JP2008145619A - ポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物54を一対の基板53a、53b間に保持し、誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれno、ne、重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をn2とし、非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα:(1−α)(ただし、0<α<1)としたとき、一対の透明基板の原板から遠いほうの基板屈折率nは、min(no,n2)≦n<α・(2no+ne)/3+(1−α)・n2(ただし、min(no,n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)を満たし、ポリマーから成る層と非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成する。
【選択図】 図5
Description
min(no,n2)≦n<α・(2no+ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no,n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴とする。
前記一対の透明基板の少なくとも原板から遠いほうの基板屈折率nは、
min(no,n2)≦n<α・(2no+ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no,n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、前記混合物を周期的に遮蔽部と透過部とが形成されたマスクを介して露光することにより、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴とする。
前記一対の透明基板の少なくとも原板から遠いほうの基板屈折率nは、
min(no, n2)≦n<α・(2no + ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no, n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、前記混合物を干渉露光することにより、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴とする。
ψ=πdn1/(λcosθ)
ここで、dは記録層の厚さ(すなわち、スペーサ部材15の厚さ)、n1は屈折率変調量、λは再生波長、θはブラッグ条件を満たす角度からの差で表される。
min(no,ne)≦n≦α・(2no + ne)/3+(1−α)・n2…(1)
ただし、min(no, n2)はnoとn2のうち小さいほうの値である。
Claims (6)
- 少なくとも、誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物を一対の透明基板間に保持し、
誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれno、ne、
重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をn2とし、
前記非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα:(1−α)(ただし、0<α<1)としたとき、
前記一対の透明基板の少なくとも原板から遠いほうの基板屈折率nは、
min(no,n2)≦n<α・(2no+ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no,n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴としたポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子。 - 少なくとも、誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物を一対の透明基板間に保持し、
誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれno、ne、
重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をn2とし、
前記非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα:(1−α)(ただし、0<α<1)としたとき、
前記一対の透明基板の少なくとも原板から遠いほうの基板屈折率nは、
min(no,n2)≦n<α・(2no+ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no,n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、前記混合物を周期的に遮蔽部と透過部とが形成されたマスクを介して露光することにより、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴としたポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子の製造方法。 - 少なくとも、誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物を一対の透明基板間に保持し、
誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれno、ne、
重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をn2とし、
前記非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα:(1−α)(ただし、0<α<1)としたとき、
前記一対の透明基板の少なくとも原板から遠いほうの基板屈折率nは、
min(no, n2)≦n<α・(2no + ne)/3+(1−α)・n2
(ただし、min(no, n2)はnoとn2のうち小さいほうの値)
を満たし、前記混合物を干渉露光することにより、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成することを特徴としたポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子の製造方法。 - 少なくとも2つの異なる次数の回折光を発生させるホログラム原板を用いて、前記干渉露光を行い前記相分離構造を形成することを特徴した請求項3に記載のポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子の製造方法。
- 前記原板からの回折光は実質的に0次光と+1次光または−1次光のどちらか一方を利用することを特徴とした請求項4に記載のポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子の製造方法。
- 前記原板からの回折光は実質的に−1次光と+1次光を利用することを特徴とした請求項4に記載のポリマー分散液晶型の偏光選択性ホログラム素子の製造方法。
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