JP2007324348A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007324348A JP2007324348A JP2006152362A JP2006152362A JP2007324348A JP 2007324348 A JP2007324348 A JP 2007324348A JP 2006152362 A JP2006152362 A JP 2006152362A JP 2006152362 A JP2006152362 A JP 2006152362A JP 2007324348 A JP2007324348 A JP 2007324348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vibration
- mask
- stage
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、マスクステージ10の下方に位置するメインベッド19と、メインベッド19の側方に配設される第1サブベッド15及び第2サブベッド16と、メインベッド19と第1及び第2サブベッド15、16間で移動可能な第1及び第2基板ステージ11,12と、基板Wにパターン露光用の光をマスクMを介して照射する照射装置13と、を有する。第1及び第2サブベッド21,22は、振動を検出する振動検出器51と、振動検出器51により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器52とを有するアクティブ制振装置53,54をそれぞれ備える。
【選択図】図1
Description
(1) マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
メインベッドの側方に配置される第1サブベッド及び第2サブベッドと、
メインベッドと第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、
メインベッドと第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、
メインベッド上に位置する第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
を備える露光装置であって、
第1及び第2サブベッドは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
マスクステージの下方に位置する露光位置と第1待機位置間で移動可能な第1基板ステージと、
露光位置と第2待機位置間で移動可能な第2基板ステージと、
露光位置に移動した第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
第1待機位置に位置する第1基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第1基板ローダと、
第2待機位置に位置する第2基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第2基板ローダと、
を備える露光装置であって、
第1及び第2基板ローダは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
マスクステージの下方に位置する露光位置と待機位置間で移動可能な基板ステージと、
露光位置に移動した基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
待機位置に位置する基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する基板ローダと、
を備える露光装置であって、
マスクステージ、基板ステージ、基板ローダは、基台によって支持されており、該基台は、除振装置を介して床面上に配置されていることを特徴とする露光装置。
図1は本発明の第1実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図、図2は図1の露光装置の要部正面図、図3は第1及び第2基板ローダの側面図である。
次に、本発明の第2実施形態である露光装置について図4及び図5を参照して詳細に説明する。なお、第2実施形態は、基台17と床面FLとの間に除振装置90を配置した点を特徴としている。このため、第1実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或は簡略化する。また、第1実施形態のアクティブ制振装置53,54,57,58については図示されていないが、本実施形態と組み合わせても適用可能である。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。また、本実施形態の除振装置90は、二つの基板ステージを備えて露光作業と入れ替え作業が同時に行える露光装置の他に、一つの基板ステージで露光作業と入れ替え作業が交互に行われる露光装置にも適用可能である。
第1実施形態では、アクティブ制振装置53,54の振動検出器51は、加振器52に隣接して配置されているが、第1及び第2サブベッド21,22の任意の位置に配置されればよく、内蔵型でなくてもよい。また、加振器52も第1及び第2サブベッド21,22の内部に効率的に加振できる位置に配置されればよい。
11 第1基板ステージ
12 第2基板ステージ
13 照射装置
19 メインベッド
21 第1サブベッド
22 第2サブベッド
51,55 振動検出器
52,56 加振器
53,54,57,58 アクティブ制振装置
90 除振装置
M マスク
PE 露光装置
W 基板
Claims (2)
- マスクを保持するマスクステージと、
前記マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
前記メインベッドの側方に配置される第1サブベッド及び第2サブベッドと、
前記メインベッドと前記第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、
前記メインベッドと前記第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、
前記メインベッド上に位置する前記第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備える露光装置であって、
前記第1及び第2サブベッドは、振動を検出する振動検出器と、該振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。 - マスクを保持するマスクステージと、
該マスクステージの下方に位置する露光位置と第1待機位置間で移動可能な第1基板ステージと、
前記露光位置と第2待機位置間で移動可能な第2基板ステージと、
前記露光位置に移動した前記第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記第1待機位置に位置する前記第1基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第1基板ローダと、
前記第2待機位置に位置する前記第2基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第2基板ローダと、
を備える露光装置であって、
前記第1及び第2基板ローダは、振動を検出する振動検出器と、該振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006152362A JP4932330B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
TW096118779A TW200815935A (en) | 2006-05-31 | 2007-05-25 | Exposure device and method |
KR1020070050615A KR100865051B1 (ko) | 2006-05-31 | 2007-05-25 | 노광 장치 및 노광 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006152362A JP4932330B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007324348A true JP2007324348A (ja) | 2007-12-13 |
JP4932330B2 JP4932330B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=38856877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006152362A Active JP4932330B2 (ja) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4932330B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
JP2012223805A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Seishin Shoji Kk | レーザー加工装置、レーザー加工方法及びレーザー加工物 |
JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP2018163232A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-18 | 東芝ライテック株式会社 | 光配向用偏光光照射装置及び液晶パネルの製造方法 |
JP2020134881A (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6387725A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステ−ジ移動機構 |
JP2000283889A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Nikon Corp | 投影光学系の検査装置及び検査方法、露光装置、並びに、マイクロデバイスの製造方法 |
JP2002134583A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置 |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2005038874A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2005136120A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Nikon Corp | Euv光投影露光装置及び方法 |
JP2005183876A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2006013090A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006108581A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2006
- 2006-05-31 JP JP2006152362A patent/JP4932330B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6387725A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステ−ジ移動機構 |
JP2000283889A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Nikon Corp | 投影光学系の検査装置及び検査方法、露光装置、並びに、マイクロデバイスの製造方法 |
JP2002134583A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置 |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2005038874A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2005136120A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Nikon Corp | Euv光投影露光装置及び方法 |
JP2005183876A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2006013090A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006108581A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP2012223805A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Seishin Shoji Kk | レーザー加工装置、レーザー加工方法及びレーザー加工物 |
JP2018163232A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-18 | 東芝ライテック株式会社 | 光配向用偏光光照射装置及び液晶パネルの製造方法 |
JP2020134881A (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、露光装置及び物品の製造方法 |
JP7216568B2 (ja) | 2019-02-25 | 2023-02-01 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4932330B2 (ja) | 2012-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10514616B2 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
US8699001B2 (en) | Object moving apparatus, object processing apparatus, exposure apparatus, object inspecting apparatus and device manufacturing method | |
JP6638774B2 (ja) | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
US20110141448A1 (en) | Substrate carrier device, substrate carrying method, substrate supporting member, substrate holding device, exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method | |
US20100266961A1 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
US20110053092A1 (en) | Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method | |
US20110042874A1 (en) | Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method | |
US20110085152A1 (en) | Vibration control apparatus, vibration control method, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
WO2013031235A1 (ja) | 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
JP2006203113A (ja) | ステージ装置、ステージ制御方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP4932330B2 (ja) | 露光装置 | |
TWI728425B (zh) | 移動體裝置、曝光裝置、平面顯示器之製造方法、以及元件製造方法 | |
WO2009084199A1 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP2007294594A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2007322706A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2012028530A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2012133255A (ja) | 露光装置 | |
JP2007324347A (ja) | 露光装置 | |
KR102679765B1 (ko) | 물체 유지 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 디바이스 제조 방법, 물체의 유지 방법, 및 노광 방법 | |
KR100865051B1 (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
TW201903532A (zh) | 曝光裝置、曝光方法、平板顯示器的製造方法以及元件製造方法 | |
KR20030028826A (ko) | 노광방법 및 장치 | |
JP6447845B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 | |
JP6508268B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2019113868A (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071128 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090414 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110815 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4932330 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |