JP2008083581A - Display medium, writing device, and writing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display medium capable of suppressing a decrease in light and shade difference in writing to the display medium with exposure light, a writing device, and a writing method. <P>SOLUTION: The display medium includes at least a pair of electrodes, a photoconducting layer provided between the pair of electrodes and showing an electric characteristic distribution corresponding to an intensity distribution of the exposure light when irradiated with the exposure light in a predetermined wavelength range in the presence of an electric field produced with a voltage applied between the pair of electrodes, a display layer applied with a partial voltage distributed according to the electric characteristic distribution of the photoconducting layer with the voltage applied between the pair of electrodes to display an image by an optical characteristic distribution according to the partial voltage, and a light shield layer provided upstream of the photoconducting layer in the irradiation direction of the exposure light and transmitting light in the wavelength range of the exposure light. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示媒体、書込装置、及び書込方法に関する。   The present invention relates to a display medium, a writing device, and a writing method.

近年、パーソナルコンピュータの普及、インターネットを始めとする情報化社会の発達により、電子情報の一時的な閲覧を目的とする、いわゆる短寿命文書としての紙の消費は、益々増加する傾向にあり、森林資源保護などの地球環境保全や事務環境改善などの理由から、紙に代わる書き換え可能な表示媒体の実現が望まれている。   In recent years, with the spread of personal computers and the development of the information society such as the Internet, the consumption of paper as so-called short-lived documents for the purpose of temporary browsing of electronic information has been increasing. Realization of a rewritable display medium instead of paper is desired for reasons such as conservation of the global environment such as resource protection and improvement of the office environment.

そこで、無電源でのメモリ性を有し、且つ外部装置によって短時間で画像を書き換えることができる紙に代わる表示媒体として、コレステリック液晶と、電場下で光照射されることで内部光電効果による自由電子の移動が発生する光導電体と、を用いた表示媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。   Therefore, cholesteric liquid crystal is used as a display medium instead of paper that has memory characteristics without power supply and can be rewritten in a short time by an external device, and free by internal photoelectric effect by light irradiation under an electric field. A display medium using a photoconductor that generates electron movement has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

図１１（Ａ）は、特許文献１に示される光導電層と表示層とを組み合わせた表示媒体１００の断面図であり、フィルム等の基板１０３及び基板１０２上に形成された一対の電極１０４及び電極１０６間に、光導電層１１０と、遮光層１１２と、表示層１０８と、が積層されて構成されている。この表示媒体１００には、表示媒体１００への書込み時には、露光光１１６が光導電層に照射され、読取り時には、表示媒体１００の露光光１１６照射方向とは反対側から読出光１１８が表示層１０８に照射される。   FIG. 11A is a cross-sectional view of a display medium 100 in which a photoconductive layer and a display layer described in Patent Document 1 are combined, and includes a substrate 103 such as a film and a pair of electrodes 104 formed on the substrate 102. A photoconductive layer 110, a light shielding layer 112, and a display layer 108 are stacked between the electrodes 106. In the display medium 100, the exposure light 116 is irradiated to the photoconductive layer when writing to the display medium 100, and the reading light 118 is applied from the side opposite to the irradiation direction of the exposure light 116 of the display medium 100 when reading. Is irradiated.

詳細には、この表示媒体１００において電極１０４及び電極１０６間に電圧が印加されると、表示層１０８及び光導電層１１０にはそれぞれの分圧が印加される。この分圧が印加された状態で光導電層１１０に露光光１１６が照射されると、その照射された露光光１１６を吸収することで該露光光１１６に応じて光導電層１１０の抵抗分布が変化する。このため、露光光１１６に応じて表示層１０８に印加される分圧が変化する。表示層１０８に印加される電圧分布が変化すると、液晶の配向分布が変化して光学的特性分布が変化するので、露光光１１６に応じた画像が表示層１０８に記録される。   Specifically, when a voltage is applied between the electrode 104 and the electrode 106 in the display medium 100, the partial pressure is applied to the display layer 108 and the photoconductive layer 110. When the photoconductive layer 110 is irradiated with the exposure light 116 with this partial pressure applied, the resistance distribution of the photoconductive layer 110 is absorbed according to the exposure light 116 by absorbing the irradiated exposure light 116. Change. For this reason, the partial pressure applied to the display layer 108 changes according to the exposure light 116. When the voltage distribution applied to the display layer 108 changes, the orientation distribution of the liquid crystal changes and the optical characteristic distribution changes, so that an image corresponding to the exposure light 116 is recorded on the display layer 108.

遮光層１１２は、読出光１１８を遮る機能を有し、表示層１０８と光導電層１１０とに挟まれて設けられており、表示媒体１０の画像を読取る時に読出光１１８が表示層１０８を介して光導電層１１０まで入射することを抑制している。   The light shielding layer 112 has a function of blocking the reading light 118 and is provided between the display layer 108 and the photoconductive layer 110. When the image on the display medium 10 is read, the reading light 118 passes through the display layer 108. Thus, it is possible to suppress the incidence to the photoconductive layer 110.

また、上記表示媒体として、露光光１１６と読出光１１８とを表示媒体１０の同じ面側から照射する表示媒体も知られており、この表示媒体において、図１１（Ｂ）に示すように、表示層１０８及び光導電層１１０より読出光１１８の照射方向下流側に、読出光１１８の反照射方向側から入射される光を遮断するための遮光層１１２を設けた表示媒体１０１も知られている。
特開２００３−５２１０号公報 Further, as the display medium, a display medium that irradiates the exposure light 116 and the readout light 118 from the same surface side of the display medium 10 is also known. In this display medium, as shown in FIG. There is also known a display medium 101 in which a light shielding layer 112 for blocking light incident from the side opposite to the irradiation direction of the reading light 118 is provided downstream of the layer 108 and the photoconductive layer 110 in the irradiation direction of the reading light 118. .
JP 2003-5210 A

本発明は、表示媒体への露光光による書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な表示媒体、書込装置、及び書込方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a display medium, a writing apparatus, and a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing by exposure light to the display medium.

上記課題は、以下の本発明により達成される。すなわち、   The above-mentioned subject is achieved by the following present invention. That is,

請求項１に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層と、前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光層と、を少なくとも含むことを特徴とする表示媒体である。   The invention according to claim 1 is provided with a pair of electrodes and exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes And a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure, and provided upstream of the photoconductive layer in the irradiation direction of the exposure light, and transmits light in a wavelength region of the exposure light. A display medium including at least a light-shielding layer.

請求項２に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層と、前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光層と、を少なくとも含むことを特徴とする表示媒体である。   The invention according to claim 2 is provided with a pair of electrodes and exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field formed between the pair of electrodes and a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes A display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure, and a wavelength provided on the upstream side in the irradiation direction of the exposure light from the photoconductive layer, excluding the wavelength region of the exposure light The display medium includes at least a light-blocking layer that absorbs or reflects at least part of the light in the region.

請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、一対の前記遮光層を備え、前記光導電層が前記一対の遮光層によって挟まれていることを特徴とする表示媒体である。   The invention according to claim 3 is the display according to claim 1 or 2, further comprising a pair of the light shielding layers, wherein the photoconductive layer is sandwiched between the pair of light shielding layers. It is a medium.

請求項４に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に画像データに応じた露光光を照射して書込みを行う書込手段と、前記表示媒体の前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光手段と、を備えた書込装置である。   The invention according to claim 4 is provided with a pair of electrodes and exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes Applied to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure, a voltage applying unit that applies a voltage between the pair of electrodes, and the voltage applying unit. A writing means for performing writing by irradiating the photoconductive layer of the display medium to which voltage is applied according to image data; and upstream of the photoconductive layer of the display medium in the irradiation direction of the exposure light Of the exposure light Light in a long region and light shielding means for transmitting a writing device provided with a.

請求項５に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の光導電層に画像データに応じた露光光を照射して書込みを行う書込手段と、前記表示媒体の前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光手段と、を備えた書込装置である。   The invention according to claim 5 is provided with a pair of electrodes and exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes Applied to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure, a voltage applying unit that applies a voltage between the pair of electrodes, and the voltage applying unit. Write means for writing by irradiating the photoconductive layer of the display medium to which voltage is applied with exposure light according to image data, and upstream of the photoconductive layer of the display medium in the irradiation direction of the exposure light. The wavelength of the exposure light provided And shielding means for absorbing or reflecting at least a portion of the light in the wavelength region except for the band, a writing device provided with a.

請求項６に係る発明は、請求項４または請求項５に記載の発明において、前記書込手段は、可視光領域以外の波長領域の光を前記露光光として前記光導電層へ照射する第１の照射手段と、該第１の照射手段による該光導電層への該露光光の照射領域に可視光領域の波長領域の光を照射する第２の照射手段と、を含むことを特徴とする書込装置である。   The invention according to claim 6 is the invention according to claim 4 or 5, wherein the writing means irradiates the photoconductive layer with light in a wavelength region other than a visible light region as the exposure light. Irradiating means, and second irradiating means for irradiating light in the wavelength region of the visible light region to the irradiation region of the exposure light to the photoconductive layer by the first irradiating means. It is a writing device.

請求項７に係る発明は、請求項４から請求項６の何れか１項に記載の発明において、前記光導電層に照射される光の光量を検出する光量検出手段と、前記表示層上に形成される画像の明暗の差を示す情報を出力する出力手段と、前記露光光の前記光導電層への照射を開始または照射を停止するように前記書込手段を制御すると共に、前記露光光の照射を開始するように前記書込手段を制御したときの前記光量検出手段による光量検出結果と、前記露光光の照射を停止するように前記書込手段を制御したときの前記光量検出手段による光量検出結果と、の差に基づいて、前記露光光の照射領域と非照射領域との明暗の差を示す情報を出力するように前記出力手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする書込装置である。   According to a seventh aspect of the present invention, in the invention according to any one of the fourth to sixth aspects, the light amount detecting means for detecting the light amount of the light applied to the photoconductive layer, and the display layer An output unit that outputs information indicating a difference in brightness of an image to be formed; and the writing unit that starts or stops the irradiation of the exposure light to the photoconductive layer, and the exposure light. The light quantity detection result by the light quantity detection means when the writing means is controlled so as to start the irradiation, and the light quantity detection means when the writing means is controlled so as to stop the exposure light exposure. Control means for controlling the output means so as to output information indicating a difference in brightness between the irradiation region of the exposure light and the non-irradiation region based on a difference between the light amount detection result and the light amount detection result. Is a writing device.

請求項８に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加工程と、電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光層を介して、画像データに応じた該露光光を照射して書込みを行う書込工程と、を備えたことを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 8 is provided with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between a pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes A voltage applying step of applying a voltage between the pair of electrodes with respect to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure; A writing step of irradiating the photoconductive layer of the display medium with the exposure light corresponding to the image data through a light-shielding layer that transmits light in the wavelength region of the exposure light. This is a writing method characterized by the above.

請求項９に係る発明は、一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加工程と、前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光層を介して、画像データに応じた該露光光を照射して書込みを行う書込工程と、を備えたことを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 9 is provided with a pair of electrodes and exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field formed between the pair of electrodes and a voltage applied to the pair of electrodes. Thus, a photoconductive layer showing an electrical characteristic distribution according to the intensity distribution of the exposure light, and a partial pressure distributed according to the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes A voltage applying step of applying a voltage between the pair of electrodes with respect to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed according to the partial pressure; and the voltage applying unit The exposure according to the image data is applied to the photoconductive layer of the display medium to which a voltage is applied via a light shielding layer that absorbs or reflects at least part of light in a wavelength region excluding the wavelength region of the exposure light. Write with light A writing method characterized by comprising: a Ushokomi step.

請求項１０に係る発明は、請求項８及び請求項９に係る発明において、前記書込工程では、可視光領域以外の波長領域の光を前記露光光として前記光導電層へ照射すると共に、前記光導電層への前記露光光の波長領域の照射領域と同一領域に可視光領域の光を照射することを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 10 is the invention according to claims 8 and 9, wherein, in the writing step, the photoconductive layer is irradiated with light in a wavelength region other than a visible light region as the exposure light, and In the writing method, the photoconductive layer is irradiated with light in a visible light region in the same region as the irradiation region in the wavelength region of the exposure light.

請求項１１に係る発明は、請求項１０に係る発明において、前記遮光層は、可視光領域以外の波長領域の光のみを透過することを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 11 is the writing method according to claim 10, wherein the light shielding layer transmits only light in a wavelength region other than the visible light region.

請求項１２に係る発明は、請求項１０に係る発明において、前記遮光層は、可視光領域の光の少なくとも一部を吸収または反射することを特徴とする書込方法である。   A twelfth aspect of the invention is the writing method according to the tenth aspect of the invention, wherein the light shielding layer absorbs or reflects at least part of light in a visible light region.

請求項１３に係る発明は、請求項１０から請求項１２の何れか１項に記載の書込方法において、前記遮光層は、黒色ペリレン系顔料を含んで構成されることを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 13 is the writing method according to any one of claims 10 to 12, wherein the light shielding layer includes a black perylene pigment. Is the method.

請求項１４に係る発明は、請求項１０から請求項１３の何れか１項に記載の書込方法において、前記光導電層が、フタロシアニン系化合物を含んで構成されることを特徴とする書込方法である。   The invention according to claim 14 is the writing method according to any one of claims 10 to 13, wherein the photoconductive layer comprises a phthalocyanine compound. Is the method.

請求項１に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な表示媒体を提供することができる。   According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a display medium capable of suppressing a decrease in brightness difference in writing by exposure light as compared with the case where the present configuration is not provided.

請求項２に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な表示媒体を提供することができる。   According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide a display medium capable of suppressing a decrease in brightness difference in writing by exposure light as compared with the case where the present configuration is not provided.

