JP2008124469A - キャリブレーションされた瞳カーネルを生成する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法は、光学結像システムおよび光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップと、光学結像システムおよびプロセスの結像性能を表すモデル式を定義するステップであって、モデル式はキャリブレーションされた瞳カーネルを含む、該ステップと、を含む。キャリブレーションされた瞳カーネルは瞳性能の線形モデルを表す。
【選択図】なし
Description
・プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面である。このような装置の背後にある基本原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射するのに対して、アドレスされない領域は入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルターを使用して、反射ビームから上記非回折光を濾波して除去し、回折光のみを後に残すことができ、このようにして、ビームは、マトリックスアドレス可能面のアドレッシングパターンに従ってパターン化される。必要なマトリックスアドレッシングは、適した電子工学手段を使用して行うことができる。このようなミラーアレイについてのより多くの情報は、例えば、米国特許第5,296,891号および第5,523,193号から集めることができ、これらを参照により本明細書に援用する。
・プログラマブルLCDアレイ。このような構造物の一例は米国特許第5,229,872号に提供されており、これを参照により本明細書に援用する。
M0(x’,y’)=∫∫m(x,y)e-2πi(fx*x+fy*y)dxdy
により全体正規化係数まで求めることができることを提供し、式中、fx=x’/(λz)、fy=y’/(λz)であり、両方の積分の範囲は−∞から∞である。
Mσ(x’,y’)=M0(x’,y’)e2πi(σx*x+σy*y)=M0(x’-λzσx,y'-λzσy)
になり、これは単に、元のオンアクシス場をシフトしたものである。
Mσ(x’,y’)H(fx,fy)
により与えられ、式中、
H(fx,fy)=circ(λ*(fx *fx+fy *fy).5/NA)e-2πiW(fx,fy)
であり、W(fx,fy)は収差関数である。そして、ウェーハに衝突するときの電場は、
Eσ(x,y)=FET-1(Mσ(x’,y’)H(fx,fy))
により与えられ、空中像に対するこの寄与分は|Eσ(x,y)|2により与えられる。
Mσ(x’,y’)H(fx,fy)
が関数pσ(fx,fy)で乗算される。pσ(fx,fy)に関して、考えるべき基本的な2つのケースがある。
1)pσ(fx,fy)=p(fx,fy)はσから独立している。このケースは実験瞳フィルタに対応し、円関数により与えられる単純なトップハットモデルからの瞳の偏差の補正として解釈することができる。
2)pσ(fx,fy)=p(fx-σx,fy-σy)は、関数pのシフトであり、σから独立している。このケースは、モデリングされないマスク誤差またはマスクモデル誤差の補正として解釈することができる関数に対応する。
∫∫w(x,y)|Isim(x,y)-Itarget(x,y)|dxdy
になる。実際に、重み関数は、通常、フィーチャ近傍では非ゼロであり、フィーチャから離れたところではゼロである。非ゼロ重みはすべて1であってもよく、または特定のフィーチャにより高い重要度を割り当てるように変化してもよいことにさらに留意する。
−放射の投影ビームPBを供給する放射システムEx、IL。この特定の場合では、放射システムは放射源LAも含む。
−マスクMA(例えば、レチクル)を保持するマスクホルダが設けられ、マスクをアイテムPLに対して正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクトテーブル(マスクテーブル)MT。
−基板W(例えば、レジストコートシリコンウェーハ)を保持する基板ホルダが設けられ、基板をアイテムPLに対して正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクトテーブル(基板テーブル)WT。
−マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のダイを含む)に結像するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、屈折、カトプトリックまたはカタディオプトリック光学系)。
−ステップモードでは、マスクテーブルMTは本質的に静止したままであり、マスク像全体が1度に(すなわち、1回の「フラッシュ」で)ターゲット部分C上に投影される。次に、基板テーブルWTが、異なるターゲット部分CをビームPBで照射できるようにxおよび/またはy方向にシフトされる。
−スキャンモードでは、所与のターゲット部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されないことを除き、本質的に同じシナリオが当てはまる。1回のフラッシュに代えて、マスクテーブルMTは速度vで所与の方向(いわゆる「スキャン方向」、例えばy方向)に可動であり、それにより、投影ビームPBをマスク像にわたってスキャンさせ、同時に、基板テーブルWTが同時に速度V=Mvで同じまたは逆の方向に移動する。但し、MはレンズPLの倍率である(通常、M=1/4または1/5である)。このように、分解能を損なう必要なく、比較的大きなターゲット部分Cを露光することができる。
Claims (9)
- 瞳を有する光学結像システムの結像性能をシミュレーションするモデルを生成する方法であって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、および
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表すモデル式を定義するステップであって、該モデル式はキャリブレーションされた瞳カーネルを含む、該ステップ、
を含み、
前記キャリブレーションされた瞳カーネルは瞳性能の線形モデルを表す、方法。 - 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、パラメトリック表現を利用して前記モデル式で表される、請求項1に記載の方法。
- 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、ピクセルベース表現を利用して前記モデル式で表される、請求項1に記載の方法。
- 瞳を有する光学結像システムの結像性能をシミュレーションする方法であって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表すモデル式を定義するステップであって、該モデル式はキャリブレーションされた瞳カーネルを含む、該ステップ、および
前記モデル式を利用してターゲット部分を処理し、それによりシミュレーション結像結果を生成するステップ、
を含み、
前記キャリブレーションされた瞳カーネルは瞳性能の線形モデルを表す、方法。 - 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、パラメトリック表現を利用して前記モデル式で表される、請求項4に記載の方法。
- 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、ピクセルベース表現を利用して前記モデル式で表される、請求項4に記載の方法。
- 瞳を有する光学結像システムの結像性能をシミュレーションするモデルを生成するコンピュータプログラムを記憶したコンピュータ読取可能媒体であって、前記コンピュータプログラムは、実行されると、コンピュータに、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、および
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表すモデル式を定義するステップであって、該モデル式はキャリブレーションされた瞳カーネルを含む、該ステップ、
を実行させ、前記キャリブレーションされた瞳カーネルは瞳性能の線形モデルを表す、コンピュータ読取可能媒体。 - 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、パラメトリック表現を利用して前記モデル式で表される、請求項7に記載のコンピュータ読取可能媒体。
- 前記キャリブレーションされた瞳カーネルは、ピクセルベース表現を利用して前記モデル式で表される、請求項7に記載のコンピュータ読取可能媒体。
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