JP2008084525A - Thin magnetic film storage device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、薄膜磁性体装置に関し、より特定的には、磁気トンネル接合(MTJ:Magnetic Tunnel Junction)を有するメモリセルを備えた薄膜磁性体記憶装置に関する。 The present invention relates to a thin film magnetic device, and more particularly to a thin film magnetic memory device including a memory cell having a magnetic tunnel junction (MTJ).
低消費電力で不揮発的なデータ記憶が可能な記憶装置として、MRAMデバイスが注目されている。MRAMデバイスは、半導体集積回路に形成された複数の薄膜磁性体を用いて、不揮発的なデータ記憶を行ない薄膜磁性体の各々をメモリセルとして、ランダムアクセスが可能な記憶装置である。 MRAM devices are attracting attention as storage devices that can store nonvolatile data with low power consumption. An MRAM device is a storage device capable of performing random access using a plurality of thin film magnetic bodies formed in a semiconductor integrated circuit to perform nonvolatile data storage and each thin film magnetic body as a memory cell.
特に、近年では磁気トンネル接合を利用した薄膜磁性体をメモリセルとして用いることによって、MRAMデバイスの性能が飛躍的に進歩することが発表されている。磁気トンネル接合を有するメモリセルを備えたMRAMデバイスについては、“A 10ns Read and Write Non-Volatile Memory Array Using a Magnetic Tunnel Junction and FET Switch in each Cell", ISSCC Digest of Technical Papers, TA7.2, Feb. 2000.、 “Nonvolatile RAM based on Magnetic Tunnel Junction Elements", ISSCC Digest of Technical Papers, TA7.3, Feb. 2000. 、および“A 256kb 3.0V 1T1MTJ Nonvolatile Magnetoresistive RAM", ISSCC Digest of Technical Papers, TA7.6, Feb. 2001.等の技術文献に開示されている。 In particular, in recent years, it has been announced that the performance of MRAM devices will be dramatically improved by using a thin film magnetic body using a magnetic tunnel junction as a memory cell. For MRAM devices with memory cells with magnetic tunnel junctions, see “A 10ns Read and Write Non-Volatile Memory Array Using a Magnetic Tunnel Junction and FET Switch in each Cell”, ISSCC Digest of Technical Papers, TA7.2, Feb 2000., “Nonvolatile RAM based on Magnetic Tunnel Junction Elements”, ISSCC Digest of Technical Papers, TA7.3, Feb. 2000., and “A 256kb 3.0V 1T1MTJ Nonvolatile Magnetoresistive RAM”, ISSCC Digest of Technical Papers, TA7. 6, Feb. 2001. and the like.
図30は、磁気トンネル接合部を有するメモリセル(以下、単に「MTJメモリセル」とも称する)の構成を示す概略図である。 FIG. 30 is a schematic diagram showing a configuration of a memory cell having a magnetic tunnel junction (hereinafter also simply referred to as “MTJ memory cell”).
図30を参照して、MTJメモリセルは、磁気的に書込まれた記憶データのデータレベルに応じて電気抵抗が変化するトンネル磁気抵抗素子TMRと、アクセストランジスタATRとを含む。アクセストランジスタATRは、ビット線BLおよびソース電圧線SRLの間に、トンネル磁気抵抗素子TMRと直列に接続される。代表的には、アクセストランジスタATRとして、半導体基板上に形成された電界効果型トランジスタが適用される。 Referring to FIG. 30, the MTJ memory cell includes a tunnel magnetoresistive element TMR whose electric resistance changes according to the data level of magnetically written storage data, and an access transistor ATR. Access transistor ATR is connected in series with tunneling magneto-resistance element TMR between bit line BL and source voltage line SRL. Typically, a field effect transistor formed on a semiconductor substrate is applied as access transistor ATR.
MTJメモリセルに対しては、データ書込時に異なった方向のデータ書込電流をそれぞれ流すためのビット線BLおよびディジット線DLと、データ読出を指示するためのリードワード線RWLと、データ読出時にトンネル磁気抵抗素子TMRを所定電圧Vss(たとえば、接地電圧)にプルダウンするためのソース電圧線SRLとが設けられる。データ読出時においては、アクセストランジスタATRのターンオンに応答して、トンネル磁気抵抗素子TMRは、ソース電圧線SRLおよびビット線BLの間に電気的に結合される。 For MTJ memory cells, bit line BL and digit line DL for flowing data write currents in different directions at the time of data writing, read word line RWL for instructing data reading, and at the time of data reading A source voltage line SRL for pulling down tunneling magneto-resistance element TMR to a predetermined voltage Vss (for example, ground voltage) is provided. In data reading, tunnel magnetoresistive element TMR is electrically coupled between source voltage line SRL and bit line BL in response to turn-on of access transistor ATR.
図31は、MTJメモリセルに対するデータ書込動作を説明する概念図である。
図31を参照して、トンネル磁気抵抗素子TMRは、固定された一定の磁化方向を有する強磁性体層(以下、単に「固定磁化層」とも称する)FLと、外部かの印加磁界に応じた方向に磁化される強磁性体層(以下、単に「自由磁化層」とも称する)VLとを有する。固定磁化層FLおよび自由磁化層VLの間には、絶縁体膜で形成されるトンネルバリア(トンネル膜)TBが設けられる。自由磁化層VLは、書込まれる記憶データのレベルに応じて、固定磁化層FLと同一方向または固定磁化層FLと反対方向に磁化される。これらの固定磁化層FL、トンネルバリアTBおよび自由磁化層VLによって、磁気トンネル接合が形成される。
FIG. 31 is a conceptual diagram illustrating a data write operation for the MTJ memory cell.
Referring to FIG. 31, tunneling magneto-resistance element TMR corresponds to a ferromagnetic layer (hereinafter also simply referred to as “fixed magnetization layer”) FL having a fixed fixed magnetization direction and an externally applied magnetic field. A ferromagnetic layer (hereinafter, also simply referred to as “free magnetic layer”) VL that is magnetized in the direction. A tunnel barrier (tunnel film) TB formed of an insulator film is provided between the fixed magnetic layer FL and the free magnetic layer VL. Free magnetic layer VL is magnetized in the same direction as fixed magnetic layer FL or in the opposite direction to fixed magnetic layer FL according to the level of stored data to be written. A magnetic tunnel junction is formed by these fixed magnetic layer FL, tunnel barrier TB and free magnetic layer VL.
トンネル磁気抵抗素子TMRの電気抵抗は、固定磁化層FLおよび自由磁化層VLのそれぞれの磁化方向の相対関係に応じて変化する。具体的には、トンネル磁気抵抗素子TMRの電気抵抗は、固定磁化層FLの磁化方向と自由磁化層VLの磁化方向とが同じ(平行)である場合に最小値Rminとなり、両者の磁化方向が反対(反平行)方向である場合に最大値Rmaxとなる。 The electric resistance of tunneling magneto-resistance element TMR changes according to the relative relationship between the magnetization directions of fixed magnetic layer FL and free magnetic layer VL. Specifically, the electric resistance of tunneling magneto-resistance element TMR becomes the minimum value Rmin when the magnetization direction of fixed magnetic layer FL and the magnetization direction of free magnetic layer VL are the same (parallel), and the magnetization directions of both are The maximum value Rmax is obtained in the opposite (antiparallel) direction.
データ書込時においては、リードワード線RWLが非活性化されて、アクセストランジスタATRはターンオフされる。この状態で、自由磁化層VLを磁化するためのデータ書込電流は、ビット線BLおよびディジット線DLのそれぞれにおいて、書込データのレベルに応じた方向に流される。 At the time of data writing, read word line RWL is inactivated and access transistor ATR is turned off. In this state, the data write current for magnetizing free magnetic layer VL flows in the direction corresponding to the level of the write data in each of bit line BL and digit line DL.
図32は、データ書込時におけるデータ書込電流とトンネル磁気抵抗素子の磁化方向との関係を説明する概念図である。 FIG. 32 is a conceptual diagram illustrating the relationship between the data write current and the magnetization direction of the tunnel magnetoresistive element at the time of data writing.
図32を参照して、横軸H(EA)は、トンネル磁気抵抗素子TMR内の自由磁化層VLにおいて磁化容易軸(EA:Easy Axis)方向に印加される磁界を示す。一方、縦軸H(HA)は、自由磁化層VLにおいて磁化困難軸(HA:Hard Axis)方向に作用する磁界を示す。磁界H(EA)およびH(HA)は、ビット線BLおよびディジット線DLをそれぞれ流れる電流によって生じる2つの磁界の一方ずつにそれぞれ対応する。 Referring to FIG. 32, the horizontal axis H (EA) indicates a magnetic field applied in the easy axis (EA) direction in free magnetic layer VL in tunneling magneto-resistance element TMR. On the other hand, the vertical axis H (HA) indicates a magnetic field that acts in the hard magnetization axis (HA) direction in the free magnetic layer VL. Magnetic fields H (EA) and H (HA) respectively correspond to one of two magnetic fields generated by currents flowing through bit line BL and digit line DL, respectively.
MTJメモリセルにおいては、固定磁化層FLの固定された磁化方向は、自由磁化層VLの磁化容易軸に沿っており、自由磁化層VLは、記憶データのレベル(“1”および“0”)に応じて、磁化容易軸方向に沿って、固定磁化層FLと平行あるいは反平行(反対)方向に磁化される。MTJメモリセルは、自由磁化層VLの2通りの磁化方向と対応させて、1ビットのデータ(“1”および“0”)を記憶することができる。 In the MTJ memory cell, the fixed magnetization direction of the fixed magnetization layer FL is along the easy magnetization axis of the free magnetization layer VL, and the free magnetization layer VL has the stored data level (“1” and “0”). Accordingly, it is magnetized in the direction parallel to the fixed magnetic layer FL or in the antiparallel (opposite) direction along the easy axis direction. The MTJ memory cell can store 1-bit data (“1” and “0”) corresponding to the two magnetization directions of the free magnetic layer VL.
自由磁化層VLの磁化方向は、印加される磁界H(EA)およびH(HA)の和が、図32に示されるアステロイド特性線の外側の領域に達する場合においてのみ新たに書換えることができる。すなわち、印加されたデータ書込磁界がアステロイド特性線の内側の領域に相当する強度である場合には、自由磁化層VLの磁化方向は変化しない。 The magnetization direction of free magnetic layer VL can be rewritten only when the sum of applied magnetic fields H (EA) and H (HA) reaches a region outside the asteroid characteristic line shown in FIG. it can. That is, when the applied data write magnetic field has a strength corresponding to the region inside the asteroid characteristic line, the magnetization direction of the free magnetic layer VL does not change.
アステロイド特性線に示されるように、自由磁化層VLに対して磁化困難軸方向の磁界を印加することによって、磁化容易軸に沿った磁化方向を変化させるのに必要な磁化しきい値を下げることができる。 As indicated by the asteroid characteristic line, by applying a magnetic field in the hard axis direction to the free magnetic layer VL, the magnetization threshold required to change the magnetization direction along the easy axis is lowered. be able to.
図32に示した例のようにデータ書込時の動作点を設計した場合には、データ書込対象であるMTJメモリセルにおいて、磁化容易軸方向のデータ書込磁界は、その強度がHWRとなるように設計される。すなわち、このデータ書込磁界HWRが得られるように、ビット線BLまたはディジット線DLを流されるデータ書込電流の値が設計される。一般的に、データ書込磁界HWRは、磁化方向の切換えに必要なスイッチング磁界HSWと、マージン分ΔHとの和で示される。すなわち、HWR=HSW+ΔHで示される。 When the operating point at the time of data writing is designed as in the example shown in FIG. 32, the strength of the data write magnetic field in the easy axis direction is H WR in the MTJ memory cell that is the data write target. Designed to be That is, the value of the data write current that flows through bit line BL or digit line DL is designed so that this data write magnetic field HWR is obtained. Generally, data write magnetic field H WR is the switching magnetic field H SW necessary for switching the magnetization direction is indicated by the sum of the margin [Delta] H. That is, H WR = H SW + ΔH.
MTJメモリセルの記憶データ、すなわちトンネル磁気抵抗素子TMRの磁化方向を書換えるためには、ディジット線DLとビット線BLとの両方に所定レベル以上のデータ書込電流を流す必要がある。これにより、トンネル磁気抵抗素子TMR中の自由磁化層VLは、磁化容易軸(EA)に沿ったデータ書込磁界の向きに応じて、固定磁化層FLと平行もしくは、反対(反平行)方向に磁化される。トンネル磁気抵抗素子TMRに一旦書込まれた磁化方向、すなわちMTJメモリセルの記憶データは、新たなデータ書込が実行されるまでの間不揮発的に保持される。 In order to rewrite the storage data of the MTJ memory cell, that is, the magnetization direction of the tunnel magnetoresistive element TMR, it is necessary to pass a data write current of a predetermined level or more to both the digit line DL and the bit line BL. Thus, free magnetic layer VL in tunneling magneto-resistance element TMR is parallel to fixed magnetic layer FL or in the opposite (anti-parallel) direction according to the direction of the data write magnetic field along the easy axis (EA). Magnetized. The magnetization direction once written in tunneling magneto-resistance element TMR, that is, data stored in the MTJ memory cell is held in a nonvolatile manner until new data writing is executed.
図33は、MTJメモリセルからのデータ読出動作を説明する概念図である。
図33を参照して、データ読出動作時においては、アクセストランジスタATRは、リードワード線RWLの活性化に応答してターンオンする。これにより、トンネル磁気抵抗素子TMRは、所定電圧Vssへプルダウンされた状態でビット線BLと電気的に結合される。
FIG. 33 is a conceptual diagram illustrating a data read operation from the MTJ memory cell.
Referring to FIG. 33, in the data read operation, access transistor ATR is turned on in response to activation of read word line RWL. Thereby, tunneling magneto-resistance element TMR is electrically coupled to bit line BL while being pulled down to predetermined voltage Vss.
この状態で、ビット線BLを所定電圧へプルアップすれば、ビット線BLおよびトンネル磁気抵抗素子TMRを含む電流経路を、トンネル磁気抵抗素子TMRの電気抵抗に応じた、すなわちMTJメモリセルの記憶データのレベルに応じたメモリセル電流Icellが通過する。たとえば、このメモリセル電流Icellを所定の基準電流と比較することにより、MTJメモリセルから記憶データを読出すことができる。 In this state, if the bit line BL is pulled up to a predetermined voltage, the current path including the bit line BL and the tunnel magnetoresistive element TMR is changed according to the electric resistance of the tunnel magnetoresistive element TMR, that is, the stored data of the MTJ memory cell. The memory cell current Icell according to the level passes. For example, the stored data can be read from the MTJ memory cell by comparing the memory cell current Icell with a predetermined reference current.
このようにトンネル磁気抵抗素子TMRは、印加されるデータ書込磁界によって書換可能な磁化方向に応じてその電気抵抗が変化するので、トンネル磁気抵抗素子TMRの電気抵抗RmaxおよびRminと、記憶データのレベル(“1”および“0”)とそれぞれ対応付けることによって、不揮発的なデータ記憶を実行することができる。
このように、MRAMデバイスにおいては、記憶データレベルの違いに対応したトンネル磁気抵抗素子TMRでの接合抵抗差である電気抵抗差ΔR=(Rmax−Rmin)を利用してデータ記憶が実行される。すなわち、選択メモリセルの通過電流Icellの検知に基づいてデータ読出が実行される。 As described above, in the MRAM device, data storage is performed using the electrical resistance difference ΔR = (Rmax−Rmin), which is the junction resistance difference in the tunnel magnetoresistive element TMR corresponding to the difference in the stored data level. That is, data reading is performed based on detection of the passing current Icell of the selected memory cell.
一般的には、データ記憶を実行するための正規のMTJメモリセルとは別に、メモリセル電流Icellと比較される基準電流を生成するためのリファレンスセルが設けられる。このようなリファレンスセルによって生成される基準電流は、MTJメモリセルに2種類の電気抵抗RmaxおよびRminにそれぞれ対応する2種類のメモリセル電流Icellの中間値となるように設計される。 In general, a reference cell for generating a reference current to be compared with the memory cell current Icell is provided in addition to a normal MTJ memory cell for performing data storage. The reference current generated by such a reference cell is designed to be an intermediate value between the two types of memory cell currents Icell corresponding to the two types of electrical resistances Rmax and Rmin, respectively, in the MTJ memory cell.
すなわち、リファレンスセルは、電気抵抗RmaxおよびRminの中間レベルの電気抵抗を有するように作製する必要があるが、このような電気抵抗を実現するためには、特別な設計および作製を行なう必要がある。これにより、リファレンスセルの構造が複雑化して、チップ面積の増大やメモリセルアレイの加工マージン低下といった問題点が生じるおそれがある。 That is, the reference cell needs to be manufactured so as to have an electric resistance at an intermediate level between the electric resistances Rmax and Rmin, and in order to realize such an electric resistance, it is necessary to perform special design and manufacturing. . This complicates the structure of the reference cell, which may cause problems such as an increase in chip area and a reduction in processing margin of the memory cell array.
特に、このようなダミーセルを正規のメモリセルが配置されるメモリアレイと別領域に配置する構成においては、ダミーセルを含む電流経路と、アクセス対象に選択された正規のMTJメモリセルを含む電流経路とが、離れた領域にそれぞれ形成されるため、データ読出時におけるノイズ等の影響が大きくなり、読出マージンを低下させるおそれもある。 In particular, in a configuration in which such dummy cells are arranged in a separate area from the memory array in which normal memory cells are arranged, a current path including dummy cells and a current path including normal MTJ memory cells selected for access are provided. However, since they are formed in separate areas, the influence of noise and the like during data reading increases, and the read margin may be reduced.
この発明は、このような問題点を解決するためになされたものであって、正規のMTJメモリセルと同様に設計および作製されるリファレンスセル(ダミーセル)を用いてデータ読出を実行可能な薄膜磁性体記憶装置の構成を提供することである。 The present invention has been made to solve such problems, and is a thin film magnetic material capable of executing data reading using a reference cell (dummy cell) designed and manufactured in the same manner as a normal MTJ memory cell. It is to provide a configuration of a body storage device.
この発明に従う薄膜磁性体記憶装置は、各々が、記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子および、磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタを含む複数のメモリセルと、データ読出時に、複数のメモリセルのうちのアクセス対象に選択された選択メモリセルとの間で通過電流を比較するためのダミーセルと、データ読出時において、選択メモリセルおよびダミーセルをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部とを備える。ダミーセルは、各磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、第1および第2の電気抵抗のうちのより小さい一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタと、ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されて、第1および第2の電気抵抗の差よりも小さい電気抵抗を有するダミー抵抗付加部とを含む。ダミー抵抗付加部は、アクセストランジスタと同様に設計された少なくとも1個のトランジスタを有し、トランジスタの各ゲートへは調整可能な制御電圧が入力される。 The thin film magnetic memory device according to the present invention is configured such that each is magnetized in a direction corresponding to the level of stored data and has either the first or second electric resistance depending on the magnetization direction. And a plurality of memory cells including an access transistor connected in series with the magnetoresistive element and selectively turned on when reading data, and a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells when reading data First and second data lines electrically coupled to a fixed voltage via a selected memory cell and a dummy cell, respectively, at the time of data reading, and a first data line And a data read unit for reading data in accordance with the passing current difference of the second data line. The dummy cell has the same configuration and shape as each magnetoresistive element, a dummy magnetoresistive element magnetized in advance so as to have a smaller one of the first and second electric resistances, a dummy magnetoresistive element, Connected in series and selectively turned on at the time of data reading, connected in series with a dummy access transistor designed in the same way as the access transistor and a dummy magnetoresistive element, than the difference between the first and second electrical resistances And a dummy resistance adding portion having a small electric resistance. The dummy resistance adding unit includes at least one transistor designed in the same manner as the access transistor, and an adjustable control voltage is input to each gate of the transistor.
上記薄膜磁性体記憶装置は、ダミー抵抗付加部を構成するトランジスタおよびダミーアクセス素子がアクセス素子と同様のサイズに設計されるので、ダミーセルをメモリセルの配置ピッチに合わせて効率的に配置できる。メモリセルとダミーセルとを連続的に配置して、メモリアレイの加工マージンの低下を避けることができる。 In the thin film magnetic memory device, since the transistors and dummy access elements constituting the dummy resistance adding unit are designed to have the same size as the access elements, the dummy cells can be efficiently arranged according to the arrangement pitch of the memory cells. Memory cells and dummy cells can be continuously arranged to avoid a reduction in the processing margin of the memory array.
この発明の他の構成に従う薄膜磁性体記憶装置は、複数のメモリセルおよび、データ読出時に、複数のメモリセルのうちのアクセス対象に選択された選択メモリセルとの間で通過電流を比較するためのダミーセルが配置されたメモリアレイを備える。各メモリセルは、記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含む。ダミーセルは、磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、第1および第2の電気抵抗のうちのより小さい一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含む。薄膜磁性体記憶装置は、複数のメモリセルに対応して設けられ、固定電圧を伝達する第1の電圧配線と、ダミーセルに対応して設けられ、固定電圧を伝達する第2の電圧配線と、データ読出時において、選択メモリセルおよびダミーセルをそれぞれ介して、第1および第2の電圧配線とそれぞれ電気的に結合される第1および第2のデータ線と、第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、メモリアレイの外部において第2の電圧配線に対して直列に接続されて、第1および第2の電気抵抗の差よりも小さい電気抵抗を有するダミー抵抗付加部とをさらに備える。 A thin film magnetic memory device according to another configuration of the present invention compares a passing current between a plurality of memory cells and a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading. A dummy memory cell array. Each memory cell is magnetized in a direction corresponding to the level of stored data, and has a magnetoresistive element configured to have one of the first and second electric resistances depending on the magnetization direction, and the magnetoresistive element in series And an access transistor selectively turned on at the time of data reading. The dummy cell has the same configuration and shape as the magnetoresistive element, and is in series with a dummy magnetoresistive element that is pre-magnetized to have a smaller one of the first and second electric resistances, and the dummy magnetoresistive element. And a dummy access transistor which is selectively turned on at the time of data reading and designed similarly to the access transistor. The thin-film magnetic memory device is provided corresponding to a plurality of memory cells and transmits a fixed voltage, a first voltage wiring that corresponds to a dummy cell, and a second voltage wiring that transmits a fixed voltage. At the time of data reading, the first and second data lines electrically coupled to the first and second voltage wirings through the selected memory cell and the dummy cell, respectively, and the first and second data lines A data reading unit for reading data according to the difference in passing current and an electric current smaller than the difference between the first and second electric resistances connected in series to the second voltage wiring outside the memory array And a dummy resistance adding unit having a resistor.
