JP2008159367A - Organic electroluminescent device, manufacturing method of organic electroluminescent device and electronic apparatus - Google Patents

Organic electroluminescent device, manufacturing method of organic electroluminescent device and electronic apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white organic EL device having high luminance, a long service life and excelling in reliability. <P>SOLUTION: This organic EL device is provided with: a functional layer 17 comprising two or more layers including a first luminescent layer 17C (yellow to red polymer luminescent layer) and a second luminescent layer 17D (blue low-molecular-weight luminescent layer), wherein the first luminescent layer 17C is formed by a wet film formation method, and the second luminescent layer 17D is formed by a dry film formation method; and a pair of electrodes 14 and 18 sandwiching the functional layer 17. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法並びに電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence device, a method for manufacturing an organic electroluminescence device, and an electronic apparatus.

近年、有機エレクトロルミネッセンス素子を画素として用いた有機エレクトロルミネッセンス装置の開発が進んでいる。有機エレクトロルミネッセンス素子は、高輝度、低消費電力で高速応答が可能であり、特に有機発光材料を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子は、有機化合物の多様性により多色化が容易であると考えられることから、フルカラーディスプレイへの応用が期待され、盛んに研究開発がなされている。以下、「エレクトロルミネッセンス」を「EL」と略記する。   In recent years, organic electroluminescence devices using organic electroluminescence elements as pixels have been developed. Organic electroluminescent devices are capable of high-speed response with high brightness and low power consumption. Especially, organic electroluminescent devices using organic light-emitting materials are considered to be easily multicolored due to the diversity of organic compounds. Therefore, it is expected to be applied to full-color displays, and research and development are actively conducted. Hereinafter, “electroluminescence” is abbreviated as “EL”.

フルカラーディスプレイを実現する方法としては、白色発光可能な有機EL素子とカラーフィルタとを組み合わせる方法が知られている。白色発光を実現する方法としては、2種類又は3種類の発光材料を1つの有機EL素子の中で同時に発光させる方法が知られている。例えば特許文献1では、青色系発光層と黄色〜赤色系発光層とを積層し、これらを同時に発光させることにより白色発光を実現している。   As a method for realizing a full-color display, a method of combining an organic EL element capable of emitting white light and a color filter is known. As a method for realizing white light emission, there is known a method in which two or three kinds of light emitting materials emit light simultaneously in one organic EL element. For example, in Patent Document 1, white light emission is realized by laminating a blue light emitting layer and a yellow to red light emitting layer and causing them to emit light simultaneously.

ここで、特許文献1の有機EL素子は、陽極と陰極との間に、正孔注入層、正孔輸送層、青色系発光層、黄色〜赤色系発光層及び電子輸送層を積層することにより作製されている。これらの層は、いずれも低分子材料によって形成されており、真空蒸着法等の乾式成膜法によって成膜されている。一般に、低分子発光材料は高分子発光材料よりも寿命が長いことが知られており、青色系発光層と黄色〜赤色系発光層とを低分子発光材料で形成することで、長寿命なディスプレイが実現できる。
特開2003−272857号公報
Here, the organic EL element of Patent Document 1 is formed by laminating a hole injection layer, a hole transport layer, a blue light emitting layer, a yellow to red light emitting layer, and an electron transport layer between an anode and a cathode. Have been made. Each of these layers is formed of a low molecular material, and is formed by a dry film forming method such as a vacuum evaporation method. In general, low-molecular light-emitting materials are known to have a longer lifetime than polymer light-emitting materials, and a long-life display can be achieved by forming a blue light-emitting layer and a yellow to red light-emitting layer with a low-molecular light-emitting material. Can be realized.
JP 2003-272857 A

しかしながら、正孔注入層、正孔輸送層、青色系発光層、黄色〜赤色系発光層、及び電子輸送層を乾式成膜法で成膜すると、下地の凹凸の影響によって段切れが生じ、歩留まりが低下するという問題があった。正孔注入層等の厚みは数nm〜数十nm程度と非常に薄く、また乾式成膜法では凹凸に対する良好なカバレッジ性が得られないため、下地に電極や配線に起因した凹凸が存在すると、凹凸部分に段切れが生じ、段切れ部分を介して陽極と陰極とがショートしてしまう場合があるからである。   However, when a hole injection layer, a hole transport layer, a blue light emitting layer, a yellow to red light emitting layer, and an electron transport layer are formed by a dry film forming method, a step breakage occurs due to the influence of the unevenness of the base, yield. There was a problem that decreased. The thickness of the hole injection layer, etc. is very thin, about several nm to several tens of nm, and the dry film formation method does not provide good coverage for the unevenness. This is because there is a case where a step occurs in the uneven portion, and the anode and the cathode are short-circuited through the step portion.

この問題を解決する手段として、正孔注入層、正孔輸送層、青色系発光層、黄色〜赤色系発光層、及び電子輸送層を湿式成膜法で形成することが考えられている。湿式成膜法は、液体材料を基板上に塗布し、液体材料中の固形分(機能性材料)を乾燥及び膜化することにより、薄膜を形成する方法である。この方法によれば、液体材料を塗布した際に下地の凹凸が平坦化され、切れ目のない薄膜を形成することができる。   As a means for solving this problem, it is considered to form a hole injection layer, a hole transport layer, a blue light emitting layer, a yellow to red light emitting layer, and an electron transport layer by a wet film forming method. The wet film forming method is a method of forming a thin film by applying a liquid material on a substrate and drying and forming a solid content (functional material) in the liquid material. According to this method, when the liquid material is applied, the unevenness of the base is flattened, and a continuous thin film can be formed.

しかしながら、湿式成膜法で発光層を形成すると、発光材料として高分子発光材料が必要となるため、発光材料の種類によっては短い寿命しか得られない場合があった。例えば、高分子青色系発光材料は低分子青色系発光材料よりも寿命の短いものしか得られていないため、高分子の黄色〜赤色系発光材料で寿命の長いものが得られたとしても、有機EL素子全体としては寿命の短いものとなってしまう。   However, when a light-emitting layer is formed by a wet film formation method, a polymer light-emitting material is required as a light-emitting material, so that only a short lifetime may be obtained depending on the type of the light-emitting material. For example, since a high molecular blue light emitting material has a shorter lifetime than a low molecular blue light emitting material, even if a high molecular yellow to red light emitting material with a long life is obtained, As a whole, the EL element has a short life.

また、青色系発光層と黄色〜赤色系発光層とを湿式成膜法で連続的に形成すると、青色系発光層上に塗布された黄色〜赤色系発光層の液体材料によって青色系発光層が再溶解されてしまうという問題もある。そのため、黄色〜赤色系発光層を形成する前に青色系発光層に対して不溶化処理を行う必要があるが、不溶化処理を行うと、工程が新たに追加される上、不溶化層によって有機EL素子の発光特性が影響を受ける場合がある。以上のような背景から、高輝度、長寿命な有機EL装置を容易に実現できる方法が求められていた。   Further, when the blue light emitting layer and the yellow to red light emitting layer are continuously formed by a wet film forming method, the blue light emitting layer is formed by the liquid material of the yellow to red light emitting layer applied on the blue light emitting layer. There is also a problem of being redissolved. Therefore, it is necessary to insolubilize the blue light emitting layer before forming the yellow to red light emitting layer. However, when the insolubilizing process is performed, a new process is added and the insolubilized layer causes the organic EL element. In some cases, the light emission characteristics of the above are affected. In view of the above background, there has been a demand for a method capable of easily realizing an organic EL device with high luminance and long life.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、高輝度、長寿命で且つ信頼性に優れた有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法を提供することを目的とする。また、このような有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることにより、信頼性が高く、発光特性に優れた電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an organic electroluminescence device having high luminance, a long lifetime, and excellent reliability, and a method for manufacturing the same. It is another object of the present invention to provide an electronic device with high reliability and excellent light emission characteristics by including such an organic electroluminescence device.

