、ＦＲＥＴなどの発光試薬、酵素反応による発色用試薬が挙げられる。こうしたシグナル変化のための試薬は、微小物体２０側に予め備えることもできるし、微小物体２０に向けて供給される被験試料又は他の成分に備えられていてもよく、検出試薬の種類等に応じて適宜選択される。光固定化用固相担体２はタンパク質の固定化に適している。したがって、担体２は、タンパク質を多数個固定化するアレイ用担体として好ましく、より好ましくはタンパク質光固定化によるアレイ用担体として用いることができる。   As shown in FIG. 2, such a solid phase carrier 2 for light immobilization is suitable for light immobilization by irradiating a micro object 20 with light. In particular, the interaction between the micro object 20 and other components is achieved. It is suitable for detection using an optical signal. Here, the optical signal is not particularly limited. Any light signal change such as fluorescence, light emission, quenching, and color development may be used. For example, a fluorescent labeling reagent such as Cy3 or Cy5, a reagent for luminescence or quenching by intercalation or the like, a luminescence reagent such as FRET, or a reagent for color development by enzymatic reaction. Such a signal change reagent can be provided in advance on the micro object 20 side, or can be provided in a test sample or other components supplied to the micro object 20, depending on the type of detection reagent, etc. It is selected as appropriate. The solid phase carrier 2 for light immobilization is suitable for protein immobilization. Therefore, the carrier 2 is preferable as an array carrier for immobilizing a large number of proteins, and more preferably as an array carrier by protein light immobilization.

（光応答性層形成用の担体）
本発明の光応答性層形成用の担体は、支持体と、光応答性成分を含有する光応答性層用に支持体表面に配される下地層とを備えることができる。本発明の担体は、光応答性固相担体の現材料の一つでもある。本発明の担体の一例を図１に示している。担体１２は、例えば、支持体８とその光応答性層４側の表層を構成している下地層１０とによって構成することができる。担体１２は、他の層をさらに備えることもできるが、光応答性層４を形成するための層としての下地層１０を最表層に備えていることが好ましい。 (Carrier for forming photoresponsive layer)
The carrier for forming a photoresponsive layer of the present invention can include a support and an underlayer disposed on the support surface for the photoresponsive layer containing the photoresponsive component. The carrier of the present invention is also one of the current materials of the photoresponsive solid phase carrier. An example of the carrier of the present invention is shown in FIG. The carrier 12 can be constituted by, for example, the support 8 and the base layer 10 constituting the surface layer on the photoresponsive layer 4 side. The carrier 12 may further include other layers, but it is preferable that the base layer 10 as a layer for forming the photoresponsive layer 4 is provided on the outermost layer.

担体１２の表面は、既に、「３．担体表面の平滑性」において説明したように、その算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１ｎｍ以下である。担体１２が下地層１０を備える場合には、下地層１０の表面がこうした特性を有していればよい。また、なお、下地層１０を構成する材料は、支持体８や光応答性層４の種類によっても異なるが、既に説明した各種のシランカップリング剤を含むことができる。シランカップリング剤としては、保存安定性の観点からアミノ基を有していることが好ましい。   As already described in “3. Smoothness of carrier surface”, the surface of the carrier 12 preferably has an arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less. More preferably, it is 5 nm or less, More preferably, it is 1 nm or less. When the carrier 12 includes the underlayer 10, the surface of the underlayer 10 only needs to have such characteristics. In addition, although the material which comprises the base layer 10 changes with kinds of the support body 8 or the photoresponsive layer 4, it can contain the various silane coupling agent already demonstrated. The silane coupling agent preferably has an amino group from the viewpoint of storage stability.

こうした本発明の担体は、表面平滑性に優れる光応答性層４を形成することができる。このため、光固定化のみならず他の光応答性を利用した用途にも用いることができる。 Such a carrier of the present invention can form the photoresponsive layer 4 having excellent surface smoothness. For this reason, it can be used not only for light immobilization but also for other applications utilizing photoresponsiveness.

（光固定化用固相担体等の製造方法）
本発明の光固定化用固相担体の製造方法は、光固定化用固相担体の製造方法であって、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層を形成する工程、を備えることができる。本発明の製造方法によれば、光応答性層４の表面の算術平均粗さＲａが所定値以下となるため、良好な光学的検出特性及び分析特性を得ることができる光固定化用固相担体を得ることができる。光固定化用固相担体の製造方法の一例を図２に示す。図２に示すように、本製造方法は、典型的には、担体１２を準備する工程と、担体１２上に光応答性層４を形成する工程とを備えることができる。 (Manufacturing method for solid phase support for photo-immobilization)
The method for producing a solid phase carrier for light immobilization according to the present invention is a method for producing a solid phase carrier for light immobilization, wherein the surface has an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and contains a photoresponsive component. Forming a conductive layer. According to the production method of the present invention, since the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer 4 is equal to or less than a predetermined value, a solid phase for light immobilization capable of obtaining good optical detection characteristics and analysis characteristics. A carrier can be obtained. An example of a method for producing a solid phase carrier for light immobilization is shown in FIG. As shown in FIG. 2, the manufacturing method can typically include a step of preparing the carrier 12 and a step of forming the photoresponsive layer 4 on the carrier 12.

（担体の準備工程）
光固定化用固相担体２として、担体１２表面に光応答性層４を形成することができる。この場合、本製造方法は、担体準備工程を備えることができる。担体１２は、図１に例示する支持体８に下地層１０を備えるもののほか、支持体８のみから構成することができる。 (Preparation process of carrier)
As the solid phase carrier 2 for light immobilization, the photoresponsive layer 4 can be formed on the surface of the carrier 12. In this case, the manufacturing method can include a carrier preparation step. The carrier 12 can be composed only of the support 8 in addition to the support 8 illustrated in FIG.

担体１２としては、支持体８上に下地層１０を備えることが好ましい。既に説明したように、支持体８が無機材料等の場合、光応答性層４の密着性が低下しやすい。支持体８が無機系材料の場合、シランカップリング剤層などの密着性を向上させるような下地層１０を備えることが好ましい。こうした下地層１０は、例えば、シランカップリング剤材料を公知の方法で支持体８の表面に付与することで形成することができる。なお、下地層１０は、必ずしも支持体８の表面に形成されなくてもよく、さらに別の層が介在されていてもよい。   As the carrier 12, it is preferable that the base layer 10 is provided on the support 8. As already described, when the support 8 is an inorganic material or the like, the adhesiveness of the photoresponsive layer 4 tends to be lowered. In the case where the support 8 is an inorganic material, it is preferable to include a base layer 10 that improves adhesion such as a silane coupling agent layer. Such an underlayer 10 can be formed, for example, by applying a silane coupling agent material to the surface of the support 8 by a known method. The underlayer 10 is not necessarily formed on the surface of the support 8, and another layer may be interposed.

担体準備工程は、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の表面を備える担体１２を準備するようにすることが好ましい。こうした表面を備えることでこの表面に形成する光応答性層４が良好な光学的特性を得ることができる。算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下の光応答性層４を容易に得ることができる。特に、スピンコート等の湿式法により光応答性層４を形成する場合に好適である。   In the carrier preparation step, it is preferable to prepare the carrier 12 having a surface with an arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less. By providing such a surface, the optically responsive layer 4 formed on this surface can obtain good optical characteristics. The photoresponsive layer 4 having an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less can be easily obtained. In particular, it is suitable when the photoresponsive layer 4 is formed by a wet method such as spin coating.

担体１２の表面、すなわち、支持体８の表面や下地層１０の表面の算術平均粗さＲａを１０ｎｍ以下とするには、予めそうした担体１２を入手してもよいし、下地層１０の形成時等において表面粗さを制御してそうした担体１２を作製してもよい。あるいは、担体１２の表面に対して、溶媒への浸漬、超音波処理、擦過、加圧、加熱及び研磨並びにこれらを組み合わせてその表面を平滑化するようにしてもよい。担体１２の表面平滑化の手法は、担体１２が下地層１０を備えるか否かや下地層１０の種類や特性にもよって異なる。例えば、担体１２がアミノアルキル基を備えるアルコキシシラン等のシランカップリング剤を下地層１０を備える場合には、この表面を擦過することで、効果的に平滑化することができる。   In order to make the arithmetic average roughness Ra of the surface of the carrier 12, that is, the surface of the support 8 or the surface of the underlayer 10, 10 nm or less, such a carrier 12 may be obtained in advance or during formation of the underlayer 10. Such a carrier 12 may be produced by controlling the surface roughness. Alternatively, the surface of the carrier 12 may be smoothed by immersion in a solvent, ultrasonic treatment, rubbing, pressurization, heating and polishing, and a combination thereof. The method of smoothing the surface of the carrier 12 varies depending on whether the carrier 12 includes the underlayer 10 and the type and characteristics of the underlayer 10. For example, when the carrier 12 includes a silane coupling agent such as alkoxysilane having an aminoalkyl group and the underlayer 10, the surface can be effectively smoothed by rubbing the surface.

通常、下地層１０を形成することにより、光応答性層４の密着性は向上する。本発明者らの検討によれば、下地層１０を形成することで密着性は向上するがその一方で光応答性層４の光学的検出特性が低下する傾向があること、こうした特性低下は、光応答性層４の表面の凹凸であり、さらにこの凹凸は下地層１０の凹凸に原因があることがわかった。さらに、シランカップリング剤などが強固に結合した下地層１０であると、その表面の凹凸を平滑化するのも困難であることが多いことがわかった。したがって、表面が所定の算術平均粗さＲａを備える下地層１０を形成することは、密着性が良好でかつ光学的特性に優れた光応答性層４を得るために有用である。以下、下地層１０の平滑化について主として説明する。   Usually, the adhesion of the photoresponsive layer 4 is improved by forming the underlayer 10. According to the study by the present inventors, the adhesiveness is improved by forming the base layer 10, while the optical detection characteristics of the photoresponsive layer 4 tend to be reduced. It was found that the unevenness of the surface of the photoresponsive layer 4 was caused by the unevenness of the underlayer 10. Furthermore, it has been found that it is often difficult to smooth the unevenness of the surface of the underlayer 10 to which a silane coupling agent or the like is firmly bonded. Therefore, forming the base layer 10 having a predetermined arithmetic mean roughness Ra on the surface is useful for obtaining the photoresponsive layer 4 having good adhesion and excellent optical characteristics. Hereinafter, the smoothing of the underlayer 10 will be mainly described.

下地層１０の擦過による平滑化にあたっては、適当なワイプ材を用いることができる。ワイプ材の材質は特に限定されないが、セルロースなどを主体とする一般的な植物繊維の抄造体（典型的には紙である。）などを用いることができる。またセルロースなど物繊維を含む各種繊維の織成体（布）や編成体を用いることもできる。さらに、ワイプ材としては、ゴムやプラスチック製等のロール体、ヘラ状体、スクレーパーなども用いることができる。   An appropriate wipe material can be used for smoothing the underlayer 10 by rubbing. The material of the wipe material is not particularly limited, and a general plant fiber paper (typically paper) mainly composed of cellulose or the like can be used. In addition, woven fabrics (fabrics) and knitted fabrics of various fibers including physical fibers such as cellulose can be used. Further, as the wipe material, a roll body made of rubber or plastic, a spatula body, a scraper, or the like can be used.