上記薄膜磁性体記憶装置は、メモリアレイの外部に配置されたダミー抵抗付加部とダミーセルとの合成抵抗が、選択メモリセルの記憶データに応じた2種類の電気抵抗の中間値となるように構成される。したがって、選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流間にオフセットを与えるための構成をデータ読出回路側に設けることなく、通常のMTJメモリセルと同様の構成のダミーセルDMCを用いてデータ読出を実行することが可能である。この結果、ダミーメモリセルを作製するために特別の設計、製造工程、磁化工程等を必要としないため、構造の複雑化によるチップ面積の増大およびメモリアレイの加工マージンの低下等といった問題を招くことなく、正規メモリセルおよびダミーメモリセルを同一メモリアレイ内に設けてデータ読出マージンを確保することができる。さらに、データ読出回路系の構成を簡易化できる。 The thin film magnetic memory device is configured such that the combined resistance of the dummy resistance adding unit and the dummy cell arranged outside the memory array is an intermediate value of two types of electric resistances according to the storage data of the selected memory cell. Is done. Therefore, data reading can be executed using dummy cell DMC having the same configuration as that of a normal MTJ memory cell without providing a configuration for giving an offset between the passing currents of the selected memory cell and the dummy cell on the data reading circuit side. Is possible. As a result, no special design, manufacturing process, magnetizing process, or the like is required to manufacture the dummy memory cell, which causes problems such as an increase in chip area due to a complicated structure and a decrease in processing margin of the memory array. In addition, normal memory cells and dummy memory cells can be provided in the same memory array to ensure a data read margin. Furthermore, the configuration of the data read circuit system can be simplified.
好ましくは、ダミー抵抗付加部は、第2の電圧配線と固定電圧との間に電気的に結合され、ゲートへ調整可能な制御電圧を受ける電界効果型トランジスタを有する。 Preferably, the dummy resistance adding unit includes a field effect transistor that is electrically coupled between the second voltage wiring and the fixed voltage and receives an adjustable control voltage to the gate.
このように構成すると、ダミー抵抗付加部の電気抵抗を精密に調整することができる。
この発明のさらに別の1つの構成に従う薄膜磁性体記憶装置は、複数のメモリセルおよび、データ読出時に、複数のメモリセルのうちのアクセス対象に選択された選択メモリセルとの間で通過電流を比較するためのダミーセルが配置されたメモリアレイを備える。各メモリセルは、記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含む。ダミーセルは、磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、第1および第2の電気抵抗のいずれか一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含む。薄膜磁性体記憶装置は、データ読出時において、選択メモリセルおよびダミーセルの一方ずつをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、メモリアレイ外部において、第1および第2のデータ線のうちの選択メモリセルと結合された一方のデータ線に対して、第3の電気抵抗を直列に接続するための第1の抵抗付加部と、メモリアレイ外部において、第1および第2のデータ線のうちのダミーセルと結合された他方のデータ線に対して、第4の電気抵抗を直列に接続するための第2の抵抗付加部とをさらに備える。第3および第4の電気抵抗は、ダミーセルの電気抵抗および第4の電気抵抗の和が、第1および第3の電気抵抗の和と、第2および第3の電気抵抗の和との中間レベルとなるように決定される。
If comprised in this way, the electrical resistance of a dummy resistance addition part can be adjusted precisely.
A thin-film magnetic memory device according to still another configuration of the present invention provides a passing current between a plurality of memory cells and a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading. A memory array in which dummy cells for comparison are arranged is provided. Each memory cell is magnetized in a direction corresponding to the level of stored data, and has a magnetoresistive element configured to have one of the first and second electric resistances depending on the magnetization direction, and the magnetoresistive element in series And an access transistor selectively turned on at the time of data reading. The dummy cell has the same configuration and shape as the magnetoresistive element, and is connected in series with the dummy magnetoresistive element preliminarily magnetized so as to have one of the first and second electric resistances. And a dummy access transistor that is selectively turned on at the time of data reading and designed in the same manner as the access transistor. The thin film magnetic memory device includes a first data line and a second data line electrically coupled to a fixed voltage via one of each of the selected memory cell and the dummy cell, respectively, and the first and second data lines. A data reading portion for reading data according to the passing current difference of the data line, and one data line coupled to the selected memory cell of the first and second data lines outside the memory array , A first resistance adding unit for connecting the third electric resistance in series, and the other data line coupled to the dummy cell of the first and second data lines outside the memory array, And a second resistance adding unit for connecting the fourth electric resistance in series. In the third and fourth electric resistances, the sum of the electric resistance of the dummy cell and the fourth electric resistance is an intermediate level between the sum of the first and third electric resistances and the sum of the second and third electric resistances. To be determined.
上記薄膜磁性体記憶装置は、メモリアレイの外部に配置された第1および第2の抵抗付加部を、選択メモリセルおよびダミーセルと直列に接続することによって、ダミーセルの通過電流を選択メモリセルの2種類の通過電流の中間レベルに設定する。したがって、選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流間にオフセットを与えるための構成をデータ読出回路側に設けることなく、通常のMTJメモリセルと同様の構成のダミーセルDMCを用いてデータ読出を実行することが可能である。この結果、ダミーメモリセルを作製するために特別の設計や製造工程を必要としないため、構造の複雑化によるチップ面積の増大およびメモリアレイの加工マージンの低下等といった問題を招くことなく、正規メモリセルおよびダミーメモリセルを同一メモリアレイ内に設けてデータ読出マージンを確保することができる。さらに、データ読出回路系の構成を簡易化できる。 In the thin film magnetic memory device, the first and second resistance adding units arranged outside the memory array are connected in series with the selected memory cell and the dummy cell, so that the passing current of the dummy cell is reduced to 2 of the selected memory cell. Set to the intermediate level of the type of passing current. Therefore, data reading can be executed using dummy cell DMC having the same configuration as that of a normal MTJ memory cell without providing a configuration for giving an offset between the passing currents of the selected memory cell and the dummy cell on the data reading circuit side. Is possible. As a result, no special design or manufacturing process is required to fabricate the dummy memory cell, so that the normal memory can be used without causing problems such as an increase in chip area due to a complicated structure and a decrease in processing margin of the memory array. Cells and dummy memory cells can be provided in the same memory array to ensure a data read margin. Furthermore, the configuration of the data read circuit system can be simplified.
好ましくは、ダミー磁気抵抗素子は、第1および第2の電気抵抗のより小さい一方を有するように予め磁化され、第4の電気抵抗は、第1および第2の電気抵抗の差に相当し、第3の電気抵抗は、第4の電気抵抗の半分である。 Preferably, the dummy magnetoresistive element is pre-magnetized to have a smaller one of the first and second electrical resistances, the fourth electrical resistance corresponds to the difference between the first and second electrical resistances, The third electrical resistance is half of the fourth electrical resistance.
このように構成すると、ダミーセルを単独で磁化するための専用工程を設ける必要がないので、製造工程を簡略化できる。 With this configuration, it is not necessary to provide a dedicated process for magnetizing the dummy cell alone, so that the manufacturing process can be simplified.
さらに好ましくは、第1の抵抗付加部は、各ゲートへ調整可能な制御電圧を受ける並列に接続されたL個(L:2以上の偶数かつ正の整数)のトランジスタを含み、第2の抵抗付加部は、各ゲートへ制御電圧を受ける並列に接続された(L/2)個のトランジスタを含む。 More preferably, the first resistance adding unit includes L transistors (L: an even and positive integer of 2 or more) connected in parallel to receive an adjustable control voltage to each gate, and the second resistor The additional unit includes (L / 2) transistors connected in parallel to receive a control voltage to each gate.
このように構成すると、第1および第2の抵抗付加部の電気抵抗を正確に設定することができる。 If comprised in this way, the electrical resistance of a 1st and 2nd resistance addition part can be set correctly.
また好ましくは、薄膜磁性体記憶装置は、複数のメモリセルに対応して設けられ、固定電圧を伝達するための第1の電圧配線と、ダミーセルに対応して設けられ、固定電圧を伝達するための第2の電圧配線とをさら備える。第1の抵抗付加部は、第1の電圧配線および固定電圧の間に直列に接続され、第2の抵抗付加部は、第2の電圧配線および固定電圧の間に直列に接続される。 Preferably, the thin film magnetic memory device is provided corresponding to the plurality of memory cells, and is provided corresponding to the first voltage wiring for transmitting a fixed voltage and the dummy cell, and transmits the fixed voltage. The second voltage wiring is further provided. The first resistance adding unit is connected in series between the first voltage line and the fixed voltage, and the second resistance adding unit is connected in series between the second voltage line and the fixed voltage.
このように構成すると、第1および第2のデータ線と選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる、折返し型ビット線構成に基づくメモリアレイに対しても、接続切換回路を設けることなく、第1および第2の抵抗付加部を、選択メモリセルおよびダミーセルと直列に接続することができる。したがって、回路面積の増加を招くことなく、ノイズ耐性の高いデータ読出を実行できる。 With this configuration, the connection correspondence relationship between the first and second data lines and the selected memory cell and the dummy cell is switched according to the address selection result, even for a memory array based on a folded bit line configuration. The first and second resistance adding units can be connected in series with the selected memory cell and the dummy cell without providing a connection switching circuit. Therefore, data reading with high noise resistance can be executed without increasing the circuit area.
あるいは好ましくは、複数のメモリセルおよびダミーセルは、相補にデータ読出対象となる第1および第2のメモリブロックに分割配置され、第1および第2のメモリブロックの各々は、ダミーセルを含み、第1のメモリブロックにおいて、各メモリセルおよびダミーセルは、第1および第2のデータ配線と固定電圧との間にそれぞれ電気的に結合され、第2のメモリブロックにおいて、ダミーセルおよび各メモリセルは、第1および第2のデータ配線と固定電圧との間にそれぞれ電気的に結合され、薄膜磁性体記憶装置は、第1および第2のメモリブロック間の選択結果に応じて、第1および第2のデータ線のそれぞれに対して、第1および第2の抵抗付加部の一方ずつを相補的に直列接続するための接続切換部をさらに備える。 Alternatively, preferably, the plurality of memory cells and dummy cells are complementarily divided and arranged in first and second memory blocks to be read data, and each of the first and second memory blocks includes a dummy cell, In the memory block, each memory cell and dummy cell are electrically coupled between the first and second data lines and the fixed voltage, respectively. In the second memory block, the dummy cell and each memory cell are connected to the first data line. The thin film magnetic memory device is electrically coupled between the first data line and the second data line and the fixed voltage, respectively, and the thin film magnetic memory device has the first and second data depending on the selection result between the first and second memory blocks. Each of the lines further includes a connection switching unit for complementarily connecting one of the first and second resistance adding units in series.
このように構成すると、第1および第2のデータ線の負荷容量を均衡化させることができるので、データ読出を高速化できる。 With this configuration, the load capacity of the first and second data lines can be balanced, so that data reading can be performed at high speed.
この発明のさらに別の1つの構成に従う薄膜磁性体記憶装置は、複数のメモリセルおよび、データ読出時に、複数のメモリセルのうちのアクセス対象に選択された選択メモリセルとの間で通過電流を比較するためのダミーセルが配置されたメモリアレイを備え、各メモリセルは、記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含む。ダミーセルは、磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、第1および第2の電気抵抗のいずれか一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含む。薄膜磁性体記憶装置は、データ読出時において、選択メモリセルおよびダミーセルの一方ずつをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、メモリアレイの外部において、第1および第2のデータ線の一方のデータ線に対して、第3の電気抵抗を並列に接続するための抵抗付加部とをさらに備える。第3の電気抵抗は、ダミーセルの電気抵抗が、並列接続された第1および第3の電気抵抗の合成抵抗および、並列接続された第2および第3の電気抵抗の合成抵抗の中間レベルとなるように決定される。 A thin-film magnetic memory device according to still another configuration of the present invention provides a passing current between a plurality of memory cells and a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading. A memory array in which dummy cells for comparison are arranged is provided, and each memory cell is magnetized in a direction corresponding to the level of stored data, and has either the first or second electric resistance depending on the magnetization direction. And an access transistor connected in series with the magnetoresistive element and selectively turned on at the time of data reading. The dummy cell has the same configuration and shape as the magnetoresistive element, and is connected in series with the dummy magnetoresistive element preliminarily magnetized so as to have one of the first and second electric resistances. And a dummy access transistor that is selectively turned on at the time of data reading and designed in the same manner as the access transistor. The thin film magnetic memory device includes a first data line and a second data line electrically coupled to a fixed voltage via one of each of the selected memory cell and the dummy cell, respectively, and the first and second data lines. A data reading unit for reading data according to the difference in current passing through the data line, and a third electrical resistance in parallel with one of the first and second data lines outside the memory array And a resistance adding unit for connecting to the. In the third electrical resistance, the electrical resistance of the dummy cell is an intermediate level between the combined resistance of the first and third electrical resistances connected in parallel and the combined resistance of the second and third electrical resistances connected in parallel. To be determined.
上記薄膜磁性体記憶装置は、メモリアレイの外部に配置された抵抗付加部を、選択メモリセルおよびダミーセルの所定の一方と並列接続することによって、ダミーセルの通過電流を選択メモリセルの2種類の通過電流の中間レベルに設定する。したがって、選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流間にオフセットを与えるための構成をデータ読出回路側に設けることなく、通常のMTJメモリセルと同様の構成のダミーセルDMCを用いてデータ読出を実行することが可能である。この結果、ダミーメモリセルを作製するために特別の設計や製造工程を必要としないため、構造の複雑化によるチップ面積の増大およびメモリアレイの加工マージンの低下等といった問題を招くことなく、正規メモリセルおよびダミーメモリセルを同一メモリアレイ内に設けてデータ読出マージンを確保することができる。さらに、データ読出回路系の構成を簡易化できる。 In the thin film magnetic memory device, a resistance adding unit arranged outside the memory array is connected in parallel with a predetermined one of the selected memory cell and the dummy cell, thereby passing the passing current of the dummy cell through two types of the selected memory cell. Set to the middle level of the current. Therefore, data reading can be executed using dummy cell DMC having the same configuration as that of a normal MTJ memory cell without providing a configuration for giving an offset between the passing currents of the selected memory cell and the dummy cell on the data reading circuit side. Is possible. As a result, no special design or manufacturing process is required to fabricate the dummy memory cell, so that the normal memory can be used without causing problems such as an increase in chip area due to a complicated structure and a decrease in processing margin of the memory array. Cells and dummy memory cells can be provided in the same memory array to ensure a data read margin. Furthermore, the configuration of the data read circuit system can be simplified.
好ましくは、ダミー磁気抵抗素子は、第1および第2の電気抵抗のより小さい一方を有するように予め磁化され、データ読出時において、抵抗付加部が並列に接続される一方のデータ線は、選択メモリセルを介して固定電圧と電気的に結合される。 Preferably, the dummy magnetoresistive element is pre-magnetized so as to have one of the first and second electric resistances smaller, and one data line to which the resistance adding unit is connected in parallel at the time of data reading is selected. It is electrically coupled to a fixed voltage through the memory cell.
このように構成すると、ダミーセルを単独で磁化するための専用工程を設ける必要がないので、製造工程を簡略化できる。 With this configuration, it is not necessary to provide a dedicated process for magnetizing the dummy cell alone, so that the manufacturing process can be simplified.
以下において、本発明の実施の形態について図面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同一または相当部分を示すものとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol shall show the same or an equivalent part in a figure.
[実施の形態1]
図1は、本発明の実施の形態に従うMRAMデバイス1の全体構成を示す概略ブロック図である。
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an overall configuration of
図1を参照して、本発明の実施の形態に従うMRAMデバイス1は、外部からの制御信号CMDおよびアドレス信号ADDに応答してランダムアクセスを行ない、書込データDINの入力および読出データDOUTの出力を実行する。
Referring to FIG. 1,
MRAMデバイス1は、制御信号CMDに応答してMRAMデバイス1の全体動作を制御するコントロール回路5と、行列状に配置されたMTJメモリセルMCを含むメモリアレイ10とを備える。
The
メモリアレイ10においては、MTJメモリセルの行にそれぞれ対応して、リードワード線RWLおよびディジット線DLが配置され、MTJメモリセルの列にそれぞれ対応して、ビット線BLが配置される。あるいは、折返し型ビット線構成とするために、各メモリセル列に対応して、ビット線BLおよび/BLから構成されるビット線対BLPを配置する構成としてもよい。図1においては、代表的に示される1個のMTJメモリセルMCと、これに対応するリードワード線RWL、ディジット線DL、およびビット線BL(またはビット線対BLP)の配置が示される。
In
MRAMデバイス1は、アドレス信号によって示されるロウアドレスRAをデコードして、メモリアレイ10における行選択を実行するための行デコーダ20と、アドレス信号ADDによって示されるコラムアドレスCAをデコードして、メモリアレイ10における列選択を実行するための列デコーダ25と、読出/書込制御回路30および35とをさらに備える。
The
読出/書込制御回路30および35は、メモリアレイ10に対してデータ書込動作を行なうための回路群、およびメモリアレイ10からデータ読出を行なうための回路群(以下、「データ読出回路系」とも称する)を総称したものである。
Read /
ディジット線DLは、メモリアレイ10を挟んで行デコーダ20と反対側の領域において、所定電圧Vss(たとえば、接地電圧)と結合される。
Digit line DL is coupled to a predetermined voltage Vss (for example, ground voltage) in a region opposite to row
図2は、メモリアレイに対してデータ読出を実行するためのデータ読出回路系の実施の形態1に従う構成を示す回路図である。 FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration according to the first embodiment of the data read circuit system for executing data read from the memory array.
図2を参照して、メモリアレイ10は、行列状に配置された、各々が1ビットのデータ記憶を行なう複数の正規のMTJメモリセルMC(以下、単に「正規メモリセルMC」とも称する)を有する。各正規メモリセルMCは、図30に示したのと同様の構成を有し、直列に接続された、トンネル磁気抵抗素子TMRおよびアクセストランジスタ(アクセス素子)ATRとを含む。アクセストランジスタATRのゲートは、対応するリードワード線RWLと接続される。トンネル磁気抵抗素子TMRは、記憶データ(“1”もしくは“0”)に応じた方向に磁化されて、電気抵抗RmaxおよびRminのいずれかを有する。
Referring to FIG. 2,
各正規メモリセルの電気抵抗は、厳密には、トンネル磁気抵抗素子TMR、アクセストランジスタATRのオン抵抗、およびその他の寄生抵抗の和であるが、トンネル磁気抵抗素子TMR以外の抵抗分は記憶データによらず一定であるので、以下においては、記憶データに応じた2種類の正規メモリセルの電気抵抗についても、RmaxおよびRminで示し、両者の差をΔR(すなわち、ΔR=Rmax−Rmin)と示すものとする。 Strictly speaking, the electrical resistance of each normal memory cell is the sum of the tunnel magnetoresistive element TMR, the on-resistance of the access transistor ATR, and other parasitic resistances, but the resistance other than the tunnel magnetoresistive element TMR is stored in the stored data. Therefore, in the following, the electrical resistances of the two types of normal memory cells corresponding to the stored data are also represented by Rmax and Rmin, and the difference between them is represented by ΔR (that is, ΔR = Rmax−Rmin). Shall.
メモリアレイ10は、さらに、複数のダミーセルDMCを含む。各ダミーセルDMCは、アクセス対象に選択された正規メモリセル(以下、「選択メモリセル」とも称する)との間で通過電流を比較するために設けられる。各ダミーセルDMCは、正規メモリセルMCと同様の構成および形状を有し、ダミー磁気抵抗素子TMRdおよびダミーアクセス素子ATRdから構成される。
ダミー磁気抵抗素子TMRdは、正規メモリセルMC中のトンネル磁気抵抗素子TMRと同様に設計および作製されて、記憶データ“1”もしくは“0”を予め書込まれる。ダミーアクセス素子ATRdは、正規メモリセルMC中のアクセストランジスタATRと同様に作製および設計される。すなわち、ダミーアクセス素子ATRdとアクセストランジスタATRとのオン抵抗は同レベルであり、そのトランジスタサイズも同様に設計されている。したがって、ダミーセルDMCの電気抵抗は、正規メモリセルの2種類の電気抵抗RmaxおよびRminの所定の一方と同様である。 Dummy magnetoresistive element TMRd is designed and manufactured in the same manner as tunneling magnetoresistive element TMR in normal memory cell MC, and stored data “1” or “0” is written in advance. Dummy access element ATRd is manufactured and designed in the same manner as access transistor ATR in normal memory cell MC. That is, the on-resistances of the dummy access element ATRd and the access transistor ATR are at the same level, and the transistor size is designed in the same manner. Therefore, the electrical resistance of the dummy cell DMC is the same as the predetermined one of the two types of electrical resistances Rmax and Rmin of the normal memory cell.
