JP2007332434A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成膜装置10は、成膜室21と、ターゲット23と、スパッタカソード24と、スパッタリングガス供給部31,32と、を備える。スパッタリングガス供給部31,32は、複数の噴出孔が形成された筐体と、噴出孔に嵌入し筐体に螺合されるボルトと、筐体にガスを導入する導入口と、を備える。噴出孔のボルトに対向する面は、テーパ状に形成されており、ボルトの平板部もテーパ状に形成されることにより、噴出孔とボルトとの間には間隙が生じる。ボルトのねじり込み具合を調節することによって、噴出孔とボルトとの間隙を調節し、ガスの噴出する量を連続的に変化させることができる。
【選択図】図1
Description
真空槽と、
前記真空槽内にガスを供給するガス供給手段と、を備え、
前記ガス供給手段は、ガスが導入される筐体と、該筐体に設けられ前記ガスが流出する複数の孔と、該複数の孔それぞれに設けられたボルトと、を備え、
前記複数の孔と、前記ボルトとは、螺合されており、前記複数の孔から流出する前記ガスの量は、前記複数の孔と前記ボルトとのねじ込み度合いを調節し、前記孔と前記ボルトとの間隙を調節することにより、連続的に変化されることを特徴とする。
前記複数の孔の前記ボルトの前記平板部に対向する領域に、テーパ状の傾斜が設けられ、
前記ボルトの前記平板部の前記複数の孔に対向する面に、テーパ状の傾斜が設けられていてもよい。
前記ボルトの前記軸部には、前記孔との間に間隙が生ずるように切欠部が設けられていてもよい。
基板搬送ライン26は、トレイ25によって保持された基板35を搬送する。基板搬送ライン26をトレイ25が流れ、ターゲット23上に生成されたプラズマ領域を通過することにより、基板35にターゲット材料が堆積し、基板35上に薄膜が形成される。なお、本実施の形態では、基板搬送ライン26の一方のみにスパッタカソード24を配置してプラズマを発生させ、基板35の一面のみに成膜を施す構成を例に挙げて説明しているが、これを基板搬送ライン26の両側面にスパッタカソード24を配置し、基板35の両面に成膜することも可能である。
(式1)
21 成膜室
22a,22b 仕切りバルブ
23 ターゲット
24 スパッタカソード
25 トレイ
26 基板搬送ライン
27 電源
28 シールド
31 スパッタリングガス供給部
32 反応ガス供給部
33a,33b,33c ガス供給手段
51,61,71 筐体
51a,61a,71a 噴出孔
51b,61b,71b 流路
52,62,72 ボルト
53 ガス導入口
Claims (6)
- 真空槽と、
前記真空槽内にガスを供給するガス供給手段と、を備え、
前記ガス供給手段は、ガスが導入される筐体と、該筐体に設けられ前記ガスが流出する複数の孔と、該複数の孔それぞれに設けられたボルトと、を備え、
前記複数の孔と、前記ボルトとは、螺合されており、前記複数の孔から流出する前記ガスの量は、前記ボルトのねじ込み度合いを調節し、前記孔と前記ボルトとの間隙を調節することにより、連続的に変化させることを特徴とする成膜装置。 - 前記真空槽内に、成膜材料が取り付けられたターゲットを設置し、
前記ガス供給手段がスパッタリングガスを供給することを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 - 前記真空槽内に、成膜材料が取り付けられたターゲットを設置し、
前記ガス供給手段が反応ガスを供給することを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 - 前記ボルトは、平板部と、前記平板部に対して垂直に設けられ前記筐体に螺合される軸部とから構成され、
前記複数の孔の前記ボルトの前記平板部に対向する領域に、テーパ状の傾斜が設けられ、
前記ボルトの前記平板部の前記複数の孔に対向する面に、テーパ状の傾斜が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記ボルトは、平板部と、前記平板部に対して垂直に設けられ前記筐体に螺合される軸部とから構成され、
前記ボルトの前記軸部には、前記孔との間に間隙が生ずるように切欠部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記ボルトは、中心軸に貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006167105A JP2007332434A (ja) | 2006-06-16 | 2006-06-16 | 成膜装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019196547A (ja) * | 2018-10-10 | 2019-11-14 | デクセリアルズ株式会社 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
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-
2006
- 2006-06-16 JP JP2006167105A patent/JP2007332434A/ja active Pending
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