JP2008091769A - 半導体レーザ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】リッジストライプ上に形成された不要な電流阻止層を容易且つ確実にエッチング除去できて、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある半導体レーザ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】リッジストライプ形状のp型GaAs上キャップ層111、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110、p型GaAs下キャップ層109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108でリッジストライプ150を構成する。リッジストライプ150上の不要なn型GaAs電流阻止層1160とp型GaAs上キャップ層111とをアンモニア過酸化水素系エッチャントで選択的にエッチング除去して、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110をフッ化水素酸で選択的にエッチング除去する。
【選択図】図1C
【解決手段】リッジストライプ形状のp型GaAs上キャップ層111、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110、p型GaAs下キャップ層109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108でリッジストライプ150を構成する。リッジストライプ150上の不要なn型GaAs電流阻止層1160とp型GaAs上キャップ層111とをアンモニア過酸化水素系エッチャントで選択的にエッチング除去して、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110をフッ化水素酸で選択的にエッチング除去する。
【選択図】図1C
Description
本発明は半導体レーザ素子の製造方法に関する。
近年、化合物半導体デバイスとして、DVD(デジタル多目的ディスク)、CD(コンパクトディスク)用のピックアップに用いられる半導体レーザ装置の需要は益々拡大しており、特性のばらつきが少なく、信頼性に優れた半導体レーザが要求されている。さらには低コスト化の要求も年々高まっていることから半導体レーザに限らず、半導体デバイスの製造においては良品率の向上が不可欠である。そのためにはプロセスマージンが大きく再現性に優れ簡便で安定したウェハプロセスの開発が必要である。
図3A〜図3Dに、ロスガイド埋め込みリッジ型半導体レーザ素子の製造方法の工程図を示す。
上記半導体レーザ素子を製造する場合、まず、図3Aに示すように、有機金属化学気相成長法(MOCVD:metal organic chemical vapor deposition)により、n型GaAs基板301上に、n型GaAsバッファー層302、n型AlxGa1−xAs第1クラッド層303、n型AlxGa1−xAs第2クラッド層304、ノンドープAlxGa1−xAs量子井戸活性層305、p型AlxGa1−xAs第1クラッド層306、p型GaAsエッチングストップ層307、p型AlxGa1−xAs第2クラッド層308及びp型GaAsキャップ層309をこの順で成長させる。
次に、図3Bに示すように、フォトリソグラフィー法などにより、所定領域を覆うマスクパターンを有するレジスト310を形成した後、エッチングで上記所定領域の両側のp型GaAsキャップ層309及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層308を除去して、リッジストライプ350を形成する。
次に、上記レジスト310を除去した後、図3Cに示すように、リッジストライプ350外に電流が流れないようにn型GaAs電流阻止層311を積層する。
次に、上記n型GaAs電流阻止層311の積層時に形成されたリッジストライプ350上の不要なn型GaAs電流阻止層311を除去するために、リッジストライプ350上以外の部分にフォトリソグラフィー法でレジスト(図示せず)を形成し、上記不要な電流阻止層311と、を含むp型GaAsキャップ層309の途中までエッチング除去する。
次に、上記レジストを除去した後、図3Dに示すように、p型GaAsキャップ層309及びn型GaAs電流阻止層311上にp側電極312を形成する一方、n型GaAs基板301下にn側電極313を形成する。
このようなリッジストライプ構造を電流阻止層などで埋め込む半導体レーザ素子では、リッジストライプ上に本来不必要な電流阻止層が積層されてしまうため、これを除去する必要がある。
上記リッジストライプ上に電流阻止層が残ればリッジストライプに電流が流れず、発振不良になる。また、上記リッジストライプ上の電流阻止層だけでなく、この電流阻止層下のp型キャップ層も除去されてしまうと、電極とのコンタクトが取れなくなってしまうなどの不具合が発生する。
上記リッジストライプ上の不要な電流阻止層の除去は電流阻止層を含めてp型GaAsキャップ層の途中で止めるのが理想的である。上記不要な電流阻止層をエッチング除去する方法としては、ドライエッチングによる方法と、ウェットエッチングによる方法とがある。
上記ドライエッチングで不要な電流阻止層を除去する場合、結晶へのダメージの影響とエッチング後の形状に問題がある。また、上記リッジストライプの両側の電流阻止層の層厚が厚い場合、リッジストライプ上の不要な電流阻止層は山型の形状をしており、等方性で進むドライエッチングをすると山型をそのまま反映した形状となるため、p型GaAsキャップ層の両脇が大きく窪んだ状態となってしまう。この窪みのため、p側電極が途切れたり、レーザチップを素子化する場合、窪みの影響で活性層へ歪が加わり信頼性に影響を与えてしまう可能性がある。
一方、上記ウェットエッチングで不要な電流阻止層を除去する場合、ドライエッチングと違い、結晶へのダメージが無く、エッチャントの種類を選べば等方性や異方性エッチングが比較的容易である。また、上記ウェットエッチングの場合、エッチング材料に対して選択性エッチングも可能なので扱いやすい。
しかしながら、上記リッジストライプの両側の電流阻止層の層厚が厚い場合、不要部のエッチング量も増加するため、p型GaAsキャップ層の途中でウェットエッチングを止めるのは容易でない。上記ウェットエッチングでは、エッチャントのエッチングレートばらつきでp型GaAsキャップ層のオーバーエッチングや、不要層残りであるアンダーエッチングが発生する可能性があり、常に安定したプロセスにはなっていない。