ダミーセルDMCは、正規メモリセルMCと同様の構成および形状を有するので、メモリアレイ10内において正規メモリセルMCと連続的に行列配置することができる。実施の形態1に従う構成においては、ダミーセルDMCは、ダミーセル列を構成して、正規メモリセルMCとの間でメモリセル行を共有するように配置される。
Since the dummy cells DMC have the same configuration and shape as the normal memory cells MC, they can be continuously arranged in a matrix with the normal memory cells MC in the
正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCによって共有されたメモリセル行ごとに、リードワード線RWLおよびディジット線DLが配置される。一方、正規メモリセルMCの列(「正規メモリセル列」とも称する)およびダミーセル列はそれぞれ独立であり、正規メモリセル列ごとにビット線BLが配置され、ダミーセル列に対してダミービット線BLdが設けられる。 For each memory cell row shared by normal memory cell MC and dummy cell DMC, read word line RWL and digit line DL are arranged. On the other hand, the column of normal memory cells MC (also referred to as “normal memory cell column”) and the dummy cell column are independent, and a bit line BL is arranged for each normal memory cell column, and a dummy bit line BLd is provided for each dummy cell column. Provided.
図2においては、第i番目(i:自然数)のメモリセル行および先頭、第j番目(j:自然数)および最終のメモリセル列に対応する、リードワード線RWLi、ディジット線DLi、ビット線BL0,BLj,BLnおよびダミービット線BLd、ならびに、対応する正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCが代表的に示される。 In FIG. 2, the read word line RWLi, digit line DLi, and bit line BL0 corresponding to the i-th (i: natural number) memory cell row and head, and the j-th (j: natural number) and last memory cell column. , BLj, BLn and dummy bit line BLd, and corresponding normal memory cell MC and dummy cell DMC are representatively shown.
また、以下においては、信号、信号線およびデータ等の2値的な高電圧状態(たとえば、電源電圧Vcc)および低電圧状態(たとえば、所定電圧Vss)を、それぞれ「Hレベル」および「Lレベル」とも称する。 In the following description, binary high voltage states (for example, power supply voltage Vcc) and low voltage states (for example, predetermined voltage Vss) such as signals, signal lines, and data are set to “H level” and “L level”, respectively. Is also referred to.
さらに、メモリアレイ10に隣接して、データ線LIOおよびLIOrが配置される。各メモリセル列において、各ビット線BLとデータ線LIOとの間にコラム選択ゲートCSGが設けられ、ダミービット線BLdとデータ線LIOrとの間にダミーコラム選択ゲートCSGdが設けられる。コラム選択ゲートCSGは、対応するコラム選択線CSLの活性化(Hレベル)に応答してオンする。また、ダミーコラム選択ゲートCSGdは、ダミーコラム選択線CSLdの活性化(Hレベル)に応答してオンする。
Further, data lines LIO and LIOr are arranged adjacent to
図2には、ビット線BL0,BLj、BLnおよびダミービット線BLdに対応して設けられる、コラム選択線CSL0,CSLj,CSLn、ダミーコラム選択線CSLd、コラム選択ゲートCSG0,CSGj,CSGn、およびダミーコラム選択ゲートCSGdが代表的に示される。 In FIG. 2, column selection lines CSL0, CSLj, CSLn, dummy column selection line CSLd, column selection gates CSG0, CSGj, CSGn, and dummy are provided corresponding to bit lines BL0, BLj, BLn and dummy bit line BLd. A column select gate CSGd is representatively shown.
行デコーダ20は、ロウアドレスRAに応じて、データ読出時にリードワード線RWLを選択的に活性化(Hレベル)し、データ書込時にディジット線DLを選択的に活性化(Hレベル)する。活性化されたディジット線DLiは、その一端を行デコーダ20によって電源電圧Vccと接続され、他端を図1に示したように所定電圧Vssと接続されるので、選択行のディジット線にデータ書込電流Ipを流すことができる。データ書込動作についての詳細な説明は省略するが、さらに、選択列のビット線に書込データレベルに応じた方向のデータ書込電流を流すことにより、対応するディジット線およびビット線の両方にデータ書込電流が供給されたメモリセルに対してデータ書込を実行できる。
In accordance with row address RA,
列デコーダ25は、データ読出時において、列選択結果に応じて、コラム選択線CSLおよびダミーコラム選択線CSLdを選択的に活性化(Hレベル)する。
さらに、データ線LIO,LIOrをプリチャージ・イコライズするためのデータ線イコライズ回路50と、選択メモリセルおよびダミーセル間の電気抵抗差に基づいてデータ読出を実行するための差動増幅器60とが設けられる。
Further, a data
データ線イコライズ回路50は、データ線LIOおよびLIOrの間に接続されるトランジスタスイッチ51と、データ線LIOrおよび所定電圧Vssの間に接続されるトランジスタスイッチ52と、データ線LIOおよび所定電圧Vssの間に接続されるトランジスタスイッチ53とを有する。トランジスタスイッチ51、52および53の各々は、たとえばN型MOSトランジスタで構成される。
Data line equalize
トランジスタスイッチ51〜53の各々のゲートには、行デコーダ20によって生成されるデータ線イコライズ信号LIOEQが入力される。データ線イコライズ信号LIOEQは、少なくともデータ読出動作前の所定期間において、Hレベルへ活性化される。これに応答したプリチャージ・イコライズ動作によって、データ線LIOおよびLIOrの各々は、所定電圧Vssへ設定される。
A data line equalize signal LIOEQ generated by the
差動増幅器60は、センスノードNsおよびデータ線LIOの間に接続されたN型MOSトランジスタ61と、センスノード/Nsとデータ線LIOrとの間に接続されたN型MOSトランジスタ62と、ノードNspおよびセンスノードNsの間に接続されるP型MOSトランジスタ63と、ノードNspおよびセンスノード/Nsの間に接続されるP型MOSトランジスタ64と、動作電圧として供給される電源電圧VccおよびノードNspの間に接続されるP型MOSトランジスタ65とを有する。
トランジスタ63および64の各々のゲートは、センスノードNsおよび/Nsの一方と接続される。図2には、一例として、トランジスタ63および64の各々のゲートがセンスノード/Nsと接続される構成が示される。トランジスタ63および64は、カレントミラー回路を構成し、センスノードNsおよび/Nsの各々に対して、同一電流を供給しようとする。
Each gate of
トランジスタ61および62のゲートには、オフセット調整回路を構成する電圧発生回路55および56によってそれぞれ生成されるオフセット制御電圧VofdおよびVofrがそれぞれ入力される。トランジスタ61および62は、データ線LIOおよびLIOrをオフセット制御電圧VofdおよびVofr以下にそれぞれ維持するとともに、データ線LIOおよびLIOrの通過電流差を増幅して、センスノードNsおよび/Ns間の電圧差に変換する。
Offset control voltages Vofd and Vofr generated by
トランジスタ65のゲートへは、行デコーダ20によってデータ読出動作時にLレベルに活性化されるセンスイネーブル信号/SEが入力される。たとえば、図2に示されるデータ読出回路系が複数配置される構成において、行デコーダ20は、これらの複数のデータ読出回路系の選択結果を反映して、センスイネーブル信号/SEを選択的に活性化する。トランジスタ65は、センスイネーブル信号/SEの活性化(Lレベル)に応答して動作電流を供給して、差動増幅器60を動作させる。
Sense enable signal / SE activated by
次に、図3を用いて、実施の形態1に従うMRAMデバイスにおけるデータ読出動作を説明する。図3においては、第i行・第j列がデータ読出対象に選択された場合の動作について代表的に説明する。 Next, referring to FIG. 3, a data read operation in the MRAM device according to the first embodiment will be described. In FIG. 3, the operation when the i-th row and the j-th column are selected as the data read target will be representatively described.
図3を参照して、データ読出実行前の時刻t1以前において、データ線イコライズ信号LIOEQは、Hレベルに活性化されている。これにより、データ線LIO,LIOrは、所定電圧Vssにプリチャージされる。 Referring to FIG. 3, data line equalize signal LIOEQ is activated to H level before time t1 before execution of data reading. Thereby, the data lines LIO and LIOr are precharged to the predetermined voltage Vss.
時刻t1においてデータ読出動作が開始されると、まず、データ線イコライズ信号LIOEQがLレベルへ非活性化されて、データ線LIO,LIOrは、所定電圧Vssから切離される。これにより、データ読出を開始する準備が整う。 When the data read operation is started at time t1, first, data line equalize signal LIOEQ is deactivated to L level, and data lines LIO and LIOr are disconnected from predetermined voltage Vss. Thus, preparations for starting data reading are completed.
さらに、時刻t2において、センスイネーブル信号/SEがLレベルに活性化されて、差動増幅器60の動作が開始される。これにより、データ線LIOおよびLIOrの各々に対する電流供給が開始される。また、同様のタイミングで、選択行のリードワード線RWLiおよび選択列のコラム選択線CSLjが各々Hレベルに活性化される。
Further, at time t2, sense enable signal / SE is activated to L level, and operation of
選択行のワード線WLiおよび選択列のコラム選択線CSLjの活性化に応答して、データ線LIOは、ビット線BLjおよび選択メモリセルを介して所定電圧Vssと電気的に結合され、データ線LIOrは、ダミービット線BLdおよびダミーセルDMCを介して所定電圧Vssと電気的に結合される。実施の形態1に従う構成においては、データ線LIO,LIOrと選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係は固定されている。すなわち、データ読出時に、アドレス選択結果にかかわらず、データ線LIOおよびLIOrは、選択メモリセルおよびダミーセルとそれぞれ電気的に結合される。 In response to activation of the word line WLi of the selected row and the column selection line CSLj of the selected column, the data line LIO is electrically coupled to the predetermined voltage Vss via the bit line BLj and the selected memory cell, and the data line LIOr Are electrically coupled to predetermined voltage Vss through dummy bit line BLd and dummy cell DMC. In the configuration according to the first embodiment, the connection correspondence between data lines LIO and LIOr and the selected memory cell and dummy cell is fixed. That is, at the time of data reading, data lines LIO and LIOr are electrically coupled to the selected memory cell and the dummy cell regardless of the address selection result.
既に説明したように、選択メモリセルの電気抵抗は、記憶データに応じて電気抵抗がRmaxおよびRminのいずれかであるので、選択メモリセルと電気的に結合されたデータ線LIOの通過電流Idatは、記憶データに応じて、Idat(Rmax)およびIdat(Rmin)のいずれかとなる。以下においては、選択メモリセルと電気的に結合されたデータ線の通過電流Idatを、データ読出電流Idatとも称し、2種類のデータ読出電流Idat(Rmax)およびIdat(Rmin)の差をΔIと表記する。すなわち、ΔI=Idat(Rmin)−Idat(Rmax)で示される。 As already described, since the electrical resistance of the selected memory cell is either Rmax or Rmin according to the stored data, the passing current Idat of the data line LIO electrically coupled to the selected memory cell is Depending on the stored data, it is either Idat (Rmax) or Idat (Rmin). Hereinafter, the passing current Idat of the data line electrically coupled to the selected memory cell is also referred to as a data read current Idat, and the difference between the two types of data read currents Idat (Rmax) and Idat (Rmin) is expressed as ΔI. To do. That is, ΔI = Idat (Rmin) −Idat (Rmax).
一方、データ線LIOrの通過電流Irefは、Idat(Rmax)およびIdat(Rmin)の中間レベルに、好ましくは、下記(1)式を満たす様に設定される。以下においては、ダミーセルと電気的に結合されたデータ線の通過電流Irefを基準電流Irefとも称する。言換えれば、差動増幅器60は、データ線LIOおよびLIOrの通過電流に対して、下記(1)式を満足するようなオフセットを与える必要がある。
On the other hand, the passing current Iref of the data line LIOr is preferably set to an intermediate level between Idat (Rmax) and Idat (Rmin) so as to satisfy the following expression (1). Hereinafter, the passing current Iref of the data line electrically coupled to the dummy cell is also referred to as a reference current Iref. In other words, the
Idat(Rmax)+ΔI/2=Iref=Idat(Rmin)−ΔI/2 …(1)
たとえば、このようなオフセットを与えるために、電圧発生回路55および56によって生成されるオフセット制御電圧VofdおよびVofrが、それぞれ異なるレベルへ設定される。
Idat (Rmax) + ΔI / 2 = Iref = Idat (Rmin) −ΔI / 2 (1)
For example, in order to give such an offset, offset control voltages Vofd and Vofr generated by
より具体的には、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されているときには、データ線LIOrの通過電流である基準電流IrefをΔI/2だけ減少させるオフセットを与えるために、オフセット制御電圧Vofr=Vofd−Vαに設定する。これにより、ダミーセルと電気的に結合されるトランジスタ62のゲート電圧が選択メモリセルと電気的に結合されるトランジスタ61のゲート電圧よりも低くなるので、上述したオフセットを与えることができる。オフセット制御電圧VofrおよびVofdの差Vαは、上記ΔI/2に対応して調整される。
More specifically, when the electric resistance of the dummy cell is preset to Rmin, an offset control voltage Vofr = Vofd is provided in order to provide an offset that decreases the reference current Iref that is a passing current of the data line LIOr by ΔI / 2. Set to -Vα. Thereby, the gate voltage of
反対に、ダミーセルの電気抵抗がRmaxに予め設定されているときには、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔI/2だけ増加させるオフセットを与えるために、オフセット制御電圧Vofr=Vofd+Vαに設定する。これにより、ダミーセルと電気的に結合されるトランジスタ62のゲート電圧が選択メモリセルと電気的に結合されるトランジスタ61のゲート電圧よりも高くなるので、上述したオフセットを与えることができる。同様に、オフセット制御電圧VofrおよびVofdの差Vαは、上記ΔI/2に対応して調整される。
On the other hand, when the electric resistance of the dummy cell is preset to Rmax, the offset control voltage Vofr = Vofd + Vα is set in order to give an offset that increases the passing current (reference current Iref) of the data line LIOr by ΔI / 2. . Thereby, the gate voltage of
あるいは、差動増幅器60における上述したオフセットを与えるための他の構成として、カレントミラーを成すトランジスタ63および64がそれぞれ異なる電流駆動能力(トランジスタサイズ)を有する構成としてもよい。このような構成とする場合には、オフセット制御電圧VofdおよびVofrは、共通レベルに設定される。
Alternatively, as another configuration for providing the above-described offset in the
具体的には、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されているときには、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔI/2だけ減少させるオフセットを与えるために、トランジスタ64の電流駆動能力(トランジスタサイズ)は、トランジスタ63の電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも小さく設計される。反対に、ダミーセルの電気抵抗がRmaxに予め設定されているときには、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔI/2だけ増加させるオフセットを与えるために、トランジスタ64の電流駆動能力(トランジスタサイズ)は、トランジスタ63の電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも大きく設計される。
Specifically, when the electric resistance of the dummy cell is preset to Rmin, the current driving capability of the transistor 64 (in order to provide an offset for reducing the passing current (reference current Iref) of the data line LIOr by ΔI / 2) The transistor size is designed to be smaller than the current driving capability (transistor size) of the
時刻t3からt4の間において、差動増幅器60は、選択メモリセルおよびダミーセルの電気抵抗に基づいて上述したオフセットによって生じたデータ読出電流Idatおよび基準電流Irefの電流差ΔI/2を増幅して、センスノードNsおよび/Nsの電圧差ΔV/2に変換する。この電圧差ΔV/2は、選択メモリセルの記憶データに応じた極性を有するので、センスノードNsおよび/Nsの電圧から選択メモリセルの記憶データを検知することができる。
Between times t3 and t4, the
データ読出終了時には、時刻t4において、センスイネーブル信号/SE、選択行のリードワード線RWLiおよび選択列のコラム選択線CSLjが非活性化される。さらに、時刻t5において、データ線イコライズ信号LIOEQがHレベルへ活性化されて、データ線LIO,LIOrが再びプリシャージされて、データ読出前の回路状態が再現される。 At the end of data reading, at time t4, sense enable signal / SE, read word line RWLi in the selected row, and column select line CSLj in the selected column are deactivated. Further, at time t5, data line equalize signal LIOEQ is activated to H level, data lines LIO and LIOr are pre-charged again, and the circuit state before data reading is reproduced.
以上説明したように、実施の形態1に従う構成においては、基準電流を発生させるためのダミーセルを、正規メモリセルと同様の構成および形状とすることができるので、同一のメモリアレイ内に連続的に作製されたMTJメモリセルの一部を用いて、ダミーセルを構成できる。すなわち、ダミーセルを作製するために特別の設計や製造工程を必要としないため、構造の複雑化によるチップ面積の増大およびメモリアレイの加工マージンの低下等といった問題を招くことなく、正規メモリセルおよびダミーセルを同一メモリアレイ内に設けてデータ読出マージンを確保することができる。 As described above, in the configuration according to the first embodiment, the dummy cell for generating the reference current can have the same configuration and shape as the normal memory cell, so that it can be continuously formed in the same memory array. A dummy cell can be configured by using a part of the manufactured MTJ memory cell. That is, since a special design or manufacturing process is not required to manufacture the dummy cell, the normal memory cell and the dummy cell can be obtained without causing problems such as an increase in chip area due to a complicated structure and a decrease in processing margin of the memory array. Can be provided in the same memory array to ensure a data read margin.
さらに、差動増幅器60の動作電流を選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流として用いているのでデータ読出回路系の回路素子数を削減できる。また、同様の特性を有する選択メモリセルおよびダミーセルの間に、記憶データレベルに応じた極性の通過電流差を生じさせるためのオフセットを、回路構成の複雑化を招くことなく与えることができる。
Furthermore, since the operating current of
[実施の形態1の変形例1]
図4は、実施の形態1の変形例1に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the first modification of the first embodiment.
図4を参照して、実施の形態1の変形例1に従う構成においては、メモリアレイ10が、いわゆる「折返し型ビット線構成」を有する点と、新たに接続切換回路70が配置される点とが、図2に示した実施の形態1に従う構成と異なる。
Referring to FIG. 4, in the configuration according to the first modification of the first embodiment,
メモリアレイ10において、各メモリセル列に対応して、相補のビット線BLおよび/BLから構成されるビット線対BLPが配置される。正規メモリセルMCは、奇数行においてビット線BLと接続され、偶数行においてビット線/BLと接続されるように、1行おきに交互配置される。
In
ダミーセルDMCは、メモリアレイ10内において正規メモリセルMCと連続的に行列配置され、奇数行および偶数行にそれぞれ対応する2個のダミーセル行を構成して、正規メモリセルMCとの間でメモリセル列を共有するように配置される。
The dummy cells DMC are continuously arranged in a matrix with the normal memory cells MC in the
したがって、各メモリセル列に配置された相補のビット線BLおよび/BLは、正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCによって共有される。一方、正規メモリセルMCの行(「正規メモリセル行」とも称する)およびダミーセル行はそれぞれ独立であり、正規メモリセル行ごとにリードワード線RWLおよびディジット線DLが配置される。また、2個のダミーセル行にそれぞれ対応して、ダミーリードワード線DRWLe,DRWLoと、ダミーディジット線DDLe,DDLoが配置される。 Therefore, complementary bit lines BL and / BL arranged in each memory cell column are shared by normal memory cell MC and dummy cell DMC. On the other hand, a row of normal memory cells MC (also referred to as “normal memory cell row”) and a dummy cell row are independent, and a read word line RWL and a digit line DL are arranged for each normal memory cell row. Further, dummy read word lines DRWLe and DRLLo and dummy digit lines DDLe and DDLo are arranged corresponding to the two dummy cell rows, respectively.
図4においては、代表的に示される正規メモリセルの1個ずつの偶数行および奇数行と、2個のダミーセル行と、先頭および最終のメモリセル列に対応する、リードワード線RWLe,RWLo、ディジット線DLe,DLo、ダミーリードワード線DRWLe,DRWLo、ダミーディジット線DDLe,DDLo、ビット線対BLP0,BLPnならびに、対応する正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCが代表的に示される。 In FIG. 4, read word lines RWLe, RWLo, corresponding to the even and odd rows, the two dummy cell rows, and the first and last memory cell columns, respectively, of the regular memory cells shown as representatives. Digit lines DLe, DLo, dummy read word lines DRWLe, DWLLo, dummy digit lines DDLe, DDLo, bit line pairs BLP0, BLPn, and corresponding normal memory cells MC and dummy cells DMC are representatively shown.
ダミーリードワード線DRWLeに対するダミーセル群は、ビット線BLと所定電圧Vssとの間にそれぞれ接続される。一方、ダミーリードワード線DRWLoに対応するダミーセル群は、ビット線/BLと所定電圧Vssとの間にそれぞれ接続される。 The dummy cell group for the dummy read word line DRWLe is connected between the bit line BL and the predetermined voltage Vss. On the other hand, the dummy cell group corresponding to the dummy read word line DRLLo is connected between the bit line / BL and the predetermined voltage Vss.
メモリアレイ10に隣接してデータ線対LIOPを構成する相補のデータ線LIOおよび/LIOが配置される。各メモリセル列にそれぞれ対応して配置されるコラム選択ゲートCSG0〜CSGnは、データ線対LIOPおよびビット線対BLP0〜BLPnの間にそれぞれ設けられる。したがって、データ読出時において、選択列に対応する相補のビット線BLおよび/BLが、データ線LIOおよび/LIOとそれぞれ電気的に結合される。すなわち、折返し型ビット線構成のメモリアレイを有する場合には、データ線LIOおよび/LIOと、選択メモリセルおよびダミーセルとの間の結合関係は固定されず、奇数行および偶数行のいずれが選択されるかに応じて、データ線LIO,/LIOと、ダミーセルDMCおよび選択メモリセルとの間の接続対応関係が入替わる。具体的には、奇数行の選択時には、データ線LIOおよび/LIOが、ビット線BLおよび/BLを介して、選択メモリセルおよびダミーセルとそれぞれ電気的に結合される。これに対して、偶数行の選択時には、データ線LIOおよび/LIOが、ビット線BLおよび/BLを介して、ダミーセルおよび選択メモリセルとそれぞれ電気的に結合される。
Complementary data lines LIO and / LIO constituting data line pair LIOP are arranged adjacent to
これに対応して、接続切換回路70は、差動増幅器60とデータ線LIO,/LIOとの間の接続対応関係を、アドレス選択結果、すなわち偶数行および奇数行のいずれが選択されるかに応じて切換える。接続切換回路70は、データ読出電流Idatが供給されるノードNd(トランジスタ61のソース側)および基準電流Irefが供給されるノードNr(トランジスタ62のソース側)とデータ線LIOおよび/LIOの間に設けられる。
In response to this, the
図5は、接続切換回路70の構成を説明する回路図である。
図5を参照して、接続切換回路70は、ノードNdおよびデータ線LIOの間に電気的に結合されるN型MOSトランジスタ71と、ノードNdおよびデータ線/LIOの間に電気的に結合されるN型MOSトランジスタ72と、ノードNrおよびデータ線/LIOの間に電気的に結合されるN型MOSトランジスタ73と、ノードNrとデータ線LIOとの間に電気的に結合されるN型MOSトランジスタ74とを有する。トランジスタ71および73のゲートには、奇数行の選択時にHレベル(“1”)に設定され、偶数行の選択時にLレベル(“0”)に設定されるアドレス信号RA0が入力され、トランジスタ72および74の各ゲートには、その反転信号であるアドレス信号/RA0が入力される。
FIG. 5 is a circuit diagram illustrating the configuration of the
Referring to FIG. 5,
このような構成とすることにより、奇数行および偶数行のいずれの選択時においても、選択メモリセルおよびダミーセルを、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefをそれぞれ供給するノードNdおよびNrと電気的にそれぞれ結合することができる。 With such a configuration, the selected memory cell and the dummy cell are electrically connected to the nodes Nd and Nr for supplying the data read current Idat and the reference current Iref, respectively, when selecting either the odd row or the even row. Can be combined.
