JP2007521609A - Tension mask frame for cathode ray tube (CRT) with transverse scanning - Google Patents

Tension mask frame for cathode ray tube (CRT) with transverse scanning Download PDF

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Abstract

高アスペクト比陰極線管（ＣＲＴ）は、発光スクリーン（２８）、横断走査用に構成されるアパーチャマスク（３０）、電子銃（３２）、及び磁気偏向ヨーク（３４）を含む。電子銃及び磁気偏向ヨークは、銃内で生成された電子ビームが、陰極線管の短軸に平行に発光スクリーン全体に矩形ラスタを走査（横断走査）するよう位置付けられ、それにより磁気偏向ヨークに対する電流要件が改善される。The high aspect ratio cathode ray tube (CRT) includes a light emitting screen (28), an aperture mask (30) configured for transverse scanning, an electron gun (32), and a magnetic deflection yoke (34). The electron gun and the magnetic deflection yoke are positioned so that the electron beam generated in the gun scans a rectangular raster (transverse scan) across the light emitting screen parallel to the minor axis of the cathode ray tube, thereby providing a current to the magnetic deflection yoke Requirements are improved.

Description

発明の詳細な説明Detailed Description of the Invention

［発明の分野］
本発明は一般的に陰極線管（ＣＲＴ）に関わり、より具体的には、横断走査を有するテンションマスクに係る。
［発明の背景］
カラー陰極線管は、陰極線管のスクリーンに向かって３つの電子ビームを発生し方向付ける電子銃を含む。外部の磁気偏向ヨークによって３つの電子ビームに磁場がかけられ、それにより、電子ビームが、スクリーン全体に亘って矩形のラスタで水平方向及び垂直方向に走査する。スクリーンは、陰極線管のフェースプレートの内面上に位置付けられ、３つの異なる色を放射する蛍光体の素子のアレイを含む。 [Field of the Invention]
The present invention relates generally to cathode ray tubes (CRTs), and more specifically to tension masks having transverse scanning.
[Background of the invention]
The color cathode ray tube includes an electron gun that generates and directs three electron beams toward the screen of the cathode ray tube. A magnetic field is applied to the three electron beams by an external magnetic deflection yoke, which causes the electron beams to scan horizontally and vertically with a rectangular raster across the screen. The screen is positioned on the inner surface of the faceplate of the cathode ray tube and includes an array of phosphor elements that emit three different colors.

アパーチャマスクが、電子銃とスクリーンとの間に配置されて、各電子ビームがそのビームに関連付けられる蛍光体素子のみに衝突することを可能にする。アパーチャマスクは、陰極線管のフェースプレートの内面と平行な、スチール又はニッケル−鉄合金（アンバー（ＩＮＶＡＲ）（商標））といった金属の薄板である。アパーチャマスクは、整形されるか又は張力がかけられる。   An aperture mask is placed between the electron gun and the screen to allow each electron beam to strike only the phosphor elements associated with that beam. The aperture mask is a thin metal plate such as steel or a nickel-iron alloy (INVAR ™) parallel to the inner surface of the face plate of the cathode ray tube. The aperture mask is shaped or tensioned.

一部の陰極線管（ＣＲＴ）は、ビューイングスクリーンに対し高いアスペクト比（例えば、１６：９のアスペクト比）を含む。ビューイングスクリーンに対するこのように高いアスペクト比は、磁気偏向ヨークが、陰極線管のスクリーン全体に矩形ラスタで水平方向及び垂直方向に走査するために高い偏向角度を使用することを必要とする。スクリーン全体に矩形ラスタで水平方向及び垂直方向に走査するための高い偏向角度は、偏向ヨークの電流要件を増加する。偏向ヨークの高い電流要件は、そのような偏向ヨーク、及びシャーシ電子機器の複雑さ及び費用、並びに、陰極線管を動作するために必要な電力消費量を望ましくなく増加してしまう。   Some cathode ray tubes (CRTs) include a high aspect ratio (eg 16: 9 aspect ratio) to the viewing screen. Such a high aspect ratio for the viewing screen requires that the magnetic deflection yoke use a high deflection angle to scan the entire cathode ray tube screen in a horizontal and vertical direction with a rectangular raster. High deflection angles for horizontal and vertical scanning across the screen with a rectangular raster increase the current requirements of the deflection yoke. The high current requirements of deflection yokes undesirably increase the complexity and cost of such deflection yokes and chassis electronics, as well as the power consumption required to operate the cathode ray tube.

