JP2007521395A - Method of coating a substrate surface using a plasma beam - Google Patents

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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134—Plasma spraying

Abstract

The invention relates to a method for coating a substrate surface (4) using a plasma beam (2), by directing a beam (2) of a low temperature plasma at the substrate surface (4). A fine granular powder, forming the coating is added to the beam (2) in precisely metered amounts. The particle size of the fine powder or the powder mixture is preferably in the nanometre range, in particular, 1 to 10,000 nanometres. The powder can thus be applied with good bonding and with high service life.

Description

本発明は、請求項１のプリアンブルによるプラズマ・ビームを使用して基板表面をコーティングする方法、および請求項１２による方法の適用に関する。   The invention relates to a method for coating a substrate surface using a plasma beam according to the preamble of claim 1 and to the application of the method according to claim 12.

粉末の形態のウォルフラムまたは酸化物セラミックなどの適切な物質をプラズマ・フリー・ビームに追加することによって、プラズマ・ビームを使用して高融点コーティングを基板表面上に堆積させることは、すでに知られている。これらは、出現するプラズマ・フリー・ビームのコア内で２０，０００℃までもの温度となる熱プラズマとして知られている。そのような場合のプラズマの安定化は、高電流強度（＞２００Ａ）とイオン化が容易な気体によって行われる。   It is already known to use plasma beams to deposit refractory coatings on the substrate surface by adding a suitable material such as a powder form of Wolfram or oxide ceramics to the plasma free beam. ing. These are known as thermal plasmas that reach temperatures up to 20,000 ° C. within the emerging plasma free beam core. In such a case, the plasma is stabilized by a high current intensity (> 200 A) and a gas that is easily ionized.

このタイプのプラズマは、コーティングされる構成要素上で高温負荷を必要とする。コーティング・プロセスが大気条件下において行われる場合、金属コーティング材料も、部分的に酸化する。したがって、応用分野は非常に限定される。低融点材料のコーティングおよび／または処理は、行われるとしても、極度に高価なプロセス管理と強力な冷却の使用によってのみ可能である。   This type of plasma requires a high temperature load on the component being coated. If the coating process is performed under atmospheric conditions, the metal coating material will also be partially oxidized. Therefore, the application field is very limited. Coating and / or processing of low melting point materials, if done, is possible only with the use of extremely expensive process controls and strong cooling.

本発明は、良好な結合特性を有するコーティングを金属、ガラス、プラスチック、または他の基板表面上に堆積させることができる上述されたタイプの方法を提案することに関する問題に基づく。   The present invention is based on the problem associated with proposing a method of the type described above that allows a coating with good bonding properties to be deposited on a metal, glass, plastic or other substrate surface.

この問題は、請求項１の特徴を有する方法によって、本発明により解決される。   This problem is solved according to the invention by a method having the features of claim 1.

本発明の方法の好ましい改善は、従属請求項の主題を形成する。   Preferred refinements of the inventive method form the subject of the dependent claims.

本発明の方法の適用は、理想的には溶接プロセスまたははんだ付けプロセス直後に、亜鉛めっきされた金属部品またはシートの溶接点またははんだ点の上に亜鉛コーティングを堆積させることについて特に有利であるが、それは、プラズマトロンが溶接プロセスに後に続き、先行接合プロセスのプロセス加熱が、構成要素への亜鉛層の接着の改善を達成するために利用されるという点においてである。   The application of the method of the invention is particularly advantageous for depositing a zinc coating on the weld or solder spot of a galvanized metal part or sheet, ideally immediately after the welding or soldering process. It is in that the plasmatron follows the welding process and the process heating of the pre-joining process is utilized to achieve improved adhesion of the zinc layer to the component.