下地層１０の表面をワイプ材で擦過させる形態としては、上記したワイプ材を用いて下地層１０表面を強く押しながら移動させるなど、一般に「擦る」、「ふき取る」及び「こそげる」等の操作を採用することができる。下地層１０側とワイプ材との移動形態は、結果として、下地層１０の表面が擦過される形態であればよい。ワイプ材を移動させる形態であっても、下地層１０側を移動させる形態であっても、両者を同時に反対方向に移動させる形態であってもよい。   As the form of rubbing the surface of the underlayer 10 with a wipe material, operations such as “rubbing”, “wiping off”, and “depressing” are generally performed such as moving the surface of the underlayer 10 while strongly pressing using the above-described wipe material. Can be adopted. As a result, the movement form of the base layer 10 side and the wipe material may be any form in which the surface of the base layer 10 is rubbed. It may be a form in which the wipe material is moved, a form in which the base layer 10 side is moved, or a form in which both are simultaneously moved in the opposite direction.

下地層１０を擦過させる場合には、特に無液体下で行ってもよいが、ワイプ材及び／又は下地層１０に液体を含浸又は供給するなどしてワイプ材と下地層１０との間に液体を存在させるようにすることが好ましい。液体が存在することで効果的に下地層１０表面を平滑化することができる。液体は、水、メタノール、エタノール等のアルコール、アセトンやＭＥＢＫなどのケトン等の有機溶媒並びにこれらの混腋などを、特に限定することなく用いることができる。また、これらの液体には界面活性剤を含んでいてもよい。好ましくは、メタノールやエタノール等の極性有機溶媒を用いる。こうした溶媒を用いたとき、より高度に平滑化できる傾向にある。こうした溶媒は、シランカップリング剤層に特に有効である。   When rubbing the underlayer 10, it may be performed in the absence of a liquid. However, a liquid may be provided between the wipe material and the underlayer 10 by impregnating or supplying a liquid to the wipe material and / or the underlayer 10. Is preferably present. The presence of the liquid can effectively smooth the surface of the underlayer 10. As the liquid, water, alcohols such as methanol and ethanol, organic solvents such as ketones such as acetone and MEBK, and mixtures thereof can be used without particular limitation. Further, these liquids may contain a surfactant. Preferably, a polar organic solvent such as methanol or ethanol is used. When such a solvent is used, it tends to be smoothed to a higher degree. Such a solvent is particularly effective for the silane coupling agent layer.

担体１２が下地層１０を有していない場合には、表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下となる支持体８を担体１２として準備すればよい。   When the carrier 12 does not have the base layer 10, the support 8 having a surface arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less may be prepared as the carrier 12.

（光応答性層形成工程）
光応答性層４の形成工程は、上記した所定の表面平滑性が得ることができれば特に限定されない。光応答性層４を、それ自体で適度な剛性を持って分析に適した固相となるように成形してもよいし、直接又は必要に応じて適当な下地層１０を介して担体１２上に形成してもよい。適当な表面への薄膜状の光応答性層４の形成はスピンコート、ディップコート、インクジェット、ロールを用いた方法など既存の方法を使用することができる。光学的検出特性が良好な光応答性層を得るには、式（５）中において表されるアゾベンゼンモノマーユニットを含むポリマーを用いて光応答性層４を形成することが好ましい。 (Photoresponsive layer forming process)
The step of forming the photoresponsive layer 4 is not particularly limited as long as the above-described predetermined surface smoothness can be obtained. The photoresponsive layer 4 itself may be formed to have a solid phase suitable for analysis with appropriate rigidity, or directly or as necessary on the carrier 12 via an appropriate underlayer 10. You may form in. Formation of the thin film-like photoresponsive layer 4 on an appropriate surface can use an existing method such as a method using spin coating, dip coating, inkjet, or roll. In order to obtain a photoresponsive layer with good optical detection characteristics, it is preferable to form the photoresponsive layer 4 using a polymer containing an azobenzene monomer unit represented by the formula (5).

（光応答性層形成工程における水分の制限）
光応答性層形成工程は、水分を制限した状態で行うことが好ましい。具体的には、光応答性層４を下地層１０や支持体８の表面等における水分や雰囲気湿度を一定以下に制限することで、ボイドが抑制されて、平滑であって散乱による曇りが抑制された光応答性層４を形成することができる。例えば、スピンコート等により光応答性層４を成膜する際、雰囲気の相対湿度（ＲＨ）を５０％ＲＨ以下とすることで効果的にボイドの発生を低減できる。より好ましくは、４０％ＲＨ以下である。４０％ＲＨ以下であると、一層効果的にボイドの発生を低減して光学的に均一な光応答性層４を得ることができる。さらに好ましくは３０％ＲＨ以下である。３０％ＲＨ以下であると一層良好な光応答性層４を得ることができる。特に、光応答性層４が２００ｎｍ以上の厚膜である場合においては、低湿度条件が好ましい。 (Restriction of moisture in photoresponsive layer formation process)
The photoresponsive layer forming step is preferably performed in a state where moisture is limited. Specifically, by limiting the moisture and atmospheric humidity on the surface of the underlayer 10 and the support 8 to a certain level or less in the photoresponsive layer 4, voids are suppressed, and clouding due to scattering is suppressed. The photoresponsive layer 4 thus formed can be formed. For example, when the photoresponsive layer 4 is formed by spin coating or the like, the generation of voids can be effectively reduced by setting the relative humidity (RH) of the atmosphere to 50% RH or less. More preferably, it is 40% RH or less. When it is 40% RH or less, generation of voids can be more effectively reduced and the optically responsive photoresponsive layer 4 can be obtained. More preferably, it is 30% RH or less. If it is 30% RH or less, a better photoresponsive layer 4 can be obtained. In particular, when the photoresponsive layer 4 is a thick film having a thickness of 200 nm or more, a low humidity condition is preferable.

また、下地層１０又は支持体８の表面若しくはこれらの近傍の水分を低減させた後、光応答性層４を形成することが好ましい。特に、スピンコート等の湿式成膜に好適である。こうした水分の低減には、強制乾燥が好ましく、例えば、常温の送風乾燥又は熱風乾燥が挙げられる。なお、送風又は熱風の温度や供給時間は、こうした操作がボイドの低減に有効な範囲で行うえばよい。ボイドの低減効果は、既に説明したように、光応答性層４の吸光度特性を測定することによって知ることができる。   Moreover, it is preferable to form the photoresponsive layer 4 after reducing the moisture on the surface of the underlayer 10 or the support 8 or in the vicinity thereof. In particular, it is suitable for wet film formation such as spin coating. For such moisture reduction, forced drying is preferable, for example, normal temperature blow drying or hot air drying. In addition, what is necessary is just to perform the temperature and supply time of ventilation or a hot air in the range in which such operation is effective for reduction of a void. As described above, the effect of reducing voids can be known by measuring the absorbance characteristics of the photoresponsive layer 4.

特に、光応答性層４の形成に際する水分制限は、下地層１０を形成した場合において有効である。ボイドの発生は、下地表面に由来する光応答性層の平滑性劣化程度をさらに増大してしまうからである。   In particular, the moisture limitation in forming the photoresponsive layer 4 is effective when the underlayer 10 is formed. This is because the generation of voids further increases the degree of smoothness degradation of the photoresponsive layer derived from the underlying surface.

（光応答性層の加熱処理工程）
光応答性層４がポリマーを含有するとき、形成した光応答性層４をこのポリマーのガラス転移温度以上の温度で加熱処理する工程を備えることが好ましい。換言すれば、応力緩和可能に加熱することが好ましい。こうすることで、光応答性層４に表面等の応力が緩和され、光固定化工程やその他の工程において水溶液処理などを行ったときに開放される応力による亀裂の発生を防ぐことができる。この結果、光固定化工程や洗浄工程後等にも光応答性層４の表面平滑性が確保されることになる。また、こうした工程においても表面平滑性を維持できる結果、微小物体２０をこうした工程を通じて安定して保持することができる。なお、ガラス転移温度については、公知の方法で測定することができる。 (Photoresponsive layer heat treatment process)
When the photoresponsive layer 4 contains a polymer, it is preferable to include a step of heat-treating the formed photoresponsive layer 4 at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the polymer. In other words, it is preferable to heat so that stress can be relaxed. By doing so, stress on the surface of the photoresponsive layer 4 is relieved, and it is possible to prevent generation of cracks due to stress that is released when an aqueous solution treatment or the like is performed in the photofixation step or other steps. As a result, the surface smoothness of the photoresponsive layer 4 is ensured even after the light immobilization process or the cleaning process. Moreover, as a result of maintaining the surface smoothness even in such a process, the micro object 20 can be stably held through such a process. The glass transition temperature can be measured by a known method.

ガラス転移温度以上の温度による加熱処理時間は、加熱処理による応力緩和ないしクラック減少効果が得られる範囲であればよく、特に限定されない。クラック減少効果は、例えば、既に説明したように、リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間に浸漬し乾燥後の光応答性層４の表面のＡＦＭによる観察や算術平均粗さＲａの算出により評価することができる。あるいは、リン酸塩緩衝食塩水等の水溶液処理後に光学顕微鏡やＡＦＭ等によっても評価できる。   The heat treatment time at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature is not particularly limited as long as it is within a range in which the effect of stress relaxation or crack reduction by heat treatment can be obtained. For example, as described above, the crack reduction effect is obtained by observing the surface of the photoresponsive layer 4 after being immersed in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and drying and calculating the arithmetic average roughness Ra. Can be evaluated. Alternatively, it can be evaluated by an optical microscope, AFM, or the like after treatment with an aqueous solution such as phosphate buffered saline.

こうした加熱処理工程は、光応答性層形成工程とは別個の工程として実施することができるほか、光応答性層形成工程の一部あるいはその後に、例えば、スピンコート等湿式条件下で形成した光応答性層４の乾燥工程として行うこともできる。   Such a heat treatment step can be carried out as a step separate from the photoresponsive layer forming step, and light formed under wet conditions such as spin coating, for example, in part or after the photoresponsive layer forming step. It can also be performed as a drying step of the responsive layer 4.

特に、こうした応力緩和のための加熱処理工程は、下地層１０を介して光応答性層４を形成した場合において有用である。下地層１０によって良好な密着性で固定された光応答性層４は大きな内部応力を有しており、このためにその後の処理工程によってクラック等が派生しやすい傾向にあるからである。   In particular, such a heat treatment process for stress relaxation is useful when the photoresponsive layer 4 is formed through the underlayer 10. This is because the photoresponsive layer 4 fixed with good adhesion by the underlayer 10 has a large internal stress, and therefore, cracks and the like tend to be easily derived by the subsequent processing steps.

また、算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下の光応答性層４の形成工程は、既に形成された光応答性層４の表面を平滑化処理する工程であってもよい。   Further, the step of forming the photoresponsive layer 4 having an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less may be a step of smoothing the surface of the photoresponsive layer 4 that has already been formed.

算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下である光応答性層４を得るには、上記した各種方法のいずれかを採用することが効果的である。なかでも、光応答性層４の形成時の水分制限、光応答性層４の加熱処理、算術平均粗さＲａが所定値以下の下地層１０の方法のうちいずれかを採用することが効果的であり、これらの２種類以上を採用することがより一層効果的であり、さらに全てを採用することが最も効果的である。   In order to obtain the photoresponsive layer 4 having an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less, it is effective to employ any of the various methods described above. In particular, it is effective to employ any one of the water limitation at the time of forming the photoresponsive layer 4, the heat treatment of the photoresponsive layer 4, and the method of the underlayer 10 having an arithmetic average roughness Ra of a predetermined value or less. It is more effective to employ two or more of these, and it is most effective to employ all of them.