図6は、実施の形態1の変形例1に従うデータ読出回路系によるデータ読出動作を説明する動作波形図である。 FIG. 6 is an operation waveform diagram illustrating a data read operation by the data read circuit system according to the first modification of the first embodiment.
図6を参照して、奇数行が選択される時刻t1からt2の間のデータ読出動作においては、アドレス信号RA0および/RA0は、HレベルおよびLレベルにそれぞれ設定され、さらに、選択行のリードワード線RWLoおよびダミーリードワード線DRWLoと、選択列に対応するコラム選択線CSL0とがHレベルに活性化される。 Referring to FIG. 6, in a data read operation between times t1 and t2 when an odd-numbered row is selected, address signals RA0 and / RA0 are set to H level and L level, respectively, and the selected row is read. Word line RWLo and dummy read word line DRLLo and column select line CSL0 corresponding to the selected column are activated to H level.
電圧発生回路55,56および差動増幅器60は、実施の形態1と同様に、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefの間に所望のオフセットを与えるように設計されている。
この結果、奇数行の選択時においては、選択メモリセルと結合されたデータ線LIOをデータ読出電流Idatが通過し、ダミーセルDMCと結合されたデータ線/LIOを基準電流Irefが通過する。したがって、実施の形態1に従うデータ読出動作と同様に、差動増幅器60によって、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefの差を増幅して、センスノードNsおよび/Nsの電圧差に変換し、センスノードNsおよび/Nsの電圧から選択メモリセルの記憶データを検知することができる。
As a result, when an odd row is selected, data read current Idat passes through data line LIO coupled to the selected memory cell, and reference current Iref passes through data line / LIO coupled to dummy cell DMC. Therefore, similarly to the data read operation according to the first embodiment,
一方、偶数行が選択される時刻t3からt4の間のデータ読出動作においては、アドレス信号RA0および/RA0は、LレベルおよびHレベルにそれぞれ設定され、さらに、選択行のリードワード線RWLeおよびダミーリードワード線DRWLeと、選択列に対応するコラム選択線CSL0とがHレベルに活性化される。 On the other hand, in a data read operation between times t3 and t4 when an even-numbered row is selected, address signals RA0 and / RA0 are set to L level and H level, respectively, and read word line RWLe and dummy of the selected row are set. Read word line DRWLe and column select line CSL0 corresponding to the selected column are activated to H level.
この結果、偶数行の選択時においても、選択メモリセルと結合されたデータ線(/LIO)をデータ読出電流Idatが通過し、ダミーセルDMCと結合されたデータ線(LIO)を基準電流Irefが通過する。 As a result, even when an even row is selected, the data read current Idat passes through the data line (/ LIO) coupled to the selected memory cell, and the reference current Iref passes through the data line (LIO) coupled to the dummy cell DMC. To do.
したがって、奇数行および偶数行のいずれの選択時においても、実施の形態1に従うデータ読出動作と同様に、差動増幅器60によって、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefの電流差ΔI/2を増幅して、センスノードNsおよび/Nsの電圧差ΔV/2に変換できるので、センスノードNsおよび/Nsの電圧から選択メモリセルの記憶データを検知することができる。
Therefore, regardless of whether the odd row or the even row is selected, current difference ΔI / 2 between data read current Idat and reference current Iref is amplified by
すなわち、実施の形態1の変形例1に従う構成によれば、相補のデータ線と選択メモリセルおよびダミーセルの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる折返しビット線構成のメモリアレイに対しても、実施の形態1と同様の効果を享受することができる。このような、折返しビット線構成のメモリアレイでは、隣接するビット線、データ線間での比較動作に基づいてデータ読出動作により、よりノイズ耐性の高い正確なデータ読出を実行できる。 In other words, according to the configuration according to the first modification of the first embodiment, the connection correspondence relationship between the complementary data line, the selected memory cell, and the dummy cell is changed with respect to the memory array having the folded bit line configuration that is switched according to the address selection result. However, the same effect as in the first embodiment can be enjoyed. In such a memory array having a folded bit line configuration, accurate data reading with higher noise resistance can be performed by a data reading operation based on a comparison operation between adjacent bit lines and data lines.
[実施の形態1の変形例2]
実施の形態1の変形例2においては、実施の形態1の変形例1で示したデータ線LIO,/LIOと選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる構成に対応可能な差動増幅器の構成について説明する。
[
In the second modification of the first embodiment, the connection correspondence between the data lines LIO, / LIO and the selected memory cell and the dummy cell shown in the first modification of the first embodiment is switched according to the address selection result. A configuration of a differential amplifier that can handle the configuration will be described.
図7は、実施の形態1の変形例2に従う差動増幅器の構成を示す回路図である。
図7を参照して、実施の形態1の変形例2に従う差動増幅器60♯は、図2に示した差動増幅器60と比較して、トランジスタ61および62に代えて、トランジスタ61A,61B,62A,62Bを有する点で異なる。トランジスタ61Aおよび61Bは、センスノードNsおよびデータ線LIOの間に並列に接続される。同様に、トランジスタ62Aおよび62Bは、センスノード/Nsおよびデータ線/LIOの間に並列に接続される。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of the differential amplifier according to the second modification of the first embodiment.
Referring to FIG. 7, a
さらに、オフセット調整回路を構成する電圧発生回路55および56に代えて、電圧発生回路55′および56′がそれぞれ設けられる。トランジスタ61Aおよび62Bの各ゲートには、電圧発生回路55′からのオフセット制御電圧Vof1が入力され、トランジスタ61Bおよび62Aの各ゲートには、電圧発生回路56′からのオフセット制御電圧Vof2が入力される。電圧発生回路55′は、奇数行の選択時にHレベルに設定されるアドレス信号RA0に応じて動作し、電圧発生回路56′は、偶数行の選択時にHレベルに設定されるアドレス信号/RA0に応じて動作する。
Further, voltage generating circuits 55 'and 56' are provided in place of the
詳細は後程説明するが、アドレス選択結果、具体的には奇数行および偶数行のいずれが選択されるかに応じて、オフセット制御電圧Vof1およびVof2のいずれか一方は、トランジスタ61A,62Bの組およびトランジスタ61B,62Aの組の一方の組をターンオフさせるように設定される。さらに、トランジスタ61Aおよび62Aの各々の電流駆動能力(トランジスタサイズ)は、トランジスタ61Bおよび62Bの各々の電流駆動能力(トランジスタサイズ)とは異なるレベルに設定される。なお、差動増幅器60♯のその他の部分の構成は、図2に示した差動増幅器60と同様であるので詳細な説明は繰返さない。
Although details will be described later, one of the offset control voltages Vof1 and Vof2 depends on the result of the address selection, specifically, whether the odd row or the even row is selected. One set of the
図8は、差動増幅器60♯の動作を説明するための動作波形図である。
図8を参照して、奇数行が選択される時刻t1からt2の間のデータ読出動作においては、アドレス信号RA0および/RA0は、HレベルおよびLレベルにそれぞれ設定され、さらに、選択行のリードワード線RWLoおよび対応するダミーリードワード線DRWLoと、選択列に対応するコラム選択線CSL0とがHレベルに活性化される。
FIG. 8 is an operation waveform diagram for illustrating the operation of
Referring to FIG. 8, in a data read operation between times t1 and t2 when an odd-numbered row is selected, address signals RA0 and / RA0 are set to H level and L level, respectively, and the selected row is read. Word line RWLo, corresponding dummy read word line DRLLo, and column select line CSL0 corresponding to the selected column are activated to H level.
電圧発生回路55′からのオフセット制御電圧Vof1は、トランジスタ61Aおよび62Bをターンオン可能なレベルVofに設定され、電圧発生回路56′からのオフセット制御電圧Vof2は、トランジスタ61Bおよび62Aをターンオフさせるために、たとえば接地電圧レベルに設定される。
The offset control voltage Vof1 from the voltage generation circuit 55 'is set to a level Vof that can turn on the
これに対して、偶数行が選択される時刻t3からt4の間のデータ読出動作においては、アドレス信号RA0および/RA0は、LレベルおよびHレベルにそれぞれ設定され、さらに、選択行のリードワード線RWLeおよび対応するダミーリードワード線DRWLeと、選択列に対応するコラム選択線CSL0とがHレベルに活性化される。 In contrast, in a data read operation between times t3 and t4 when an even-numbered row is selected, address signals RA0 and / RA0 are set to L level and H level, respectively, and the read word line of the selected row RWLe and the corresponding dummy read word line DRWLe and the column selection line CSL0 corresponding to the selected column are activated to the H level.
電圧発生回路55′からのオフセット制御電圧Vof1は、トランジスタ61Aおよび62Bをターンオフさせるレベル(たとえば接地電圧)に設定され、電圧発生回路56′からのオフセット制御電圧Vof2は、トランジスタ61Bおよび62Aをターンオン可能なレベルVofに設定される。
Offset control voltage Vof1 from voltage generation circuit 55 'is set to a level (eg, ground voltage) that turns off
したがって、奇数行および偶数行のいずれが選択された場合においても、データ線LIOおよび/LIOのうちの、選択メモリセルと電気的に結合された一方に対してトランジスタ61Aまたは62Aが直列に接続され、ダミーセルと電気的に結合された他方に対してトランジスタ61Bまたは62Bが直列に接続される。
Therefore,
これらのトランジスタ61A,62Aの各々と、トランジスタ61B,62Bの各々との、ターンオン時の電流駆動能力の大小関係は、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefの間に、実施の形態1と同様のオフセットを与えるように、図2で説明した、オフセットを与えるためのトランジスタ63および64の電流駆動能力(トランジスタサイズ)の大小関係と同様に設定される。
The magnitude relationship of the current drive capability at turn-on between each of these
具体的には、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されているときには、基準電流IrefをΔI/2だけ減少させるオフセットを与えるように、トランジスタ61B,62Bの電流駆動能力(トランジスタサイズ)は、トランジスタ61A,62Aの電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも小さく設計される。反対に、ダミーセルの電気抵抗がRmaxに予め設定されているときには、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔI/2だけ増加させるオフセットを与えるように、トランジスタ61B,62Bの電流駆動能力(トランジスタサイズ)は、トランジスタ61A,61Aの電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも大きく設計される。
Specifically, when the electric resistance of the dummy cell is set to Rmin in advance, the current driving capability (transistor size) of the
この結果、奇数行および偶数行のいずれの選択時においても、選択メモリセルと結合されたデータ線を流れるデータ読出電流Idatと、ダミーセルDMCと結合されたデータ線を流れる基準電流Irefとの間に、上記(1)式と同様の関係を成立させることができる。 As a result, when selecting either the odd row or the even row, the data read current Idat flowing through the data line coupled to the selected memory cell and the reference current Iref flowing through the data line coupled to the dummy cell DMC are between. Thus, the same relationship as the above equation (1) can be established.
したがって、奇数行および偶数行のいずれの選択時においても、実施の形態1に従うデータ読出動作と同様に、差動増幅器60によって、データ読出電流Idatおよび基準電流Irefの差を増幅して、センスノードNsおよび/Nsの電圧差に変換し、センスノードNsおよび/Nsの電圧から選択メモリセルの記憶データを検知することができる。
Therefore, at the time of selecting either the odd row or the even row, the difference between data read current Idat and reference current Iref is amplified by
以上説明したように、実施の形態1の変形例2に従う構成によれば、図2に示された差動増幅器60へ2個のトランジスタを追加して構成された差動増幅器60#を用いて、図4および図5に示された接続切換回路70の配置を省略して、実施の形態1の変形例1と同様のデータ読出を実行できる。したがって、実施の形態1の変形例1に従う構成による効果に加えて、さらに、回路面積を削減することができる。
As described above, according to the configuration according to the second modification of the first embodiment, using
[実施の形態2]
実施の形態2においては、差動増幅器を2段階に設けた場合において、実施の形態1と同様のオフセットを与えるための構成について説明する。
[Embodiment 2]
In the second embodiment, a configuration for giving the same offset as in the first embodiment when a differential amplifier is provided in two stages will be described.
図9は、実施の形態2に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
図9を参照して、実施の形態2に従う構成においては、差動増幅器60の後段にグローバル差動増幅器80がさらに備えられる。グローバル差動増幅器80は、センスノードNsおよび/Nsの電圧差を相補のグローバルデータ線GIOおよび/GIOの通過電流差に変換し、この電流差を増幅してグローバルセンスノードNgsおよび/Ngsの間に電圧差を生じさせる。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the second embodiment.
Referring to FIG. 9, in the configuration according to the second embodiment, global
差動増幅器60は、図2に示した構成のメモリアレイ10に対して設けられている。したがって、図示しないが、データ読出時において、センスノードNsと電気的に結合されるデータ線LIOは、選択メモリセルと直列に接続され、センスノード/Nsと電気的に結合されるデータ線LIOrはダミーセルDMCと直列に接続されている。
The
グローバル差動増幅器80は、センスノードNsと接続されたゲートを有するN型MOSトランジスタ81と、センスノード/Nsと接続されたゲートを有するN型MOSトランジスタ82と、電圧発生回路90からのオフセット制御電圧Vofdをゲートに受けるN型MOSトランジスタ83と、電圧発生回路91からのオフセット制御電圧Vofrをゲートに受けるN型MOSトランジスタ84とを含む。トランジスタ81は、グローバルデータ線GIOおよび所定電圧Vssの間に電気的に結合され、トランジスタ82は、グローバルデータ線/GIOおよび所定電圧Vssの間に電気的に結合される。トランジスタ83はグローバルデータ線GIOに直列に接続され、トランジスタ84はグローバルデータ線/GIOに直列に接続される。
Global
グローバル差動増幅器80は、さらに、電源電圧VccとノードNspgの間に電気的に結合されるP型MOSトランジスタ85と、ノードNspgとグローバルセンスノードNgsおよび/Ngsの間にそれぞれ電気的に結合されるP型MOSトランジスタ86および87とを含む。トランジスタ85のゲートへは、グローバル差動増幅器80のイネーブル信号に相当する制御信号/ASEが行デコーダ20から入力される。トランジスタ85は、制御信号/ASEの活性化(Lレベル)に応答して動作電流を供給して、グローバル差動増幅器80を動作させる。トランジスタ86および87の各ゲートは、グローバルセンスノードNgsおよび/Ngsの所定の一方、たとえばグローバルセンスノード/Ngsと接続される。
Global
電圧発生回路90および91がそれぞれ生成するオフセット制御電圧VofdおよびVofrは、後程詳細に説明するように、相補のグローバルデータ線GIOおよび/GIOの通過電流間に所望のオフセットを与えるために、それぞれ異なるレベルへ設定される。このように、グローバル差動増幅器80は、トランジスタ81、82、86および87で構成される、センスノードNsおよび/Nsの電圧差を増幅する差動アンプに加えて、トランジスタ83および84のゲートへそれぞれ入力されるオフセット制御電圧VofdおよびVofrによって、グローバルデータ線GIOおよび/GIOの通過電流間に、所望のオフセットを与えることが可能な構成となっている。
Offset control voltages Vofd and Vofr generated by
一方、差動増幅器60内のトランジスタ61および62の各ゲートには、共通のオフセット制御電圧Vofが入力される。すなわち、前段の差動増幅器60においては、データ線LIOおよびLIOrの通過電流間に意図的なオフセットは与えられない。この結果、データ線LIOおよびLIOrの通過電流は、選択メモリセルおよびダミーセルの電気抵抗に依存する。
On the other hand, a common offset control voltage Vof is input to the gates of the
次に、図10を用いて、実施の形態2に従うデータ読出動作を説明する。図10においては、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されている場合について、第i行・第j列がデータ読出対象に選択されたときの動作を代表的に説明する。 Next, the data read operation according to the second embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 10, the operation when the i-th row and the j-th column are selected as the data read target in the case where the electric resistance of the dummy cell is preset to Rmin will be representatively described.
時刻t1においてデータ読出動作が開始されると、まず、データ線イコライズ信号LIOEQがLレベルへ非活性化されて、データ線LIO,LIOrは、所定電圧Vssから切離される。これにより、データ読出を開始する準備が整う。 When the data read operation is started at time t1, first, data line equalize signal LIOEQ is deactivated to L level, and data lines LIO and LIOr are disconnected from predetermined voltage Vss. Thus, preparations for starting data reading are completed.
さらに、時刻t2において、センスイネーブル信号/SEおよび制御信号/ASEがLレベルに活性化されて、差動増幅器60およびグローバル差動増幅器80の動作が開始される。これにより、データ線LIO、LIOrおよびグローバルデータ線GIO,/GIOの各々に対する電流供給が開始される。また、同様のタイミングで、選択行のリードワード線RWLiおよび選択列のコラム選択線CSLjが各々Hレベルに活性化される。
Further, at time t2, sense enable signal / SE and control signal / ASE are activated to L level, and operations of
選択行のリードワード線RWLiおよび選択列のコラム選択線CSLjの活性化に応答して、データ線LIOおよびLIOrは、選択メモリセルおよびダミーセルとそれぞれ電気的に結合される。これにより、時刻t3よりデータ線LIOおよびLIOrへ電流が流れ始める。また、データ線LIOおよびLIOrの通過電流によってそれぞれ決まるセンスノードNsおよび/Nsの電圧に応じて、時刻t4よりグローバルデータ線GIOおよび/GIOへ電流が流れ始める。 In response to activation of read word line RWLi of the selected row and column selection line CSLj of the selected column, data lines LIO and LIOr are electrically coupled to the selected memory cell and the dummy cell, respectively. Thereby, current starts to flow to data lines LIO and LIOr from time t3. Further, current starts to flow to global data lines GIO and / GIO from time t4 in accordance with the voltages of sense nodes Ns and / Ns respectively determined by the passing currents of data lines LIO and LIOr.
選択メモリセルと電気的に結合されたデータ線LIOの通過電流Ildは、記憶データに応じて、Idat(Rmax)およびIdat(Rmin)のいずれかとなる。電流Idat(Rmin)およびIdat(Rmax)の差をΔI´と表記する。 The passing current Ild of the data line LIO electrically coupled to the selected memory cell is either Idat (Rmax) or Idat (Rmin) depending on the stored data. The difference between the currents Idat (Rmin) and Idat (Rmax) is expressed as ΔI ′.
一方、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されているので、データ線LIOrの通過電流Ilrは、Idat(Rmin)と同レベルである。したがって、選択メモリセルの記憶データが電気抵抗Rminに相当する場合には、センスノードNsおよび/Nsの間に電圧差は生じない。この結果、トランジスタ83および84のゲートへそれぞれ入力されるオフセット制御電圧VofdおよびVofrが同レベルであるときには、グローバルデータ線GIOおよび/GIOの通過電流IgdおよびIgrの間にもオフセットが生じない。
On the other hand, since the electric resistance of the dummy cell is preset to Rmin, the passing current Ilr of the data line LIOr is at the same level as Idat (Rmin). Therefore, when the data stored in the selected memory cell corresponds to electric resistance Rmin, no voltage difference is generated between sense nodes Ns and / Ns. As a result, when the offset control voltages Vofd and Vofr input to the gates of the
これに対して、選択メモリセルの記憶データが電気抵抗Rmaxに相当する場合には、データ線LIOの通過電流Idat(Rmax)は、データ線LIOrの通過電流Ilrよりも小さくなるので、センスノードNsの電圧がセンスノード/Nsの電圧よりΔV´高くなる。したがって、トランジスタ81のゲート電圧がトランジスタ82のゲート電圧よりも高いので、オフセット制御電圧VofdおよびVofrが同レベルであるときにも、グローバルデータ線GIOの通過電流Igdは、グローバルデータ線/GIOのデータ通過電流Igrよりも大きくなる。
On the other hand, when the data stored in the selected memory cell corresponds to the electric resistance Rmax, the passing current Idat (Rmax) of the data line LIO is smaller than the passing current Ilr of the data line LIOr, so that the sense node Ns Is higher than the voltage of the sense node / Ns by ΔV ′. Therefore, since the gate voltage of
このように、ダミーセルDMCの電気抵抗がRminに相当する場合には、選択メモリセルに対応するグローバルデータ線GIOの通過電流Igdは、ダミーセルに対応するグローバルデータ線/GIOの通過電流Igrと同等であるか、あるいはそれよりも大きいかのいずれかとなる。 Thus, when the electric resistance of dummy cell DMC corresponds to Rmin, the passing current Igd of global data line GIO corresponding to the selected memory cell is equivalent to the passing current Igr of global data line / GIO corresponding to the dummy cell. Either it is or it is larger.