プラズマ・フリー・ビームによって基板表面上に堆積された粉末は、基板の温度が許容不可能に上昇することなく、良好な接着で基板に加えられる。それにもかかわらず、空気大気中でさえ、この顕微鏡的プラズマ・プロセスは、堆積層の優れた結合を達成する。金属コーティングも、その酸素含有量が極度に低いために優れている。   The powder deposited on the substrate surface by the plasma free beam is added to the substrate with good adhesion without unacceptably increasing the temperature of the substrate. Nevertheless, even in the air atmosphere, this microscopic plasma process achieves excellent bonding of the deposited layers. Metal coatings are also excellent because of their extremely low oxygen content.

次に、図面を利用して、本発明をより詳細に記述する。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

図１は、プラズマトロン１の下方ノズル開口３から現れ、基板表面４の上に向けられるプラズマ・フリー・ビーム２の生成についてそれ自体は既知であるプラズマ・ノズル１を示す。   FIG. 1 shows a plasma nozzle 1 that is known per se for the generation of a plasma-free beam 2 that emerges from the lower nozzle opening 3 of the plasmatron 1 and is directed onto the substrate surface 4.

プラズマトロン１は、通常、縦方向に延びる管状ハウジング５を有する。これは、すでに記述されたノズル開口３に向かって下方領域６において同心状に先細りになる。金属ハウジング５は接地され、ノズル先端でたとえば外部電極を形成する。低電力（＜５ｋＷ）を有する１次非平衡プラズマが、たとえばマグネトロン、ＲＦプラズマ、直接高電圧放電、コロナ／障壁放電などによる高周波数交流（＞１０ｋＨｚ）によって、プラズマトロン５の内部で生成される（ボックス１１によって示される）。プラズマ気体または作業気体が、１次プラズマが安定化される（気体安定化プラズマトロン、またたとえば渦安定化プラズマトロン）ような方式で、供給パイプ７によって上からプラズマトロン１に流体として導入される。   The plasmatron 1 usually has a tubular housing 5 extending in the longitudinal direction. This tapers concentrically in the lower region 6 towards the previously described nozzle opening 3. The metal housing 5 is grounded and forms, for example, an external electrode at the nozzle tip. A primary non-equilibrium plasma with low power (<5 kW) is generated inside the plasmatron 5 by high frequency alternating current (> 10 kHz), for example by magnetron, RF plasma, direct high voltage discharge, corona / barrier discharge, etc. (Indicated by box 11). Plasma gas or working gas is introduced as a fluid from above into the plasmatron 1 by means of a supply pipe 7 in such a way that the primary plasma is stabilized (gas stabilized plasmatron, eg vortex stabilized plasmatron). .

空気または水蒸気をプラズマ気体または作業気体として使用することが好ましい（経済的に）。空気は、必要であれば、たとえば窒素、二酸化炭素、メタン、または希ガスと組み合わせることができる。これらの他の気体は、純粋な形態または混合物において使用することもできる。純粋な形態または混合物における他の流体の蒸気も、プラズマ気体として使用することができる。   It is preferred (economically) to use air or water vapor as the plasma gas or working gas. Air can be combined with, for example, nitrogen, carbon dioxide, methane, or a noble gas if necessary. These other gases can also be used in pure form or in mixtures. Other fluid vapors in pure form or in mixtures can also be used as plasma gases.

出現する大気プラズマ・フリー・ビーム２は、特に、低温（コア・ゾーンにおいて＜５００℃）と小さい幾何学的広がり（通常直径＜５ｍｍ）を特徴とする。本発明によれば、基板表面の提案されたコーティングを形成することを意図する材料は、ここで、精確に計量された量が流体微細粒状粉末としてプラズマ・フリー・ビーム２に追加される。次いで、プラズマとの相互作用の結果として、融合または単に溶融され、コーティングされる面の方向に加速され、そこに最終的に堆積される。粉末材料は、粉末供給１６によって容器１５から送られ、任意選択で、２次プラズマまたは１次プラズマに導入される。   The emerging atmospheric plasma free beam 2 is particularly characterized by a low temperature (<500 ° C. in the core zone) and a small geometrical spread (usually diameter <5 mm). According to the invention, the material intended to form the proposed coating on the substrate surface is now added to the plasma-free beam 2 in a precisely metered quantity as a fluid fine granular powder. Then, as a result of the interaction with the plasma, it is fused or simply melted, accelerated in the direction of the surface to be coated and finally deposited there. The powder material is fed from the container 15 by the powder supply 16 and is optionally introduced into the secondary or primary plasma.

