JP2008153330A - Nitride semiconductor high electron mobility transistor - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 24
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title claims description 18
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 49
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 abstract description 27
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 79
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000003334 potential effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005533 two-dimensional electron gas Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
- H01L29/7786—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT
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- H—ELECTRICITY
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1066—Gate region of field-effect devices with PN junction gate
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、電界効果トランジスタ(Field Effect Transistor、以下「FET」という。)の1つである高電子移動度トランジスタ(High Electron Mobility Transistor、以下「HEMT」という。)のうち、窒化ガリウム(GaN)等の窒化物半導体を用いたGaN系HEMT(以下「GaN−HEMT」という。)等の窒化物半導体HEMTにおいて、例えば、ゲート電圧がゼロの時にドレイン電圧を印加しても、ソース電極・ドレイン電極間に電流が流れないエンハンスメントモード(ノーマリオフ型)の窒化物半導体HEMTに関するものである。 The present invention relates to gallium nitride (GaN) among high electron mobility transistors (hereinafter referred to as “HEMT”), which is one of field effect transistors (hereinafter referred to as “FET”). In a nitride semiconductor HEMT such as a GaN-based HEMT (hereinafter referred to as “GaN-HEMT”) using a nitride semiconductor such as, for example, even if a drain voltage is applied when the gate voltage is zero, a source electrode / drain electrode The present invention relates to an enhancement mode (normally off type) nitride semiconductor HEMT in which no current flows between them.
FETのうち、例えば、窒化ガリウムアルミニュウム(AlGaN)とGaNがヘテロ接合されたGaN−HEMTは、ノーマリオフ化が難しかった。通常のGaN−HEMTの断面構造を図2に示す。 Among FETs, for example, GaN-HEMTs in which gallium aluminum nitride (AlGaN) and GaN are heterojunction are difficult to be normally off. A cross-sectional structure of a normal GaN-HEMT is shown in FIG.
図2(a)、(b)は、従来のGaN−HEMTの通常の模式的な断面構造を示す図であり、同図(a)は全体の断面図、及び、同図(b)は同図(a)中のH部分の拡大断面図である。 2A and 2B are views showing a typical schematic cross-sectional structure of a conventional GaN-HEMT. FIG. 2A is an overall cross-sectional view, and FIG. It is an expanded sectional view of H section in figure (a).
このGaN−HEMTは、絶縁性の素子分離領域1により分離された電子走行層であるGaNチャネル層2上に形成された素子である。GaNチャネル層2上には、ヘテロ界面3を介して、電子供給層であるAlGaNバリア層4がヘテロ接合されている。AlGaNバリア層4は、例えば、AlXGa1−XN(X=0.25)により形成され、厚さが250Å(=25nm)程度である。AlGaNバリア層4上には、窒化シリコン(SiN)誘電体膜5が形成され、このSiN誘電体膜5のゲート形成領域に、幅Lgの開口部5aが形成されている。
This GaN-HEMT is an element formed on a
開口部5a内に露出したAlGaNバリア層4上には、ショットキー接合面6を介して、ニッケル(Ni)/金(Au)合金のゲート電極7がショットキー接合されている。ゲート電極7の両側には、所定間隔隔ててソース電極8とドレイン電極9が形成され、これらのソース電極8及びドレイン電極9が、AlGaNバリア層4に対してオーミック接触している。このようなゲート電極7、ソース電極8、及びドレイン電極9により、GaN−HEMTが構成されている。
On the AlGaN barrier layer 4 exposed in the opening 5a, a
GaN−HEMTでは、ゲート電極7に所定電圧を印加すると、このゲート電極7下部に生じる電界により、ヘテロ界面3に高濃度の2次元電子ガス(以下「2DEG」という。)10が制御され、ソース電極8及びドレイン電極9間に所定の電流が流れるようになっている。ショットキー順方向電流電圧特性のゲート電流立ち上がり電圧Vfは、1.3V程度である。
In the GaN-HEMT, when a predetermined voltage is applied to the
図3は、図2(b)中のI1−I2線断面で見たときのコンダクションバンド(伝導帯)を示す模式図であり、横軸は深さ(Depth)(μm)、及び、縦軸は電位(Potential)(V)である。 FIG. 3 is a schematic diagram showing a conduction band (conduction band) when viewed in a cross section taken along line I1-I2 in FIG. 2B, and the horizontal axis represents the depth (Depth) (μm) and the vertical axis. The axis is the potential (V).