以上説明したように、本発明の光固定化用固相担体の製造方法によれば、表面の算術平均粗さＲａが所定値以下の光応答性層４を得ることができるため、光学的検出特性及び分析特性に優れた光固定化用固相担体を提供できる。しかも、下地層１０を備える場合には、光応答性層４の良好な密着性が確保される結果、安定して微小物体が保持され、安定した分析特性を得ることができる。   As described above, according to the method for producing a solid phase carrier for light immobilization of the present invention, the photoresponsive layer 4 having a surface arithmetic average roughness Ra of a predetermined value or less can be obtained. It is possible to provide a solid phase support for light immobilization having excellent characteristics and analytical characteristics. In addition, when the base layer 10 is provided, good adhesion of the photoresponsive layer 4 is ensured, so that a minute object can be stably held and stable analysis characteristics can be obtained.

上記した本発明の光固定化用固相担体の製造方法における、支持体８に対して、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の下地層１０を形成する工程は、光応答性層形成用の担体の製造方法でもある。この工程によれば、光応答性層４の形成に適した担体を容易に得ることができる。すなわち、この担体によれば、光応答性層４の密着性に優れ、しかも、光応答性層４の表面平滑性に優れる固相担体を得ることができる。   In the method for producing a solid phase carrier for light immobilization according to the present invention described above, the step of forming the base layer 10 having an arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less on the support 8 is a carrier for forming a photoresponsive layer. It is also a manufacturing method. According to this step, a carrier suitable for forming the photoresponsive layer 4 can be easily obtained. That is, according to this carrier, it is possible to obtain a solid phase carrier that is excellent in the adhesion of the photoresponsive layer 4 and that is excellent in the surface smoothness of the photoresponsive layer 4.

（微小物体が保持された固相体）
本発明は微小物体が保持された固相体にも関する。図３（ｃ）に例示するように、本発明の微小物体保持固相体３０は、光応答性成分を含有する光応答性層４と、光応答性層４に固定化された微小物体２０と、を備えることができる。光学的検出特性及び分析特性の観点から、光応答性層４は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であることが好ましい。 (Solid phase with minute objects)
The present invention also relates to a solid phase body on which a minute object is held. As illustrated in FIG. 3C, the micro object holding solid phase body 30 of the present invention includes a photoresponsive layer 4 containing a photoresponsive component, and a microobject 20 immobilized on the photoresponsive layer 4. And can be provided. From the viewpoint of optical detection characteristics and analytical characteristics, the photoresponsive layer 4 preferably has an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less.

本発明の光固定化用固相担体２に固定化される微小物体２０は特に限定されない。微小物体２０は、有形である限り、その存在形態を問うものではない。微小物体２０の形状は、必ずしも固定的である必要はなく、フレキシブルに変形し得るものでも良い。また、微小物体２０は、１ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１００μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下、とりわけ好ましくは１０μｍ以下のサイズのものを対象とすることができる。また、微小物体２０は、好ましくは１ｎｍ以上の大きさである。本明細書においては、微小物体２０の大きさは、固定化前及び固定化後のいずれかで微小物体２０が測定しやすい状態にあるときに測定することができ、微小物体２０の観察時における最大寸法で規定するものとする。例えば、微小物体２０の最大寸法が１μｍ以上程度であれば光学顕微鏡で測定することができ、１μｍ未満程度の場合には、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定することができる。さらに、１０ｎｍ以上１００μｍ以下程度の範囲にあっては、走査型電子顕微鏡で測定することもできる。 The micro object 20 immobilized on the solid phase carrier 2 for light immobilization of the present invention is not particularly limited. As long as the minute object 20 is tangible, it does not ask about its existence form. The shape of the minute object 20 is not necessarily fixed, and may be flexible. The minute object 20 is preferably 1 mm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less. The minute object 20 is preferably 1 nm or more in size. In the present specification, the size of the minute object 20 can be measured when the minute object 20 is easy to measure either before or after immobilization. The maximum dimensions shall be specified. For example, if the maximum dimension of the minute object 20 is about 1 μm or more, it can be measured with an optical microscope, and if it is less than about 1 μm, it can be measured with an AFM (atomic force microscope). Furthermore, in the range of about 10 nm or more and 100 μm or less, it can be measured with a scanning electron microscope.

微小物体２０に含有され、あるいは微小物体を構成する材料としては、特に限定しないが、例えば、金属、金属酸化物、半導体、セラミックス、ガラスなどの無機材料；プラスチック、抗菌性、抗炎症性、各種の生体プロセスのブロック作用、ある種のアゴニスト又はアンタゴニストであるなど生理活性を有する有機化合物などの有機材料；タンパク質、核酸、糖類、脂質及び骨形成材料などの生体材料；各種の生物細胞及びその一部、組織及び生物体などの生物材料及びこれらの材料の複合材料等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a material contained in the micro object 20, or comprises a micro object, For example, inorganic materials, such as a metal, a metal oxide, a semiconductor, ceramics, glass; Plastic, antibacterial property, anti-inflammatory property, various Organic materials such as organic compounds having biological activity such as blocking action of biological processes, certain agonists or antagonists; biological materials such as proteins, nucleic acids, saccharides, lipids and bone forming materials; various biological cells and one of them And biological materials such as parts, tissues and organisms, and composite materials of these materials.

なお、タンパク質としては、本明細書において使用する場合、任意のサイズ、構造、または機能の、タンパク質、ポリペプチド、およびオリゴペプチドを含んでいる。タンパク質としては、例えば、各種タンパク質、酵素、抗原、抗体、レクチン又は細胞膜レセプターが挙げられる。また、抗体は、天然の又は全体的若しくは部分的に合成的に産生された免疫グロブリンを意味する。特異的結合能を保持するその全ての誘導体も包含される。核酸は、１本鎖であっても、２本鎖であってもよい。人工及び天然を問わず、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ＤＮＡ／ＲＮＡハイブリッド、ＤＮＡ−ＲＮＡキメラ及び塩基等の修飾体を含んでいてもよい。さらにその鎖長も特に限定しない。   As used herein, protein includes proteins, polypeptides, and oligopeptides of any size, structure, or function. Examples of the protein include various proteins, enzymes, antigens, antibodies, lectins, and cell membrane receptors. Antibody also refers to a naturally occurring or wholly or partially synthetically produced immunoglobulin. Also included are all derivatives thereof that retain specific binding ability. The nucleic acid may be single-stranded or double-stranded. Regardless of whether it is artificial or natural, it may contain DNA, RNA, DNA / RNA hybrids, DNA-RNA chimeras, bases and other modifications. Further, the chain length is not particularly limited.

これらの微小物体には、被験試料との相互作用を検出するためのインターカラント、蛍光物質及び発色物質等が結合されていてもよい。   These micro objects may be combined with an intercalant for detecting an interaction with the test sample, a fluorescent material, a coloring material, or the like.

本発明の微小物体保持固相体３０は、微小物体２０として各種の材料を固相担体２に固定化することで各種用途に用いることができるデバイスとして利用できる。特に、本発明の固相担体２はその光学的検出特性及び分析特性が向上されているため、固相体３０は、分析や診断用途に適している。また、光固定は、抗体を含むタンパク質、糖鎖、核酸及び細胞等の生体材料及び生物材料の固定化に適している。したがって、本発明の固相体３０は、タンパク質、酵素、抗体チップ、糖鎖チップ、ＤＮＡ等の核酸チップ、細胞チップ等の分析ないし診断用デバイスに好適である。また、酵素、細胞などを固相担体２に固定化したバイオリアクターにも好適である。光学的検出特性が優れるために、リアクターの設計や制御が容易であり、また、微小物体２０の保持安定性に優れるからである。したがって、高効率なバイオリアクター、特にマイクロリアクターを作製することができる。   The minute object holding solid phase body 30 of the present invention can be used as a device that can be used for various purposes by immobilizing various materials as the minute object 20 on the solid phase carrier 2. In particular, since the optical detection characteristics and analysis characteristics of the solid phase carrier 2 of the present invention are improved, the solid phase body 30 is suitable for analysis and diagnostic applications. Light immobilization is suitable for immobilizing biological materials and biological materials such as proteins including antibodies, sugar chains, nucleic acids and cells. Therefore, the solid phase body 30 of the present invention is suitable for analysis or diagnostic devices such as proteins, enzymes, antibody chips, sugar chain chips, nucleic acid chips such as DNA, and cell chips. It is also suitable for a bioreactor in which enzymes, cells and the like are immobilized on the solid phase carrier 2. This is because the optical detection characteristics are excellent, so that the design and control of the reactor are easy, and the holding stability of the minute object 20 is excellent. Therefore, a highly efficient bioreactor, particularly a microreactor can be produced.

（微小物体が保持された固相体の製造方法）
本発明は、表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層に微小物体を光固定化する工程を備える、方法にも関する。光固定化工程について図３を参照しながら説明する。 (Manufacturing method of a solid phase holding a micro object)
The present invention also relates to a method comprising the step of photofixing a micro object on a photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component. The light immobilization process will be described with reference to FIG.

（微小物体の供給）
まず、図３（ａ）に示すように、所定の算術平均粗さＲａを備えるように準備された光応答性層４に対して微小物体２０を供給する。微小物体２０を光応答性層４の表面に供給する方法は特に限定しないが、液状媒体を介して液状媒体に溶解又は懸濁させた状態で適用することが好ましい。液状媒体中に浸漬した光応答性層４の表面に対して微小物体２０を容易に展開させることができ、微小物体２０たるタンパク質、細胞、微生物の機能維持や生存に最適の液状媒体中で固定化を行うことができるからである。 (Supply of minute objects)
First, as shown in FIG. 3A, the micro object 20 is supplied to the photoresponsive layer 4 prepared to have a predetermined arithmetic average roughness Ra. A method for supplying the micro object 20 to the surface of the photoresponsive layer 4 is not particularly limited, but it is preferable to apply the micro object 20 in a state of being dissolved or suspended in the liquid medium via the liquid medium. The minute object 20 can be easily developed on the surface of the light-responsive layer 4 immersed in the liquid medium, and is fixed in the liquid medium that is optimal for maintaining the function and survival of proteins, cells, and microorganisms as the minute object 20. This is because the process can be performed.

なお、液状媒体として、水又は水を主媒体とする組成液が特に好ましい。水を主媒体とする組成液としては、緩衝液、ｐＨを調整した緩衝液、細胞や微生物の栄養分を溶解させた液等が挙げられる。また、液状媒体は、微小物体２０と光応答性層４との相互作用を高めるようなものを選択することもできる。例えば、液状媒体のｐＨ、電解質濃度、極性などを調整することにより相互作用を高めることができる。こうした液状媒体としては、水、水と相溶性のある有機溶媒である水性溶媒、非水性溶媒を単独であるいは組み合わせるなどして、光応答性層４及び微小物体２０の種類に応じて適切なものを選択することができる。また、光応答性層４と微小物体２０との相互作用を高めるための上記した液性を付与するのに必要な成分を添加してもよい。さらに、例えば、界面活性剤が液状媒体に添加されていてもよい。界面活性剤が液状媒体に含有されていることで、微小物体２０の分散性が向上し、微小物体２０そのものの表面状態を利用しやすくなる。   The liquid medium is particularly preferably water or a composition liquid containing water as a main medium. Examples of the composition liquid containing water as a main medium include a buffer solution, a buffer solution adjusted in pH, and a solution in which nutrients of cells and microorganisms are dissolved. The liquid medium can also be selected so as to enhance the interaction between the minute object 20 and the photoresponsive layer 4. For example, the interaction can be enhanced by adjusting the pH, electrolyte concentration, polarity, etc. of the liquid medium. As such a liquid medium, water, an aqueous solvent that is an organic solvent compatible with water, or a non-aqueous solvent may be used singly or in combination, depending on the type of the photoresponsive layer 4 and the minute object 20. Can be selected. Moreover, you may add a component required in order to provide above-mentioned liquid property for improving the interaction of the photoresponsive layer 4 and the micro object 20. FIG. Furthermore, for example, a surfactant may be added to the liquid medium. By containing the surfactant in the liquid medium, the dispersibility of the minute object 20 is improved, and the surface state of the minute object 20 itself can be easily used.

