JP2008096760A - Display device and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置に関し、特に、表示電極を駆動する薄膜トランジスタが形成された基板に、カラーフィルタを備えたアクティブマトリクス型の表示装置に関する。 The present invention relates to a display device, and more particularly to an active matrix display device in which a color filter is provided on a substrate on which a thin film transistor for driving display electrodes is formed.
液晶表示装置等のカラー表示装置に配置されるカラーフィルタの1つとして、オン・チップ・カラーフィルタ(On Chip Color Filter;以降、「OCCF」と略称する)が知られている。次に、従来例に係るOCCFを備えた液晶表示装置の製造方法について、その一例を示す。 As one of color filters arranged in a color display device such as a liquid crystal display device, an on-chip color filter (hereinafter referred to as “OCCF”) is known. Next, an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device including the OCCF according to the conventional example will be described.
図7、及び図8に示すように、ゲート線GL、表示信号線DL、保持容量線SLに囲まれて、複数の画素1が形成されている。なお、図8は、図7のX−X線に沿った断面 図を示しており、複数の画素1の中から1つを示している。
As shown in FIGS. 7 and 8, a plurality of
ガラス等の第1の基板10上には、不図示のバッファ膜を介して、画素選択用の薄膜トランジスタTRが形成される。即ち、能動層11、それを覆うゲート絶縁膜12、能動層11のソース又はドレインと接続されたパッド電極14、及び能動層11を横断するゲート線GLが、この順で形成される。次に、パッド電極14及びゲート線GLを覆う層間絶縁膜15が形成される。さらに、層間絶縁膜15の一部をエッチングして、パッド電極14を露出するコンタクトホールCH2を形成される。
A thin film transistor TR for pixel selection is formed on a
次に、層間絶縁膜15上に、顔料を含む感光性有機材料(ネガレジスト)が形成される。そして、ゲート線GL及び保持容量線SLに囲まれた開口寄与部OP、及びゲート線GL及び保持容量線SLの一部に重畳する領域における感光性有機材料に対して露光を行う。その際、図9の左図に示したようなマスク44を介して感光性有機材料は露光される。マスク44は、長方形の透過部44W及びそれを囲む遮光部を有している。感光性有機材料はネガレジストであるため、この透過部44Wを通して露光された領域が、後の現像によって残る。これにより、開口寄与部OPを覆い、ゲート線GL及び保持容量線SLの一部と重畳するOCCF、即ちカラーフィルタ56が形成される。
Next, a photosensitive organic material (negative resist) containing a pigment is formed on the
このカラーフィルタ56には、図9の右図に示すように、大きな円弧状の角部が形成される。また、図10に示すように、カラーフィルタ56の角部は、ゲート線GL、表示信号線DL、保持容量線SL等の信号線の一部と、幅αを以って重畳している。一方、カラーフィルタ56の直線部は、ゲート線GL、表示信号線DL、保持容量線SL等の信号線の一部と、幅β2を以って重畳している。これらの重畳領域は、露光のずれ等によるカラーフィルタ56の形成誤差により、開口寄与部OPから光漏れが生じることを抑止するものである。
In the
また、カラーフィルタ56は、パッド電極14及びコンタクトホールCH2から離間した位置に形成されている。コンタクトホールCH2とカラーフィルタ56との離間距離Lは、例えば約1μm〜3μmである。これは、露光のずれ等によりカラーフィルタ56がコンタクトホールCH2に延びること、又はコンタクトホールCH2内においてカラーフィルタ56の形成時に生じた残渣が散在してしまうことにより、パッド電極14と、後述する表示電極18との接続不良を抑止するためである。
The
次に、カラーフィルタ56を覆う平坦化膜17が形成される。さらに平坦化膜17の一部をエッチングして、コンタクトホールCH2と連続するコンタクトホールCH3が形成される。
Next, the
次に、コンタクトホールCH2,CH3を通してパッド電極14と接続され、平坦化膜17上に延びる表示電極18が形成される。表示電極18は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明金属からなる。表示電極18には、不図示の配向膜が形成される。
Next, a
次に、第1の基板10に、ガラス等の第2の基板20が貼り合わされる。この第2の基板20には、表示電極18に対向して共通電極21及び不図示の配向膜が形成されている。そして、第1の基板10及び第2の基板20の間に液晶層LCが封止される。
Next, a second substrate 20 such as glass is bonded to the
なお、関連する技術文献としては、例えば以下の特許文献が挙げられる。