通常のGaN−HEMTでは、AlGaNバリア層4とGaNチャネル層2とのヘテロ界面3に形成される2DEG10が、高濃度(約1.0E13cm−2程度)であるため、ゲート電極7とAlGaNバリア層4とのショットキー接合の空乏層だけでは、ノーマリオフ状態でピンチオフ(pinch-off、ドレイン電流がカットオフ)しないので、ノーマリオフ化が難しい。
In a normal GaN-HEMT,
しかし、様々な電気機器に用いられている交流/直流(AC/DC)変換電源のスイッチング電源回路や、電気自動車等に用いられるモータドライブ用インバータ電源回路は、電源オフになったときに大電流が流れることがないようにという安全の観点から、電源オフ時に電流の流れないノーマリオフ化の要望が極めて強い。 However, switching power supply circuits for AC / DC (AC / DC) conversion power supplies used in various electric devices and inverter power supply circuits for motor drives used in electric vehicles, etc., have large currents when the power is turned off. From the viewpoint of safety so that current does not flow, there is an extremely strong demand for normally-off in which no current flows when the power is turned off.
GaN−HEMTにおけるノーマリオフ化を実現できる技術として、従来、ゲートリセス技術及びp型ゲート技術が知られている。例えば、ゲートリセス技術に関しては、下記の非特許文献1に記載され、p型ゲート技術に関しては、下記の特許文献1、及び非特許文献2に記載されている。
Conventionally, a gate recess technique and a p-type gate technique are known as techniques capable of realizing normally-off in GaN-HEMT. For example, the gate recess technology is described in Non-Patent
図4は、非特許文献1等に記載された従来のゲートリセス構造を持つGaN−HEMTのゲート領域の模式的な断面構造を示す図である。更に、図5は、図4中のI11−I12線断面で見たときのコンダクションバンドを示す模式図であり、横軸は深さ(Depth)(μm)、及び、縦軸は電位(Potential)(V)である。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic cross-sectional structure of a gate region of a GaN-HEMT having a conventional gate recess structure described in Non-Patent
このGaN−HEMTでは、例えば、塩素(Cl2)や三塩化ホウ素(BCl3)を用いたドライエッチングにより、AlGaNバッファ層4がエッチングされてゲートのリセス部4aが形成されている。ゲート電極7の下部は、下方向に延設されてリセス部4a内に挿入されている。リセス部4aの底面とヘテロ界面3との厚さDは、10nm程度である。このようなリセス部4aにより、閾値電圧Vthを調整し、エンハンスメントモードの動作が可能になる。
In this GaN-HEMT, for example, the AlGaN buffer layer 4 is etched by dry etching using chlorine (Cl 2 ) or boron trichloride (BCl 3 ) to form a
図6(a)、(b)は、特許文献1、及び非特許文献2等に記載された従来のp型GaNゲート構造を持つGaN−HEMTのゲート領域の模式的な断面構造を示す図であり、同図(a)はp−GaN層形成工程を示す断面図、及び、同図(b)はゲート領域の全体の断面図である。
6A and 6B are diagrams showing a schematic cross-sectional structure of a gate region of a GaN-HEMT having a conventional p-type GaN gate structure described in
エピタキシャル成長により、GaNチャネル層2上にn型AlGaNバリア層4が形成される。このAlGaNバリア層4は、例えば、AlxGa1−xN(x=0.07)により形成され、厚さが15nm程度である。更に、エピタキシャル成長により、AlGaNバリア層4上にp−GaN層11が形成され、この上に、Ni/Au合金のゲート電極7が選択的に形成された後、ゲート領域以外のp−GaN層11がドライエッチングで除去される。
An n-type AlGaN barrier layer 4 is formed on the GaN
ゲート電極7下にp−GaN層11を設ければ、このp−GaN層11の拡散電位効果により、エンハンスメントモードの動作が可能になる。
If the p-
しかしながら、従来のゲートリセス構造を持つGaN−HEMTや、p型GaNゲート構造を持つGaN−HEMTでは、以下の(A)、(B)のような課題があった。 However, the GaN-HEMT having the conventional gate recess structure and the GaN-HEMT having the p-type GaN gate structure have the following problems (A) and (B).
(A) 従来のゲートリセス構造を持つGaN−HEMTの課題
従来のリセスゲート技術では、次の(1)、(2)のような問題がある。
(A) Issues of GaN-HEMT having a conventional gate recess structure The conventional recess gate technology has the following problems (1) and (2).