低温プラズマは、部分閉鎖プラズマトロンにおいて電気的または電磁的に生成された１次非平衡プラズマ（非熱的プラズマ）を形成した後、適切な手段によって向けられる１次プラズマ・ビームが、環境への遷移点において環状ノズル（出口開口３）によって強力に加速され、その結果、周囲圧力下においてノズルの後で２次プラズマが形成されるということを特徴とする。基板表面が導電性である場合、さらなる電圧（いわゆる転移アーク、または直接プラズマトロン）が、ノズルと基板との間に印加される。ノズル出口から１０ｍｍの距離において、先端直径が４ｍｍのＮｉＣｒ／Ｎｉタイプの熱電対で測定されるプラズマの温度は、周囲圧力の２次プラズマ・ビーム（２）のコアにおける９００℃より低い。   After the low temperature plasma forms a primary non-equilibrium plasma (non-thermal plasma) generated in a partially closed plasmatron, either electrically or electromagnetically, the primary plasma beam directed by appropriate means is directed to the environment. It is characterized in that it is strongly accelerated by the annular nozzle (exit opening 3) at the transition point, so that a secondary plasma is formed after the nozzle under ambient pressure. If the substrate surface is conductive, an additional voltage (so-called transfer arc or direct plasmatron) is applied between the nozzle and the substrate. At a distance of 10 mm from the nozzle outlet, the temperature of the plasma measured with a NiCr / Ni type thermocouple with a tip diameter of 4 mm is lower than 900 ° C. in the core of the secondary plasma beam (2) at ambient pressure.

粉末供給１６として、微細粒状バルク材料の計量された量を供給するために、ＰＣＴ特許出願ＰＣＴ／ＥＰ０２／１０７０９から既知の装置を使用することが好ましい。これは、交互に充填され、空になる少なくとも２つの投与室を有し、それにより、投与室は、吸引ラインまたは真空ラインに接続されることによって粉末で充填され、圧力気体ラインに接続されることによって空にされる。したがって、粉末は、圧力気体によって流動化され、空圧的に前方に運ばれる。   As the powder supply 16, it is preferred to use an apparatus known from PCT patent application PCT / EP02 / 10709 to supply a metered amount of fine granular bulk material. It has at least two dosing chambers that are alternately filled and emptied, whereby the dosing chamber is filled with powder by connecting to a suction line or vacuum line and connected to a pressure gas line Emptied by things. Thus, the powder is fluidized by the pressure gas and carried forward pneumatically.

吸引接続と圧力気体接続は、空圧的におよび／または油圧的に制御されたバルブを介して開閉される。粉末供給１６のような装置により、粒サイズがナノメートルからマイクロメートルの範囲（１ｎｍから１００μｍ）にある最も微細な粉末を非常に精確に計量し、断続的および連続的のいずれにおいても塊のない供給が可能になる。電気制御供給のためのこのタイプの粉末供給の可能な実施形態は、上述された特許出願から導くことができ、したがって、本明細書ではより詳細には記述されない。   The suction connection and the pressure gas connection are opened and closed via pneumatically and / or hydraulically controlled valves. A device such as powder feed 16 very accurately weighs the finest powder with a particle size in the nanometer to micrometer range (1 nm to 100 μm) and is free of lumps both intermittently and continuously Supply becomes possible. Possible embodiments of this type of powder supply for electrical control supply can be derived from the above-mentioned patent applications and are therefore not described in more detail here.