上述したカラーフィルタ56、即ちOCCFを用いた表示装置では、図10に示すように、感光性有機材料の露光及び現像の際に、カラーフィルタ56の角部は半径r2の大きな円弧状となる。これは上記露光時のいわゆる光近接効果によるものである。ここで、その角部とゲート線GL等の信号線との最低限必要な重畳領域の幅αを確保しようとすると、カラーフィルタ56の直線部とゲート線GL等の信号線との重畳領域の幅β2は、半径r2の増大に応じて大きくなる。この幅β2は冗長な幅も含むため、コンタクトホールCH2とカラーフィルタ56との離間距離Lを確保するためには、開口寄与部OPを小さくするか、画素1のサイズを増大させる必要が生じる。そのため、高精細化によって画素1を微小化する場合には、開口寄与部OP、即ち画素1の開口率が低下するという問題が生じていた。
In the display device using the above-described
そこで本発明は、カラーフィルタを備えた表示装置及びその製造方法において、画素の開口率を高めるものである。 Therefore, the present invention increases the aperture ratio of a pixel in a display device including a color filter and a manufacturing method thereof.
本発明の表示装置の製造方法は、基板上に、薄膜トランジスタに接続されたパッド電極を形成する工程と、パッド電極を覆う絶縁膜を形成する工程と、パッド電極の一部を露出するコンタクトホールを絶縁膜に形成する工程と、絶縁膜上に、感光性有機材料を形成する工程と、長方形の透過部及びその角部と連結された拡張透過部を有したマスク、又は長方形の遮光部及びその角部と連結された拡張遮光部を有したマスクを介して、前記コンタクトホールと離間した領域の感光性有機材料を露光する工程と、 感光性有機材料を現像し、コンタクトホールと離間したカラーフィルタを形成する工程と、絶縁膜及びカラーフィルタを覆う平坦化膜を形成する工程と、コンタクトホール上の平坦化膜をエッチングまたはアッシングにより除去してパッド電極を露出する工程と、コンタクトホールを通してパッド電極と接続され平坦化膜上に延びる表示電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 The display device manufacturing method of the present invention includes a step of forming a pad electrode connected to a thin film transistor on a substrate, a step of forming an insulating film covering the pad electrode, and a contact hole exposing a part of the pad electrode. A step of forming an insulating film; a step of forming a photosensitive organic material on the insulating film; a mask having an extended transmission part connected to a rectangular transmission part and its corner part; or a rectangular light-shielding part and its Exposing a photosensitive organic material in a region separated from the contact hole through a mask having an extended light-shielding portion connected to a corner, and developing the photosensitive organic material to separate the color filter from the contact hole Forming a planarizing film covering the insulating film and the color filter, and removing the planarizing film on the contact hole by etching or ashing. A step of exposing the head electrode, characterized in that it comprises a a step of being connected to the pad electrodes to form display electrodes extending over the planarizing film through the contact hole.
また、本発明の表示装置は、基板上に、薄膜トランジスタに接続されたパッド電極と、パッド電極を覆う絶縁膜と、絶縁膜上に形成されたカラーフィルタと、絶縁膜に設けられたコンタクトホールを通してパッド電極と接続された表示電極と、を備えた表示装置であって、カラーフィルタの角部は円弧状となっており、その円弧の半径は2μm以下であることを特徴とする。 In the display device of the present invention, the pad electrode connected to the thin film transistor, the insulating film covering the pad electrode, the color filter formed on the insulating film, and the contact hole provided in the insulating film are provided on the substrate. A display device including a display electrode connected to a pad electrode, wherein a corner portion of the color filter has an arc shape, and a radius of the arc is 2 μm or less.
かかる構成によれば、カラーフィルタの冗長な形成領域が減少する。これにより、画素1の冗長な領域が減少し、開口率を従来例に比して高めることができる。又は、画素の小規模化が可能となり、表示領域の全体の小規模化を図ることができる。
With this configuration, the redundant formation area of the color filter is reduced. Thereby, the redundant area | region of the
本発明によれば、カラーフィルタを備えた表示装置及びその製造方法において、カラーフィルタの冗長な形成領域が減少するため、画素の開口率を高めることができる。 According to the present invention, in a display device including a color filter and a manufacturing method thereof, the redundant formation region of the color filter is reduced, so that the aperture ratio of the pixel can be increased.
最初に、本発明の第1の実施形態に係る表示装置及びその製造方法について、図面を参照して説明する。本実施形態の表示装置は、液晶層を備えた液晶表示装置であるものとして説明する。 First, a display device and a manufacturing method thereof according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The display device of this embodiment will be described as a liquid crystal display device including a liquid crystal layer.
図1は、この表示装置のカラーフィルタ及びその形成工程を説明する平面図である。なお、この表示装置には複数の画素が形成されるが、図1では、1つの画素1に形成される1つのカラーフィルタについて示している。また、図1では、図7及び図8に示したものと同一の構成要素については同一の符号を付して参照する。
FIG. 1 is a plan view for explaining a color filter of the display device and a process for forming the color filter. Although a plurality of pixels are formed in this display device, FIG. 1 shows one color filter formed in one
この表示装置の製造方法では、薄膜トランジスタTR及びそれを覆う層間絶縁膜15の形成工程、第2の基板20による液晶層LCの封止工程については、図7及び図8に示した上記工程と同様である。次に、層間絶縁膜15上に形成される本実施形態のカラーフィルタ16の形成工程について説明する。
In this manufacturing method of the display device, the formation process of the thin film transistor TR and the
層間絶縁膜15上に、カラーフィルタ16の材料となる感光性有機材料が形成されると、図1の左図に示すマスク41を介して、その感光性有機材料に対して露光が行われる。
When a photosensitive organic material to be the material of the
マスク41は、長方形又は略長方形の透過部41W及びそれを囲む遮光部を有している。また、透過部41Wの角部には、その角部と連結された拡張透過部41Cが形成されている。拡張透過部41Cは、正方形又は略正方形であり、透過部41Wの角部に部分的に重なっている。透過部41Wの角部と重ならない拡張透過部41Cの領域において、その短辺をaとすると、それと直交する長辺の長さは2aである。ここで、aは約0.5〜3.0μmである。
The
マスク41は、拡張透過部41Cの存在によって、いわゆる光近接効果を補正するマスク(以降、「光近接補正マスク」と略称する)として機能するため、上記露光、及びそれに続いて行われる現像により形成されるカラーフィルタ16は、図1の右図に示すように、矩形の角部が略直角となる。ここで、略直角の角部は、円弧状に微小な丸みを帯びている。しかしながら、図2に示すように、その円弧の半径r1は、図9及び図10の従来例に示したカラーフィルタ56の角部に形成された円弧の半径r2に比して極めて小さい。
The
そのため、カラーフィルタ16の角部とゲート線GL等の信号線との最低限必要な重畳領域を幅αとして確保するとき、カラーフィルタ16の直線部とゲート線GLの信号線との重畳領域の幅β1は、従来例に係る重畳領域の幅β2に比して小さくなる。ただし、r1,r2≧αであり、β1=r1−(r1−α)/√2、β2=r2−(r2−α)/√2であるものとする。なお、図示しないが、r1,r2<αとなる場合、β1=r1+(α−r1)/√2、β2=r2+(α−r2)/√2であるものとする。図2及び図10の例では、r1,r2≧αの場合を示している。
Therefore, when the minimum necessary overlapping region between the corner of the