上記の課題を解決するため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、湿式成膜法により形成された第1発光層と前記第1発光層上に乾式成膜法により形成された第2発光層と、前記第1発光層及び前記第2発光層を含む2層以上の層からなる機能層と、前記機能層を挟持する第1電極及び第2電極からなる一対の電極とを備えることを特徴とする。この構成によれば、第1発光層によって基板表面の凹凸を平坦化できるため、第2発光層以降の層において段切れやショート等が発生することを防止することができる。また、一部の発光層のみを湿式成膜法で形成するため、湿式成膜法では十分な特性が得られない青色系発光層等においても十分な特性が得られ、全体として高輝度、長寿命な有機エレクトロルミネッセンス装置が提供できる。   In order to solve the above problems, an organic electroluminescence device of the present invention includes a first light emitting layer formed by a wet film forming method and a second light emitting layer formed on the first light emitting layer by a dry film forming method. A functional layer composed of two or more layers including the first light emitting layer and the second light emitting layer, and a pair of electrodes composed of a first electrode and a second electrode sandwiching the functional layer. To do. According to this configuration, the unevenness of the substrate surface can be flattened by the first light emitting layer, and therefore it is possible to prevent the occurrence of disconnection or short-circuit in the layers after the second light emitting layer. In addition, since only a part of the light emitting layer is formed by a wet film forming method, sufficient characteristics can be obtained even in a blue light emitting layer or the like, which cannot obtain sufficient characteristics by the wet film forming method. A long-life organic electroluminescence device can be provided.

本発明においては、前記第1発光層は黄色〜赤色系の発光色を有する黄色〜赤色系発光層であり、前記第2発光層は青色系の発光色を有する青色系発光層であることが望ましい。この構成によれば、高輝度、長寿命な有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。ここで「黄色〜赤色系」とは、黄色〜赤色の波長範囲に発光のピークを有するものをいい、「青色系」とは、青色の波長範囲に発光のピークを有するものをいう。前述のように高分子発光材料は低分子発光材料に比べて寿命が短いことが知れているが、黄色〜赤色系高分子発光材料については高輝度、長寿命なものが得られており、この発光材料を用いれば、湿式成膜法で形成した発光層であっても高輝度、長寿命な第1発光層を形成することができる。また、青色系低分子発光材料については、既に特許文献1に記載されているような高輝度、長寿命な発光材料が得られているため、このような発光材料を用いれば、高輝度、長寿命な第2発光層を形成することができる。したがって、これらの材料を組み合わせることで、全体として高輝度、長寿命な有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。   In the present invention, the first light emitting layer is a yellow to red light emitting layer having a yellow to red light emitting color, and the second light emitting layer is a blue light emitting layer having a blue light emitting color. desirable. According to this configuration, it is possible to provide an organic electroluminescence device with high luminance and long life. Here, “yellow to red” means that having an emission peak in the yellow to red wavelength range, and “blue” means that having an emission peak in the blue wavelength range. As described above, it is known that polymer light-emitting materials have a shorter lifetime than low-molecular light-emitting materials. However, yellow to red polymer light-emitting materials have a high luminance and a long life. When the light emitting material is used, the first light emitting layer with high luminance and long life can be formed even if the light emitting layer is formed by a wet film formation method. In addition, as for the blue-based low-molecular light-emitting material, a high-luminance and long-life light-emitting material as described in Patent Document 1 has already been obtained. A long-lived second light-emitting layer can be formed. Therefore, by combining these materials, an organic electroluminescence device having high brightness and a long life as a whole can be provided.

本発明においては、前記機能層から射出される光は白色系の光であることが望ましい。この構成によれば、高輝度、長寿命な白色系発光素子を提供することができる。ここで、「白色系」とは、赤、緑、青の3原色を含む色をいう。若干の色味を帯びている場合でも、人間の眼で見て白色と感じられる場合には、実質的に白色であるとして本発明に含まれるものとする。白色系発光素子とするためには、青色発光層と黄色発光層とを組み合わせれば良いが、青色系発光層と黄色〜赤色系発光層とを組み合わせても概ね白色の発光を得ることができる。白色系発光素子は、ディスプレイだけでなく、バックライト等の照明装置への適用も可能であり、特定の色光のみを発光する発光素子に比べて用途が広い。また、ディスプレイに適用した場合であっても、カラーフィルタと組み合わせることにより、赤、緑、青の各ドットで寿命を均一化することができるため、長期間の使用によって色付きが生じにくく、表示品質の高いディスプレイを提供することができる。   In the present invention, the light emitted from the functional layer is preferably white light. According to this configuration, it is possible to provide a white light emitting element with high luminance and long life. Here, “white” means a color including the three primary colors of red, green, and blue. Even if the color is slightly tinged, if it is white as seen by human eyes, it is assumed to be substantially white and included in the present invention. In order to obtain a white light emitting element, a blue light emitting layer and a yellow light emitting layer may be combined. However, even when a blue light emitting layer and a yellow to red light emitting layer are combined, white light emission can be obtained. . The white light-emitting element can be applied not only to a display but also to an illumination device such as a backlight, and has a wider application than a light-emitting element that emits only specific color light. Even when applied to a display, combining with a color filter makes it possible to equalize the life of each dot of red, green, and blue. High display can be provided.

なお、機能層には、第1発光層と第2発光層以外に、1又は2以上の発光層を設けても良い。この場合、発光層全体として白色系の発光が得られるようにすることが望ましい。例えば、第2発光層上に第3発光層を設けた場合、第1発光層を青色発光層、第2発光層を赤色発光層、第3発光層を緑色発光層とすることによって、発光層全体として白色の発光を得ることができる。この場合、第3発光層の位置は第2発光層上に限らず、第1発光層と第2発光層との間、或いは第1発光層の下に配置することができる。   In addition to the first light emitting layer and the second light emitting layer, one or more light emitting layers may be provided in the functional layer. In this case, it is desirable to obtain white light emission as the entire light emitting layer. For example, when the third light emitting layer is provided on the second light emitting layer, the first light emitting layer is a blue light emitting layer, the second light emitting layer is a red light emitting layer, and the third light emitting layer is a green light emitting layer. As a whole, white light emission can be obtained. In this case, the position of the third light emitting layer is not limited to the position on the second light emitting layer, and can be disposed between the first light emitting layer and the second light emitting layer or below the first light emitting layer.

本発明においては、前記機能層には前記第1発光層及び前記第2発光層以外の層が設けられており、前記機能層において前記第1発光層と前記第1電極との間に配置された層は湿式成膜法により形成されており、前記機能層において前記第2発光層と前記第2電極との間に配置された層は乾式成膜法により形成されていることが望ましい。この構成によれば、湿式成膜法と乾式成膜法の切り換えが1回で済むため、製造工程が容易になる。   In the present invention, the functional layer is provided with a layer other than the first light emitting layer and the second light emitting layer, and is disposed between the first light emitting layer and the first electrode in the functional layer. The layer is preferably formed by a wet film formation method, and the layer disposed between the second light emitting layer and the second electrode in the functional layer is preferably formed by a dry film formation method. According to this configuration, since the switching between the wet film forming method and the dry film forming method can be performed only once, the manufacturing process is facilitated.