微小物体２０は、その個体ごとにバラバラに配置・固定化される態様、多数の微小物体２０が特定の分布パターンに従って配置・固定化される態様、自己組織化（例えば、結晶化など）する性質を持つ微小物体２０においては、多数の微小物体を自己組織化した状態において光固定化材料の表面に配置させ、固定化する態様等がある。微小物体２０のパターニングには、従来公知の各種の印刷法（インクジェットなど）を用いることができる。パターニングの一例としては、微小物体２０のスポットをアレイ状に供給するパターンが挙げられる。また、光応答性層４の所定部位への微小物体２０の配置には、レーザートラッピング（ただし、配置のみに用いる場合には、光応答性成分が反応しない波長域を用いる）を利用することもできる。さらに、自己組織化は、光応答性層４への供給に先立って行ってもよいし、光応答性層４の表面で行うようにしてもよい。   The micro object 20 is arranged and fixed separately for each individual, the micro object 20 is arranged and fixed in accordance with a specific distribution pattern, and self-organized (for example, crystallization). In the micro object 20 having the above, there are modes in which a large number of micro objects are arranged and fixed on the surface of the light fixing material in a self-organized state. For the patterning of the minute object 20, various conventionally known printing methods (inkjet or the like) can be used. As an example of patterning, there is a pattern for supplying spots of the minute object 20 in an array. Also, laser trapping (however, in the case of using only for the arrangement, a wavelength region where the photoresponsive component does not react) is used for the arrangement of the minute object 20 at a predetermined portion of the photoresponsive layer 4. it can. Further, the self-assembly may be performed prior to supply to the photoresponsive layer 4 or may be performed on the surface of the photoresponsive layer 4.

微小物体２０を光応答性層４に供給するのに際し、微小物体２０を配向させることができる。微小物体２０と光応答性層４との相互作用は、静電的相互作用、親水性相互作用、疎水性相互作用、水素結合等であるが、こうした相互作用を効果的に発現させるために、適宜熱などの熱力学的パラメータを付与したり変化させたりすることもできる。また、液状媒体を乾燥により除去してもよい。微小物体２０と光応答性層４との相互作用は、必要に応じて時間をかけて行う。特に限定しないが、例えば、数秒から数十分以上とすることができる。   When supplying the micro object 20 to the photoresponsive layer 4, the micro object 20 can be oriented. The interaction between the micro object 20 and the photoresponsive layer 4 is an electrostatic interaction, a hydrophilic interaction, a hydrophobic interaction, a hydrogen bond, etc. In order to effectively express such an interaction, A thermodynamic parameter such as heat can be appropriately given or changed. Further, the liquid medium may be removed by drying. The interaction between the minute object 20 and the light-responsive layer 4 is performed over time as necessary. Although not particularly limited, for example, it may be several seconds to several tens of minutes or more.

（光固定化）
光応答性層４に対して固定化しようとする微小物体２０が供給されることで、微小物体２０は相互作用に基づいて光応答性層４に配置されていると考えられる。図３（ｂ）に示すように、こうした状態で光応答性層４上の微小物体２０に光照射することにより、微小物体２０を所定の配向性で固相に強固に固定（光固定）することができる。ここに、光固定とは、光応答性成分を含有する光応答性層４の表面に配した微小な物体１０に光照射して光応答性層４の表面において光異性化ないしは光変形を生じさせて固定することをいう。 (Light immobilization)
It is considered that the minute object 20 to be fixed to the photoresponsive layer 4 is supplied to the photoresponsive layer 4 based on the interaction. As shown in FIG. 3B, in this state, the minute object 20 on the light-responsive layer 4 is irradiated with light, so that the minute object 20 is firmly fixed to the solid phase with a predetermined orientation (light-fixed). be able to. Here, light fixation means that light irradiation is applied to a minute object 10 disposed on the surface of the photoresponsive layer 4 containing a photoresponsive component, and photoisomerization or photodeformation occurs on the surface of the photoresponsive layer 4. Let it be fixed.

光固定ではエネルギーの低い可視光の照射によっても固定が可能であるので生体分子などへの障害を抑制又は回避した固定が可能である。このため、固定化される微小物体２０がタンパク質などの生体材料の場合には、その立体構造や良好な活性を維持して固定化することができる。光照射による微小物体２０の光応答性層４への固定化メカニズムは必ずしも明らかではなく本発明を拘束するものではないが、以下のように考えられる。すなわち、光照射により微小物体２０の周囲に発生する電場に依存して光応答性成分及び光応答性層４において生じる微小物体２０の沿った変形など微小物体２０の形状に依存した何らかの変形による微小物体２０に対する支持効果、微小物体２０と光応答性層４の表面との接触面積の増大によるファンデルワールス力等の付着力の増加効果等によるものではないかと考えられる。こうした固定化の結果、微小物体２０が抗体などの機能を備える場合であっても、その機能性が維持されていると考えられる。   In light fixation, fixation is possible even by irradiation with visible light having low energy, and thus fixation with suppression or avoidance of obstacles to biomolecules is possible. For this reason, when the micro object 20 to be immobilized is a biomaterial such as a protein, it can be immobilized while maintaining its three-dimensional structure and good activity. The immobilization mechanism of the minute object 20 to the photoresponsive layer 4 by light irradiation is not necessarily clear and does not restrict the present invention, but is considered as follows. In other words, the light-responsive component depends on the electric field generated around the minute object 20 by light irradiation and the minuteness caused by some deformation depending on the shape of the minute object 20 such as deformation along the minute object 20 generated in the photoresponsive layer 4. This may be due to the effect of supporting the object 20 and the effect of increasing the adhesion force such as van der Waals force by increasing the contact area between the micro object 20 and the surface of the photoresponsive layer 4. As a result of such immobilization, even if the micro object 20 has a function such as an antibody, it is considered that the functionality is maintained.

光照射による光固定化工程は、微小物体２０の供給と同時に光固定化工程を実施してもよい。なお、光応答性層４表面の微小物体２０への光照射は、液状媒体が存在する状態で実施することもできるし、液状媒体が存在しない状態で行うこともできる。微小物体２０と光応答性層４との相互作用が一旦形成されれば、液状媒体が除去されても配向性が維持されて光固定できる。なお、光固定化工程における光照射を液状媒体の存在下に行う場合の液状媒体は、光応答性層４への微小物体２０の供給に用いた液状媒体であってもよいし、供給時の液状媒体を除去した後に別途供給された同一又は別組成の液状媒体であってもよい。   The light fixing step by light irradiation may be performed simultaneously with the supply of the minute object 20. In addition, the light irradiation to the minute object 20 on the surface of the photoresponsive layer 4 can be performed in the state where the liquid medium is present, or can be performed in the state where the liquid medium is not present. Once the interaction between the minute object 20 and the light-responsive layer 4 is formed, the orientation can be maintained and the light can be fixed even if the liquid medium is removed. Note that the liquid medium in the case where the light irradiation in the light fixing step is performed in the presence of the liquid medium may be a liquid medium used for supplying the micro object 20 to the photoresponsive layer 4, or at the time of supply. The liquid medium of the same or another composition supplied separately after removing the liquid medium may be used.

光固定のための光照射の方法は特に限定しない。各種の伝播光、近接場光又はエバネッセント光などの任意の光が微小物体２０の存在する光応答性層４の表面又はその近傍に到達するように照射すればよい。さらに、光照射は公知の手法を用いて光応答性層４上の一部に対して選択的に行うこともできる。例えば、光応答性層４に対する照射光の照射領域あるいは照射強度に一定の分布を与えることにより、１種又は２種以上の多数の微小物体をそれぞれ異なる特定の分布パターンに従って固定化することができる。照射光の照射領域あるいは照射強度に一定の分布を与える手段として、フォトマスクの利用及び／又は干渉光の使用が挙げられる。この方法により、微小物体２０の固定化領域が回路等を形成するように固定化を行うことができる。   The light irradiation method for fixing the light is not particularly limited. What is necessary is just to irradiate so that arbitrary lights, such as various propagation light, near field light, or evanescent light, may arrive at the surface of the photoresponsive layer 4 in which the micro object 20 exists, or its vicinity. Further, the light irradiation can be selectively performed on a part on the photoresponsive layer 4 using a known method. For example, by giving a certain distribution to the irradiation region or irradiation intensity of the irradiation light with respect to the photoresponsive layer 4, one type or two or more types of minute objects can be immobilized according to different specific distribution patterns. . As a means for giving a certain distribution to the irradiation region or irradiation intensity of irradiation light, use of a photomask and / or use of interference light can be mentioned. By this method, the immobilization region of the minute object 20 can be immobilized so as to form a circuit or the like.

また、光応答性層４の表面に対する微小物体２０の光固定化には、レーザートラッピングを利用することもできる。すなわち、光応答性層４の光応答性成分が反応する波長の光を集光して照射すると、集光された部分に微小物体２０が捉えられ、その位置で光応答性層４の表面に固定化される。なお、既に説明したように光応答性層４の光応答性成分が反応しない波長の光で微小物体をレーザートラッピングし、その後、光応答性成分が反応する波長の光で微小物体を固定化することも可能である。   Laser trapping can also be used for light immobilization of the minute object 20 on the surface of the photoresponsive layer 4. That is, when light having a wavelength with which the photoresponsive component of the photoresponsive layer 4 reacts is collected and irradiated, the minute object 20 is captured in the collected portion, and the surface of the photoresponsive layer 4 is captured at that position. Fixed. As already described, a micro object is laser trapped with light having a wavelength at which the photoresponsive component of the photoresponsive layer 4 does not react, and then the micro object is fixed with light having a wavelength at which the photoresponsive component reacts. It is also possible.

光固定に用いる波長域は、光応答性成分において分子構造又は分子配列の変化を生じさせる波長域であればよい。こうした波長域に関する情報は、各種の入手可能な光応答性成分について容易に取得できるか又は使用に際して確認することができる。   The wavelength range used for light fixation may be a wavelength range that causes a change in molecular structure or molecular arrangement in the photoresponsive component. Information regarding such wavelength ranges can be easily obtained for various available photoresponsive components or can be confirmed upon use.

なお、光固定のための光照射については、特開２００３−３２９６８２号公報、特開２００４−９３９９６号公報及び特開２００４−２５１８０１号公報に既に記載される照射光や光照射方法を採用することができる。光固定化については、特開２００３−３２９６８２号公報、特開２００４−９３９９６号公報及び特開２００４−２５１８０１号公報において本出願人が開示しており、これらの方法を本発明における光固定化についても適用することができる。   In addition, about the light irradiation for light fixation, employ | adopt the irradiation light and the light irradiation method already described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-329682, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-93996, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-251801. Can do. The light immobilization is disclosed by the present applicant in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-329682, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-93996, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-251801. Can also be applied.