また、特開2004−303897号公報においてはリッジストライプ上の電流阻止層除去を容易に行うため電流阻止層の厚みの範囲を規定して、リッジストライプ上に積層される電流阻止層の形状を特定の形になるようにしているが、厚みが規定されているため設計上の自由度がなくなってしまう。
特開2004−303897号公報
そこで、本発明の課題は、リッジストライプ上に形成された不要な電流阻止層を容易且つ確実にエッチング除去できて、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある半導体レーザ素子の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の半導体レーザ素子の製造方法は、
基板上に半導体層群を形成する工程と、
上記半導体層群上に、下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層を順次形成する工程と、
上記下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層をリッジストライプ形状に加工して、リッジストライプを形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層の両側に電流阻止層を形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の上キャップ層を第1のエッチャントで除去した後、上記リッジストライプ形状のキャップエッチングストップ層を第2のエッチャントで除去する工程と
を備え、
上記キャップエッチングストップ層の材料組成は、上記上キャップ層及び下キャップ層の材料組成と異なり、
上記キャップエッチングストップ層と上記上キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であり、
上記キャップエッチングストップ層と上記下キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であることを特徴としている。
基板上に半導体層群を形成する工程と、
上記半導体層群上に、下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層を順次形成する工程と、
上記下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層をリッジストライプ形状に加工して、リッジストライプを形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層の両側に電流阻止層を形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の上キャップ層を第1のエッチャントで除去した後、上記リッジストライプ形状のキャップエッチングストップ層を第2のエッチャントで除去する工程と
を備え、
上記キャップエッチングストップ層の材料組成は、上記上キャップ層及び下キャップ層の材料組成と異なり、
上記キャップエッチングストップ層と上記上キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であり、
上記キャップエッチングストップ層と上記下キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であることを特徴としている。
上記構成の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記キャップエッチングストップ層と上キャップ層とが互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であるので、リッジストライプ形状のキャップエッチングストップ層を除去することなく、リッジストライプ形状の上キャップ層を第1のエッチャントで除去できる。
また、上記キャップエッチングストップ層と下キャップ層とが互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であるので、リッジストライプ形状の下キャップ層を除去することなく、リッジストライプ形状のキャップエッチングストップ層を第2のエッチャントで除去できる。
したがって、上記リッジストライプに対するウェットエッチングを下キャップ層で容易且つ確実に止めることができる。
したがって、上記リッジストライプ上の不要な電流阻止層をオーバーエッチングやアンダーエッチングを発生させずに容易且つ確実にエッチング除去できる。
また、上記電流阻止層の厚みを規定しなくてもよいので、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記電流阻止層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成する。
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記電流阻止層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記キャップエッチングストップ層は電流阻止層よりもエッチング速度が速い材料組成比になっているので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによる電流阻止層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記半導体層群はクラッド層を含んでいて、
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記クラッド層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成する。
上記半導体層群はクラッド層を含んでいて、
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記クラッド層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記キャップエッチングストップ層はクラッド層よりもエッチング速度が速い材料組成比になっているので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによるクラッド層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記電流阻止層をAlxGa1−xAs(x=0〜0.7)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成する。