本発明においては、前記第1発光層と前記第1電極との間に配置される層として正孔注入層及び正孔輸送層が設けられており、前記第2発光層と前記第2電極との間に配置される層として電子注入層及び電子輸送層が設けられていることが望ましい。この構成によれば、発光特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。   In the present invention, a hole injection layer and a hole transport layer are provided as a layer disposed between the first light emitting layer and the first electrode, and the second light emitting layer, the second electrode, It is desirable that an electron injection layer and an electron transport layer are provided as layers disposed between the two layers. According to this configuration, it is possible to provide an organic electroluminescence device having excellent light emission characteristics.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、一対の電極間に発光層を形成する工程を備え、前記発光層を形成する工程は、湿式成膜法により第1発光層を形成する工程と、前記第1発光層上に乾式成膜法により第2発光層を形成する工程とを含むことを特徴とする。この方法によれば、第1発光層によって基板表面の凹凸を平坦化できるため、第2発光層以降の層において段切れやショート等が発生することを防止することができる。また、一部の発光層のみを湿式成膜法で形成するため、湿式成膜法では十分な特性が得られない青色系等の発光層を乾式成膜法で形成することによって、全体として寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。   The manufacturing method of the organic electroluminescence device of the present invention includes a step of forming a light emitting layer between a pair of electrodes, and the step of forming the light emitting layer includes a step of forming a first light emitting layer by a wet film forming method, Forming a second light emitting layer on the first light emitting layer by a dry film forming method. According to this method, since the unevenness on the substrate surface can be flattened by the first light emitting layer, it is possible to prevent the occurrence of disconnection or short-circuit in the layers after the second light emitting layer. In addition, since only a part of the light-emitting layer is formed by a wet film-forming method, the entire lifetime is achieved by forming a blue-based light-emitting layer, etc., which cannot obtain sufficient characteristics by the wet film-forming method, by a dry film-forming method. A long organic electroluminescence device can be provided.

本発明においては、前記湿式成膜法として液滴吐出法が用いられ、前記乾式成膜法として真空蒸着法が用いられることが望ましい。この方法によれば、湿式成膜法として液滴吐出法を用いているため、材料の利用効率が高く、乾式成膜法として真空蒸着法を用いているため、スパッタ法等を用いる場合に比べて第1発光層へのダメージが少ない。したがって、低コストで発光特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス装置が提供できる。   In the present invention, it is desirable that a droplet discharge method is used as the wet film forming method, and a vacuum vapor deposition method is used as the dry film forming method. According to this method, since the droplet discharge method is used as the wet film formation method, the material utilization efficiency is high, and since the vacuum evaporation method is used as the dry film formation method, compared with the case where the sputtering method or the like is used. Less damage to the first light emitting layer. Therefore, it is possible to provide an organic electroluminescence device having excellent light emission characteristics at low cost.

本発明の電子機器は、前述した本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置又は前述した本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法により製造されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることを特徴とする。この構成によれば、信頼性が高く、発光特性に優れた電子機器を提供することができる。   The electronic apparatus of the present invention includes the organic electroluminescence device of the present invention described above or the organic electroluminescence device manufactured by the method of manufacturing the organic electroluminescence device of the present invention described above. According to this configuration, it is possible to provide an electronic device with high reliability and excellent light emission characteristics.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

[有機EL装置の構成]
図1は、本発明の有機EL装置の一実施形態の概略構成図である。有機EL装置1は、互いに対向する第1基板10及び第2基板20を備えている。第1基板10と第2基板20とは接着層40によって接着されている。第1基板10と第2基板20との間には図示略のギャップ材が設けられており、該ギャップ材によって第1基板10と第2基板20との間隔が一定の間隔に保持されている。
[Configuration of organic EL device]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an organic EL device according to the present invention. The organic EL device 1 includes a first substrate 10 and a second substrate 20 that face each other. The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded by an adhesive layer 40. A gap material (not shown) is provided between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is held at a constant interval by the gap material. .

第1基板10は、ガラス、石英、プラスチック等からなる基板本体10Aを基体としてなる。基板本体10Aの第2基板20側には、回路素子部15、画素電極(第1電極)14、隔壁層16、機能層17、対向電極(第2電極)18、補助電極50、第1保護膜19、緩衝層40及び第2保護膜41が設けられている。回路素子部15は、画素電極14を駆動する回路素子としての薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor; TFT)を含む1又は2層以上の層からなり、走査線11、信号線12、共通給電線13、スイッチング用TFT31、駆動用TFT32、保持容量cap等を含んで構成されている。本実施形態の場合、画素電極14は陽極であり、対向電極18は陰極であるが、画素電極14を陰極、対向電極18を陽極としても良い。   The first substrate 10 has a substrate body 10A made of glass, quartz, plastic or the like as a base. On the second substrate 20 side of the substrate body 10A, the circuit element portion 15, the pixel electrode (first electrode) 14, the partition layer 16, the functional layer 17, the counter electrode (second electrode) 18, the auxiliary electrode 50, and the first protection. A film 19, a buffer layer 40 and a second protective film 41 are provided. The circuit element unit 15 is composed of one or more layers including a thin film transistor (TFT) as a circuit element for driving the pixel electrode 14, and includes a scanning line 11, a signal line 12, a common power supply line 13, a switching element. For example, a driving TFT 32, a driving TFT 32, a storage capacitor cap, and the like. In the present embodiment, the pixel electrode 14 is an anode and the counter electrode 18 is a cathode. However, the pixel electrode 14 may be a cathode and the counter electrode 18 may be an anode.

基板本体10A上には、発光領域としての複数のドット領域Aがマトリクス状に配列されている。それぞれのドット領域Aには、画素電極14が配置されており、画素電極14の近傍には、走査線11、信号線12及び共通給電線13が配置されている。画素電極14は平面視矩形状に設けられており、画素電極14の短辺側の一辺に沿って走査線11が延在し、それと直交する2辺に沿って信号線12及び共通給電線13がそれぞれ延在している。なお、画素電極14の平面形状は、図に示す矩形の他に、円形、長円形など任意の形状が適用可能である。   On the substrate body 10A, a plurality of dot areas A as light emitting areas are arranged in a matrix. In each dot region A, a pixel electrode 14 is arranged, and in the vicinity of the pixel electrode 14, a scanning line 11, a signal line 12, and a common power supply line 13 are arranged. The pixel electrode 14 is provided in a rectangular shape in plan view, the scanning line 11 extends along one side of the short side of the pixel electrode 14, and the signal line 12 and the common power supply line 13 along two sides orthogonal to the scanning line 11. Are extended. The planar shape of the pixel electrode 14 can be any shape such as a circle or an oval other than the rectangle shown in the figure.