したがって、グローバル差動増幅器80は、グローバルデータ線/GIOの通過電流Igrが、グローバルデータ線GIOの選択メモリセルの記憶データに応じた2種類の通過電流Igd(Rmin)およびIgd(Rmax)の中間レベルとなるように、上記(2)を満足するようなオフセットを与える必要がある。
Therefore, in global
Igd(Rmax)+ΔIof=Igr=Igd(Rmin)−ΔIof …(2)
すなわち、ダミーセルの電気抵抗がRminに予め設定されているときには、グローバルデータ線/GIOの通過電流である基準電流IgrをΔIofだけ減少させるオフセットを与えるために、オフセット制御電圧Vofr=Vofd−Vαに設定する。オフセット制御電圧VofrおよびVofdの差Vαは、上記ΔIofに対応して調整される。
Igd (Rmax) + ΔIof = Igr = Igd (Rmin) −ΔIof (2)
That is, when the electric resistance of the dummy cell is set to Rmin in advance, the offset control voltage Vofr = Vofd−Vα is set in order to give an offset for reducing the reference current Igr which is a passing current of the global data line / GIO by ΔIof. To do. The difference Vα between the offset control voltages Vofr and Vofd is adjusted corresponding to the ΔIof.
あるいは、オフセット制御電圧VofrおよびVofdを共通レベルに設定して、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔIofだけ減少させるオフセットを与えるように、グローバルデータ線/GIOと接続されるトランジスタ87の電流駆動能力(トランジスタサイズ)を、グローバルデータ線GIOと接続されるトランジスタ86の電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも小さく設計してもよい。
Alternatively, the offset control voltages Vofr and Vofd are set to a common level so that an offset that reduces the passing current (reference current Iref) of the data line LIOr by ΔIof is applied to the
また、ダミーセルDMCの電気抵抗Rmaxに設定されているケースには、グローバルデータ線/GIOの通過電流である基準電流IgrをΔIofだけ増加させるオフセットを与えるために、オフセット制御電圧Vofr=Vofd+Vαに設定すればよい。 Further, in the case where the electric resistance Rmax of the dummy cell DMC is set, the offset control voltage Vofr = Vofd + Vα is set in order to give an offset for increasing the reference current Igr which is a passing current of the global data line / GIO by ΔIof. That's fine.
あるいは、オフセット制御電圧VofrおよびVofdを共通レベルに設定して、データ線LIOrの通過電流(基準電流Iref)をΔIofだけ増加させるオフセットを与えるように、グローバルデータ線GIOrと接続されるトランジスタ87の電流駆動能力(トランジスタサイズ)を、グローバルデータ線GIOと接続されるトランジスタ86の電流駆動能力(トランジスタサイズ)よりも大きく設計してもよい。
Alternatively, the current of the
時刻t4からt5の間において、このように与えられたオフセットによって、選択メモリセルおよびダミーセルの電気抵抗に基づいて生じたグローバルデータ線GIOおよび/GIOの通過電流差ΔIofは、グローバル差動増幅器80によって、グローバルセンスノードNgsおよび/Ngsの電圧差ΔVofに変換される。この電圧差ΔVofは、選択メモリセルの記憶データに応じた極性を有するので、グローバルセンスノードNgsおよび/Ngsの電圧から選択メモリセルの記憶データを検知することができる。
Between time t4 and time t5, the passing current difference ΔIof between global data lines GIO and / GIO generated based on the electrical resistances of the selected memory cell and the dummy cell due to the offset given in this way is caused by global
時刻t5以降のデータ読出終了時における動作は、図3における時刻t4以降の動作と同様であるので、詳細な説明は繰り返さない。 Since the operation at the end of data reading after time t5 is the same as the operation after time t4 in FIG. 3, detailed description will not be repeated.
実施の形態2に従う構成においては、実施の形態1と同様のデータ読出動作を、差動増幅器を2段構成とした場合にも実行することができる。2段階の差動増幅動作によってデータ読出を実行することにより、それほど大型なMOSトランジスタを設けることなく、十分な増幅率を得てデータ読出を実行することが可能となるので、データ読出回路系の回路面積を小型化できる。 In the configuration according to the second embodiment, the same data read operation as that of the first embodiment can be executed even when the differential amplifier has a two-stage configuration. By executing the data reading by the two-stage differential amplification operation, it is possible to execute the data reading with a sufficient amplification factor without providing a very large MOS transistor. The circuit area can be reduced.
[実施の形態2の変形例1]
実施の形態2の変形例1に従う構成においては、図4に示したデータ線LIO,/LIOと選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる構成において、2段階の差動増幅を実行するための構成について説明する。
[
In the configuration according to the first modification of the second embodiment, the connection correspondence between the data lines LIO, / LIO and the selected memory cell and the dummy cell shown in FIG. 4 is switched according to the address selection result. A configuration for performing differential amplification in stages will be described.
図11は、実施の形態2の変形例1に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。 FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the first modification of the second embodiment.
図11を参照して、実施の形態2の変形例1に従う構成においては、図9に示した実施の形態2に従う構成に加えて、差動増幅器60とデータ線LIOおよび/LIOの間に接続切換回路70が配置される点で異なる。差動増幅器60は、図4に示した構成のメモリアレイ10に対して設けられている。したがって、図示しないが、データ読出時において、センスノードNsおよび/Nsとそれぞれ電気的に結合されるデータ線LIOおよび/LIOは,アドレス選択結果に応じて、選択メモリセルおよびダミーセルDMCの一方ずつと直列に接続されている。
Referring to FIG. 11, in the configuration according to the first modification of the second embodiment, in addition to the configuration according to the second embodiment shown in FIG. 9, a connection is made between
接続切換回路70の構成は、図5に示したのと同様であり、アドレス選択結果に応じて、データ線LIOおよび/LIOのうちの、選択メモリセルと接続された一方を固定的にノードNd(トランジスタ61側)と接続し、ダミーセルと接続された他方をノードNr(トランジスタ62側)と固定的に接続する。
The configuration of
これにより、差動増幅器60、グローバル差動増幅器80および電圧発生回路90,91を、実施の形態2で説明したのと同様に動作させて、相補のデータ線と選択メモリセルおよびダミーセルの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる折返しビット線構成のメモリアレイに対しても、実施の形態2と同様の効果を得ることができる。さらに、メモリアレイを折返し型ビット線構成とすることにより、よりノイズ耐性の高い正確なデータ読出を実行できる。
As a result,
[実施の形態2の変形例2]
図12は、実施の形態2の変形例2に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the second modification of the second embodiment.
図12を参照して、実施の形態2の変形例2に従う構成においては、接続切換回路70が、グローバル差動増幅器80の内部に対応して設けられる。すなわち、接続切換回路70は、グローバルデータ線GIOおよび/GIOを分割するように設けられ、トランジスタ81および82と、トランジスタ83および84との間の接続対応関係をアドレス選択結果に応じて制御する。
Referring to FIG. 12, in the configuration according to the second modification of the second embodiment,
すなわち、奇数行が選択されて、アドレス信号RA0がHレベルに設定されると、接続切換回路70は、データ線LIOを介して選択メモリセルと電気的に結合されたセンスノードNsの電圧に応じて通過電流が制御されるトランジスタ81と、オフセット制御電圧Vofdをゲートに受けるトランジスタ83と直列に接続し、データ線/LIOを介してダミーセルと電気的に結合されたセンスノード/Nsの電圧に応じて通過電流が制御されるトランジスタ82を、オフセット制御電圧Vofrをゲートに受けるトランジスタ84と直列に接続する。
That is, when an odd row is selected and address signal RA0 is set to H level,
これに対して、アドレス信号/RA0がHレベルに設定される偶数行の選択時には、データ線LIOを介してダミーセルと電気的に結合されたセンスノードNsの電圧に応じて通過電流が制御されるトランジスタ81と、オフセット制御電圧Vofrをゲートに受けるトランジスタ84と直列に接続し、データ線/LIOを介して選択メモリセルと電気的に結合されたセンスノード/Nsの電圧に応じて通過電流が制御されるトランジスタ82を、オフセット制御電圧Vofdをゲートに受けるトランジスタ83と直列に接続する。
In contrast, when an even-numbered row in which address signal / RA0 is set to the H level is selected, the passing current is controlled according to the voltage of sense node Ns electrically coupled to the dummy cell via data line LIO.
このように、接続切換回路70を、差動増幅器60の後段、すなわちグローバル差動増幅器80に対応して設けても、差動増幅器60、グローバル差動増幅器80および電圧発生回路90,91を、実施の形態2で説明したのと同様に動作させて、相補のデータ線と選択メモリセルおよびダミーセルの間の接続対応関係がアドレス選択結果に応じて入替わる折返しビット線構成のメモリアレイに対しても、実施の形態2と同様の効果を得ることができる。さらに、メモリアレイを折返し型ビット線構成とすることにより、よりノイズ耐性の高い正確なデータ読出を実行できる。
Thus, even if the
このような構成とすれば、たとえば複数のメモリブロックに分割されたメモリアレイ構成において、各メモリブロックごとに差動増幅器60に相当する初段の増幅回路を設置し、かつこれらの複数のブロックに共通にグローバル差動増幅器80を設ける構成とした場合に、接続切換回路70の配置個数を削減して、回路面積の縮小を図ることができる。
With such a configuration, for example, in a memory array configuration divided into a plurality of memory blocks, a first-stage amplifier circuit corresponding to the
なお、実施の形態1および2に示した差動増幅器60,60#およびグローバル差動増幅器80においては、トランジスタ61,61A,61B,62,62A,62B、81〜84をN型MOSトランジスタで構成し、トランジスタ63〜65,85〜87をP型MOSトランジスタで構成しているが、それぞれの差動増幅器の動作電圧、あるいはそれぞれのトランジスタのゲート電圧(たとえばオフセット制御電圧の設定)の極性を考慮すれば、これらのトランジスタの極性(N型/P型)は適宜変更可能である。
In
[実施の形態3]
実施の形態3においては、ダミーセルを正規メモリセルと同様の構成としてデータ読出を実行するための、他の構成例について説明する。
[Embodiment 3]
In the third embodiment, another configuration example for executing data reading with dummy cells having the same configuration as a normal memory cell will be described.
図13は、実施の形態3に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。 図13を参照して、メモリアレイ10は、図4に示した構成と同様の構成を有するので詳細な説明は繰り返さない。図13においては、代表的に示される1つの偶数行における先頭メモリセル列に対応する、リードワード線RWLe、ディジット線DLe、ビット線BL0,/BL0と正規メモリセル、ならびに、対応するダミーセルDMC、ダミーリードワード線DRWLeおよびダミーディジット線DDLeが代表的に示されている。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the third embodiment. Referring to FIG. 13, since
データ線LIOおよび/LIOから構成されるデータ線対LIOPと、メモリアレイ10の間の接続関係は、図4と同様であるので詳細な説明は繰返さない。また、図4の構成と比較して、接続切換回路70の配置が省略され、差動増幅器60に代えてデータ読出回路160が配置される。データ読出回路160は、差動増幅器60のようにデータ線LIOおよび/LIOの通過電流間にオフセットを与える機能を備えておらず、選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流差がそのまま反映されたデータ線LIOおよび/LIOの通過電流差を、センスノードNsおよび/Ns間の電圧差に変換することにより、選択メモリセルからのデータ読出を実行する。
Since the connection relationship between data line pair LIOP formed of data lines LIO and / LIO and
たとえば、差動増幅器60において、トランジスタ61および62の間、ならびにトランジスタ63および64の間のそれぞれにおいて、電流駆動能力(トランジスタサイズ)を均衡させ、さらに、トランジスタ61および62のゲートに共通の制御電圧Vrefを与えることにより、このようなデータ読出回路160を実現できる。
For example, in the
実施の形態3に従う構成においては、正規メモリセルMCにおいて、アクセストランジスタATRのソース電圧が、所定電圧Vssに設定される一方で、ダミーセルDMCにおいては、ダミーアクセストランジスタATRdのソース電圧は、ダミーソース電圧線DSLによって供給されるソース電圧Vsl(Vsl≠Vss)に設定される。 In the configuration according to the third embodiment, in normal memory cell MC, the source voltage of access transistor ATR is set to a predetermined voltage Vss, while in dummy cell DMC, the source voltage of dummy access transistor ATRd is the dummy source voltage. The source voltage Vsl (Vsl ≠ Vss) supplied by the line DSL is set.
データ読出時には、データ線LIOおよび/LIOの各々は、制御電圧Vrefに応じた共通の電圧に設定される。これにより、アクセストランジスタATRおよびダミーアクセストランジスタATRdがそれぞれオンした選択メモリセルおよびダミーセルにおいて、その両端印加電圧に差が生じる。この結果、選択メモリセル中のトンネル磁気抵抗素子TMRおよび対応するダミーセル中のダミー磁気抵抗素子TMRdの両端印加電圧は、それぞれ異なってくる。 At the time of data reading, each of data lines LIO and / LIO is set to a common voltage corresponding to control voltage Vref. As a result, a difference occurs between the voltages applied to both ends of the selected memory cell and the dummy cell in which the access transistor ATR and the dummy access transistor ATRd are turned on. As a result, the voltages applied to both ends of the tunnel magnetoresistive element TMR in the selected memory cell and the dummy magnetoresistive element TMRd in the corresponding dummy cell are different.
たとえば、ダミーセルDMCが電気抵抗Rminに予め設定されるときには、ソース電圧Vslが所定電圧Vssよりも高くなるように(Vsl>Vss)設定して、ダミー磁気抵抗素子TMRdの両端印加電圧がトンネル磁気抵抗素子TMRの両端印加電圧よりも小さくなるようにすれば、ダミーセルを通過する基準電流Irefを、選択メモリセルを通過する2種類のデータ読出電流Idatの中間レベルにできる。なお、ダミー磁気抵抗素子TMRdの両端印加電圧の抑制によって、アクセス頻度が正規メモリセルよりも高いダミーセルDMCの動作信頼性を向上させることができる。 For example, when the dummy cell DMC is set in advance to the electric resistance Rmin, the source voltage Vsl is set so as to be higher than the predetermined voltage Vss (Vsl> Vss), and the voltage applied to both ends of the dummy magnetoresistive element TMRd becomes the tunneling magnetoresistance. By making it smaller than the voltage applied across the element TMR, the reference current Iref passing through the dummy cell can be set to an intermediate level between the two types of data read current Idat passing through the selected memory cell. Note that, by suppressing the voltage applied across the dummy magnetoresistive element TMRd, the operation reliability of the dummy cell DMC whose access frequency is higher than that of the normal memory cell can be improved.
反対に、ダミーセルDMCの電気抵抗がRmaxに予め設定されるときには、ソース電圧Vslを所定電圧Vssよりも低く設定して(Vsl<Vss)、ダミー磁気抵抗素子TMRdの両端印加電圧をトンネル磁気抵抗素子TMRの両端印加電圧よりも大きくすることによって、基準電流Irefを、選択メモリセルの2種類の通過電流の中間レベルとすることができる。 On the contrary, when the electric resistance of the dummy cell DMC is preset to Rmax, the source voltage Vsl is set lower than the predetermined voltage Vss (Vsl <Vss), and the voltage applied across the dummy magnetoresistive element TMRd is set to the tunnel magnetoresistive element. By making it larger than the voltage applied across the TMR, the reference current Iref can be set to an intermediate level between the two types of passing currents of the selected memory cell.
このように、実施の形態3に従う構成によれば、差動増幅器60側、すなわちデータ線LIOおよび/LIOの通過電流にオフセットを与えるための特別な構成が設けることなく、ダミーセルDMCに供給されるソース電圧を調整することによって、すなわち、より簡易なデータ読出回路系によって、正規メモリセルと同様の構成のダミーセルDMCを用いてデータ読出を実行することが可能である。
Thus, according to the configuration according to the third embodiment, the dummy cell DMC is supplied without providing a special configuration for giving an offset to the
[実施の形態3の変形例1]
図14は、実施の形態3の変形例1に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the first modification of the third embodiment.
図14を参照して、実施の形態3の変形例に従う構成においては、図13に示した実施の形態3に従う構成と比較して、データ読出時において、ビット線BLまたは/BLとダミーソース電圧線DSLの間に、複数のダミーセルDMCが並列に接続される点が異なる。 Referring to FIG. 14, in the configuration according to the modification of the third embodiment, bit line BL or / BL and the dummy source voltage are read at the time of data reading as compared with the configuration according to the third embodiment shown in FIG. The difference is that a plurality of dummy cells DMC are connected in parallel between the lines DSL.
すなわち、実施の形態3に従う構成と比較して、N倍(N:2以上の整数)のダミーセル行がメモリアレイ10内に配置される。一例として、図14には、N=2である場合、すなわち、データ読出時にビット線BLまたは/BLとダミーソース電圧線DSLの間に、2個のダミーセルDMCが並列に接続される構成が示される。図14には、偶数行に対応して配置された2行のダミーセル行にそれぞれ対応するダミーリードワード線DRWLe0およびDRWLe1と、これに対応する先頭メモリセル列の2個のダミーセルが代表的に示される。
That is, compared to the configuration according to the third embodiment, N times (N: an integer of 2 or more) dummy cell rows are arranged in
ダミーリードワード線DRWLe0およびDRWLe1は、共通に活性化および非活性化される。したがって、偶数行が選択されたデータ読出時には、各ビット線BLおよびダミーソース電圧線DSLの間に、2個ずつのダミーセルDMCが並列に接続される。図示しないが、奇数行に対応してするダミーセルも、同様に2行に渡って配置される。 Dummy read word lines DRWLe0 and DRWLe1 are activated and deactivated in common. Therefore, at the time of data reading in which an even-numbered row is selected, two dummy cells DMC are connected in parallel between each bit line BL and dummy source voltage line DSL. Although not shown, dummy cells corresponding to odd rows are also arranged over two rows in the same manner.
このような構成とすることにより、複数のダミー磁気抵抗素子の通過電流によって基準電流Irefを生成するため、ダミーセル1個あたりの通過電流を抑制できる。たとえば、各ダミーセルDMCの電気抵抗がRminに設定されている場合には、ダミーソース電圧線DSLによって供給されるソース電圧Vslを図13に示した構成の場合よりもさらに上昇させて、各ダミー磁気抵抗素子TMRdの両端印加電圧を低減しても、所望の基準電流Irefを生成することができる。 With such a configuration, since the reference current Iref is generated by the passing currents of the plurality of dummy magnetoresistive elements, the passing current per dummy cell can be suppressed. For example, when the electric resistance of each dummy cell DMC is set to Rmin, the source voltage Vsl supplied by the dummy source voltage line DSL is further increased as compared with the configuration shown in FIG. Even if the voltage applied across the resistor element TMRd is reduced, the desired reference current Iref can be generated.
これにより、アクセス頻度が正規メモリセルよりも高いダミーセルDMCの動作信頼性を確保して、実施の形態3と同様のデータ読出を実行できる。 As a result, the operation reliability of the dummy cell DMC whose access frequency is higher than that of the normal memory cell can be ensured, and data reading similar to that of the third embodiment can be executed.
[実施の形態3の変形例2]
図15は、実施の形態3の変形例2に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the second modification of the third embodiment.
図15を参照して、実施の形態3の変形例2に従う構成においては、図13に示した実施の形態3に従う構成と比較して、ダミーソース電圧線DSLの電圧を制御するための電流伝達回路100がさらに設けられる点が異なる。
Referring to FIG. 15, in the configuration according to the second modification of the third embodiment, the current transmission for controlling the voltage of dummy source voltage line DSL is compared with the configuration according to the third embodiment shown in FIG. The difference is that the
電流伝達回路100は、所定電圧Vssを供給するノード103およびダミーソース電圧線DSLの間に電気的に結合されたトランジスタ101と、ダミーソース電圧線DSLの電圧およびその基準値に相当するソース電圧Vslの電圧差を増幅してトランジスタ101のゲートに増幅するセンスアンプ102とを含む。これにより、トランジスタ101の通過電流は、ダミーソース電圧線DSLがソース電圧Vslに維持されるように制御される。
The
このような構成とすることにより、実施の形態3に従う構成において、ダミーソース電圧線DSLを安定的にソース電圧Vslに設定できるので、安定的なデータ読出を実行できる。 With such a configuration, in the configuration according to the third embodiment, the dummy source voltage line DSL can be stably set to the source voltage Vsl, so that stable data reading can be executed.
[実施の形態3の変形例3]
図16は、実施の形態3の変形例3に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[Modification 3 of Embodiment 3]
FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the third modification of the third embodiment.
図16を参照して、実施の形態3の変形例3に従う構成においては、図15に示した実施の形態3の変形例2に従う構成と比較して、正規メモリセルに対して所定電圧Vssを供給するためのソース電圧線SLに対して、電流伝達回路105がさらに設けられる点が異なる。
Referring to FIG. 16, in the configuration according to the third modification of the third embodiment, a predetermined voltage Vss is applied to the normal memory cell as compared with the configuration according to the second modification of the third embodiment shown in FIG. The difference is that a
電流伝達回路105は、ソース電圧線SLおよび接地ノード104の間に電気的に結合されるトランジスタ106と、ソース電圧線SLの電圧およびその基準値に相当する所定電圧Vssの電圧差を増幅してトランジスタ106のゲートに出力するセンスアンプ107とを含む。これにより、トランジスタ106の通過電流は、ソース電圧線SLが所定電圧Vssに維持されるように制御される。さらに、電流伝達回路100においても、トランジスタ101は、ダミーソース電圧線および接地ノード104の間に設けられる。
このように、実施の形態3の変形例3に従う構成においては、正規メモリセルのアクセストランジスタATRのソース電圧として与えられる所定電圧Vssが、接地電圧GNDとは異なる電圧に設定される。 Thus, in the configuration according to the third modification of the third embodiment, predetermined voltage Vss given as the source voltage of access transistor ATR of the normal memory cell is set to a voltage different from ground voltage GND.