上記電流阻止層をAlxGa1−xAs(x=0〜0.7)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記電流阻止層をAlxGa1−xAs(x=0〜0.7)で構成し、且つ、キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成するので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによる電流阻止層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記クラッド層をAlxGa1−xAs(x=0.4〜0.6)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成する。
上記クラッド層をAlxGa1−xAs(x=0.4〜0.6)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記クラッド層をAlxGa1−xAs(x=0.4〜0.6)で構成し、且つ、キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成するので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによるクラッド層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記電流阻止層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x<1)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成する。
上記電流阻止層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x<1)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記電流阻止層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x<1)で構成し、且つ、キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成するので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによる電流阻止層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記電流阻止層をGaAsで構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(y<1)で構成する。
上記電流阻止層をGaAsで構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(y<1)で構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記電流阻止層をGaAsで構成し、且つ、キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(y<1)で構成するので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによる電流阻止層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記クラッド層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x=0.5〜0.8)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成する。
上記クラッド層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x=0.5〜0.8)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成する。
上記実施形態の半導体レーザ素子の製造方法によれば、上記クラッド層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x=0.5〜0.8)で構成し、且つ、キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成するので、キャップエッチングストップ層を第2のエッチャントでエッチングする場合に、第2のエッチャントの染み込みによるクラッド層への影響を少なくすることができる。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記キャップエッチングストップ層をAlxGa1−xAs系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてフッ化水素酸を使用する。
上記キャップエッチングストップ層をAlxGa1−xAs系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてフッ化水素酸を使用する。
一実施形態の半導体レーザ素子の製造方法では、
上記キャップエッチングストップ層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてリン酸を使用する。
上記キャップエッチングストップ層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてリン酸を使用する。
本発明の半導体レーザ素子の製造方法によれば、キャップエッチングストップ層と上キャップ層とが互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であり、キャップエッチングストップ層と下キャップ層とが互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であるので、リッジストライプに対するウェットエッチングを下キャップ層で容易且つ確実に止めることができる。