請求項３に記載の発明によれば、表示媒体の両面から露光光が照射されて書込みが行われる場合についても、本構成を有していない場合に比較して、露光光による書込みにおける明暗差の低下を抑制することができる。   According to the third aspect of the present invention, even when the exposure light is irradiated from both sides of the display medium and writing is performed, the contrast of light and darkness in the writing by the exposure light is compared with the case where the present configuration is not provided. Can be suppressed.

請求項４に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込装置を提供することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing device capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing on a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項５に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込装置を提供することができる。   According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing device capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing to a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項６に記載の発明によれば、表示媒体への露光光の露光位置を視認可能な書込装置を提供することができる。   According to the sixth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing device that can visually recognize the exposure position of the exposure light on the display medium.

請求項７に記載の発明によれば、露光光による表示媒体への書込みにより書込まれる画像に明暗差が得られるか否かを提示することが可能な書込装置を提供することができる。   According to the seventh aspect of the present invention, it is possible to provide a writing device capable of presenting whether or not a difference in brightness can be obtained in an image written by writing to a display medium with exposure light.

請求項８に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the eighth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark when writing to a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項９に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the ninth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing to a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項１０に記載の発明によれば、表示媒体への露光光の露光位置を視認可能な書込方法を提供することができる。   According to the invention described in claim 10, it is possible to provide a writing method capable of visually recognizing the exposure position of the exposure light on the display medium.

請求項１１に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the eleventh aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing to a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項１２に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the twelfth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in light-dark difference in writing to a display medium by exposure light as compared with the case where the present configuration is not provided. .

請求項１３に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the thirteenth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark when writing to a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

請求項１４に記載の発明によれば、本構成を有していない場合に比較して、露光光による表示媒体への書込みにおける明暗差の低下を抑制可能な書込方法を提供することができる。   According to the fourteenth aspect of the present invention, it is possible to provide a writing method capable of suppressing a decrease in contrast between light and dark in writing on a display medium by exposure light, compared to a case where the present configuration is not provided. .

本発明の表示媒体、書込装置、及び書込方法の一の実施の形態を図面に基づき説明する。   An embodiment of a display medium, a writing apparatus, and a writing method of the present invention will be described with reference to the drawings.

（第１の実施の形態）
本実施の形態の形態に係る表示媒体１０は、図１に示すように、それぞれ電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、光導電層２４と、遮光層２２と、液晶層２０と、が積層されて構成されている。なお、表示媒体１０が、本発明の表示媒体に相当し、光導電層２４が、本発明の表示媒体の光導電層２４に相当し、液晶層２０が、本発明の表示媒体の表示層に相当し、遮光層２２が、本発明の表示媒体の遮光層に相当する。 (First embodiment)
As shown in FIG. 1, the display medium 10 according to the present embodiment includes a photoconductive layer 24, a light shielding layer 22, and a liquid crystal layer between a substrate 12 and a substrate 14 each having an electrode 16 and an electrode 18, respectively. 20 are laminated. The display medium 10 corresponds to the display medium of the present invention, the photoconductive layer 24 corresponds to the photoconductive layer 24 of the display medium of the present invention, and the liquid crystal layer 20 corresponds to the display layer of the display medium of the present invention. Correspondingly, the light shielding layer 22 corresponds to the light shielding layer of the display medium of the present invention.

基板１２及び基板１４各々は、絶縁性（体積抵抗で１０１２Ωｃｍ以上、以下これに準ずる）を有している。また、基板１２及び基板１４の内の、表示媒体１０に画像を書込むときに照射する光である露光光（詳細後述）２６が照射される側または表示媒体１０に表示された画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される外部光３０が入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。 Each of the substrate 12 and the substrate 14 has an insulating property (volume resistance of 10 12 Ωcm or more, hereinafter the same). Also, when reading an image displayed on the display medium 10 or the side irradiated with exposure light (detailed later) 26 which is light irradiated when writing an image on the display medium 10 among the substrate 12 and the substrate 14. The substrate positioned on the side on which the external light 30 incident on the display medium 10 is incident, or both the substrate 12 and the substrate 14 have translucency.

なお、本実施の形態において、透光性とは、波長３８０〜７８０ｎｍの光の８０％以上を透過する性質を示している。   Note that in this embodiment mode, the light-transmitting property indicates a property of transmitting 80% or more of light having a wavelength of 380 to 780 nm.

また、本実施の形態において、露光光２６以外に表示媒体１０に照射される光を、外部光３０と称し、この外部光３０の内、表示媒体１０への露光光２６の照射時に表示媒体１０に入射される光を外光３０Ａと称し、表示媒体１０に書込まれた画像を読み取るときに表示媒体１０に入射される光を読出光３０Ｂと称して説明する。   In the present embodiment, the light irradiated on the display medium 10 other than the exposure light 26 is referred to as external light 30, and of the external light 30, the display medium 10 is irradiated with the exposure light 26 on the display medium 10. The light incident on the display medium will be referred to as external light 30A, and the light incident on the display medium 10 when reading an image written on the display medium 10 will be referred to as readout light 30B.

基板１２及び基板１４は、ガラス及びシリコン等の無機シート、またはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、及びポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムを用いて構成することができる。基板１２及び基板１４の厚みは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましい。   The substrate 12 and the substrate 14 can be configured using an inorganic sheet such as glass and silicon, or a polymer film such as polyethylene terephthalate, polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. It is preferable that the thickness of the board | substrate 12 and the board | substrate 14 exists in the range of 0.01 mm-0.5 mm.

電極１６及び電極１８は、導電性（シート抵抗（表面抵抗）で５００Ω/□ 以下、これに準ずる）を有している。また、電極１６及び電極１８の内の、露光光２６が照射される側または読出光３０Ｂが入射される側に位置する基板、または基板１２及び基板１４の双方は、透光性を有している。   The electrode 16 and the electrode 18 have conductivity (sheet resistance (surface resistance) of 500Ω / □ or less, equivalent thereto). Of the electrodes 16 and 18, the substrate located on the side irradiated with the exposure light 26 or the side on which the readout light 30B is incident, or both the substrate 12 and the substrate 14 have translucency. Yes.

電極１６及び電極１８には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いることができる。なお、本実施の形態では、電極１６及び電極１８にＩＴＯを用いる場合を説明するが、ＩＴＯ以外にも、Ａｕなどの金属膜、ＳｎＯ2、ＺｎＯなど酸化物、ポリピロールなどの導電性高分子の膜などの電気導電体を用いることができる。また、本実施の形態の一対の電極１６及び電極１８は、基板１２及び基板１４上にスパッタリングされて形成されているが、必ずしもスパッタリングによる必要はなく、印刷、ＣＶＤ、蒸着などにより形成することもできる。 ITO (Indium Tin Oxide) can be used for the electrode 16 and the electrode 18. In this embodiment, the case where ITO is used for the electrode 16 and the electrode 18 will be described. In addition to ITO, a metal film such as Au, an oxide such as SnO 2 and ZnO, and a conductive polymer such as polypyrrole are used. An electrical conductor such as a film can be used. In addition, the pair of electrodes 16 and 18 of this embodiment are formed by sputtering on the substrate 12 and the substrate 14, but they are not necessarily formed by sputtering, and may be formed by printing, CVD, vapor deposition, or the like. it can.

電極１６及び電極１８の形態及び駆動方式としては、本実施の形態においては両電極共に表示領域に共通の電極とし、駆動方式は特開２００３−１４０１８４号公報と特開２０００−１１１９４２号公報とに記載の駆動方式を用いて駆動させている。しかし、基板１２側の電極１６と基板１４側の電極１８の一方を表示媒体１０に表示する画像の各画素に共通の電極とし、他方を各画素に個別の電極とするセグメント駆動方式、電極１６と電極１８とを互いに交差する方向に各々ストライプ状に形成して、互いに対峙する位置を１つの画素に対応する領域とする単純マトリクス駆動方式、電極１６及び電極１８の一方を各画素に共通の電極とし、他方を互いに交差するストライプ状の走査電極及び信号電極から構成されるものとして、これにＴＦＴやＭＩＮ等の能動素子を設けるアクティブマトリックス駆動方式等であってもよい。   In the present embodiment, both the electrodes 16 and 18 are configured in common in the display region, and the driving method is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 2003-140184 and 2000-111942. It is driven using the described driving method. However, a segment driving method in which one of the electrode 16 on the substrate 12 side and the electrode 18 on the substrate 14 side is an electrode common to each pixel of an image displayed on the display medium 10 and the other is an individual electrode for each pixel, the electrode 16 And the electrode 18 are formed in stripes in the direction intersecting each other, and a simple matrix driving method in which the positions facing each other are regions corresponding to one pixel, one of the electrodes 16 and 18 is common to each pixel An active matrix driving method in which an active element such as a TFT or MIN is provided on the other as an electrode and the other composed of a scanning electrode and a signal electrode that cross each other.

光導電層２４は、所定の波長の光を吸収すると共に、電場下でこの所定の波長の光を照射されると内部光電効果による自由電子の移動が発生し、光の強度に応じて抵抗値が小さくなる。露光光２６としては、この光導電層２４が光吸収感度を有する波長領域の光が、露光光２６として定められる。   The photoconductive layer 24 absorbs light of a predetermined wavelength, and when irradiated with light of the predetermined wavelength under an electric field, free electron movement occurs due to the internal photoelectric effect, and the resistance value depends on the intensity of the light. Becomes smaller. As the exposure light 26, light in a wavelength region in which the photoconductive layer 24 has light absorption sensitivity is determined as the exposure light 26.

光導電層２４としては、（ａ）無機半導体材料として、アモルファス・シリコンや、ＺｎＳｅ、ＣｄＳなどの化合物半導体から構成される層、（ｂ）有機半導体材料として、アントラセン、ポリビニルカルバゾールなどから構成される層、（ｃ）光照射によって電荷を発生する電荷発生材料及び電界によって電荷移動を生ずる電荷輸送材料の混合物や積層体から構成される層などが挙げられる。   The photoconductive layer 24 is composed of (a) a layer composed of amorphous silicon, a compound semiconductor such as ZnSe, CdS, etc. as an inorganic semiconductor material, and (b) composed of anthracene, polyvinylcarbazole, etc. as an organic semiconductor material. Examples thereof include a layer, (c) a layer composed of a mixture or a laminate of a charge generation material that generates a charge by light irradiation and a charge transport material that generates a charge transfer by an electric field.

ここで、光導電層２４は、上述のように、内部光電効果を有し、照射された光の強度に応じて抵抗値が変化することから、交流駆動が可能であり、且つ照射された光に対して対象駆動することが好ましく、この観点から、図１に示すように、電荷輸送層（ＣＴＬ）２４Ｂを上下から挟むように一対の電荷発生層（ＣＧＬ）２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃが積層された３層構造であることが好ましい。   Here, as described above, the photoconductive layer 24 has an internal photoelectric effect, and the resistance value changes according to the intensity of the irradiated light. From this viewpoint, as shown in FIG. 1, a pair of charge generation layer (CGL) 24A and charge generation layer 24C are stacked so as to sandwich charge transport layer (CTL) 24B from above and below. It is preferable to have a three-layer structure.

電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃは、露光光２６を吸収して自由電子を発生させる機能を有する層である。電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃとしては、露光光２６を吸収して励起子を発生させ、電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃの内部、または電荷輸送層２４Ｂとの界面で自由電子に効率良く分離させられるものが好ましい。   The charge generation layer 24A and the charge generation layer 24C are layers having a function of absorbing the exposure light 26 and generating free electrons. The charge generation layer 24A and the charge generation layer 24C absorb the exposure light 26 to generate excitons, and are efficient for free electrons inside the charge generation layer 24A and the charge generation layer 24C or at the interface with the charge transport layer 24B. Those that are well separated are preferred.

電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料としては、例えば、ペリレン系、フタロシアニン系、ビスアゾ系、ジチオピトケロピロール系、スクワリリウム系、アズレニウム系、チアピリリウム・ポリカーボネート系化合物などが挙げられる。   Examples of the charge generation material constituting each of the charge generation layer 24A and the charge generation layer 24C include perylene-based, phthalocyanine-based, bisazo-based, dithiopytochelopyrrole-based, squarylium-based, azurenium-based, and thiapyrylium / polycarbonate-based compounds. It is done.

ここで、詳細は後述するが、露光光２６を表示媒体１０へ照射することによって表示媒体１０に画像書込みを行うときに、例えば、室内において画像書込みを行う場合等においては、画像書込みのための露光光２６とともに、蛍光灯や白熱灯等の露光光２６の波長以外の波長の外光３０Ａが同時期に表示媒体１０へ照射される場合がある。   Here, although details will be described later, when image writing is performed on the display medium 10 by irradiating the display medium 10 with the exposure light 26, for example, when image writing is performed indoors, for image writing. In some cases, the display medium 10 may be irradiated with external light 30A having a wavelength other than the wavelength of the exposure light 26 such as a fluorescent lamp or an incandescent lamp together with the exposure light 26.

外部光３０の一例には、蛍光灯が挙げられ、昼光色蛍光灯の波長と比エネルギーとの関係、及び高演色蛍光灯の波長と比エネルギーとの関係は、図２（Ａ）及び図２（Ｂ）各々に示されるように、４００ｎｍから７００ｎｍの波長領域を有することが知られている。   An example of the external light 30 is a fluorescent lamp. The relationship between the wavelength of a daylight fluorescent lamp and specific energy, and the relationship between the wavelength of a high color rendering fluorescent lamp and specific energy are shown in FIGS. B) As shown in each, it is known to have a wavelength region from 400 nm to 700 nm.

露光光２６は、光導電層２４の光吸収感度に応じた波長領域の光であることから、図２に示す波長領域を有する外部光３０の波長領域内の光吸収感度を光導電層２４が有すると、露光光２６による液晶層２０への画像書込みに影響を及ぼす場合がある。
このため、光導電層２４は、外部光３０とは異なる波長領域の光に光吸収感度を有する材料を用いる事が好ましく、外部光３０の有する波長以外の光として、赤外光の波長領域について光吸収感度を有する材料を用いる事が好ましい。なお、露光光２６としても、画像書込みにおける明暗差の低下を抑制する観点から、赤外光の波長領域の光が用いられることが好ましい。 Since the exposure light 26 is light in a wavelength region corresponding to the light absorption sensitivity of the photoconductive layer 24, the photoconductive layer 24 has a light absorption sensitivity in the wavelength region of the external light 30 having the wavelength region shown in FIG. If it has, it may affect the image writing to the liquid crystal layer 20 by the exposure light 26.
For this reason, it is preferable that the photoconductive layer 24 uses a material having light absorption sensitivity for light in a wavelength region different from that of the external light 30. As light other than the wavelength of the external light 30, the infrared light wavelength region is used. It is preferable to use a material having light absorption sensitivity. As the exposure light 26, light in the wavelength region of infrared light is preferably used from the viewpoint of suppressing a decrease in brightness difference in image writing.

上記電荷発生層２４Ａ及び電荷発生層２４Ｃ各々を構成する電荷発生材料として挙げた材料のうち、外部光３０の有する波長以外の光として、赤外光の波長領域について光吸収感度を有する材料として、６００〜８５０ｎｍに優れた光感度を有する点でフタロシアニン系化合物を用いる事が好ましい。   Of the materials mentioned as the charge generation material constituting each of the charge generation layer 24A and the charge generation layer 24C, as light other than the wavelength of the external light 30, as a material having light absorption sensitivity in the wavelength region of infrared light, It is preferable to use a phthalocyanine compound in terms of having excellent photosensitivity at 600 to 850 nm.

前記フタロシアニン系化合物としては、例えば、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニン、及びそれらのダイマ−などが挙げられる。   Examples of the phthalocyanine compounds include metal-free phthalocyanines, metal phthalocyanines, and dimers thereof.

前記金属フタロシアニンの中心金属としては、例えば、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｖ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｍｇ、Ｐｂ等が挙げられる。また、これら中心金属の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルキル化物、アルコキシ化物等も使用できる。具体的には、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ジクロロ錫フタロシアニン、銅フタロシアニンなどが挙げられる。また、これらのフタロシアニン環に置換基を含むものも使用することができる。更にまた、これらのフタロシアニン環中の炭素原子が窒素原子で置換されたものも有効である。これらフタロシアニン系化合物の形態としては、アルモルファス又は公知の総ての結晶多形のものが使用可能である。これらフタロシアニン系化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。   Examples of the central metal of the metal phthalocyanine include Cu, Ni, Zn, Co, Fe, V, Si, Al, Sn, Ge, Ti, In, Ga, Mg, and Pb. In addition, oxides, hydroxides, halides, alkylates, alkoxylates and the like of these central metals can also be used. Specific examples include metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, 1,2-di (oxogallium phthalocyaninyl) ethane, vanadyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine, dichlorotin phthalocyanine, and copper phthalocyanine. It is done. Moreover, what contains a substituent in these phthalocyanine rings can also be used. Furthermore, those in which carbon atoms in these phthalocyanine rings are substituted with nitrogen atoms are also effective. As the form of these phthalocyanine compounds, amorphous or all known crystalline polymorphs can be used. These phthalocyanine compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらフタロシアニン系化合物の中でも、チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、１，２−ジ（オキソガリウムフタロシアニニル）エタン、無金属フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、及びジクロロ錫フタロシアニンは、特に優れた光感度を有している点で特に好ましい。   Among these phthalocyanine compounds, titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, 1,2-di (oxogallium phthalocyaninyl) ethane, metal-free phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine, and dichlorotin phthalocyanine are particularly excellent in light sensitivity. It is particularly preferable in that it has

更にこれらのフタロシアニン系化合物は、以下に示す結晶形にて用いることが好ましい。即ち、無金属フタロシアニンにおいてはＸ型が、バナジルフタロシアニンにおいてはα型が、それぞれ好ましい。チタニルフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、9.2 °、13.1°、20.7°、26.2°及び27.1°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも7.6 °、12.3°、16.3°、25.3°及び28.7°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.5 °、11.7°、15.0°、23.5°及び27.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。クロロガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、13.4°及び27.0°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも7.4 °、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ヒドロキシガリウムフタロシアニンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、7.5 °、9.9 °、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。1,2-ジ(オキソガリウムフタロシアニニル)エタンにおいては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、6.9 °、13.0°、15.9°、25.6°及び26.1°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。ジクロロ錫フタロシアニン結晶においては、ＣｕＫαを線源とするＸ線回折スペクトルにおいて、少なくともブラッグ角度（２θ±０．２゜）が、8.3 °、13.7°及び28.3°に強い回折ピークを有するもの、少なくとも8.5 °、11.2°、14.5°及び27.2°に強い回折ピークを有するもの、並びに、少なくとも9.2 °、12.2°、13.4°、14.6°、17.0°及び25.3°に強い回折ピークを有するものなどが挙げられる。   Further, these phthalocyanine compounds are preferably used in the crystal forms shown below. That is, X-type is preferable for metal-free phthalocyanine, and α-type is preferable for vanadyl phthalocyanine. In titanyl phthalocyanine, in the X-ray diffraction spectrum using CuKα as a radiation source, at least Bragg angles (2θ ± 0.2 °) have strong diffraction peaks at 9.2 °, 13.1 °, 20.7 °, 26.2 °, and 27.1 °. Those having strong diffraction peaks at least at 7.6 °, 12.3 °, 16.3 °, 25.3 ° and 28.7 °, and those having strong diffraction peaks at at least 9.5 °, 11.7 °, 15.0 °, 23.5 ° and 27.3 °, etc. Is mentioned. In chlorogallium phthalocyanine, in an X-ray diffraction spectrum using CuKα as a radiation source, those having strong diffraction peaks at 13.4 ° and 27.0 ° at least at a Bragg angle (2θ ± 0.2 °), and at least 7.4 °, Examples include those having strong diffraction peaks at 16.6 °, 25.5 °, and 28.3 °. In hydroxygallium phthalocyanine, in an X-ray diffraction spectrum using CuKα as a radiation source, at least the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) is 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3. Examples include those having a diffraction peak strong at °. In 1,2-di (oxogallium phthalocyaninyl) ethane, in an X-ray diffraction spectrum using CuKα as a radiation source, at least the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) is 6.9 °, 13.0 °, 15.9 °, Examples include those having strong diffraction peaks at 25.6 ° and 26.1 °. A dichlorotin phthalocyanine crystal has a strong diffraction peak at 8.3 °, 13.7 °, and 28.3 ° at least at a Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in an X-ray diffraction spectrum using CuKα as a radiation source, at least 8.5 Examples thereof include those having strong diffraction peaks at °, 11.2 °, 14.5 °, and 27.2 °, and those having strong diffraction peaks at least at 9.2 °, 12.2 °, 13.4 °, 14.6 °, 17.0 °, and 25.3 °.

上記電荷輸送層２４Ｂを構成する電荷輸送材料としては、例えば、トリニトロフルオレン系、ポリビニルカルバゾール系、オキサジアゾール系、ピラリゾン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、トリフェニルアミン系、トリフェニルメタン系、ジアミン系化合物や、ＬｉＣｌＯ4を添加したポリビニルアルコ−ルやポリエチレンオキシド等が、また電荷発生材と電荷輸送材との複合体として、積層体、混合物、マイクロカプセルなど、を利用することができる。 Examples of the charge transport material constituting the charge transport layer 24B include trinitrofluorene, polyvinylcarbazole, oxadiazole, pyralizone, hydrazone, stilbene, triphenylamine, triphenylmethane, and diamine. Laminates, mixtures, microcapsules, and the like can be used as a compound of a compound, polyvinyl alcohol to which LiClO 4 is added, polyethylene oxide, and the like, and as a composite of a charge generation material and a charge transport material.

なお、光導電層２４の層厚は１〜１００μｍの範囲で用い、露光光２６照射時と露光光２６非照射時の抵抗比は大きい方が望ましい。   The layer thickness of the photoconductive layer 24 is preferably in the range of 1 to 100 μm, and the resistance ratio when the exposure light 26 is irradiated and when the exposure light 26 is not irradiated is preferably large.

液晶層２０は、電場によって入射光のうち特定の色光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持できる性質の層である。曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが望ましい。   The liquid crystal layer 20 has a function of modulating a reflection / transmission state of a specific color light of incident light by an electric field, and is a layer having a property that the selected state can be maintained with no electric field. It is desirable for the structure not to be deformed by an external force such as bending or pressure.

液晶層２０には、カイラルネマチック液晶（コレステリック液晶）をゼラチンバインダー（高分子マトリックス）中に分散させたＰＤＬＣ（Polymer Network Liquid Crystal）構造を用いることができる。なお、本実施の形態では、液晶層２０がＰＤＬＣ構造を採用する場合を説明するが、この構造に限ることなく、コレステリック液晶を、リブを介し電極間距離を固定したセルに配置する方式やカプセル液晶化することにより実現してもよい。また、液晶もコレステリック液晶に限ることなく、スメクチックＡ液晶、ネマチック液晶、ディスコティック液晶などが利用できる。   For the liquid crystal layer 20, a PDLC (Polymer Network Liquid Crystal) structure in which chiral nematic liquid crystal (cholesteric liquid crystal) is dispersed in a gelatin binder (polymer matrix) can be used. In the present embodiment, the case where the liquid crystal layer 20 adopts the PDLC structure is described. However, the present invention is not limited to this structure, and the cholesteric liquid crystal is arranged in a cell in which the distance between the electrodes is fixed via a rib. You may implement | achieve by making it liquid crystal. Further, the liquid crystal is not limited to the cholesteric liquid crystal, and a smectic A liquid crystal, a nematic liquid crystal, a discotic liquid crystal, or the like can be used.

液晶層２０の反射波長域（表示色波長域）は、例えば液晶としてコレステリック液晶を用いる場合には、該コレステリック液晶の螺旋ピッチにより調整することができる。コレステリック液晶の螺旋ピッチは、ネマチック液晶に対するカイラル剤の添加量で調整することができる。また、コレステリック液晶の螺旋ピッチの温度依存性を補償するために、捩じれ方向が異なる、または逆の温度依存性を示す複数のカイラル剤を添加する公知の手法を用いてもよい。
なお、液晶の光学的特性変化を補助する補助部材として、偏光板、位相差板、反射板などの受動光学部品と併用したり、液晶中に２色性色素を添加したりしてもよい。 For example, when a cholesteric liquid crystal is used as the liquid crystal, the reflection wavelength range (display color wavelength range) of the liquid crystal layer 20 can be adjusted by the helical pitch of the cholesteric liquid crystal. The helical pitch of the cholesteric liquid crystal can be adjusted by the amount of chiral agent added to the nematic liquid crystal. Further, in order to compensate the temperature dependence of the helical pitch of the cholesteric liquid crystal, a known method of adding a plurality of chiral agents having different twisting directions or opposite temperature dependences may be used.
In addition, as an auxiliary member that assists in changing the optical characteristics of the liquid crystal, it may be used in combination with passive optical components such as a polarizing plate, a retardation plate, and a reflection plate, or a dichroic dye may be added to the liquid crystal.

なお、液晶層２０の層厚は通常１〜５０μｍの範囲として用いることが望ましい。   The layer thickness of the liquid crystal layer 20 is preferably used in the range of usually 1 to 50 μm.

液晶層２０に含まれる液晶材料としては、シアノビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゾエート系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、スチルベン系、トラン系など公知の液晶組成物が利用できる。液晶材料には２色性色素などの色素、粒子などの添加剤を加えてもよく、高分子マトリクス中に分散したものや、高分子ゲル化したものや、マイクロカプセル化したものでもよい。また、液晶は高分子、中分子、低分子のいずれでもよく、またこれらの混合物でもよい。   As the liquid crystal material contained in the liquid crystal layer 20, known are cyanobiphenyl, phenylcyclohexyl, phenylbenzoate, cyclohexylbenzoate, azomethine, azobenzene, pyrimidine, dioxane, cyclohexylcyclohexane, stilbene, and tolan. The liquid crystal composition can be used. Additives such as pigments and particles such as dichroic pigments and particles may be added to the liquid crystal material, and may be dispersed in a polymer matrix, polymerized, or microencapsulated. The liquid crystal may be a polymer, medium molecule, or low molecule, or a mixture thereof.

電極１６及び電極１８に電圧が印加されると共に、露光光２６が照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂの液晶層２０による反射光として視認される。   When a voltage is applied to the electrode 16 and the electrode 18 and the exposure light 26 is irradiated, the resistance distribution as the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer 24 changes according to the amount of the irradiated exposure light 26. As a result of this change in the electrical resistance distribution of the photoconductive layer 24, the voltage applied to the liquid crystal layer 20 also changes according to the amount of the exposure light 26, and the orientation of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 20 changes, resulting in an optical effect. The characteristic distribution changes. With this change, an image corresponding to the exposure light 26 is written in the liquid crystal layer 20. The image written in the liquid crystal layer 20 is visually recognized as reflected light of the readout light 30B by the liquid crystal layer 20.