(1) 図4のゲートリセス構造では、リセス部4aにより閾値電圧Vthを調整してエンハンスメントモードにしている。しかし、AlGaNバリア層4をドライエッチングしてリセス部4aを形成する際に、このリセス部4aの底面とヘテロ界面3との間のAlGaNバリア層4の厚さDを制御することが困難なため、リセス部4aによる閾値電圧Vthの制御が難しい。
(1) In the gate recess structure of FIG. 4, the enhancement mode is set by adjusting the threshold voltage Vth by the
(2) リセス部4aを形成することにより、AlGaNバリア層4の厚さDが薄くなるため、ゲート電極7及び2DEG10間の電界が増大する。そのため、図5に示すように、三角ポテンシャルが低下する鏡像効果により、ショットキー順方向電流電圧特性のゲート電流立ち上がり電圧Vfが0.7V程度まで低下する。電圧Vfが低下すると、ゲート電極7に印加できる電圧が制限され、最大ドレイン電流Idsmaxが低下する。つまり、リセス構造に作製したショットキーゲート電極7では、ゲート電流立ち上がり電圧Vfが低く、ゲートバイアス範囲が狭いので、最大ドレイン電流Idsmaxが小さくなる。
(2) Since the thickness D of the AlGaN barrier layer 4 is reduced by forming the
このような問題(1)、(2)をより具体的に説明すると、図4に示すように、リセス部4aを形成するために、Cl2やBCl3を用いたドライエッチングによってAlGaNバリア層4がエッチングされる。この時、エンハンスメントモードにするためには、AlGaNバリア層4の厚さDを10nm以下にせねばならず、その制御性、特に面内均一性が問題となる。又、エッチング時のダメージ損傷は避けがたく、ドレイン電流を劣化させ、更にAlGaNバリア層4の厚さDが薄いことにより、半導体表面に形成されたショットキーゲート電極7の電圧Vfが低下するという問題が生じる。ゲート電圧Vgを正に印加した時にVg>Vfとなると、ゲート電流が流れ始めるため、Vg=Vfとなるドレイン電流が最大ドレイン電流Idsmaxとされる。従って、半導体表面に形成されたゲート電極7の電圧Vfが低下すると、最大ドレイン電流Idsmaxも低下するという問題が生じる。電圧Vfの定義としては、一般的にゲート電流1mA/mmとなるゲート電圧Vgである。
The problems (1) and (2) will be described more specifically. As shown in FIG. 4, in order to form the
(B) 従来のp型GaNゲート構造を持つGaN−HEMTの課題
従来のp型ゲート技術では、以下の(1)、(2)のような問題がある。
(B) Problems of GaN-HEMT having a conventional p-type GaN gate structure The conventional p-type gate technology has the following problems (1) and (2).
(1) 図6(a)に示すように、ゲート領域外における最上層エピタキシャル成長層であるp−GaN層11をエッチングによって除去する場合、エッチングダメージによってGaN−HEMT特性の劣化が起こる。実際に作製されたGaN−HEMTのドレイン電流は、非常に低い。
(1) As shown in FIG. 6A, when the p-
即ち、図6(b)に示すp型GaNゲート構造のGaN−HEMTでは、p−GaN層11がある領域で、p−n接合空乏によってチャネルの電子が枯渇しているため、図6(a)に示すように、ゲート領域にのみp−GaN層11を残す必要がある。そのため、ゲート領域以外の最上層のp−GaN層11をエッチングで除去しなければならず、ゲート領域以外でのドライエッチングが必須となる。ソース電極8及びゲート電極7間や、ドレイン電極9及びゲート電極7間は、そのドライエッチングのダメージ損傷によって抵抗が高くなり、ソース抵抗の増大やドレイン抵抗の増大を招き、GaN−HEMT特性を劣化させる。
That is, in the GaN-HEMT having the p-type GaN gate structure shown in FIG. 6B, in the region where the p-
(2) 特許文献1では、ゲートリセス後にゲート領域部へp−GaN層を選択再成長する提案がされている(特許文献1の図13〜図15)。しかしながら、これらはリセス深さ、p層濃度、p層厚等の数値の記述が全くないため、実現性に乏しい。更に、リセス部にゲート電極を埋め込む形状になっておらず、図示された構造ではソース抵抗が増大するため、GaN−HEMT特性として動作するかどうか不明である。
(2) In
そこで、上述の問題点を解決するため、本発明は、十分に大きな電圧Vfを有し、ソース抵抗やドレイン電流の劣化を伴わない、埋め込みゲート型エンハンスモードのGaN−HEMT等の窒化物半導体HEMTを提供することを目的とする。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a nitride semiconductor HEMT such as a buried gate type enhanced mode GaN-HEMT which has a sufficiently large voltage Vf and is not accompanied by deterioration of source resistance or drain current. The purpose is to provide.