従って、磁気偏向ヨークに対し改善された電流要件を有する、ビューイングスクリーンに対し高いアスペクト比を含む陰極線管が必要である。
［発明の概要］
本発明は、発光スクリーン、横断走査用に構成されるアパーチャマスク、電子銃、及び磁気偏向ヨークを含む高アスペクト比陰極線管（ＣＲＴ）に係る。電子銃及び磁気偏向ヨークは、銃内で生成された電子ビームが、陰極線管の短軸に平行に発光スクリーン全体に矩形ラスタを走査（横断走査）するよう位置付けられ、それにより磁気偏向ヨークの電流要件が改善される。 Therefore, there is a need for a cathode ray tube that has a high aspect ratio for the viewing screen, with improved current requirements for the magnetic deflection yoke.
[Summary of Invention]
The present invention relates to a high aspect ratio cathode ray tube (CRT) including a light emitting screen, an aperture mask configured for transverse scanning, an electron gun, and a magnetic deflection yoke. The electron gun and the magnetic deflection yoke are positioned so that the electron beam generated in the gun scans a rectangular raster across the light emitting screen parallel to the minor axis of the cathode ray tube (transverse scanning), so that the current of the magnetic deflection yoke Requirements are improved.

横断走査用に構成されるアパーチャマスクは、電子銃とスクリーンとの間に配置され、それにより、各電子ビームがそのビームに関連付けられる蛍光体素子のみに当たることを可能にする。アパーチャマスクは、中心部及び縁部を有する張力がかけられたテンションマスクである。中心部は、中心周波数分布を有し、縁部は、周辺周波数分布を有する。中心周波数分布は、周辺周波数分布より大きい。縁部から中心部への周波数分布は、放物線式によって表される。ここでは、中心部における周波数分布のピーク値と縁部における周波数分布の最小値との間の変化範囲Δは、約８Ｈｚ＜Δ＜１２Ｈｚの閉区間内にある。
［詳細な説明］
本発明の教示内容は、添付図面と共に以下の詳細な説明を考慮することにより容易に理解できるであろう。 An aperture mask configured for transverse scanning is placed between the electron gun and the screen, thereby allowing each electron beam to hit only the phosphor elements associated with that beam. An aperture mask is a tensioned tension mask having a center and an edge. The center has a center frequency distribution and the edge has a peripheral frequency distribution. The center frequency distribution is larger than the peripheral frequency distribution. The frequency distribution from the edge to the center is represented by a parabolic equation. Here, the change range Δ between the peak value of the frequency distribution at the center and the minimum value of the frequency distribution at the edge is within a closed section of about 8 Hz < Δ < 12 Hz.
[Detailed description]
The teachings of the present invention can be readily understood by considering the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings, in which:

理解を容易にするために、図面に共通する同一の素子を示す為に可能な場合には同一の参照番号を使用した。   To facilitate understanding, identical reference numerals have been used, where possible, to designate identical elements that are common to the drawings.

図１は、矩形のフェースプレートパネル１４と、矩形ファンネル１８によって接続される管状ネック１６を含むガラス外囲器１２を有する陰極線管１０を示す。ファンネル１８は、アノードボタン２０からネック１６に延在する内部導電性コーティング（図示せず）を有する。パネル１４は、ビューイングフェースプレート２２と、ガラスフリット２６によってファンネル１８に密閉される周囲フランジ即ち側壁２４を含む。３色蛍光体スクリーン２８は、フェースプレート２２の内面上に形成される。スクリーン２８は、３つ一組に配置された蛍光体ラインを有するラインスクリーンであり、各組は、３色のそれぞれの蛍光体ラインを含む。横断走査用に構成されるテンションマスク−フレーム組立体３０は、スクリーン２８に対して所定の空間関係で着脱可能に取り付けられる。電子銃３２（図１では破線で概略的に示す）は、３つのインライン電子ビーム、即ち、中心ビーム及び２つのサイドビームを、スクリーン２８までのマスク３０を通る集束路に沿って生成するようネック１６内に中心に取り付けられる。   FIG. 1 shows a cathode ray tube 10 having a rectangular envelope 12 including a rectangular faceplate panel 14 and a tubular neck 16 connected by a rectangular funnel 18. Funnel 18 has an internal conductive coating (not shown) extending from anode button 20 to neck 16. The panel 14 includes a viewing face plate 22 and a peripheral flange or side wall 24 that is sealed to the funnel 18 by a glass frit 26. The three-color phosphor screen 28 is formed on the inner surface of the face plate 22. The screen 28 is a line screen having phosphor lines arranged in groups of three, and each group includes phosphor lines of three colors. A tension mask-frame assembly 30 configured for transverse scanning is detachably attached to the screen 28 in a predetermined spatial relationship. The electron gun 32 (shown schematically in FIG. 1 with dashed lines) is necked to generate three in-line electron beams, a center beam and two side beams, along a focusing path through the mask 30 to the screen 28. 16 is mounted in the center.