これにより、カラーフィルタ16の冗長な形成領域を従来例に比して小さくすることができるため、その分、コンタクトホールCH2との離間距離Lを確保しつつ、開口寄与部OPの面積を広げて開口率を高めることができる。又は、開口率を高める必要が無ければ、画素1のサイズを従来例に比して小さくすることができる。
As a result, the redundant formation region of the
本発明の発明者らの行った実験によれば、従来例に比して小さくすることのできるカラーフィルタ16の冗長な形成領域の幅(β2−β1)は、0.3×(r2−r1)程度である。従って、カラーフィルタ16の上下方向又は左右方向において、0.6×(r2−r1)程度、そのサイズを小さくすることが可能となる。
According to experiments conducted by the inventors of the present invention, the width (β2-β1) of the redundant formation region of the
また、図3に示すように、従来例に係るカラーフィルタ56と比較すると、r1はr2より小さいため、本実施形態のカラーフィルタ16の角部16Cの面積は、従来例に比して大きくなり、層間絶縁膜15に対するカラーフィルタの密着性がよくなる。特に、カラーフィルタ16の各辺の長さが10μm以下である場合、この密着性の効果は顕著に現れる。そのため、カラーフィルタ16は、各辺の長さが10μm以下となるように形成されることが好ましい。
Also, as shown in FIG. 3, when compared with the
なお、透過部41Wの形状は、頂点を共有する2辺が略直角に交差する角部を少なくとも1つ有していれば、長方形又は略長方形に限られることはない。例えば、直角三角形、台形、ホームベース形状、釣鐘形などであってもよい。
The shape of the
次に、本発明の第2の実施形態について図面を参照して説明する。図4は、本実施形態に係る表示装置のカラーフィルタ36及びその形成工程を説明する平面図である。図4では、第1の実施形態で示したものと同様の構成要素については、同一に符号を付して参照するものとし、その形成方法を省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a plan view for explaining the
図4に示すように、本実施形態では、薄膜トランジスタTRと接続されたパッド電極を囲むようにしてカラーフィルタ36が形成される点で第1の実施形態と異なる。本実施形態では、このパッド電極をパッド電極14Mとして参照する。なお、カラーフィルタ36は開口寄与部OPを覆っているものとする。
As shown in FIG. 4, the present embodiment is different from the first embodiment in that the
カラーフィルタ36を形成する工程では、層間絶縁膜15上に、カラーフィルタ36の材料となる感光性有機材料が形成されると、図5(A)に示すマスク42を介して、その感光性有機材料に対して露光が行われる。
In the step of forming the
マスク42は、パッド電極14M上を露出する長方形又は略長方形の遮光部42W及びそれを囲む透過部を有している。また、遮光部42Wの角部には、その角部と連結された拡張遮光部42Cが形成されている。拡張遮光部42Cは、正方形又は略正方形であり、遮光部42Wの角部に部分的に重なっている。遮光部42Wの角部と重ならない拡張遮光部42Cの領域において、その短辺をaとすると、それと直交する長辺の長さは2aである。ここで、aは約0.5〜3.0μmである。
The
マスク42は、拡張遮光部42Cの存在により、いわゆる光近接補正マスクとして機能するため、上記露光、及びそれに続いて行われる現像により形成されるカラーフィルタ36は、図5(B)に示すように、略直角の角部を有した開口部36Wを有する。また、カラーフィルタ36は、光漏れを防ぐため、パッド電極14Mの一部と重畳して形成される。その重畳の幅を幅β3とする。また、開口部36Wの直線部とコンタクトホールCH2との間に必要な離間距離をD1する。このとき、開口部36Wの角部とコンタクトホールCH2との離間距離D2は、その角部が略直角に形成されているため、D2>D1である。
Since the
もし仮に、図6(A)のような単純な矩形の遮光部43Wを有したマスク43を用いて上記露光を行うと、いわゆる光近接効果により、現像されたカラーフィルタ66の開口部66Wに、大きく湾曲した角部が形成される。このとき角部におけるカラーフィルタ66とコンタクトホールCH2との距離をD3とすると、D1>D3となってしまう。
If the exposure is performed using a
しかしながら、プロセス上の誤差によりカラーフィルタ66がコンタクトホールCH2内に存在しないようにするためには、カラーフィルタ66とコンタクトホールCH2との離間距離は、コンタクトホールCH2の周囲の全てにおいて少なくともD1だけ必要である。
However, in order to prevent the
そこで、開口部66Wにおけるカラーフィルタ66とコンタクトホールCH2との距離を少なくともD1の分だけ確保するためには、(D1−D3)=εとすると、開口部66Wを、幅εの分だけコンタクトホールCH2から遠ざかるように拡げる必要がある。従って、パッド電極14Mとカラーフィルタ66との重畳領域の幅β3を確保するためには、パッド電極14Mを幅εの分だけ拡げる必要がある(図中の領域A)。
Therefore, in order to ensure the distance between the