（洗浄）
次に、図３（ｃ）に示すように、微小物体２０を光応答性層４に光固定した後は、光応答性層４の洗浄工程を実施することができる。洗浄工程を実施した固相体３０は、そのままあるいはさらなる加工や修飾を施すことにより各種用途のデバイスとして用いることができるようになる。 (Washing)
Next, as shown in FIG. 3C, after the micro object 20 is optically fixed to the photoresponsive layer 4, a cleaning process of the photoresponsive layer 4 can be performed. The solid phase body 30 that has been subjected to the washing step can be used as a device for various purposes as it is or by further processing or modification.

（微小物体と他の物体との相互作用の検出方法）
本発明は、こうした微小物体保持固相体３０を用いる、相互作用の検出方法も提供される。本発明の検出方法によれば、光学的検出特性及び分析特性が良好な固相担体２を用いるため、精度、感度等の良好な検出が可能である。ここでいう相互作用とは、静電的結合性相互作用、イオン結合性相互作用、水素結合性相互作用、疎水性相互作用、親水性相互作用等が挙げられる。また、例えば、リガンドと該リガンドに対するレセプター間における相互作用、特定のアミノ酸配列や構造を有するタンパク質とこのタンパク質と親和性を有するタンパク質などの物質との間の相互作用、酵素と該酵素に対する基質との相互作用、抗原と該抗原に対する抗体との相互作用、特定塩基配列を有する核酸又は修飾核酸と、該核酸又は修飾核酸の特定塩基配列に対して相補的な塩基配列を有する核酸又は修飾核酸との相互作用等をあげることができる。本検出方法においては、微小物体２０は生体材料や生物材料等の生体成分であることが好ましく、また、こうした相互作用を光学的シグナルで検出することが好ましい。 (Method for detecting interaction between minute objects and other objects)
The present invention also provides an interaction detection method using such a micro-object holding solid phase body 30. According to the detection method of the present invention, since the solid phase carrier 2 having good optical detection characteristics and analysis characteristics is used, it is possible to detect with good accuracy and sensitivity. Examples of the interaction mentioned here include electrostatic binding interaction, ionic bonding interaction, hydrogen bonding interaction, hydrophobic interaction, hydrophilic interaction and the like. In addition, for example, an interaction between a ligand and a receptor for the ligand, an interaction between a protein having a specific amino acid sequence or structure and a substance such as a protein having an affinity for the protein, an enzyme and a substrate for the enzyme, Interaction between an antigen and an antibody against the antigen, a nucleic acid or modified nucleic acid having a specific base sequence, and a nucleic acid or modified nucleic acid having a base sequence complementary to the specific base sequence of the nucleic acid or modified nucleic acid Can interact with each other. In this detection method, the micro object 20 is preferably a biological component such as a biological material or a biological material, and it is preferable to detect such an interaction with an optical signal.

以下、本発明を、具体例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with specific examples, but the present invention is not limited to the following examples.

（下地層の平滑化処理の検討１）
松浪硝子株式会社製のＭＡＳコートスライドガラス（Ｓ９２１５）を担体（基板）として用いた。この担体は、スライドガラス上にアミノ基を有する層を備えている。表１に示す条件で担体の表面処理を行い、試料１〜２を作製した。ワイプ材としては、無塵対策用のセルロース製の布であるＢＥＭＣＯＴ（旭化成株式会社社製）を用いた。未処理の同一担体を比較例１とした。処理後の各試料表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察した。結果を図４に示す。
(Examination of smoothing treatment of underlayer 1)
MAS-coated slide glass (S9215) manufactured by Matsunami Glass Co., Ltd. was used as a carrier (substrate). This carrier is provided with a layer having an amino group on a glass slide. Samples 1 and 2 were prepared by surface treatment of the carrier under the conditions shown in Table 1. As the wipe material, BEMCOT (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), which is a cellulose cloth for preventing dust, was used. The same untreated carrier was designated as Comparative Example 1. The surface of each sample after the treatment was observed with an atomic force microscope (AFM). The results are shown in FIG.

図４に示すように、試料１Ａは、ふき取り処理を行う時に、数回以上強く拭き取った後に観察したものであり、試料１Ｂ及び試料２Ｂは、それぞれ１回だけ軽く拭き取った後に観察したものである。図４において、色の濃淡は高さの違いを示しており，そのスケールから凹凸の程度を知ることができる。対照例との比較から、拭き取り操作により凹凸構造が平滑化していることがわかった。また、軽く拭き取った場合の拭き取り方向に依存した洗浄の凹凸構造も、拭き取り操作によって凹凸構造が平滑化していることを支持した。なお、試料１Ａの算術平均粗さＲａを測定したところ、０．７６１ｎｍであった。
As shown in FIG. 4, sample 1A was observed after wiping off several times or more when performing the wiping treatment, and sample 1B and sample 2B were observed after wiping only once each time. . In FIG. 4, the shading of the color indicates a difference in height, and the degree of unevenness can be known from the scale. From the comparison with the control example, it was found that the concavo-convex structure was smoothed by the wiping operation. Moreover, the uneven structure of washing depending on the wiping direction when lightly wiping supported that the uneven structure was smoothed by the wiping operation. The arithmetic average roughness Ra of sample 1A was measured and found to be 0.761 nm.

（下地層の平滑化処理の検討２）
実施例１と同一の担体及びワイプ材を用い、表２に示す条件で担体の表面処理を行い、それぞれ乾燥して試料３〜７を作製した。作製した各試料について、１時間常温で真空乾燥した後、原子間力顕微鏡（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩ）で観察した。また、未処理の実施例１と同一の担体を比較例として用いた。結果を図５に示す。また、処理表面上の２μｍ×２μｍ領域で原子間力顕微鏡を用いて測定した画像を使用し、当該原子間力顕微鏡 ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩ付属のソフトウエアにおいて，Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓコマンドによる解析を行い、算術平均表面粗さＲａ及び自乗平均表面粗さＲＭＳを求めた。これらの算出式として既に記載した数式（１）及び以下の数式（２）をそれぞれ用いた。なお、算術平均粗さＲａの計測対象領域は、１０μｍ×１０μｍの大きさの領域から、５個の上記２μｍ方形状領域を選択し、前記式により自乗平均粗さＲＭＳ及び算術平均粗さＲａを算出しこれらの平均値を測定値とした。なお、データポイント数はいずれも５１２×５１２個とした。結果を表３に示す。
(Study on smoothing of underlayer 2)
Using the same carrier and wipe material as in Example 1, the carrier was surface-treated under the conditions shown in Table 2, and dried to prepare Samples 3 to 7. Each of the prepared samples was vacuum-dried at room temperature for 1 hour and then observed with an atomic force microscope (NanoScope III). Further, the same carrier as that used in Example 1 was used as a comparative example. The results are shown in FIG. Also, using an image measured with an atomic force microscope in a 2 μm × 2 μm region on the treated surface, the software attached to the atomic force microscope NanoScope III is analyzed with a Roughness command, and an arithmetic average surface roughness is obtained. Ra and root mean square surface roughness RMS were determined. The mathematical formula (1) and the following mathematical formula (2) described above were used as these calculation formulas. In addition, the measurement target area | region of arithmetic mean roughness Ra selects five said 2 micrometers square area | regions from the area | region of a magnitude | size of 10 micrometers x 10 micrometers, and square mean roughness RMS and arithmetic mean roughness Ra are calculated | required by the said Formula. The calculated average value was used as the measured value. The number of data points was 512 × 512 in all cases. The results are shown in Table 3.

表３に示すように、拭き取り操作によれば、水系，有機溶剤系，無溶媒系いずれの溶媒系でも担体表面を平滑化することができることがわかった。なかでも、メタノールやエタノールなどのアルコールについて好ましい結果が得られた。また、拭き取り操作によって算術平均粗さＲａが０．２３１ｎｍ〜１．１４１ｎｍ程度にまで低下し、無溶媒以外では全て１ｎｍ以下となることがわかった。これに対して、未処理の対照例では、いずれも１０ｎｍを超えていた。   As shown in Table 3, according to the wiping operation, it was found that the surface of the carrier can be smoothed by any solvent system such as an aqueous system, an organic solvent system, and a solventless system. Among them, preferable results were obtained for alcohols such as methanol and ethanol. Moreover, it turned out that arithmetic mean roughness Ra falls to about 0.231 nm-1.141 nm by wiping operation, and becomes 1 nm or less altogether except a solvent-free. In contrast, the untreated control examples all exceeded 10 nm.

（アゾポリマースライド表面の観察）
表４に示す処理条件で実施例１と同一の担体を同一のワイプ材を用いて処理した後、その担体上に、別途合成したアゾポリマー（ＣＮ１５、後述する実施例８参照）のピリジン溶液（１２．５ｍｇ／ｍＬ）を０．２μｍのフィルターでろ過して得られたコーティング液１００μｌをスピンコート（４０００ｒｐｍ）により供給して４０ｎｍのフィルムを成膜し、試料８を作製した。また、未処理の同一の担体から同様にしてアゾポリマースライドを作製して比較例３とした。これらの試料と比較例の表面粗さを実施例２と同様にして計測した。結果を表５に示す。
(Observation of azo polymer slide surface)
After the same carrier as in Example 1 was treated with the same wipe material under the treatment conditions shown in Table 4, a pyridine solution (12) of a separately synthesized azo polymer (CN15, see Example 8 described later) on the carrier. the .5mg / mL) of 0.2μm co computing solution 100μl obtained was filtered with a filter by forming a film of 40nm is supplied by spin coating (4000 rpm), to form sample 8. In addition, an azo polymer slide was prepared in the same manner from the same untreated carrier and used as Comparative Example 3. The surface roughness of these samples and comparative examples was measured in the same manner as in Example 2. The results are shown in Table 5.

表５に示すように、平滑化処理しない担体を用いた場合であっても、スピンコートにより表面粗さが大きく減少していたが、算術平均粗さＲａは２ｎｍを超えていた。これに対し、拭き取りによる平滑化処理を行った担体を用いた場合には、算術平均粗さＲａが０．４６６ｎｍ以下であり、アゾポリマー層の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下となることがわかった。   As shown in Table 5, even when a carrier that was not smoothed was used, the surface roughness was greatly reduced by spin coating, but the arithmetic average roughness Ra exceeded 2 nm. On the other hand, when a carrier that has been smoothed by wiping is used, the arithmetic average roughness Ra is 0.466 nm or less, and the arithmetic average roughness Ra of the azo polymer layer is 0.5 nm or less. all right.