本発明の窒化物半導体HEMTでは、窒化物半導体のチャネル層と、前記チャネル層上にヘテロ接合された窒化物半導体のバリア層と、前記バリア層の上面のゲート領域に形成された所定の深さのリセス部と、前記リセス部に対して選択的に再成長されて前記リセス部の内壁面に被着され、最上層に薄膜GaN層を有する選択再成長層と、前記薄膜GaN層上に形成されて前記リセス部を埋め込むゲート電極と、前記ゲート電極の両側に所定距離隔てて形成され、前記バリア層に対して電気的に接続されたソース電極及びドレイン電極とを有している。 In the nitride semiconductor HEMT of the present invention, a nitride semiconductor channel layer, a nitride semiconductor barrier layer heterojunctioned on the channel layer, and a predetermined depth formed in the gate region on the upper surface of the barrier layer Formed on the thin film GaN layer, a selective regrowth layer that is selectively regrowth with respect to the recess part, is deposited on the inner wall surface of the recess part, and has a thin film GaN layer as an uppermost layer. A gate electrode embedded in the recess, and a source electrode and a drain electrode formed on both sides of the gate electrode at a predetermined distance and electrically connected to the barrier layer.
本発明によれば、最上層に薄膜GaN層を有する選択再成長層をリセス部内に形成し、ゲート電極を選択再成長層を介してリセス部へ埋め込むようにしたので、ゲート電極・2DEG間のバリア層に印加される強電界が緩和する。これは空間的にゲート電極・2DEG間のAlGaNバリア層の厚さが大きくなるためである。電界緩和したことにより鏡像効果が緩和して、実質的にゲート電極下部とバリア層とのショットキー接合のゲート電流立ち上がり電圧Vfが向上する。従って、電圧Vfが向上したことによって、最大ドレイン電流を向上できる。 According to the present invention, the selective regrowth layer having the thin GaN layer as the uppermost layer is formed in the recess portion, and the gate electrode is embedded in the recess portion through the selective regrowth layer. The strong electric field applied to the barrier layer is relaxed. This is because the thickness of the AlGaN barrier layer between the gate electrode and 2DEG is spatially increased. By reducing the electric field, the mirror image effect is relaxed, and the gate current rising voltage Vf at the Schottky junction between the lower portion of the gate electrode and the barrier layer is substantially improved. Therefore, the maximum drain current can be improved by improving the voltage Vf.
窒化物半導体HEMT(例えば、GaN−HEMT)は、GaN系半導体のチャネル層と、前記チャネル層上にヘテロ接合されたGaN系半導体のバリア層と、前記バリア層の上面のゲート領域に形成された所定の深さのリセス部と、前記リセス部に対して選択的に再成長されて前記リセス部の内壁面に被着され、最上層に薄膜GaN層(例えば、不純物の混入を極力なくしたアンドープGaN(以下「i−GaN」という。)の層)を有する選択再成長層と、前記薄膜GaN層上に形成されて前記リセス部を埋め込むゲート電極と、前記ゲート電極の両側に所定距離隔てて形成され、前記バリア層に対して電気的に接続されたソース電極及びドレイン電極とを有している。 A nitride semiconductor HEMT (for example, GaN-HEMT) is formed in a GaN-based semiconductor channel layer, a GaN-based semiconductor barrier layer heterojunctioned on the channel layer, and a gate region on the upper surface of the barrier layer. A recess portion having a predetermined depth, and selectively regrown with respect to the recess portion and deposited on the inner wall surface of the recess portion, and a thin-film GaN layer (for example, undoped with minimal impurity contamination) A selective regrowth layer having a GaN (hereinafter referred to as “i-GaN” layer), a gate electrode formed on the thin film GaN layer and embedding the recess, and spaced apart from each other by a predetermined distance on both sides of the gate electrode. A source electrode and a drain electrode are formed and electrically connected to the barrier layer.
(実施例1の構成)
図1(a)、(b)は、本発明の実施例1におけるGaN−HEMTの模式的な断面構造を示す図であり、同図(a)は全体の断面図、及び、同図(b)は同図(a)中のJ部分の拡大断面図である。
(Configuration of Example 1)
FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a schematic cross-sectional structure of a GaN-HEMT in Example 1 of the present invention. FIG. 1A is an overall cross-sectional view, and FIG. ) Is an enlarged cross-sectional view of a portion J in FIG.