図17に示すように、同一の分圧経路を用いて、ダミーセル用のソース電圧Vslおよび正規メモリセル用のソース電圧(Vss)の一方を他方に基づいて発生させる。一般に、基準電圧として生成されるこれらのソース電圧VslおよびVssのそれぞれの絶対レベルを厳密に維持することは困難であるが、上述した構成とすることにより、ソース電圧VslおよびVssの間の相対的なレベル差は安定的に維持できる。 As shown in FIG. 17, one of the source voltage Vsl for the dummy cell and the source voltage (Vss) for the normal memory cell is generated based on the other using the same voltage dividing path. In general, it is difficult to strictly maintain the absolute levels of the source voltages Vsl and Vss generated as the reference voltages. However, with the above-described configuration, the relative voltages between the source voltages Vsl and Vss are reduced. This level difference can be maintained stably.
実施の形態3に従うデータ読出動作においては、選択メモリセルの両端印加電圧と、ダミーセルの両端印加電圧との間に所望の差を生じさせることによって基準電流Irefを生成するので、実施の形態3の変形例3に従う構成によれば、基準電流Irefについてその変動を抑制して、より正確に設定することができる。 In the data read operation according to the third embodiment, the reference current Iref is generated by generating a desired difference between the voltage applied across the selected memory cell and the voltage applied across the dummy cell. According to the configuration according to the modification example 3, the reference current Iref can be set more accurately while suppressing the fluctuation.
[実施の形態4]
実施の形態4においては、MTJメモリセルが複数のメモリブロックに分割配置された構成において、データ読出回路系を複数のメモリブロック間で共有するための構成について説明する。
[Embodiment 4]
In the fourth embodiment, a configuration for sharing a data read circuit system between a plurality of memory blocks in a configuration in which MTJ memory cells are divided and arranged in a plurality of memory blocks will be described.
図18は、実施の形態4に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
図18を参照して、複数のMTJメモリセルは、選択的にデータ読出対象に選択されるメモリブロックMBaおよびMBbに分割配置される。
FIG. 18 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the fourth embodiment.
Referring to FIG. 18, a plurality of MTJ memory cells are divided and arranged in memory blocks MBa and MBb which are selectively selected for data reading.
メモリブロックMBaおよびMBbの間では、メモリセル列が共有される。したがって、メモリセル列にそれぞれ対応して設けられるコラム選択線CSL0〜CSLnは、メモリブロックMBaおよびMBbの間で共有される。列デコーダ25は、コラム選択線CSL0〜CSLnをコラムアドレスCAに応じて選択的に活性化する。
A memory cell column is shared between memory blocks MBa and MBb. Therefore, column select lines CSL0-CSLn provided corresponding to the memory cell columns are shared between memory blocks MBa and MBb.
一方、メモリセル行にそれぞれ対応するリードワード線RWLは、メモリブロックごとに独立に配置される。さらに、ダミーセルDMCは、メモリブロックMBaおよびMBbにおいて、ダミーセル行110aおよび110bをそれぞれ形成するように配置される。たとえば、メモリブロックMBaには、(m+1)個(m:自然数)の正規メモリセル行にそれぞれ対応して、リードワード線RWL0a〜RWLmaが配置され、ダミーセル行110aに対応してダミーリードワード線DRWLaが配置される。同様に、メモリブロックMBbにおいては、(m+1)個の正規メモリセル行にそれぞれ対応して、リードワード線RWL0b〜RWLmbが配置され、ダミーセル行110bに対応してダミーリードワード線DRWLbが配置される。
On the other hand, the read word line RWL corresponding to each memory cell row is arranged independently for each memory block. Further, dummy cells DMC are arranged to form
メモリブロックMBaおよびMBbにそれぞれ対応して、行デコーダ20aおよび20bがそれぞれ設けられる。行デコーダ20aおよび20bは、メモリブロックMBaおよびMBbの選択結果をそれぞれ示すブロック選択信号BSaおよびBSbを受けて、ロウアドレスRAに応じた行選択を実行する。
具体的には、メモリブロックMBaがデータ読出対象に選択されてブロック選択信号BSaが活性化(Hレベル)されたときには、行デコーダ20aは、ロウアドレスRAに基づいて、リードワード線RWL0a〜RWLmaのうちの1個を選択的に活性化する。一方、行デコーダ20bは、ダミーセル行110bを選択すべく、ダミーリードワード線DRWLbを活性化する。
Specifically, when memory block MBa is selected as a data read target and block selection signal BSa is activated (H level),
これに対して、メモリブロックMBbがデータ読出対象に選択されてブロック選択信号BSbが活性化(Hレベル)されたときには、行デコーダ20bは、ロウアドレスRAに基づいて、リードワード線RWL0b〜RWLmbのうちの1個を選択的に活性化する。一方、行デコーダ20aは、ダミーセル行110aを選択すべく、ダミーリードワード線DRWLaを活性化する。
On the other hand, when memory block MBb is selected as a data read target and block selection signal BSb is activated (H level),
(n+1)個(n:自然数)のメモリセル列にそれぞれ対応して、ビット線BL0a〜BLnaおよびBL0b〜BLnbが、メモリブロックMBaおよびMBbのそれぞれに独立に配置される。相補のデータ線LIOおよび/LIOは、リードワード線RWL方向に沿って配置され、メモリブロックMBaおよびMBbの間で共有される。さらに、メモリセル列にそれぞれ対応してコラム選択ゲートCSG0〜CSGnが配置される。コラム選択ゲートCSG0〜CSGnの各々は、コラム選択線CSL0〜SCLnのうちの対応する1つの活性化(Hレベル)に応答して、ビット線BL0a〜BLnaのうちの対応する1つをデータ線LIOと接続し、ビット線BL0b〜BLnbのうちの対応する1つをデータ線/LIOと接続する。 Corresponding to (n + 1) (n: natural number) memory cell columns, bit lines BL0a to BLna and BL0b to BLnb are independently arranged in memory blocks MBa and MBb, respectively. Complementary data lines LIO and / LIO are arranged along read word line RWL and are shared between memory blocks MBa and MBb. Further, column selection gates CSG0 to CSGn are arranged corresponding to the memory cell columns, respectively. Each of column selection gates CSG0 to CSGn responds to activation (H level) of corresponding one of column selection lines CSL0 to SCLn and transmits corresponding one of bit lines BL0a to BLna to data line LIO. And corresponding one of the bit lines BL0b to BLnb is connected to the data line / LIO.
データ読出回路161は、図7に示された差動増幅器60#と同様の構成および機能を有する。データ読出回路161は、図7におけるアドレス信号RA0,/RA0に代えて、ブロック選択信号BSa,BSbに応じて動作する。論理ゲート69は、ブロック選択信号BSaおよびBSbのNOR論理演算結果をセンスイネーブル信号/SEとしてデータ読出回路161に入力する。このように生成されたセンスイネーブル信号/SEは、図2に示されたトランジスタ65のゲートに入力されるので、メモリブロックMBaおよびMBbの一方がデータ読出対象に選択されて、ブロック選択信号BSaおよびBSbのいずれか一方がHレベルに活性化されたときに、データ読出回路161における差動増幅動作を実行するための動作電流の供給が開始される。
Data read
メモリブロックMBaがデータ読出対象に選択された場合には、データ線LIOに対してメモリブロックMBa中の選択メモリセルが接続され、データ線/LIOに対してメモリブロックMBb中のダミーセルが接続される。反対に、メモリブロックMBbがデータ読出対象に選択された場合には、メモリブロックMBb中の選択メモリセルがデータ線/LIOと接続され、データ線LIOがメモリブロックMBa内のダミーセルと接続される。 When memory block MBa is selected as a data read target, a selected memory cell in memory block MBa is connected to data line LIO, and a dummy cell in memory block MBb is connected to data line / LIO. . On the other hand, when memory block MBb is selected as a data read target, the selected memory cell in memory block MBb is connected to data line / LIO, and data line LIO is connected to a dummy cell in memory block MBa.
このように、選択メモリセルおよびダミーセルの1個ずつがそれぞれ接続されたデータ線LIOおよび/LIOの間の通過電流差に応じて、実施の形態1の変形例2に従うデータ読出を実行して、選択メモリセルからの記憶データを読出すことができる。 In this manner, data reading according to the second modification of the first embodiment is executed in accordance with the passing current difference between data lines LIO and / LIO to which each of the selected memory cell and the dummy cell is connected, respectively. The stored data from the selected memory cell can be read.
このような構成とすることにより、2つのメモリブロック間で、相補のデータ線LIO,/LIOおよび差動増幅器に相当するデータ読出回路を共有することができるので、データ読出系回路の回路規模を小さくできる。 With such a configuration, the data read circuit corresponding to the complementary data lines LIO and / LIO and the differential amplifier can be shared between the two memory blocks, so that the circuit scale of the data read system circuit can be increased. Can be small.
[実施の形態4の変形例]
図19は、実施の形態4の変形例に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[Modification of Embodiment 4]
FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to a modification of the fourth embodiment.
図19を参照して、実施の形態4の変形例に従う構成においては、図18に示した実施の形態4に従う構成と比較して、メモリブロックMBaおよびMBbのそれぞれにおいて、ダミーセルはダミーセル列115aおよび115bをそれぞれ形成するように配置される点が異なる。
Referring to FIG. 19, in the configuration according to the modification of the fourth embodiment, compared to the configuration according to the fourth embodiment shown in FIG. 18, in each of memory blocks MBa and MBb, dummy cells are
したがって、メモリブロックMBaおよびMBbにそれぞれ配置されるリードワード線RWL0a〜RWLma,RWL0b〜RWLmbの各々は、正規メモリセルMCとダミーセルDMCとの間で共有される。一方、ビット線BL0a〜BLnaは、メモリブロックMBaにおいて、正規メモリセル列にそれぞれ対応して配置され、メモリブロックMBbにおいては、ビット線BL0b〜BLnbが、正規メモリセル列にそれぞれ対応して配置される。さらに、メモリブロックMBaおよびMBbのそれぞれにおいて、ダミーセル列115aおよび115bにそれぞれ対応して、ダミービット線BLdaおよびBLdbがそれぞれ配置される。
Therefore, each of read word lines RWL0a to RWLma and RWL0b to RWLmb arranged in memory blocks MBa and MBb is shared between normal memory cell MC and dummy cell DMC. On the other hand, bit lines BL0a to BLna are arranged corresponding to normal memory cell columns in memory block MBa, and bit lines BL0b to BLnb are arranged corresponding to normal memory cell columns in memory block MBb. The Further, in each of memory blocks MBa and MBb, dummy bit lines BLda and BLdb are arranged corresponding to
コラム選択ゲートCSG0〜CSGnは、(n+1)個の正規メモリセル列にそれぞれ対応して設けられ、ダミーコラム選択ゲートCSGdは、ダミーセル列115aおよび115bに対応して設けられる。コラム選択ゲートCSG0〜CSGnの各々は、コラム選択線CSL0〜CSLnのうちの対応する1つの活性化(Hレベル)に応答して、ビット線BL0a〜BLnaのうちの対応する1つをデータ線LIOと接続するとともに、ビット線BL0b〜BLndのうちの対応する1つをデータ線/LIOと接続する。これに対してダミーコラム選択ゲートCSGdは、ダミーコラム選択線CSLdの活性化に応答して、ダミービット線BLdaをデータ線/LIOと接続し、ビット線BLdbをデータ線LIOと接続する。
Column selection gates CSG0 to CSGn are provided corresponding to (n + 1) normal memory cell columns, respectively, and dummy column selection gate CSGd is provided corresponding to
列デコーダ25は、データ読出時において、コラム選択線CSL0〜CSLnのうちの1つをコラムアドレスCAに応じて選択的に活性化し、その一方でアドレス選択結果にかかわらずダミーコラム選択線CSLdをHレベルに活性化する。一方、行デコーダ20aは、メモリブロックMBaが選択メモリセルを含む場合に、ロウアドレスRAに応じて、リードワード線RWL0a〜RWLmaのうちの1つを選択的に活性化する。行デコーダ20bは、メモリブロックMBbが選択メモリセルを含む場合に、ロウアドレスRAに応じて、リードワード線RWL0b〜RWLmbのうちの1つを選択的に活性化する。その他の部分の構成および動作については、図18に示した実施の形態4に従う構成と同様であるので詳細な説明は繰返さない。
In the data read operation,
このような構成とすることにより、選択メモリセルがメモリブロックMBaに含まれるデータ読出時においては、選択メモリセルがデータ線LIOに接続されるとともに、メモリブロックMBa中の選択メモリセルと同一のメモリセル行に属するダミーセルがデータ線/LIOに接続される。一方、選択メモリセルがメモリブロックMBbに含まれるデータ読出時においては、選択メモリセルがデータ線/LIOに接続されるとともに、メモリブロックMBb中の選択メモリセルと同一のメモリセル行に属するダミーセルがデータ線LIOに接続される。 With such a configuration, in the data read operation in which the selected memory cell is included in memory block MBa, the selected memory cell is connected to data line LIO and the same memory as the selected memory cell in memory block MBa Dummy cells belonging to the cell row are connected to the data line / LIO. On the other hand, at the time of data reading in which the selected memory cell is included in memory block MBb, the selected memory cell is connected to data line / LIO and dummy cells belonging to the same memory cell row as the selected memory cell in memory block MBb Connected to the data line LIO.
したがって、各メモリブロックにおいてダミーセルのメモリセル列を構成するように配置する場合においても、実施の形態4と同様に、2つのメモリブロック間で相補のデータ線LIO,/LIOおよびデータ読出回路161を共有して、回路規模を縮小したデータ読出構成を実現することができる。
Therefore, even in the case where each memory block is arranged so as to constitute a memory cell column of dummy cells, complementary data lines LIO, / LIO and data read
なお、実施の形態4およびその変形例において、実施の形態1の変形例1と同様に、差動増幅器60および接続切換回路70の組合せによって、2つのメモリブロック間で共有されるデータ読出回路161を構成してもよい。この場合には、接続切換回路70は、ブロック選択信号BSa,BSbに応じて、データ線LIO,/LIOと図2に示されたトランジスタ61,62との間の接続対応関係を切換える必要がある。
In the fourth embodiment and the modification thereof, as in the first modification of the first embodiment, the data read
あるいは、メモリブロックMBaおよびMBbにおいて、実施の形態3と同様に、正規メモリセルおよびダミーセルに供給されるソース電圧をそれぞれ独立化させることもできる。この場合には、データ読出回路161に代えて図13に示したデータ読出回路160が配置される。このように、実施の形態3に従う構成を、実施の形態4およびその変形例と組合せた構成としても、データ読出回路160、データ線LIO,/LIOおよび、正規メモリセルおよびダミーセルにそれぞれ対応するソース電圧線は、2個のメモリブロック間で共有することができる。
Alternatively, in the memory blocks MBa and MBb, the source voltages supplied to the normal memory cells and the dummy cells can be made independent as in the third embodiment. In this case, data read
[実施の形態5]
実施の形態5においては、自身が中間的な電気抵抗を有し、かつ、正規メモリセルのピッチに合わせて効率的に配置可能なダミーセルの構成について説明する。
[Embodiment 5]
In the fifth embodiment, a configuration of a dummy cell that has an intermediate electrical resistance and can be efficiently arranged according to the pitch of a normal memory cell will be described.
図20は、実施の形態5に従うダミーセルの構成および配置を説明する回路図である。
図20を参照して、実施の形態5に従う構成では、メモリアレイ10において、正規メモリセルMCおよび実施の形態5に従うダミーセル200は、図4に示した構成と同様に、折返し型ビット線構成に基づいて1行ごとに交互配置される。すなわち、ダミーセル200は、図4に示されたダミーセルDMCと同様に、正規メモリセルの奇数行および偶数行にそれぞれ対応する2個のダミーセル行を形成するように配置される。すなわち、奇数行に対応するダミーセル行に対応してダミーリードワード線DRWLoおよびダミーディジット線DDLoが配置され、偶数行に対応するダミーセル行に対応してダミーリードワード線DRWLeおよびダミーディジット線DDLeが配置される。
FIG. 20 is a circuit diagram illustrating the configuration and arrangement of dummy cells according to the fifth embodiment.
Referring to FIG. 20, in the configuration according to the fifth embodiment, in
図20においては、代表的に、先頭のメモリセル行およびその次のメモリセル行と、第j番目のメモリセル列とに対応する、リードワード線RWL0,RWL1、ディジット線DL0,DL1,ビット線対BLPおよびに対応する正規メモリセルと、これらの正規メモリセルに対応するダミーセルが代表的に示される。ビット線対BLPjは、相補のビット線BLj,/BLjから構成される。 In FIG. 20, typically, read word lines RWL0, RWL1, digit lines DL0, DL1, bit lines corresponding to the first memory cell row, the next memory cell row, and the j-th memory cell column are shown. A normal memory cell corresponding to the pair BLP and dummy cells corresponding to these normal memory cells are typically shown. The bit line pair BLPj is composed of complementary bit lines BLj and / BLj.
各メモリセル列において、相補のビット線BLおよび/BLは、対応するコラム選択ゲートCSGを介して、データバス対DBPを構成するデータバスDBおよび/DBとそれぞれ接続される。たとえば、第j番目のメモリセル列に対応するビット線BLjおよび/BLjは、対応するコラム選択線CSLjの活性化に応答して、データバスDBおよび/DBとそれぞれ接続される。 In each memory cell column, complementary bit lines BL and / BL are connected to data buses DB and / DB constituting data bus pair DBP via corresponding column selection gate CSG, respectively. For example, bit lines BLj and / BLj corresponding to the j-th memory cell column are connected to data buses DB and / DB, respectively, in response to activation of corresponding column selection line CSLj.
データ読出回路160は、実施の形態3で説明したのと同様に構成され、選択メモリセルおよびダミーセルの通過電流差がそのまま反映されたデータバスDBおよび/DBの通過電流差を検知・増幅して、選択メモリセルからのデータ読出を実行する。
Data read
ダミーセル200は、所定電圧Vssおよび対応するビット線BLもしくは/BLの間に直列に接続された、ダミーアクセス素子ATRd、ダミー磁気抵抗素子TMRdおよびダミー抵抗付加部205とを含む。ダミー磁気抵抗素子TMRdは、各ダミーセルDMCの電気抵抗がRminとなるように予め磁化される。ダミーアクセス素子ATRdのゲートは、それぞれのダミーセル行において、ダミーリードワード線DRWLoおよびDRWLeの一方と接続される。
ダミー抵抗付加部205の電気抵抗Rdは、少なくともΔRよりも小さく設定する必要があり、好ましくはΔR/2に設定される。これにより、ダミーセル200の電気抵抗は、Rmin+ΔR/2となり、選択メモリセルの2種類の電気抵抗RmaxおよびRminの中間レベルとなる。
The electric resistance Rd of the dummy
ダミー抵抗付加部205は、並列に接続された少なくとも1個のトランジスタを有する。図20には、2個の電界効果型トランジスタ206および207でダミー抵抗付加部205が構成される例が示される。ダミー抵抗付加部205を構成するこれらの電界効果型トランジスタ206,207は、正規メモリセルMC中のアクセストランジスタATRと同様に作製および設計され、同一のサイズを有する。
The dummy
したがって、ダミーセル200を半導体基板上に作製する場合に、ダミーアクセス素子ATRdおよび電界効果型トランジスタ206および207を、並列に配置するレイアウトとすれば、行方向における正規メモリセルの配置ピッチ(すなわち、ビット線ピッチ)に合致させて、各ダミーセル200を効率的に配置できる。
Therefore, when the
さらに、電界効果型トランジスタ206および207の各ゲートは、それぞれのダミーセル行において、調整可能な制御電圧Vrdを伝達する制御電圧線DCLoおよびDCLeの一方と接続される。これにより、制御電圧Vrdの調整によって、ダミー抵抗付加部205のダミー抵抗Rdをチューニングすることができる。言換えれば、好ましいダミー抵抗値(ΔR/2)となるように、制御電圧Vrdが調整される。
Further, each gate of
このような構成とすることにより、データ読出回路160にデータバスDBおよび/DBの通過電流間にオフセットを与えるための特別な構成を必要とすることなく、正規メモリセルと同一のピッチ内に配置可能な、中間的な電気抵抗を有するダミーセルを形成することができる。
With such a configuration, the data read
なお、実施の形態5に従うダミーセル200は、図21に示すように、ダミーセル列を形成するようにメモリアレイ10内に配置することもできる。
As shown in FIG. 21,
図21を参照して、ダミーセル列を構成するように配置されたダミーセル200に対して、ビット線BLdおよび制御電圧線DCLが設けられる。これらのダミーセル200は、正規メモリセルMCと、メモリセル行を共有するように配置される。すなわち、行選択結果に応じて、選択行のリードワード線RWLがHレベルに活性化されると、対応するダミーセル内のダミーアクセス素子ATRdがターンオンする。
Referring to FIG. 21, a bit line BLd and a control voltage line DCL are provided for
ダミーセル列に対応してダミーコラム選択ゲートCSGdが配置され、データバス/DBと、ビット線BLdの間を、ダミーコラム選択線CSLdの活性化に応答して制御する。データ読出時においては、ダミーコラム選択線CSLdはアドレス選択結果にかかわらずHレベルに活性化され、データバス/DBはダミーセルと接続されたビット線BLdと接続される。一方、選択メモリセルに対応するビット線(たとえばビット線BLj)は、データバスDBと接続される。すなわち、データ読出時においては、列選択結果に応じて、正規メモリセルに対応する複数のビット線BLのうちの選択列に対応する1本が、データバスDBと接続される。 Dummy column selection gate CSGd is arranged corresponding to the dummy cell column, and controls between data bus / DB and bit line BLd in response to activation of dummy column selection line CSLd. At the time of data reading, dummy column selection line CSLd is activated to H level regardless of the address selection result, and data bus / DB is connected to bit line BLd connected to the dummy cell. On the other hand, a bit line (for example, bit line BLj) corresponding to the selected memory cell is connected to data bus DB. That is, at the time of data reading, one of the plurality of bit lines BL corresponding to the normal memory cell corresponding to the selected column is connected to the data bus DB according to the column selection result.