したがって、上記リッジストライプ上の不要な電流阻止層をオーバーエッチングやアンダーエッチングを発生させずに容易且つ確実にエッチング除去できる。
また、上記リッジストライプ上の不要な電流阻止層をオーバーエッチングやアンダーエッチングを発生させずに容易且つ確実にエッチング除去できるので、再現良く安定的に半導体レーザの製造が可能である。
また、上記電流阻止層の厚みを規定しなくてもよいので、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある。
以下、本発明の半導体レーザ素子の製造方法を図示の実施形態により詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1A〜図1Fに、本発明の第1実施形態の半導体レーザ素子の製造方法の工程図を示す。この製造方法では半導体レーザ素子をAlGaAs系材料で構成する。
図1A〜図1Fに、本発明の第1実施形態の半導体レーザ素子の製造方法の工程図を示す。この製造方法では半導体レーザ素子をAlGaAs系材料で構成する。
上記半導体レーザ素子の製造方法では、まず、図1Aに示すように、有機金属化学気相成長法により、n型GaAs基板101上に、n型GaAsバッファー層102(層厚0.5μm)、n型AlxGa1−xAs第1クラッド層103(x=0.485、層厚1.5μm)、n型AlxGa1−xAs第2クラッド層104(x=0.550、層厚0.2μm)、ノンドープAlxGa1−xAs量子井戸活性層105、p型AlxGa1−xAs第1クラッド層106(x=0.550、層厚0.1μm)、p型GaAsエッチングストップ層107(層厚26Å)、p型AlxGa1−xAs第2クラッド層1108(x=0.550、層厚1.0μm)、p型GaAs下キャップ層1109(層厚0.4μm)、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層1110(y=0.700、層厚0.1μm)、p型GaAs上キャップ層1111(層厚0.4μm)を順に成長させる。このn型GaAsバッファー層102、n型AlxGa1−xAs第1クラッド層103、n型AlxGa1−xAs第2クラッド層104、…及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層1108が半導体層群の一例を構成している。
次に、図1Bに示すように、フォトリソグラフィー法などにより所定領域を覆うマスクパターンを有するレジスト112を形成した後、エッチングで上記所定領域の両側のp型GaAs上キャップ層1111、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層1110、p型GaAs下キャップ層1109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層1108をエッチングで除去して、リッジストライプ150を形成する。
上記リッジストライプ150は、リッジストライプ形状のp型GaAs上キャップ層111、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110、p型GaAs下キャップ層109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108で構成されている。
次に、上記レジスト112を除去した後、図1Cに示すように、リッジストライプ150外に電流が流れないようにn型GaAs電流阻止層1160(層厚1.4μm)を積層する。
次に、上記リッジストライプ150上の不要なn型GaAs電流阻止層1160を除去するため、リッジストライプ150上以外の部分に、図1Dに示すように、フォトリソグラフィー法でレジスト113を形成し、上記不要なn型GaAs電流阻止層1160とp型GaAs上キャップ層111とを選択的にエッチング除去する。これにより、上記p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110、p型GaAs下キャップ層109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108の両側にn型GaAs電流阻止層2160が得られる。
上記エッチング除去には、AlGaAsをエッチングせずGaAsのみを選択的にエッチングできるエッチャント、例えばアンモニア過酸化水素系(アンモニア水:過酸化水素水:純水=1:30:50)エッチャントを用いる。このアンモニア過酸化水素系エッチャントは第1のエッチャントの一例である。
次に、図1Eに示すように、GaAsをエッチングせずAlGaAsのみを選択的にエッチングできるエッチャント、例えばフッ化水素酸でp型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のみを選択的にエッチング除去する。このフッ化水素酸は第2のエッチャントの一例である。
上記p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のAl混晶比yは0.700であり、p型AlxGa1−xAs第2クラッド層108のAl混晶比xは0.550である。これにより、上記p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110は、p型AlxGa1−xAs第2クラッド層108と比較して、フッ化水素酸のエッチングレートが速くなっており、短い時間で除去できる。よって、結晶の隙間からフッ化水素酸がp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108へ染み込んでも影響が少なくなる。
もし、上記p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のAl混晶比がp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108のAl混晶比よりも低い場合は、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のエッチング時間が長くなり、p型AlxGa1−xAs第2クラッド層108へのフッ化水素酸の染み込みの影響も大きくなる。
同様に、上記n型GaAs電流阻止層2160はp型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110をエッチングするフッ化水素酸に対してエッチングレートが無視できるので、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のエッチングによるn型GaAs電流阻止層2160への影響は無い。
