JP2008100181A - Gravure coating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、キッスリバース型のグラビア塗工装置に関するものである。 The present invention relates to a kiss reverse type gravure coating apparatus.
従来より、キッスリバース型のグラビア塗工装置が種々提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, various kiss-reverse gravure coating apparatuses have been proposed (see, for example, Patent Document 1).
図3は、代表的な従来のグラビア塗工装置100の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a typical conventional
このグラビア塗工装置100は、塗工液を溜める液槽102の上部にグラビアロール104を配し、グラビアロール104の後方にグラビアロール104の周面に付着した塗工液を掻き落とすための掻落しブレード106が設けられている。
In the
このグラビア塗工装置100で塗工液を基材1に塗工する場合には、案内ロール108,110によって前から後に向かって搬送される基材1の下面にグラビアロール104の一部を接触させその下面に塗工液を塗工している。
上記のようなグラビア塗工装置100において、塗工液の特性によっては、グラビアロール104の表面にリブ状の波立ちが発生する場合がある。そのため、このようなリブ状の波立ちが起きたグラビアロール104で塗工を行うと、基材1の塗工面にも波状のムラが発生するという問題点があった。
In the
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、ムラのない塗工を行うことができるグラビア塗工装置を提供する。 Therefore, in view of the above problems, the present invention provides a gravure coating apparatus that can perform coating without unevenness.
本発明は、塗工液を溜める液漕と、前記液漕の上部に配されてその下周面が塗工液に浸漬されたグラビアロールと、前記グラビアロールの後方であって前記液槽外部に配され、前記グラビアロールの周面上の塗工液を掻き落とす掻落しブレードと、を有し、前から後に向かって搬送される長尺状の基材の下面に、前記回転するグラビアロールの上周面の一部が接触して塗工液を塗工するグラビア塗工装置において、前記液漕の底面から波立ち防止ブレードが立設され、前記波立ち防止ブレードの上端部が前記グラビアロールの後下周面に接し、かつ、前記接する位置が前記液槽に満たされた塗工液の液面の下方近傍であることを特徴とするグラビア塗工装置である。 The present invention includes a liquid tank for storing a coating liquid, a gravure roll disposed above the liquid tank and having a lower peripheral surface immersed in the coating liquid, a rear side of the gravure roll and outside the liquid tank The rotating gravure roll on the lower surface of the long substrate that is conveyed from the front to the rear, and a scraping blade that scrapes off the coating liquid on the peripheral surface of the gravure roll In the gravure coating apparatus in which a part of the upper peripheral surface is in contact with the coating liquid to be applied, a ripple preventing blade is erected from the bottom surface of the liquid tank, and an upper end portion of the ripple preventing blade is the gravure roll. A gravure coating apparatus that is in contact with a rear lower peripheral surface and that the position in contact with the rear lower peripheral surface is in the vicinity of the lower part of the liquid surface of the coating liquid filled in the liquid tank.
本発明によれば、グラビアロールの表面にリブ状の波立ちが起こらず、基材の下面にムラなく塗工を行うことができる。 According to the present invention, rib-like undulation does not occur on the surface of the gravure roll, and coating can be performed evenly on the lower surface of the substrate.
以下、本発明の一実施形態のキッスリバース型のグラビア塗工装置10について図1と図2に基づいて説明する。
Hereinafter, a kiss reverse
図1は、本実施形態のグラビア塗工装置10の横から見た縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view seen from the side of the
図1に示すように、塗工液を溜める液槽12の上部の中央にグラビアロール14が回転自在に配されている。このグラビアロール14は、図1において反時計回りの方向に回転する。このグラビアロール14の上方であって、その前後方向にそれぞれ案内ロール16、案内ロール18が配されている。合成樹脂製フィルム、金属箔、紙等の長尺状の基材1は、案内ロール16を経て、グラビアロール14の上面に接触し、その後に案内ロール18を経て搬送される。
As shown in FIG. 1, a
グラビアロール14の後上周面には、掻落しブレード20が配されている。なお、グラビアロール14において、回転中心部22を境に、上部を上周面、下側を下周面、図1における左側を前周面、右側を後周面として説明する。
A
液槽12に塗工液を一定量供給するポンプ24が設けられている。このポンプ24は、液槽12の一定の高さ、即ちグラビアロール14の回転中心部22の高さに液面の高さがなるように塗工液を供給している。
A
液槽12の底面からグラビアロール14の下後周面に向かって、波立ち防止ブレード26が設けられている。この波立ち防止ブレード26はグラビアロール14の幅方向の長さと同じ長さを有し、また、波立ち防止ブレード26の上端部はグラビアロール14の下後周面に接触している。波立ち防止ブレード26の上端部と液面との距離Aは、1mm〜1cmの間に設定する。図2に示すように、波立ち防止ブレード26は、支持台28にねじ止めされている。また、支持台28の底部には、複数個(例えば、2個)のスペーサ30,30が取り付けられ、このスペーサ30,30が、液槽12の底面にねじ34によってねじ止めされている。そのため、波立ち防止ブレード26の底面に隙間が形成され、この隙間から塗工液が流れる構造となっている。また、支持台28から液槽12の壁に向かって、複数本(例えば、2本)のボルト32が突出し、このボルト32の先端部が液槽12の壁から突出し、このボルト32を回動させて、波立ち防止ブレード26と支持台28とが、グラビアロール14の径方向(図1において左右方向)に移動可能となっている。これにより、波立ち防止ブレード26の位置を、グラビアロール14の下後周面に対し微調整ができる。このとき、支持台28の底面はスペーサ30,30にねじ34によってねじ止めされているが、図2に示すようにこのねじ孔は長孔36であるため、簡単に移動できる。
A
(2)ムラの原因