流体微細粒状粉末は、ライン２０を介してプラズマトロン１に導入され、そこから２次プラズマに、および／またはノズル開口３から生じるプラズマ・ビーム２にライン２１を介して直接導入される。また、粉末が、図１においては破線で示されるライン２２を介して、ノズル開口３に向かって先細りになるプラズマ・ノズル１の領域６の中に（またはノズル開口３自体の中に）供給されるのも有利である。他の可能性は、ノズル開口３まで至るプラズマ・ビームの流れの方向において直接１次プラズマにより、やはり破線で示されるライン２３を介して粉末を直接導入することである。   The fluid fine granular powder is introduced into the plasmatron 1 via line 20 and from there directly into the secondary plasma and / or into the plasma beam 2 originating from the nozzle opening 3 via line 21. Also, the powder is fed into the region 6 of the plasma nozzle 1 that tapers towards the nozzle opening 3 (or into the nozzle opening 3 itself) via a line 22 shown in FIG. It is also advantageous. Another possibility is to introduce the powder directly by means of the primary plasma directly in the direction of the flow of the plasma beam up to the nozzle opening 3 via the line 23, also indicated by a broken line.

粉末材料を空圧的に運ぶのに必要な圧力気体の容積は、プラズマ気体容積の２から２０％であることが好ましい。プラズマ気体の消費は約１００から５０００ｎｌ／時である。   The volume of pressurized gas required to carry the powder material pneumatically is preferably 2 to 20% of the plasma gas volume. The plasma gas consumption is about 100 to 5000 nl / hour.

プラズマ・フリー・ビーム２によって基板表面４の上に加えられた粉末は、基板温度が許容不可能に上昇することなく、良好な接着でその上に堆積される。ノズル出口から１０ｍｍの距離において、先端直径が４ｍｍのＮｉＣｒ／Ｎｉタイプの熱電対で測定されたプラズマの温度は、周囲圧力の２次プラズマ・ビーム（２）のコアにおける９００℃より低い。基板の温度の上昇は、コーティング・プロセス中とその後に、１００℃よりかなり低く、好ましくは５０℃より低い。それにもかかわらず、堆積コーティングの優れた接着が、この顕微的大気プラズマ・プロセスによって達成される。   Powder added on the substrate surface 4 by the plasma free beam 2 is deposited on it with good adhesion without unacceptably increasing the substrate temperature. At a distance of 10 mm from the nozzle outlet, the temperature of the plasma measured with a NiCr / Ni type thermocouple with a tip diameter of 4 mm is lower than 900 ° C. in the core of the secondary plasma beam (2) at ambient pressure. The increase in substrate temperature is well below 100 ° C., and preferably below 50 ° C. during and after the coating process. Nevertheless, excellent adhesion of the deposited coating is achieved by this microscopic atmospheric plasma process.

本発明の方法の１つの利点は、コーティングされる基板表面４が、特別な準備を必要としないことである。表面の清浄は、プラズマ・プロセス自体によって実施することができる。この目的のために、プラズマ・ビームを、最初に、実際のコーティングが行われる前に、粉末を加えずに、１回または複数回、コーティングされる表面に向けることが有利である。このプロセスは、表面を緩和させ、表面をミクロ構造化またはナノ構造化するように主に作用する。   One advantage of the method of the present invention is that the substrate surface 4 to be coated does not require special preparation. Surface cleaning can be performed by the plasma process itself. For this purpose, it is advantageous to first direct the plasma beam to the surface to be coated one or more times without adding powder before the actual coating takes place. This process mainly acts to relax the surface and to micro-structure or nano-structure the surface.