陰極線管１０は、ファンネルからネックへの接合部の付近に示すヨーク３４といった外部の磁気偏向ヨークと共に使用されるよう設計される。作動されると、ヨーク３４は、３つのビームに磁場をかけ、それにより、ビームが、陰極線管（ＣＲＴ）１０の電流要件を改善するための横断走査と共に、スクリーン２８全体を矩形ラスタで垂直方向及び水平方向に走査する。   The cathode ray tube 10 is designed to be used with an external magnetic deflection yoke such as the yoke 34 shown near the funnel-to-neck junction. When actuated, the yoke 34 applies a magnetic field to the three beams so that the beam is vertically oriented with a rectangular raster across the screen 28, along with a transverse scan to improve the cathode ray tube (CRT) 10 current requirements. And scan horizontally.

図２により詳細に示す横断走査用に構成されるテンションマスク−フレーム組立体３０は、２つの長辺３６、３８及び２つの短辺４０、４２を含む周囲フレーム３９と相互接続される。テンションマスク−フレーム組立体３０の２つの長辺３６、３８は、陰極線管の中心長軸Ｘと平行である。テンションマスクは、複数の金属ストリップを含むアパーチャ部分を含み、複数の金属ストリップは、テンションマスク−フレーム組立体３０の短軸に平行な複数の細長いスリット４６をその間に有する。或いは、細長いスリット４６は、テンションマスク−フレーム組立体３０の長軸に平行であってもよい。   A tension mask-frame assembly 30 configured for transverse scanning, shown in greater detail in FIG. 2, is interconnected with a peripheral frame 39 that includes two long sides 36, 38 and two short sides 40, 42. The two long sides 36 and 38 of the tension mask-frame assembly 30 are parallel to the central long axis X of the cathode ray tube. The tension mask includes an aperture portion that includes a plurality of metal strips that have a plurality of elongated slits 46 therebetween that are parallel to the minor axis of the tension mask-frame assembly 30. Alternatively, the elongated slit 46 may be parallel to the long axis of the tension mask-frame assembly 30.

具体的には、図２に示すテンションマスク−フレーム組立体３０のアパーチャ部分は、タイバー又はウェブ状にされたシステムである。テンションマスク３０は、フレーム短辺４０、４２の縁から約０．５インチ（１インチ＝２．５４センチメートル）であるマスク縁部５２と、フレーム長辺３６、３８の縁から約１．０インチのマスク縁部５１とを有する中心部５０を有する。２つのマスク縁部５２は、陰極線管１０の中心短軸Ｙと平行である。２つのマスク縁部５１は、陰極線管１０の中心長軸Ｘと平行である。２つのマスク縁部５２は、２つの辺４０、４２に沿って周囲フレーム３９に取り付けられる。   Specifically, the aperture portion of the tension mask-frame assembly 30 shown in FIG. 2 is a tie bar or web shaped system. The tension mask 30 has a mask edge 52 that is about 0.5 inches (1 inch = 2.54 centimeters) from the edges of the frame short sides 40, 42, and about 1.0 from the edges of the frame long sides 36, 38. It has a central portion 50 with an inch mask edge 51. The two mask edges 52 are parallel to the central short axis Y of the cathode ray tube 10. The two mask edges 51 are parallel to the central long axis X of the cathode ray tube 10. Two mask edges 52 are attached to the peripheral frame 39 along the two sides 40, 42.

テンションマスク３０の任意の完全な垂直（中心短軸Ｙ）寸法に亘っての固有周波数分布は、サイズに関係なく、任意の陰極線管をその他の陰極線管と比較する有用な方法を与える。実際に、各張力分布とテンションマスク３０の水平方向の寸法の関数である固有周波数分布は、陰極線管のマイクロホニック挙動を左右する普遍的な測定基準である。   The natural frequency distribution over any complete vertical (center minor axis Y) dimension of the tension mask 30 provides a useful way to compare any cathode ray tube with other cathode ray tubes, regardless of size. In practice, the natural frequency distribution, which is a function of each tension distribution and the horizontal dimension of the tension mask 30, is a universal metric that affects the microphonic behavior of the cathode ray tube.

中心短軸Ｙに亘る横断走査用の固有周波数分布は、実質的に滑らかで連続的である実質的に放物線状の関数である。固有周波数分布は、中心部５０に対する中心周波数分布と、縁部５１に対する周辺周波数分布を含み、中心周波数分布の値は、周辺周波数分布の値より推定的に大きい。中心周波数分布の最大値と周辺周波数分布の最小値との間の差は、約１０Ｈｚであることが好適である。   The natural frequency distribution for transverse scanning over the central minor axis Y is a substantially parabolic function that is substantially smooth and continuous. The natural frequency distribution includes a center frequency distribution with respect to the center portion 50 and a peripheral frequency distribution with respect to the edge portion 51. The value of the center frequency distribution is estimatedly larger than the value of the peripheral frequency distribution. The difference between the maximum value of the center frequency distribution and the minimum value of the peripheral frequency distribution is preferably about 10 Hz.