このGaN−HEMTは、絶縁性の素子分離領域21により分離されたGaNチャネル層22上に形成された素子である。GaNチャネル層22上には、ヘテロ界面23を介して、AlGaNバリア層24がヘテロ接合されている。AlGaNバリア層24は、例えば、AlXGa1−XN(X=0.25)により形成され、厚さが25nm程度である。AlGaNバリア層24上には、SiN誘電体膜25が形成され、このSiN誘電体膜25及びAlGaNバリア層24におけるゲート形成領域の一部が、開口されて所定の深さのリセス部26が形成されている。リセス部26の底面とヘテロ界面23との間のAlGaNバリア層24の深さDは、10nm程度である。
This GaN-HEMT is an element formed on the
リセス部26内には、i−GaN層が選択再成長されて、厚さ10nm程度のi−GaN選択再成長層27が形成されている。リセス部26上には、Ni/Au合金等のゲート電極40が形成され、このゲート電極40の底面凸状の下部40aが、リセス部26のi−GaN選択再成長層27内に埋め込まれている。
In the
ゲート電極40の両側には、所定間隔隔ててソース電極41とドレイン電極42が形成され、これらのソース電極41及びドレイン電極42が、AlGaNバリア層24に対してオーミック接触している。このようなゲート電極40、ソース電極41、及びドレイン電極42により、埋め込みゲート型エンハンスモード(ノーマリオフ型)のGaN−HEMTが構成されている。
A
このGaN−HEMTでは、例えば、ゲート電極40に印加するソース・ゲート間電圧がゼロの時に、ドレイン電極42に所定のドレイン電圧を印加しても、ゲート電極40下部に生じる空乏層により、ヘテロ界面23に生じる高濃度の2DEG50が遮断され、ソース電極41及びドレイン電極42間にドレイン電流が流れない。
In this GaN-HEMT, for example, even when a predetermined drain voltage is applied to the drain electrode 42 when the source-gate voltage applied to the
(実施例1の製造方法例)
先ず、GaNチャネル層22及びAlGaNバリア層24のヘテロ構造上にSiN誘電体膜25が形成された基板を用意する。ゲート開口パターニングしたレジストをマスクに、誘導結合方式の高密度プラズマエッチング(ICP−RIE)装置を用いて、SiN誘電体膜25をエッチングする。エッチングガスは、六フッ化硫黄(SF6)ガスを用いる。更に、SiN誘電体膜25とAlGaNバリア層24を、連続的にリセスエッチングしてリセス部26を形成する。例えば、エッチング条件がエッチングガスBCl3、雰囲気の圧力30mTorr、印加高周波(RF)パワー50Wだと、AlGaNバリア層24を形成するAl0.25Ga0.75Nは5nm/min以下のエッチングレートでゲートリセス可能である。エンハンスメントモードにするため、Al0.25Ga0.75N厚を100nm程度にし(15nmゲートリセスエッチングし)、レジスト除去を行う。
(Example of production method of Example 1)
First, a substrate on which a
次に、有機金属化学気相蒸着(MOCVD)装置を用い、SiN誘電体膜25をマスクに、i−GaN選択再成長層27を約10nm程度選択再成長する。この時、リセス部26の内壁面にもi−GaNが成長する。i−GaN選択成長のためのMOCVD条件は、例えば、成膜温度1070℃、雰囲気の圧力760Torr、原料となるガスはアンモニア(NH3)ガスとトリメチルガリウム((CH3)3Ga)ガスとの流量比(V/III比)は2500である。i−GaNを選択再成長後、リセス部26にゲートメタル(Ni/Au)をリフトオフ法によって埋め込み、ゲート電極40を形成する。そして、ソース電極41及びドレイン電極42等を形成すれば、製造が終了する。
Next, using an organometallic chemical vapor deposition (MOCVD) apparatus, the i-GaN
(実施例1の効果)
図7は、図1(b)中のI31−I32線断面で見たときのコンダクションバンドを示す模式図であり、横軸は深さ(Depth)(μm)、及び、縦軸は電位(Potential)(V)である。
(Effect of Example 1)
FIG. 7 is a schematic diagram showing a conduction band when viewed in a section taken along the line I31-I32 in FIG. 1B. The horizontal axis represents depth (Depth) (μm), and the vertical axis represents potential ( Potential) (V).
本実施例1によれば、リセス部26内に厚さ10nm程度のi−GaN選択再成長層27を形成したので、図7に示すように、ゲート電極40及び2DEG50間のAlGaNバリア層24に印加される強電界が緩和する。これは空間的にゲート電極40及び2DEG50間のAlGaNバリア層24の厚さD(=10nm程度)が厚くなるためである。電界緩和したことにより鏡像効果が緩和して、実質的にゲート電極下部40aとAlGaNバリア層24とのショットキー接合の電圧Vfが0.25V程度向上する。一方、選択再成長したi−GaN選択再成長層27が10nm以下であれば、ほとんどGaN−HEMTの閾値電圧Vthが変化しないため、エンハンスモードを維持できる。従って、電圧Vfが向上したことによって、最大ドレイン電流Idsmaxが300mA/mmから350mA/mmへと向上する。
According to the first embodiment, since the i-GaN
(実施例2の構成・製造方法例)
図8は、本発明の実施例2におけるGaN−HEMTの模式的な拡大断面図であり、実施例1を示す図1(a)中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
(Configuration / Example of Manufacturing Method of Example 2)
FIG. 8 is a schematic enlarged cross-sectional view of a GaN-HEMT according to the second embodiment of the present invention. Elements common to the elements in FIG. Yes.