（標識抗体の検出）
実施例１で作製した試料１Ａ（アセトンで長手方向に強く拭き取り）と同様にして試料９Ａを、試料１Ｂ（アセトンで長手方向に弱く拭き取り）と同様にして試料９Ｂ１及び試料９Ｂ２を、それぞれ作製した。さらに、アセトンで超音波洗浄しただけの担体を比較例４として準備した。これらの担体に対して実施例３と同様にしてアゾポリマー（ＣＮ１５）をそれぞれスピンコートしてアゾポリマースライドを作製した。これらのアゾポリマースライド上にＣｙ５標識したウサギＩｇＧ抗体を各種濃度でスポッティングした。短手方向には同一濃度であり、長手方向には濃度順にスポットした。これらの蛍光像をアレイ用の蛍光スキャナーＡｆｆｙｍｅｔｒｉｘで測定し、表面の蛍光を観察した。また、蛍光強度と濃度との相関性（ｒ）を算出した。結果を図６及び表６に示す。
(Detection of labeled antibody)
Samples 9A in the same manner as Sample 1A prepared (wiping strongly in the longitudinal direction with acetone) in Example 1, a sample 9B 1 and Sample 9B 2 in the same manner as the sample 1B (wiping weak longitudinally acetone), respectively Produced. Further, a carrier that was ultrasonically cleaned with acetone was prepared as Comparative Example 4. These carriers were spin-coated with azopolymer (CN15) in the same manner as in Example 3 to prepare azopolymer slides. Cy5-labeled rabbit IgG antibodies were spotted at various concentrations on these azopolymer slides. The same concentration was observed in the short direction, and spotting was performed in the order of concentration in the longitudinal direction. These fluorescence images were measured with an array fluorescence scanner Affymetrix, and surface fluorescence was observed. Further, the correlation (r) between the fluorescence intensity and the concentration was calculated. The results are shown in FIG.

図６及び表６に示すように、拭き取り程度が強い担体から得られるアゾポリマースライド上の蛍光シグナルは明確で形状も均一であり、蛍光強度は濃度と高く相関することがわかった。これに対して、拭き取り程度が弱い担体から得られるアゾポリマースライド上の蛍光シグナルは形状が不均一でありしかも蛍光強度がばらつき、濃度との相関性も０．５〜０．９と変動した。さらに、超音波洗浄のみを行った担体から得られるアゾポリマースライド上の蛍光シグナルは、明らかに形状が不均一であり、同一濃度においても相当大きな蛍光強度のばらつきがあることがわかった。また、蛍光強度にばらつきがある場合には、そうでない場合に比べて３倍程度大きく、検出感度が大きく低下した。さらに、拭き取り程度が軽い場合には、拭いた方向（長手方向）に沿ってバックグラウンド蛍光が観測されており、担体表面における凹凸がアゾポリマー層においても現れていることを示していた。   As shown in FIG. 6 and Table 6, it was found that the fluorescence signal on the azopolymer slide obtained from the carrier having a strong wiping level was clear and uniform in shape, and the fluorescence intensity was highly correlated with the concentration. On the other hand, the fluorescence signal on the azopolymer slide obtained from the carrier having a weak wiping degree was non-uniform in shape, the fluorescence intensity varied, and the correlation with the concentration varied from 0.5 to 0.9. Furthermore, it was found that the fluorescence signal on the azopolymer slide obtained from the carrier subjected only to ultrasonic cleaning was clearly non-uniform in shape, and there was a considerable variation in fluorescence intensity even at the same concentration. Further, when there was a variation in the fluorescence intensity, it was about three times larger than when it was not, and the detection sensitivity was greatly reduced. Furthermore, when the degree of wiping was light, background fluorescence was observed along the wiping direction (longitudinal direction), indicating that irregularities on the surface of the carrier also appeared in the azo polymer layer.

（アゾポリマーの密着性）
通常のスライドガラス（シランカップリング層なし）、実施例１で使用した担体（未処理）及び実施例１で使用した担体をアセトンに浸したＢＥＭＣＯＴで強く拭き取り操作を行ったものを準備した。これらの表面に実施例３と同様にしてＣＮ１５をスピンコートしてアゾポリマースライドを作製した。これら３種類のアゾポリマースライドをｐＨ７．４のＰＢＳ溶液に浸して，３時間溶液を強く攪拌した。その後，アゾスライドを取り出して，サンプル表面を観察したところ，通常のスライドガラスを担体に用いた時には，表面のアゾポリマーが大部分剥離してしまっていたが、後者の２つではまったく剥離することなく，見かけ上変化はなかった．強くふき取り操作を行ったフィルムにおいても十分な密着性が確保されていることが示された． (Azopolymer adhesion)
A normal slide glass (no silane coupling layer), a carrier used in Example 1 (untreated), and a carrier used in Example 1 that had been strongly wiped with BEMCOT soaked in acetone were prepared. These surfaces were spin-coated with CN15 in the same manner as in Example 3 to prepare azo polymer slides. These three kinds of azo polymer slides were immersed in a PBS solution of pH 7.4, and the solution was vigorously stirred for 3 hours. After that, the azo slide was taken out and the surface of the sample was observed. When the normal glass slide was used as the carrier, most of the azo polymer on the surface was peeled off, but the latter two did not peel at all. There was no apparent change. It was shown that sufficient adhesion was secured even in the film that was wiped off strongly.

（アゾポリマー層形成条件の検討）
スピンコートを行うときの雰囲気湿度を、表７に示すように、７０％ＲＨ、５０％ＲＨ及び４０％ＲＨと異ならせてアゾポリマー層を形成し、得られるアゾポリマー層の比較を行った。アゾポリマー層を形成する担体としては、実施例１における試料１Ａと同様に処理したものを用いた。なお、５０％ＲＨ以下の雰囲気は、乾燥窒素ガスをスピンコーター内に導入することによって形成した。雰囲気湿度が異なる以外は同一条件でアゾポリマー層を担体表面に形成し、形成したアゾポリマーを肉眼及び光学顕微鏡で観察した。結果を表７に併せて示す。
(Examination of azo polymer layer formation conditions)
As shown in Table 7, the azo polymer layer was formed by changing the atmospheric humidity at the time of spin coating from 70% RH, 50% RH and 40% RH, and the resulting azo polymer layers were compared. As the carrier for forming the azo polymer layer, a carrier treated in the same manner as Sample 1A in Example 1 was used. The atmosphere of 50% RH or less was formed by introducing dry nitrogen gas into the spin coater. An azo polymer layer was formed on the support surface under the same conditions except that the atmospheric humidity was different, and the formed azo polymer was observed with the naked eye and an optical microscope. The results are also shown in Table 7.

表７に示すように、７０％ＲＨ下では、表面の大部分が曇ったアゾポリマースライドを得、５０％ＲＨ下では、おおよそ透明なアゾポリマースライドを得ることができ、４０％ＲＨ以下では全面が透明で光学的に均一なアゾポリマースライドを得ることができた。また、曇ったアゾポリマースライドの表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面に多くのボイドが観測された。一方、５０％ＲＨで作製したアゾポリマースライドは、ボイドは観測されなかった。すなわち、これらの曇りは、ボイドに起因する散乱によるものであることがわかった。以上のことから、雰囲気湿度を５０％ＲＨ以下とすると光学的に均一でしかもボイドが抑制されて微小物体の保持性に優れるアゾポリマー層が得られ、さらに４０％ＲＨ以下であるとより光学的均一性、平滑性及び微小物体の保持性に優れるアゾポリマー層が得られることがわかった。   As shown in Table 7, under 70% RH, an azo polymer slide with a mostly cloudy surface was obtained, and under 50% RH, an approximately transparent azo polymer slide could be obtained. A clear and optically uniform azo polymer slide could be obtained. Further, when the surface of the cloudy azo polymer slide was observed with an optical microscope, many voids were observed on the surface. On the other hand, no void was observed in the azo polymer slide prepared at 50% RH. That is, it was found that these hazes are due to scattering caused by voids. From the above, when the atmospheric humidity is 50% RH or less, an azo polymer layer that is optically uniform and suppresses voids and has excellent retention of minute objects can be obtained, and when it is 40% RH or less, it is more optically uniform. It was found that an azo polymer layer having excellent properties, smoothness and retention of fine objects can be obtained.

また、後述する実施例８で合成したＣＮ１００のアゾポリマーを用いて種々の条件でアゾポリマースライドを作製し、曇りのあるスライドと曇りのないスライドのアゾベンゼンの吸収が認められない波長（７００ｎｍ）（ベースライン領域）での吸光度を測定した。なお、対照としてアゾポリマー層を形成する前の担体を用いた。結果は、曇りを生じているスライドでは、０．０４２６（７００ｎｍ）（λｍａｘ４４９．５ｎｍ、ａｂｓ．０．４０２１）であり、曇りを生じてないスライドでは、０．００６５（７００ｎｍ）（λｍａｘ４４８．０、ａｂｓ．０．２６４４）であった。すなわち、曇りを生じていないスライドでは、ベースライン領域の波長において０．０１以下となることがわかった。したがって、こうした波長域にて吸光度を測定することで、簡易にボイドの有無ないしは表面平滑性を評価できることがわかった。   Also, an azopolymer slide was prepared under various conditions using the CN100 azopolymer synthesized in Example 8 to be described later, and the wavelength (700 nm) at which no azobenzene absorption was observed in the cloudy slide and the cloudless slide (base Absorbance in the line region) was measured. As a control, a carrier before forming the azo polymer layer was used. The result is 0.0426 (700 nm) (λmax 449.5 nm, abs. 0.4021) for slides that are clouded, and 0.0065 (700 nm) (λmax 448.0, for slides that are not clouded). abs.0.2644). That is, it was found that the slide in which no clouding occurred was 0.01 or less at the wavelength in the baseline region. Therefore, it was found that the presence or absence of voids or surface smoothness can be easily evaluated by measuring the absorbance in such a wavelength range.

一方、７０％ＲＨ下、アゾポリマー（ＣＮ１５）のスピンコート直前に担体表面をドライヤーにて数秒間加熱して、それから溶液を滴下してスピンコートを行ったところ、全面が透明で光学的に均一な透明フィルムを得ることができた。   On the other hand, under 70% RH, the carrier surface was heated with a dryer for a few seconds immediately before spin coating of the azopolymer (CN15), and then the solution was dropped to perform spin coating. The entire surface was transparent and optically uniform. A transparent film could be obtained.

以上のことから、雰囲気湿度を下げるかあるいは担体表面又はその近傍の水分を除去することが、光学的な均一性、すなわち、表面平滑性に優れ、しかも微小物体の保持性に優れるアゾポリマー層を得るのに有効であることがわかった。   From the above, it is possible to obtain an azo polymer layer having excellent optical uniformity, that is, surface smoothness and excellent retention of minute objects, by reducing the atmospheric humidity or removing moisture on or near the support surface. It was found to be effective.

（アゾポリマー層の加熱処理条件の検討）
実施例１の試料１Ａと同様にして処理して作製した担体に対して、アゾポリマー（ＣＮ１５、ガラス転移温度１１７℃）を用いて実施例３と同様にしてスピンコートを行い、その後、表乾燥条件として、表８に示すように、（１）室温で２４時間真空乾燥、（２）６０℃で２時間真空乾燥、（３）１２０℃で１時間真空乾燥及び（４）１２０℃で２４時間真空乾燥での真空乾燥をそれぞれ行い、２種類のアゾポリマースライドを作製した。これらの各スライドに対して、アクチンのたんぱく質を溶解した水溶液（５０μｇ／ｍｌ）を滴下し、ギャップカバーガラスで覆った後、上方約２ｃｍより青色ＬＥＤを照射しながら光固定を行った。光固定終了後、スライドを洗浄し、表面をＡＦＭで観察した。結果を表８に併せて示す。

(Examination of heat treatment conditions of azo polymer layer)
A carrier prepared by treating in the same manner as Sample 1A in Example 1 was spin-coated in the same manner as in Example 3 using an azopolymer (CN15, glass transition temperature 117 ° C.), and then subjected to surface drying conditions. As shown in Table 8, (1) vacuum drying at room temperature for 24 hours, (2) vacuum drying at 60 ° C for 2 hours, (3) vacuum drying at 120 ° C for 1 hour, and (4) vacuum at 120 ° C for 24 hours. Two types of azo polymer slides were prepared by performing vacuum drying in each case. An aqueous solution (50 μg / ml) in which actin protein was dissolved was dropped onto each of these slides, covered with a gap cover glass, and then light-fixed while irradiating a blue LED from about 2 cm above. After the light fixation, the slide was washed and the surface was observed with AFM. The results are also shown in Table 8.