中心部５０に、マスク縁部５１より大きい張力がかけられるとき、この状態は、「フラウン（ｆｒｏｗｎ：顔をしかめる）」マスクと呼ばれる。「フラウン」マスクは、マスク３０の縁部５１が主に関連する基本の振動モードを有する。境界減衰システム（ＢＤＳ）、即ち、振動ダンパは、マスク３０の縁部５１における振動によってＢＤＳがトリガされるので振動エネルギーを効果的に減衰可能である。   When the center 50 is subjected to a greater tension than the mask edge 51, this condition is referred to as a "frown" mask. The “Fraun” mask has a fundamental vibration mode in which the edge 51 of the mask 30 is mainly associated. A boundary damping system (BDS), i.e. a vibration damper, can effectively damp vibration energy because the BDS is triggered by vibration at the edge 51 of the mask 30.

中心部５０に、マスク縁部５１より小さい張力がかけられるとき、この状態は、「スマイル（ｓｍｉｌｅ：笑顔）」マスクと呼ばれる。従って、中心周波数分布の値は、周辺周波数分布の値より小さい。「スマイル」状態については、振動の減衰は弱い傾向があり、何故なら、振動するマスク３０は中心部５０の動作によって支配される基本モードを有し、また、ＢＤＳをトリガしないからである。   When the center 50 is under tension less than the mask edge 51, this condition is referred to as a “smile” mask. Therefore, the value of the center frequency distribution is smaller than the value of the peripheral frequency distribution. For the “smile” state, vibration damping tends to be weak because the oscillating mask 30 has a fundamental mode governed by the motion of the center 50 and does not trigger the BDS.

固有周波数分布が均等である又は平坦である場合、中心周波数分布及び周辺周波数分布の値は、実質的に同様である。しかし、この例は実施するのが困難である。更に、テンションマスク３０の製造時又は陰極線管動作時に引き起こされる張力分布における僅かな変化によって、望ましくない「スマイル」を生成してしまいうる。   When the natural frequency distribution is uniform or flat, the values of the center frequency distribution and the peripheral frequency distribution are substantially the same. However, this example is difficult to implement. In addition, slight changes in the tension distribution caused during manufacture of the tension mask 30 or during cathode ray tube operation can produce undesirable “smiles”.

図３は、様々な張力分布についてのモデル形状を示すグラフ３００である。グラフ３００は、垂直移動量（軸３０２）と短軸位置（軸３０４）によって定義される。具体的には、グラフ３００は、平らの、「スマイル」の、又は「フラウン」の張力について、テンションマスク３０のどの部分が振動によって励起されているのかを示す。「スマイル」を有するテンションマスク３０（曲線３０６）は、「フラウン」を有するテンションマスク３０（曲線３０８）よりも中心部５０において相当に多くの振動を示す。更に、「フラウン」を有するテンションマスク３０よりも、均等な張力分布を有するテンションマスク３０（曲線３１０）の中心部５０においてより多くの振動がある。   FIG. 3 is a graph 300 showing model shapes for various tension distributions. The graph 300 is defined by a vertical movement amount (axis 302) and a short axis position (axis 304). Specifically, the graph 300 shows which portion of the tension mask 30 is excited by vibration for flat, “smile”, or “Fraun” tension. The tension mask 30 (curve 306) having “smile” exhibits considerably more vibration in the central portion 50 than the tension mask 30 having “fraun” (curve 308). Furthermore, there is more vibration at the central portion 50 of the tension mask 30 (curve 310) with a uniform tension distribution than the tension mask 30 with "Fraun".

「フラウン」を有するテンションマスク３０は、「スマイル」又は平らの分布を有するテンションマスク３０よりより広く間隔があけられる共鳴周波数を有する。従って、振動があるとき、第１の外乱モードからのエネルギーは、第２のモードに動力を与えず、それにより、振動効果を長引かせない。   A tension mask 30 having a “flaun” has resonance frequencies that are more widely spaced than a tension mask 30 having a “smile” or flat distribution. Therefore, when there is vibration, the energy from the first disturbance mode does not power the second mode, thereby prolonging the vibration effect.