ドット領域Aには、走査線11を介して走査信号がゲート電極31gに供給されるスイッチング用TFT31と、スイッチング用TFT31を介して信号線12から供給される画像信号を保持する保持容量capと、保持容量capによって保持された画像信号がゲート電極32gに供給される駆動用TFT32と、駆動用TFT32を介して共通給電線13に電気的に接続したときに共通給電線13から駆動電流が流れ込む画素電極14と、画素電極14と対向電極18との間に挟み込まれる機能層17と、が設けられている。   In the dot region A, a switching TFT 31 in which a scanning signal is supplied to the gate electrode 31 g via the scanning line 11, a holding capacitor cap that holds an image signal supplied from the signal line 12 via the switching TFT 31, A driving TFT 32 in which an image signal held by the holding capacitor cap is supplied to the gate electrode 32g, and a pixel into which a driving current flows from the common feeding line 13 when electrically connected to the common feeding line 13 via the driving TFT 32 An electrode 14 and a functional layer 17 sandwiched between the pixel electrode 14 and the counter electrode 18 are provided.

機能層17は、画素電極14及び隔壁層16を覆って設けられている。機能層17は、黄色〜赤色系発光層である第1発光層17Cと、青色系発光層である第2発光層17Dとを含む少なくとも2層以上の層からなる。本実施形態の場合、機能層17は、正孔注入層17A、正孔輸送層17B、第1発光層17C、第2発光層17D、電子輸送層17E及び電子注入層17Fを備えている。   The functional layer 17 is provided so as to cover the pixel electrode 14 and the partition wall layer 16. The functional layer 17 includes at least two layers including a first light emitting layer 17C that is a yellow to red light emitting layer and a second light emitting layer 17D that is a blue light emitting layer. In the case of this embodiment, the functional layer 17 includes a hole injection layer 17A, a hole transport layer 17B, a first light emitting layer 17C, a second light emitting layer 17D, an electron transport layer 17E, and an electron injection layer 17F.

正孔注入層17Aとしては、アリールアミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポリアニリン誘導体+有機酸、ポリチオフェン誘導体+ポリマー酸等が用いられる。特に、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物(PEDOT/PSS)が好適である。   As the hole injection layer 17A, an arylamine derivative, a phthalocyanine derivative, a polyaniline derivative + an organic acid, a polythiophene derivative + a polymer acid, or the like is used. In particular, a mixture (PEDOT / PSS) of polyethylene dioxythiophene and polystyrene sulfonic acid is suitable.

正孔輸送層17Bとしては、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリメチルフェニルシランなどのポリシラン系などの高分子材料が用いられる。   As the hole transport layer 17B, a polymer material such as polyfluorene derivative, polyparaphenylene vinylene derivative, polyparaphenylene derivative, polyvinyl carbazole, polythiophene derivative, polyaniline derivative, or polymethylphenylsilane is used.

第1発光層17Cとしては、黄色〜赤色(例えば、540nm〜700nm)の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子材料が用いられる。具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素等の低分子材料をドープして用いることもできる。黄色〜赤色系の高分子発光材料に関しては、低分子材料と同等の発光輝度及び発光寿命を有するものが得られており、このような高分子発光材料を用いることにより、高輝度、長寿妙な黄色〜赤色系の発光層を実現することができる。   As the first light emitting layer 17C, a known polymer material capable of emitting yellow to red (for example, 540 to 700 nm) fluorescence or phosphorescence is used. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used. Further, these polymer materials can be used by doping with a low molecular material such as a perylene dye. Regarding yellow to red polymer light-emitting materials, those having a light emission luminance and a light emission lifetime equivalent to those of low-molecular materials have been obtained. By using such a polymer light-emitting material, high luminance and longevity are obtained. A yellow to red light emitting layer can be realized.

第2発光層17Dとしては、青色(例えば、400nm〜540nm)の蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の低分子材料が用いられる。具体的には、アントラセン誘導体、カルバゾール誘導体、スチリルアミン誘導体等からなるホスト材料に、発光ドーパントとして、スチリルアミン、アミン置換スチリル化合物、縮合芳香族環含有化合物等を混合したものが好適に用いられる。特に、特許文献1で開示されているような低分子発光材料を好適に用いることができ、これにより、高輝度化、長寿命化を達成することができる。なお、第1発光層17Cと第2発光層17Dとは、一体となって白色系発光層を構成し、これにより機能層17から白色の光が射出されるようになっている。   As the second light emitting layer 17D, a known low molecular material capable of emitting blue (for example, 400 nm to 540 nm) fluorescence or phosphorescence is used. Specifically, a mixture of a host material made of an anthracene derivative, a carbazole derivative, a styrylamine derivative, or the like with a styrylamine, an amine-substituted styryl compound, a condensed aromatic ring-containing compound, or the like as a light emitting dopant is preferably used. In particular, a low-molecular light-emitting material as disclosed in Patent Document 1 can be suitably used, whereby high brightness and long life can be achieved. Note that the first light emitting layer 17C and the second light emitting layer 17D integrally form a white light emitting layer, whereby white light is emitted from the functional layer 17.

電子輸送層17Eとしては、8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体とその金属錯体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体などの低分子材料が好適に用いられる。   As the electron transport layer 17E, 8-hydroxyquinoline or its derivative and its metal complex, triazole derivative, oxazole derivative, oxadiazole derivative, fluorenone derivative, anthraquinodimethane derivative, anthrone derivative, diphenylquinone derivative, thiopyran dioxide Low molecular weight materials such as derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, and distyrylpyrazine derivatives are preferably used.

電子注入層17Fとしては、リチウムやカルシウム等の仕事関数の小さな金属のほか、アルカリ金属のフッ化物、酸化物、もしくはアルカリ土類金属のフッ化物または酸化物を用いることができる。   As the electron injection layer 17F, a metal having a small work function such as lithium or calcium, an alkali metal fluoride, an oxide, or an alkaline earth metal fluoride or oxide can be used.

本実施形態の場合、正孔注入層17A、正孔輸送層17B及び第1発光層17Cは高分子材料によって形成されている。これらの層は、スピンコート法、インクジェット法(液滴吐出法)等の湿式成膜法により成膜されている。一方、第2発光層17D、電子輸送層17E及び電子注入層17Fは低分子材料によって形成されている。これらの層は、真空蒸着法等の乾式成膜法により成膜されている。   In the case of this embodiment, the hole injection layer 17A, the hole transport layer 17B, and the first light emitting layer 17C are formed of a polymer material. These layers are formed by a wet film forming method such as a spin coating method or an ink jet method (droplet discharge method). On the other hand, the second light emitting layer 17D, the electron transport layer 17E, and the electron injection layer 17F are made of a low molecular material. These layers are formed by a dry film forming method such as a vacuum evaporation method.

隔壁層16は、無機或いは有機の絶縁材料からなり、画素電極14(ドット領域A)を区画するように平面視格子状に設けられている。隔壁層16は画素電極14上に開口部Hを備えており、隔壁層16の開口部Hの底面に画素電極14の一部が露出している。機能層17は、画素電極14上に配置された部分が発光に寄与し、隔壁層16上に配置された部分は発光に寄与しない。このため、機能層17から光が射出される領域(発光領域)は、隔壁層16の開口部Hによって規定される。   The partition layer 16 is made of an inorganic or organic insulating material, and is provided in a lattice shape in plan view so as to partition the pixel electrode 14 (dot region A). The partition layer 16 includes an opening H on the pixel electrode 14, and a part of the pixel electrode 14 is exposed on the bottom surface of the opening H of the partition layer 16. In the functional layer 17, the portion disposed on the pixel electrode 14 contributes to light emission, and the portion disposed on the partition wall layer 16 does not contribute to light emission. For this reason, the region (light emitting region) where light is emitted from the functional layer 17 is defined by the opening H of the partition wall layer 16.