表８に示すように、乾燥条件（１）及び（２）のアゾポリマー層においては、いずれも多数のクラックが発生していた。また、乾燥条件（３）のアゾポリマー層でも、クラックの発生は抑えられていたもののわずかに残存していた。乾燥条件（４）のアゾポリマー層では、クラックの発生は抑えられていた。なお、いずれの条件であっても、固定化されたアクチン分子を確認することができた。以上のことから、アゾポリマー層の成膜時における乾燥工程あるいはその後において、ポリマー層のガラス転移温度以上に加熱することで、アゾポリマー層に内在する応力を緩和してクラックの発生の抑制された平滑性が良好で、光学的特性及び微小物体保持性に優れた固相担体及び微小物体保持固相体が得られることがわかった。   As shown in Table 8, in the azo polymer layer under the drying conditions (1) and (2), many cracks occurred. Further, even in the azo polymer layer under the drying condition (3), although the generation of cracks was suppressed, it remained slightly. In the azo polymer layer under the drying condition (4), generation of cracks was suppressed. In any of the conditions, the immobilized actin molecule could be confirmed. From the above, the smoothness in which cracking is suppressed by relaxing the stress inherent in the azo polymer layer by heating above the glass transition temperature of the polymer layer in the drying step during the film formation of the azo polymer layer or thereafter It was found that a solid phase carrier and a microscopic object-holding solid phase body having good optical properties and excellent retention of a microscopic object can be obtained.

（アゾポリマーの合成）
常法に従いアゾポリマーを合成した。合成スキームを図７に示す。まず、公知のジアゾカップリング法を用いて図７に示すに示す化合物Ａ（２種類）を合成した。次に、公知の酸クロリドとの反応により、化合物Ｂを合成した。これらの化合物Ａ及び化合物Ｂにおいて、アゾベンゼン構造部分が光応答性成分を構成している。 (Synthesis of azopolymer)
An azo polymer was synthesized according to a conventional method. A synthesis scheme is shown in FIG. First, Compound A (two types) shown in FIG. 7 was synthesized using a known diazo coupling method. Next, Compound B was synthesized by reaction with a known acid chloride. In these compounds A and B, the azobenzene structure portion constitutes a photoresponsive component.

化合物Ａを単独重合又は化合物Ａと市販のメタクリル酸メチルとを、表９に示す各種比率で共重合し、高分子化合物Ｃを合成した。
Compound A was homopolymerized or compound A and commercially available methyl methacrylate were copolymerized at various ratios shown in Table 9 to synthesize polymer compound C.

なお、共重合反応の詳細は以下のとおりである。表９に示す各配合のモノマー混合物（合計１０ｍｍｏｌ）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ、４０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解した。室温で３０分間窒素バブリングを行った後、窒素気流下、６０〜７０℃で４時間撹拌して重合反応を行った。反応溶液を室温まで冷却した後に、反応溶液をメタノール（５００ｍｌ）にゆっくりと滴下した。沈殿したポリマーをろ過により回収し、アセトン（１０ｍｌ）に溶解した。アセトン溶液をメタノール（５００ｍｌ）にゆっくりと滴下し、再度ポリマーを沈殿させた。ポリマーをろ過により回収し、４０℃で一晩真空乾燥させることにより、アゾポリマーを得た。   The details of the copolymerization reaction are as follows. The monomer mixture (total 10 mmol) of each formulation shown in Table 9 and 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN, 40 mg, 0.24 mmol) were dissolved in DMF (10 ml). Nitrogen bubbling was performed at room temperature for 30 minutes, and then the polymerization reaction was performed by stirring at 60 to 70 ° C. for 4 hours under a nitrogen stream. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was slowly added dropwise to methanol (500 ml). The precipitated polymer was collected by filtration and dissolved in acetone (10 ml). The acetone solution was slowly added dropwise to methanol (500 ml) to precipitate the polymer again. The polymer was collected by filtration and vacuum dried at 40 ° C. overnight to obtain an azo polymer.

得られたアゾポリマーの共重合比は、重クロロホルム溶媒で、日本電子製の超伝導フーリエ変換核磁気共鳴装置（ＪＮＭ−ＬＡ５００）を用いて１Ｈ−ＮＭＲを測定し、プロトンの積分値から算出した。また、分子量は、クロロホルム溶媒で、昭和電工（株）製のＧＰＣ（ＳｈｏｄｅｘＧＰＣ−１０１、カラム：Ｋ−８００ＲＬ＋Ｋ−８０５Ｌ×２）を用いて測定し、ポリスチレン換算の分子量を算出した。なお、表９には、化合物ＢにおいてＸがＮＯ２であり所定の配合比のモノマー混合物を上記と同様にして重合して得たアゾポリマーについても示す。 The copolymerization ratio of the obtained azopolymer was calculated from the integral value of proton by measuring 1H-NMR using a superconducting Fourier transform nuclear magnetic resonance apparatus (JNM-LA500) manufactured by JEOL in a deuterated chloroform solvent. The molecular weight was measured with a chloroform solvent using GPC (Shodex GPC-101, column: K-800RL + K-805L × 2) manufactured by Showa Denko KK, and the molecular weight in terms of polystyrene was calculated. In Table 9 also shows the azopolymer X in the compound B is obtained by polymerizing a monomer mixture is a predetermined mixing ratio and NO 2 in the same manner as described above.

（アゾポリマー層を有する光固定化用固相担体の作製及び評価）
実施例１の試料１Ａと同様にして処理して得た担体の表面に実施例３と同様にして実施例８で合成した１０種類のアゾポリマーのピリジン溶液をスピンコートして成膜し（４０ｎｍ）、光固定化用固相担体１〜１０を得た。 (Preparation and evaluation of a solid support for photofixation having an azopolymer layer)
A pyridine solution of 10 kinds of azopolymers synthesized in Example 8 was spin-coated on the surface of a carrier obtained by the same treatment as Sample 1A in Example 1 to form a film (40 nm). Thus, solid phase carriers 1 to 10 for light immobilization were obtained.

１．光変形能の評価
得られた光固定化用固相担体１〜１０につき、以下の方法で光変形能の評価を行った。評価方法の概要を図８に示す。すなわち、ポリスチレンの微小球（直径２５０ｎｍ）を一定量含む液体の一定量をアゾポリマー層表面に滴下し、その状態で所定強度の青色ＬＥＤ（波長４６５ｎｍ〜４７５ｎｍ）を一定時間照射した後、微小球を除去して、除去後の表面をＡＦＭで観察し、微小球の光固定の過程で生じた変形量（凹部の深さ）を測定した。結果を表１０に示す。
1. Evaluation of Photodeformability The obtained solid phase carriers 1 to 10 for photofixation were evaluated for photodeformability by the following method. An overview of the evaluation method is shown in FIG. That is, a certain amount of liquid containing a fixed amount of polystyrene microspheres (diameter 250 nm) is dropped on the surface of the azo polymer layer, and in that state, a blue LED (wavelength 465 nm to 475 nm) of a predetermined intensity is irradiated for a predetermined time, After removal, the surface after removal was observed with an AFM, and the amount of deformation (depth of the recess) generated in the process of light fixation of the microspheres was measured. The results are shown in Table 10.

表１０に示すように、アゾ（Ｈ）ポリマー及びアゾ（ＣＮ）ポリマー間において変形量に大きな差は認められなかった。   As shown in Table 10, there was no significant difference in deformation between the azo (H) polymer and the azo (CN) polymer.

２．タンパク質の光固定化と活性の評価
光固定化用固相担体１、３，４，６〜９に対するタンパク質の光固定化と固定化されたタンパク質の活性について評価した。すなわち、これらの担体のアゾポリマー層表面にＣｙ５で標識した一定濃度のＩｇＧ溶液に浸漬した状態で、所定強度の青色ＬＥＤ（波長４６５ｎｍ〜４７５ｎｍ）を一定時間照射した後、洗浄して、蛍光強度を測定した。蛍光強度の観測結果から、光固定化固相担体８（アゾポリマー：ＣＮ１５）の蛍光強度を１００としたときの比を比固定化能として表１１に示す。
2. Photoimmobilization of protein and evaluation of activity The protein was immobilized on solid phase carrier 1, 3, 4, 6-9 for light immobilization and the activity of the immobilized protein was evaluated. That is, a blue LED (wavelength of 465 nm to 475 nm) with a predetermined intensity is irradiated for a certain period of time in a state where the carrier is immersed in a constant concentration IgG solution labeled with Cy5 on the surface of the azo polymer layer of these carriers, and then washed to obtain a fluorescence intensity. It was measured. From the observation result of the fluorescence intensity, Table 11 shows the ratio when the fluorescence intensity of the light-immobilized solid phase carrier 8 (azo polymer: CN15) is 100 as specific immobilization ability.

表１１に示すように、アゾ（Ｈ）ポリマーは十分にタンパク質を固定化する能力を有していることがわかった。特に、光固定化用固相担体（アゾポリマー：Ｈ１１）は、良好な固定化能を示した。 As shown in Table 11, the azo (H) polymer was found to have sufficient ability to immobilize proteins. In particular, the solid phase support for optical immobilization (azo polymer: H11) showed good immobilization ability.

３．アゾポリマーの吸収スペクトル
実施例８で合成したアゾ（Ｈ）ポリマー（Ｈ１１）及びアゾ（ＣＮ）ポリマー（ＣＮ１５）について吸光光度計にて吸収スペクトルを測定した。また、Ｃｙ３及びＣｙ５についても蛍光光度計にて蛍光スペクトルを測定した。参考例としてアゾ（ＮＯ2）ポリマーの吸収スペクトルも測定した。これらの結果をまとめて図９に示す。図９に示すように、アゾ（Ｈ）ポリマー及びアゾ（ＣＮ）ポリマーは、アゾ（ＮＯ2）ポリマーに比べて短波長側に吸収スペクトルがシフトしていることがわかった。特に、アゾ（Ｈ）ポリマーはアゾ（ＣＮ）ポリマーよりも短波長側にシフトしていた。この結果によれば、光固定化用固相担体の表層の自家蛍光を一層抑制できて、蛍光色素による検出感度を向上できることがわかった。 3. Absorption spectrum of azo polymer The absorption spectrum of the azo (H) polymer (H11) and azo (CN) polymer (CN15) synthesized in Example 8 was measured with an absorptiometer. Further, the fluorescence spectrum of Cy3 and Cy5 was measured with a fluorometer. As a reference example, the absorption spectrum of an azo (NO 2 ) polymer was also measured. These results are summarized in FIG. As shown in FIG. 9, it was found that the absorption spectrum of the azo (H) polymer and the azo (CN) polymer was shifted to the short wavelength side as compared with the azo (NO 2 ) polymer. In particular, the azo (H) polymer was shifted to a shorter wavelength side than the azo (CN) polymer. According to this result, it was found that the autofluorescence of the surface layer of the solid phase support for light immobilization can be further suppressed, and the detection sensitivity by the fluorescent dye can be improved.