これに対して、図5に示した本実施形態では、D2>D1となっているため、パッド電極14Mを幅εの分だけ拡げる必要がない。これを逆にいえば、パッド電極14Mとカラーフィルタ66との重畳領域の幅β3を確保すると共に、図6の場合に比して幅εの分だけパッド電極14Mを小さく形成することができる。これにより、冗長なパッド電極の形成領域が減少するため、画素1の開口率が良好なものとなる。
On the other hand, in this embodiment shown in FIG. 5, since D2> D1, it is not necessary to expand the
なお、遮光部42Wの形状は、頂点を共有する2辺が略直角に交差する角部を少なくとも1つ有していれば、長方形又は略長方形に限られることはない。例えば、直角三角形、台形、ホームベース形状、釣鐘形などであってもよい。
The shape of the light-shielding
なお、本実施形態は液晶表示装置を例として説明したが、本発明は液晶表示装置以外の表示装置、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた表示装置についても適用することができる。 In addition, although this embodiment demonstrated the liquid crystal display device as an example, this invention is applicable also to display apparatuses other than a liquid crystal display device, for example, the display apparatus provided with the organic electroluminescent element.
1 画素 10 第1の基板 11 能動層
12 ゲート絶縁膜 13 第1の電極 14 第2の電極
15 層間絶縁膜 16,36,56,66 カラーフィルタ
17 平坦化膜 18 表示電極 20 第2の基板
21 対向電極
36W,66W 開口部 41,42,43,44 マスク
41W 透過部 42W,43W 遮光部
41C 拡張透過部 42C 拡張遮光部
GL ゲート線 DL 表示信号線 LC 液晶層
1
36W,
Claims (9)
薄膜トランジスタに接続されたパッド電極を形成する工程と、
前記パッド電極を覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記パッド電極の一部を露出するコンタクトホールを前記絶縁膜に形成する工程と、
前記絶縁膜上に、感光性有機材料を形成する工程と、
頂点を共有する2辺が略直角に交差する角部を有する透過部及びその角部と連結された拡張透過部を有したマスクを介して、前記コンタクトホールと離間した領域の前記感光性有機材料を露光する工程と、
前記感光性有機材料を現像し、前記コンタクトホールと離間したカラーフィルタを形成する工程と、
前記絶縁膜及び前記カラーフィルタを覆う平坦化膜を形成する工程と、
前記コンタクトホール上の前記平坦化膜を除去して前記パッド電極を露出する工程と、
前記コンタクトホールを通してパッド電極と接続され前記平坦化膜上に延びる表示電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 On the board
Forming a pad electrode connected to the thin film transistor;
Forming an insulating film covering the pad electrode;
Forming a contact hole in the insulating film to expose a part of the pad electrode;
Forming a photosensitive organic material on the insulating film;
The photosensitive organic material in a region separated from the contact hole via a mask having a transmission part having a corner part where two sides sharing a vertex intersect at a substantially right angle and an extended transmission part connected to the corner part A step of exposing
Developing the photosensitive organic material to form a color filter spaced from the contact hole;
Forming a planarization film covering the insulating film and the color filter;
Removing the planarization film on the contact hole to expose the pad electrode;
Forming a display electrode connected to a pad electrode through the contact hole and extending on the planarizing film.