約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの範囲内の周波数において放物線状「フラウン」を生成するよう本発明によって横断走査の為に構成される張力分布は、

Figure 2007521609
と表しうる。ここで、ｆ（ｙ）は、ｙ（短軸Ｙ）に亘っての周波数分布を表し、Ｌは、短軸に沿ってのテンションマスク３０の全長の半分を表し、ｙは、−Ｌから＋Ｌまでの短軸位置を表す。Ｌの絶対値は、１に正規化される。好適な実施例は、以下の規定を有する。 The tension distribution configured for transverse scanning according to the present invention to produce a parabolic “Fraun” at a frequency in the range of about 80 Hz to about 90 Hz is:
Figure 2007521609
 It can be expressed as Here, f (y) represents a frequency distribution over y (short axis Y), L represents half of the total length of the tension mask 30 along the short axis, and y ranges from −L to + L. Represents the short axis position up to The absolute value of L is normalized to 1. The preferred embodiment has the following provisions:

Figure 2007521609
ｆ（ｙｍａｘ）及びｆ（Ｙｍｉｎ）は、中心部５０における周波数分布のピーク値と、縁部５２における周波数分布の最小値をそれぞれ表す。少なくとも８Ｈｚの差が、中心部５０と縁部５２における周波数分布間に維持されることが好適である。
Figure 2007521609
 f (y max ) and f (Y min ) respectively represent the peak value of the frequency distribution at the central portion 50 and the minimum value of the frequency distribution at the edge portion 52. It is preferred that a difference of at least 8 Hz is maintained between the frequency distributions at the center 50 and the edge 52.

マスク周波数振動が、走査周波数において或いは走査周波数の付近で、又は、高調波において又は高調波付近で発生すると、ビーティング効果がもたらされ、低振幅変調が知覚可能となる。図４は、良好なマイクロホニック性能を有するテンションマスクを構成する際の一部のガイドを提供する。図４に示す棒グラフ４００は、走査周波数によって制限されるマスク張力範囲（軸４０２）を示す。具体的には、様々な棒は、約２０Ｈｚのクッションを有する特定の走査周波数を占有する。過剰な振動（棒４０４）は、０Ｈｚ乃至約４０Ｈｚの周波数範囲において発生する。５０Ｈｚの欧州テレビジョン放送フォーマット１Ｈフェーズ・オルタネート・ライン（ＰＡＬ）（棒４０６）は、約４０Ｈｚ乃至約６０Ｈｚの周波数範囲を除外する。６０Ｈｚのアメリカテレビジョン放送形式１Ｈ（ＮＴＳＣ）（棒４０８）は、約５０Ｈｚ乃至約７０Ｈｚの周波数範囲を除外する。１００Ｈｚ欧州放送形式２Ｈ ＰＡＬ（棒４１０）は、約９０Ｈｚ乃至約１１０Ｈｚの周波数範囲を除外する。１２０Ｈｚアメリカ放送形式２Ｈ ＮＴＳＣ（棒４１２）は、約１１０Ｈｚ乃至約１３０Ｈｚの周波数範囲を除外する。約１３０Ｈｚ乃至約２００Ｈｚの周波数範囲を活用するためには、過度のフレーム重量が必要となる。何故なら、このようなフレームのみが、これらの高い周波数に到達するようマスクに十分に張力がかけられるからである。グラフ４００は、マスク周波数が規格走査周波数及びその高調波から適切に分離される７０Ｈｚ乃至９０Ｈｚの狭い２０Ｈｚ窓（空間４１６）があることを示す。   When mask frequency oscillations occur at or near the scan frequency, or at or near the harmonic, a beating effect is produced and low amplitude modulation is perceptible. FIG. 4 provides some guides in constructing tension masks with good microphonic performance. The bar graph 400 shown in FIG. 4 shows the mask tension range (axis 402) limited by the scanning frequency. Specifically, the various bars occupy a specific scan frequency with a cushion of about 20 Hz. Excessive vibration (bar 404) occurs in the frequency range from 0 Hz to about 40 Hz. The 50 Hz European television broadcast format 1H phase alternate line (PAL) (bar 406) excludes a frequency range of about 40 Hz to about 60 Hz. The 60 Hz American television broadcast format 1H (NTSC) (bar 408) excludes a frequency range of about 50 Hz to about 70 Hz. The 100 Hz European broadcast format 2H PAL (bar 410) excludes a frequency range of about 90 Hz to about 110 Hz. The 120 Hz American broadcast format 2H NTSC (bar 412) excludes a frequency range of about 110 Hz to about 130 Hz. To take advantage of the frequency range of about 130 Hz to about 200 Hz, excessive frame weight is required. This is because only such frames are sufficiently tensioned to reach these high frequencies. Graph 400 shows that there is a narrow 20 Hz window (space 416) between 70 Hz and 90 Hz where the mask frequency is adequately separated from the standard scan frequency and its harmonics.

更に、振動振幅は、マスク張力と反比例するので、マスク張力全体が可能な限り高くされることが望ましい。式４において規定した１０Ｈｚの縁から中心への差は、必要な「フラウン」張力分布を維持しながら振動を最小限にする望ましい解決策を提供する。   Furthermore, since the vibration amplitude is inversely proportional to the mask tension, it is desirable that the overall mask tension be as high as possible. The 10 Hz edge-to-center difference defined in Equation 4 provides a desirable solution to minimize vibration while maintaining the required “Fraun” tension distribution.