遮光層２２は、外光３０Ａや読出光３０Ｂ等の露光光２６以外の外部光３０を反射または吸収すると共に、露光光２６の波長の光のみを透過、または露光光２６の波長領域を除いた波長領域の光を吸収または反射する。   The light shielding layer 22 reflects or absorbs the external light 30 other than the exposure light 26 such as the external light 30A and the readout light 30B, and transmits only the light having the wavelength of the exposure light 26 or excludes the wavelength region of the exposure light 26. Absorbs or reflects light in the wavelength region.

なお、本実施の形態において、「光を吸収する」とは、入射光の光強度が吸収後１０％以下となることを意味し、「光を透過する」とは、入射光の光強度が透過後５０％以上、好ましくは８０％以上であることを意味している。   In this embodiment, “absorbing light” means that the light intensity of incident light becomes 10% or less after absorption, and “transmitting light” means that the light intensity of incident light is It means 50% or more after transmission, preferably 80% or more.

遮光層２２は、表示媒体１０の、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられている。なお、本実施の形態では、図１に示すように、遮光層２２は、光導電層２４と液晶層２０とに挟まれて設けられている場合を説明するが、遮光層２２は、光導電層２４より露光光２６の照射方向上流側に設けられていれば良く、例えば、液晶層２０上と電極１６とに挟まれて設けられていても良い。   The light shielding layer 22 is provided on the display medium 10 upstream of the photoconductive layer 24 in the irradiation direction of the exposure light 26. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a case where the light shielding layer 22 is provided between the photoconductive layer 24 and the liquid crystal layer 20 will be described. However, the light shielding layer 22 is a photoconductive layer. It may be provided upstream of the layer 24 in the irradiation direction of the exposure light 26, for example, may be provided between the liquid crystal layer 20 and the electrode 16.

このため、露光光２６が照射されると、露光光２６の波長領域の光のみが遮光層２２を透過して光導電層２４に到達し、露光光２６の波長領域以外の波長領域の外部光３０は、遮光層２２において吸収または反射されて、光導電層２４に到達することを抑制される。   For this reason, when the exposure light 26 is irradiated, only light in the wavelength region of the exposure light 26 passes through the light shielding layer 22 and reaches the photoconductive layer 24, and external light in a wavelength region other than the wavelength region of the exposure light 26. 30 is absorbed or reflected by the light shielding layer 22 and is prevented from reaching the photoconductive layer 24.

遮光層２２の電気抵抗は、遮光層２２内の電流によって解像度の低下を引き起こさないように、少なくとも体積抵抗率で１０8Ω・ｃｍ以上とすることが望ましい。さらに、液晶層２０に加わる分圧の変化分を大きくするためには、遮光層２２の静電容量が大きい程よいので、誘電率が大きく層厚が出来る限り薄く形成されることが好ましい。 The electric resistance of the light shielding layer 22 is preferably at least 10 8 Ω · cm in terms of volume resistivity so that the current in the light shielding layer 22 does not cause a reduction in resolution. Further, in order to increase the change in the partial pressure applied to the liquid crystal layer 20, the larger the capacitance of the light shielding layer 22, the better. Therefore, it is preferable that the dielectric constant is large and the layer thickness is as thin as possible.

遮光層２２としては、カドミウム系、クロム系、コバルト系、マンガン系、カーボン系などの無機顔料、またはアゾ系、アントラキノン系、インジゴ系、トリフェニルメタン系、ニトロ系、フタロシアニン系、ペリレン系、ピロロピロール系、キナクリドン系、多環キノン系、スクエアリウム系、アズレニウム系、シアニン系、ピリリウム系、アントロン系、等の有機染料や有機顔料、あるいはこれらを樹脂に分散した材料を用いて形成され、少なくとも上記特性を有すように構成する。   As the light shielding layer 22, inorganic pigments such as cadmium, chromium, cobalt, manganese and carbon, or azo, anthraquinone, indigo, triphenylmethane, nitro, phthalocyanine, perylene, pyrrolo It is formed using a pyrrole-based, quinacridone-based, polycyclic quinone-based, squalium-based, azurenium-based, cyanine-based, pyrylium-based, anthrone-based organic dye or organic pigment, or a material in which these are dispersed in a resin, at least It is configured to have the above characteristics.

本実施の形態における遮光層２２用の樹脂（バインダー）としては、水溶性樹脂を用いることが好ましく、具体的にはカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基、ポリエチレングリコール骨格、アミド基、メチロールアミン基などの親水基を有する樹脂で、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキシド、アクリルアミド、アルキド樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂などが利用できる。グリオキザールやポリイソシアナートなどの架橋剤を添加してもよい。ただし、液晶中に不純物を溶出させないという観点から、これらの材料は非イオン性を有するものであることが好ましい。   As the resin (binder) for the light shielding layer 22 in the present embodiment, a water-soluble resin is preferably used. Specifically, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amino group, a hydroxyl group, a polyethylene glycol skeleton, an amide group, and methylol are used. Resins having a hydrophilic group such as an amine group, such as methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, polyethylene oxide, acrylamide, alkyd resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, urethane resin, and polyester resin can be used. A cross-linking agent such as glioxal or polyisocyanate may be added. However, from the viewpoint of preventing impurities from eluting in the liquid crystal, these materials are preferably nonionic.

ここで、露光光２６照射における外部光３０の影響を抑制する観点から、上述のように、光導電層２４として赤外光の波長領域について光吸収感度を有する材料を用い且つ露光光２６として赤外光の波長領域の光を用いると共に、遮光層２２についても、可視光領域の少なくとも一部の光を吸収または反射、または可視光以外（即ち赤外光）の波長領域の光のみを透過するように構成することが好ましい。   Here, from the viewpoint of suppressing the influence of the external light 30 in the exposure light 26 irradiation, as described above, the photoconductive layer 24 is made of a material having light absorption sensitivity in the wavelength region of infrared light, and the exposure light 26 is red. In addition to using light in the wavelength region of external light, the light shielding layer 22 also absorbs or reflects at least part of light in the visible light region, or transmits only light in the wavelength region other than visible light (that is, infrared light). It is preferable to configure as described above.

遮光層２２を、可視光領域の少なくとも一部の光を吸収または反射、または可視光以外の波長領域の光のみを透過する構成とするためには、遮光層２２を、黒色ペリレン系顔料を含んだ構成とすればよい。   In order to configure the light shielding layer 22 to absorb or reflect at least part of light in the visible light region or transmit only light in a wavelength region other than visible light, the light shielding layer 22 includes a black perylene pigment. What is necessary is just composition.

この黒色ペリレン系顔料は、赤外領域の光を透過すると共に、可視光領域の光を吸収する特性を有している。遮光層２２を構成する材料に含まれるこの黒色ペリレン系顔料含有量は、上記特性を満たすために、５〜５０質量％であることが必須であり、１５〜３５質量％であることが好ましい。   This black perylene-based pigment has characteristics of transmitting light in the infrared region and absorbing light in the visible light region. In order to satisfy the above characteristics, the black perylene pigment content contained in the material constituting the light shielding layer 22 is essential to be 5 to 50% by mass, and preferably 15 to 35% by mass.

黒色ペリレン系顔料としては、具体的には、ペリレンテトラカルボン酸のジイミド誘導体、ペリレンジイミノジカルボン酸のジイミド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸の酸無水物を挙げることができる。   Specific examples of the black perylene pigment include a diimide derivative of perylene tetracarboxylic acid, a diimide derivative of perylene diimino dicarboxylic acid, and an acid anhydride of perylene tetracarboxylic acid.

遮光層２２に必要な光学濃度は、光導電層２４の光吸収感度と読出光３０Ｂの強度に依存するため一概に規定できないが、読出光３０Ｂによる画像読み出し時に、読み出し時に視認される方向とは反対側（図１における下側）からの透過光により視認性が低下するのを防止するために、少なくとも１以上、特に２以上が望ましい。特に４００〜７００ｎｍの波長域の光学濃度を高くすると視認性の低下を防止する効果が強い。   The optical density required for the light shielding layer 22 depends on the light absorption sensitivity of the photoconductive layer 24 and the intensity of the readout light 30B, and cannot be defined unconditionally. However, when the image is read out by the readout light 30B, what is the direction visually recognized at the time of readout? In order to prevent the visibility from being deteriorated by the transmitted light from the opposite side (the lower side in FIG. 1), at least 1 or more, particularly 2 or more is desirable. In particular, when the optical density in the wavelength region of 400 to 700 nm is increased, the effect of preventing a decrease in visibility is strong.

このようにして形成した遮光層２２の層厚は、０．５〜３．０μｍの範囲とすることが好ましく、０．７〜２．０μｍの範囲とすることがより好ましい。   The layer thickness of the light shielding layer 22 thus formed is preferably in the range of 0.5 to 3.0 μm, and more preferably in the range of 0.7 to 2.0 μm.

次に、上記表示媒体１０に画像を書込む書込装置について説明する。   Next, a writing device for writing an image on the display medium 10 will be described.

図３に示すように、書込装置３２は、光照射部３４、出力部４２、制御部３６、メモリ３８、電圧印加部４０、駆動部４５、光量検出センサ４６、操作部４４、及び通信部４７を含んで構成されている。
光照射部３４、出力部４２、メモリ３８、電圧印加部４０、駆動部４５、光量検出センサ４６、操作部４４、及び通信部４７は、制御部３６に信号授受可能に接続されている。 As illustrated in FIG. 3, the writing device 32 includes a light irradiation unit 34, an output unit 42, a control unit 36, a memory 38, a voltage application unit 40, a drive unit 45, a light amount detection sensor 46, an operation unit 44, and a communication unit. 47 is comprised.
The light irradiation unit 34, the output unit 42, the memory 38, the voltage application unit 40, the drive unit 45, the light amount detection sensor 46, the operation unit 44, and the communication unit 47 are connected to the control unit 36 so as to be able to exchange signals.

制御部３６は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、及びＲＡＭ（Random Access Memory）を含むマイクロコンピュータとして構成されており、書込装置３２内の各装置各部を制御する。   The control unit 36 is configured as a microcomputer including a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and controls each unit in the writing device 32.

電圧印加部４０は、表示媒体１０の電極１６及び電極１８に電圧を印加する。書込装置３２には、表示媒体１０を装着するためのスロット（図示せず）が設けられており、このスロットに表示媒体１０が装着されると、表示媒体１０の電極１６及び電極１８が、図示しない電気的接続部を介して電圧印加部４０に電気的に接続されるように構成されている。また、表示媒体１０がスロットに装着されると、光照射部３４は、表示媒体１０の基板１２側から基板１４側へ向かって露光光２６を照射可能な状態となる。   The voltage application unit 40 applies a voltage to the electrode 16 and the electrode 18 of the display medium 10. The writing device 32 is provided with a slot (not shown) for mounting the display medium 10, and when the display medium 10 is mounted in this slot, the electrode 16 and the electrode 18 of the display medium 10 are It is configured to be electrically connected to the voltage application unit 40 via an electrical connection unit (not shown). Further, when the display medium 10 is mounted in the slot, the light irradiation unit 34 is in a state in which the exposure light 26 can be irradiated from the substrate 12 side of the display medium 10 toward the substrate 14 side.

電圧印加部４０は、制御部３６から入力された信号に基づいた電圧を、表示媒体１０の電極１６及び電極１８に印加可能に構成されていればよいが、高速表示の観点から、ＡＣ出力が可能であり且つ高いスルーレートを有することが好ましい。電圧印加部４０としては、例えば、バイポーラ高電圧アンプなどを用いることができる。   The voltage application unit 40 only needs to be configured to be able to apply a voltage based on the signal input from the control unit 36 to the electrode 16 and the electrode 18 of the display medium 10. It is possible and preferably has a high slew rate. As the voltage application unit 40, for example, a bipolar high voltage amplifier can be used.

光照射部３４は、上記露光光２６を表示媒体１０の光導電層２４に照射するための複数の光源３５１〜光源３５ｎを含んで構成されている。光源３５１〜光源３５ｎは、例えば、表示媒体１０の光導電層２４に画像が表示されたときの該画像の各画素に対応して設けられている。 The light irradiation unit 34 includes a plurality of light sources 35 1 to 35 n for irradiating the photoconductive layer 24 of the display medium 10 with the exposure light 26. The light sources 35 1 to 35 n are provided corresponding to the respective pixels of the image when the image is displayed on the photoconductive layer 24 of the display medium 10, for example.

制御部３６の制御によって表示媒体１０に記録する画像を構成する各画素に対応する位置の各光源３５１〜光源３５ｎ各々の点灯または非点灯、及び光量が制御されることで、光照射部３４から表示媒体１０の光導電層２４へ画像データに応じた露光光２６が照射される。 The light irradiation unit is controlled by controlling the lighting or non-lighting and the light amount of each of the light sources 35 1 to 35 n at positions corresponding to the respective pixels constituting the image to be recorded on the display medium 10 under the control of the control unit 36. The exposure light 26 corresponding to the image data is irradiated from 34 to the photoconductive layer 24 of the display medium 10.

光源３５１〜光源３５ｎ各々は、上記露光光２６を照射するための露光光源３５Ａと、可視光２７を照射するための可視光光源３５Ｂと、を含んで構成されている。各光源３５１〜光源３５ｎに含まれる一対の露光光源３５Ａと可視光光源３５Ｂとは、各光源３５１〜光源３５ｎ毎に、表示媒体１０の光導電層２４の略同じ領域、すなわち略同じ画素に対応する領域へ光を照射可能に配置されている。このため、表示媒体１０への画像書込み時には、可視光領域外の露光光２６とともに可視光領域内の可視光２７が、光源３５１〜光源３５ｎ毎に表示媒体１０に照射される。 Each of the light sources 35 1 to 35 n includes an exposure light source 35 A for irradiating the exposure light 26 and a visible light source 35 B for irradiating the visible light 27. The pair of the exposure light source 35A and a visible light source 35B included in each light sources 351 to 35 n, each light sources 351 to each 35 n, substantially the same region of the photoconductive layer 24 of the display medium 10, i.e. substantially It arrange | positions so that light can be irradiated to the area | region corresponding to the same pixel. For this reason, when writing an image on the display medium 10, the visible light 27 in the visible light region is irradiated on the display medium 10 for each of the light sources 35 1 to 35 n together with the exposure light 26 outside the visible light region.