隔壁層16の表面には、開口部Hの内壁面を覆って機能層17が設けられている。また、機能層17上には、開口部Hによって形成された凹部の表面を覆って対向電極18が設けられている。対向電極18は、マグネシウム(Mg)、リチウム(Li)、カルシウム(Ca)等を含む材料によって形成されている。好ましくは、MgAgからなる薄膜の透光性電極が好適に採用されるが、この他にも、MgAgAl電極、LiAl電極、LiFAl電極等を用いることもできる。また、これらの金属薄膜とITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電材料を積層した膜を対向電極18とすることもできる。対向電極18は、マトリクス状に配置されたドット領域Aを覆って第1基板10の略全面に設けられており、各画素電極14に共通の共通電極として機能する。   A functional layer 17 is provided on the surface of the partition wall layer 16 so as to cover the inner wall surface of the opening H. A counter electrode 18 is provided on the functional layer 17 so as to cover the surface of the recess formed by the opening H. The counter electrode 18 is formed of a material containing magnesium (Mg), lithium (Li), calcium (Ca) or the like. Preferably, a thin film translucent electrode made of MgAg is preferably employed, but other than this, an MgAgAl electrode, a LiAl electrode, a LiFAl electrode, or the like can also be used. A film in which these metal thin films and a light-transmitting conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) are laminated can be used as the counter electrode 18. The counter electrode 18 is provided on substantially the entire surface of the first substrate 10 so as to cover the dot regions A arranged in a matrix, and functions as a common electrode common to the pixel electrodes 14.

対向電極18の表面には、対向電極18を覆って保護膜19が設けられている。保護膜19は、対向電極18の表面全面を覆って第1基板10の略全面に設けられており、大気中に存在する酸素や水分から対向電極18(有機EL素子)を遮断する機能を有している。保護膜19は、透明性、密着性、耐水性等の面から、珪素酸窒化物等の無機化合物によって形成されていることが望ましい。保護膜19の表面には、必要に応じて、緩衝層、ガスバリア層(第2保護膜)を含む封止層が設けられる。   A protective film 19 is provided on the surface of the counter electrode 18 so as to cover the counter electrode 18. The protective film 19 is provided on substantially the entire surface of the first substrate 10 so as to cover the entire surface of the counter electrode 18 and has a function of blocking the counter electrode 18 (organic EL element) from oxygen and moisture present in the atmosphere. is doing. The protective film 19 is desirably formed of an inorganic compound such as silicon oxynitride in terms of transparency, adhesion, water resistance, and the like. A sealing layer including a buffer layer and a gas barrier layer (second protective film) is provided on the surface of the protective film 19 as necessary.

第1基板10上には、第2基板20が設けられている。第2基板20は、ガラス、石英、プラスチック等からなる基板本体20Aを基体としてなる。基板本体20Aの第1基板10側には、カラーフィルタ21が設けられている。カラーフィルタ21は、R(赤),G(緑),B(青)の3原色を所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列で配列することにより形成されている。カラーフィルタ21の1つの色要素は、画像を形成するための最小単位であるドット領域Aの1つに対応して設けられている。そして、R,G,Bに対応する3つの色要素が1つのユニットとなって1つの画素が形成されている。   A second substrate 20 is provided on the first substrate 10. The second substrate 20 has a substrate body 20A made of glass, quartz, plastic or the like as a base. A color filter 21 is provided on the first substrate 10 side of the substrate body 20A. The color filter 21 is formed by arranging three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern, for example, a stripe arrangement, a delta arrangement, and a mosaic arrangement. One color element of the color filter 21 is provided corresponding to one of the dot areas A that is the minimum unit for forming an image. Then, three color elements corresponding to R, G, and B form one unit to form one pixel.

第1基板10及び第2基板20の間には、接着層40が設けられている。接着層40としては、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等が用いられ、特に、熱硬化樹脂の1種であるエポキシ樹脂が好ましく用いられる。第2基板20は、接着層40を介して第1基板10に接着されている。第1基板10の有機EL素子が形成された面は、接着層40及び第2基板20によって封止されており、水や酸素の侵入を防いで有機EL素子の酸化を防止するようになっている。   An adhesive layer 40 is provided between the first substrate 10 and the second substrate 20. As the adhesive layer 40, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or the like is used, and in particular, an epoxy resin that is one kind of thermosetting resin is preferably used. The second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 via the adhesive layer 40. The surface of the first substrate 10 on which the organic EL element is formed is sealed by the adhesive layer 40 and the second substrate 20, preventing water and oxygen from entering and preventing the organic EL element from being oxidized. Yes.

上記構成の有機EL装置1では、走査線11が駆動されてスイッチング用TFT31がオンになると、そのときの信号線12の電位が保持容量capに保持され、この保持容量capの状態に応じて駆動用TFT32の導通状態が決まる。また、駆動用TFT32のチャネルを介して共通給電線13から画素電極14に電流が流れ、さらに機能層17を通じて対向電極18に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて機能層17(発光層)が発光する。機能層17から対向電極18側に射出された光は、カラーフィルタ21及び基板本体20Aを透過して外部に射出されると共に、機能層17から基板本体10A側に発した光が、画素電極14又は画素電極14の下側に設けられた図示略の反射膜によって反射され、その光がカラーフィルタ21及び基板本体20Aを透過して外部に射出される(トップエミッション型)。   In the organic EL device 1 having the above configuration, when the scanning line 11 is driven and the switching TFT 31 is turned on, the potential of the signal line 12 at that time is held in the holding capacitor cap and is driven according to the state of the holding capacitor cap. The conduction state of the TFT 32 for use is determined. Further, a current flows from the common power supply line 13 to the pixel electrode 14 through the channel of the driving TFT 32, and further a current flows to the counter electrode 18 through the functional layer 17. The functional layer 17 (light emitting layer) emits light according to the amount of current at this time. Light emitted from the functional layer 17 to the counter electrode 18 side is transmitted through the color filter 21 and the substrate body 20A and emitted to the outside, and light emitted from the functional layer 17 to the substrate body 10A side is emitted from the pixel electrode 14. Alternatively, the light is reflected by a reflection film (not shown) provided on the lower side of the pixel electrode 14, and the light passes through the color filter 21 and the substrate body 20A and is emitted to the outside (top emission type).

[有機EL装置の製造方法]
次に、図2〜図10を用いて有機EL装置1の製造方法を説明する。なお、図2〜図10では、説明に必要な層のみを図示し、回路素子部15、接着層40等の付帯的な層の図示は省略する。
[Method for Manufacturing Organic EL Device]
Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 will be described with reference to FIGS. 2 to 10, only the layers necessary for the description are shown, and illustrations of incidental layers such as the circuit element portion 15 and the adhesive layer 40 are omitted.

まず、図2に示すように、画素電極14が形成された基体10A上に隔壁層16を形成する。隔壁層16は、基体10A上にアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁材料を成膜し、フォトリソグラフィ技術を用いて、画素電極14上に開口部Hを形成することにより形成される。   First, as shown in FIG. 2, the partition layer 16 is formed on the base 10A on which the pixel electrode 14 is formed. The partition layer 16 is formed by forming an insulating material such as an acrylic resin or a polyimide resin on the base 10A and forming the opening H on the pixel electrode 14 using a photolithography technique.