本実施例2のGaN−HEMTでは、実施例1のi−GaN選択再成長層27に代えて、リセス部26内に、不純物濃度が3.0E18cm−3、膜厚が10nm程度のp−GaN選択再成長層28が、ショットキー層として積層されている。このp−GaN選択再成長層28の上層には、i−GaN選択再成長層29を厚さ1nm程度成長させることが望ましい。その他の構成は、実施例1と同様である。
In the GaN-HEMT of Example 2, instead of the i-GaN
本実施例2のGaN−HEMTにおける製造方法は、例えば、実施例1とほぼ同様に、ゲートリセスによりリセス部26の形成、p−GaN選択再成長層28の形成、必要に応じてi−GaN選択再成長層29の形成、及び、ゲート電極40の形成を行う。p−GaN選択再成長層28を形成するp−GaN層は、例えば、添加する不純物(ドーパント)がマグネシューム(Mg)で、この不純物濃度が3E18cm-3、膜厚が10nm程度である。Mgドーパントを含むp−GaN選択再成長層28の表層酸化を防止するため、p−GaN選択再成長層28の上層に、厚さ1nm程度のi−GaN選択再成長層29を防止膜として成長させることが望ましい。
The manufacturing method in the GaN-HEMT of the second embodiment is substantially the same as that of the first embodiment, for example, forming the
(実施例2の効果)
図9は、図8中のI41−I42線断面で見たときのコンダクションバンドを示す模式図であり、横軸は深さ(Depth)(μm)、及び、縦軸は電位(Potential)(V)である。
(Effect of Example 2)
FIG. 9 is a schematic diagram showing a conduction band when viewed in a section taken along line I41-I42 in FIG. 8. The horizontal axis represents depth (Depth) (μm), and the vertical axis represents potential (Potential) ( V).
本実施例2によれば、リセス部26内に、p−GaN層を選択再成長させてp−GaN選択再成長層28を形成しているので、ゲートショットキー部に擬似的なp−n接合(p−GaN/AlGaN)が形成され、空乏層が生じる。そのため、図9に示すように、ショットキーゲート電極側のコンダクションバンドのポテンシャルが持ち上げられ、結果的に、電圧Vfが更に0.5V程度向上する。この電圧Vfの向上によって、最大ドレイン電流Idsmaxが200mA/mmから500mA/mmまで向上する。
According to the second embodiment, since the p-GaN selective regrowth layer 28 is formed by selectively re-growing the p-GaN layer in the
又、p−GaN選択再成長層28の上層に、厚さ1nm程度のi−GaN選択再成長層29を形成した場合には、前記の効果が得られる他に、p−GaN選択再成長層28の表層酸化が防げる分、安定したエンハンスメントモードGaN−HEMT特性が得られる。 When the i-GaN selective regrowth layer 29 having a thickness of about 1 nm is formed on the p-GaN selective regrowth layer 28, in addition to the above-mentioned effects, the p-GaN selective regrowth layer 29 can be obtained. Since the surface oxidation of 28 can be prevented, stable enhancement mode GaN-HEMT characteristics can be obtained.
(実施例3の構成・製造方法例)
図10は、本発明の実施例3におけるGaN−HEMTの模式的な拡大断面図であり、実施例1を示す図1(a)、及び実施例2を示す図8中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
(Example of configuration / manufacturing method of Example 3)
FIG. 10 is a schematic enlarged cross-sectional view of a GaN-HEMT in Example 3 of the present invention, and is the same element as that in FIG. 1A showing Example 1 and the element in FIG. Are denoted by common reference numerals.
本実施例3のGaN−HEMTでは、実施例1のi−GaN選択再成長層27や、実施例2のp−GaN選択再成長層28に代えて、リセス部26内に、不純物濃度が3.0E18cm−3、膜厚が10nm程度のp−AlGaN選択再成長層30が、ショットキー層として積層されている。このp−AlGaN選択再成長層30の上層には、i−GaN選択再成長層31を厚さ1nm程度成長させることが望ましい。その他の構成は、実施例1、2と同様である。
In the GaN-HEMT of the third embodiment, the impurity concentration is 3 in the
本実施例3のGaN−HEMTにおける製造方法は、例えば、実施例1、2とほぼ同様に、ゲートリセスによりリセス部26の形成、p−AlGaN選択再成長層30の形成、及び、ゲート電極40の形成を行う。p−AlGaN選択再成長層30は、例えば、p−AlxGa1−xN(0≦x≦1)の選択再成長により形成される。選択再成長時に成長するp−AlxGa1−xN層厚は、組成比xによって異なるため、ここでは表面平坦性(例えば、平均二乗粗(rms)で3nm以下)が良い厚さまでとする。例えば、この時、Al0.25Ga0.75Nバリア層と同じ25%のAl組成であれば、20nm程度の選択再成長が可能である。
The manufacturing method in the GaN-HEMT of the third embodiment is substantially the same as in the first and second embodiments. For example, the
本実施例3で採用したp−AlxGa1−xN選択再成長層は、例えば、ドーパントがMgで、この不純物濃度が3E18cm-3、膜厚が10nm程度である。p−AlGaN選択再成長層30の表層酸化を防止するために、p−AlGaN選択再成長層30の上層に、厚さ1nm程度のi−GaN選択再成長層31を防止膜として成長させることが望ましい。
P-Al x Ga 1 employed in this embodiment 3 - x N selectively regrown layer, for example, the dopant is at Mg, this impurity concentration 3E18 cm -3, thickness of about 10 nm. In order to prevent surface oxidation of the p-AlGaN
(実施例3の効果)
本実施例3によれば、次の(1)、(2)のような効果がある。
(Effect of Example 3)
The third embodiment has the following effects (1) and (2).
(1) 図11は、図10中のI51−I52線断面で見たときのコンダクションバンドを示す模式図であり、横軸は深さ(Depth)(μm)、及び、縦軸は電位(Potential)(V)である。 (1) FIG. 11 is a schematic diagram showing a conduction band when viewed in a cross section taken along line I51-I52 in FIG. 10. The horizontal axis represents depth (Depth) (μm), and the vertical axis represents potential ( Potential) (V).
本実施例3によれば、リセス部26内に、p−AlGaN層を選択再成長させてp−AlGaN選択再成長層30を形成しているので、実施例2のような擬似的p−n接合(p−GaN/AlGaN)の不連続界面がなくなる。そのため、図11に示すように、ショットキーゲート電極側のコンダクションバンドのポテンシャルが更に持ち上げられ、結果的に、電圧Vfが実施例2よりも更に0.3V程度向上する。この電圧Vfの向上によって、最大ドレイン電流Idsmaxが600mA/mmまで向上する。
According to the third embodiment, the p-AlGaN
(2) p−AlGaN選択再成長層30の上層に、厚さ1nm程度のi−GaN選択再成長層31を形成した場合には、前記の効果が得られる他に、更に、次のような効果も期待できる。
(2) In the case where the i-GaN selective regrowth layer 31 having a thickness of about 1 nm is formed on the p-AlGaN
p−AlGaN選択再成長層30を成長させる際に、Al組成が高ければ高いほどAlの酸化力によって表面酸化が進む。表面酸化の進行したAlGaNショットキー特性は、ゲートリークを増大させる等、GaN−HEMT特性を劣化させる。そのため、選択再成長でも、ゲート電極と接触するエピタキシャル層の最上層をi−GaN選択再成長層31で被覆しておくことが、GaN−HEMT特性を劣化させないために望ましい。このようなi−GaN選択再成長層31を成長させれば、選択再成長工程後のゲートメタル蒸着時に、p−AlGaN選択再成長層30が表面に露出しないため、このp−AlGaN選択再成長層30の表面酸化によるゲートリーク電流の増大等といったGaN−HEMT特性の劣化を防止できる。
When the p-AlGaN
(実施例4の構成・製造方法例)
図12は、本発明の実施例4におけるGaN−HEMTの模式的な拡大断面図であり、実施例1、2、3をそれぞれ示す図1(a)、図8、図10中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
(Example of configuration and production method of Example 4)
FIG. 12 is a schematic enlarged cross-sectional view of a GaN-HEMT in Example 4 of the present invention, which is common to the elements in FIGS. 1 (a), 8, and 10 showing Examples 1, 2, and 3, respectively. These elements are denoted by common reference numerals.