光照射部３４としては、上記構成を満たせばよく、ＬＥＤアレイ、ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の自発光素子や、液晶シャッターなどの変調素子と蛍光管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、水銀ランプ、ＬＥＤランプ、等の光源との組み合わせなどの、液晶プロジェクター、ＤＬＰプロジェクター、等でもよく、特に限定されるものではない。   The light irradiation unit 34 may satisfy the above-described configuration, and may be a self-luminous element such as an LED array, a CRT display, a plasma display or an EL display, a modulation element such as a liquid crystal shutter, a fluorescent tube, a xenon lamp, a halogen lamp, or a mercury lamp. A liquid crystal projector, a DLP projector, or the like, such as a combination with a light source such as an LED lamp, may be used, and is not particularly limited.

なお、本実施の形態では、表示媒体１０が書込装置３２に装着された状態において、光照射部３４は、表示媒体１０の露光光２６照射側の表面の一部を覆うように設けられるように示しているが、実際には、光照射部３４は、表示媒体１０の露光光２６照射側の表面の全面を覆うように設けられており、表示媒体１０の露光光２６照射側の表面の全領域に渡って露光光２６を照射可能に設けられている。   In the present embodiment, in a state where the display medium 10 is mounted on the writing device 32, the light irradiation unit 34 is provided so as to cover a part of the surface on the irradiation light 26 irradiation side of the display medium 10. In practice, the light irradiation unit 34 is provided so as to cover the entire surface of the display medium 10 on the exposure light 26 irradiation side, and the surface of the display medium 10 on the exposure light 26 irradiation side is provided. It is provided so that the exposure light 26 can be irradiated over the entire region.

出力部４２は、各種情報を書込装置３２の外部へ提示するための装置であって、ＣＲＴディスプレイ、ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ等の各種表示装置や、スピーカー等の音声発生装置等を用いることができる。   The output unit 42 is a device for presenting various types of information to the outside of the writing device 32, and various display devices such as a CRT display, EL display, and liquid crystal display, and a sound generation device such as a speaker are used. it can.

メモリ３８は、後述する図５に示す処理ルーチンや各種データを予め記憶するとともに、表示媒体１０に書込む画像の画像データや、各種データを記憶するための記憶装置である。また、メモリ３８は、表示媒体１０に画像を書込むときに必要な明暗の差（コントラスト）の閾値を示すコントラスト閾値情報を予め記憶している。
このコントラスト閾値情報としては、予め表示媒体１０毎に測定し、表示媒体１０に画像を表示したときの明暗の差が良好に視認される程度となる閾値を予め測定してメモリ３８に記憶すればよい。この明暗の差とは、表示媒体１０に露光光２６が照射された領域と、照射されない領域と、の明るさの差を示している。 The memory 38 is a storage device that stores in advance a processing routine and various data shown in FIG. 5 described later, and also stores image data of the image to be written on the display medium 10 and various data. Further, the memory 38 stores in advance contrast threshold information indicating a threshold value of contrast between light and dark (contrast) necessary for writing an image on the display medium 10.
As the contrast threshold value information, if the threshold value is measured in advance for each display medium 10 and the threshold value at which the difference in brightness when the image is displayed on the display medium 10 is satisfactorily visually recognized is stored in the memory 38. Good. The difference in brightness indicates the difference in brightness between the area where the display medium 10 is irradiated with the exposure light 26 and the area where the exposure light 26 is not irradiated.

光量検出センサ４６は、表示媒体１０に照射される光の光量を検出するためのセンサであって、複数の支持部材４８を介して駆動部４５に支持されている。駆動部４５は、光量検出センサ４６を表示媒体１０の露光光２６照射側の全面を覆う位置（以下、検知位置と称する）、及び光量検出センサ４６を表示媒体１０の露光光２６照射側の全面を覆う位置から回避した位置（以下、回避位置と称する）、の双方に位置移動させるための駆動部であり、例えば、モータ等により構成することができる。   The light amount detection sensor 46 is a sensor for detecting the amount of light irradiated to the display medium 10, and is supported by the drive unit 45 through a plurality of support members 48. The drive unit 45 positions the light amount detection sensor 46 covering the entire surface of the display medium 10 on the exposure light 26 irradiation side (hereinafter referred to as a detection position) and the light amount detection sensor 46 on the entire surface of the display medium 10 on the exposure light 26 irradiation side. Is a drive unit for moving the position to both of the position avoiding from the position covering the cover (hereinafter referred to as the avoidance position) and can be constituted by, for example, a motor or the like.

光量検出センサ４６は、光照射部３４により露光光２６が表示媒体１０へ照射される画像書込み時には、図３に示すように、駆動部４５によって駆動されて回避位置に位置している。そして、露光光２６の光量検出時には、図４に示すように、駆動部４５によって駆動されて検知位置に位置している。   The light amount detection sensor 46 is driven by the drive unit 45 and is located at the avoidance position as shown in FIG. 3 during image writing when the exposure light 26 is irradiated onto the display medium 10 by the light irradiation unit 34. At the time of detecting the light amount of the exposure light 26, it is driven by the drive unit 45 and positioned at the detection position as shown in FIG.

光量検出センサ４６としては、光の光量を検出可能なセンサであればよく、例えば、Si、Ge、GaAsP、InGaAs/InPなどのPNフォトダイオード、PINフォトダイオード、アバランシェフォトダイオード、ショットキフォトダイオード、フォトトランジスタなどを用いることができる。   The light amount detection sensor 46 may be any sensor that can detect the amount of light, for example, a PN photodiode such as Si, Ge, GaAsP, InGaAs / InP, PIN photodiode, avalanche photodiode, Schottky photodiode, photo A transistor or the like can be used.

操作部４４は、各種情報を入力するときにユーザによって操作指示され、一例には、キーボードやタッチパネル等が挙げられる。通信部４７は、外部装置と有線または無線により信号授受を行うための通信ポートである。外部装置としては、パーソナルコンピュータ等が挙げられる。   The operation unit 44 is instructed by the user when inputting various information, and examples thereof include a keyboard and a touch panel. The communication unit 47 is a communication port for exchanging signals with an external device by wire or wireless. An example of the external device is a personal computer.

次に、表示媒体１０への画像書込み前に、制御部３６で実行される処理を説明する。   Next, processing executed by the control unit 36 before writing an image on the display medium 10 will be described.

なお、下記処理ルーチンの実行前に、表示媒体１０に書込む画像の画像データが通信部４７を介して入力されて、制御部３６の制御によってメモリ３８に予め記憶されているものとして説明する。
また、下記処理ルーチンの実行前には、光量検出センサ４６は、初期状態として回避位置に位置しているものとして説明する。 In the following description, it is assumed that image data of an image to be written on the display medium 10 is input via the communication unit 47 and stored in advance in the memory 38 under the control of the control unit 36 before the execution of the following processing routine.
In addition, it is assumed that the light amount detection sensor 46 is in the avoidance position as an initial state before the following processing routine is executed.

制御部３６では、ユーザによる操作部４４の操作によって、画像書込を指示する指示信号が入力されると、図５に示す処理ルーチンが実行されてステップ１００へ進み、光量検出センサ４６を回避位置から検知位置へ移動させることを示す駆動指示信号を駆動部４５へ出力する。   When an instruction signal for instructing image writing is input by the operation of the operation unit 44 by the user, the control unit 36 executes the processing routine shown in FIG. A drive instruction signal indicating that the sensor is to be moved to the detection position is output to the drive unit 45.

上記駆動指示信号が入力されると、駆動部４５は、支持部材４８を介して光量検出センサ４６を回転駆動することにより、光量検出センサ４６を検知位置へと移動させる。   When the drive instruction signal is input, the drive unit 45 rotates the light amount detection sensor 46 via the support member 48 to move the light amount detection sensor 46 to the detection position.

次のステップ１０２では、光量検出センサ４６から入力される光量検出結果を示す光量情報Ｘを読取り、次のステップ１０４においてメモリ３８に記憶する。ステップ１０２で読み取った光量情報Ｘは、光照射部３４から露光光２６が照射されていない状態で測定された、表示媒体１０に照射される光の光量である。このため、ステップ１０２の処理によって、書込装置３２に装着された表示媒体１０へ、露光光２６とともに照射される外光３０Ａの光量が測定される。   In the next step 102, the light amount information X indicating the light amount detection result input from the light amount detection sensor 46 is read and stored in the memory 38 in the next step 104. The light amount information X read in step 102 is the light amount of light irradiated on the display medium 10 measured in a state where the exposure light 26 is not irradiated from the light irradiation unit 34. For this reason, the amount of external light 30 </ b> A that is irradiated together with the exposure light 26 onto the display medium 10 mounted on the writing device 32 is measured by the processing in step 102.

次のステップ１０６では、光量検出のための露光光２６の照射開始を示す指示信号を光照射部３４へ出力する。露光光２６の照射開始を示す指示信号が入力されると、光照射部３４は、光源３５１〜光源３５ｎ各々の露光光源３５Ａから露光光２６の照射を開始する。なお、光照射部３４では、光量検出のための露光光２６の照射開示を示す指示信号が入力されたときには、光量検出時に用いる光量として、予め定められた光量の露光光２６の照射を開始する。この光量検出時に用いる光量としては、例えば、各光源３５１〜光源３５ｎから出力可能な光量の最低値と最大値との中間値を示す光量を定めるようにすればよい。 In the next step 106, an instruction signal indicating the start of irradiation of the exposure light 26 for detecting the light amount is output to the light irradiation unit 34. When an instruction signal indicating the start of irradiation of the exposure light 26 is input, the light irradiation unit 34 starts irradiation of the exposure light 26 from the exposure light source 35A of each of the light sources 35 1 to 35 n . In the light irradiation unit 34, when an instruction signal indicating disclosure of exposure of the exposure light 26 for light amount detection is input, irradiation of the exposure light 26 with a predetermined light amount is started as the light amount used when detecting the light amount. . As the light amount used at the time of detecting the light amount, for example, a light amount indicating an intermediate value between the minimum value and the maximum value of the light amount that can be output from each of the light sources 35 1 to 35 n may be determined.

次のステップ１０８では、光量検出センサ４６から入力される光量検出結果を示す光量情報Ｙを読取り、次のステップ１１０において、メモリ３８に記憶する。ステップ１０８で読み取った光量情報Ｙは、光照射部３４から露光光２６が照射された状態で測定された、表示媒体１０に照射されている光の光量である。このため、ステップ１０８では、表示媒体１０に照射される、外光３０Ａの光量と露光光２６の光量とを加算した光量を測定する。   In the next step 108, the light amount information Y indicating the light amount detection result input from the light amount detection sensor 46 is read and stored in the memory 38 in the next step 110. The light amount information Y read in step 108 is the light amount of light irradiated on the display medium 10 measured in a state where the exposure light 26 is irradiated from the light irradiation unit 34. For this reason, in step 108, the light quantity obtained by adding the light quantity of the external light 30A and the light quantity of the exposure light 26 irradiated to the display medium 10 is measured.

次のステップ１１２では、上記ステップ１０８で読み取った露光光２６の光量と外光３０Ａの光量との和としての光量情報Ｙから、上記ステップ１０２で読み取った外光３０Ａの光量を示す光量情報Ｘを減算する。上述のように、外光３０Ａは、遮光層２２によって吸収または反射されることから、この減算処理によって、表示媒体１０の光導電層２４に照射される露光光２６の光量と、光導電層２４に露光光２６が照射されていないときの光量との差が求められる。
すなわち、ステップ１１２の処理によって、表示媒体１０の光導電層２４に露光光２６が照射されているときと、露光光２６が照射されていないときと、の明暗の差（コントラスト量）が算出される。 In the next step 112, light amount information X indicating the light amount of the external light 30A read in step 102 is obtained from the light amount information Y as the sum of the light amount of the exposure light 26 read in step 108 and the light amount of the external light 30A. Subtract. As described above, since the external light 30A is absorbed or reflected by the light shielding layer 22, the amount of the exposure light 26 applied to the photoconductive layer 24 of the display medium 10 and the photoconductive layer 24 by this subtraction process. The difference from the amount of light when the exposure light 26 is not irradiated is obtained.
That is, by the process of step 112, the difference in brightness (contrast amount) between when the photoconductive layer 24 of the display medium 10 is irradiated with the exposure light 26 and when the exposure light 26 is not irradiated is calculated. The

次のステップ１１４では、メモリ３８に記憶されているコントラスト閾値情報を読み取り、次のステップ１１６において、上記ステップ１１２で算出したコントラスト量が、上記ステップ１１４で読み取ったコントラスト閾値情報以上であるか否かを判別する。   In the next step 114, the contrast threshold value information stored in the memory 38 is read. In the next step 116, whether or not the contrast amount calculated in step 112 is equal to or greater than the contrast threshold information read in step 114. Is determined.

上記ステップ１１６の判断で否定され、算出したコントラスト量がコントラスト閾値情報未満である場合には、ステップ１２４へ進み、明暗コントラスト不良を示す情報を、出力部４２に音声出力または表示した後に、本ルーチンを終了する。   If the result of the determination in step 116 is negative and the calculated contrast amount is less than the contrast threshold information, the routine proceeds to step 124, where information indicating light / dark contrast failure is output or displayed on the output unit 42, and then this routine is executed. Exit.