したがって、データ読出回路160によって、選択メモリセルおよびダミーセルとそれぞれ直列に接続されたデータバスDBおよび/DB間の通過電流差を検知・増幅して、選択メモリセルからのデータ読出を実行することが可能である。
Therefore,
なお、図21に従う構成においては、それぞれが同一サイズを有する、ダミーアクセストランジスタATRd、電界効果型トランジスタ206および207を行方向に連続的に配置することにより、ダミーセル200は、列方向における正規メモリセルの配置ピッチ(すなわち、リードワード線ピッチ)に合わせて配置できる。これにより、メモリアレイ10の面積増大を防止して、ダミーセル200を効率的に配置することが可能となる。
In the configuration according to FIG. 21,
[実施の形態6]
実施の形態6においては、正規メモリセルと同様の構成および形状を有するダミーセルを用いてデータ読出を実行するための、さらに他の構成例について説明する。
[Embodiment 6]
In the sixth embodiment, another configuration example for performing data reading using a dummy cell having the same configuration and shape as a normal memory cell will be described.
図22は、実施の形態6に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。 図22を参照して、実施の形態6に従う構成においては、メモリアレイ10において、正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCは、図4に示した構成と同様に、折返し型ビット線構成に基づいて1行ごとに交互配置される。既に説明した様に、ダミーセルDMCは、正規メモリセルMCと同様の構成および形状を有するので、メモリアレイ10内において正規メモリセルMCと連続的に行列配置することができる。各ダミーセルDMC中のダミー磁気抵抗素子TMRdは、電気抵抗がRminとなるような方向に予め磁化される。
FIG. 22 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the sixth embodiment. Referring to FIG. 22, in the configuration according to the sixth embodiment, in
正規メモリセル行に対応して設けられるリードワード線RWL,ディジット線DL、ダミーセル行に対応して設けられるダミーリードワード線DRWLe,DRWLo,ダミーディジット線DDLe,DDLo、および正規メモリセルとダミーセルとで共有されるメモリセル列に対応して設けられる相補ビット線BL,/BLについても、図4と同様に配置されるので、詳細な説明は繰り返さない。 Read word line RWL and digit line DL provided corresponding to the normal memory cell row, dummy read word lines DRWLe and DRLLo provided corresponding to the dummy cell rows, dummy digit lines DDLe and DDLo, and normal memory cells and dummy cells Since complementary bit lines BL and / BL provided corresponding to the shared memory cell columns are also arranged in the same manner as in FIG. 4, detailed description will not be repeated.
さらに、正規メモリセル行にそれぞれ対応して、アクセストランジスタATRのソースを所定電圧Vssに設定するためのソース電圧線SL0,SL1,…が配置される。これに対して、ダミーセルDMCに対しては、2つのダミーセル行にそれぞれ対応して配置されるダミーソース電圧線DSLe,DSLoをそれぞれ介して、所定電圧VssがダミーアクセストランジスタATRdのソースに供給される。 Further, source voltage lines SL0, SL1,... For setting the source of access transistor ATR to a predetermined voltage Vss are arranged corresponding to each normal memory cell row. On the other hand, for dummy cell DMC, predetermined voltage Vss is supplied to the source of dummy access transistor ATRd through dummy source voltage lines DSLe and DSLo respectively arranged corresponding to two dummy cell rows. .
メモリアレイ10の外部において、ダミー抵抗付加部205は、ダミーソース電圧線DSLe,DSLoの各々と、所定電圧Vssとの間に接続される。このような構成とすることにより、対応するダミーリードワード線DRWLe,DRWLoが活性化されたダミーセル行に属するダミーセルDMCの各々に対して、ダミー抵抗付加部205の電気抵抗Rdを直列に付加できる。すなわち、同一のダミーセル行に属するダミーセルDMC間でダミー抵抗付加部205を共有できる。
Outside the
このような構成とすることにより、実施の形態1と同様に、同一のメモリアイ内に連続的に作製されたMTJメモリセルの一部を用いて、ダミーセルを構成できる。すなわち、ダミーセルを作製するために特別の設計や製造工程を必要としないため、構造の複雑化によるチップ面積の増大およびメモリアレイの加工マージンの低下等といった問題を招くことなく、正規メモリセルおよびダミーセルを同一メモリアレイ内に設けてデータ読出マージンを確保することができる。 By adopting such a configuration, a dummy cell can be configured by using a part of the MTJ memory cells continuously manufactured in the same memory eye as in the first embodiment. That is, since a special design or manufacturing process is not required to manufacture the dummy cell, the normal memory cell and the dummy cell can be obtained without causing problems such as an increase in chip area due to a complicated structure and a decrease in processing margin of the memory array. Can be provided in the same memory array to ensure a data read margin.
さらに、実施の形態3と同様に、データ読出回路160にデータバスDB,/DBの通過電流にオフセットを与えるための特別な構成が設けることなく、すなわち、より簡易なデータ読出回路系によって、データ読出を実行することが可能である。
Further, as in the third embodiment, the data read
[実施の形態6の変形例1]
図23は、実施の形態6の変形例1に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 23 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the first modification of the sixth embodiment.
図23を参照して、実施の形態6の変形例1に従う構成においては、図22に示した実施の形態6に従う構成と比較して、ダミー抵抗付加部205に加えてダミー抵抗付加部208がさらに設けられる点が異なる。ダミー抵抗付加部205および208は、メモリアレイ10の外部において、データバスDB,/DBとデータ読出回路160との間に配置される。ダミー抵抗付加部205は、一方のセンス入力ノードNsiと直列に接続され、ダミー抵抗付加部208は、他方のセンス入力ノード/Nsiと直列に接続される。
Referring to FIG. 23, in the configuration according to the first modification of the sixth embodiment, dummy
メモリアレイ10の構成は、図22と同様であるので、詳細な説明は繰り返さない。すなわち、メモリアレイ10においては、折返し型ビット線構成に基づいて、正規メモリセルおよびダミーセルDMCが配置されているので、データバスDBおよび/DBと、選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係が、アドレス選択結果、すなわち奇数および偶数行のいずれが選択されるかによって入れ換わる。
Since the configuration of
これに対応して、実施の形態6の変形例1に従う構成においては、データバスDB,/DBと、ダミー抵抗付加部205,208との間の接続対応関係を、アドレス選択結果に応じて切換えるための接続切換回路210がさらに設けられる。
Correspondingly, in the configuration according to the first modification of the sixth embodiment, the connection correspondence between the data buses DB and / DB and the dummy
接続切換回路210は、データバス/DBとダミー抵抗付加部205および208との間に電気的にそれぞれ結合されるトランジスタスイッチ211および212と、データバスDBとダミー抵抗付加部205および208との間に電気的にそれぞれ結合されるトランジスタスイッチ213および214とを有する。トランジスタスイッチ212および213の各ゲートには、奇数行の選択時にHレベルに設定されるアドレス信号RA0が入力され、トランジスタスイッチ211および214の各ゲートには、偶数行の選択時にHレベルに設定されるアドレス信号/RA0が入力される。
この結果、奇数行の選択時には、選択メモリセルと電気的に結合されるデータバスDBはダミー抵抗付加部205と直列に接続され、ダミーセルと電気的に結合されるデータバス/DBはダミー抵抗付加部208と直列に接続される。これに対して、偶数行の選択時には、ダミーセルと電気的に結合されるデータバスDBはダミー抵抗付加部208と直列に接続され、選択メモリセルと電気的に結合されるデータバスDBはダミー抵抗付加部205と直列に接続される。
As a result, when an odd row is selected, the data bus DB electrically coupled to the selected memory cell is connected in series with the dummy
すなわち、接続切換回路210によって、アドレス選択結果にかかわらず、ダミー抵抗付加部205は選択メモリセルと直列に接続され、ダミー抵抗付加部208はダミーセルと直列に接続される。
That is, the
ダミー抵抗付加部205,208の電気抵抗は、ダミーセルの電気抵抗とダミー抵抗付加部208との和で示される電気抵抗が、選択メモリセルの2種類の電気抵抗(Rmax,Rmin)とダミー抵抗付加部205との和で示される2つの電気抵抗の中間レベルとなるように設定される。たとえば、ダミーセルの電気抵抗がRminに設定されているときには、ダミー抵抗付加部205の電気抵抗をΔR/2とし、ダミー抵抗付加部208の電気抵抗をΔRとすれば、下記(3)式のようにして、上記の条件を満足できる。
The electric resistances of the dummy
Rmin+ΔR/2<Rmin+ΔR<Rmax+ΔR/2 …(3)
図23には、このように設計されたダミー抵抗付加部205および208の構成例が示される。ダミー抵抗付加部205は、並列接続された電界効果型トランジスタ206,207を有し、ダミー抵抗付加部208は、ダミー抵抗付加部205の半分の個数、すなわち1個の電界効果型トランジスタによって構成される。トランジスタ206〜208の各ゲートには、共通の制御電圧Vrdが入力される。これにより、ダミー抵抗付加部205の電気抵抗をダミー抵抗付加部205の電気抵抗の1/2に設定される。すなわち、ダミー抵抗付加部208の電気抵抗がΔRとなるように制御電圧Vrdを調整すれば、これに追随して、ダミー抵抗付加部205の電気抵抗をΔR/2に設定できる。
Rmin + ΔR / 2 <Rmin + ΔR <Rmax + ΔR / 2 (3)
FIG. 23 shows a configuration example of the dummy
このような構成とすることにより、データ読出回路160のセンス入力ノードNsiおよび/Nsiの間に、選択メモリセルの記憶データに応じた極性の通過電流差を生じさせることができる。したがって、当該通過電流差の検知・増幅によって、選択メモリセルからのデータ読出を実行できる。
By adopting such a configuration, it is possible to generate a passing current difference of polarity according to the storage data of the selected memory cell between the sense input nodes Nsi and / Nsi of the data read
このように、実施の形態6の変形例1に従う構成によっても、同一のメモリアレイ10内に連続的に作製されたMTJメモリセルの一部を用いて、ダミーセルを構成できるので、実施の形態6と同様の効果を享受することができる。
As described above, even in the configuration according to the first modification of the sixth embodiment, a dummy cell can be configured by using a part of the MTJ memory cells continuously manufactured in the
また、図24に示されるように、メモリアレイ10内において、ダミーセルDMCを、図21と同様に、ダミービット線BLdと対応付けられるダミーセル列として配置することもできる。
Further, as shown in FIG. 24, in the
この場合には、図21でも説明したように、データバスDBおよび/DBと、選択メモリセルおよびダミーセルとの間の接続対応関係は、アドレス選択結果にかかわらず固定される。すなわち、データ読出時において、データバスDBおよび/DBは、選択メモリセルおよびダミーセルDMCとそれぞれ電気的に結合される、図23に示すような接続切換回路210を配置することなく、データバスDBおよび/DBと、センス入力ノードNsiおよび/Nsiとの間に、ダミー抵抗付加部205および208をそれぞれ配置することができる。
In this case, as described with reference to FIG. 21, the connection correspondence between the data buses DB and / DB and the selected memory cell and the dummy cell is fixed regardless of the address selection result. That is, at the time of data reading, the data buses DB and / DB are electrically connected to the selected memory cell and the dummy cell DMC, respectively, without arranging the
[実施の形態6の変形例2]
図24に示す構成においては、データバスDBおよび/DBの負荷容量がアンバランスになるので、実施の形態6の変形例2では、この点を解消するための構成を示す。
[
In the configuration shown in FIG. 24, since the load capacities of the data buses DB and / DB are unbalanced, the second modification of the sixth embodiment shows a configuration for eliminating this point.
図25は、実施の形態6の変形例2に従うデータ読出回路系の第2の構成を示す回路図である。 FIG. 25 is a circuit diagram showing a second configuration of the data read circuit system according to the second modification of the sixth embodiment.
図25を参照して、実施の形態6の変形例2に従う構成においては、図24に示した構成と比較して、メモリアレイ10が、2つの領域10aおよび10bに分割される点で異なる。たとえば、領域10aおよび10bの間の選択は、アドレス信号RAnに応じて実行されるものとする。たとえば、アドレス信号RAnがHレベルのときには、選択メモリセルが領域10aに含まれ、アドレス信号RAn=Lレベルのときには、選択メモリセルが領域10bに含まれるものとする。
25, the configuration according to the second modification of the sixth embodiment is different from the configuration shown in FIG. 24 in that
領域10aにおいては、各ビット線は、コラム選択ゲートを介してデータバス/DBと接続される。一方、領域10bにおいては、各ビット線は、コラム選択ゲートを介してデータバスDBと接続される。図25には、領域10aおよび10bのそれぞれにおいて、第j番目のメモリセル列に対応するビット線BLAjおよびBLBjが代表的に示される。
In
ダミーセルDMCによって形成されるダミーセル列は、領域10aおよび10bの各々に設けられる。領域10a内のダミーセル列に対応して設けられるダミービット線BLAdは、ダミーコラム選択ゲートCSGAdを介してデータバスDBと接続され、領域10b内のダミーセル列に対応するダミービット線BLBdbは、ダミーコラム選択ゲートCSGBdを介してデータバス/DBと接続される。さらに、データバスDBおよび/DBは、領域10aおよび10bの中間点に相当する領域220において、その配置関係が入換えられる。このような構成とすることにより、データバスDBおよび/DBの間における負荷容量をバランスさせることができる。
A dummy cell column formed by the dummy cells DMC is provided in each of the
データバスDBおよび/DBと、データ読出回路160との間には、図23に説明したのと同様に、接続切換回路210およびダミー抵抗付加部205,208が配置される。
Between data buses DB and / DB and data read
接続切換回路210は、アドレス信号RAnおよび/RAnに応じて動作し、データバスDBおよび/DBのうちの、選択メモリセルと電気的に結合された一方をダミー抵抗付加部205と接続するとともに、ダミーセルと電気的に結合された一方をダミー抵抗付加部208と接続する。
したがって、実施の形態6の変形例2に従う構成においては、実施の形態6の変形例1に従うのと同様の効果を、データバスDBおよび/DBの負荷容量を均衡化させた上で実行することができる。これにより、データ読出の高速化を図ることが可能となる。 Therefore, in the configuration according to the second modification of the sixth embodiment, the same effect as that according to the first modification of the sixth embodiment is executed after balancing the load capacities of the data buses DB and / DB. Can do. As a result, it is possible to increase the speed of data reading.
[実施の形態6の変形例3]
図26は、実施の形態6の変形例3に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[Modification 3 of Embodiment 6]
FIG. 26 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the third modification of the sixth embodiment.
図26を参照して、実施の形態6の変形例3に従う構成においては、実施の形態6の変形例1および2と同様に、ダミーセルDMCに対してダミー抵抗付加部208(電気抵抗ΔR)を直列接続し、選択メモリセルに対してダミー抵抗付加部205(電気抵抗ΔR/2)を直列接続する点は同様であるが、これらのダミー抵抗付加部205および208が、データ読出回路160およびデータバスDB,/DB間ではなく、図22と同様に設けられたソース電圧線SL0,SL1,…およびダミーソース電圧線DSLo,DSLeにそれぞれ対応して配置される点が異なる。
Referring to FIG. 26, in the configuration according to the third modification of the sixth embodiment, dummy resistance adding unit 208 (electric resistance ΔR) is added to dummy cell DMC as in the first and second modifications of the sixth embodiment. Although the series connection is performed and the dummy resistance adding unit 205 (electrical resistance ΔR / 2) is connected in series to the selected memory cell, these dummy
具体的には、正規メモリセルにソース電圧線SL0,SL1,…の各々と所定電圧Vssとの間に、ダミー抵抗付加部205(電気抵抗ΔR/2)が設けられ、ダミーソース電圧線DSLoおよびDSLeの各々と所定電圧Vssとの間に、ダミー抵抗付加部208が設けられる。
Specifically, a dummy resistance adding unit 205 (electric resistance ΔR / 2) is provided between the source voltage lines SL0, SL1,... And each of the predetermined voltage Vss in the normal memory cell, and the dummy source voltage lines DSLo and A dummy
このような構成としても、実施の形態6の変形例1および変形例2と同様のデータ読出を実行することができる。また、このような構成とすることにより、折返し型ビット線構成を用いたメモリアレイ10に対しても、図25等に示した接続切換回路210を設けることなくデータ読出を実行することができる。すなわちデータ読出系の回路構成を簡素化することが可能となる。
Even with such a configuration, data reading similar to that of the first and second modifications of the sixth embodiment can be executed. Further, with such a configuration, it is possible to execute data reading even for the
[実施の形態6の変形例4]
図27は、実施の形態6の変形例4に従うデータ読出回路系の構成を示す回路図である。
[
FIG. 27 is a circuit diagram showing a configuration of a data read circuit system according to the fourth modification of the sixth embodiment.
図27を参照して、実施の形態6の変形例4に従う構成においては、図23に示した構成と比較して、ダミー抵抗付加部208のみがセンス入力ノードNsiに対して並列に接続される点が異なる。既に説明したように、センス入力ノードNsiは、接続切換回路210によって、アドレス選択結果(奇数行/偶数行の選択)にかかわらず選択メモリセル(電気抵抗RmaxまたはRmin)と電気的に結合される。一方、センス入力ノード/Nsiは、ダミーセル(電気抵抗Rmin)と直列に接続される。
Referring to FIG. 27, in the configuration according to the fourth modification of the sixth embodiment, only dummy
したがって、ダミー抵抗付加部208の電気抵抗Rddは、ダミーセルの電気抵抗が、選択メモリセルの2種類の電気抵抗Rmax,Rminと電気抵抗Rddとの並列接続による合成抵抗である、(Rmin//Rdd)および(Rmax//Rdd)の中間レベルとなるように設定される。ダミー抵抗付加部208の電気抵抗Rddは、制御電圧Vrdによって調整可能である。
Therefore, the electric resistance Rdd of the dummy
このような構成とすることにより、実施の形態6の変形例1と同様の効果を享受したデータ読出を実行することができる。 By adopting such a configuration, it is possible to execute data reading that enjoys the same effect as that of the first modification of the sixth embodiment.
このように実施の形態6およびその変形例1〜4(図20〜図27)においては、ダミーセル中のダミー磁気抵抗素子TMRdの電気抵抗がRminに予め設定される場合について説明してきた。これは、MRAMデバイスの製造工程において、メモリアレイ10の作製後に実行される、図31に示した固定磁化層FLの磁化工程を終了時において、固定磁化層FLおよび自由磁化層VLの磁化方向が揃っており、ダミーセルの電気抵抗がRminになるからである。したがって、ダミーセルDMC中の電気抵抗をRmaxに設定するためには、ダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化工程が新たに必要となってしまう。言換えれば、ダミー磁気抵抗素子TMRdの電気抵抗をRminとすることによって、ダミーセルのための新たな磁化工程が不要となる。
As described above, in the sixth embodiment and its
しかしながら、ダミーセルDMCの電気抵抗をRmaxに予め設定する場合においても、図23から図27に示した実施の形態6の変形例1〜4に示す構成を適用することが可能である。このような場合には、実施の形態6の変形例1〜3に従う構成(図23〜図26)においては、ダミー抵抗付加部205および208を配置を入替えればよく、実施の形態6の変形例4に従う構成(図27)においては、ダミー抵抗付加部208を、ダミーセルと常に接続されるセンス入力ノード/Nsiに対して並列に接続する構成とすれば、同様のデータ読出を実行することが可能である。
However, even when the electric resistance of dummy cell DMC is set to Rmax in advance, the configurations shown in the first to fourth modifications of the sixth embodiment shown in FIGS. 23 to 27 can be applied. In such a case, in the configuration according to the first to third modifications of the sixth embodiment (FIGS. 23 to 26), it is only necessary to replace the dummy
[実施の形態7]
実施の形態7においては、実施の形態6およびその変形例で示した、ダミー抵抗付加部を新たに設けることなく、同様に作製された選択メモリセルおよびダミーセルの間の通過電流差に基づいてデータ読出が実行可能な構成について説明する。
[Embodiment 7]
In the seventh embodiment, the data based on the difference in passing current between the selected memory cell and the dummy cell manufactured in the same manner without newly providing the dummy resistance adding portion shown in the sixth embodiment and the modification thereof is used. A configuration capable of executing reading will be described.
図28は、実施の形態7に従うデータ読出構成を示す回路図である。
図28を参照して、実施の形態7に従う構成においては、実施の形態6およびその変形例で示された、ダミーセルおよび選択メモリセルの少なくとも一方に対して直列あるいは並列に接続されるダミー抵抗付加部は配置されない。すなわち、メモリアレイ10において、正規メモリセルMCおよびダミーセルDMCは、図4に示した構成と同様に、メモリセル列を共有するように連続的に配置される。
FIG. 28 is a circuit diagram showing a data read configuration according to the seventh embodiment.
Referring to FIG. 28, in the configuration according to the seventh embodiment, dummy resistance addition connected in series or in parallel to at least one of the dummy cell and the selected memory cell shown in the sixth embodiment and its modification example is added. Parts are not arranged. That is, in
また、ビット線BLおよび/BLは、その通過電流によって、トンネル磁気抵抗素子TMRおよびダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化容易軸に沿った磁界が発生する方向に設けられる。一方、ディジット線DLおよびダミーディジット線DDLe,DDLoは、その通過電流によって、トンネル磁気抵抗素子TMRおよびダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化困難軸に沿った磁界が発生する方向に設けられる。一般的には、ビット線BL,/BLは、トンネル磁気抵抗素子TMRおよびダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化困難軸に沿って配置され、ディジット線DLおよびダミーディジット線DDLe,DDLoは、トンネル磁気抵抗素子TMRおよびダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化容易軸に沿って配置される。 Bit lines BL and / BL are provided in a direction in which a magnetic field is generated along the easy axis of tunneling magneto-resistance element TMR and dummy magneto-resistance element TMRd by the passing current. On the other hand, digit line DL and dummy digit lines DDLe and DDLo are provided in a direction in which a magnetic field along the hard axis of tunneling magneto-resistance element TMR and dummy magneto-resistance element TMRd is generated by the passing current. In general, bit lines BL, / BL are arranged along the hard axis of tunneling magneto-resistance element TMR and dummy magneto-resistance element TMRd, and digit line DL and dummy digit lines DDLe, DDLo are tunneling magneto-resistance elements. Arranged along the easy axis of TMR and dummy magnetoresistive element TMRd.