図５は、幾つかの高いアスペクト比（１６：９）を有する陰極線管についてのフレーム設計パラメータをまとめたものである。具体的には、幾つかの異なるサイズの陰極線管について水平走査と比較した、横断走査についての２つの周波数（例えば、８０Ｈｚ及び９０Ｈｚ）の関数としてのマスク応力（ｐｓｉ）とフレーム負荷（ｌｂｆ）が与えられる。マスクは、例えば、約０．００４インチの厚さを有するニッケル−鉄合金（例えば、アンバー（ＩＮＶＡＲ）（商標））から製造されうる。様々なサイズの陰極線管に対してテンションマスク３０にかかる応力を変更することによって、マスクの所望のマイクロホニックスが得られる。本発明は、全ての現行の陰極線管サイズ（例えば、特に、Ｗ７６、Ｗ８６、及びＷ９７）について実質的に実現可能である。より具体的には、様々なサイズの陰極線管において階層的な関係がある。つまり、より小さい陰極線管は、横断走査及び水平走査の両方について、より大きい陰極線管よりも小さいマスク応力負荷で所望の周波数分布を実現可能である。例えば、Ｗ７６ ３０インチシネマスクリーン管は、約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの周波数においてＷ８６ ３４インチシネマスクリーン管より小さいマスク応力及びフレーム負荷を経験する。同様に、Ｗ８６ ３４インチシネマスクリーン管は、約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの周波数においてＷ９７ ３８インチシネマスクリーン管より小さいマスク応力及びフレーム負荷を経験する。   FIG. 5 summarizes the frame design parameters for several high aspect ratio (16: 9) cathode ray tubes. Specifically, the mask stress (psi) and frame load (lbf) as a function of two frequencies (eg, 80 Hz and 90 Hz) for a transverse scan compared to a horizontal scan for several different sized cathode ray tubes. Given. The mask can be made, for example, from a nickel-iron alloy (eg, INVAR ™) having a thickness of about 0.004 inches. By changing the stress on the tension mask 30 for various sized cathode ray tubes, the desired microphonics of the mask can be obtained. The present invention is substantially feasible for all current cathode ray tube sizes (e.g., in particular W76, W86, and W97). More specifically, there is a hierarchical relationship among various sizes of cathode ray tubes. That is, a smaller cathode ray tube can achieve the desired frequency distribution with a smaller mask stress load than a larger cathode ray tube for both transverse and horizontal scanning. For example, a W76 30 inch cinema screen tube experiences less mask stress and frame loading than a W86 34 inch cinema screen tube at a frequency of about 80 Hz to about 90 Hz. Similarly, W86 34 inch cinema screen tubes experience less mask stress and frame loading than W97 38 inch cinema screen tubes at frequencies of about 80 Hz to about 90 Hz.

更に、様々な陰極線管サイズにおいて階層的な関係がある。横断走査を使用する陰極線管は、所望の周波数分布を実現するために、水平走査を使用する陰極線管より大きいマスク応力負荷を必要とすることが可能である。例えば、横断走査を使用するＷ７６ ３０インチシネマスクリーン管は、約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの周波数において水平走査を使用するＷ７６ ３０インチシネマスクリーン管より大きいマスク応力及びフレーム負荷を経験する。横断走査を使用するＷ８６ ３４インチシネマスクリーン管は、約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの周波数において水平走査を使用するＷ８６ ３４インチシネマスクリーン管より大きいマスク応力及びフレーム負荷を経験する。同様に、横断走査を使用するＷ９７ ３８インチシネマスクリーン管は、約８０Ｈｚ乃至約９０Ｈｚの周波数において水平走査を使用するＷ９７ ３８インチシネマスクリーン管より大きいマスク応力及びフレーム負荷を経験する。   Furthermore, there is a hierarchical relationship in various cathode ray tube sizes. A cathode ray tube using transverse scanning can require a greater mask stress load than a cathode ray tube using horizontal scanning to achieve the desired frequency distribution. For example, a W76 30 inch cinema screen tube using transverse scanning experiences mask stress and frame loading greater than a W76 30 inch cinema screen tube using horizontal scanning at a frequency of about 80 Hz to about 90 Hz. A W86 34 inch cinema screen tube using transverse scan will experience greater mask stress and frame loading than a W86 34 inch cinema screen tube using horizontal scan at a frequency of about 80 Hz to about 90 Hz. Similarly, a W97 38 inch cinema screen tube using transverse scanning experiences mask stress and frame loading greater than a W97 38 inch cinema screen tube using horizontal scanning at a frequency of about 80 Hz to about 90 Hz.