上記ステップ１１６の判断で肯定され、算出したコントラスト量がコントラスト閾値情報以上である場合には、ステップ１１８へ進み、明暗コントラスト良好を示す情報を、出力部４２に音声出力または表示した後に、ステップ１２０へ進む。なお、明暗コントラストが良好であるばあいは書き込みが可能であるという情報を示し、明暗コントラストが不良である場合は書き込みが不可であるという情報を提示しても良い。
また、ここでは算出したコントラスト量とコントラスト閾値情報を用いて明暗コントラストの良好を判別したが、コントラストは光量に基づいているものであるため、予め定められた光量の閾値を用いて直接判断しても良い。 If the determination in step 116 is affirmative and the calculated contrast amount is equal to or greater than the contrast threshold value information, the process proceeds to step 118, and information indicating that the contrast is good is output or displayed on the output unit 42, and then step 120. Proceed to Note that information indicating that writing is possible is indicated when the contrast is good, and information indicating that writing is not possible may be presented when the contrast is poor.
In addition, here, the good contrast of light and dark is determined using the calculated contrast amount and contrast threshold information. However, since the contrast is based on the light amount, it is determined directly using a predetermined light amount threshold. Also good.

ステップ１２０では、メモリ３８に記憶されている画像データの画像を表示媒体１０に書込むために、電極１６及び電極１８に電圧を印加することを示す電圧印加指示信号を電圧印加部４０へ出力する。この電圧印加指示信号は、例えば、画像データに応じて、表示媒体１０に画像を表示したときの各画素に対応する位置に、液晶層２０内の液晶の配向を変化させて視認可能となるように予め定めた電圧値の電圧を印加することを示す信号であり、上記画像データに応じて作成する。   In step 120, in order to write an image of the image data stored in the memory 38 to the display medium 10, a voltage application instruction signal indicating that a voltage is applied to the electrode 16 and the electrode 18 is output to the voltage application unit 40. . For example, the voltage application instruction signal can be visually recognized by changing the orientation of the liquid crystal in the liquid crystal layer 20 at a position corresponding to each pixel when the image is displayed on the display medium 10 according to the image data. Is a signal indicating that a voltage having a predetermined voltage value is applied, and is generated according to the image data.

ステップ１２０の処理によって、電極１６及び電極１８に画像データに応じた電圧が印加される。   By the processing in step 120, a voltage corresponding to the image data is applied to the electrode 16 and the electrode 18.

次のステップ１２２では、メモリ３８に記憶されている画像データに応じた駆動信号を光照射部３４の光源３５１〜光源３５ｎ毎に作成し、光照射部３４の各光源３５１〜光源３５ｎへ出力する。 In the next step 122, a drive signal corresponding to the image data stored in the memory 38 is created for each of the light sources 35 1 to 35 n of the light irradiation unit 34, and each light source 35 1 to light source 35 of the light irradiation unit 34. output to n .

ステップ１２２の処理によって、光照射部３４の各光源３５１〜光源３５ｎから、可視光２７とメモリ３８に記憶されている画像データに応じた露光光２６とが表示媒体１０へ照射される。 By the processing of step 122, the display medium 10 is irradiated with the visible light 27 and the exposure light 26 corresponding to the image data stored in the memory 38 from each of the light sources 35 1 to 35 n of the light irradiation unit 34.

このとき、光照射部３４から照射された可視光２７及び露光光２６と、書込み時に表示媒体１０に入射される外光３０Ａと、のうち、可視光２７及び外光３０Ａは、遮光層２２によって反射または吸収され、露光光２６のみが遮光層２２を透過して光導電層２４へ到る。   At this time, of the visible light 27 and the exposure light 26 irradiated from the light irradiation unit 34 and the external light 30A incident on the display medium 10 at the time of writing, the visible light 27 and the external light 30A are transmitted by the light shielding layer 22. Reflected or absorbed, only the exposure light 26 passes through the light shielding layer 22 and reaches the photoconductive layer 24.

電極１６及び電極１８に電圧が印加された状態で、露光光２６が光導電層２４に照射されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１０に画像が書込まれ、表示される。   When the exposure light 26 is applied to the photoconductive layer 24 in a state where a voltage is applied to the electrode 16 and the electrode 18, the resistance as an electrical characteristic distribution of the photoconductive layer 24 according to the amount of the irradiated exposure light 26. Distribution changes. As a result of this change in the electrical resistance distribution of the photoconductive layer 24, the voltage applied to the liquid crystal layer 20 also changes according to the amount of the exposure light 26, and the orientation of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 20 changes, resulting in an optical effect. The characteristic distribution changes. With this change, an image corresponding to the exposure light 26 is written in the liquid crystal layer 20. The image written in the liquid crystal layer 20 is visually recognized as reflected light of the external light such as the readout light 30B by the liquid crystal layer 20, and the image is written and displayed on the display medium 10.

（第２の実施の形態）
上記実施の形態では、表示媒体に遮光層が設けられている場合を説明したが、本実施の形態では、遮光層が表示媒体とは別体に構成され、書込装置側に遮光層が設けられている場合について説明する。なお、本実施の形態は、上記実施の形態と同様の構成のため、同一部分には同一符号を付与して詳細な説明を省略する。 (Second Embodiment)
In the above embodiment, the case where the light shielding layer is provided on the display medium has been described. However, in this embodiment, the light shielding layer is configured separately from the display medium, and the light shielding layer is provided on the writing device side. The case where it has been described will be described. Since the present embodiment has the same configuration as that of the above embodiment, the same portions are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.

図６に示すように、本実施の形態の表示媒体１１は、電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、露光光２６の照射方向下流側から順に、光吸収層２１、光導電層２４、透明隔離層２３、液晶層２０が順に積層されて構成されている。   As shown in FIG. 6, the display medium 11 according to the present embodiment includes a light absorbing layer 21, a light beam between the substrate 12 and the substrate 14 including the electrode 16 and the electrode 18, sequentially from the downstream side in the irradiation direction of the exposure light 26. The conductive layer 24, the transparent isolation layer 23, and the liquid crystal layer 20 are laminated in order.

光吸収層２１は、露光光２６の照射方向下流側から上流側に向かって入射される外部光３０の影響により、液晶層２０を露光光２６の照射方向から読み取るときにおける液晶層２０の視認性が低下することを防止する層であり、液晶層２０に記録された画像を読取るための読出光３０Ｂの波長域だけでなく可視波長域（４００〜７００ｎｍ）全域に亘り吸収することが好ましい。光学濃度は少なくとも１以上、特に２以上が望ましい。   The light absorption layer 21 has visibility of the liquid crystal layer 20 when the liquid crystal layer 20 is read from the irradiation direction of the exposure light 26 due to the influence of the external light 30 incident from the downstream side in the irradiation direction of the exposure light 26 to the upstream side. It is a layer that prevents the decrease of the light, and it is preferable to absorb not only the wavelength range of the readout light 30B for reading the image recorded on the liquid crystal layer 20, but also the entire visible wavelength range (400 to 700 nm). The optical density is preferably at least 1 or more, particularly 2 or more.

また、光吸収層２１としては、光吸収層２１内の電流によって解像度の低下を引き起こさないように、少なくとも体積抵抗率で１０8Ω・ｃｍ以上とすることが望ましい。さらに、液晶層２０に加わる分圧の変化分を大きくするためには、光吸収層２１の静電容量が大きい程よいので、誘電率が大きく層厚が可能な限り薄い方が好ましい。 The light absorption layer 21 is preferably at least 10 8 Ω · cm in terms of volume resistivity so that the current in the light absorption layer 21 does not lower the resolution. Furthermore, in order to increase the change in the partial pressure applied to the liquid crystal layer 20, the larger the capacitance of the light absorption layer 21, the better. Therefore, it is preferable that the dielectric constant is large and the layer thickness is as thin as possible.

透明隔離層２３は、液晶層２０と光導電層２４とが直接接することを抑制するために、この二つの層を隔離するための層である。ここで「透明」とは、光の透過率が９０％以上である状態を示している。   The transparent isolation layer 23 is a layer for isolating the two layers in order to prevent the liquid crystal layer 20 and the photoconductive layer 24 from directly contacting each other. Here, “transparent” indicates a state where the light transmittance is 90% or more.

透明隔離層２３は、液晶を光導電体と接触させないという条件を満たす層であればよく、構成材料としては、水溶性の高分子であるＰＶＡなどを用いることができる。   The transparent isolation layer 23 may be any layer that satisfies the condition that the liquid crystal is not brought into contact with the photoconductor, and as a constituent material, PVA which is a water-soluble polymer can be used.

書込装置３３は、光照射部３４、出力部４２、制御部３６、メモリ３８、電圧印加部４０、遮光部材２９、操作部４４、及び通信部４７を含んで構成されている。なお、遮光部材２９は、上記実施の形態の遮光層２２に相当し、遮光層２２と同じ機能を有するとともに、同じ材料で構成されている。   The writing device 33 includes a light irradiation unit 34, an output unit 42, a control unit 36, a memory 38, a voltage application unit 40, a light shielding member 29, an operation unit 44, and a communication unit 47. The light shielding member 29 corresponds to the light shielding layer 22 of the above embodiment, has the same function as the light shielding layer 22, and is made of the same material.

このように、本実施の形態では、第１の実施の形態の表示媒体１０及び書込装置３２とは異なり、遮光層２２が、表示媒体１０の内部ではなく、遮光部材２９として、書込装置３３側に設けられている。   As described above, in the present embodiment, unlike the display medium 10 and the writing device 32 of the first embodiment, the light shielding layer 22 is not the inside of the display medium 10 but the light shielding member 29 as a writing device. 33 side is provided.

光照射部３４、出力部４２、メモリ３８、電圧印加部４０、操作部４４、及び通信部４７は、制御部３６に信号授受可能に接続されている。   The light irradiation unit 34, the output unit 42, the memory 38, the voltage application unit 40, the operation unit 44, and the communication unit 47 are connected to the control unit 36 so as to be able to exchange signals.

なお、本実施の形態では、光照射部３４に設けられている光源３５１〜光源３５ｎ各々は、露光光２６のみを照射するものとして説明するが、第１の実施の形態と同様に、露光光２６とともに可視光２７を照射する構成であってもよい。 In the present embodiment, each of the light sources 35 1 to 35 n provided in the light irradiation unit 34 is described as irradiating only the exposure light 26, but as in the first embodiment, It may be configured to irradiate visible light 27 together with exposure light 26.

また、本実施の形態の書込装置３３には、第１の実施の形態に示す駆動部４５及び光量検出センサ４６が設けられていない場合を説明するが、第１の実施の形態と同様に、駆動部４５及び光量検出センサ４６が設けられている構成であってもよい。   In addition, the case where the writing unit 33 according to the present embodiment is not provided with the driving unit 45 and the light amount detection sensor 46 described in the first embodiment will be described. However, as in the first embodiment. Alternatively, the drive unit 45 and the light amount detection sensor 46 may be provided.

遮光部材２９は、書込装置３３の図示を省略するスロットに表示媒体１１が装着されて電圧印加部４０と電極１６及び電極１８とが信号授受可能に接続された状態にあるときに、表示媒体１１の光導電層２４より、光照射部３４による露光光２６照射方向上流側に設けられている。すなわち、遮光部材２９は、光照射部３４の各光源３５１〜光源３５ｎ各々から表示媒体１１へ向けて照射される露光光２６を遮ることが可能な位置に設けられている。 When the display medium 11 is mounted in a slot (not shown) of the writing device 33 and the voltage applying unit 40 and the electrode 16 and the electrode 18 are connected so as to be able to exchange signals, the light shielding member 29 is displayed on the display medium. 11 from the photoconductive layer 24 on the upstream side in the irradiation direction of the exposure light 26 by the light irradiation unit 34. That is, the light blocking member 29 is provided at a position where the exposure light 26 irradiated from the light sources 35 1 to 35 n of the light irradiation unit 34 toward the display medium 11 can be blocked.

なお、遮光部材２９は、表示媒体１１への露光光２６の照射とともに、外部光３０が光導電層２４に到ることを抑制する観点から、光照射部３４と、書込装置３３に装着された表示媒体１１との間において、表示媒体１１と接触しない程度に表示媒体１１に近い位置、または表示媒体１１の基板１２表面に接触するように設けられていることが好ましい。   The light shielding member 29 is attached to the light irradiation unit 34 and the writing device 33 from the viewpoint of suppressing the external light 30 from reaching the photoconductive layer 24 along with the irradiation of the exposure light 26 to the display medium 11. It is preferably provided so as to be in contact with the display medium 11 at a position close to the display medium 11 so as not to contact the display medium 11 or the surface of the substrate 12 of the display medium 11.

書込装置３３の光照射部３４の各光源３５１〜光源３５ｎから書込装置３３に装着された表示媒体１１に向けて露光光２６が照射されると、露光光２６とともに外光３０Ａもまた表示媒体１０へ照射される。しかし、照射された露光光２６と外光３０Ａの内、外光３０Ａについては、遮光部材２９によって吸収または反射され、遮光部材２９を透過した露光光２６のみが光導電層２４に到達する。 When the exposure light 26 is irradiated from the light sources 35 1 to 35 n of the light irradiation unit 34 of the writing device 33 toward the display medium 11 attached to the writing device 33, the external light 30 A is also emitted together with the exposure light 26. In addition, the display medium 10 is irradiated. However, of the irradiated exposure light 26 and external light 30 </ b> A, the external light 30 </ b> A is absorbed or reflected by the light shielding member 29, and only the exposure light 26 transmitted through the light shielding member 29 reaches the photoconductive layer 24.

このとき、電極１６及び電極１８に電圧印加部４０から電圧が印加されると、照射された露光光２６の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１１に画像が書込まれ、表示される。   At this time, when a voltage is applied from the voltage application unit 40 to the electrode 16 and the electrode 18, the resistance distribution as the electrical characteristic distribution of the photoconductive layer 24 changes according to the amount of the irradiated exposure light 26. As a result of this change in the electrical resistance distribution of the photoconductive layer 24, the voltage applied to the liquid crystal layer 20 also changes according to the amount of the exposure light 26, and the orientation of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 20 changes, resulting in an optical effect. The characteristic distribution changes. With this change, an image corresponding to the exposure light 26 is written in the liquid crystal layer 20. The image written in the liquid crystal layer 20 is visually recognized as reflected light by the liquid crystal layer 20 of external light such as the reading light 30B, and the image is written on the display medium 11 and displayed.

（第３の実施の形態）
上記第１の実施の形態では、表示媒体１０の液晶層２０と光導電層２４とが遮光層２２を介して積層されている場合を説明したが、本実施の形態では、さらに、光導電層２４を挟むようにもう一枚の遮光層が設けられている場合を説明する。なお、本実施の形態は、上記実施の形態と同様の構成のため、同一部分には同一符号を付与して詳細な説明を省略する。 (Third embodiment)
In the first embodiment, the case where the liquid crystal layer 20 and the photoconductive layer 24 of the display medium 10 are stacked via the light shielding layer 22 has been described. However, in the present embodiment, the photoconductive layer is further provided. A case where another light shielding layer is provided so as to sandwich 24 is described. Since the present embodiment has the same configuration as that of the above embodiment, the same portions are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.

図７に示すように、本実施の形態の表示媒体１３は、電極１６及び電極１８を備えた基板１２及び基板１４間に、光導電層２４、光導電層を挟んで位置する２つの遮光層２２１及び遮光層２２２、液晶層２０が積層されて構成されている。
なお、遮光層２２２及び遮光層２２１は、上記実施の形態で説明した遮光層２２と同一機能を有し、且つ同一材料により構成されているため詳細な説明を省略する。 As shown in FIG. 7, the display medium 13 according to the present embodiment includes a photoconductive layer 24 and two light-shielding layers located between the substrate 12 and the substrate 14 provided with the electrodes 16 and 18 with the photoconductive layer interposed therebetween. 22 1, the light shielding layer 22 2 , and the liquid crystal layer 20 are laminated.
Incidentally, the light blocking layer 22 2 and the light-shielding layer 22 1 has the same function as the light blocking layer 22 described in the above embodiment, and a detailed description thereof is omitted because it is composed of the same material.

表示媒体１３に、基板１２側から基板１４側へ向かって照射される露光光２６１によって画像が書き込まれる場合は、露光光２６１とともに外光３０Ａ１もまた基板１２側から基板１４側へ向かって照射される。しかし、照射された露光光２６１と外光３０Ａ１の内、外光３０Ａ１については、遮光層２２１によって吸収または反射されるが、露光光２６１は、遮光層２２１を透過して光導電層２４に到る。 The display medium 13, if the image is written by the exposing light 26 1 is irradiated toward the substrate 12 side to the substrate 14 side, toward the outside light 30A 1 with exposure light 26 1 is also a substrate 12 side to the substrate 14 side Is irradiated. However, among the irradiated exposure light 26 1 and the external light 30A 1, for the external light 30A 1, is absorbed or reflected by the light-shielding layer 22 1, the exposure light 26 1 is transmitted through the light shielding layer 22 1 It reaches the photoconductive layer 24.

このとき、電極１６及び電極１８に電圧印加部４０から電圧が印加されると、照射された露光光２６１の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６１の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６１に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１０に画像が書込まれ、表示される。 At this time, the voltage from the voltage applying unit 40 to the electrodes 16 and 18 are applied, the resistance distribution as an electrical characteristic distribution of the photoconductive layer 24 changes according to the irradiation light amount of the exposure light 26 1. The change in the electrical resistance distribution of the photoconductive layer 24, the voltage applied to the liquid crystal layer 20 as a result is also changed in accordance with the amount of the exposure light 26 1, optical alignment of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 20 is changed The characteristic distribution changes. This change image corresponding to the exposure light 26 1 is written to the liquid crystal layer 20. The image written in the liquid crystal layer 20 is visually recognized as reflected light of the external light such as the readout light 30B by the liquid crystal layer 20, and the image is written and displayed on the display medium 10.

一方、表示媒体１３に、基板１４側から基板１２側へ向かって照射される露光光２６２によって画像が書き込まれる場合は、露光光２６２とともに外光３０Ａ２もまた基板１４側から基板１２側へ向かって照射される。しかし、照射された露光光２６２と外光３０Ａ２の内、外光３０Ａ２については、遮光層２２２によって吸収または反射されるが、露光光２６２は、遮光層２２２を透過して光導電層２４に到る。 On the other hand, the display medium 13, if the image is written by the exposure light 26 2 emitted toward the substrate 14 side to the substrate 12 side, the external light 30A 2 also substrate 12 side from the substrate 14 side along with the exposure light 26 2 Irradiated towards. However, among the irradiated exposure light 26 2 and external light 30A 2, the external light 30A 2, is absorbed or reflected by the light-shielding layer 222, the exposure light 26 2 is transmitted through the light shielding layer 22 2 It reaches the photoconductive layer 24.

このとき、電極１６及び電極１８に電圧印加部４０から電圧が印加されると、照射された露光光２６２の光量に応じて光導電層２４の電気特性分布としての抵抗分布が変化する。この光導電層２４の電気抵抗分布の変化によって、結果として液晶層２０に印加される電圧も露光光２６２の光量に応じて変化し、液晶層２０に含まれる液晶の配向が変化して光学的特性分布が変化する。この変化によって、露光光２６２に応じた画像が液晶層２０に書込まれる。この液晶層２０に書込まれた画像は、読出光３０Ｂ等の外光の液晶層２０による反射光として視認され、表示媒体１０に画像が書込まれ、表示される。したがって、本実施形態では、基板１２側と基板１４側のいずれからでも画像の書き込みが可能となる。 At this time, the voltage from the voltage applying unit 40 to the electrodes 16 and 18 are applied, the resistance distribution as an electrical characteristic distribution of the photoconductive layer 24 changes according to the irradiation light amount of the exposure light 26 2. The change in the electrical resistance distribution of the photoconductive layer 24, the voltage applied to the liquid crystal layer 20 as a result is also changed in accordance with the amount of the exposure light 26 2, optical alignment of the liquid crystal contained in the liquid crystal layer 20 is changed The characteristic distribution changes. This change image corresponding to the exposure light 26 2 is written to the liquid crystal layer 20. The image written in the liquid crystal layer 20 is visually recognized as reflected light of the external light such as the readout light 30B by the liquid crystal layer 20, and the image is written and displayed on the display medium 10. Therefore, in this embodiment, it is possible to write an image from either the substrate 12 side or the substrate 14 side.

＜試験例＞
以上説明した本発明の表示媒体及び書込装置の効果を確認するため、以下の試験を行った。具体的には、図１に示す表示媒体を作成すると共に、本発明の構成を有しない表示媒体と、本発明の構成の表示媒体と、における、画像の書込まれた領域と画像の書込まれていない領域との明暗の差（コントラスト）を調べた。 <Test example>
In order to confirm the effects of the display medium and writing device of the present invention described above, the following tests were performed. Specifically, the display medium shown in FIG. 1 is created, and the area in which the image is written and the image writing in the display medium not having the configuration of the present invention and the display medium having the configuration of the present invention. The difference (contrast) between light and darkness from the unexposed area was examined.

―表示媒体１の作製―
市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルムを基板１４及び電極１８とし、この上に、電荷発生層２４Ｃ、電荷輸送層２４Ｂ、及び電荷発生層２４Ａの３層構造の光導電層２４を形成した。まず、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ｃを形成し、つぎにジアミン系電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂のクロロベンゼン溶液をアプリケータでコートして３μｍ厚の電荷輸送層２４Ｂを形成し、最後に再度、フタロシアニン顔料系電荷発生材料を分散したポリビニルブチラール樹脂のアルコール溶液をスピンコートして０．１μｍ厚の電荷発生層２４Ａを形成して光導電層２４を得た。 -Production of display medium 1-
A commercially available ITO-deposited PET resin film was used as the substrate 14 and the electrode 18, and a photoconductive layer 24 having a three-layer structure including a charge generation layer 24 C, a charge transport layer 24 B, and a charge generation layer 24 A was formed thereon. First, an alcohol solution of polyvinyl butyral resin in which a phthalocyanine pigment-based charge generation material is dispersed is spin-coated to form a 0.1 μm-thick charge generation layer 24C, and then a diamine-based charge transport material and a polycarbonate resin chlorobenzene solution are applied. To form a charge transport layer 24B having a thickness of 3 μm. Finally, an alcohol solution of polyvinyl butyral resin in which a phthalocyanine pigment-based charge generation material is dispersed is spin-coated to form a charge generation layer 24A having a thickness of 0.1 μm. Thus, a photoconductive layer 24 was obtained.

得られた光導電層２４は、図９の線図に示されるように、赤外領域（波長７００〜８５０ｎｍに光感度を有していた。   The obtained photoconductive layer 24 had photosensitivity in the infrared region (wavelength 700 to 850 nm) as shown in the diagram of FIG.

つぎに、完全けん化ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の水溶液をスピンコートして０．２μｍ厚のＰＶＡ膜を光導電層２４上に形成した。このＰＶＡ膜は、つぎに積層する遮光層２２の溶剤によって、電荷発生層２４Ａがダメージを受けないようにするための層である。   Next, an aqueous solution of fully saponified polyvinyl alcohol (PVA) was spin-coated to form a 0.2 μm thick PVA film on the photoconductive layer 24. This PVA film is a layer for preventing the charge generation layer 24A from being damaged by the solvent of the light shielding layer 22 to be laminated next.

つぎに遮光層２２として、プロピレングリコールモノエチルエーテルとシクロヘキサノンの混合溶媒中にアクリル樹脂を溶解した樹脂溶液中に、黒色ペリレン系顔料として、ＢＡＳＦ社製 Pigment Black ３１を３．０重量％分散し、これを１．２μｍ厚にスピンコートした。   Next, as a light shielding layer 22, 3.0% by weight of Pigment Black 31 manufactured by BASF is dispersed as a black perylene pigment in a resin solution in which an acrylic resin is dissolved in a mixed solvent of propylene glycol monoethyl ether and cyclohexanone. This was spin-coated to a thickness of 1.2 μm.

遮光層２２は、図８の線図に示すように、波長４００〜７００ｎｍで光学濃度１．０以上の吸収を示した。   As shown in the diagram of FIG. 8, the light shielding layer 22 exhibited absorption with an optical density of 1.0 or more at a wavelength of 400 to 700 nm.

つぎに市販のＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルムを基板１２および電極１６とし、その上にコレステリック液晶マイクロカプセル塗料を３０μｍ厚に塗布して液晶層２０とした。このＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム上に形成した液晶層２０の４辺に接着剤を塗布して、上記ＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム上に光導電層２４を介して形成した遮光層２２を液晶層２０に接するように向かい合わせて接触させた状態で、ラミネーターを通して貼り合わせることにより、表示媒体１を作製した。試験例１において作製した表示媒体１の露光強度と反射率との関係は、図１０に示す線図によって示された。   Next, a commercially available ITO-deposited PET resin film was used as the substrate 12 and the electrode 16, and a cholesteric liquid crystal microcapsule coating was applied to the thickness of 30 μm thereon to form the liquid crystal layer 20. An adhesive is applied to four sides of the liquid crystal layer 20 formed on the ITO vapor-deposited PET resin film, and the light-shielding layer 22 formed on the ITO vapor-deposited PET resin film via the photoconductive layer 24 is in contact with the liquid crystal layer 20. Thus, the display medium 1 was produced by pasting together through a laminator in the state of being in contact with each other. The relationship between the exposure intensity and the reflectance of the display medium 1 manufactured in Test Example 1 is shown by the diagram shown in FIG.

上記コレステリック液晶マイクロカプセル塗料は以下のようにして得た。まず、ネマチック液晶Ｅ４４（メルク社製）にカイラル剤Ｒ１０１１（メルク社製）とカイラル剤Ｒ８１１（メルク社製）を適量添加して選択反射のピーク波長が５５０ｎｍになるようにコレステリック液晶を調製した。これにポリイソシアネート化合物タケネートＤ−１１０Ｎ（武田薬品工業社製）と酢酸エチルを加えて油相組成物を調製し、これを１％ポリビニルアルコール水溶液中に投入し、撹拌・乳化して１０μｍ径のｏ／ｗ型エマルジョンを調製した。これを６０℃で３時間加熱してポリウレタンを壁材とするマイクロカプセルを得た。マイクロカプセルを遠沈回収後、ポリビニルアルコール水溶液を加えてマイクロカプセル塗料とした。   The cholesteric liquid crystal microcapsule paint was obtained as follows. First, a cholesteric liquid crystal was prepared so that an appropriate amount of a chiral agent R1011 (manufactured by Merck) and a chiral agent R811 (manufactured by Merck) were added to nematic liquid crystal E44 (manufactured by Merck) so that the peak wavelength of selective reflection was 550 nm. Polyisocyanate compound Takenate D-110N (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) and ethyl acetate were added thereto to prepare an oil phase composition, which was put into a 1% polyvinyl alcohol aqueous solution, stirred and emulsified to have a diameter of 10 μm. An o / w emulsion was prepared. This was heated at 60 ° C. for 3 hours to obtain a microcapsule using polyurethane as a wall material. After the microcapsules were collected by centrifugation, an aqueous polyvinyl alcohol solution was added to prepare a microcapsule coating.