すでに説明したように、データ書込対象に選択された正規メモリセルに対して、対応するビット線BLおよびディジット線DLの双方にデータ書込電流が流される。これにより、選択されたメモリセルのトンネル磁気抵抗素子TMRを、ビット線BLを流れるデータ書込電流の方向に応じて、磁化容易軸に沿って磁化することによりデータ書込が実行される。 As described above, the data write current is supplied to both the corresponding bit line BL and digit line DL for the normal memory cell selected as the data write target. Thereby, data writing is executed by magnetizing tunneling magneto-resistance element TMR of the selected memory cell along the easy axis according to the direction of the data write current flowing through bit line BL.
ダミーセルDMCの電気抵抗、すなわちダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化方向は、一定に維持される必要がある。したがって、データ書込選択を実行するためのダミーディジット線DDLeおよびDDLoの配置は必ずしも必要ではない。しかしながら、実施の形態7に従う構成においては、データ読出時においても、ダミー磁気抵抗素子TMRdに対して、磁化困難軸方向に沿ったバイアス磁界を印加するためのバイアス電流Ibが、ダミーディジット線DDLeまたはDDLoに流される。 The electric resistance of the dummy cell DMC, that is, the magnetization direction of the dummy magnetoresistive element TMRd needs to be kept constant. Therefore, the arrangement of dummy digit lines DDLe and DDLo for performing data write selection is not always necessary. However, in the configuration according to the seventh embodiment, even during data reading, bias current Ib for applying a bias magnetic field along the hard axis direction to dummy magnetoresistive element TMRd is applied to dummy digit line DDLe or Flowed to DDLo.
図29は、ダミーディジット線を流れる電流とダミー磁気抵抗素子の電気抵抗との関係を説明する概念図である。 FIG. 29 is a conceptual diagram illustrating the relationship between the current flowing through the dummy digit line and the electrical resistance of the dummy magnetoresistive element.
図29(a)には、ダミーディジット線DDLe(DDLo)に電流が流されていない場合、すなわちI(DL)=0の場合のダミー磁気抵抗素子TMRdの磁化方向が示される。すなわち、ダミー磁気抵抗素子TMRdの電気抵抗がRminであるときには、磁化容易軸方向(EA)に沿って、自由磁化層の磁化方向235は、固定磁化層の磁化方向230と同一である。
FIG. 29A shows the magnetization direction of the dummy magnetoresistive element TMRd when no current is passed through the dummy digit line DDLe (DDLo), that is, when I (DL) = 0. That is, when the electric resistance of the dummy magnetoresistive element TMRd is Rmin, the
この状態から、図29(b)に示すように、ダミーディジット線DDLe(DDLo)にバイアス電流Ibを流すと、すなわちI(DL)=Ibとすると、自由磁化層の磁化方向235は、バイアス電流Ibによって生じた磁化困難軸方向のバイアス磁界によって回転される。
In this state, as shown in FIG. 29 (b), when a bias current Ib is passed through the dummy digit line DDLe (DDLo), that is, I (DL) = Ib, the
これにより、固定磁化層の磁化方向230および自由磁化層の磁化方向235が一致しなくなるので、ダミー磁気抵抗素子TMRdの電気抵抗は、RminおよびRmaxの中間レベルに変化する。この中間レベルの電気抵抗は、バイアス電流Ibの電流量によってチューニングすることができる。
As a result, the
また、図29(a),(b)中に点線で示すように、ダミー磁気抵抗素子TMRdにおいて、固定磁化層および自由磁化層のそれぞれの磁化方向230および235が反平行方向に設定されて、その電気抵抗がRmaxに予め設定された場合においても同様に、バイアス電流Ibによって生じるバイアス磁界の影響によって、ダミー磁気抵抗素子TMRdの電気抵抗を、電気抵抗RminおよびRmaxの中間レベルに設定することができる。
Further, as shown by dotted lines in FIGS. 29A and 29B, in the dummy magnetoresistive element TMRd, the
再び図28を参照して、選択列に対応するダミーセルDMCに対しては、対応するビット線BLまたは/BLについてデータ読出電流が流れるが、通常このデータ読出電流は、データ書込時に磁化容易軸方向の磁化方向を反転するのに必要なデータ書込電流に比較すると非常に小さいレベルに留まる。したがって、上述したように、データ読出時にダミーディジット線DDLe,DDLoへバイアス電流Ibを流しても、ダミーセルに対するデータ誤書込が実行されることはない。 Referring again to FIG. 28, a data read current flows through corresponding bit line BL or / BL to dummy cell DMC corresponding to the selected column. Normally, this data read current has an easy axis when data is written. Compared to the data write current required to reverse the direction of magnetization, it remains at a very small level. Therefore, as described above, even if the bias current Ib is supplied to the dummy digit lines DDLe and DDLo at the time of data reading, erroneous data writing to the dummy cell is not executed.
以上説明したように、ダミーセルを含む電流経路および選択メモリセルを含む電流経路に対して、ダミー抵抗を直列あるいは並列に接続したり、あるいはデータバスDB,/DBに対する接続関係をアドレス選択結果に応じて切換えるような接続切換回路を用いることなく、さらに、ダミーセルおよび選択メモリセルの通過電流間にオフセットを与えるための構成を備えることなく、正規メモリセルと同様に作製および設計されたダミーセルと、選択メモリセルとの通過電流差に応じて、データ読出を実行することが可能である。 As described above, dummy resistors are connected in series or in parallel to the current path including the dummy cell and the current path including the selected memory cell, or the connection relation to the data buses DB and / DB is determined according to the address selection result. A dummy cell manufactured and designed in the same way as a normal memory cell, without using a connection switching circuit that switches between them, and without providing a configuration for providing an offset between the passing currents of the dummy cell and the selected memory cell, Data reading can be executed according to the difference in passing current from the memory cell.
このため、データ読出回路系の複雑化を招くことなく、すなわち回路面積の大型化を招くことなく、さらにはメモリアレイ10の加工が複雑化して製造工程を困難化することなく、データ読出回路系を構成することができる。
Therefore, the data read circuit system is not complicated without increasing the circuit area, that is, without increasing the circuit area, and without complicating the processing of the
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
1 MRAMデバイス、10 メモリアレイ、10a,10b 領域、20,20a,20b 行デコーダ、55,56,57,90,91 電圧発生回路、60,60# 差動増幅器、61〜65,61A,61B,62A,62B,81〜87 トランジス、70,210 接続切換回路、80 グローバル差動増幅器、100,105 電流伝達回路、160,161 データ読出回路、200,DMC ダミーセル、205,208 ダミー抵抗付加部、230,235 磁化方向、ATR アクセストランジスタ、ATRd ダミーアクセストランジスタ、BL,/BL ビット線、BLd ダミービット線、BSa,BSb ブロック選択信号、DB,/DB データバス、DDLe,DDLo ダミーディジット線、DL,DLe,DLo ディジット線、DLi ディジット線、DRWLa,DRWLb,DRWLe,DRWLo ダミーリードワード線、DSL,DSLe,DSLo ダミーソース電圧線、GIO,/GIO グローバルデータ線、GND 接地電圧、Ib バイアス電流、Idat データ読出電流、Iref 基準電流、LIO,LIOr,/LIO データ線、MBa,MBb メモリブロック、MC 正規メモリセル、Ngs,/Ngs グローバルセンスノード、Ns,/Ns センスノード、Nsi,/Nsi センス入力ノード、RA0,/RA0,RAn,/RAn アドレス信号、RWL,RWLi,RWLo,RWLe リードワード線、SL ソース電圧線、TMR トンネル磁気抵抗素子、TMRd ダミー磁気抵抗素子、Vcc 電源電圧、Vof,Vof1,Vof2 オフセット制御電圧、Vsl ソース電圧(ダミーセル)、Vss 固定電圧。 1 MRAM device, 10 memory array, 10a, 10b region, 20, 20a, 20b row decoder, 55, 56, 57, 90, 91 voltage generation circuit, 60, 60 # differential amplifier, 61-65, 61A, 61B, 62A, 62B, 81-87 transistor, 70, 210 connection switching circuit, 80 global differential amplifier, 100, 105 current transfer circuit, 160, 161 data read circuit, 200, DMC dummy cell, 205, 208 dummy resistance adding unit, 230 , 235 Magnetization direction, ATR access transistor, ATRd dummy access transistor, BL, / BL bit line, BLd dummy bit line, BSa, BSb block selection signal, DB, / DB data bus, DDLe, DDLo dummy digit line, DL, DLe , DLo Digit line, DLi digit line, DRWLa, DRWLb, DRWLe, DRLLo dummy read word line, DSL, DSLe, DSLo dummy source voltage line, GIO, / GIO global data line, GND ground voltage, Ib bias current, Idat data read current, Iref reference current, LIO, LIOr, / LIO data line, MBa, MBb memory block, MC regular memory cell, Ngs, / Ngs global sense node, Ns, / Ns sense node, Nsi, / Nsi sense input node, RA0, / RA0, RAn, / RAn Address signal, RWL, RWLi, RWLo, RWLe Read word line, SL source voltage line, TMR tunnel magnetoresistive element, TMRd dummy magnetoresistive element, Vcc power supply voltage, Vof , Vof1, Vof2 Offset control voltage, Vsl source voltage (dummy cell), Vss fixed voltage.
Claims (10)
前記データ読出時に、前記複数のメモリセルのうちのアクセス対象に選択された選択メモリセルとの間で通過電流を比較するためのダミーセルと、
データ読出時において、前記選択メモリセルおよび前記ダミーセルをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、
前記第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部とを備え、
前記ダミーセルは、各前記磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、前記第1および第2の電気抵抗のうちのより小さい一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、
前記ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、前記アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタと、
前記ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されて、前記第1および第2の電気抵抗の差よりも小さい電気抵抗を有するダミー抵抗付加部とを含み、
前記ダミー抵抗付加部は、前記アクセストランジスタと同様に設計された少なくとも1個のトランジスタを有し、前記トランジスタの各ゲートへは調整可能な制御電圧が入力される、薄膜磁性体記憶装置。 A magnetoresistive element that is magnetized in a direction according to the level of stored data and has either a first or a second electrical resistance according to the magnetization direction; and the magnetoresistive element in series A plurality of memory cells including access transistors connected and selectively turned on when reading data;
A dummy cell for comparing a passing current with a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading;
First and second data lines electrically coupled to a fixed voltage through the selected memory cell and the dummy cell, respectively, during data reading;
A data read unit for reading data in accordance with a difference in passing current between the first and second data lines;
The dummy cell has the same configuration and shape as each of the magnetoresistive elements, and a dummy magnetoresistive element that is pre-magnetized so as to have a smaller one of the first and second electric resistances;
A dummy access transistor connected in series with the dummy magnetoresistive element and selectively turned on at the time of data reading, and designed similarly to the access transistor;
A dummy resistance adding unit connected in series with the dummy magnetoresistive element and having an electric resistance smaller than a difference between the first and second electric resistances;
The dummy resistance adding section includes at least one transistor designed in the same manner as the access transistor, and an adjustable control voltage is input to each gate of the transistor.
各前記メモリセルは、
記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、
前記磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含み、
前記ダミーセルは、
前記磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、前記第1および第2の電気抵抗のうちのより小さい一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、
前記ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、前記アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含み、
前記薄膜磁性体記憶装置は、
前記複数のメモリセルに対応して設けられ、固定電圧を伝達する第1の電圧配線と、
前記ダミーセルに対応して設けられ、前記固定電圧を伝達する第2の電圧配線と、
データ読出時において、前記選択メモリセルおよび前記ダミーセルをそれぞれ介して、前記第1および第2の電圧配線とそれぞれ電気的に結合される第1および第2のデータ線と、
前記第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、
前記メモリアレイの外部において前記第2の電圧配線に対して直列に接続されて、前記第1および第2の電気抵抗の差よりも小さい電気抵抗を有するダミー抵抗付加部とをさらに備える、薄膜磁性体記憶装置。 A memory array in which a plurality of memory cells and a dummy cell for comparing a passing current with a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading are arranged;
Each of the memory cells
A magnetoresistive element configured to be magnetized in a direction according to a level of stored data and to have one of a first electric resistance and a second electric resistance according to a magnetization direction;
An access transistor connected in series with the magnetoresistive element and selectively turned on when reading data;
The dummy cell is
A dummy magnetoresistive element that has the same configuration and shape as the magnetoresistive element and is pre-magnetized to have a smaller one of the first and second electrical resistances;
A dummy access transistor connected in series with the dummy magnetoresistive element and selectively turned on at the time of data reading, and a dummy access transistor designed in the same manner as the access transistor;
The thin film magnetic memory device includes:
A first voltage wiring provided corresponding to the plurality of memory cells and transmitting a fixed voltage;
A second voltage wiring provided corresponding to the dummy cell and transmitting the fixed voltage;
First and second data lines electrically coupled to the first and second voltage lines through the selected memory cell and the dummy cell, respectively, during data reading;
A data reading unit for reading data in accordance with a difference between passing currents of the first and second data lines;
A thin film magnetic device further comprising: a dummy resistance addition unit connected in series to the second voltage wiring outside the memory array and having an electric resistance smaller than a difference between the first and second electric resistances. Body storage device.
各前記メモリセルは、
記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、
前記磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含み、
前記ダミーセルは、
前記磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、前記第1および第2の電気抵抗のいずれか一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、
前記ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、前記アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含み、
前記薄膜磁性体記憶装置は、
データ読出時において、前記選択メモリセルおよび前記ダミーセルの一方ずつをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、
前記第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、
前記メモリアレイ外部において、前記第1および第2のデータ線のうちの前記選択メモリセルと結合された一方のデータ線に対して、第3の電気抵抗を直列に接続するための第1の抵抗付加部と、
前記メモリアレイ外部において、前記第1および第2のデータ線のうちの前記ダミーセルと結合された他方のデータ線に対して、第4の電気抵抗を直列に接続するための第2の抵抗付加部とをさらに備え、
前記第3および第4の電気抵抗は、前記ダミーセルの電気抵抗および第4の電気抵抗の和が、前記第1および第3の電気抵抗の和と、前記第2および第3の電気抵抗の和との中間レベルとなるように決定される、薄膜磁性体記憶装置。 A memory array in which a plurality of memory cells and a dummy cell for comparing a passing current with a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading are arranged;
Each of the memory cells
A magnetoresistive element configured to be magnetized in a direction according to a level of stored data and to have one of a first electric resistance and a second electric resistance according to a magnetization direction;
An access transistor connected in series with the magnetoresistive element and selectively turned on when reading data;
The dummy cell is
A dummy magnetoresistive element having the same configuration and shape as the magnetoresistive element and pre-magnetized so as to have one of the first and second electric resistances;
A dummy access transistor connected in series with the dummy magnetoresistive element and selectively turned on at the time of data reading, and a dummy access transistor designed in the same manner as the access transistor;
The thin film magnetic memory device includes:
In data reading, first and second data lines electrically coupled to a fixed voltage through one of each of the selected memory cell and the dummy cell,
A data reading unit for reading data in accordance with a difference between passing currents of the first and second data lines;
A first resistor for connecting a third electrical resistance in series to one of the first and second data lines coupled to the selected memory cell outside the memory array. An additional part;
A second resistance adding unit for connecting a fourth electric resistance in series to the other data line coupled to the dummy cell of the first and second data lines outside the memory array. And further comprising
The third and fourth electric resistances are the sum of the electric resistance of the dummy cell and the fourth electric resistance, and the sum of the first and third electric resistances and the sum of the second and third electric resistances. Thin film magnetic memory device determined to be at an intermediate level.
前記第4の電気抵抗は、前記第1および第2の電気抵抗の差に相当し、
前記第3の電気抵抗は、前記第4の電気抵抗の半分である、請求項4に記載の薄膜磁性体記憶装置。 The dummy magnetoresistive element is pre-magnetized to have a smaller one of the first and second electrical resistances;
The fourth electrical resistance corresponds to a difference between the first and second electrical resistances,
5. The thin film magnetic memory device according to claim 4, wherein the third electric resistance is half of the fourth electric resistance.
前記第2の抵抗付加部は、各ゲートへ前記制御電圧を受ける並列に接続された(L/2)個の前記トランジスタを含む、請求項5に記載の薄膜磁性体記憶装置。 The first resistance adding unit includes L transistors (L: an even and positive integer of 2 or more) connected in parallel to receive an adjustable control voltage to each gate,
The thin film magnetic memory device according to claim 5, wherein the second resistance adding unit includes (L / 2) transistors connected in parallel to receive the control voltage to each gate.
前記ダミーセルに対応して設けられ、前記固定電圧を伝達するための第2の電圧配線とをさらに備え、
前記第1の抵抗付加部は、前記第1の電圧配線および前記固定電圧の間に直列に接続され、
前記第2の抵抗付加部は、前記第2の電圧配線および前記固定電圧の間に直列に接続される、請求項4に記載の薄膜磁性体記憶装置。 A first voltage wiring provided corresponding to the plurality of memory cells for transmitting the fixed voltage;
A second voltage wiring provided corresponding to the dummy cell for transmitting the fixed voltage;
The first resistance adding unit is connected in series between the first voltage wiring and the fixed voltage,
The thin film magnetic memory device according to claim 4, wherein the second resistance adding unit is connected in series between the second voltage wiring and the fixed voltage.
前記第1および第2のメモリブロックの各々は、前記ダミーセルを含み、
前記第1のメモリブロックにおいて、各前記メモリセルおよび前記ダミーセルは、前記第1および第2のデータ配線と前記固定電圧との間にそれぞれ電気的に結合され、
前記第2のメモリブロックにおいて、前記ダミーセルおよび各前記メモリセルは、前記第1および第2のデータ配線と前記固定電圧との間にそれぞれ電気的に結合され、
前記薄膜磁性体記憶装置は、前記第1および第2のメモリブロック間の選択結果に応じて、前記第1および第2のデータ線のそれぞれに対して、前記第1および第2の抵抗付加部の一方ずつを相補的に直列接続するための接続切換部をさらに備える、請求項4に記載の薄膜磁性体記憶装置。 The plurality of memory cells and the dummy cells are separately arranged in first and second memory blocks to be read data,
Each of the first and second memory blocks includes the dummy cell;
In the first memory block, the memory cells and the dummy cells are electrically coupled between the first and second data lines and the fixed voltage, respectively.
In the second memory block, the dummy cell and each of the memory cells are electrically coupled between the first and second data lines and the fixed voltage, respectively.
The thin film magnetic memory device includes a first resistance adding unit and a second resistance adding unit for each of the first and second data lines according to a selection result between the first and second memory blocks. The thin film magnetic memory device according to claim 4, further comprising a connection switching unit for complementarily connecting one of each in series.
各前記メモリセルは、
記憶データのレベルに応じた方向に磁化されて磁化方向に応じて第1および第2の電気抵抗のいずれかを有するように構成された磁気抵抗素子と、
前記磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンするアクセストランジスタとを含み、
前記ダミーセルは、
前記磁気抵抗素子と同様の構成および形状を有し、前記第1および第2の電気抵抗のいずれか一方を有するように予め磁化されたダミー磁気抵抗素子と、
前記ダミー磁気抵抗素子と直列に接続されてデータ読出時に選択的にオンし、前記アクセストランジスタと同様に設計されたダミーアクセストランジスタとを含み、
前記薄膜磁性体記憶装置は、
データ読出時において、前記選択メモリセルおよび前記ダミーセルの一方ずつをそれぞれ介して、固定電圧と電気的に結合される第1および第2のデータ線と、
前記第1および第2のデータ線の通過電流差に応じたデータ読出を行なうためのデータ読出部と、
前記メモリアレイの外部において、前記第1および第2のデータ線の一方のデータ線に対して、第3の電気抵抗を並列に接続するための抵抗付加部とをさらに備え、
前記第3の電気抵抗は、前記ダミーセルの電気抵抗が、並列接続された前記第1および第3の電気抵抗の合成抵抗および、並列接続された前記第2および第3の電気抵抗の合成抵抗の中間レベルとなるように決定される、薄膜磁性体記憶装置。 A memory array in which a plurality of memory cells and a dummy cell for comparing a passing current with a selected memory cell selected as an access target among the plurality of memory cells at the time of data reading are arranged;
Each of the memory cells
A magnetoresistive element configured to be magnetized in a direction according to a level of stored data and to have one of a first electric resistance and a second electric resistance according to a magnetization direction;
An access transistor connected in series with the magnetoresistive element and selectively turned on when reading data;
The dummy cell is
A dummy magnetoresistive element having the same configuration and shape as the magnetoresistive element and pre-magnetized so as to have one of the first and second electric resistances;
A dummy access transistor connected in series with the dummy magnetoresistive element and selectively turned on at the time of data reading, and a dummy access transistor designed in the same manner as the access transistor;
The thin film magnetic memory device includes:
In data reading, first and second data lines electrically coupled to a fixed voltage through one of each of the selected memory cell and the dummy cell,
A data reading unit for reading data in accordance with a difference between passing currents of the first and second data lines;
A resistance adding unit for connecting a third electrical resistance in parallel to one of the first and second data lines outside the memory array;
The third electrical resistance includes: a combined resistance of the first and third electrical resistances connected in parallel and a combined resistance of the second and third electrical resistances connected in parallel. A thin film magnetic memory device determined to be at an intermediate level.
前記データ読出時において、前記抵抗付加部が並列に接続される前記一方のデータ線は、前記選択メモリセルを介して前記固定電圧と電気的に結合される、請求項9に記載の薄膜磁性体記憶装置。 The dummy magnetoresistive element is pre-magnetized to have a smaller one of the first and second electrical resistances;
10. The thin film magnetic body according to claim 9, wherein at the time of data reading, the one data line to which the resistance adding unit is connected in parallel is electrically coupled to the fixed voltage via the selected memory cell. Storage device.
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