次に、上記レジスト113を除去した後、図1Fに示すように、p型GaAs下キャップ層109及びn型GaAs電流阻止層160上にp側電極114を形成する一方、n型GaAs基板101下にn側電極115を形成する。
最後に、上記p型GaAs下キャップ層109及びp型AlxGa1−xAs第2クラッド層108から成るリッジストライプと垂直方向にウエハをへき開分割して、複数のレーザバーを形成して、各レーザバーの両端面(リッジストライプに垂直な両端面)に絶縁膜をコーティングして、各レーザバーを複数に分割する。
このように、上記p型AlxGa1−xAs第2クラッド層108上に、p型GaAs下キャップ層109、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110、p型GaAs上キャップ層111を形成するので、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110とp型GaAs上キャップ層111とのそれぞれを選択的にエッチング除去できる。
したがって、上記p型GaAs下キャップ層109がエッチングされたり、p型GaAs下キャップ層109上にp型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110が残ったりするのを容易且つ確実に防ぐことができる。
したがって、上記リッジストライプ150上の不要なn型GaAs電流阻止層1160をオーバーエッチングやアンダーエッチングを発生させずに容易且つ確実にエッチング除去できる。
すなわち、図3A〜図3Dや特開2004−303897号公報よりも安定したウェハプロセスが実現できた。
また、上記n型GaAs電流阻止層1160の厚みを規定しなくてもよいので、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある。
上記第1実施形態では、n型GaAs電流阻止層112を備えた半導体レーザ素子を作製したが、n型AlGaAsから成る電流阻止層を備えた実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子を作製してもよい。
上記実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子の場合は、電流阻止層のn型AlzGa1−zAsのAl混晶比を例えばz=0.65にすることにより、フッ化水素酸に対する電流阻止層のエッチング速度が、フッ化水素酸に対するp型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のエッチング速度よりも遅くなる。
したがって、上記実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子の場合であっても、上記第1実施形態と同じように、p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層110のエッチング時において、電流阻止層におけるフッ化水素酸の染み込みの影響を小さくできる。
(第2実施形態)
図2A〜図2Fに、本発明の第2実施形態の半導体レーザ素子の製造方法の工程図を示す。この製造方法では半導体レーザ素子をAlGaInP系材料で構成する。
図2A〜図2Fに、本発明の第2実施形態の半導体レーザ素子の製造方法の工程図を示す。この製造方法では半導体レーザ素子をAlGaInP系材料で構成する。
上記半導体レーザ素子の製造方法では、まず、図2Aに示すように、有機金属化学気相成長法により、n型GaAs基板201上に、n型AlxGa1−xInPクラッド層202(x=0.65)、ノンドープ活性層203(発振波長650nmの多重量子井戸構造)、p型AlxGa1−xInP第1クラッド層204(x=0.65)、p型GaInPエッチングストップ層205、p型AlxGa1−xInP第2クラッド層1206(x=0.65)、p型GaInP中間層1207、p型GaAs下キャップ層1208、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層1209(y=0.8)、p型GaAs上キャップ層1210を順に成長する。このn型AlxGa1−xInPクラッド層202、ノンドープ活性層203、…及びp型GaInP中間層1207が半導体層群の一例を構成している。
次に、図2Bに示すように、フォトリソグラフィー法などにより所定領域を覆うマスクパターンを有するレジスト211を形成した後、エッチングで上記所定領域の両側のp型AlxGa1−xInP第2クラッド層1206、p型GaInP中間層1207、p型GaAs下キャップ層1208、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層1209及びp型GaAs上キャップ層1210を除去して、リッジストライプ250を形成する。
上記リッジストライプ250は、リッジストライプ形状のp型AlxGa1−xInP第2クラッド層206、p型GaInP中間層207、p型GaAs下キャップ層208、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209及びp型GaAs上キャップ層210で構成されている。
次に、上記レジスト211を除去した後、図2Cに示すように、リッジストライプ250外に電流が流れないようにn型GaAs電流阻止層1260を積層する。
次に、上記リッジストライプ250上の不要なn型GaAs電流阻止層1260を除去するため、リッジストライプ250上以外の部分に、図2Dに示すように、フォトリソグラフィー法でレジスト212を形成し、上記不要なn型GaAs電流阻止層1260とp型GaAs上キャップ層210とを選択的にエッチング除去する。これにより、上記p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206、p型GaInP中間層207、p型GaAs下キャップ層208及びp型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209の両側にn型GaAs電流阻止層2260が得られる。
上記エッチング除去には、AlGaInPをエッチングせずGaAsのみを選択的にエッチングできるエッチャント、例えばアンモニア過酸化水素系(アンモニア水:過酸化水素水:純水=1:30:50)エッチャントを用いる。このアンモニア過酸化水素系は第1のエッチャントの一例である。