前記カラーフィルタの形成領域は、前記信号線の一部と重畳し、かつ前記パッド電極と離間した領域であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の表示装置の製造方法。 A signal line is formed on the substrate;
3. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the color filter formation region is a region overlapping with a part of the signal line and spaced from the pad electrode.
薄膜トランジスタに接続されたパッド電極を形成する工程と、
前記パッド電極を覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記パッド電極の一部を露出するコンタクトホールを前記絶縁膜に形成する工程と、
前記絶縁膜上に、感光性有機材料を形成する工程と、
頂点を共有する2辺が略直角に交差する角部を有する遮光部及びその角部と連結された拡張遮光部を有したマスクを介して、前記コンタクトホールと離間した領域の前記感光性有機材料を露光する工程と、
前記感光性有機材料を現像し、前記コンタクトホールと離間したカラーフィルタを形成する工程と、
前記絶縁膜及び前記カラーフィルタを覆う平坦化膜を形成する工程と、
前記コンタクトホール上の前記平坦化膜を除去して前記パッド電極を露出する工程と、
前記コンタクトホールを通してパッド電極と接続され前記平坦化膜上に延びる表示電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 On the board
Forming a pad electrode connected to the thin film transistor;
Forming an insulating film covering the pad electrode;
Forming a contact hole in the insulating film to expose a part of the pad electrode;
Forming a photosensitive organic material on the insulating film;
The photosensitive organic material in a region separated from the contact hole through a mask having a light-shielding portion having a corner portion where two sides sharing a vertex intersect at a substantially right angle and an extended light-shielding portion connected to the corner portion A step of exposing
Developing the photosensitive organic material to form a color filter spaced from the contact hole;
Forming a planarization film covering the insulating film and the color filter;
Removing the planarization film on the contact hole to expose the pad electrode;
Forming a display electrode connected to a pad electrode through the contact hole and extending on the planarizing film.
前記カラーフィルタの角部は円弧状となっており、その円弧の半径は2μm以下であることを特徴とする表示装置。 A pad electrode connected to the thin film transistor on the substrate, an insulating film covering the pad electrode, a color filter formed on the insulating film, and a contact hole provided in the insulating film are connected to the pad electrode. A display device comprising:
The corner of the color filter has an arc shape, and the radius of the arc is 2 μm or less.
前記カラーフィルタの形成領域は、前記信号線の一部と重畳し、かつ前記パッド電極と離間した領域であることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。 A signal line is formed on the substrate;
The display device according to claim 7, wherein the color filter formation region is a region overlapping with a part of the signal line and spaced from the pad electrode.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8802356B2 (en) | 2011-05-24 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Photosensitive film pattern and method for manufacturing a photosensitive film pattern |
US20210134197A1 (en) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and test method thereof |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7341775B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-09-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | display device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001021878A (en) * | 1999-07-12 | 2001-01-26 | Nec Corp | Active matrix type liquid crystal display device and its production |
JP2003066589A (en) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask for color filter and method for producing color filter, using the same |
JP2005173037A (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Fujitsu Display Technologies Corp | Liquid crystal display device and its manufacturing method |
JP2005173110A (en) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toppoly Optoelectronics Corp | Electrooptical display panel |
-
2006
- 2006-10-13 JP JP2006279431A patent/JP5255758B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001021878A (en) * | 1999-07-12 | 2001-01-26 | Nec Corp | Active matrix type liquid crystal display device and its production |
JP2003066589A (en) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask for color filter and method for producing color filter, using the same |
JP2005173037A (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Fujitsu Display Technologies Corp | Liquid crystal display device and its manufacturing method |
JP2005173110A (en) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toppoly Optoelectronics Corp | Electrooptical display panel |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8802356B2 (en) | 2011-05-24 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Photosensitive film pattern and method for manufacturing a photosensitive film pattern |
US20210134197A1 (en) * | 2019-10-30 | 2021-05-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and test method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5255758B2 (en) | 2013-08-07 |
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