本発明の方法は、たとえば自動車産業において特に使用される亜鉛めっき金属部品またはシートの溶接点またははんだ点の上に亜鉛コーティングを堆積させるためなどに理想的に適している。当技術分野において既知であるように、従来の亜鉛めっき金属部品またはシートの亜鉛コーティングは、溶接またははんだ付け中に除去され、その結果、腐食の危険性がそのような点において生じる。本発明の方法により、精確に決められた幅を有するプラズマ・ビームを、たとえば溶接シームなどの処理される点に向け、相対基板／プラズマ・ノズル進行（たとえば、０．３ｍ／ｓ）によって、対応する幅（たとえば、２から８ｍｍ）の亜鉛層を精確に堆積させることができる。市販の亜鉛ダストが、プラズマ・ビームに追加される微細粒状粉末材料として使用される。粉末の供給率は、約０．５から１０ｇ／分の範囲にある。達成可能なコーティングの厚さは、通常、パス当たり０．１から１００マイクロメートルである。本装置は、溶接プロセス（インライン・プロセス）直後に使用することができる。   The method of the present invention is ideally suited, for example, for depositing a zinc coating on the weld or solder points of galvanized metal parts or sheets that are particularly used in the automotive industry. As is known in the art, the zinc coating of conventional galvanized metal parts or sheets is removed during welding or soldering, resulting in a risk of corrosion at such points. The method of the present invention directs a plasma beam having a precisely defined width to a point to be treated, such as a weld seam, by a relative substrate / plasma nozzle travel (eg, 0.3 m / s). A zinc layer with a width (eg 2 to 8 mm) can be accurately deposited. Commercially available zinc dust is used as a fine granular powder material that is added to the plasma beam. The powder feed rate is in the range of about 0.5 to 10 g / min. Achievable coating thickness is typically 0.1 to 100 micrometers per pass. The apparatus can be used immediately after the welding process (inline process).

明らかに、本発明の方法で他の材料（金属、セラミック、サーモプラスチック、またはその混合物など）を他の基板表面（金属、ガラス、プラスチックなど）の上に堆積させることができ、これらの他の材料は、たとえば保護、磨耗、絶縁コーティング、またはさらに抗菌、自己清浄、または触媒の特性を有するコーティングなどの機能コーティングを形成することができる。しかし、この方法は、医療のためにも使用することもでき、たとえば、インプラントを人組織により迅速かつ快適に統合させることを目的として、人工皮膚または膝インプラントの上に生物学的活性コーティングを堆積させることができる。   Obviously, other materials (such as metal, ceramic, thermoplastic, or mixtures thereof) can be deposited on other substrate surfaces (such as metal, glass, plastic, etc.) with the method of the present invention. The material can form a functional coating such as, for example, a protective, abrasion, insulating coating, or even a coating having antibacterial, self-cleaning, or catalytic properties. However, this method can also be used for medical purposes, for example, depositing a biologically active coating on an artificial skin or knee implant with the aim of integrating the implant more quickly and comfortably into human tissue. Can be made.

本方法は、たとえば、Ｓｉウエハの上にＺｎ、Ｃｕ、またはＡｇの導電性コーティングを生成するために、プラスチック、紙、半導体、または誘電体に、計量的なまたは適度で選択的なプレメタライゼーションまたはメタライゼーションを施すために使用することもできる。   The method can be applied to plastic, paper, semiconductor, or dielectric, for example, to produce a Zn, Cu, or Ag conductive coating on a Si wafer. Or it can be used to apply metallization.

さらに、本方法は、プラスチック、木材、紙、または金属から作成されたナノメートルから数マイクロメートルのサイズの無機粒子の添加剤と共に、またはそれなしで、ポリアミドなどのプラスチック、またはＰＥＥＫなどの高性能プラスチックから作成された良好な結合特性を有するコーティングを非分解堆積するために使用することができる。   In addition, the method can be used with plastics such as polyamide, or high performance such as PEEK, with or without the addition of nanometer to several micrometer sized inorganic particles made from plastic, wood, paper, or metal. A coating made from plastic and having good bonding properties can be used for non-degradable deposition.

プラズマ・ビームに追加された粉末または粉末混合物が、その後、コーティングとして表面上に堆積されず、適切なデバイスによって収集されると、これは、選択的に化学的および／または物理的に変更された表面を有する粉末を生成する。これらの粉末は、他のプロセス（たとえば、すすの疎水性を親水性に変化させる）のための改善されたまたは新しい重要な生成物として役立つことができる。   When the powder or powder mixture added to the plasma beam was not subsequently deposited on the surface as a coating and was collected by a suitable device, it was selectively chemically and / or physically altered. A powder having a surface is produced. These powders can serve as improved or new important products for other processes (eg, changing soot hydrophobicity to hydrophilicity).