本発明の教示内容を組み込んだ実施例を図示し且つ詳細に説明したので、当業者は、本発明の精神から逸脱することなくこれらの教示内容を依然として組み込んだ多くの他の変更された実施例を容易に想到可能であろう。
［関連出願への相互参照］
本願は、２００１年３月１日に出願した「Ａ ＴＥＮＳＩＯＮ ＭＡＳＫ ＦＯＲ Ａ ＣＡＴＨＯＤＥ−ＲＡＹ ＴＵＢＥ ＷＩＴＨ ＩＭＰＲＯＶＥＤ ＶＩＢＲＡＴＩＯＮ ＤＡＭＰＩＮＧ」なる名称の同時係属中の米国特許出願番号０９／７９７，２２９の一部係属出願である。上述の出願は、本願に参考として組み込む。 Having illustrated and described in detail embodiments incorporating the teachings of the present invention, those skilled in the art will recognize many other modified embodiments that still incorporate these teachings without departing from the spirit of the present invention. Would be easily conceivable.
[Cross-reference to related applications]
This application is a partially pending application of co-pending US Patent Application No. 09 / 797,229, filed March 1, 2001, entitled “A TENSION MASK FOR A CATHODE-RAY TUBE WITH IMPROVED VIBRATION DAMPING”. . The above application is incorporated herein by reference.

本発明のテンションマスク−マスク組立体を含むカラー陰極線管を示す部分的に断面にされた側面図である。1 is a partially sectioned side view showing a color cathode ray tube including a tension mask-mask assembly of the present invention. FIG. 本発明の１つの面による図１のテンションマスク−フレーム組立体を示す平面図である。2 is a top view of the tension mask-frame assembly of FIG. 1 according to one aspect of the invention. FIG. 様々なマスク張力分布についてのモデル形状を示すグラフである。It is a graph which shows the model shape about various mask tension distribution. 走査周波数により制限されるマスク張力範囲を示す棒グラフである。It is a bar graph which shows the mask tension range restrict | limited by a scanning frequency. 水平走査に比較して横断走査を使用する高いアスペクト比（１６：９）を有する幾つかの陰極線管（ＣＲＴ）についてのマスクフレーム設計パラメータをまとめたものである。FIG. 6 summarizes mask frame design parameters for several cathode ray tubes (CRTs) with high aspect ratio (16: 9) using transverse scans compared to horizontal scans.

Claims (14)