次に、図3に示すように、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッド51に正孔注入層17Aの形成材料(正孔注入材料)を含む液体材料50Aを充填し、液滴吐出ヘッド51と基体10Aとを相対移動しながら、液滴吐出ヘッド51から1滴当たりの液量が制御された液体材料50Aを隔壁層16の開口部Hに吐出する。そして、液体材料50A中の溶媒を乾燥することにより、開口部Hに露出した画素電極14上に正孔注入材料の薄膜(正孔注入層)を形成する。   Next, as shown in FIG. 3, the droplet discharge head 51 of the droplet discharge apparatus is filled with a liquid material 50A containing a material for forming the hole injection layer 17A (hole injection material). While relatively moving with respect to the base 10 </ b> A, the liquid material 50 </ b> A whose liquid amount per droplet is controlled is discharged from the droplet discharge head 51 to the opening H of the partition wall layer 16. Then, by drying the solvent in the liquid material 50A, a thin film (hole injection layer) of the hole injection material is formed on the pixel electrode 14 exposed in the opening H.

正孔注入材料としては、例えばPEDOT/PSSが用いられる。当該材料を含む液体材料50Aは、液滴吐出法で基体10A上に塗布した後、大気中にてホットプレートで200℃、10分加熱処理される。正孔注入層は、走査線、信号線、共通給電線及び画素電極14等により形成される基体表面の凹凸を平坦化し、段切れのない高品質な薄膜を形成する。正孔注入層の膜厚は50nm程度である。   For example, PEDOT / PSS is used as the hole injection material. The liquid material 50A containing the material is applied on the substrate 10A by a droplet discharge method, and then heated at 200 ° C. for 10 minutes in a hot plate in the atmosphere. The hole injection layer flattens the unevenness of the substrate surface formed by the scanning lines, signal lines, common power supply lines, pixel electrodes 14 and the like, and forms a high-quality thin film without any breaks. The thickness of the hole injection layer is about 50 nm.

次に、図4に示すように、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッド53に正孔輸送層17Bの形成材料(正孔輸送材料)を含む液体材料50Bを充填し、液滴吐出ヘッド53と基体10Aとを相対移動しながら、液滴吐出ヘッド53から1滴当たりの液量が制御された液体材料50Bを隔壁層16の開口部Hに吐出する。そして、液体材料50B中の溶媒を乾燥することにより、開口部Hに露出した正孔注入層17A上に正孔輸送材料の薄膜(正孔輸送層)を形成する。   Next, as shown in FIG. 4, the droplet discharge head 53 of the droplet discharge apparatus is filled with a liquid material 50B containing a material for forming the hole transport layer 17B (hole transport material). While relatively moving with respect to the base 10 </ b> A, the liquid material 50 </ b> B in which the amount of liquid per droplet is controlled is discharged from the droplet discharge head 53 to the opening H of the partition wall layer 16. And the thin film (hole transport layer) of a hole transport material is formed on the hole injection layer 17A exposed to the opening H by drying the solvent in the liquid material 50B.

正孔輸送材料としては、例えば下式(1)に示すTFBが用いられる。当該材料を含む液体材料50Bは、液滴吐出法で基体10A上に塗布した後、不活性ガス雰囲気中にてホットプレートで200℃、60分加熱処理される。そして、キシレン溶媒により、可溶層を洗浄し、不溶層のみを残す。この不溶層が正孔輸送層となる。正孔輸送層は、走査線、信号線、共通給電線及び画素電極14等により形成される基体表面の凹凸を平坦化し、段切れのない高品質な薄膜を形成する。正孔輸送層の膜厚は10nm程度である。   As the hole transport material, for example, TFB shown in the following formula (1) is used. The liquid material 50B containing the material is applied onto the substrate 10A by a droplet discharge method, and then heated at 200 ° C. for 60 minutes in a hot plate in an inert gas atmosphere. Then, the soluble layer is washed with a xylene solvent, leaving only the insoluble layer. This insoluble layer becomes a hole transport layer. The hole transport layer flattens the unevenness of the substrate surface formed by the scanning lines, signal lines, common power supply lines, pixel electrodes 14 and the like, and forms a high-quality thin film without step breakage. The film thickness of the hole transport layer is about 10 nm.

Figure 2008159367
Figure 2008159367

次に、図5に示すように、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッド55に第1発光層17Cの形成材料(第1発光材料)を含む液体材料50Cを充填し、液滴吐出ヘッド55と基体10Aとを相対移動しながら、液滴吐出ヘッド55から1滴当たりの液量が制御された液体材料50Cを隔壁層16の開口部Hに吐出する。そして、液体材料50C中の溶媒を乾燥することにより、開口部Hに露出した正孔輸送層17B上に第1発光材料の薄膜(第1発光層)を形成する。   Next, as shown in FIG. 5, the droplet discharge head 55 of the droplet discharge apparatus is filled with a liquid material 50 </ b> C containing the first light emitting layer 17 </ b> C forming material (first light emitting material). While relatively moving with respect to the base 10 </ b> A, the liquid material 50 </ b> C whose liquid amount per droplet is controlled is discharged from the droplet discharge head 55 to the opening H of the partition wall layer 16. And the thin film (1st light emitting layer) of a 1st light emitting material is formed on the positive hole transport layer 17B exposed to the opening H by drying the solvent in the liquid material 50C.

第1発光材料としては、例えば下式(2)に示すMEH−CN−PPVが用いられる。当該材料を含む液体材料50Cは、液滴吐出法で基体10A上に塗布した後、不活性ガス雰囲気中にてホットプレートで130°、60分加熱処理される。第1発光層は、走査線、信号線、共通給電線及び画素電極14等により形成される基体表面の凹凸を平坦化し、段切れのない高品質な薄膜を形成する。第1発光層の膜厚は20nm程度である。   As the first light emitting material, for example, MEH-CN-PPV represented by the following formula (2) is used. The liquid material 50C containing the material is applied onto the substrate 10A by a droplet discharge method, and then heated at 130 ° for 60 minutes in a hot plate in an inert gas atmosphere. The first light emitting layer flattens the unevenness of the substrate surface formed by the scanning lines, signal lines, common power supply lines, pixel electrodes 14 and the like, and forms a high-quality thin film without step breakage. The film thickness of the first light emitting layer is about 20 nm.

Figure 2008159367
Figure 2008159367

次に、図6に示すように、真空蒸着法により、隔壁層16及び第1発光層17Cの全面に第2発光層17Dを形成する。第2発光層17Dとしては、例えば4,4′―ビス(2,2′―ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)+ペリレンが用いられる。この発光材料は、高輝度、長寿命な青色系発光層を形成できる材料として公知の材料である。当該材料は、共蒸着することによりDPVBiとペリレンの共蒸着膜を形成する。第2発光層17Dは、隔壁16の上面部及び側面部を覆い、さらに隔壁層16の開口部Hに露出した第1発光層17Cを覆って基体全体に形成される。このとき、開口部H内の第1発光層17Cの表面は平坦に形成されているので、第2発光層17Dの表面には段切れ等は発生しない。したがって、平坦で均一な第2発光層17Dの薄膜が形成される。第2発光層17Dの膜厚は20nm程度である。   Next, as shown in FIG. 6, the second light emitting layer 17D is formed on the entire surface of the partition layer 16 and the first light emitting layer 17C by a vacuum deposition method. For example, 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) + perylene is used as the second light emitting layer 17D. This light-emitting material is a known material that can form a blue light-emitting layer with high luminance and long life. The material is co-evaporated to form a co-deposited film of DPVBi and perylene. The second light emitting layer 17 </ b> D covers the upper surface portion and the side surface portion of the partition wall 16, and further covers the first light emitting layer 17 </ b> C exposed at the opening H of the partition wall layer 16, and is formed on the entire substrate. At this time, since the surface of the first light emitting layer 17C in the opening H is formed flat, no disconnection or the like occurs on the surface of the second light emitting layer 17D. Accordingly, a flat and uniform thin film of the second light emitting layer 17D is formed. The film thickness of the second light emitting layer 17D is about 20 nm.