本発明の方法を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a method of the present invention.

Claims (17)

プラズマ・ビーム（２）を使用して基板表面（４）をコーティングする方法であって、前記コーティングを形成する微細粒状粉末が精確に計量された量で加えられた低温プラズマのビーム（２）を、前記基板表面（４）に向けることを特徴とするコーティング方法。   A method of coating a substrate surface (4) using a plasma beam (2), wherein a low temperature plasma beam (2) is applied in which a fine granular powder forming said coating is added in a precisely metered amount. A coating method characterized by being directed to the substrate surface (4). 前記微細粒状粉末または粉末混合物の粒子サイズが、ナノメートルの範囲、具体的には１ナノメートルと１０マイクロメートルとの間とすることができることを特徴とする請求項１に記載の方法。   The method according to claim 1, characterized in that the particle size of the fine granular powder or powder mixture can be in the nanometer range, specifically between 1 nanometer and 10 micrometers. 前記微細粒状粉末が、交互に充填され、空にされる少なくとも２つの投与室を有する粉末供給装置（１６）によって容器（１５）から供給され、前記投与室が、それぞれ、吸引ラインまたは真空ラインに接続されて粉末が充填され、圧力気体ラインに接続されて空にされ、粉末が、圧力気体によって微粉化されて、空圧によって前方に搬送され、吸引接続と圧力気体接続が、空圧的におよび／または油圧的に制御されるバルブを介して開閉されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。   The fine granular powder is supplied from a container (15) by a powder supply device (16) having at least two dosing chambers that are alternately filled and evacuated, the dosing chambers being respectively connected to a suction line or a vacuum line. Connected and filled with powder, connected to pressure gas line and evacuated, powder is atomized by pressure gas and transported forward by air pressure, suction connection and pressure gas connection are pneumatically 3. A method according to claim 1 or 2, characterized in that it is opened and closed via a hydraulically controlled valve. プラズマが、作業気体および／または蒸発可能流体の導入、ならびに高電圧および／または高周波数電気および／または電磁結合によって開始される放電の生成下において、プラズマ・ノズル（１）において創出され、１次プラズマ・ビーム（２）が、ノズルの形態のプラズマトロン（１）の開口（３）を経て前記表面基板（４）の上に吹き付けられ、それにより、前記微細粒状粉末が、前記作業気体を介して、前記１次プラズマ内に導入され、そこから２次プラズマ・ビーム（２）の中に進み、かつ／または前記ノズル開口（３）から出る前記２次プラズマ・ビーム（２）の中に直接導入されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。   A plasma is created in the plasma nozzle (1) under the introduction of a working gas and / or evaporable fluid and the generation of a discharge initiated by high voltage and / or high frequency electrical and / or electromagnetic coupling. A plasma beam (2) is sprayed onto the surface substrate (4) through an opening (3) in a plasmatron (1) in the form of a nozzle, whereby the fine granular powder is passed through the working gas. Directly into the secondary plasma beam (2) that is introduced into the primary plasma and then travels into the secondary plasma beam (2) and / or exits from the nozzle opening (3) The method according to claim 1, wherein the method is introduced. 前記微細粒状粉末が、前記ノズル開口（３）に向かって先細りになる前記プラズマ・ノズル（１）の領域（６）の中に導入されることを特徴とする請求項４に記載の方法。   Method according to claim 4, characterized in that the fine granular powder is introduced into a region (6) of the plasma nozzle (1) that tapers towards the nozzle opening (3). 前記微細粒状粉末が、前記１次プラズマ内に直接供給される（２３）ことを特徴とする請求項に記載の方法。   The method according to claim 1, characterized in that the fine granular powder is fed directly into the primary plasma (23). 前記微細粒状粉末を空圧供給する（２０）ための圧力気体の容積が、プラズマ気体容積（７）の２から２０％になることを特徴とする請求項３から６のいずれか１項に記載の方法。   7. The pressure gas volume for pneumatically supplying (20) the fine granular powder is 2 to 20% of the plasma gas volume (7). the method of. 