フェースプレートパネル及び管状ネックによって画成されるガラス外囲器と、前記フェースプレートパネルの内面上に形成される３色蛍光体スクリーンと、前記管状ネック内に位置付けられ前記蛍光体スクリーンの方を向く電子銃とを有する陰極線管（ＣＲＴ）であって、
周囲フレームに取り付けられる横断走査用に構成されたテンションマスクを含み、
前記テンションマスクは、中心部と、前記テンションマスクの両端に近接する縁部とを有し、
前記縁部は、周辺周波数分布を有し、
前記中心部は、中心周波数分布を有し、
前記中心周波数分布は、前記マスクの振動減衰を向上するよう前記周辺周波数分布より大きい陰極線管（ＣＲＴ）。 A glass envelope defined by a faceplate panel and a tubular neck, a three-color phosphor screen formed on the inner surface of the faceplate panel, and positioned within the tubular neck and facing the phosphor screen A cathode ray tube (CRT) having an electron gun,
Including a tension mask configured for transverse scanning attached to a surrounding frame;
The tension mask has a center portion and edges close to both ends of the tension mask;
The edge has a peripheral frequency distribution;
The central portion has a central frequency distribution;
The center frequency distribution is a cathode ray tube (CRT) larger than the peripheral frequency distribution to improve vibration attenuation of the mask. 前記縁部から前記中心部への前記周波数分布は、放物線式によって表され、
前記中心部における前記周波数分布と、前記縁部における前記周波数分布との変化範囲は、少なくとも８Ｈｚである請求項１記載の陰極線管（ＣＲＴ）。 The frequency distribution from the edge to the center is represented by a parabolic equation,
The cathode ray tube (CRT) according to claim 1, wherein a range of change between the frequency distribution in the central portion and the frequency distribution in the edge portion is at least 8 Hz. 前記中心周波数分布は、約９２Ｈｚ乃至約８８Ｈｚの範囲にあり、前記周辺周波数分布は、約７６Ｈｚ乃至約８４Ｈｚの範囲にある請求項２記載の陰極線管（ＣＲＴ）。   The cathode ray tube (CRT) according to claim 2, wherein the center frequency distribution is in the range of about 92 Hz to about 88 Hz, and the peripheral frequency distribution is in the range of about 76 Hz to about 84 Hz. 前記変化範囲は、１２Ｈｚ以下である請求項２記載の陰極線管（ＣＲＴ）。   The cathode ray tube (CRT) according to claim 2, wherein the change range is 12 Hz or less. 前記変化範囲は、約１０Ｈｚである請求項４記載の陰極線管（ＣＲＴ）。   The cathode ray tube (CRT) according to claim 4, wherein the range of change is about 10 Hz. 陰極線管（ＣＲＴ）用のテンションマスクであって、
周囲フレームと、
前記周囲フレームに取り付けられる横断走査用に構成され、また、中心部と、前記テンションマスクの両端に近接する縁部とを有するテンションマスクと、
を含み、
前記中心部は、中心周波数分布を有し、
前記縁部は、周辺周波数分布を有し、
前記中心周波数分布は、前記周辺周波数分布より大きく、
前記縁部から前記中心部への前記周波数分布は、放物線式によって表され、
前記中心部における前記周波数分布のピーク値と、前記縁部における前記周波数分布の最小値との間の変化範囲Δは、約８Ｈｚ＜Δ＜１２Ｈｚの閉区間にあるテンションマスク。 A tension mask for a cathode ray tube (CRT),
The surrounding frame,
A tension mask configured for transverse scanning attached to the surrounding frame and having a central portion and edges adjacent to both ends of the tension mask;
Including
The central portion has a central frequency distribution;
The edge has a peripheral frequency distribution;
The center frequency distribution is larger than the peripheral frequency distribution,
The frequency distribution from the edge to the center is represented by a parabolic equation,
A tension mask in which a change range Δ between a peak value of the frequency distribution in the central portion and a minimum value of the frequency distribution in the edge portion is in a closed section of about 8 Hz < Δ < 12 Hz. 前記中心周波数分布は、約９２Ｈｚ乃至約８８Ｈｚの範囲にあり、前記周辺周波数分布は、約７６Ｈｚ乃至約８４Ｈｚの範囲にある請求項６記載のテンションマスク。   The tension mask of claim 6, wherein the center frequency distribution is in the range of about 92 Hz to about 88 Hz, and the peripheral frequency distribution is in the range of about 76 Hz to about 84 Hz. 前記中心周波数分布は、約９０Ｈｚであり、前記周辺周波数分布は、約８０Ｈｚである請求項７記載のテンションマスク。   The tension mask according to claim 7, wherein the center frequency distribution is about 90 Hz, and the peripheral frequency distribution is about 80 Hz. 前記変化範囲は、約１０Ｈｚである請求項６記載のテンションマスク。   The tension mask according to claim 6, wherein the change range is about 10 Hz. 陰極線管（ＣＲＴ）における振動減衰を向上する方法であって、
横断走査用に構成されたテンションマスクを、前記テンションマスクの中心部が、前記テンションマスクの端部の周辺周波数分布より大きい中心周波数分布を有するよう周囲フレームに取り付ける段階を有する方法。 A method for improving vibration damping in a cathode ray tube (CRT) comprising:
Attaching a tension mask configured for transverse scanning to a peripheral frame such that a central portion of the tension mask has a center frequency distribution greater than a peripheral frequency distribution at an end of the tension mask. 前記縁部から前記中心部への前記周波数分布は、放物線式によって表され、
前記中心部における前記周波数分布と、前記縁部における前記周波数分布との変化範囲Δは、少なくとも８Ｈｚである請求項１０記載の方法。 The frequency distribution from the edge to the center is represented by a parabolic equation,
The method according to claim 10, wherein a change range Δ between the frequency distribution at the center and the frequency distribution at the edge is at least 8 Hz. 前記中心部における前記周波数分布のピーク値と、前記縁部における前記周波数分布の最小値との間の前記変化範囲Δは、約８Ｈｚ＜Δ＜１２Ｈｚの閉区間にある請求項１１記載の方法。 The method according to claim 11, wherein the change range Δ between the peak value of the frequency distribution at the center and the minimum value of the frequency distribution at the edge is in a closed section of about 8 Hz < Δ < 12 Hz. 前記中心周波数分布は、約９２Ｈｚ乃至約８８Ｈｚの範囲にあり、前記周辺周波数分布は、約７６Ｈｚ乃至約８４Ｈｚの範囲にある請求項１２記載の方法。   The method of claim 12, wherein the center frequency distribution is in the range of about 92 Hz to about 88 Hz, and the peripheral frequency distribution is in the range of about 76 Hz to about 84 Hz. 前記変化範囲は、約１０Ｈｚである請求項１２記載の方法。   The method of claim 12, wherein the range of change is approximately 10 Hz.
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US7023129B1 (en) * 1999-10-22 2006-04-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Cathode-ray tube and image display comprising the same
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