４．アゾポリマー層における蛍光色素の検出
光固定化用固相担体１，３，４，６，７及び８について、Ｃｙ５及びＣｙ３の検出波長での蛍光強度を計測した。また、各種濃度のＣｙ５及びＣｙ３濃度の溶液を調製し、等量をアゾポリマー層上にスポッティングして、シグナル／バックグラウンドが２以上となる蛍光標識の最小濃度を検出感度とした。これらの結果を表１２及び表１３に示す。
4). The fluorescence intensity at the detection wavelength of Cy5 and Cy3 was measured for the solid phase carriers 1, 3, 4, 6, 7 and 8 for immobilizing the detection light of the fluorescent dye in the azo polymer layer. In addition, solutions with various concentrations of Cy5 and Cy3 were prepared, and equal amounts were spotted on the azopolymer layer, and the minimum concentration of the fluorescent label with a signal / background of 2 or more was defined as detection sensitivity. These results are shown in Tables 12 and 13.

表１２に示すように、アゾ（ＣＮ）ポリマーに比較してアゾ（Ｈ）ポリマーのＣｙ３の検出領域におけるバックグラウンド値は約１０分の１程度であった。また、表１３に示すように、アゾ（Ｈ）ポリマー層を有する光固定化用固相担体のＣｙ３の検出領域における検出感度は、５〜２０ｐｇ／ｍｌであり、アゾ（ＣＮ）ポリマーを備える光固定化用固相担体のそれよりも１０倍〜２５倍であった。以上のことから、アゾ（Ｈ）ポリマーを光固定化層とする固相担体は、バックグラウンドが低く、光学的検出特性、特に、Ｃｙ３などの汎用標識についての光学的検出特性に優れる固相担体であることがわかった。また、Ｃｙ３及びＣｙ５など複数の蛍光標識を同等の感度で検出するのに適していることもわかった。 As shown in Table 12, the background value in the Cy3 detection region of the azo (H) polymer was about 1/10 compared to the azo (CN) polymer. Moreover, as shown in Table 13, the detection sensitivity in the detection region of Cy3 of the solid phase support for optical immobilization having an azo (H) polymer layer is 5 to 20 pg / ml, and light having an azo (CN) polymer. It was 10 to 25 times that of the solid support for immobilization. From the above, a solid phase carrier using an azo (H) polymer as a light-immobilized layer has a low background, and has excellent optical detection characteristics, particularly optical detection characteristics for general-purpose labels such as Cy3. I found out that Moreover, it turned out that it is suitable for detecting several fluorescent labels, such as Cy3 and Cy5, by equivalent sensitivity.

本発明の光固定化用固相担体の一例を示す図。The figure which shows an example of the solid-phase carrier for optical immobilization of this invention. 本発明の光固定化用固相体の製造工程の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing process of the solid-phase body for optical fixation of this invention. 本発明の微小物体保持固相体の製造工程の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing process of the micro object holding | maintenance solid-phase body of this invention. 実施例１における平滑化処理後の担体表面のＡＦＭ像を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an AFM image of the carrier surface after the smoothing process in Example 1. 実施例２における平滑化処理後の担体表面のＡＦＭ像を示す図。FIG. 6 is a diagram showing an AFM image of a carrier surface after smoothing processing in Example 2. 実施例４における標識抗体の蛍光像を示す図。The figure which shows the fluorescence image of the labeled antibody in Example 4. FIG. アゾポリマーの合成スキームを示す図。The figure which shows the synthetic scheme of an azo polymer. 光変形能の評価方法の概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of the evaluation method of light deformability. 各種アゾポリマーと蛍光標識のスペクトルを示す図。The figure which shows the spectrum of various azo polymers and a fluorescent label.

符号の説明Explanation of symbols

２ 光固定化用固相担体、４ 光応答性層、６ マトリックス、８ 支持体、１０ 下地層、１２ 担体、２０ 微小物体、３０ 微小物体保持固相体。   2 solid phase support for light immobilization, 4 photoresponsive layer, 6 matrix, 8 support, 10 underlayer, 12 support, 20 minute object, 30 minute object holding solid phase.

Claims (24)

光固定化用固相担体であって、
表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、光応答性成分を含有する光応答性層、
を備える、固相担体。 A solid support for light immobilization,
A photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component;
A solid phase carrier comprising: 支持体と、
前記支持体と前記光応答性層との間に介在される下地層と、
を備え、
前記下地層の前記光応答性層側の表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下である、請求項１に記載の固相担体。 A support;
An underlayer interposed between the support and the photoresponsive layer;
With
2. The solid phase carrier according to claim 1, wherein the arithmetic average roughness Ra of the surface of the base layer on the photoresponsive layer side is 10 nm or less. 前記下地層はシランカップリング剤を含有する、請求項２に記載の固相担体。   The solid phase carrier according to claim 2, wherein the underlayer contains a silane coupling agent. リン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）に２４時間浸漬し乾燥後の前記光応答性層の表面の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の固相担体。   The solid phase carrier according to any one of claims 1 to 3, wherein the arithmetic average roughness Ra of the surface of the photoresponsive layer after being immersed in phosphate buffered saline (PBS) for 24 hours and dried is 5 nm or less. 前記光応答性層は、前記光応答性層が担持される担体を対照としたときの吸光度が０．０１以下の領域を有する、請求項１〜４のいずれかに記載の固相担体。   The solid phase carrier according to any one of claims 1 to 4, wherein the photoresponsive layer has a region having an absorbance of 0.01 or less when the carrier on which the photoresponsive layer is supported is used as a control. 前記光応答性層は、前記光応答性成分としてアミノ型アゾベンセン系化合物を含有する、請求項１〜５のいずれかに記載の固相担体。   The solid phase carrier according to any one of claims 1 to 5, wherein the photoresponsive layer contains an amino-type azobencene compound as the photoresponsive component. 前記光応答性層に固定化された微小物体と他の成分との相互作用を光学的シグナルによる検出するための固相担体である、請求項１〜６のいずれかに記載の固相担体。   The solid phase carrier according to any one of claims 1 to 6, which is a solid phase carrier for detecting an interaction between a minute object immobilized on the photoresponsive layer and other components by an optical signal. タンパク質を多数個固定化したアレイ用である、請求項１〜７のいずれかに記載の固相担体。   The solid phase carrier according to any one of claims 1 to 7, which is used for an array in which a large number of proteins are immobilized. 光応答性層形成用の担体であって、
支持体と、
光応答性成分を含有する光固定化層用に前記支持体表面に配される下地層と、
を備え、
前記下地層表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下である、担体。 A carrier for forming a photoresponsive layer,
A support;
An underlayer disposed on the surface of the support for a light-immobilizing layer containing a photoresponsive component,
With
The support | carrier whose arithmetic mean roughness Ra of the said base layer surface is 10 nm or less. 光固定化用固相担体の製造方法であって、
表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、光応答性成分を含有する光応答性層を形成する工程、
を備える、製造方法。 A method for producing a solid support for light immobilization, comprising:
A step of forming a photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component;
A manufacturing method comprising: 前記光応答性層形成工程に先立って、表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の下地層を備える担体を準備する工程を備え、
前記光応答性層形成工程は、前記下地層の表面に前記光応答性層を形成する工程である、請求項１０に記載の製造方法。 Prior to the photoresponsive layer forming step, comprising a step of preparing a carrier comprising an underlayer having a surface arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less,
The said photoresponsive layer formation process is a manufacturing method of Claim 10 which is a process of forming the said photoresponsive layer in the surface of the said base layer. 前記担体準備工程は、算術平均粗さＲａが１０ｎｍを超える前記下地層の表面を平滑化処理する工程である、請求項１１に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 11, wherein the carrier preparation step is a step of smoothing the surface of the base layer having an arithmetic average roughness Ra exceeding 10 nm. 前記平滑化処理は、前記下地層の表面をワイプ材で擦過する処理を含む、請求項１２に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 12, wherein the smoothing treatment includes a treatment of rubbing the surface of the underlayer with a wipe material. 前記下地層はシランカップリング剤を含有する、請求項１１〜１３のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 11, wherein the underlayer contains a silane coupling agent. 前記光応答性層形成工程は、湿度５０％以下の雰囲気下で実施する工程である、請求項１０〜１４のいずれかに記載の製造方法。   The said photoresponsive layer formation process is a manufacturing method in any one of Claims 10-14 which is a process implemented in the atmosphere of 50% or less of humidity. 前記光応答性層形成工程は、前記光応答性層を形成する表面又はその近傍の水分を低減した後に実施する工程である、請求項１０〜１５のいずれかに記載の製造方法。   The said photoresponsive layer formation process is a manufacturing method in any one of Claims 10-15 which is a process implemented after reducing the water | moisture content of the surface which forms the said photoresponsive layer, or its vicinity. 前記光応答性層がポリマーを含有するとき、
前記光応答性層を前記ポリマーのガラス転移温度以上の温度で熱処理する工程を備える、請求項１０〜１６のいずれかに記載の製造方法。 When the photoresponsive layer contains a polymer,
The manufacturing method in any one of Claims 10-16 provided with the process of heat-processing the said photoresponsive layer at the temperature more than the glass transition temperature of the said polymer. 前記光応答性層は、前記光応答性成分としてアミノ型アゾベンセン系化合物を含有する、請求項１０〜１７のいずれかに記載の製造方法。   The said photoresponsive layer is a manufacturing method in any one of Claims 10-17 containing an amino type azobencene type compound as the said photoresponsive component. 光応答性層形成用の担体の製造方法であって、
支持体上に、表面の算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下の前記光応答性層形成用の下地層を形成する工程を備える、製造方法。 A method for producing a carrier for forming a photoresponsive layer, comprising:
A manufacturing method comprising a step of forming an underlayer for forming the photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 10 nm or less on a support. 微小物体が保持された固相体であって、
表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり、光応答性成分を含有する光応答性層と、
前記光応答性層に固定化された前記微小物体と、
を備える、固相体。 A solid body in which a minute object is held,
A photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component;
The micro object fixed to the photoresponsive layer;
A solid phase body. 微小物体が保持された固相体の製造方法であって、
表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層を備える光固定化用固相担体の前記光応答性層表面に、微小物体を光固定化する工程、
を備える、方法。 A method for producing a solid body in which a minute object is held,
A step of optically immobilizing a minute object on the surface of the photoresponsive layer of a solid phase carrier for photofixation comprising a photoresponsive layer having an arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component;
A method comprising: 微小物体と他の成分との相互作用の検出方法であって、
表面の算術平均粗さＲａが２ｎｍ以下であり光応答性成分を含有する光応答性層と、前記光応答性層に固定化された前記微小物体と、を備える固相体を用いる、方法。 A method for detecting an interaction between a minute object and another component,
A method of using a solid phase body comprising a photoresponsive layer having a surface arithmetic average roughness Ra of 2 nm or less and containing a photoresponsive component, and the micro object fixed to the photoresponsive layer. 前記微小物体は生体成分である、請求項２２に記載の方法。   The method according to claim 22, wherein the micro object is a biological component. 前記相互作用を光学的シグナルで検出する、請求項２２又は２３に記載の方法。   24. A method according to claim 22 or 23, wherein the interaction is detected with an optical signal.
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