―表示媒体２の作製―
上記表示媒体１の作製において、遮光層２２の替りに、透明隔離層２３として、ＰＶＡをスピンコートすることにより形成するとともに、ＩＴＯ蒸着ＰＥＴ樹脂フィルム上に光吸収層２１として、カーボン顔料をＰＶＡバインダに分散したインクをスピンコートすることにより形成した後に光導電層２４を形成した以外は表示媒体１と同じようにして、表示媒体２（図６ 表示媒体１１参照）を作製した。 -Production of display medium 2-
In the production of the display medium 1, instead of the light shielding layer 22, the transparent isolation layer 23 is formed by spin coating PVA, and a carbon pigment is used as the light absorption layer 21 on the ITO vapor-deposited PET resin film. A display medium 2 (see display medium 11 in FIG. 6) was produced in the same manner as the display medium 1 except that the photoconductive layer 24 was formed after the ink dispersed by spin coating was formed.

（試験例１）
上記作製した表示媒体１について、図３及び図４に示す書込装置３２を用いて、基板１２側から基板１４側へ向かって露光光２６の照射を行った。 (Test Example 1)
The produced display medium 1 was irradiated with exposure light 26 from the substrate 12 side toward the substrate 14 side using the writing device 32 shown in FIGS. 3 and 4.

詳細には、電圧印加部４０として、高圧パルス発生装置を用いると共に、パーソナルコンピュータを、制御部３６、メモリ３８、出力部４２、操作部４４、及び通信部に相当する機能を有する装置として用いた。また、書込装置３２の光照射部３４としては、７８０ｎｍの赤外レーザ光を露光光２６として照射する、ミニプロジェクタを用いた。   Specifically, a high-voltage pulse generator is used as the voltage application unit 40, and a personal computer is used as a device having functions corresponding to the control unit 36, the memory 38, the output unit 42, the operation unit 44, and the communication unit. . As the light irradiation unit 34 of the writing device 32, a mini projector that irradiates 780 nm infrared laser light as the exposure light 26 is used.

上記ミニプロジェクタを用いて露光光２６を露光強度２００μＷ／ｃｍ2で表示媒体１に露光するとともに、電極１６と電極１８に周波数１０Ｈｚ、波高値２７０Ｖの対称矩形波パルス電圧を２００ｍｓ印加して可視画像の記録を行った。 The exposure light 26 is exposed to the display medium 1 with an exposure intensity of 200 μW / cm 2 using the mini projector, and a symmetrical rectangular wave pulse voltage with a frequency of 10 Hz and a peak value of 270 V is applied to the electrodes 16 and 18 for 200 ms to make a visible image. Was recorded.

（比較例１）
上記作製した表示媒体２について、試験例１と同じようにして可視画像の記録を行った。 (Comparative Example 1)
With respect to the produced display medium 2, a visible image was recorded in the same manner as in Test Example 1.

−コントラスト評価−
試験例１において可視画像を記録した表示媒体１、及び比較例１において可視画像を記録した表示媒体２各々について、可視画像の形成された領域と、形成されていない領域と、の明暗差（コントラスト）を、アドバンテスト社製オプティカルパワーメータTQ8210を用いて測定したところ、試験例１のコントラストは１０、比較例１では２であり、試験例１における表示媒体１のコントラストが比較例１における表示媒体２のコントラストに比べて大きかった。 -Contrast evaluation-
For each of the display medium 1 on which a visible image is recorded in Test Example 1 and the display medium 2 on which a visible image is recorded in Comparative Example 1, a difference in contrast (contrast) between a region where the visible image is formed and a region where the visible image is not formed ) Was measured using an optical power meter TQ8210 manufactured by Advantest Corporation. The contrast of Test Example 1 was 10, and that of Comparative Example 1 was 2. The contrast of Display Medium 1 in Test Example 1 was Display Medium 2 in Comparative Example 1. Compared to the contrast.

第１の実施の形態の表示媒体の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the display medium of 1st Embodiment. （Ａ）は、昼光色蛍光灯スペクトルの波長と比エネルギーとの関係を示すグラフであり、（Ｂ）は、高演色蛍光灯スペクトルの波長と比エネルギーとの関係を示すグラフである。(A) is a graph showing the relationship between the wavelength of the daylight color fluorescent lamp spectrum and the specific energy, and (B) is a graph showing the relationship between the wavelength of the high color rendering fluorescent lamp spectrum and the specific energy. 第１の実施の形態の表示媒体及び書込装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the display medium and writing device of 1st Embodiment. 第１の実施の形態の表示媒体及び書込装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the display medium and writing device of 1st Embodiment. 第１の実施の形態の書込装置の制御部で実行される処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process performed by the control part of the writing device of 1st Embodiment. 第２の実施の形態の書込装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the writing device of 2nd Embodiment. 第３の実施の形態の表示媒体の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the display medium of 3rd Embodiment. 試験例１において作製した表示媒体の遮光層の透過スペクトルを示す線図である。6 is a diagram showing a transmission spectrum of a light shielding layer of a display medium manufactured in Test Example 1. FIG. 試験例１において作製した表示媒体の光導電層の波長と比エネルギーとの関係を示す線図である。It is a diagram which shows the relationship between the wavelength of the photoconductive layer of the display medium produced in Test Example 1, and specific energy. 試験例において作製した表示媒体の露光強度と反射率との関係を示す模式的な線図である。It is a typical diagram which shows the relationship between the exposure intensity of the display medium produced in the test example, and a reflectance. （Ａ）、（Ｂ）は、従来の表示媒体の構成を示す模式図である。(A), (B) is a schematic diagram which shows the structure of the conventional display medium.

符号の説明Explanation of symbols

１０、１１、１３ 表示媒体
１６、１８ 電極
２０ 液晶層
２２、２２１、２２２ 遮光層
遮光層
２４ 光導電層
２９ 遮光部材
３２、３３ 書込装置
３４ 光照射部
３５Ｂ 可視光光源
３５Ａ 露光光源
３６ 制御部
４０ 電圧印加部
４２ 出力部
４６ 光量検出センサ 10, 11, 13 Display medium 16, 18 Electrode 20 Liquid crystal layer 22, 22 1 , 22 2 Light shielding layer Light shielding layer 24 Photoconductive layer 29 Light shielding member 32, 33 Writing device 34 Light irradiation unit 35B Visible light source 35A Exposure light source 36 Control unit 40 Voltage application unit 42 Output unit 46 Light quantity detection sensor

Claims (14)

一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層と、前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光層と、を少なくとも含むことを特徴とする表示媒体。   An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure A display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed, and a light shielding layer provided upstream of the photoconductive layer in the irradiation direction of the exposure light and transmitting light in the wavelength region of the exposure light. A display medium characterized by that. 一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層と、前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光層と、を少なくとも含むことを特徴とする表示媒体。   An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure A display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed; and at least part of light in a wavelength region excluding the wavelength region of the exposure light, provided upstream of the photoconductive layer in the irradiation direction of the exposure light. A display medium comprising at least a light shielding layer that absorbs or reflects. 一対の前記遮光層を備え、前記光導電層が前記一対の遮光層によって挟まれていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体。   The display medium according to claim 1, further comprising a pair of light shielding layers, wherein the photoconductive layer is sandwiched between the pair of light shielding layers. 一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に画像データに応じた露光光を照射して書込みを行う書込手段と、
前記表示媒体の前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光手段と、
を備えた書込装置。 An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure Voltage applying means for applying a voltage between the pair of electrodes for a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed;
Writing means for performing writing by irradiating the photoconductive layer of the display medium applied with voltage by the voltage applying means with exposure light according to image data;
A light shielding means provided on the upstream side in the irradiation direction of the exposure light from the photoconductive layer of the display medium, and transmitting light in a wavelength region of the exposure light;
A writing device comprising: 一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の光導電層に画像データに応じた露光光を照射して書込みを行う書込手段と、
前記表示媒体の前記光導電層より前記露光光の照射方向上流側に設けられ、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光手段と、
を備えた書込装置。 An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure Voltage applying means for applying a voltage between the pair of electrodes for a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed;
Writing means for performing writing by irradiating the photoconductive layer of the display medium applied with voltage by the voltage applying means with exposure light according to image data;
A light-shielding means that is provided on the upstream side in the irradiation direction of the exposure light from the photoconductive layer of the display medium and absorbs or reflects at least part of light in a wavelength region excluding the wavelength region of the exposure light;
A writing device comprising: 前記書込手段は、可視光領域以外の波長領域の光を前記露光光として前記光導電層へ照射する第１の照射手段と、該第１の照射手段による該光導電層への該露光光の照射領域に可視光領域の波長領域の光を照射する第２の照射手段と、を含むことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の書込装置。   The writing means includes a first irradiation means for irradiating the photoconductive layer with light in a wavelength region other than a visible light region as the exposure light, and the exposure light to the photoconductive layer by the first irradiation means. 6. The writing apparatus according to claim 4, further comprising: a second irradiation unit configured to irradiate the irradiation region with light in a wavelength region of the visible light region. 前記光導電層に照射される光の光量を検出する光量検出手段と、
前記表示層上に形成される画像の明暗の差を示す情報を出力する出力手段と、
前記露光光の前記光導電層への照射を開始または照射を停止するように前記書込手段を制御すると共に、前記露光光の照射を開始するように前記書込手段を制御したときの前記光量検出手段による光量検出結果と、前記露光光の照射を停止するように前記書込手段を制御したときの前記光量検出手段による光量検出結果と、の差に基づいて、前記露光光の照射領域と非照射領域との明暗の差を示す情報を出力するように前記出力手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする請求項４乃至請求項６の何れか１項に記載の書込装置。 A light amount detecting means for detecting a light amount of light applied to the photoconductive layer;
Output means for outputting information indicating a difference in brightness of an image formed on the display layer;
The amount of light when controlling the writing means to start or stop irradiating the photoconductive layer with the exposure light and controlling the writing means to start irradiating the exposure light Based on the difference between the light quantity detection result by the detection means and the light quantity detection result by the light quantity detection means when the writing means is controlled to stop the exposure light irradiation, the exposure light irradiation area and Control means for controlling the output means so as to output information indicating a difference in brightness from a non-irradiated area;
The writing apparatus according to claim 4, further comprising: 一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加工程と、
電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に、前記露光光の波長領域の光は透過する遮光層を介して、画像データに応じた該露光光を照射して書込みを行う書込工程と、
を備えたことを特徴とする書込方法。 An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure A voltage applying step of applying a voltage between the pair of electrodes with respect to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed;
A writing process in which writing is performed by irradiating the photoconductive layer of the display medium to which voltage has been applied with the exposure light according to image data through a light-shielding layer that transmits light in the wavelength region of the exposure light. When,
A writing method comprising: 一対の電極と、前記一対の電極間に設けられ、前記一対の電極に印加された電圧により形成された電場下で予め定められた波長領域の露光光が照射されることにより該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧による前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による画像が表示される表示層とを少なくとも含む表示媒体に対し、前記一対の電極間に電圧を印加する電圧印加工程と、
前記電圧印加手段により電圧を印加された前記表示媒体の前記光導電層に、前記露光光の波長領域を除いた波長領域の光の少なくとも一部を吸収または反射する遮光層を介して、画像データに応じた該露光光を照射して書込みを行う書込工程と、
を備えたことを特徴とする書込方法。 An intensity of the exposure light by being irradiated with exposure light in a predetermined wavelength region under an electric field provided between the pair of electrodes and the pair of electrodes and formed by a voltage applied to the pair of electrodes. A photoconductive layer exhibiting an electrical property distribution according to the distribution and a partial pressure distributed according to the electrical property distribution of the photoconductive layer due to a voltage applied to the pair of electrodes are applied, and according to the partial pressure A voltage applying step of applying a voltage between the pair of electrodes with respect to a display medium including at least a display layer on which an image based on an optical characteristic distribution is displayed;
The image data is applied to the photoconductive layer of the display medium to which a voltage is applied by the voltage applying unit, through a light shielding layer that absorbs or reflects at least part of light in a wavelength region excluding the wavelength region of the exposure light. A writing step of performing writing by irradiating the exposure light according to
A writing method comprising: 前記書込工程では、可視光領域以外の波長領域の光を前記露光光として前記光導電層へ照射すると共に、前記光導電層への前記露光光の照射領域に可視光領域の波長領域の光を照射することを特徴とする請求項８または請求項９に記載の書込方法。   In the writing step, light in a wavelength region other than the visible light region is irradiated to the photoconductive layer as the exposure light, and light in a wavelength region of the visible light region is irradiated on the exposure light irradiation region to the photoconductive layer. The writing method according to claim 8, wherein the writing method is performed. 前記遮光層は、可視光領域以外の波長領域の光のみを透過することを特徴とする請求項１０に記載の書込方法。   The writing method according to claim 10, wherein the light shielding layer transmits only light in a wavelength region other than a visible light region. 前記遮光層は、可視光領域の光の少なくとも一部を吸収または反射することを特徴とする請求項１０に記載の書込方法。   The writing method according to claim 10, wherein the light shielding layer absorbs or reflects at least part of light in a visible light region. 前記遮光層は、黒色ペリレン系顔料を含んで構成されることを特徴とする請求項１０乃至請求項１２の何れか１項に記載の書込方法。   The writing method according to claim 10, wherein the light shielding layer includes a black perylene pigment. 前記光導電層が、フタロシアニン系化合物を含んで構成されることを特徴とする請求項１０乃至請求項１３の何れか１項に記載の書込方法。   14. The writing method according to claim 10, wherein the photoconductive layer includes a phthalocyanine compound.
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