次に、図2Eに示すように、GaAsをエッチングせずAlGaInPのみを選択的にエッチングできるエッチャント、例えばリン酸でp型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のみを選択的にエッチング除去する。このリン酸は第2のエッチャントの一例である。
上記p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のAl混晶比xが0.8であり、p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206のAl混晶比xが0.65である。これにより、上記p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209は、p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206と比較して、リン酸のエッチングレートが速くなっており、短い時間で除去できる。よって、結晶の隙間からリン酸がp型AlxGa1−xInP第2クラッド層206へ染み込んでも影響が少なくなる。
もし、上記p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のAl混晶比がp型AlxGa1−xInP第2クラッド層206のAl混晶比よりも低い場合は、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のエッチング時間が長くなり、p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206へのリン酸の染み込みの影響も大きくなる。
同様に、上記n型GaAs電流阻止層2260は、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209をエッチングするリン酸に対してエッチングレートが無視できるので、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のエッチングによるn型GaAs電流阻止層2260への影響は無い。
次に、上記レジスト212を除去した後、図2Fに示すように、p型GaAs下キャップ層208及びn型GaAs電流阻止層260上にp側電極213を形成する一方、n型GaAs基板201下にn側電極214を形成する。
最後に、上記p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206、p型GaInP中間層207及びp型GaAs下キャップ層208から成るリッジストライプと垂直方向にウエハをへき開分割して、複数のレーザバーを形成して、各レーザバーの両端面(リッジストライプに垂直な両端面)に絶縁膜をコーティングして、各レーザバーを複数に分割する。
このように、上記p型AlxGa1−xInP第2クラッド層206上に、p型GaInP中間層207、p型GaAs下キャップ層208、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209及びp型GaAs上キャップ層210を形成するので、p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209とp型GaAs上キャップ層210とのそれぞれを選択的にエッチング除去できる。
したがって、上記p型GaAs下キャップ層208がエッチングされたり、p型GaAs下キャップ層208上にp型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209が残ったりするのを容易且つ確実に防ぐことができる。
したがって、上記リッジストライプ250上の不要なn型GaAs電流阻止層1160をオーバーエッチングやアンダーエッチングを発生させずに容易且つ確実にエッチング除去できる。
すなわち、図3A〜図3Dや特開2004−303897号公報よりも安定したウェハプロセスが実現できた。
また、上記n型GaAs電流阻止層1160の厚みを規定しなくてもよいので、半導体レーザ素子の設計上の自由度がある。
上記第2実施形態では、n型GaAs電流阻止層260を備えた半導体レーザ素子を作製したが、n型AlGaInPから成る電流阻止層を備えた実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子を作製してもよい。
上記実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子の場合は、電流阻止層のn型AlzGa1−zInPのAl混晶比を例えばz=0.75にすることにより、リン酸に対する電流阻止層のエッチング速度が、リン酸に対するp型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層209のエッチング速度よりも遅くなる。
したがって、上記実屈折率閉じ込め型半導体レーザ素子であっても、上記第2実施形態と同じように、電流阻止層におけるリン酸の染み込みの影響を小さくできる。
101 n型GaAs基板
102 n型GaAsバッファー層
103 n型AlxGa1−xAs第1クラッド層
104 n型AlxGa1−xAs第2クラッド層
105 ノンドープAlxGa1−xAs量子井戸活性層
106 p型AlxGa1−xAs第1クラッド層
107 p型GaAsエッチングストップ層
108,1108 p型AlxGa1−xAs第2クラッド層
109,1109 p型GaAs下キャップ層
110,1110 p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層
111,1111 p型GaAs上キャップ層
150 リッジストライプ
160,1160,21060 n型GaAs電流阻止層
201 n型GaAs基板
202 n型AlxGa1−xInPクラッド層
203 ノンドープ活性層
204 p型AlxGa1−xInP第1クラッド層
205 p型GaInPエッチングストップ層
206,1206 p型AlxGa1−xInP第2クラッド層
207,1207 p型GaInP中間層
208,1208 p型GaAs下キャップ層
209,1209 p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層
210,1210 p型GaAs上キャップ層