上記で説明した従来のグラビア塗工装置100においてはリブ状の波立ちが発生していた。この原因を発明者が追求したところ、グラビアロール14の回転により液槽12に満たされた塗工液の液面が波立ち、この波立った塗工液がそのままグラビアロール14の表面に付着し、その後、掻落しブレード20で不要な塗工液が掻き落とされても、波立った塗工液の状態がそのまま残り、基材1にグラビア塗工されることが判明した。
(2) Cause of unevenness In the conventional
そこで、本発明者は本実施形態のグラビア塗工装置10に示すように、液槽12の塗工液の液面の直前に波立ち防止ブレード26を設けた。
Therefore, the present inventor provided an
(3)グラビア塗工装置10の動作状態
次に、図1に基づいてグラビア塗工装置10の動作状態について説明する。
(3) Operational State of Gravure
基材1を案内ロール16を経てグラビアロール14の上面に接触させ、その後に案内ロール18を経て搬送させる。このとき、グラビアロール14を反時計回りの方向に回転させると、液槽12にある塗工液がグラビアロール14の表面に付着し、まず波立ち防止ブレード26を経て、掻落しブレード20で不要な塗工液が掻き落とされる。その後、塗工ロール14の上周面に接触している基材1の下面に塗工液が塗工される。
The substrate 1 is brought into contact with the upper surface of the
そして、本実施形態のグラビア塗工装置10では、液槽12の塗工液の液面の直前に波立ち防止ブレード26を設けた。その理由は、グラビアロール14の回転により液槽12の塗工液の液面が波立っても、その影響が波立ち防止ブレード26によって防止されるようにした。即ち、波立ち防止ブレード26が波立った塗工液の流れを遮蔽し、グラビアロール14の表面に付着しないようにした。
And in the
そのため、この波立ち防止ブレード26はできる限り塗工液の液面に近いほど良く、しかし、液面より上に上端部が突出すると、グラビアロール14の下周面に接触できないため、上記したように液面と波立ち防止ブレード26の上端部との距離Aが1mm〜1cmの間に設定している。
Therefore, it is better that the
一方、グラビアロール14の回転中心部22の高さと塗工液の液面の高さとが同じになるようにポンプ24によって塗工液を供給している。即ち、塗工によって塗工液が少なくなってくるとその減少分を補っている。この回転中心位置22の高さと液面の高さとが同じになるように設定する理由は、回転中心位置22の高さが液面の高さより低い場合には、波立ち防止ブレード26の上端部がグラビアロール14の後下周面に接した後であっても、グラビアロール14が塗工液の中で回転して波の影響を受ける可能性があるからである。一方、回転中心部22の高さが液面の高さより高い場合には、グラビアロール14が塗工液に接触している部分が少なくなるからである。
On the other hand, the coating liquid is supplied by the
このように波立ち防止ブレード26によって従来発生していたリブ状の波立ちが防止されるため、基材1にもこの影響がなくムラなく均一な塗工を行うことができる。
As described above, since the rib-like undulation that has conventionally occurred is prevented by the
本発明は上記各実施形態に限らず、その主旨を逸脱しない限り種々に変更することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist thereof.
1 基材
10 グラビア塗工装置
12 液槽
14 グラビアロール
20 掻落しブレード
22 回転中心部
24 ポンプ
26 波立ち防止ブレード
28 支持台
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (5)
前記液漕の上部に配されてその下周面が塗工液に浸漬されたグラビアロールと、
前記グラビアロールの後方であって前記液槽外部に配され、前記グラビアロールの周面上の塗工液を掻き落とす掻落しブレードと、
を有し、
前から後に向かって搬送される長尺状の基材の下面に、前記回転するグラビアロールの上周面の一部が接触して塗工液を塗工するグラビア塗工装置において、
前記液漕の底面から波立ち防止ブレードが立設され、
前記波立ち防止ブレードの上端部が前記グラビアロールの後下周面に接し、かつ、前記接する位置が前記液槽に満たされた塗工液の液面の下方近傍である
ことを特徴とするグラビア塗工装置。 A liquid tank for storing the coating liquid;
A gravure roll which is arranged on the upper part of the liquid tank and whose lower peripheral surface is immersed in a coating liquid;
A scraping blade that is disposed behind the gravure roll and outside the liquid tank, and scrapes off the coating liquid on the peripheral surface of the gravure roll;
Have
In the gravure coating apparatus that coats the coating liquid in contact with a part of the upper peripheral surface of the rotating gravure roll on the lower surface of the long substrate conveyed from the front to the back,
An anti-rippling blade is erected from the bottom of the liquid tank,
The gravure coating is characterized in that an upper end portion of the anti-rippling blade is in contact with a rear lower peripheral surface of the gravure roll, and the contacted position is near the lower surface of the coating liquid filled in the liquid tank. Engineering equipment.
前記供給手段は、前記液槽に塗工液が一定の高さで満たされる供給する
ことを特徴とする請求項1記載のグラビア塗工装置。 A supply means for supplying a coating liquid to the liquid tank;
The gravure coating apparatus according to claim 1, wherein the supply unit supplies the liquid tank filled with a coating liquid at a certain height.
ことを特徴とする請求項1記載のグラビア塗工装置。 The gravure coating apparatus according to claim 1, wherein a height of a rotation center position of the gravure roll and a height of the liquid surface are the same.
ことを特徴とする請求項1記載のグラビア塗工装置。 The gravure coating apparatus according to claim 1, wherein a gap is formed between a bottom surface of the liquid tank and a bottom surface of the anti-rippling blade.
ことを特徴とする請求項1記載のグラビア塗工装置。 The gravure coating apparatus according to claim 1, wherein the wave preventing blade is movable with respect to a radial direction of the gravure roll.
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