次に、図7に示すように、真空蒸着法により、第2発光層17Dの全面に電子輸送層17Eを形成する。電子輸送層17Eとしては、例えばAlqが用いられる。電子輸送層17Eは、隔壁16の上面部及び側面部を覆い、さらに隔壁層16の開口部Hによって形成された凹部の内面を覆って基体全体に形成される。このとき、開口部H内の第2発光層17Dの表面は平坦に形成されているので、電子輸送層17Eの表面には段切れ等は発生しない。したがって、平坦で均一な電子輸送層17Eの薄膜が形成される。電子輸送層17Eの膜厚は数nm程度である。 Next, as shown in FIG. 7, an electron transport layer 17E is formed on the entire surface of the second light emitting layer 17D by vacuum evaporation. For example, Alq 3 is used as the electron transport layer 17E. The electron transport layer 17 </ b> E covers the upper surface portion and the side surface portion of the partition wall 16, and further covers the inner surface of the recess formed by the opening H of the partition wall layer 16, and is formed on the entire substrate. At this time, since the surface of the second light emitting layer 17D in the opening H is formed flat, no stepping or the like occurs on the surface of the electron transport layer 17E. Accordingly, a flat and uniform thin film of the electron transport layer 17E is formed. The film thickness of the electron transport layer 17E is about several nm.

次に、図8に示すように、真空蒸着法により、電子輸送層17Eの全面に電子注入層17Fを形成する。電子注入層としては、例えばLiFが用いられる。電子注入層17Fは、隔壁16の上面部及び側面部を覆い、さらに隔壁層16の開口部Hによって形成された凹部の内面を覆って基体全体に形成される。このとき、開口部H内の電子輸送層17Eの表面は平坦に形成されているので、電子注入層17Fの表面には段切れ等は発生しない。したがって、平坦で均一な電子注入層17Fの薄膜が形成される。電子注入層17Fの膜厚は1nm程度である。   Next, as shown in FIG. 8, an electron injection layer 17F is formed on the entire surface of the electron transport layer 17E by vacuum deposition. For example, LiF is used as the electron injection layer. The electron injection layer 17 </ b> F covers the upper surface portion and the side surface portion of the partition wall 16, and further covers the inner surface of the recess formed by the opening H of the partition wall layer 16, and is formed on the entire substrate. At this time, since the surface of the electron transport layer 17E in the opening H is formed flat, no stepping or the like occurs on the surface of the electron injection layer 17F. Accordingly, a flat and uniform thin film of the electron injection layer 17F is formed. The thickness of the electron injection layer 17F is about 1 nm.

次に、図9に示すように、真空蒸着法により、電子注入層17Fの全面に対向電極18を形成する。対向電極18としては、例えばAlが用いられる。対向電極18は、隔壁16の上面部及び側面部を覆い、さらに隔壁層16の開口部Hによって形成された凹部の内面を覆って基体全体に形成される。このとき、開口部H内の電子注入層18の表面は平坦に形成されているので、対向電極18の表面には段切れ等は発生しない。したがって、平坦で均一な対向電極18の薄膜が形成される。対向電極18の膜厚は200nm程度である。   Next, as shown in FIG. 9, the counter electrode 18 is formed on the entire surface of the electron injection layer 17F by vacuum deposition. For example, Al is used as the counter electrode 18. The counter electrode 18 is formed on the entire substrate so as to cover the upper surface portion and the side surface portion of the partition wall 16 and further cover the inner surface of the recess formed by the opening H of the partition wall layer 16. At this time, since the surface of the electron injection layer 18 in the opening H is formed flat, no stepping or the like occurs on the surface of the counter electrode 18. Accordingly, a flat and uniform thin film of the counter electrode 18 is formed. The thickness of the counter electrode 18 is about 200 nm.

続いて、対向電極18の全面に保護膜19を形成し、第1基板10を完成する。そして、図10に示すように、接着層を介して第1基板10上に第2基板20を接着する。接着層及び第2基板20は、保護膜19と共に有機EL素子を封止する封止手段として機能する。以上により、有機EL装置1が完成する。   Subsequently, a protective film 19 is formed on the entire surface of the counter electrode 18 to complete the first substrate 10. And as shown in FIG. 10, the 2nd board | substrate 20 is adhere | attached on the 1st board | substrate 10 through an adhesive layer. The adhesive layer and the second substrate 20 function as a sealing unit that seals the organic EL element together with the protective film 19. Thus, the organic EL device 1 is completed.

以上説明したように、本実施形態の有機EL装置1によれば、第1発光層17Cと第2発光層17Dとを、いずれも実績のある発光材料によって形成したため、高輝度、長寿命な白色発光を実現することができる。また、第1発光層17Cを湿式成膜法により形成したため、第1発光層17Cによって基体表面の凹凸を平坦化することができ、第2発光層17D以降の層において段切れやショート等が発生することを防止でき、信頼性の高い有機EL装置を提供できる。また、一部の発光層のみを湿式成膜法で形成するため、湿式成膜法では十分な特性が得られない青色系発光層17Dにおいても十分な特性が得られ、全体として高輝度、長寿命な有機EL装置が提供できる。   As described above, according to the organic EL device 1 of the present embodiment, the first light-emitting layer 17C and the second light-emitting layer 17D are both made of a light-emitting material with a proven track record. Light emission can be realized. In addition, since the first light emitting layer 17C is formed by a wet film forming method, the unevenness on the surface of the substrate can be flattened by the first light emitting layer 17C, and step breaks or shorts occur in the layers after the second light emitting layer 17D. Thus, a highly reliable organic EL device can be provided. In addition, since only a part of the light emitting layer is formed by the wet film forming method, sufficient characteristics can be obtained even in the blue light emitting layer 17D which cannot obtain sufficient characteristics by the wet film forming method. A long-life organic EL device can be provided.