150 リッジストライプ
260,1260,2260 n型GaAs電流阻止層
102 n型GaAsバッファー層
103 n型AlxGa1−xAs第1クラッド層
104 n型AlxGa1−xAs第2クラッド層
105 ノンドープAlxGa1−xAs量子井戸活性層
106 p型AlxGa1−xAs第1クラッド層
107 p型GaAsエッチングストップ層
108,1108 p型AlxGa1−xAs第2クラッド層
109,1109 p型GaAs下キャップ層
110,1110 p型AlyGa1−yAsキャップエッチングストップ層
111,1111 p型GaAs上キャップ層
150 リッジストライプ
160,1160,21060 n型GaAs電流阻止層
201 n型GaAs基板
202 n型AlxGa1−xInPクラッド層
203 ノンドープ活性層
204 p型AlxGa1−xInP第1クラッド層
205 p型GaInPエッチングストップ層
206,1206 p型AlxGa1−xInP第2クラッド層
207,1207 p型GaInP中間層
208,1208 p型GaAs下キャップ層
209,1209 p型AlyGa1−yInPキャップエッチングストップ層
210,1210 p型GaAs上キャップ層
150 リッジストライプ
260,1260,2260 n型GaAs電流阻止層
Claims (10)
- 基板上に半導体層群を形成する工程と、
上記半導体層群上に、下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層を順次形成する工程と、
上記下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層をリッジストライプ形状に加工して、リッジストライプを形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の下キャップ層、キャップエッチングストップ層及び上キャップ層の両側に電流阻止層を形成する工程と、
上記リッジストライプ形状の上キャップ層を第1のエッチャントで除去した後、上記リッジストライプ形状のキャップエッチングストップ層を第2のエッチャントで除去する工程と
を備え、
上記キャップエッチングストップ層の材料組成は、上記上キャップ層及び下キャップ層の材料組成と異なり、
上記キャップエッチングストップ層と上記上キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であり、
上記キャップエッチングストップ層と上記下キャップ層とは互いに選択的にウェットエッチングで除去可能な材料組成であることを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記電流阻止層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記半導体層群はクラッド層を含んでいて、
上記第2のエッチャントに対する上記キャップエッチングストップ層のエッチング速度が、上記第2のエッチャントに対する上記クラッド層のエッチング速度よりも速くなる材料組成で、上記キャップエッチングストップ層を構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項2に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記電流阻止層をAlxGa1−xAs(x=0〜0.7)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項3に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記クラッド層をAlxGa1−xAs(x=0.4〜0.6)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層をAlyGa1−yAs(x<y)で構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項2に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記電流阻止層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x<1)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項2に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記電流阻止層をGaAsで構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(y<1)で構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項3に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記クラッド層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P(x=0.5〜0.8)で構成し、且つ、上記キャップエッチングストップ層を(AlyGa1−y)0.5In0.5P(x<y)で構成することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項4または5に記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記キャップエッチングストップ層をAlxGa1−xAs系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてフッ化水素酸を使用することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。 - 請求項6乃至8のいずれか1つに記載の半導体レーザ素子の製造方法において、
上記キャップエッチングストップ層を(AlxGa1−x)0.5In0.5P系材料で構成し、
上記上キャップ層及び下キャップ層をGaAsで構成し、
上記第1のエッチャントとしてアンモニア系エッチャントを使用し、
上記第2のエッチャントとしてリン酸を使用することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。
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