本実施例4のGaN−HEMTでは、実施例1のi−GaN選択再成長層27、実施例2のp−GaN選択再成長層28やi−GaN選択再成長層29、あるいは、実施例3のp−AlGaN選択再成長層30やi−GaN選択再成長層31に代えて、リセス部26内に、膜厚が1nm程度のi−AlN選択再成長層32、p−AlxGa1−xN(0≦x≦1)のp−AlGaN選択再成長層33、及び、必要に応じて膜厚が1nm程度のi−GaN選択再成長層34が、ショットキー層として積層されている。
In the GaN-HEMT of the fourth embodiment, the i-GaN
選択再成長時に成長するp−AlGaN選択再成長層33の厚さは、組成比xによって異なるため、ここでは表面平坦性(例えば、平均二乗粗(rms)で3nm以下)が良い厚さまでとする。下層にi−AlN選択再成長層32を挿入することにより、このAlNがバリア層として働き、p−AlGaN選択再成長層33を形成するためのエピタキシャル成長時のAlGaNバリア層24へのMgドーパントの拡散を抑制できる。
The thickness of the p-AlGaN
又、p−AlGaN選択再成長層33の上層には、p−AlGaN選択再成長層33の酸化防止のために、i−GaN選択再成長層33を厚さ1nm程度成長させることが望ましい。その他の構成は、実施例1、2、3と同様である。
In addition, in order to prevent oxidation of the p-AlGaN
本実施例4のGaN−HEMTにおける製造方法は、例えば、実施例1、2、3とほぼ同様に、ゲートリセスによりリセス部26の形成、i−AlN選択再成長層32の形成、p−AlGaN選択再成長層33の形成、必要に応じてi−GaN選択再成長層34の形成、及び、ゲート電極40の形成を行う。
The manufacturing method in the GaN-HEMT of the fourth embodiment is substantially the same as in the first, second, and third embodiments, for example, forming the recessed
(実施例4の効果)
本実施例4によれば、次の(1)〜(3)のような効果がある。
(Effect of Example 4)
The fourth embodiment has the following effects (1) to (3).
(1) リセス部26内にp−AlGaN層を選択再成長させてp−AlGaN選択再成長層33を形成しているので、実施例3の効果(1)と同様の効果がある。
(1) Since the p-AlGaN
(2) AlGaNバリア層24とp−AlGaN選択再成長層33との間に、i−AlN選択再成長層32を挿入したので、p−AlGaN選択再成長時においてMgドーパントのAlGaNバリア層24への拡散を抑制でき、擬似的なp−n接合のプロファイルが改善するため、p−AlGaN選択再成長層33を実施例3よりも薄層化しても、同様の電圧Vfの向上効果が得られる。GaN−HEMT特性としては、2DEG50とゲート電極40との距離が近いほど相互コンダクタンス(gm)特性が向上するので、より高gm特性を持つエンハンスメントモードGaN−HEMTを実現できる。
(2) Since the i-AlN selective regrowth layer 32 is inserted between the
(3) p−AlGaN選択再成長層33の上層に、厚さ1nm程度のi−GaN選択再成長層34を形成した場合には、実施例3の効果(2)と同様の効果がある。
(3) When the i-GaN selective regrowth layer 34 having a thickness of about 1 nm is formed on the p-AlGaN
(変形例)
本発明は、図示の実施例1〜4に限定されず、例えば、チャネル層(22)やバリア層(24)をGaN系半導体以外の窒化物半導体で形成したり、図示以外の寸法や材質で形成したり、あるいは、リセス部26の形状や構造を図示以外のものに変更する等、種々の変形や利用形態が可能である。
(Modification)
The present invention is not limited to the illustrated first to fourth embodiments. For example, the channel layer (22) and the barrier layer (24) may be formed of a nitride semiconductor other than a GaN-based semiconductor, or may have dimensions and materials other than those illustrated. Various modifications and forms of use are possible, such as forming or changing the shape and structure of the
22 GaNチャネル層
23 2DEG
24 AlGaNバリア層
25 誘電体膜
26 リセス部
27,29,31,34 i−GaN選択再成長層
28 p−GaN選択再成長層
30,33 p−AlGaN選択再成長層
32 i−AlN選択再成長層
22
24
Claims (5)
前記チャネル層上にヘテロ接合された窒化物半導体のバリア層と、
前記バリア層の上面のゲート領域に形成された所定の深さのリセス部と、
前記リセス部に対して選択的に再成長されて前記リセス部の内壁面に被着され、最上層に薄膜GaN層を有する選択再成長層と、
前記薄膜GaN層上に形成されて前記リセス部を埋め込むゲート電極と、
前記ゲート電極の両側に所定距離隔てて形成され、前記バリア層に対して電気的に接続されたソース電極及びドレイン電極と、
を有することを特徴とする窒化物半導体高電子移動度トランジスタ。 A nitride semiconductor channel layer;
A nitride semiconductor barrier layer heterojunctioned to the channel layer;
A recess having a predetermined depth formed in the gate region on the upper surface of the barrier layer;
A selective regrowth layer that is selectively regrown with respect to the recess portion and is deposited on the inner wall surface of the recess portion, and has a thin-film GaN layer as an uppermost layer;
A gate electrode formed on the thin film GaN layer and burying the recess;
A source electrode and a drain electrode formed on both sides of the gate electrode at a predetermined distance and electrically connected to the barrier layer;
A nitride semiconductor high electron mobility transistor comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Country Status (1)
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