また、本実施形態では、第1発光層17Cと画素電極14との間に配置される正孔注入層17A及び正孔輸送層17Bを湿式成膜法により形成し、第2発光層17Dと対向電極18との間に配置される電子輸送層17E及び電子注入層17Fを乾式成膜法により形成しているため、湿式成膜法と乾式成膜法の切り換えが1回で済み、製造工程が容易になる。また、湿式成膜法として液滴吐出法を用いているため、材料の利用効率が高く、乾式成膜法として真空蒸着法を用いているため、スパッタ法等を用いる場合に比べて第1発光層17Cへのダメージが少ない。したがって、低コストで発光特性に優れた有機EL装置が提供できる。   Further, in the present embodiment, the hole injection layer 17A and the hole transport layer 17B disposed between the first light emitting layer 17C and the pixel electrode 14 are formed by a wet film forming method and face the second light emitting layer 17D. Since the electron transport layer 17E and the electron injection layer 17F disposed between the electrode 18 and the electrode 18 are formed by a dry film formation method, switching between the wet film formation method and the dry film formation method can be performed only once, and the manufacturing process is completed. It becomes easy. In addition, since the droplet discharge method is used as the wet film formation method, the use efficiency of the material is high, and since the vacuum evaporation method is used as the dry film formation method, the first light emission is performed as compared with the case where the sputtering method or the like is used. There is little damage to the layer 17C. Therefore, it is possible to provide an organic EL device having excellent light emission characteristics at low cost.

なお、本実施形態では、発光層として第1発光層17Cと第2発光層17Dを用いたが、発光層の数は2層に限らず、3層以上としても良い。この場合、発光層全体として白色系の発光が得られるようにすれば良い。例えば、第2発光層17D上に第3発光層を設けた場合、第1発光層17Cを青色発光層、第2発光層17Dを赤色発光層、第3発光層を緑色発光層とすることによって、発光層全体として白色の発光を得ることができる。この場合、第3発光層の位置は第2発光層17D上に限らず、第1発光層17Cと第2発光層17Dとの間、或いは画素電極14と第1発光層17Cとの間に配置することができる。   In the present embodiment, the first light emitting layer 17C and the second light emitting layer 17D are used as the light emitting layer, but the number of light emitting layers is not limited to two, and may be three or more. In this case, white light emission may be obtained as the entire light emitting layer. For example, when the third light emitting layer is provided on the second light emitting layer 17D, the first light emitting layer 17C is a blue light emitting layer, the second light emitting layer 17D is a red light emitting layer, and the third light emitting layer is a green light emitting layer. As a whole, white light emission can be obtained as the light emitting layer. In this case, the position of the third light emitting layer is not limited to the position on the second light emitting layer 17D, but is disposed between the first light emitting layer 17C and the second light emitting layer 17D or between the pixel electrode 14 and the first light emitting layer 17C. can do.

[電子機器]
次に、図11を用いて、本発明の有機EL装置を備えた電子機器の実施形態について説明する。図11は、本発明の有機EL装置の一例である図1の有機EL装置を映像モニタの表示部に適用した例についての概略構成図である。同図に示す映像モニタ1200は、先の実施形態の有機EL装置を備えた表示部1201と、筐体1202と、スピーカ1203等を備えている。上記実施形態の有機EL装置は、上記映像モニタに限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、携帯電話機、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。かかる構成とすることで、信頼性が高く、発光特性に優れた電子機器を提供することができる。
[Electronics]
Next, an embodiment of an electronic apparatus provided with the organic EL device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic configuration diagram of an example in which the organic EL device of FIG. 1 which is an example of the organic EL device of the present invention is applied to a display unit of a video monitor. A video monitor 1200 shown in the figure includes a display unit 1201 including the organic EL device of the previous embodiment, a housing 1202, a speaker 1203, and the like. The organic EL device of the embodiment is not limited to the video monitor, but is an electronic book, a projector, a personal computer, a digital still camera, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, and a calculator. It can be suitably used as an image display means for a word processor, a workstation, a video phone, a POS terminal, a mobile phone, a device equipped with a touch panel, and the like. With such a structure, an electronic device with high reliability and excellent light emission characteristics can be provided.

有機EL装置の一実施形態の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an organic EL device. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 同有機EL装置の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the organic EL apparatus. 電子機器の一例である映像モニタの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the video monitor which is an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL装置、14…画素電極(第1電極)、17…機能層、17A…正孔注入層、17B…正孔輸送層、17C…第1発光層、17D…第2発光層、17E…電子輸送層、17F…電子注入層、18…対向電極(第2電極)、1200…映像モニタ(電子機器) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL device, 14 ... Pixel electrode (1st electrode), 17 ... Functional layer, 17A ... Hole injection layer, 17B ... Hole transport layer, 17C ... 1st light emitting layer, 17D ... 2nd light emitting layer, 17E ... Electron transport layer, 17F ... Electron injection layer, 18 ... Counter electrode (second electrode), 1200 ... Video monitor (electronic equipment)

Claims (8)

湿式成膜法により形成された第1発光層と
前記第1発光層上に乾式成膜法により形成された第2発光層と、
前記第1発光層及び前記第2発光層を含む2層以上の層からなる機能層と、
前記機能層を挟持する第1電極及び第2電極からなる一対の電極とを備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
A first light emitting layer formed by a wet film forming method, a second light emitting layer formed on the first light emitting layer by a dry film forming method,
A functional layer composed of two or more layers including the first light emitting layer and the second light emitting layer;
An organic electroluminescence device comprising: a pair of electrodes including a first electrode and a second electrode that sandwich the functional layer.
前記第1発光層は黄色〜赤色系の発光色を有する黄色〜赤色系発光層であり、
前記第2発光層は青色系の発光色を有する青色系発光層であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The first light emitting layer is a yellow to red light emitting layer having a yellow to red light emitting color,
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the second light emitting layer is a blue light emitting layer having a blue light emitting color.
前記機能層から射出される光は白色系の光であることを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 2, wherein the light emitted from the functional layer is white light. 前記機能層には前記第1発光層及び前記第2発光層以外の層が設けられており、
前記機能層において前記第1発光層と前記第1電極との間に配置された層は湿式成膜法により形成されており、
前記機能層において前記第2発光層と前記第2電極との間に配置された層は乾式成膜法により形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかの項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The functional layer is provided with a layer other than the first light emitting layer and the second light emitting layer,
The layer disposed between the first light emitting layer and the first electrode in the functional layer is formed by a wet film formation method,
The layer disposed between the second light emitting layer and the second electrode in the functional layer is formed by a dry film forming method. Organic electroluminescence device.
前記第1発光層と前記第1電極との間に配置される層として正孔注入層及び正孔輸送層が設けられており、
前記第2発光層と前記第2電極との間に配置される層として電子注入層及び電子輸送層が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
A hole injection layer and a hole transport layer are provided as a layer disposed between the first light emitting layer and the first electrode;
The organic electroluminescence device according to claim 4, wherein an electron injection layer and an electron transport layer are provided as a layer disposed between the second light emitting layer and the second electrode.
一対の電極間に発光層を形成する工程を備え、
前記発光層を形成する工程は、
湿式成膜法により第1発光層を形成する工程と、
前記第1発光層上に乾式成膜法により第2発光層を形成する工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
Forming a light emitting layer between a pair of electrodes,
The step of forming the light emitting layer includes
Forming a first light emitting layer by a wet film formation method;
Forming a second light-emitting layer on the first light-emitting layer by a dry film-forming method, and a method for manufacturing an organic electroluminescence device.
前記湿式成膜法として液滴吐出法が用いられ、
前記乾式成膜法として真空蒸着法が用いられることを特徴とする請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
A droplet discharge method is used as the wet film formation method,
The method for manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 6, wherein a vacuum deposition method is used as the dry film forming method.
請求項1〜5のいずれかの項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置又は請求項6若しくは7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法により製造されてなる有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることを特徴とする電子機器。   An organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 5, or an organic electroluminescent device manufactured by the method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 6 or 7. machine.
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