空気が、作業気体および／またはプラズマ気体として使用されることを特徴とする請求項４から７のいずれか１項に記載の方法。   8. The method according to any one of claims 4 to 7, characterized in that air is used as working gas and / or plasma gas. 前記低温プラズマにおいて、部分閉鎖プラズマ生成装置において電気的または電磁的に生成された１次非平衡プラズマを形成した後、適切な手段によって向けられる前記１次プラズマ・ビームが、環境への遷移点において環状ノズル（３）によって強力に加速され、その結果、周囲圧力においてノズルの後で２次プラズマが形成されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。   In the cold plasma, after forming a primary non-equilibrium plasma generated electrically or electromagnetically in a partially closed plasma generator, the primary plasma beam directed by suitable means is at the transition point to the environment. 9. A method as claimed in claim 1, wherein a secondary plasma is formed after the nozzle at ambient pressure, as a result of being strongly accelerated by an annular nozzle (3). 前記基板表面（４）が、粉末を追加せずに、前記２次プラズマ・ビーム（２）によって清浄され、かつ／またはマイクロ構造化もしくはナノ構造化されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。   The substrate surface (4) is cleaned and / or microstructured or nanostructured by the secondary plasma beam (2) without adding powder. The method of any one of these. １０ｋＨｚから１０ＧＨｚの周波数および５ｋＷ未満の電力における高周波数交流または直流が、１次プラズマ（８）を生成するために使用されることを特徴とする請求項４から１０のいずれか１項に記載の方法。   11. A high frequency alternating current or direct current at a frequency of 10 kHz to 10 GHz and a power of less than 5 kW is used to generate the primary plasma (8). Method. 前記微細粒状粉末が、水性懸濁液に変換されて、少なくとも１つの供給装置ユニットを利用してプラズマに追加されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。   The method according to claim 1 or 2, characterized in that the fine granular powder is converted into an aqueous suspension and added to the plasma using at least one feeder unit. 亜鉛めっき金属部品またはシートの溶接点またははんだ点の上に亜鉛コーティングを堆積させるための請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法の適用。   13. Application of the method according to any one of claims 1 to 12 for depositing a zinc coating on the weld or solder spot of a galvanized metal part or sheet. フラックスと共におよびフラックスなしで、はんだを構成要素の上に堆積させるための請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法の適用。   Application of the method according to any one of the preceding claims for depositing solder on a component with and without flux. 高品質で酸素のない銅コーティングを堆積させるための請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法の適用。   Application of the method according to any one of claims 1 to 12 for depositing a high quality, oxygen free copper coating. たとえば、Ｚｎ、Ｃｕ、またはＡｇから作成された導電性コーティングをＳｉウエハの上に製造するために、プラスチック、紙、半導体、または誘電体を計量的にプレメタライゼーションまたはメタライゼーションするための請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法の適用。   Claims for metering premetallization or metallization of plastic, paper, semiconductor, or dielectric, for example, to produce a conductive coating made from Zn, Cu, or Ag on a Si wafer. Application of the method according to any one of 1 to 12. プラスチック、木材、紙、または金属から作成された、ナノメートルから数マイクロメートルの範囲のサイズを有する無機粒子の添加剤と共に、またはそれなしで、ポリアミドなどのプラスチック、またはＰＥＥＫなどの高性能プラスチックから作成された良好な結合特性を有するコーティングを非分解堆積するための請求項１から１２のいずれか１項に記載の方法の適用。
From plastics such as polyamide, or high-performance plastics such as PEEK, with or without inorganic particle additives made from plastic, wood, paper, or metal, with sizes ranging from nanometers to several micrometers Application of the method according to any one of claims 1 to 12 for non-degradative deposition of a coating having good bonding properties made.
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